JPH04282373A - ヒドロキシメチル(メチレンシクロペンチル)プリン類およびピリミジン類 - Google Patents
ヒドロキシメチル(メチレンシクロペンチル)プリン類およびピリミジン類Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
チレンシクロペンチル)プリン類およびピリミジン類、
更に詳しくは、抗ウイルス活性を有する新規なプリン化
合物およびピリミジン化合物に関する。
式[1]で示され、その医薬的に許容しうる塩をも包含
する。
通じて、各種語句の定義は以下の通りである。R1は
化16】
ル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、2−
フルオロエチル、2−クロロエチル、エチニルまたは
化18】 R3はクロロ、ブロモ、ヨード、水素、メチルまたはト
リフルオロメチル; R4はアルキル; R5は水素、アルキル、置換アルキル、またはアリール
;およびR6およびR7はそれぞれ独立して、水素、
化19】 である。
20】
]は、R1が
直鎖および分枝鎖基の両方を指称し、炭素数1〜10の
基が好ましい。語句「置換アルキル」とは、1個以上、
好ましくは1個の置換基を有するアルキル基を指称し、
好ましい置換基としては、ハロゲン、アミノ、アジド、
ヒドロキシ、シアノ、トリアルキルアンモニウム(ここ
で、各アルキルの炭素数は1〜6)、炭素数1〜6のア
ルコキシ、アリールおよびカルボキシが挙げられる。語
句「アリール」とは、フェニル並びに1、2または3個
、好ましくは1個の置換基で置換されたフェニルを指称
し、好ましい置換基としては、炭素数1〜6のアルキル
、炭素数1〜6のアルコキシ、ハロゲン、トリフルオロ
メチル、アミノ、炭素数1〜6のアルキルアミノ、ジア
ルキルアミノ(ここで、各アルキルの炭素数は1〜6)
、ニトロ、シアノ、炭素数2〜11のアルカノイルオキ
シ、カルボキシ、カルバモイルおよびヒドロキシが挙げ
られる。
容しうる塩は抗ウイルス剤であって、哺乳動物、たとえ
ば家畜(イヌ、ネコ、ウマなど)やヒト、および鳥類(
たとえばニワトリおよび七面鳥)におけるウイルス感染
の治療に使用することができる。
なわち単純ヘルペスウイルス1および2、帯状水痘ウイ
ルス、サイトメガロウイルスおよびヒト免疫欠損ウイル
ス(HIV)の1種以上に対して有効である。またこれ
らの本発明化合物[1]は、種々の他のDNAウイルス
およびレトロウイルス(retrovirus)に対し
ても活性であると思われる。上記以外のDNAウイルス
の具体例としては、他のヘルペスウイルス(たとえばエ
プステイン−バール(Epstein−Barr)ウイ
ルス、偽性狂犬病ウイルス、ヒトヘルペスウイルス6な
ど)、ポックスウイルス(たとえばワクシニアウイルス
、サル痘および筋腫)、パポーバウイルス(たとえば乳
頭腫ウイルス)、B型肝炎ウイルス、およびアデノウイ
ルスが挙げられる。上記以外のレトロウイルスの具体例
としては、ヒトに感染する、たとえばヒトT細胞リンパ
栄養ウイルス−IおよびII、並びに他の動物に感染す
る、たとえばネコ白血病ウイルス、マウス白血病ウイル
スおよびウマ感染性貧血ウイルスが挙げられる。他の全
ての本発明化合物[1]は、以下に示すウイルス、すな
わち、単純ヘルペスウイルス1および2、帯状水痘ウイ
ルス、サイトメガロウイルス、およびその他上述のレト
ロウイルスやDNAウイルスの1種以上に対し活性であ
ると思われる。
とえば静脈注射、腹腔内注射または筋肉内注射による)
、経口投与あるいは局所投与することができる。
口または非経口投与されてよい。勿論、投与量は感染の
ひどさに左右されるが、通常約1.0〜50mg/kg
体重の範囲が適当である。所望の用量を適当な間隔で、
1日数回にわたって投与されてよい。
膚)の感染の場合、本発明化合物を有効成分とする組成
物を、軟膏、クリーム、エアゾール、ゲル、粉末、ロー
ション、懸濁液または溶液(たとえば目薬)の剤形で、
患者の体の感染部へ局所投与とすることができる。
感染のひどさに左右されるが、約0.1〜7重量%の範
囲が適当である。
ば4−モノメトキシトリチルまたは4,4’−ジメトキ
シトリチル)、またはシリルなどの保護基である)の化
合物[2]から製造することができる。語句「シリル」
とは、当該分野で周知のシリル保護基を指称し、たとえ
ばt−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシ
リル、(トリフェニルメチル)ジメチルシリル、メチル
ジイソプロピルシリル、またはトリイソプロピルシリル
が挙げられる。
および水素化ナトリウムを用いて保護することにより、
Pがベンジル基である公知の化合物[2]を得る[K.
ビッガダイクらの「J.Chem.Soc.Perki
n Trans」(1、549頁、1988年)参照
)。トリチル、置換トリチルまたはシリル基による保護
は、公知の方法に従って行うことができる。
以下の手順で製造することができる。すなわち、化合物
[2]をジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、またはスルホラン(テトラメチレンスルホン)などの
中性極性溶媒中、水素化リチウム、水素化ナトリウムま
たは水素化カリウムなどの塩基の存在下、式:
る式:
護することにより、式:
とえば4−モノメトキシトリチルまたは4,4’−ジメ
トキシトリチル)であってよい)の化合物[6]を得る
。上記保護は、化合物[5]をトリエチルアミンおよび
必要に応じて4−N,N−ジメチルアミノピリジンの存
在下、塩化トリチルまたは塩化置換トリチル/ジクロロ
メタンで処理することにより行うことができる。化合物
[6]のヒドロキシル基を酸化することにより、式:
化31】 の化合物[7]得る。
、たとえばジクロロメタン中の1,3−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド/ジメチルスルホキシド/メチルホス
ホン酸、またはジクロロメタン中のピリジニウムジクロ
メート/モレキュラシーブを用いて行うことができる。 化合物[7]をメチレン化試薬、たとえばジクロロメタ
ン/テトラヒドロフラン中の亜鉛/四塩化チタン/ジブ
ロモメタンまたはメチレントリフェニルホスホランで処
理して、式:
る。
トリチルの場合、これら保護基PおよびP1の脱離は、
水性アルコール性鉱酸(たとえば水性メタノール中の塩
化水素酸)または水性酢酸で処理することにより行うこ
とができる。次いで、第1ヒドロキシル基を保護するベ
ンジル基を、三塩化ホウ素/ジクロロメタンによる処理
で脱離することができる。保護基Pがベンジルで、保護
基P1がトリチルまたは置換トリチルである場合、水性
アルコール性鉱酸または水性酢酸による処理で保護基P
1を脱離し、そして、ベンジル保護基を三塩化ホウ素で
脱離することができる。保護基Pがシリル基で、P1が
トリチルまたは置換トリチルである場合、最初にフッ化
物イオン(たとえばフッ化テトラブチルアンモニウム/
テトラヒドロフラン)による処理でシリル基を脱離する
ことができる。次いで、保護基P1を水性アルコール性
鉱酸または水性酢酸による処理で脱離し、そして第1ア
ルコール基を保護するベンジル基を三塩化ホウ素による
処理で脱離することができる。別法として、最初に保護
基P1、第2にシリル保護基P、そして最後に第1アル
コール基を保護するベンジル基を脱離することができる
。
以下の手順で製造することができる。
採用したものに類する手順に従って、式:
、上記化合物[6]の製造で採用したものに類する手順
に従って保護することにより、式:
合物[7]の製造で採用したものに類する条件下で酸化
して、式:
[8]の製造で採用したものに類する条件下でメチレン
化して、式:
て、R1が
る。
トリチルの場合、これら保護基PおよびP1およびプリ
ンのO−ベンジル保護基の脱離は、水性アルコール性鉱
酸(たとえば水性メタノール中の塩化水素酸)で処理す
ることにより行うことができる。次いで、第1ヒドロキ
シル基を保護するベンジル基を、三塩化ホウ素/ジクロ
ロメタンによる処理で脱離することができる。保護基P
がベンジルで、保護基P1がトリチルまたは置換トリチ
ルである場合、最初に水性アルコール性鉱酸による処理
で保護基P1およびプリンのO−ベンジル保護基を脱離
し、そして、アルコール基を保護するベンジルを三塩化
ホウ素で脱離することができる。保護基Pがシリル基で
、P1がトリチルまたは置換トリチルである場合、最初
にフッ化物イオン(たとえばフッ化テトラブチルアンモ
ニウム/テトラヒドロフラン)による処理でシリル基を
脱離することができる。次いで、保護基P1およびプリ
ンのO−ベンジル保護基を水性アルコール性鉱酸による
処理で脱離することができる。最後に第1アルコール基
を保護するベンジル基を三塩化ホウ素による処理で脱離
することができる。別法として、最初に保護基P1およ
びプリンのO−ベンジル保護基、第2にシリル保護基P
、そして最後に第1アルコール基を保護するベンジル基
を脱離することができる。
水性酸(たとえば塩酸)を用いるクロロ基の加水分解に
よって製造することができる。
がシリル基(たとえばt−ブチルジフェニルシリル)で
ある化合物[5]から製造することができる。この化合
物を水添分解(たとえばメタノール中のアンモニウムホ
ルメートおよびパラジウム/炭素;エタノール中の水酸
化パラジウム/炭素およびシクロヘキセン;またはパラ
ジウム/炭素、水素、およびエタノール使用)に付して
、クロロ基の還元およびベンジル保護基の脱離を行い、
式:
4−N,N−ジメチルアミノピリジンの存在下、塩化ト
リチルまたは塩化置換トリチル/ジクロロメタンと反応
させて、化合物[14]の第1ヒドロキシル基およびア
ミノ(−NH2)基を保護することにより、式:
4】 (式中、P1基はトリチルまたは置換トリチルである)
の化合物[15]を得る。次いで、上記化合物[7]お
よび[8]の製造でそれぞれ採用したものに類する条件
下で、化合物[15]を連続して酸化およびメチレン化
に付した後、保護基を脱離して、R1が
る。
たとえばフッ化テトラブチルアンモニウム/テトラヒド
ロフラン)による処理で脱離し、次いでトリチル保護基
P1を水性アルコール性鉱酸(たとえば水性メタノール
中の塩化水素酸)または水性酢酸による処理で脱離する
ことができる。別法として、最初にトリチル保護基P1
を脱離した後、シリル保護基Pを脱離することができる
。
化合物[16]を、上記化合物[5]の製造で採用した
ものに類する条件下で、化合物[2]と反応させて、式
:
び[8]の製造でそれぞれ採用したものに類する条件下
で、連続して酸化およびメチレン化に付した後、保護基
を脱離して、R1が
る。
化50】 の化合物[19]を得る。アミノ(−NH2)基をトリ
チルまたは置換トリチル基で保護して、化合物[17]
を得、次いで上述の方法に従ってR1が
換することができる。
化合物[8]から公知の方法に従って製造することがで
きる。 すなわち、たとえば化合物[8](ここで、Pはベンジ
ル、シリル、トリチルまたは置換トリチルなどの保護基
、およびP1はトリチルまたは置換トリチルである)を
温メタノール性アンモニウムで処理すると、クロロ基と
アミノ基の置換が起る。次いで、公知の手順に従って保
護基を脱離することができる。
R1が
、公知の方法に従って製造することができる[たとえば
J.C.マーチンらの「J.Med.Chem.」(2
8、358頁、1985年)参照]。
下の手順で製造することができる。すなわち、化合物[
5]をナトリウムアルコキシドで処理して、式:
5】 の化合物[20]を得る。上記化合物[6]、[7]お
よび[8]の製造で採用したものに類する手順に従って
、アミノ基の保護、酸化およびメチレン化を行った後、
保護基を脱離することにより、R1が
る。
R1が
、公知の方法に従って製造することができる。たとえば
、J.F.ガースターらの「J.Amer.Chem.
