JPH04145087A - 縮合ヘテロ環誘導体及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規な縮合ヘテロ環誘導体及びそれを有効成
分とする除草剤に関するものである。

［従来の技術］ これまで、特開平１−２５０３８８号公報に縮合ヘテロ
環誘導体が除草剤の有効成分として用いつることが記載
されている。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、これらの化合物は除草活性が不充分であ
ったり、作物・雑草間の選択性に劣ったりすることから
必ずしも満足すべきものではない。

近年、特に有用作物と雑草に同時に適用しても作物に対
して害を与えずに雑草のみを枯殺する選択作用を有する
除草剤が強く要望されている。また、環境中に薬剤が過
剰に残留することを防止するために、低薬量で完全な効
果が得られる薬剤の開発が望まれている。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは上記の目的を達成するために数多くの縮合
ヘテロ環誘導体を合成し、それらの有用性について種々
検討した。その結果、置換フェニルイミノ基、置換２−
ベンゾチアゾロン−５−イルイミノ基および置換２Ｈ−
１，４−ベンゾオキサジン−３−オン−６−イルイミノ
基を９位の置換基としてもつ８−チア−１，６−ジアザ
ビシクロ［４，３，０］　−３−ノネン誘導体が上記の
目的に適う優れた除草活性と選択性を有することを見い
出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は
一般式 カルボニルアルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、
アルコキシアルコキシカルボニルアルコキシ基、アルキ
ニルオキシ基、アルコキシ基、シクロアルコキシカルボ
ニルアルキルチオ基、アルコキシアルコキシカルボニル
アルキルチオ基、アルコキシカルボニルアルコキシカル
ボニルアルキルチオ基、アルキニルオキシカルボニルア
ルキルチオ基、アルケニルオキシカルボニルアルキルチ
オ基、ベンジルオキシカルボニルアルキルチオ基、フェ
ニルオキシカルボニルアルキルチオ基、アルキルチオカ
ルボニルアルキルチオ基、フェネチルオキシカルボニル
アルキルチオ基またはハロアルコキシカルボニルアルキ
ルチオ基を示す。）で表（式中、Ｙ゛は水素原子または
フッ素原子を示し、Ｒ″はアルキル基、アルケニル基ま
たはアルキニル基を示し、Ｚはオキシメチレン基または
硫黄原子を示す。）で表される基を示し、Ｘは酸素原子
または硫黄原子を示す。）で表される縮合ヘテロ環誘導
体を提供するものである。

次に、本発明化合物の具体的な例を第１表及び第２表に
示す。化合物番号は以下の記載において参照される。

（以下余白） 第１表つづき （以下余白） 本発明の化合物〔■〕 は、 次の方法により製造 することができる。

入 ［ｎｌ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　［１］
（式中、Ｒ及びＸは前記と同じ意味を示す。）すなわち
、一般式［ｎｌで表される化合物とホスゲンまたはチオ
ホスゲンとを塩基の存在下またはなしで反応させること
により行われる。

塩基としてはトリメチルアミン、トリエチルアミンなど
の脂肪族アミン類、ピリジン、ピコリン、キノリンなど
の３級アミン類または水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基を使
用することができる。

溶媒としては、たとえばジクロロメタン、クロロホルム
、四塩化炭素などの含塩素炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類
またはアセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケト
ン類などを使用することができる。上記の反応は一２０
℃から溶媒の沸点の温度の範囲で行い、１〜２４時間で
終了する。目的化合物は反応液から常法により得ること
ができる。また、必要に応じて再結晶またはカラムクロ
マトグラフィーにより精製することができる。

なお、原料である［ＩＩ］　は、以下の方法により製造
することができる。

［Ｉ１１］　　　　　　　［ｒＶ］　　　　　　　　　
　　［Ｉｌ］（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）一
般式［ｍ］で表される化合物と一般式［１’ｔ’　］で
表される化合物とを反応させることにより行われる。

溶媒としては、たとえばジクロロメタン、クロロホルム
、四塩化炭素などの含塩素炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類
またはジメチスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミドなどを使用することができる。上記の反応は一２０
℃から溶媒の沸点の温度の範囲で行い、１〜２４時間で
終了する。目的化合物は反応液から常法により取り出す
ことができる。なお、一般式［ｍ］で表される化合物は
ビルティエ・ソシエテ・シェミ・フランセ（Ｂｕｌｌ、
Ｓｏｃ、Ｃｈｉｍ、Ｆｒａｎｃｅ）、７０４−７０８（
１９５７）に記載の方法により得られる。

