Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP7551567B2 - Damping Addition Device - Google Patents

Damping Addition Device Download PDF

Info

Publication number
JP7551567B2
JP7551567B2 JP2021085988A JP2021085988A JP7551567B2 JP 7551567 B2 JP7551567 B2 JP 7551567B2 JP 2021085988 A JP2021085988 A JP 2021085988A JP 2021085988 A JP2021085988 A JP 2021085988A JP 7551567 B2 JP7551567 B2 JP 7551567B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vibration
damping
base member
block
sliding plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021085988A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022178881A (en
Inventor
和 渡邉
洋 片山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Energy Systems and Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Energy Systems and Solutions Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Energy Systems and Solutions Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2021085988A priority Critical patent/JP7551567B2/en
Publication of JP2022178881A publication Critical patent/JP2022178881A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7551567B2 publication Critical patent/JP7551567B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/30Nuclear fission reactors

Landscapes

  • Vibration Prevention Devices (AREA)

Description

本発明の実施形態は、減衰付加装置に関し、特に、地震波や衝撃波などの振動入力に対する応答変位を抑制する制振技術に関する。 Embodiments of the present invention relate to a damping device, and in particular to vibration control technology that suppresses response displacement in response to vibration inputs such as earthquake waves and shock waves.

原子力発電所等に設置される各種機器は、地震荷重や飛翔体の衝突荷重などの様々な外力に対して機能を維持するように構成されていることが望ましい。近年、基準地震動が見直され、想定される地震荷重が大きく見積もられるようになった。従来の地震の揺れに耐えられるように、剛的に補強する対策だけでは耐震性を担保することが難しい場合がある。このため、建屋からの地震入力を機器に直接伝えないようにする免震の考え方を取り入れる対策が提案されている。免震を取り入れる方法としては、各種機器と建屋の床との間に積層ゴムや滑り支承などの免震装置を設置する方法がある。また、使用済核燃料貯蔵ラックなどに関しては、アンカーボルトによる固定を行わず、使用済核燃料貯蔵ラックを、燃料プールの底に載置する自立式の設置方法などがある。一般的な免震装置では、固有振動数が、地震動の主成分を含む振動数域よりも低い数値となるように設定されるため、振動入力に対する応答変位が大きくなる。そこで、機器の下端部を支持する支持部材に、復元力と摩擦力とを調整する機構を設け、地震荷重などの外力が作用した時に、機器の下端部を微小に滑らせることにより、機器への振動入力を抑制する技術が提案されている。 It is desirable that various equipment installed in nuclear power plants and other facilities be constructed so that it can maintain its functionality against various external forces, such as earthquake loads and collision loads from flying objects. In recent years, the standard earthquake motion has been revised, and the expected earthquake load has been estimated to be large. In some cases, it is difficult to ensure earthquake resistance by simply using rigid reinforcement measures to withstand conventional earthquake shaking. For this reason, measures that incorporate the concept of seismic isolation, which prevents earthquake input from the building from being directly transmitted to the equipment, have been proposed. Methods of incorporating seismic isolation include installing seismic isolation devices such as laminated rubber or sliding bearings between various equipment and the floor of the building. In addition, for spent nuclear fuel storage racks, there is a free-standing installation method in which the spent nuclear fuel storage rack is placed on the bottom of the fuel pool without being fixed with anchor bolts. In general seismic isolation devices, the natural frequency is set to a value lower than the frequency range that includes the main component of earthquake motion, so the response displacement to vibration input is large. To address this issue, a technology has been proposed that provides a mechanism for adjusting the restoring force and frictional force in the support member that supports the bottom end of the equipment, and suppresses vibration input to the equipment by allowing the bottom end of the equipment to slide slightly when an external force such as an earthquake load acts on it.

特許文献2の図5には、大きな減衰を制振対象物に付加できることが示されている。 Figure 5 of Patent Document 2 shows that it is possible to add significant damping to the object to be vibration-controlled.