Soc.」(87、3752頁、1965年);K.K
.オジルビィらの「Can.J.Chem.」(62、
2702頁、1984年);M.R.ハーンデンらの「
J.Med.Chem.」(30、1636頁、198
7年)参照。
式:
[5]、[6]、[7]および[8]の製造で採用した
ものに類する手順を行った後、保護基を脱離することに
よっても製造することができる。化合物[21]は、化
合物[4]から公知の方法に従って製造することができ
る[たとえば、W.A.ボウレスらの「J.Med.C
hem.」(6、471頁、1963年);M.マクコ
スらの「Tetrahedron Lett.」(2
6、1815頁、1985年)参照]。
化合物[2]および式:
、[12]および[13]の製造で採用したものに類す
る手順を行った後、保護基を脱離することにより製造す
ることができる。
以下の手順に従って製造することができる。式:
2】 の化合物[23]を、上記化合物[5]の製造で採用し
たものに類する手順に従って、化合物[2]と反応させ
て、式:
アシル基P2(たとえばアセチル)で選択的に保護して
、式:
J.Amer.Chem.Soc.」(104、131
6頁、1982年)参照]。上記化合物[7]および[
8]の製造で採用したものに類する手順に従って、化合
物[25]を酸化した後、亜鉛/四塩化チタン/ジプロ
モメタンで処理して、式:
R1が
る。
]の製造で採用したものに類する手順に従って、化合物
[25]を酸化した後、メチレントリフェニルホスホラ
ンで処理して、アミノ(−NH2)基がなおアシル保護
基P2を有する化合物[26]を得る。この化合物[2
6]の保護基を脱離して、R1が
る。 なお、アシル保護基の脱離は、メタノール中のナトリウ
ムメトキシドまたはメタノール性アンモニアを用いるこ
とにより行うことができる。
製造することができる。すなわち、式:
たものに類する条件下で、化合物[2]と反応させる。 次いで、上記化合物[7]および[8]の製造で採用し
たものに類する手順に従って、酸化およびメチレン化を
行い、式:
タノールまたはエタノール)中の温アンモニアで処理し
た後、保護基を脱離して、R1が
る。
R1が
、公知の方法に従って製造することができる[たとえば
J.C.マーチンらの「J.Med.Chem.」(2
8、358頁、1985年)参照]。
化合物[28]の保護基を脱離することによって製造す
ることができる。
R1が
、以下に示す文献の公知手順に従って製造することがで
きる。たとえば、J.A.モントゴメリーらの“核酸化
学の合成手順”,Vol.1、W.W.ゾルバッハおよ
びR.S.チプソン著、インターサイエンス、パブリッ
シャーズ(ジョーン・ウィリィ・アンド・サンズ)、N
.Y.、205頁、1968年参照。
R1が
、酸加水分解(たとえば温水性塩化水素酸を使用)また
は塩基加水分解(たとえば水性メタノール性水酸化ナト
リウムを使用)によって製造することができる。
R1が
公知の方法に従って、アデノシンデアミナーゼまたは亜
硝酸で処理することにより製造することができる[たと
えばM.J.ロビンスらの「J.Med.Chem.」
(27、1486頁、1984年);K.K.オジルビ
ィらの「Can.J.Chem.」(62、241頁、
1984年);I.イワイらの“核酸化学の合成手順”
,Vol.1、W.W.ゾルバッハおよびR.S.チプ
ソン著、インターサイエンス・パブリッシャーズ(ジョ
ーン・ウイリイ・アンド・サンズ)、N.Y.、135
頁、1968年;R.E.ホームズらの「J.Amer
.Chem.Soc.」(86、1242頁、1964
年)参照]。
プロピル、2−クロロエチル、または2−フルオロエチ
ルである)の化合物[29]は、以下の手順で製造する
ことができる。すなわち、対応する式:
スルホキシドまたはスルホランなどの中性極性溶媒中、
水素化リチウム、水素化ナトリウムまたは水素化カリウ
ムなどの塩基の存在下、化合物[2]と反応させて、式
:
の方法で(たとえばジクロロメタン中の、1,3−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド/ジメチルスルホキシド/
メチルホスホン酸、またはジクロロメタン中のピリジニ
ウムジクロメート/モレキュラーシーブを使用)酸化し
て、式:
ラヒドロフラン中の亜鉛/四塩化チタン/ジブロモメタ
ンまたはメチレントリフェニルホスホランなどのメチレ
ン化試薬で処理して、式:
する化合物[29]を得る。たとえば、保護基Pがベン
ジルのとき、両ベンジル基を三塩化ホウ素/ジクロロメ
タンによる処理で脱離することができる。保護基Pがト
リチルまたは置換トリチルのとき、水性酢酸または水性
アルコール性鉱酸(たとえば水性メタノール中の塩化水
素酸)による処理でトリチル保護基を脱離し、次いで三
塩化ホウ素による処理でベンジル保護基を脱離すること
ができる。保護基Pがシリル基のとき、シリル保護基の
脱離はフッ化物イオン(たとえばテトラヒドロフラン中
のフッ化テトラブチルアンモニウム)による処理で行い
、次いで三塩化ホウ素による処理でベンジル基を脱離す
ることができる。別法として、最初にベンジル基を脱離
した後、シリル基を脱離することができる。
ロエチルである化合物[30]は、公知の方法に従って
製造することができる[H.グリエングルらの「J.M
ed.」(30、1199頁、1987年);「J.M
ed.Chem.」(28、1679頁、1985年)
参照]。
は、R2が水素および保護基Pがベンジル、トリチルま
たは置換トリチルである対応する化合物[31]から、
以下に示す文献の公知方法に従って次亜フッ素酸トリフ
ルオロメチルを用いるフッ素化を行うことによっても製
造することができる。たとえば、M.J.ロビンスらの
「J.Amer.Chem.Soc.」(93、527
7頁、1971年);「Chem.Communs.」
(18、1972年);T.S.リンらの「J.Med
.Chem.」(26、1691頁、1983年)参照
。
ルオロエチルである化合物[29]は、式:
保護基である)の化合物[34]からも製造することが
できる。R3保護基を脱離して、PがベンジルおよびR
2が2−ヒドロキシエチルである化合物[33]を得る
。この化合物をトリフェニルホスフィン/四塩化炭素で
処理した後、ベンジル保護基を三塩化ホウ素で脱離して
、R2が2−クロロエチルである化合物[29]を得る
。トリフェニルホスフィン/四塩化炭素の代わりにトリ
フェニルホスフィン/N−ブロモスクシンイミドまたは
トリフェニルホスフィン/N−ブロモスクシンイミド/
ヨウ化テトラブチルアンモニウムを用いる同様な処理を
行い、PがベンジルおよびR2がそれぞれ2−ブロモエ
チルまたは2−ヨードエチルである化合物[33]を得
る。次いでフッ化物イオンによる処理後、ベンジル保護
基を脱離して、R2が2−フルオロエチルである化合物
[29]を得る。別法として、PがベンジルおよびR2
が2−ヒドロキシエチルである化合物[33]を三フッ
化ジエチルアミノ硫黄で処理し、ベンジル保護基を脱離
して、R2が2−フルオロエチルである化合物[29]
を得る。
2が水素、メチルまたはエチル、およびPがベンジルで
ある化合物[31]、[32]および[33]の製造で
採用したものに類する方法に従って製造することができ
る。化合物[35]は、対応する遊離アルコールから、
公知の方法に従って製造することができる。
プロピル、2−クロロエチルまたは2−フルオロエチル
である)の化合物[36]は、保護基Pがベンジル、ト
リチル、置換トリチルまたはシリル基である対応化合物
[33]から製造することができる。この化合物を、た
とえばピリジンなどの溶媒中、4−クロロフェニルジク
ロロホスフェートおよび1,2,4−トリアゾールで処
理し、次いで得られる中間体を、ジオキサンなどの溶媒
中水酸化アンモニウムと反応させて、対応する:
6】 の化合物[37]を得る(たとえば、T.S.リンらの
「J.Med.Chem.」(26、1691頁、19
83年);P.ヘルデウィンらの「J.Med.Che
m.」(28、550頁、1985年参照]。化合物[
37]の保護基を脱離して、対応する化合物[36]を
得る。たとえば、Pがベンジル基のとき、両ベンジル保
護基を三塩化ホウ素による処理で脱離することができる
。Pがトリチルまたは置換トリチル保護基のとき、P基
を水性アルコール性鉱酸または水性酢酸で脱離し、第1
アルコールを保護するベンジル基を三塩化ホウ素で脱離
することができる。Pがシリル保護基のとき、P基をフ
ッ化物イオンで脱離した後、ベンジル保護基を脱離する
ことができる。別法として、ベンジル保護基を三塩化ホ
ウ素で脱離した後、シリル保護基をフッ化物イオンで脱
離することができる。
ル、エチル、n−プロピル、2−クロロエチルまたは2
−フルオロエチルおよび保護基Pがベンジル、トリチル
、置換トリチルまたはシリル基である化合物[33]を
、不活性溶媒(たとえば1,2−ジクロロエタンまたは
ジオキサン)中、炭酸カリウムなどの塩基の存在下、ス
ルホニルクロリド(たとえばp−トルエンスルホニルク
ロリド)と反応させることができる(なお、他のスルホ
ニルクロリドや溶媒を用いる場合については、たとえば
ヨーロッパ特許出願EP204264を参照)。これに
よって、対応する式:
,2−ジクロロエタンまたはジオキサン)中のアンモニ
アガスで処理して、対応する化合物[37]を得ること
ができる。化合物[37]の保護基を脱離して、対応す
る化合物[36]を得る。
n−プロピル、2−クロロエチルまたは2−フルオロエ
チルである化合物[36]は、対応する化合物[29]
から、公知の方法に従って製造することができる[たと
えば、T.S.リンらの「J.Med.Chem.」(
26、1691頁、1983年);P.ヘルデウィンら
の「J.Med.Chem.」(28、550頁、19
85年);ヨーロッパ特許出願EP360018参照]
。
ル、エチル、n−プロピル、2−クロロエチルまたは2
−フルオロエチルである化合物[36]は、対応する式
:
スルホキシドまたはスルホランなどの中性極性溶媒中、
水素化リチウム、水素化ナトリウムまたは水素化カリウ
ムの存在下、化合物[2]と反応させて、式:
】 の化合物[40]を得る。
(たとえばアセチル)で選択的に保護して、式:
0】 の化合物[41]を得る[たとえば、G.S.Tiらの
「J.Amer.Chem.Soc.」(104、13
16頁、1982年)参照]。化合物[41]を酸化し
た後、亜鉛/四塩化チタン/ジブロモメタンでメチレン
化を行い、次いでまたは同時にアシル保護基P2を脱離
して、化合物[37]を得る。この化合物の保護基を脱
離して、R2がフルオロ、水素、メチル、エチル、n−
プロピル、2−クロロエチルまたは2−フルオロエチル
である化合物[36]を得る。保護基Pがベンジルのと
き、両ベンジル基を三塩化ホウ素/ジクロロメタンによ
る処理で脱離することができる。保護基Pがトリチルま
たは置換トリチルのとき、水性酢酸または水性アルコー
ル性鉱酸(たとえば水性メタノール中の塩化水素酸)に
よる処理でトリチル保護基を脱離し、次いで三塩化ホウ
素による処理でベンジル保護基を脱離することができる
。保護基Pがシリル基のとき、シリル保護基の脱離をフ
ッ化物イオン(たとえばフッ化テトラブチルアンモニウ
ム/テトラヒドロフラン)により行い、次いで三塩化ホ
ウ素による処理でベンジル基を脱離することができる。 別法として、最初にベンジル基を脱離した後、シリル基
を脱離することができる。
、メチレントリフェニルホスホランで処理して、式:
化91】 の化合物[42]を得る。この化合物の保護基を脱離し
て、R2がフルオロ、水素、メチル、エチル、n−プロ
ピル、2−クロロエチルまたは2−フルオロエチルであ
る化合物[36]を得る。アシル保護基P2の脱離は、
メタノール中のナトリウムメトキシドまたはメタノール
性アンモニアの使用によって行うことができる。
ル、エチル、n−プロピル、2−クロロエチルまたは2
−フルオロエチルおよび保護基Pがベンジル、トリチル
またはシリル基である化合物[40]は、対応する化合
物[31]から、公知の方法に従って製造することがで
きる[たとえば、T.S.リンらの「J.Med.Ch
em.」(26、1691頁、1983年);P.ヘル
デウィンらの「J.Med.Chem.」(28、55
0頁、1985年);ヨーロッパ特許出願EP3600
18およびEP204264参照]。
[40]または[41]は、R2が水素および保護基P
がベンジル、トリチルまたは置換トリチルである対応化
合物[40]または[41]から、公知の方法に従い、
次亜フッ素酸トリフルオロメチルを用いてフッ素化を行
うことにより製造することができる[たとえば、M.J
.ロビンスらの「J.Amer.Chem.Soc.」
(93、5277頁、1971年)および「Chem.
Communs.」(18、1972年);T.S.リ
ンらの「J.Med.Chem.」(26、1691頁
、1983年)参照]。
化合物[29]は、R2が水素および保護基Pがベンジ
ル基である化合物[31]から製造することができる。 この化合物[31]を公知の方法でハロゲン化して、対
応する式:
化合物[43]を得る[たとえば、P.ヘルデウィンら
の「J.Med.Chem.」(28、550頁、19
85年);M.J.ロビンスらの「J.Org.Che
m.」(48、1854頁、1983年);T.S.リ
ンらの「J.Med.Chem.」(26、598頁、
1983年);T.ウエダらの「Nucleotide
s and Nucleosides」(4、40
1頁、1985年);“核酸化学の合成手順”,Vol
.1、W.W.ゾルバッハおよびR.S.チプソン著、
ジョーン・ウイリイ・アンド・サンズ・N.Y.、49
1頁、1968年参照]。化合物[43]を酸化した後
、亜鉛/四塩化チタン/ジブロモメタン、またはメチレ
ントリフェニルホスホランでメチレン化を行って、式:
化合物[44]を得る[たとえばヨーロッパ特許出願E
P360018参照]。化合物[44]のベンジル保護
基を、三塩化ホウ素による処理で脱離して、R2がクロ
ロ、ブロモまたはヨードである化合物[29]を得る。
化合物[36]は、対応する化合物[44]から、公知
の方法(たとえばR2が水素、メチルまたはエチルであ
る。化合物[33]から化合物[37]への変換で採用
した方法に類似)に従った後、ベンジル保護基を三塩化
ホウ素で脱離することにより製造することができる。
ヨードである化合物[36]は、対応する化合物[29
]から、公知の方法に従って製造することができる[た
とえば、T.S.リンらの「J.Med.Chem.」
(26、1691頁、1983年);P.ヘルデウィン
らの「J.Med.Chem.」(28、550頁、1
985年);ヨーロッパ特許出願EP360018およ
びEP204264参照]。
29]は、R2がヨードである化合物[44]から、ヨ
ウ化トリフルオロメチルおよび銅で処理した後、三塩化
ホウ素でベンジル保護基を脱離することによって製造す
ることができる[たとえば、Y.コバヤシらの「J.C
hem.Soc.Perkin 1」(2755頁、
1980年);S.リンらの「J.Med.Chem.
」(26、1691頁、1983年)参照]。
29]は、R2がヨードである化合物[43]から、以
下の手順で製造することができる。すなわち、R2がヨ
ードである化合物[43]を式:
換トリチルまたはアシル(たとえばアセチル)である)
の化合物[45]に変換することができる。この化合物
[45]を、公知の手順に従ってヨウ化トリフルオロメ
チルおよび銅で処理した後[たとえば、Y.コバヤシら
の「J.Chem.Soc.Perkin」(2755
頁、1980年);S.リンらの「J.Med.Che
m.」(26、1691頁、1983年)参照]、P4
保護基を脱離して、R2がトリフルオロメチルである化
合物[43]を得る。R2がトリフルオロメチルである
化合物[43]を酸化した後、亜鉛/四塩化チタン/ジ
ブロモメタン、またはメチレントリフェニルホスホラン
で処理して、R2がトリフルオロメチルである化合物[
44]を得る。化合物[44]のベンジル保護基を三塩
化ホウ素による処理で脱離して、R2がトリフルオロメ
チルである化合物[29]を得る。
36]は、対応する化合物[44]から、公知の方法(
たとえばR2が水素、メチルまたはエチルである、化合
物[33]から化合物[37]への変換で採用した方法
に類似)を行った後、三塩化ホウ素でベンジル保護基を
脱離することによって製造することができる。
ある化合物[36]は、対応する化合物[29]から、
公知の方法に従って製造することができる[たとえば、
T.S.リンらの「J.Med.Chem.」(26、
1691頁、1983年);P.ヘルデウィンらの「J
.Med.Chem.」(28、550頁、1985年
);ヨーロッパ特許出願EP360018およびEP2
04264参照]。
たはトリフルオロメチルである化合物[29]は、R2
がヨードまたは−HgClである化合物[43]から製
造することができる。R2がヨードまたは−HgClで
ある化合物[43]を、有機パラジウム中間体と反応さ
せて、R2が
たはトリフルオロメチルである化合物[43]を得る。 R2がHgClである化合物[43]は、R2が水素お
よびPがベンジル保護基である化合物[31]から製造
することができる[たとえば、E.デクラーグらの「P
harmac.Ther.」(26、1頁、1984年
);M.E.パールマンらの「J.Med.Chem.