次に本発明化合物の製造例を示す。

参考例１　１−（Ｎ−（４−クロロ−２−フルオロ−５
−メトキシカルボニルメチルチ オフェニル）チオカルバモイル）−１゜２．３．６−チ
トラヒドロビリダジンの製造 反応フラスコに１．２，３．６−チトラハイドロビリダ
ジン０．５ｇ　（６，０ｍｍｏ　１）、ジクロロメタン
２０ｍＱを入れ、室温下で４−クロロ−２−フルオロ−
５−メトキシカルボニルメチルチオフェニルチオイソシ
アネート１．２ｇ　（４，１ｍｍ０１）を加え、さらに
室温で２時間攪拌を行い反応を終了とした。ついで、反
応液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後に溶媒を
留去して組成物を得た。この組成物をヘキサン／エタノ
ール混液で洗浄し、白色結晶の目的化合物１．３ｇ　（
収率８４％）を得た。融点１５５〜１５８℃。

実施例１９−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキ
シカルボニルメチルチオフェ ニルイミノ）−８−チア−１，６−ジ アザビシクロ［４，３，０コー３−ノネン−７−オン（
化合物１）の製造 反応フラスコに参考例１により製造した１−（Ｎ−（４
−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシカルボニルメチ
ルチオフェニル）チオカルバモイル）　−１，２，３，
６−チトラヒドロビリダジン１．６　ｇ　（４，２ｍｍ
ｏ　１）、ピリジン１．０ｇ　（１３ｍｍｏ　１）及び
ジクロロメタン２０ｍＱを入れ、氷水で冷却しながら２
Ｎホスゲントルエン溶液３ｍρ　（６ｍｍｏｌ）を滴下
した。滴下後、さらに室温で２時間攪拌を行い反応を終
了した。ついで、反応液を水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥した後に溶媒を留去して組成物を得た。この組成物
をカラムで精製し、淡褐色結晶の目的化合物０゜９ｇ（
収率５３％）を得た。融点９０〜９２℃。

実施例２９−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキ
シカルボニルメチルチオフェ ニルイミノ）−８−チア−１，６−ジ アザビシクロ［４，３，０］　−３−ノネン−７−チオ
ン（化合物１６）の製造 反応フラスコに参考例１により製造した１−（Ｎ−（４
−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシカルボニルメチ
ルチオフェニル）チオカルバモイル）　−１，２，３，
６−チトラヒドロビリダジン１．１　ｇ　（２，８ｍｍ
ｏ　］）、ピリジン１．Ｉｇ（１４ｍｍｏ　１）　、ジ
クロロメタン２０ｍＱを入れ、氷水で冷却しながらチオ
ホスゲン０．８ｇ　（７，０ｍｍｏｌ）を滴下した。滴
下後、さらに室温で２時間攪拌を行い反応を終了した。

ついで、反応液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した
後に溶媒を留去して組成物を得た。この組成物をイソプ
ロピルエーテル／エタノール混液で洗浄し、白色結晶の
目的化合物０．７ｇ（収率６０％）を得た。

融点１２３〜１２６℃。

実施例３９−（６−フルオロ−３−プロパギルベンゾチ
アゾール−２−オン−５−イ ルイミノ）−８−チア−１，６−ジア ザビシクロ［４，３，０］　−３−ノネン−７−オン（
化合物３５）の製造 反応フラスコに１−　（Ｎ−（６−フルオロ−３プロパ
ギルベンゾチアゾール−２−オン−５−イル）チオカル
バモイル）　−１，２，３，６−チトラヒドロビリダジ
ン１．３ｇ　（３，７ｍｍｏ　ｌ）、ピリジン０．９ｇ
　（１１，０ｍｍｏ　］）　、］ジグロロメタン２０ｍ
を入れ、氷水で冷却しながら２Ｎホスゲントルエン溶液
２．５ｍＱ　（５，０ｍｍｏ　１）を滴下した。滴下後
、さらに室温で１時間攪拌を行い反応を終了した。つい
で、反応液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後に
溶媒を留去して組成物を得た。この組成物をカラム精製
し、白色結晶の目的化合物１．０ｇ（収率７２％）を得
た。

融点２０４〜２０８℃。

実施例４９−（７−フルオロ−４−プロパギル−２Ｈ−
１，４−ベンゾオキサジン− ３−オン−６−イルイミノ）−８−チ ア−１，６−ジアザビシクロ［４，３゜０コー３−ノネ
ン−７−オン（化合物 ３７）の製造 反応フラスコに１−　（Ｎ−（７−フルオロ−４−プロ
パギル−２８−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン−
６−イル）チオカルバモイル）−１゜２．３．６−チト
ラヒドロピリダジン１．７　ｇ　（４゜９ｍｍｏｌ）、
ピリジン０．９ｇ　（１１，０ｍｍ。