」(28、741頁、1985年);P.ヘルデウィン
らの「J.Med.Chem.」(28、550頁、1
985年);D.E.ベルグストロムらの「J.Med
.Chem.」(27、279頁、1984年)参照]
。
たはトリフルオロメチルである化合物[43]を酸化し
た後、亜鉛/四塩化チタン/ジブロモメタンまたはメチ
レントリフェニルホスホランで処理して、対応する化合
物[44]を得る。この化合物のベンジル保護基を三塩
化ホウ素で脱離して、R2が
たはトリフルオロメチルである化合物[29]を得る。
たはトリフルオロメチルである化合物[36]は、対応
する化合物[29]から、公知の方法に従って製造する
ことができる[たとえば、T.S.リンらの「J.Me
d.Chem.」(26、1691頁、1983年);
P.ヘルデウィンらの「J.Med.Chem.」(2
8、550頁、1985年);ヨーロッパ特許出願EP
360018およびEP204264参照]。
たはトリフルオロメチルである化合物[36]は、対応
する化合物[44]から、公知の方法(たとえばR2が
水素、メチルまたはエチルである、化合物[33]から
化合物[37]への変換で採用した方法に類似)を行っ
た後、三塩化ホウ素でベンジル保護基を脱離することに
より製造することができる。
R2がヨードおよび保護基P4がアシル(たとえばアセ
チル)、トリチルまたは置換トリチルである化合物[4
5]から、以下の手順で製造することができる。すなわ
ち、R2がヨードおよびP4がアシルである化合物[4
5]を公知の方法[たとえばE.デクラーグらの「J.
Med.Chem.」(26、661頁、1983年)
参照]に従って、トリエチルアミン中のトリメチルシリ
ルアセチレン/ビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(II)クロリド/ヨウ化銅(I)で処理し、次い
でナトリウムメトキシド/メタノールで処理して、R2
がエチニルである化合物[43]を得る。別法として、
R2がヨードおよびP4がトリチルまたは置換トリチル
である化合物[45]に対し上記と同様な処理を行った
後、トリチルまたは置換トリチル保護基P4を、たとえ
ば水性酢酸または水性アルコール性鉱酸で脱離して、R
2がエチニルである化合物[43]を得る。化合物[4
3]を酸化した後、亜鉛/四塩化チタン/ジブロモメタ
ンまたはメチレントリフェニルホスホランでメチレン化
して、R2がエチニルである化合物[44]を得、次い
で三塩化ホウ素でベンジル保護基を脱離して、R2がエ
チニルである化合物[29]を得る。
対応する化合物[44]から、公知の方法(たとえばR
2が水素、メチルまたはエチルである、化合物[33]
から化合物[37]への変換で採用した方法に類似)を
行った後、三塩化ホウ素でベンジル保護基を脱離するこ
とにより製造することができる。
[36]は、対応する化合物[29]から、公知の方法
に従って製造することができる[たとえば、T.S.リ
ンらの「J.Med.Chem.」(26、1691頁
、1983年);P.ヘルデウィンらの「J.Med.
Chem.」(28、550頁、1985年);ヨーロ
ッパ特許出願EP360018およびEP204264
参照]。
2】 である本発明化合物[1]から、公知の方法に従って製
造することができる。
】 である本発明化合物[1]は、対応するR6およびR7
が水素である本発明化合物[1]から、公知の方法に従
って製造することができる。たとえば以下に示す文献の
アシル化手順を参照:“核酸化学の合成手順”,Vol
.1、W.W.ゾルバッハおよびR.S.チプソン著、
ジョーン・ウイリイ・アンド・サンズ、1968年;“
核酸化学”,パート1、L.B.タウンセンドおよびR
.S.チプソン著、ジョーン・ウイリイ・アンド・サン
ズ、1978年;Y.イシドらの「Nucleosid
esand Nucleotides」(5、159
頁、1986年);J.C.マーチンらの「J.C.P
harm.Sci.」(76、180頁、1987年)
;A.マツダらの「Synthesis」(385頁、
1986年)。
5】 である本発明化合物[1]から、公知の方法に従って製
造することができる[たとえばA.ホリイおよびJ.ゼ
ムリッカの「Collect.Czech.Chem.
Commun.」(32、3159頁、1967年);
K.K.オジルビイらの「Nucleosides
andNucleotides」(4、507頁、19
85年);M.H.カルサーズらの「J.Amer.C
hem.Soc.」(108、2040頁、1986年
)参照]。
ある本発明化合物[1]は、対応するR6およびR7が
水素である本発明化合物[1]から、公知の手順に従っ
て製造することができる[たとえば、H.シャーラーら
の「J.Amer.Chem.Soc.」(85、38
21頁、1963年);J.ベレスらの「J.Med.
Chem.」(29、494頁、1986年);R.ノ
ヨリらの「Tet.Lett.」(28、2259頁、
1987年);W.ファイデラーらの「Helv.Ch
im.Acta.」(70、1286頁、1987年)
;“核酸化学”,パート2、L.B.タウンセンドおよ
びR.S.チプソン著、ジョーン・ウイリイ・アンド・
サンズ、1978年参照]。
並びに本発明化合物に導く中間体に対して示される立体
化学は絶対的である。本発明化合物において、R1で示
される基は、−CH2OR6置換基に対してシスであり
、シクロペンチル環に直接結合する−OR7置換基に対
してトランスであることが推察される。また、基(R1
)に結合するシクロペンチル炭素の絶対立体化学は、“
S”であることが推察される。
S−エナンチオマー、すなわち、[1S−(1α,3α
,4β)]−2−アミノ−1,9−ジヒドロ−9−[4
−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレ
ンシクロペンチル]−6H−プリン−6−オンは、化合
物[2]の1S−エナンチオマーから製造することがで
きる。化合物[2]の1S−エナンチオマーは、化合物
[3]の1S−エナンチオマーから製造することができ
る。K.ビッガダイクらの「J.Chem.Soc.P
erkinTrans 1」(549頁、1988年
)の記載に従い、式:
[3]の1S−エナンチオマーを製造することができ、
また式:
droborating agent)である(−)
−ジイソピノカンフェイルボラン(diisopino
campheylborane)、すなわち、:−]−
ジイソピナン−3−イルボランと反応させることにより
、化合物[46]の1S−エナンチオマーを製造するこ
とができる。
に酸付加塩を形成しうる。具体的には、ハライド(たと
えばクロリドおよびブロミド)、アルキルスルホネート
、スルフェート、ホスフェートおよびカルボキシレート
塩が挙げられる。
と共に塩基性塩を形成しうる。具体的には、アルカリ金
属(たとえばナトリウムおよびカリウム)、アルカリ土
類金属(たとえばカルシウムおよびマグネシウム)、ア
ンモニウムおよび置換アンモニウム塩が挙げられる。
である。なお、全ての温度単位は℃で示す。 実施例1 [1S−(1α,3α,4β)]−2−アミノ−1,9
−ジヒドロ−9−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシ
メチル)−2−メチレンシクロペンチル]−6H−プリ
ン−6−オンの製造:− A.(−)−ジイソピノカンフェイルボラン出発物質と
して[α]D23=+48゜(正味)の(IR)−(+
)−α−ピネンを用い、H.C.ブラウンらの「J.O
rg.Chem.」(49、945頁、1984年)に
記載の手順に従って、(−)−ジイソピノカンフェイル
ボランを製造する。10Mボラン−メチルスルフィド錯
体/メチルスルフィドと1000mlの乾燥テトラヒド
ロフランの撹拌溶液にアルゴン下0℃にて、(IR)−
(+)−α−ピネン(158.8ml、1モル)を加え
る。添加後、フラスコに栓をして、5℃で放置する。1
6時間後、追加の(1R)−(+)−α−ピネン(15
.8ml、1モル)を加え、懸濁液を5℃で8時間撹拌
する。溶媒をカニューレで除去し、残留固体を130m
l部の乾燥エーテルで3回洗い(カニューレ使用)、減
圧乾燥して205gの(−)−ジイソピノカンフェイル
ボランを得る。
ルメトキシ)メチル]−3−シクロペンテン−1−オー
ル公知の上記B化合物と下記CおよびD化合物を、K.
ビッガダイクらの「J.Chem.Soc.Perki
n Trans.」(1、549頁、1988年)に
記載の方法を改変して用い製造する。乾燥テトラヒドロ
フラン(156ml)中の22.5gの40%ナトリウ
ム粉/鉱油(0.391g圧)の撹拌混合物に窒素下−
10℃にて、−30℃に維持したシクロペンタジエン(
28.68g、0.434モル)を1時間にわたって加
える。添加後、混合物を別の漏斗へ0℃にてカニューレ
で移し、次いでテトラヒドロフラン(130ml)中の
ベンジルクロロメチルエーテル(65.2ml、0.4
69モル)の撹拌溶液へ窒素下−50℃にて1.3時間
にわたって加える。添加後、反応液を−45℃で1.3
時間撹拌し、−60℃に冷却する。テトラヒドロフラン
(390ml)を加えた後、上記製造した(−)−ジイ
ソピノカンフェイルボラン(136g、0.477モル
)を加える。反応液を−60℃で1時間撹拌し、1.5
時間にわたり、−10℃まで加温し、次いで5℃で16
時間撹拌する。反応混合物を元の容量の半分まで減圧濃
縮した後、エーテル(390ml)を加える。撹拌混合
物を0℃に冷却し、次いで3N水酸化ナトリウム(15
6ml、0.469モル)を45分間にわたり温度を0
℃に保持しながら加える。次いで、30%過酸化水素(
156ml)を1時間にわたり添加し、その間温度を1
2℃以下に維持する。添加後、反応液を10℃で1時間
撹拌し、次いで各層を分離する。水性層をエーテル(3
00ml)で洗い、全てのエーテル層をコンバインし、
水性塩化ナトリウムで洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し
、減圧濃縮して残渣を得る。メルク(Merck)シリ
カゲル(5000ml)のカラムにて、石油エーテル/
エーテル(2:1)を用いるクロマトグラフィーに付し
、10g画分の不純な所望生成物、15.72g画分の
純粋な所望生成物、および2.7g画分の不純な所望生
成物を得る。10.0gおよび2.7g画分を、他の数
回の同様な反応から得た4.7gの不純な所望生成物と
コンバインし、混合物を1500mlのメルクシリカゲ
ルにて、石油エーテル/エーテル(2:1、次いで1:
1)を用いるクロマトグラフィーに付し、別途8.00
gの純粋な所望生成物を得る。
]−2−[(フェニルメトキシ)メチル]−6−オキサ
ビシクロ[3.1.0]ヘキサン−3−オール 乾燥ジシクロメタン(60ml)中の(1S−トランス
)−2−[(フェニルメトキシ)メチル]−3−シクロ
ペンテン−1−オール(29.63g、0.145モル
)およびバナジル(vanadyl)アセチルアセトネ
ート(400mg)の溶液に窒素下、温度を25℃に保
持しながら、3M−t−ブチルハイドロパーオキシド/
2,2,4−トリメチルペンタン(87ml、0.26
1モル)溶液を、75分間にわたって加える。混合物を
室温で16時間撹拌し、次いで0℃に冷却する。飽和水
性亜硫酸ナトリウム(150ml)を1時間にわたって
加え、その間温度を20℃以下に保持し、反応液を室温
で1.5時間撹拌する。各層を分離し、水性層をジクロ
ロメタン(50ml)で抽出する。有機層をコンバイン
し、水(50ml)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し
、減圧濃縮して残渣を得る。この残渣をメルクシリカゲ
ル(2000ml)のカラムにて、33〜50%勾配の
エーテル/石油エーテルで溶離するクロマトグラフィー
に付して、24.19gの純粋な所望生成物を得る。不
純画分をメルクシリカゲル(400ml)にて、石油エ
ーテル/エーテル(1:1)を用いる同様なクロマトグ
ラフィーに付し、別途2.71gの所望生成物を得る。 トータル収量26.90g。所望生成物の[α]D22
=+44.6゜(c=1.0、CHCl3)および光学
純度約87%[K.ビッガダイクらの「J.Chem.
Soc.Perkin Trans.」(1、549
頁、1988年)参照]。
]−3−(フェニルメトキシ)−2−[(フェニルメト
キシ)メチル]−6−オキサビシクロ[3.1.0]ヘ
キサン乾燥テトラヒドロフラン(247ml)中の60
%水素化ナトリウム/鉱油(5.11g、0.128ミ
リモル)の混合物に窒素下室温にて、テトラヒドロフラ
ン(123ml)中の[1S−(1α,2α,3β,5
α)]−2−[(フェニルメトキシ)メチル]−6−オ
キサビシクロ[3.1.0]ヘキサン−3−オール(2
5.58g、0.116モル)の溶液を20分にわたっ
て滴下する。混合物を室温で2時間および40℃で1時
間撹拌し、次いで室温まで冷却する。臭化ベンジル(1
5.2ml、0.128モル)およびヨウ化テトラブチ
ルアンモニウム(412mg)を加え、反応液を室温で
3時間撹拌する。エタノール(20ml)を加え、10
分後、溶媒を減圧除去する。残渣を水(200ml)お
よびエーテル(200ml)に溶かし、各層を分離する
。水性層をエーテル(200ml)で抽出し、有機層を
コンバインし、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮し
て残渣を得る。この残渣をメルクシリカゲル(2000
ml)のカラムにて、33〜55%勾配のエーテル/石
油エーテルを用いるクロマトグラフィーに付し、27.
21gの所望生成物を得る。
]−5−[2−アミノ−6−(フェニルメトキシ)−9
H−プリン−9−イル]−3−(フェニルメトキシ)−
2−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンタノー
ル乾燥ジメチルホルムアミド(80ml)中の[1S−
(1α,2α,3β,5α)]−3−(フェニルメトキ
シ)−2−[(フェニルメトキシ)メチル]−6−オキ
サビシクロ[3.1.0]ヘキサン(6.2g、20ミ
リモル)および2−アミノ−6−(フェニルメトキシ)
−9H−プリン(9.64g、40ミリモル)の撹拌溶
液に窒素下60℃にて、水素化リチウム(80mg、1
0ミリモル)を加える。温度を125℃に上げ、反応液
をこの温度で10時間、次いで室温で6時間撹拌する。 酢酸(572μl、10ミリモル)を加え、10分後、
反応混合物を減圧濃縮して残渣を得る。この残渣をメル
クシリカゲル(2000ml)のカラムにて、ジクロロ
メタン〜5%メタノール/ジクロロメタン勾配を用いる
クロマトグラフィーに付し、9.03gの部分的に純粋
な所望生成物を得る。この生成物をシリック(Sili
c)ARCC−7(1000ml)のカラムにて、クロ
ロホルム〜12%エタノール/クロロホルム勾配を用い
るクロマトグラフィーに付し、6.63gの純粋な所望
生成物を得る。
]−5−[2−[[(4−メトキシフェニル)ジフェニ
ルメチル]アミノ]−6−(フェニルメトキシ)−9H
−プリン−9−イル]−3−(フェニルメトキシ)−2
−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンタノール 乾燥ジクロロメタン(75ml)中の[1S−(1α,
2β,3α,5β)−5−[2−アミノ−6−(フェニ
ルメトキシ)−9H−プリン−9−イル]−3−フェニ
ルメトキシ]−2−[(フェニルメトキシ)メチル]シ
クロペンタノール(5.45g、9.89ミリモル)の
溶液に窒素下、p−アニシルクロロジフェニルメタン(
3.37g、10.9ミリモル)、トリエチルアミン(
2.35ml、16.8ミリモル)および4−ジメチル
アミノピリジン(40mg)を加え、混合物を室温で3
時間撹拌する。反応液を5%水性重炭酸ナトリウムで(
30ml)、次いで水(10ml)で洗い、乾燥(硫酸
ナトリウム)し、減圧濃縮して残渣を得る。この残渣を
クロロホルムに充填したシリックARCC−7(600
ml)のカラムにて、クロロホルム/エタノール(99
:1)で溶離するクロマトグラフィーに付し、1.5g
の純粋な所望生成物を得る。不純画分をクロロホルムに
充填したシリックARCC−7(700ml)のカラム
にて、クロロホルム/エタノール(99.5:0.5)
で溶離するクロマトグラフィーに付し、1.5gの純粋
な所望生成物を得る。不純画分をクロロホルムに充填し
たシリックARCC−7(700ml)のカラムにて、
クロロホルム/エタノール(99.5:0.5)で溶離
するクロマトグラフィーに付し、別途4.54gの純粋
な所望生成物を得る。
−[2−[[(4−メトキシフェニル)ジフェニルメチ
ル]アミノ]−6−(フェニルメトキシ)−9H−プリ
ン−9−イル]−3−(フェニルメトキシ)−2−[(
フェニルメトキシ)メチル]−1−シクロペンタノン 乾燥ジメチルスルホキシド(12ml)中の[1S−(
1α,2β,3α,5β)]−5−[2−[[(4−メ
トキシフェニル)ジフェニルメチル]アミノ]−6−(
フェニルメトキシ)−9H−プリン−9−イル]−3−
(フェニルメトキシ)−2−[(フェニルメトキシ)メ
チル]シクロペンタノール(4.10g、4.88ミリ
モル、乾燥トルエンより減圧濃縮して乾燥)の溶液に窒
素下室温にて、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド(3.08g、14.9ミリモル)およびメチルホス
ホン酸(0.239g、2.49ミリモル)を加える。 反応液を室温で4時間撹拌し、次いで−20℃で16時
間貯蔵する。室温まで加温後、シュウ酸・2水和物(6
0mg)/メタノール(8μl)を加え、混合物を2.
5時間撹拌する。反応液を濾過し、濾液をジクロロメタ
ンおよび水で希釈する。有機層を水(70ml×3)で
洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮して残渣を
得る。残渣をジクロロメタン(10ml)に溶かし、濾
過し、減圧濃縮して残渣を得る。1H−NMRスペクト
ルにより、未反応の1,3−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドの存在が認められる。残渣をジメチルスルホキシ
ド(9ml)に溶解し、次いでメチルホスホン酸(15
0ml)/メタノール(6ml)およびシュウ酸・2水
和物(60mg)で処理する。混合物を室温で4時間撹
拌し、上述のようにワークアップ(work up)
して、粗所望生成物を残渣で得る(3.73g)。
錯体(調製物1) この錯体は、L.ロムバルドの「Tetr.Let.」
(23、4293頁、1982年)に記載の手順に従っ
て製造する。乾燥テトラヒドロフラン(300ml)中
の亜鉛粉(28.76g、0.44モル)およびジブロ
モメタン(10.1ml、0.143モル)の撹拌混合
物に窒素下−40℃にて、四塩化チタン(11.5ml
、0.105モル)をゆっくりと滴下する。混合物を3
0分にわたり5℃まで加温し、次いでアルゴン下5℃で
4日間撹拌する。スラリーを窒素下−20℃で貯蔵し、
室温まで加温してから使用する。
−[(4−メトキシフェニル)ジフェニルメチル]−6
−(フェニルメトキシ)−9−[2−メチレン−4−(
フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)メチ
ル]シクロペンチル]−9H−プリン−2−アミン 乾燥ジクロロメタン(40ml)中の[2R−(2α,
3β,5α)]−5−[2−[[(4−メトキシフェニ
ル)ジフェニルメチル]アミノ]−6−(フェニルメト
キシ)−9H−プリン−9−イル]−3−(フェニルメ
トキシ)−2−[(フェニルメトキシ)メチル]−1−
シクロペンタノン(1.80g、2.19ミリモル)の
溶液に窒素下、テトラヒドロフラン中の亜鉛/四塩化チ
タン/ジブロモメタン錯体(実施例1/Hの調製物1)
のスラリー(40ml、約12.3ミリモル)を加える
。混合物を室温で3時間撹拌し、次いでこれを飽和水性
重炭酸ナトリウム(200ml)とジクロロメタン(2
00ml)の混合物に注ぐ。20分間撹拌後、混合物を
セライト(Celite)で濾過する。セライトをジク
ロロメタンで洗い、濾液の各層を分離する。 水性層をジクロロメタンで抽出し、コンバインした有機
層を乾燥(硫酸マグネシウム)し、蒸発して残渣を得る
。 残渣をジクロロメタンに溶かし、セライトで濾過する。 濾液を濃縮して、所望の粗生成物を残渣で得る(1.4
3g)。
−アミノ−1,9−ジヒドロ−9−[2−メチレン−4
−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)
メチル]シクロペンチル]−6H−プリン−6−オン粗
[1S−(1α,3α,4β)]−N−[(4−メトキ
シフェニル)ジフェニルメチル]−6−(フェニルメト
キシ)−9−[2−メチレン−4−(フェニルメトキシ
)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチ
ル]−9H−プリン−2−アミン(2.5g)、テトラ
ヒドロフラン(25ml)、メタノール(25ml)お
よび3N塩酸(12.5ml)の混合物を、50℃で2
.5時間加熱し、室温まで冷却する。1N水酸化カリウ
ムでpH7に調整し、混合物を酢酸エチル(120ml
×3)で抽出する。酢酸エチル抽出物を乾燥(硫酸ナト
リウム)し、減圧濃縮して残渣とし、これを3%エタノ
ール/クロロホルムに充填したメルクシリカゲル(34
0ml)のカラムに適用する。3〜20%エタノール/
クロロホルム勾配で溶離して、316mgの所望生成物
を残渣で得る。
−アミノ−1,9−ジヒドロ−9−[4−ヒドロキシ−
3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシクロペンチ
ル]−6H−プリン−6−オン 乾燥ジクロロメタン(12ml)中の[1S−(1α,
3α,4β)]−2−アミノ−1,9−ジヒドロ−9−
[2−メチレン−4−(フェニルメトキシ)−3−[(
フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−6H−
プリン−6−オン(304mg、0.673ミリモル)
の撹拌溶液に窒素下−78℃にて、1M三塩化ホウ素/
ジクロロメタン(6.7ml、6.7ミリモル)を加え
る。反応液を−78℃で2時間、次いで−40℃で30
分間撹拌する。反応液を−78℃に冷却後、メタノール
(60ml)を10分にわたりゆっくりと加える。室温
まで加温し、混合物を減圧濃縮し、次いで40ml部の
メタノールより4回濃縮する。 残渣をメタノール(5ml)および水(5ml)に溶解
し、1N水酸化カリウムでpH6.8に調整する。減圧
濃縮後、得られるスラリーを懸濁液で、水に充填した1
6mlのCHP−20P樹脂(三菱化学工業(株)、7
5〜150ミクロン)のカラムに適用する。水〜3%ア
セトニトリル/水勾配で溶離し、画分を減圧濃縮して、
所望生成物を固体で得る(115mg)。m.p.>2
20℃、[α]D22=+34゜(c=0.3、水)。 元素分析(C12H15N5O3・0.9H2Oとして
)計算値:C49.12、H5.77、N23.87実
測値:C49.17、H5.87、N23.81
99】実施例2 [1S−(1α,3α,4β)]−1−[4−ヒドロキ
シ−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシクロペ
ンチル]−5−メチル−2,4(1H,3H)−ピリミ
ジンジオンの製造:− A.[1S−(1α,2β,3α,4β)]−1−[2
−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フ
ェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−5−メチ
ル−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 40mlの乾燥ジメチルホルムアミド中の3.10g(
10ミリモル)の[1S−(1α,2α,3β,5α)
]−3−(フェニルメトキシ)−2−[(フェニルメト
キシ)メチル]−6−オキサビシクロ[3.1.0]ヘ
キサン(10ml部の乾燥トルエンより3回減圧濃縮し
て乾燥)およびチミン(2.52g、20ミリモル)の
混合物をアルゴン下、55℃の油浴に入れ、5分間撹拌
する。水素化ナトリウム(240mgの60%水素化ナ
トリウム/鉱油、6ミリモル)を加え、温度を140℃
に上げる。62時間後、反応液を室温に冷却し、0.4
5mlの氷酢酸を加えて反応を抑える。溶媒を減圧除去
し(55℃/1mmHg)、残渣をジクロロメタンでト
リチュレートし、濾過する。濾液の蒸発で残渣(4.9
3g)を得、これをジクロロメタンに充填したメルクシ
リカゲル(140g)のカラムに適用する。ジクロロメ
タン、次いで3%メタノール/ジクロロメタンで溶離し
て、1.89gの純粋な所望生成物および2.03gの
不純生成物を得る。2.03g画分を120gのメルク
シリカゲルにて、ジクロロメタン、次いで3%メタノー
ル/ジクロロメタンを用いるクロマトグラフィーに付し
て、別途0.90gの純粋な所望生成物を得る(トータ
ル収量2.79g)。
−メチル−1−[2−オキソ−4−(フェニルメトキシ
)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチ
ル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 12.5mlの乾燥ジメチルスルホキシド中の2.74
g(6.28ミリモル)の[1S−(1α,2β,3α
,4β)]−1−[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメ
トキシ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロ
ペンチル]−5−メチル−2,4(1H,3H)−ピリ
ミジンジオン(25ml部の乾燥トルエンより2回減圧
濃縮して乾燥)の溶液にアルゴン下室温にて、3.88
g(18.8ミリモル)の1,3−ジシクロヘキシルカ
ルボジイミドおよび0.301g(3.14ミリモル)
のメチルホスホン酸を加える。反応液を室温で3時間撹
拌し、−20℃で一夜貯蔵し、室温で2時間撹拌する。 メタノール(2.5ml)およびシュウ酸・2水和物(
25mg)を加え、反応液を4時間撹拌する。反応混合
物を濾過し、固体をジクロロメタンで洗う。濾液をジク
ロロメタンに250mlで希釈し、水(100ml×3
)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、蒸発して残渣と
する(3.64g)。1H−NMR分析により、少量の
未分解1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミドが認め
られる。残渣を25mlの乾燥トルエンより、減圧濃縮
して乾燥する。乾燥した残渣に、12mlの乾燥ジメチ
ルスルホキシド、83mg(0.86ミリモル)のメチ
ルホスホン酸、6mlの乾燥メタノール、および25m
gのシュウ酸・2水和物を加える。混合物をアルゴン下
室温にて4時間撹拌し、濾過し、ジクロロメタンで洗う
。濾液をジクロロメタンで希釈して250mlとし、水
(100ml×5)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し
、蒸発して2.83gの所望の粗生成物を残渣で得る。
−メチル−1−[2−メチレン−4−(フェニルメトキ
シ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペン
チル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 100mlの乾燥ジクロロメタン中の上記粗[1S−(
1α,3α,4β)]−5−メチル−1−[2−オキソ
−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキ
シ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)
−ピリミジンジオン(2.81g)(25ml部の乾燥
トルエンより3回減圧濃縮して乾燥)にアルゴン下、テ
トラヒドロフラン中の亜鉛/四塩化チタン/ジブロモメ
タン錯体(実施例1/Hの調製物1)のスラリー41m
l(12.6ミリモル)を加える。反応液を室温で4時
間撹拌し、次いで0.7mlアリコートを取出す。この
アリコートに飽和重炭酸ナトリウム水溶液(1ml)を
加え、混合物を室温で5分間撹拌する。混合物をジクロ
ロメタンで抽出し(3回)、ジクロロメタン抽出物を乾
燥(硫酸マグネシウム)し、蒸発して残渣とする。残渣
をジクロロメタンに溶かし、セライトで濾過し、蒸発し
て残渣とする。残渣のI.R.スペクトル(ジクロロメ
タン)により、出発ケトンを示す1755〜1745c
m−1に弱い吸収が認められる。さらに反応液に、亜鉛
/四塩化チタン/ジブロモメタン錯体(10ml、3ミ
リモル)を加え、撹拌を1.58時間続ける。反応液を
I.R.分析で調べると、1755〜1745cm−1
に極めて弱い吸収が認められた。反応液を250mlの
飽和重炭酸ナトリウム水溶液およびジクロロメタン(2
50ml)に注ぎ、15分間激しく撹拌し、セライトで
濾過する。濾液の各層を分離し、水性層をジクロロメタ
ンで抽出する。コンバインしたジクロロメタン抽出物を
乾燥(硫酸マグネシウム)し、蒸発して残渣とし、これ
をジクロロメタンに溶かす。濾過後、ジクロロメタンを
濃縮して残渣(2.44g)とし、これをクロロホルム
に充填したメルクシリカゲル(200g)のカラムに適
用する。 カラムをクロロホルム(1000ml)、次いで酢酸エ
チル/クロロホルム(15:85)で溶離して、690
mgの所望生成物を残渣で得る。
−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシメチル)−2−
メチレンシクロペンチル]−5−メチル−2,4(1H
,3H)−ピリミジンジオン 19mlの乾燥ジクロロメタン中の[1S−(1α,3
α,4β)]−5−メチル−1−[2−メチレン−4−
(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)メ
チル]シクロペンチル−2,4(1H,3H)−ピリミ
ジンジオン(463mg、1.07ミリモル)の撹拌溶
液にアルゴン下−70℃にて、10.7mlの1M三塩
化ホウ素/ジクロロメタンを5分にわたって加える。反
応液を2.5時間にわたり−40℃まで加温し、次いで
−70℃に冷却する。乾燥メタノール(20ml)を5
分にわたって滴下し、次いで冷却浴を取除く。30分間
撹拌後、反応液を減圧濃縮して残渣を得る。残渣を20
ml部の乾燥メタノールより4回濃縮し、次いでメタノ
ール(10ml)および水(6ml)に溶解する。0.