１）、ジクロロメタン２０ｒｎＱを入れ、氷水で冷却し
ながら２Ｎホスゲントルエン溶液３．２ｍΩ（６，４ｍ
ｍｏ　１　）を滴下した。滴下後、さらに室温で１時間
攪拌を行い反応を終了した。ついで、反応液を水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後に溶媒を留去して組成物
を得た。この組成物をイソプロピルエーテルで洗浄し、
白色結晶の目的化合物１．２ｇ　（収率６６％）を得た
。融点１７５〜１７８℃。

本発明の除草剤は一般式［Ｔ］で示される縮合ヘテロ環
誘導体を有効成分としてなる。

本発明化合物を除草剤として水田、畑地、樹園地、非農
耕地等に使用する場合、その目的に応じて有効成分を適
当な剤型で用いることができる。

通常の場合は有効成分を不活性な液体または固体の担体
で希釈し、必要に応じて界面活性剤、分散剤、補助剤等
を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、粒剤等の各種形態に
製剤して使用することができる。製剤化に際して用いら
れる担体としては、たとえばジ−クライト、タルク、ベ
ントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカー
ボン、バーミキュライト、消石灰、珪砂、硫安、尿素等
の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シク
ロヘキサノン、メチルナフタレン等の液体担体等があげ
られる。界面活性剤及び分散剤としては、たとえばアル
コール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩
、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコー
ルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエー
テル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート
等があげられる。補助剤としては、たとえばカルボキシ
メチルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビア
ゴム等があげられる。使用に際しては、適当な濃度に希
釈して散布するか、または直接施用する。施用量は適用
の場面と時期、施用方法、栽培作物等により差異がある
が、一般には本発明化合物の有効成分量で１０アール当
り０，１ｇ〜１ｋｇ施用する。

次に、代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明
する。以下の説明において「部」は重量部を意味する。

製剤例１　水和剤 化合物（１）の１０部にエマルゲン（花王株式・会社の
登録商標）８１０の０．５部、デモール（花王株式会社
の登録商標）Ｎの０．５部、クニライト（クニミネ工業
株式会社の登録商標）２０１の２０部、ジ−クライト（
ジ−クライト株式会社の登録商標）ＣＡの６９部を混合
粉砕し、水和剤を得る。

製剤例２　水和剤 化合物（３５）の１０部にエマルゲン８１０の０．５部
、デモールＮの０．５部、クニライト２０１の２０部、
カープレックス８０の５部、ジ−クライトＣＡの６４部
を混合粉砕し、水和剤を得る。

製剤例３　乳剤 化合物（］）の５部にキシレン８０部とジメチルスルフ
オキシド５部、界面活性剤ツルポール（東邦化学工業株
式会社の登録商標）８００Ａの１０部を加え、これらを
よくかきまぜることによって乳剤を得る。

製剤例４　粒剤 化合物（１１）の１０部、タルクとベントナイトを１＝
３の割合で混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボン
の５部、界面活性剤ツルポール８００Ａの５部に水１０
部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径０．
７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に、０．５
〜１ｍｍの長さに切断して粒剤を得る。

［発明の効果］ 一般式［１）で表される本発明の化合物は、水田に発生
するヒエ、タマガヤツリ、コナギ、キカシグサ、アゼナ
等の一年生維革及びホタルイ、ヘラオモダカ、ミズガヤ
ツリ等の多年ケ雑草の発芽時から生育期の広い範囲にわ
たって、極めて低い薬量で優れた除幕効果を発揮すると
同時に、水稲に対しては高い安全性を有する。また、畑
地においても問題となる種々の雑草、たとえばタデ類、
アオビユ、シロザ、イチビ等の広葉雑草をはじめ、カヤ
ツリグサ、コゴメガヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、ヒ
エ、メヒシバ、エノコログサ、ジョンソングラス、ノス
ズメノテッポウ等のイネ科雑革に対して、土壌処理ある
いは茎葉処理で高い除草効果を示すと同時に、大豆、棉
、トウモロコシ、ツルガム、陸稲、小麦等に対しては高
い安全性を示すという特徴を有する。また、樹園地、牧
草地、芝生地及び非農耕地等に用いることもできる。

次に、試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明
する。

試験例１　（水田土壌処理による除草効果試験）１００
ｃｍ’のプラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻
後、タイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ及びホタルイの
各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例
１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面に滴下処
理した。施用量は、有効成分を１０アール当り１００ｇ
とした。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に第
３表の基準に従い、除幕効果を調査した。その結果を第
４表に示した。

第３表 試験例２（畑地茎葉処理による除草効果試験）１２０ｃ
ｍ’プラスチックポットに畑地土壌を充填し、オオイヌ
タデ、アオビユ、シロザ、コゴメガヤツリの各種子を播
種し、温室内で２週間育成した。製剤例１に準じて調製
した水和剤を水で希釈し、１０アール当りの有効成分が
１００ｇで、１０アール当りの散布水量が１００Ｑにな
る様に小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処
理した。その後、温室内で育成し、処理後２１日目処第
３表の基準に従って、除幕効果を調査した。