5N水酸化カリウムでpH7.0に調整し、メタノール
を減圧除去する。水性懸濁液を、水に充填したCHP−
20P樹脂カラム(32ml)に適用する。 水、次いで5%および10%メタノール/水で溶離して
、194mgの所望生成物を非晶質残渣で得る。この残
渣を、他の工程から得た別途70mgの所望生成物とコ
ンバインし、水より凍結乾燥して、215mgの所望生
成物を得る。m.p.52〜60℃、[α]D22=+
59゜(c=0.3、水)。 元素分析(C12H16N2O4・0.4H2Oとして
)計算値:C55.53、H6.53、N10.80実
測値:C55.49、H6.29、N10.84
03】実施例3 [1S−(1α,3α,4β)]−4−アミノ−1−[
4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル)−2−メチレ
ンシクロペンチル]−2(1H)−ピリミジノンの製造
:−A.[1S−(1α,2β,3α,4β)]−1−
[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[
(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,
4(1H,3H)−ピリミジンジオン 乾燥ジメチルホルムアミド(40ml)中の[1S−(
1α,2α,3β,5α)]−3−(フェニルメトキシ
)−2−[(フェニルメトキシ)メチル]−6−オキサ
ビシクロ[3.1.0]ヘキサン(3.28g、10.
6ミリモル)の溶液に、ウラシル(2.37g、21.
2ミリモル)および60%水素化ナトリウム/鉱油(2
54mg、6.34ミリモル)を加える。懸濁液を窒素
下140℃で5日間加熱し、次いで室温まで冷却する。 酢酸(1.2ml)を加え、溶媒を減圧除去する。残渣
をジクロロメタンに充填したメルクシリカゲル(400
ml)カラムにて、ジクロロメタン〜5%メタノール/
ジクロロメタン勾配で溶離するクロマトグラフィーに付
して、2.68gの所望生成物を残渣で得る。
−[2−オキソ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(
フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4
(1H,3H)−ピリミジンジオン 乾燥ジメチルスルホキシド(15ml)中の[1S−(
1α,2β,3α,4β)]−1−[2−ヒドロキシ−
4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ
)メチル]シクロペンチル−2,4(1H,3H)−ピ
リミジンジオン(2.58g、6.11ミリモル、乾燥
トルエンより減圧濃縮して乾燥)、1,3−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド(3.77g、18.3ミリモル
)およびメチルホスホン酸(293mg、3.05ミリ
モル)の溶液を、窒素下室温で5時間撹拌する。シュウ
酸・2水和物(75mg)/メタノール(10ml)を
加え、反応液を4時間撹拌し、濾過する。沈澱物をジク
ロロメタン(80ml)で洗い、濾液と洗液をコンバイ
ンし、水(50ml×3)で抽出し、乾燥(硫酸ナトリ
ウム)し、減圧濃縮して残渣とする。残渣を20mlの
クロロホルムに溶解し、セライトで濾過し、減圧濃縮し
て2.61gの所望の粗生成物を得る。
−[2−メチレン−4−(フェニルメトキシ)−3−[
(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,
4(1H,3H)−ピリミジンジオン 乾燥ジクロロメタン(40ml)中の粗[1S−(1α
,3α,4β)]−1−[2−オキソ−4−(フェニル
メトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シク
ロペンチル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオ
ン(2.61g、乾燥トルエンより減圧濃縮して乾燥)
の溶液に、テトラヒドロフラン中の亜鉛/四塩化チタン
/ジブロモメタン錯体(実施例1/Hの調製物1)のス
ラリー(45ml、13.5ミリモル)を加え、混合物
を窒素下室温で3時間撹拌する。さらに0.3Mの亜鉛
/四塩化チタン/ジブロモメタン錯体(10ml)を加
え、反応液を室温で3時間撹拌し、次いで−80℃で1
6時間貯蔵する。反応液を室温まで加温し、飽和重炭酸
ナトリウム水溶液(250ml)およびジクロロメタン
(250ml)に注ぐ。混合物を1時間撹拌し、次いで
セライトで濾過する。濾液の各層を分離し、有機層を水
(100ml×2)で抽出する。全ての有機層をコンバ
インし、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮して残渣
(2.5g)とする。この残渣をメルクシリカゲル(4
00ml、クロロホルムに充填)にて、クロロホルム〜
30%酢酸エチル/クロロホルム勾配で溶離するクロマ
トグラフィーに付して、700mgの所望生成物を残渣
で得る。
−[2−メチレン−4−(フェニルメトキシ)−3−[
(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−4−
(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)−2(
1H)−ピリミジノン 乾燥ピリジン(4ml)中の[1S−(1α,3α,4
β)]−1−[2−メチレン−4−(フェニルメトキシ
)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチ
ル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン(49
4mg、1.18ミリモル)の撹拌溶液に窒素下室温に
て、4−クロロフェニルジクロロホスフェート(518
μl、3.19ミリモル)を加える。5分後、1,2,
4−トリアゾール(448mg、6.49ミリモル)を
加え、反応液を5日間撹拌する。溶媒を減圧除去し、残
渣をジクロロメタン(100ml)に溶解し、水(20
ml×2)および5%重炭酸ナトリウム(20ml×2
)で抽出する。有機層を乾燥(硫酸ナトリウム)し、減
圧濃縮して586mgの所望の粗生成物を得る。
−アミノ−1−[2−メチレン−4−(フェニルメトキ
シ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペン
チル]−2(1H)−ピリミジノン ジオキサン(12ml、塩基性アルミナに通して精製)
中の粗[1S−(1α,3α,4β)]−1−[2−メ
チレン−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニル
メトキシ)メチル]シクロペンチル]−4−(1H−1
,2,4−トリアゾール−1−イル)−2(1H)−ピ
リミジノン(586mg)の溶液に、濃水酸化アンモニ
ウム(12ml)を加える。反応液を窒素下室温にて1
6時間撹拌する。さらに水酸化アンモニウム(1ml)
を加え、反応液を3時間以上撹拌する。溶媒の減圧除去
後、残渣をジクロロメタン(75ml)に溶解する。ジ
クロロメタン溶液を5%水酸化ナトリウム(20ml×
2)で抽出し、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮し
て残渣とする。この残渣をメルクシリカゲル(100m
l、クロロホルムに充填)のカラムにて、2〜8%メタ
ノール/クロロホルム勾配で溶離するクロマトグラフィ
ーに付して、177mgの所望精製物を残渣で得る。
−アミノ−1−[4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチ
ル)−2−メチレンシクロペンチル]−2(1H)−ピ
リミジノン乾燥ジクロロメタン(8ml)中の[1S−
(1α,3α,4β)]−4−アミノ−1−[2−メチ
レン−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメ
トキシ)メチル]シクロペンチル]−2(1H)−ピリ
ミジノン(164mg、0.393ミリモル)の溶液に
窒素下−78℃にて、1M三塩化ホウ素/ジクロロメタ
ン(3.93ml、3.93ミリモル)を3分にわたっ
て加える。反応液を−78℃で1.5時間撹拌し、次い
でメタノール(9ml)を5分にわたって加える。反応
液を20分にわたり室温まで加温して後、溶媒を減圧除
去し、残渣をメタノール(15ml×3)より濃縮する
。残渣を水およびメタノールに溶解し、1N水酸化カリ
ウムでpH7に調整する。メタノールを減圧除去し、水
性スラリーを水に充填したCHP20P樹脂(70ml
)カラムに適用する。カラムを水〜20%メタノール/
水の勾配で溶離して、48mgの所望生成物を固体で得
る。m.p.75〜78℃、[α]D22=+51゜(
c=0.29、水)。 元素分析(C11H15N3O3・1.34H2Oとし
て)計算値:C50.56、H6.82、N16.08
実測値:C50.58、H6.31、N16.06
109】実施例4 [1S−(1α,3α,4β)]−1−[4−ヒドロキ
シ−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシクロペ
ンチル]−5−ヨード−2,4(1H,3H)−ピリミ
ジンジオンの製造:− A.[1S−(1α,2β,3α,4β)]−1−[2
−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フ
ェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−5−ヨー
ド−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 乾燥ジオキサン(50ml)中の[1S−(1α,2β
,3α,4β)]−1−[2−ヒドロキシ−4−(フェ
ニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]
シクロペンチル)−2,4(1H,3H)−ピリミジン
ジオン(1.32g、3.12ミリモル)の溶液に、ヨ
ウ素(1.59g、6.25ミリモル)および0.8N
硝酸(4.1ml、3.34ミリモル)を加える。反応
液を90℃で3時間加熱し、反応液を室温まで冷却した
後、チオ硫酸ナトリウムの飽和溶液を、淡オレンジ色が
持続するまで加える。水(50ml)を加え、混合物を
ジクロロメタン(70ml×3)で抽出する。有機抽出
物を乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮して残渣とす
る。この残渣をメルクシリカゲル(100ml、ジクロ
ロメタンに充填)のカラムにて、ジクロロメタン〜3%
エタノール/ジクロロメタン勾配を用いるクロマトグラ
フィーに付して、895mgの所望生成物を残渣で得る
。
−ヨード−1−[2−オキソ−4−(フェニルメトキシ
)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチ
ル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン ピリジニウムジクロメート(801mg、2.13ミリ
モル、五酸化リン上で減圧乾燥)および粉砕した3Åモ
レキュラーシーブ(801mg、325℃で乾燥)の懸
濁液に、乾燥ジクロロメタン(4ml)中の[1S−(
1α,2β,3α,4β)]−1−[2−ヒドロキシ−
4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ
)メチル]シクロペンチル]−5−ヨード−2,4(1
H,3H)−ピリミジンジオン(687mg、1.25
ミリモル、乾燥トルエンより減圧濃縮して乾燥)の溶液
を加える。反応液を窒素下室温で2時間撹拌し、次いで
ウォットマン(Whatman)#1濾紙で濾過する。 沈澱物をジクロロメタンで洗い、濾液を減圧濃縮して残
渣とし、該残渣を30mlの酢酸エチル中で超音波処理
する。混合物を、セライトとガラスウールを積層した0
.2μmナイロンフィルター(レイニン66)で濾過し
、減圧濃縮して544mgの所望の粗精製物を残渣で得
る。
錯体(調整物2) この錯体は、L.ロムバルドの「Tetr.Let.」
(23、4293頁、1982年)に記載の手順を改変
して製造する。乾燥テトラヒドロフラン(150ml)
中の亜鉛粉(10.59g、0.162モル)およびジ
ブロモメタン(4.96ml、0.071モル)の撹拌
混合物に窒素下−40℃にて、四塩化チタン(5.75
ml、0.0523モル)をゆっくり滴下する。滴下後
、混合物を30分にわたり5℃まで加温し、次いでアル
ゴン下5℃で4日間撹拌する。スラリーをアルゴン下−
20℃で貯蔵し、室温まで加温してから使用する。
−ヨード−1−[2−メチレン−4−(フェニルメトキ
シ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペン
チル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 乾燥ジクロロメタン(9.5ml)中の[1S−(1α
,3α,4β)]−5−ヨード−1−[2−オキソ−4
−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)
メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)−ピ
リミジンジオン(428mg、0.783ミリモル、乾
燥トルエンおよびテトラヒドロフランより減圧濃縮して
乾燥)の溶液に、テトラヒドロフラン中の亜鉛/四塩化
チタン/ジブロモメタン錯体(実施例4/Cの調製物2
)(7.83ml、2.35ミリモル)のスラリーを加
える。混合物を窒素下室温で3時間撹拌し、次いでこれ
を飽和重炭酸ナトリウム(100ml)とジクロロメタ
ン(75ml)の混合物にゆっくりと注ぐ。混合物を1
時間撹拌し、ジクロロメタンを用い、セライトで濾過す
る。濾液の各層を分離し、水性層を酢酸エチルで抽出す
る。有機層をコンバインし、乾燥(硫酸ナトリウム)し
、減圧濃縮して残渣とする。残渣をメルクシリカゲル(
100ml、ジクロロメタンに充填)のカラムにて、1
〜5%エタノール/ジクロロメタン勾配を用いるクロマ
トグラフィーに付して、243mgの所望生成物を残渣
で得る。
−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシメチル)−2−
メチレンシクロペンチル]−5−ヨード−2,4(1H
,3H)−ピリミジンジオン ジクロロメタン(7.5ml)中の[1S−(1α,3
α,4β)]−5−ヨード−1−[2−メチレン−4−
(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)メ
チル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)−ピリ
ミジンジオン(200mg、0.368ミリモル、トル
エンより濃縮して乾燥)の溶液に窒素下−78℃にて、
1M三塩化ホウ素/ジクロロメタン(3.68ml、3
.68ミリモル)を3分にわたって加える。反応液を−
78℃で2時間撹拌し、次いでメタノール(10ml)
を5分にわたって加える。反応液を20分にわたり室温
まで加温し、減圧蒸発して残渣とする。残渣をメタノー
ル(10ml×3)より濃縮し、メタノールおよび水に
溶解する。0.1M水酸化カリウムでpH7.1に調整
し、混合物を濃縮してメタノールを除去し、水に充填し
たCHP 20P樹脂(50ml)カラムに適用する
。水〜50%メタノール/水の勾配で溶離して、69m
gの所望生成物を固体で得、これを小スケールの同様な
反応で得た別途9mgの所望生成物とコンバインして、
78mgの所望生成物を固体で得る。m.p.180℃
(分解)、[α]D22=+63゜(c=0.29、メ
タノール)。 元素分析(C11H13IN2O4・0.32H2Oと
して)計算値:C35.72、H3.72、N7.58
実測値:C35.97、H3.55、N7.32
14】実施例5 [1S−[1α(E),3α,4β)]−5−(2−ブ
ロモエテニル)−1−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロ
キシメチル)−2−メチレンシクロペンチル]−2,4
(1H,3H)−ピリミジンジオンの製造:− A.[1S−[1α(E),2β,3α,4β)]−3
−[1,2,3,4−テトラヒドロ−1−[2−ヒドロ
キシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメ
トキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4−ジオキソ
−5−ピリミジニル]−2−プロペン酸メチルエステル ジオキサン(200ml、塩基性アルミナ上で精製およ
び減圧脱泡)中の酢酸パラジウム(II)(0.195
g、0.871ミリモル)、トリフェニルホスフィン(
0.456g、1.74ミリモル)およびトリエチルア
ミン(2.56ml、0.0183モル)の混合物を、
窒素下90℃で10分間加熱する。脱泡ジオキサン(2
0ml)中の[1S−(1α,2β,3α,4β)]−
1−[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3
−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−
5−ヨード−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン
(6.70g、0.0122モル、乾燥トルエンより減
圧濃縮して乾燥)およびアクリル酸メチル(3.23m
l、0.0366モル)の溶液を加え、反応液を90℃
で4.5時間加熱する。セライト(5g)を加え、90
℃で15分間撹拌後、温スラリーをセライトで濾過し、
クロロホルム(80ml)で洗う。濾液と洗液をコンバ
インし、減圧濃縮して残渣とし、これをクロロホルム(
400ml)に溶解する。クロロホルム溶液を水(10
0ml)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮
して残渣とする。残渣をメルクシリカゲル(800ml
、ジクロロメタンに充填)のカラムにて、クロロホルム
〜5%エタノール/クロロホルム勾配で溶離するクロマ
トグラフィーに付し、2.21gの所望生成物を残渣で
得る。
4β)]−3−[1,2,3,4−テトラヒドロ−1−
[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[
(フェニルメトキシ)メチル)シクロペンチル]−2,
4−ジオキソ−5−ピリミジニル]−2−プロペン酸[
1S−[1α(E),2β,3α,4β)]−3−[1
,2,3,4−テトラヒドロ−1−[2−ヒドロキシ−
4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ
)メチル]シクロペンチル]−2,4−ジオキソ−5−
ピリミジニル]−2−プロペン酸メチルエステル(2.
98g、5.88ミリモル)、テトラヒドロフラン(4
5ml)、および2N水酸化カリウム(29.4ml、
58.8ミリモル)の溶液を、窒素下室温で2.5時間
撹拌する。混合物を0℃に冷却後、6N塩酸でpH2に
調整する。テトラヒドロフランを減圧除去し、混合物を
水希釈し、酢酸エチル(200ml×3)で抽出する。 酢酸エチル抽出物を乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃
縮して、3.14gの所望生成物を残渣で得る。
4β]]−5−(2−ブロモエテニル)−1−[2−ヒ
ドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニ
ルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H
,3H)−ピリミジンジオン 乾燥ジメチルホルムアミド(35ml)中の[1S−[
1α(E),2β,3α,4β)]−3−[1,2,3
,4−テトラヒドロ−1−[2−ヒドロキシ−4−(フ
ェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル
]シクロペンチル]−2,4−ジオキソ−5−ピリミジ
ニル]−2−プロペン酸(2.89g、5.88ミリモ
ル、乾燥ジメチルホルムアミドより減圧濃縮して乾燥)
の溶液に、重炭酸カリウム(1.76g、17.64ミ
リモル)およびN−ブロモスクシンイミド(1.05g
、5.88ミリモル)を加え、混合物を窒素下室温で2
時間撹拌する。反応混合物の濾過および濾液の減圧濃縮
を行い、残渣を得、これをメルクシリカゲル(400m
l、ジクロロメタンに充填)のカラムにて、ジクロロメ
タン〜5%エタノール/ジクロロメタン勾配で溶離する
クロマトグラフィーに付し、所望生成物とスクシンイミ
ド含有の1.59g画分および所望粗生成物からなる6
20mg画分を得る。620mg画分をメルクシリカゲ
ル(100ml、ジクロロメタン中)にて、上述の溶離
勾配を用いるクロマトグラフィーに付し、120mgの
所望生成物とスクシンイミドを含有する画分を得る。1
.59g画分および120mg画分をジクロロメタン(
100ml)に溶解し、溶液を希チオ硫酸ナトリウム(
50ml)、1M重炭酸カリウム(50ml×3)およ
び水(50ml)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、
減圧濃縮して、1.56gの純粋な所望生成物を得る。
]−5−(2−ブロモエテニル)−1−[2−オキソ−
4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ
)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)−
ピリミジンジオン乾燥ジメチルスルホキシド(10ml
)中の[1S−[1α(E),2β,3α,4β]]−
5−(2−ブロモエテニル)−1−[2−ヒドロキシ−
4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ
)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)−
ピリミジンジオン(1.32g、2.5ミリモル、乾燥
トルエンより減圧濃縮して乾燥)の溶液に、1,3−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド(1.55g、7.5ミ
リモル)およびメチルホスホン酸(120mg、1.2
5ミリモル)を加え、混合物を窒素下室温で5時間撹拌
する。メタノール(4ml)中のシュウ酸・2水和物(
30mg)の溶液を加え、撹拌を2時間続ける。反応液
を濾過し、沈澱物をジクロロメタンで洗う。コンバイン
した濾液および洗浄(約80ml)を水(40ml×4
)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮して1
.45gの所望粗生成物を残渣で得る。
]−5−(2−ブロモエテニル)−1−[2−メチレン
−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキ
シ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)
−ピリミジンジオン乾燥ジクロロメタン(30ml)中
の[1S−[1α(E),3α,4β]]−5−(2−
ブロモエテニル)−1−[2−オキソ−4−(フェニル
メトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シク
ロペンチル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオ
ン(粗1.45g、乾燥トルエンより減圧濃縮して乾燥
)の溶液に、テトラヒドロフラン中の亜鉛/四塩化チタ
ン/ジブロモメタン錯体(実施例4/Cの調製物2)(
25ml、7.5ミリモル)のスラリーを加える。 反応液を窒素下室温で5時間撹拌し、これを飽和重炭酸
ナトリウム(200ml)とジクロロメタン(200m
l)の混合物に注ぐ。45分間撹拌後、混合物をセライ
トで濾過する。濾液の各層を分離し、有機層を水(20
0ml)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮
して残渣とする。残渣をメルクシリカゲル(600ml
、クロロホルムに充填)カラムにて、クロロホルム〜1
5%酢酸エチル/クロロホルム勾配を用いるクロマトグ
ラフィーに付して、362mgの所望生成物と38mg
の1,3−ジシクロヘキシル尿素からなる400mgの
固体を得る。
]−5−(2−ブロモエテニル)−1−[4−ヒドロキ
シ−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシクロペ
ンチル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 上記調製した10mlの乾燥ジクロロメタンに362m
g(0.769ミリモル)の[1S−[1α(E),3
α,4β]]−5−(2−ブロモエテニル)−1−[2
−メチレン−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェ
ニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1
H,3H)−ピリミジンジオン(乾燥トルエンより減圧
濃縮して乾燥)を含有する溶液に窒素下−78℃にて、
1M三塩化ホウ素/ジクロロメタン(7.69ml、7
.69ミリモル)を加える。混合物を−78℃で1時間
撹拌し、次いでメタノール(12ml)をゆっくり加え
る。溶液を30分にわたり室温まで加温した後、溶媒を
減圧除去して残渣とし、これをメタノール(20ml×
2)より減圧濃縮する。残渣をメタノールおよび水を溶
かし、0.1N水酸化カリウムでpH7に調整する。減
圧濃縮してメタノールを除去し、水性懸濁液をCHP
20P樹脂(40ml、水に充填)のカラムに適用す
る。カラムを水〜50%メタノール/水の勾配で溶離し
て、78mgの純粋な所望生成物および92mgの不純
物を得る。92mg画分をCHP 20P樹脂(40
ml、水に充填)にて、30〜60%メタノール/水の
勾配を用いるクロマトグラフィーに付して、別途21m
gの純粋な所望生成物を得る(所望生成物のトータル収
量99mg)。m.p.>220℃、[α]D22=+
62゜(c=0.3、メタノール)。 元素分析(C13H15N2O4Br・1.5H2Oと
して)計算値:C44.81、H4.51、N8.04
実測値:C44.94、H4.31、N7.91
20】実施例6 [1R−(1α,3α,5β)]−3−(6−アミノ−
9H−プリン−9−イル)−5−ヒドロキシ−2−メチ
レンシクロペンタンメタノールの製造:− A.[1S−(1α,2β,3α,5β)]−5−(6
−アミノ−9H−プリン−9−イル)−3−(フェニル
メトキシ)−2−[(フェニルメトキシ)メチル]シク
ロペンタノール41mlの乾燥ジメチルホルムアミド中
の[1S−(1α,2α,3β,5α)]−3−(フェ
ニルメトキシ)−2−[(フェニルメトキシ)メチル]
−6−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサン(1.8
2g、5.85ミリモル、乾燥トルエンより減圧濃縮し
て乾燥)にアルゴン下、1.58g(11.7ミリモル
)のアデニン、次いで31mg(3.9ミリモル)の水
素化リチウムを加える。撹拌混合物を60℃浴に入れ、
温度を130℃に上げる。130℃で19時間後、混合
物を40℃に冷却し、次いで酢酸(0.29ml、5ミ
リモル)を加えるジメチルホルムアミドを減圧除去し、
残渣をジクロロメタンと共にトリチュレートする。この
トリチュレートを濾過し、濾液を濃縮して、1.60g
の不溶物と3.01gの残渣を得る。 3.01g画分をメルクシリカゲル(160g、ジクロ
ロメタンに充填)のカラムにて、ジクロロメタン、次い
で3%メタノール/ジクロロメタンで溶離するクロマト
グラフィーに付して、1.26gの所望生成物を残渣で
得る。1.60g画分をジクロロメタンと共にトリチュ
レートし、濾過し、濾液を蒸発して、別途77mgの所
望生成物を残渣で得る。
]−5−[6−(アセチルアミノ)−9H−プリン−9
−イル]−3−(フェニルメトキシ)−2−[(フェニ
ルメトキシ)メチル]シクロペンタノール 乾燥ピリジン(15ml)中の[1S−(1α,2β,
3α,5β)]−5−(6−アミノ−9H−プリン−9
−イル)−3−(フェニルメトキシ)−2−[(フェニ
ルメトキシ)メチル]シクロペンタノール(1.33g
、3ミリモル、乾燥ピリジンより減圧濃縮して乾燥)の
撹拌溶液にアルゴン下室温にて、クロロトリメチルシラ
ン(1.91ml、15ミリモル)を滴下する。30分
後、無水酢酸(1.41ml、15ミリモル)を加え、
混合物を室温で3時間撹拌する。混合物を0〜5℃に冷
却し、水(3ml)を滴下する。撹拌を5分間続け、次
いで29%水酸化アンモニウム(3ml)を加える。2
5分間撹拌後、混合物を減圧濃縮して残渣とし、これを
ジクロロメタンおよび5%重炭酸カリウム水溶液に溶か
す。各層を分離し、水性層(pH7.5)をジクロロメ
タンで3回抽出する。ジクロロメタン層をコンバインし
、5%重炭酸カリウムで洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)
し、減圧濃縮して残渣とする。この残渣をメルクシリカ
ゲル(130g、ジクロロメタンに充填)のカラムにて
、ジクロロメタン〜5%メタノール/ジクロロメタンの
勾配で溶離するクロマトグラフィーに付して、1.23
gの所望生成物を残渣で得る。
−[6−(アセチルアミノ)−9H−プリン−9−イル
]−3−(フェニルメトキシ)−2−[(フェニルメト
キシ)メチル]シクロペンタノン 2mlの乾燥ジメチルスルホキシド中の[1S−(1α
,2β,3α,5β)]−5−[6−(アセチルアミノ
)−9H−プリン−9−イル]−3−(フェニルメトキ
シ)−2−[(フェニルメトキシ)メトキシ]シクロペ
ンタノール(610mg、1.25ミリモル、乾燥ジク
ロロメタン/トルエン=1:1より減圧濃縮して乾燥)
の溶液に、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(
773mg、3.75ミリモル)およびメチルホスホン
酸(60mg、0.63ミリモル)を加え、混合物をア
ルゴン下室温で撹拌する。 4時間後、乾燥メタノール(1.5ml)およびシュウ
酸・2水和物(15mg)を加え、混合物を窒素下−2
0℃で16時間貯蔵する。次いで混合物をアルゴン下室
温で4時間撹拌し、ジクロロメタンを用いて濾過する。 濾液を蒸発して残渣を得、これをジクロロメタンに溶か
す。ジクロロメタン溶液を水洗し、乾燥(硫酸ナトリウ
ム)し、減圧濃縮して残渣とする。ジクロロメタンを加
えた後、濾過および減圧濃縮を行い、629mgの所望
粗生成物を残渣で得る。
−[2−メチレン−4−(フェニルメトキシ)−3−[
(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−9H
−プリン−6−アミン 20mlの乾燥ジクロロメタン中の[2R−(2α,3
β,5α)]−5−[6−(アセチルアミノ)−9H−
プリン−9−イル]−3−(フェニルメトキシ)−2−
[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンタノン(6
29mg、乾燥テトラヒドロフラン/トルエン=1:1
より減圧濃縮して乾燥)の溶液にアルゴン下室温にて、
テトラヒドロフラン中の亜鉛/四塩化チタン/ジブロモ
メタン錯体(実施例1/Hの調製物1)のスラリー12
.5ml(3.75ミリモル)を加える。混合物を4時
間撹拌し、飽和重炭酸ナトリウム(80ml)に注ぐ。 ジクロロメタン(80ml)を加え、混合物を室温で5
0分間撹拌する。混合物をセライトでジクロロメタンを
用いて濾過し、濾液の各層を分離する。水性層をジクロ
ロメタンで抽出し、全てのジクロロメタン層をコンバイ
ンし、乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧濃縮して残渣
とする。残渣をメルクシリカゲル(38g、ジクロロメ
タンに充填)のカラムにて、ジクロロメタン〜3%メタ
ノール/ジクロロメタンの勾配で溶離するクロマトグラ
フィーに付して、48mgの純粋な所望生成物と173
mgの不純な所望生成物を得る。173mg画分をメル
クシリカゲル(13g)カラムにて、上述の溶離勾配を
用いるクロマトグラフィーに付して、別途28mgの所
望生成物を残渣で得る(所望生成物のトータル収量76
mg)。
−(6−アミノ−9H−プリン−9−イル)−5−ヒド
ロキシ−2−メチレンシクロペンタンメタノール6.5
mlの乾燥ジクロロメタン中の[1S−(1α,3α,
4β)]−9−[2−メチレン−4−(フェニルメトキ
シ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペン
チル]−9H−プリン−6−アミン(142mg、0.