その結果を第５表に示す。

試験例３　（畑地土壌処理による除草効果試験）１２０
ｃｍ″プラスチックポットに畑地土壌を充填し、ヒエ、
メヒシバ、オオイヌタデ、アオビユ、シロザ、コゴメガ
ヤツリの各種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて
調製した水和剤を水で希釈し、１０アール当り有効成分
が１００ｇになる様に、１０アール当り１００Ｑを小型
噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で
育成し、処理後２１日目処第３表の基準に従って、除草
効果を調査した。その結果を第６表に示す。

第６表 試験例４　（水田土壌処理による薬効、薬害試験）１　
／　５０００　ａワグネルポットに水田土壌を充填し、
入水、代掻後、ヒエ、コナギ及びホタルイの種子を播種
し、さらに２．５葉期の水稲を移植深度２ｃｍで、２本
２株移植して水深３ｃｆｆｌに湛水した。翌日、製剤例
１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量を水で希釈
し、水面に滴下処理した。

その後、温室内で育成し、処理後３０日１に第３表の基
準に従い、除草効果及び薬害を調査した。

その結果を第７表に示す。

第７表つづき 試験例５（畑地茎葉処理における作物選択性試験）６０
０ｃｍ’プラスチックポット各々に畑地土壌を充填し、
Ａ＋トウモロコシ、オオイヌタデ、ノアサガオ、ジョン
ソングラスを、Ｂ、ダイス、オオイヌタデ、ノアサガオ
、オナモミを播種した。

ポット底部より吸水させ、ダイスが木葉１葉期、トウモ
ロコシが３葉期になるまで温室内で育成した。製剤例１
に準じて調製した水和剤の所定有効成分量を１０アール
当り１００Ωの水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に散
布処理した。その後、再び温室内で育成し、処理後２１
日目処第３表の基準に従って、除草効果及び薬害を調査
した。その結果を第８−Ａ表及び第８−Ｂ表に示す。

なお、 対照薬剤には特開平１−２５０３８８号公報明細書に記
載された下記の化合物を使用した。

第８ Ａ表つづき （以下余白） 第８−Ｂ表 特許畠願人 クミアイ化学工業株式会社 イハラケミカル工業株式会社

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒは式▲数式、化学式、表等があります▼（式
   中、Ｙは水素 原子またはフッ素原子を示し、Ｒ＾１はアルコキシカル
   ボニルアルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アル
   コキシアルコキシカルボニルアルコキシ基、アルキニル
   オキシ基、アルコキシ基、シクロアルコキシカルボニル
   アルキルチオ基、アルコキシアルコキシカルボニルアル
   キルチオ基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボニ
   ルアルキルチオ基、アルキニルオキシカルボニルアルキ
   ルチオ基、アルケニルオキシカルボニルアルキルチオ基
   、ベンジルオキシカルボニルアルキルチオ基、フェニル
   オキシカルボニルアルキルチオ基、アルキルチオカルボ
   ニルアルキルチオ基、フェネチルオキシカルボニルアル
   キルチオ基またはハロアルコキシカルボニルアルキルチ
   オ基を示す。）で表される基または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｙ＾１は水素原子またはフッ素原子を示し、Ｒ
   ＾２はアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を
   示し、Ｚはオキシメチレン基または硫黄原子を示す。）
   で表される基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示
   す。｝で表される縮合ヘテロ環誘導体。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒは式▲数式、化学式、表等があります▼（式
   中、Ｙは水素 原子またはフッ素原子を示し、Ｒ＾１はアルコキシカル
   ボニルアルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アル
   コキシアルコキシカルボニルアルコキシ基、アルキニル
   オキシ基、アルコキシ基、シクロアルコキシカルボニル
   アルキルチオ基、アルコキシアルコキシカルボニルアル
   キルチオ基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボニ
   ルアルキルチオ基、アルキニルオキシカルボニルアルキ
   ルチオ基、アルケニルオキシカルボニルアルキルチオ基
   、ベンジルオキシカルボニルアルキルチオ基、フェニル
   オキシカルボニルアルキルチオ基、アルキルチオカルボ
   ニルアルキルチオ基、フェネチルオキシカルボニルアル
   キルチオ基またはハロアルコキシカルボニルアルキルチ
   オ基を示す。）で表される基または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ＾２はアルキル基、アルケニル基またはアルキニル
   基を示し、Ｚはオキシメチレン基または硫黄原子を示す
   。）で表される基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子
   を示す。｝で表される縮合ヘテロ環誘導体を有効成分と
   して含有する除草剤。