32ミリモル)の撹拌溶液にアルゴン下−70℃にて、
1M三塩化ホウ素/ジクロロメタン溶液(3.2ml、
3.2ミリモル)を4分にわたって滴下し、混合物を−
70℃で1.5時間撹拌する。乾燥メタノール(6ml
)を3分にわたって加え、次いで混合物を室温まで加温
し、減圧濃縮して残渣とする。残渣を6ml部のメタノ
ールより3回減圧濃縮し、次いでメタノール(4ml)
および水(2ml)に溶かす。1N水酸化カリウムでp
H8.8に調整し、混合物を濃縮して残渣とし、これを
水の懸濁液で、CHP−20P樹脂(17ml、水に充
填)のカラムに適用する。水〜20%メタノール/水の
勾配で溶離し、凍結乾燥して、35mgの所望生成物を
固体で得る。m.p.52〜58℃。
ドロキシ−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシ
クロペンチル]−5−(2−ヨードエテニル)−2,4
(1H,3H)−ピリミジンジオンの製造:− A.(−)−ジイソピノカンフェイルボラン光学純度9
8+%([α]D23=+50.7゜(正味))の(1
R)−(+)−α−ピネンを用いて、(−)−ジイソピ
ノカンフェイルボランを製造する。(1R)−(+)−
α−ピネン(185g、1.36モル)に窒素下0〜5
℃にて、1.0Mボラン/テトラヒドロフラン錯体溶液
616mlを加え、反応液を5℃で一夜撹拌して、所望
生成物を結晶スラリーで得る。
ルメトキシ)メチル]−3−シクロペンテン−1−オー
ル−15℃の乾燥テトラヒドロフラン264ml中の3
1.0gの40%ナトリウム粉/鉱油(0.54g圧)
の撹拌混合物に、−20℃のシクロペンタジエン(39
g、0.59モル)を35分にわたって加える。混合物
を−10℃で1.5時間撹拌し、0℃まで温ため、カニ
ューレで他の漏斗へ0℃にて移す。次いでこの混合物を
、−50〜−55℃のテトラヒドロフラン200ml中
のベンジルクロロメチルエーテル(100g、0.64
モル)の撹拌溶液に30分にわたって加える。混合物を
−55〜−40℃で1時間撹拌し、次いで−65℃に冷
却する。これに、−65℃に冷却した上記Aの(−)−
ジイソピノカンフェイルボランの結晶スラリーをカニュ
ーレで5分にわたって加える。反応液を−60℃で1時
間撹拌し、−10℃まで加温し、−20℃で一夜貯蔵す
る。反応混合物を5℃で1時間撹拌し、次いで元の容量
の半分まで減圧濃縮する。エーテル(600ml)を加
え、撹拌混合物を0℃に冷却し、濃度を5℃以下に保持
しながら、188mlの3N水酸化ナトリウムを滴下す
る。温度を12℃以下に保持しながら、冷30%過酸化
水素(188ml)を1時間にわたって滴下し、次いで
混合物を1時間以上撹拌し、その間温度を12℃以下に
維持する。各層を分離し、水性層をエーテルで洗う。エ
ーテル抽出物をコンバインし、乾燥(硫酸ナトリウム)
し、減圧濃縮して残渣(337g)を得る。この残渣を
メルクシリカゲル(2300g、石油エーテル/エーテ
ル=2:1に充填)のカラムにて、石油エーテル/エー
テル(2:1、次いで1:1)を用いるクロマトグラフ
ィーに付し、画分A(17.56gの所望の不純生成物
)、画分B(11.03gの純粋な所望生成物)、およ
び画分C(3.52gの所望の不純生成物)を得る。画
分Aを800gのシリカゲル、画分Cを140gのシリ
カゲルにて同様なクロマトグラフィーに付して、それぞ
れ別途8.08gおよび2.33gの純粋な所望生成物
を得る(上記B化合物のトータル収量21.44g)。
]−2−[(フェニルメトキシ)メチル]−6−オキサ
ビシクロ[3.1.0]ヘキサン−3−オール 上記C化合物は、実施例1/Cの操作において、上記B
の製造で得た(1S−トランス)−2−[(フェニルメ
トキシ)メチル]−3−シクロペンテン−1−オールを
用いる以外は、同様にして製造する。上記C化合物の[
α]D22=+48.0゜(c=1.0、CHCl3)
および光学純度94%[S.K.ビッガダイクらの「J
.Chem.Soc.Perkin Trans」(
1、549頁、1988年)参照]。
]−3−(フェニルメトキシ)−2−[(フェニルメト
キシ)メチル]−6−オキサビシクロ[3.1.0]ヘ
キサン上記D化合物は、実施例1/Dの操作において、
上記Cの製造で得た[1S−(1α,2α,3β,5α
)]−2−[(フェニルメトキシ)メチル]−6−オキ
サビシクロ[3.1.0]ヘキサン−3−オールを用い
る以外は、同様にして製造する。
]−1−[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)
−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル
]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 上記E化合物は、実施例3/Aの操作において、上記D
の製造で得た[1S−(1α,2α,3β,5α)]−
3−(フェニルメトキシ)−2−[(フェニルメトキシ
)メチル]−6−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサ
ンを用いる以外は、同様にして製造する。
]−1−[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)
−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル
]−5−ヨード−2,4(1H,3H)−ピリミジンジ
オン乾燥ジオキサン(455ml)中の上記Eの[1S
−(1α,2β,3α,4β)]−1−[2−ヒドロキ
シ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメト
キシ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H
)−ピリミジンジオン(11.99g、28.41ミリ
モル)の溶液に、ヨウ素(14.44g、56.85ミ
リモル)および0.8N硝酸(59.6ml、30.3
ミリモル)を加える。反応液を90℃で2時間加熱し、
室温まで冷却する。チオ硫酸ナトリウムの飽和溶液(2
5ml)を、淡オレンジ色が持続するまで加え、混合物
をジクロロメタン(500ml×3)で抽出し、コンバ
インしたジクロロメタン抽出物を塩化ナトリウム飽和溶
液(100ml)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、
減圧濃縮して残渣とする。この残渣を1200mlのメ
ルクシリカゲルにて、酢酸エチル/クロロホルム(1:
1)を用いるクロマトグラフィーに付し、9.5gの所
望生成物を固体(m.p.165℃)で得る。
4β)]−3−[1,2,3,4−テトラヒドロ−1−
[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[
(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,
4−ジオキソ−5−ピリミジニル]−2−プロペン酸メ
チルエステルジオキサン(100ml、塩基性アルミナ
上で精製および減圧脱泡)中の酢酸パラジウム(II)
(168mg、0.752ミリモル)、トリフェニルホ
スフィン(400mg、1.52ミリモル)およびトリ
エチルアミン(1.1ml、7.9ミリモル)の混合物
を、窒素下85℃で撹拌しながら15分間加熱する。こ
の赤色溶液に、上記Fの[1S−(1α,2β,3α,
4β)]−1−[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメト
キシ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペ
ンチル]−5−ヨード−2,4(1H,3H)−ピリミ
ジンジオン(2.90g、5.28ミリモル、五酸化リ
ン上で50℃にて2時間減圧乾燥)およびアクリル酸メ
チル(1.40ml、15.6ミリモル)を加える。 混合物を80℃で7時間、90℃で2時間、次いで室温
で一夜撹拌する。混合物をセライトで濾過し、セライト
をクロロホルム(200ml)で洗う。コンバインした
濾液を減圧濃縮して残渣とし、残渣をクロロホルム(2
00ml)に溶解する。クロロホルム溶液を水洗し、乾
燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮して残渣とする。こ
の残渣をメルクシリカゲル(600ml、ジクロロメタ
ンに充填)のカラムにて、ジクロロメタン〜5%エタノ
ール/ジクロロメタンの勾配で溶離するクロマトグラフ
ィーに付して、1.54gの所望生成物を泡状固体で得
る。
4β]]−3−[1,2,3,4−テトラヒドロ−1−
[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[
(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,
4−ジオキソ−5−ピリミジニル]−2−プロペン酸 上記H化合物は、実施例5/Bの操作において、上記G
の製造で得た[1S−[1α(E),2β,3α,4β
)]−3−[1,2,3,4−テトラヒドロ−1−[2
−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フ
ェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4−
ジオキソ−5−ピリミジニル]−2−プロペン酸メチル
エステルを用いる以外は、同様にして製造する。
4β]]−1−[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメト
キシ)−3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペ
ンチル]−5−(2−ヨードエテニル)−2,4(1H
,3H)−ピリミジンジオン 10mlの乾燥ジメチルホルムアミド中の上記Hの[1
S−[1α(E),2β,3α,4β]]−3−[1,
2,3,4−テトラヒドロ−1−[2−ヒドロキシ−4
−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)
メチル]シクロペンチル]−2,4−ジオキソ−5−ピ
リミジニル]−2−プロペン酸(500mg、1.0ミ
リモル、乾燥ジメチルホルムアミドより減圧濃縮して乾
燥)の撹拌溶液にアルゴン下、酢酸カリウム(1.97
g、20.0ミリモル)を加える。混合物を室温で30
分間撹拌し、次いでN−ヨードスクシンイミド(225
mg、1.0ミリモル)を加える。混合物を50℃で4
時間撹拌し、さらにN−ヨードスクシンイミド(113
mg、0.5ミリモル)を加え、50℃の加熱を、4.
5時間続ける。混合物を室温にて一夜撹拌し、次いで濾
過する。固体をジメチルホルムアミド(20ml)で洗
い、コンバインした濾液を減圧濃縮して残渣とする。残
渣をクロロホルム(125ml)に溶かし、クロロホル
ム溶液を1M重炭酸カリウム(20ml×3)および水
(25ml)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧
濃縮して残渣とする。この残渣をメルクシリカゲル(7
5ml、ジクロロメタンに充填)のカラムにて、ジクロ
ロメタン〜3%メタノール/ジクロロメタンの勾配で溶
離するクロマトグラフィーに付して、350mgの所望
生成物を泡状固体で得る。
]−5−(2−ヨードエテニル)−1−[2−オキソ−
4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ
)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)−
ピリミジンジオン乾燥ジメチルスルホキシド(5.6m
l)中の[1S−[1α(E),2β,3α,4β]]
−1−[2−ヒドロキシ−4−(フェニルメトキシ)−
3−[(フェニルメトキシ)メチル]シクロペンチル]
−5−(2−ヨードエテニル)−2,4(1H,3H)
−ピリミジンジオン(805mg、1.4ミリモル、乾
燥トルエンより減圧濃縮して乾燥)の溶液に、1,3−
ジシクロヘキシルカルボジイミド(868mg、4.2
ミリモル)およびメチルホスホン酸(67.2mg、0
.7ミリモル)を加え、混合物を窒素下室温にて6時間
撹拌する。メタノール(2.2ml)中のシュウ酸・2
水和物(16.8mg)の溶液を加え、撹拌を2時間続
ける。 反応液を濾過し、沈澱物をジクロロメタン(30ml)
で洗い、コンバインした濾液を水(25ml×4)で洗
い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮して930m
gの所望の粗生成物を泡状残渣で得る。
]−5−(2−ヨードエテニル)−1−[2−メチレン
−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキ
シ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)
−ピリミジンジオン乾燥ジクロロメタン(17ml)中
の上記Jの製造で得た粗[1S−[1α(E),3α,
4β]]−5−(2−ヨードエテニル)−1−[2−オ
キソ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメ
トキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3
H)−ピリミジンジオン(930mg、乾燥トルエンよ
り減圧濃縮して乾燥)の溶液に、テトラヒドロフラン中
の0.3M亜鉛/四塩化チタン/ジブロモメタン錯体(
実施例4/Cの調製物2)のスラリー(14ml、4.
2ミリモル)を加える。反応液を窒素下室温にて5時間
撹拌し、これを飽和重炭酸ナトリウム(112ml)と
ジクロロメタン(112ml)の混合物に注ぐ。35分
間撹拌後、混合物をセライトで濾過する。濾液の各層を
分離し、有機層を水(50ml×2)で洗い、乾燥(硫
酸ナトリウム)し、減圧濃縮して残渣とする。この残渣
をメルクシリカゲル(100ml、クロロホルムに充填
)のカラムにて、クロロホルム〜15%酢酸エチル/ク
ロロホルムの勾配を用いるクロマトグラフィーに付して
、299mgの所望生成物および101mgの1,3−
ジシクロヘキシル尿素からなる固体400mgを得る。
]−1−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシメチル)
−2−メチレンシクロペンチル]−5−(2−ヨードエ
テニル)−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 7.5mlの乾燥ジクロロメタン中の、299mg(0
.525ミリモル)の[1S−[1α(E),3α,4
β]]−5−(2−ヨードエテニル)−1−[2−メチ
レン−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメ
トキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3
H)−ピリミジンジオン(乾燥トルエンより減圧濃縮し
て乾燥)を含有する上記Kの製造物400mgの溶液に
窒素下−78℃にて、1M三塩化ホウ素/ジクロロメタ
ン(5.76ml、5.76ミリモル)を加える。混合
物を−78℃で1時間撹拌し、次いでメタノール(9m
l)をゆっくりと加える。溶液を30分にわたり室温ま
で加温した後、溶媒を減圧除去して残渣を得、該残渣を
トルエン(10ml×3)より減圧濃縮する。残渣をメ
タノール(24ml)および水(18ml)に溶かし、
1.0N水酸化カリウムでpH7に調整する。減圧濃縮
でメタノールを除去した後、水性懸濁液(15ml)を
CHP−20P樹脂(48ml、水に充填)のカラムに
適用する。カラムを水〜40%メタノール/水の勾配で
溶離し、適切画分を減圧濃縮して99mgの所望生成物
を粘着性固体で得る。この固体と、同様な反応で得た1
0mgの粘着性の所望生成物をコンバインし、60%メ
タノール/水に溶解する。この溶液を約8mlに濃縮し
て、固体を得、これらを収集し、減圧乾燥して89mg
の所望生成物を得る。m.p.180〜185℃(分解
)、[α]D22=+75.7゜(c=0.3、メタノ
ール)。 元素分析(C13H15IN2O4として)計算値:C
40.02、H3.87、N7.18実測値:C39.
81、H3.61、N7.01
ロロエテニル)−1−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロ
キシメチル)−2−メチレンシクロペンチル]−2,4
(1H,3H)−ピリミジンジオンの製造:− A.[1S−[1α(E),2β,3α,4β]]−5
−(2−クロロエテニル)−1−[2−ヒドロキシ−4
−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ)
メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)−ピ
リミジンジオン乾燥ジメチルホルムアミド(52ml)
中の[1S−[1α(E),2β,3α,4β]]−3
−[1,2,3,4−テトラヒドロ−1−[2−ヒドロ
キシ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメ
トキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4−ジオキソ
−5−ピリミジニル]−2−プロペン酸(実施例7/H
の記載に準じ製造、2.54g、5.17ミリモル、乾
燥ジメチルホルムアミドより減圧濃縮して乾燥)の溶液
に、重炭酸カリウム(1.55g、15.5ミリモル)
およびN−クロロスクシンイミド(760mg、5.6
9ミリモル)を加える。混合物を窒素下室温にて17時
間撹拌する。混合物を室温まで冷却し、濾過し、濾液を
減圧濃縮して残渣とする。残渣を酢酸エチル(750m
l)および水(250ml)に溶解し、0.1N塩酸で
pH2に調整する。酢酸エチル層を水洗し、乾燥(硫酸
ナトリウム)し、減圧濃縮して残渣とする。この残渣を
メルクシリカゲル(150ml、ジクロロメタンに充填
)のカラムにて、ジクロロメタン〜3%エタノール/ジ
クロロメタンの勾配で溶離するクロマトグラフィーに付
して、596mgの所望生成物を泡状固体で得る。
]−5−(2−クロロエテニル)−1−[2−オキソ−
4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキシ
)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)−
ピリミジンジオン乾燥ジメチルスルホキシド(5.2m
l)中の[1S−[1α(E),2β,3α,4β]]
−5−(2−クロロエテニル)−1−[2−ヒドロキシ
−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキ
シ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)
−ピリミジンジオン(631mg、1.3ミリモル、乾
燥トルエンより減圧濃縮して乾燥)の溶液に、1,3−
ジシクロヘキシルカルボジイミド(806mg、3.9
ミリモル)およびメチルホスホン酸(62.4mg、0
.65ミリモル)を加え、混合物を窒素下室温にて5時
間撹拌する。メタノール(2.1ml)中のシュウ酸・
2水和物(15.6mg)の溶液を加え、撹拌を3時間
続ける。反応液を濾過し、沈澱物をジクロロメタン(1
30ml×3)で洗う。コンバインした濾液および洗液
を水(40ml×4)で洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)
し、減圧濃縮して850mgの所望の粗生成物を泡状残
渣で得る。
]−5−(2−クロロエテニル)−1−[2−メチレン
−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメトキ
シ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H)
−ピリミジンジオン乾燥ジクロロメタン(15.6ml
)中の上記Bで製造した粗[1S−[1α(E),3α
,4β]]−5−(2−クロロエテニル)−1−[2−
オキソ−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニル
メトキシ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,
3H)−ピリミジンジオン(850mg、乾燥トルエン
より減圧濃縮して乾燥)の溶液に、テトラヒドロフラン
中の0.3M亜鉛/四塩化チタン/ジブロモメタン錯体
(実施例4/Cの調製物2)のスラリー(13ml、3
.9ミリモル)を加える。反応液を窒素下室温にて5時
間撹拌し、これを飽和重炭酸ナトリウム(145ml)
とジクロロメタン(145ml)の混合物に注ぐ。80
分間撹拌後、混合物をセライトで濾過する。濾液の各層
を分離し、有機層を水(250ml×2)で洗い、乾燥
(硫酸ナトリウム)し、減圧濃縮して残渣とする。残渣
をメルクシリカゲル(110ml、クロロホルムに充填
)のカラムにて、クロロホルム〜4%エタノール/クロ
ロホルムの勾配で溶離するクロマトグラフィーに付して
、大部分の所望生成物(約310mg)と1,3−ジシ
クロヘキシル尿素からなる固体554mgを得る。
]−5−(2−クロロエテニル)−1−[4−ヒドロキ
シ−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシクロペ
ンチル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン 10mlの乾燥ジクロロメタン中の、約310mg(0
.65ミリモル)の[1S−[1α(E),3α,4β
]]−5−(2−クロロエテニル)−1−[2−メチレ
ン−4−(フェニルメトキシ)−3−[(フェニルメト
キシ)メチル]シクロペンチル]−2,4(1H,3H
)−ピリミジンジオン(乾燥トルエンより減圧濃縮して
乾燥)を含有する上記Cの製造物554mgの溶液に窒
素下−78℃にて、1M三塩化ホウ素/ジクロロメタン
(7.2ml、7.2ミリモル)を加える。混合物を−
78℃で1時間撹拌し、次いでメタノール(5.5ml
)をゆっくりと加える。溶液を30分にわたり室温まで
加温した後、溶媒を減圧除去して残渣を得、該残渣をメ
タノール(5.5ml×4)、次いでトルエン(8ml
×2)より減圧濃縮する。残渣をメタノール(26ml
)および水(20ml)に溶かし、1N水酸化カリウム
でpH7.2に調整する。溶液を減圧濃縮して懸濁液(
15ml)とし、これをCHP 20P樹脂(48m
l、水に充填)のカラムに適用する。カラムを水〜60
%メタノール/水の勾配で溶離し、コンバインした適切
な画分を約10mlに濃縮して、固体を得、該固体を集
め、減圧乾燥して、65mgの所望生成物を白色固体で
得る。m.p.221〜223℃(分解)、[α]D2
2=+80.7゜(c=0.3、メタノール)。 元素分析(C13H15ClN2O4として)計算値:
C52.27、H5.06、N9.38実測値:C52
.03、H4.87、N9.28
数種のウイルス感染を予防するのに有効な化合物濃度を
測定するため、細胞培養システムのアッセイを行った。 アッセイの手順は以下の通りであり、結果を下記表1お
よび2に示す。 略記:HSV−1(単純ヘルペスウイルス1型、スクー
ラー(Schooler)菌株)、HSV−2(単純ヘ
ルペスウイルス2型、186菌株)、VZV(帯状水痘
ウイルス、エレン(ELLEN)菌株)、HCMV(ヒ
トサイトメガロウイルス、AD169菌株)、HIV(
ヒト免疫欠損ウイルス、HTLV−IIIB菌株)。
ルスアッセイ:6溜り培養プレートのWI−38細胞培
養単層(マサチューセッツ州ケンブリッジ市、コスター
)にウイルスを吸着せしめた後、2倍希釈の試験化合物
を含有するメンテナンス培地を加える。HSV−1およ
びHSV−2については37℃で4日の培養後、HCM
VおよびVZVについては37℃で5〜7日の培養後、
固定および染色単層におけるプラク発育の抑制を評価し
た。ID50値は、ウイルス対照と比較して少なくとも
50%プラク減少を付与する薬物濃度から判定した。
の懸濁液[S.ハラダらの「Science」(229
、563頁、1985年)]をHIV(HTLV−II
IB菌株)により、0.03TLID50/細胞の多重
感染で汚染した。37℃で1〜2時間の吸着後、感染し
た細胞を増殖培地(抗生物質ペニシリン+ストレプトマ
イシンおよび10%牛胎児血清を含有するRPMI16
40)に希釈して、100μg/mlから始まる一連希
釈の試験化合物の存在下、最終細胞濃度を1×104生
細胞/培養溜りとする。各薬物濃度の三部のサンプルを
用いた。未感染のMT−2細胞の培養を同様に作成し、
一連希釈の試験化合物二部と共に培養した。全てのアッ
セイは、96溜りの使い捨て細胞培養プレートで行った
。対照として、未処理(感染および未感染)の細胞を入
れた。全ての培養は、5%CO2を含有する加湿雰囲気
中で、37℃にて7日間行った。培養後、細胞をXTT
−PMS溶液(XTTテトラゾリウム試薬+フェナジン
メトスルフェートPMS)で培養してから比色アッセイ
を行い、各溜りの生細胞数をカウントした。
理ウイルス感染細胞のウイルス細胞変性効果(CPE)
の減少率、並びに未処理対照に対する、薬物処理未感染
細胞の細胞生育力の減少率を計算し、試験薬物濃度に対
してプロットした。これらのプロットから、各薬物のI
D50(CPEを50%抑制する最小薬物濃度)を計算
した。 陽性薬物対照として、2’,3’,−ジデオキシシチジ
ンおよび3’−アジド−3’−デオキシチミジンを用い
た。
び未感染細胞の細胞生育力の減少率4% **: 27μMのウイルスCPEの減少率50%お
よび未感染細胞の細胞生育力の減少率23%NA=活性
なし
Claims (22)
- 【請求項1】 式、 【化1】 (式中、R1は 【化2】 【化3】 R2はフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、水素、メチ
ル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、2−
フルオロエチル、2−クロロエチル、エチニルまたは【
化4】 R3はクロロ、ブロモ、ヨード、水素、メチルまたはト
リフルオロメチル;R4はアルキル;R5は水素、アル
キル、置換アルキル、またはアリール;およびR6およ
びR7はそれぞれ独立して、水素、−PO3H2または
−CO−R5である)で示される化合物、またはその医
薬的に許容しうる塩。 - 【請求項2】 R1が 【化5】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項3】 R1が 【化6】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項4】 R6およびR7がそれぞれ独立して、
水素または−CO−R5である請求項1記載の化合物。 - 【請求項5】 R6およびR7がそれぞれ独立して、
水素または−PO3H2である請求項1記載の化合物。 - 【請求項6】 R6およびR7が水素である請求項1
記載の化合物。 - 【請求項7】 R1が 【化7】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項8】 R1が 【化8】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項9】 R1が 【化9】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項10】 R1が 【化10】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項11】 R1が 【化11】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項12】 R1が 【化12】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項13】 R1が 【化13】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項14】 R1が 【化14】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項15】 [1S−(1α,3α,4β)]−
2−アミノ−1,9−ジヒドロ−9−[4−ヒドロキシ
−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシクロペン
チル]−6H−プリン−6−オンである請求項1記載の
化合物。 - 【請求項16】 [1S−(1α,3α,4β)]−
1−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシメチル)−2
−メチレンシクロペンチル]−5−メチル−2,4(1
H,3H)−ピリミジンジオンである請求項1記載の化
合物。 - 【請求項17】 [1S−(1α,3α,4β)]−
4−アミノ−1−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシ
メチル)−2−メチレンシクロペンチル]−2(1H)
−ピリミジンジオンである請求項1記載の化合物。 - 【請求項18】 [1S−(1α,3α,4β)]−
1−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシメチル)−2
−メチレンシクロペンチル]−5−ヨード−2,4(1
H,3H)−ピリミジンジオンである請求項1記載の化
合物。 - 【請求項19】 [1S−[1α(E),3α,4β
]]−5−(2−ブロモエテニル)−1−[4−ヒドロ
キシ−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシクロ
ペンチル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン
である請求項1記載の化合物。 - 【請求項20】 [1R−(1α,3α,5β)]−
3−(6−アミノ−9H−プリン−9−イル)−5−ヒ
ドロキシ−2−メチレンシクロペンタンメタノールであ
る請求項1記載の化合物。 - 【請求項21】 [1S−[1α(E),3α,4β
]]−5−(2−クロロエテニル)−1−[4−ヒドロ
キシ−3−(ヒドロキシメチル)−2−メチレンシクロ
ペンチル]−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン
である請求項1記載の化合物。 - 【請求項22】 [1S−[1α(E),3α,4β
]]−1−[4−ヒドロキシ−3−(ヒドロキシメチル
)−2−メチレンシクロペンチル]−5−(2−ヨード
エテニル)−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン
である請求項1記載の化合物。
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