特許第6591310号公報Patent No. 6591310 特開2020-85158号公報JP 2020-85158 A

従来の減衰付加装置では、最適な減衰が付加される入力加速度を超える加速度が入力される場合には、付加される減衰が徐々に低下するとの課題がある。
そこで、本発明の目的は、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物の振動を減衰させることができる減衰付加装置を提供することである。
Conventional damping adding devices have a problem in that when an acceleration exceeding the input acceleration at which optimal damping is added is input, the damping added gradually decreases.
SUMMARY OF THE PRESENT EMBODIMENT An object of the present invention is to provide a damping device capable of damping vibrations of an object to be damped for a wide range of input accelerations.

上記課題を解決するために、実施形態における減衰付加装置は、制振対象物の底部と、前記制振対象物が載置される載置部との間に配置され、前記制振対象物が振動することによって前記載置部の上面に対する前記制振対象物の下面の相対位置がデフォルト位置から第2位置に変化する場合に、前記相対位置を前記デフォルト位置に復元する復元力を発生させる復元力発生部と、前記制振対象物の前記下面を前記載置部の前記上面に押し付ける押付力を発生させる押付力発生部と、前記制振対象物が前記載置部の前記上面から直接的または間接的に受ける摩擦力を、前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさに依存して変更する摩擦力調整部と、を具備し、前記摩擦力調整部は、前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさに依存して、前記載置部の前記上面に対して摺動する摺動面の総面積を変更することを特徴とする。 In order to solve the above problem, the damping addition device in an embodiment is arranged between the bottom of a vibration-damping object and a mounting portion on which the vibration-damping object is placed, and when the relative position of the lower surface of the vibration-damping object relative to the upper surface of the mounting portion changes from a default position to a second position due to the vibration of the vibration-damping object, the damping addition device comprises: a restoring force generating unit that generates a restoring force that restores the relative position to the default position; a pressing force generating unit that generates a pressing force that presses the lower surface of the vibration-damping object against the upper surface of the mounting portion; and a frictional force adjustment unit that changes the frictional force that the vibration-damping object receives directly or indirectly from the upper surface of the mounting portion depending on the distance from the default position to the second position, and is characterized in that the frictional force adjustment unit changes the total area of the sliding surface that slides against the upper surface of the mounting portion depending on the distance from the default position to the second position .

本発明の実施形態により、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物の振動を減衰させることができる減衰付加装置を提供することができる。 Embodiments of the present invention provide a damping device that can dampen the vibration of an object to be damped over a wide range of input accelerations.

図1は、第1実施形態または第2の実施形態における減衰付加装置が、制振対象物に取り付けられた様子を模式的に示す概略正面図である。FIG. 1 is a schematic front view showing a damping device according to a first or second embodiment attached to an object to be damped. 図2は、復元力発生部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a restoring force generating portion. 図3は、押付力発生部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a pressing force generating portion. 図4は、摩擦力調整部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a frictional force adjusting portion. 図5は、摩擦力調整部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of a frictional force adjusting portion. 図6は、摩擦力調整部の第1変形例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a first modified example of a frictional force adjusting portion. 図7は、摩擦力調整部の第2変形例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a second modified example of the frictional force adjusting portion. 図8は、従来の減衰付加装置が取り付けられた制振対象物の振動モデルを示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing a vibration model of an object to be damped to which a conventional damping device is attached. 図9は、第1の実施形態における減衰付加装置が取り付けられた制振対象物の振動モデルを示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing a vibration model of an object to be damped to which the damping device according to the first embodiment is attached. 図10は、入力加速度と減衰比との関係を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing the relationship between the input acceleration and the damping ratio. 図11は、固有振動数比と減衰比との関係を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing the relationship between the natural frequency ratio and the damping ratio. 図12は、第2の実施形態における減衰付加装置の摩擦力調整部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing an example of a frictional force adjusting portion of the damping adding device in the second embodiment.

以下、実施形態における減衰付加装置1に関して、添付図面を参照して説明する。なお、以下の説明において、同じ機能を有する部材、部位については、同一の符号が付され、同一の符号が付されている部材、部位について、繰り返しの説明は省略される。 The damping device 1 according to the embodiment will be described below with reference to the attached drawings. In the following description, the same reference numerals are used for components and parts having the same functions, and repeated description of the components and parts with the same reference numerals will be omitted.

(第1の実施形態)
図1乃至図11を用いて第1の実施形態における減衰付加装置1Aについて説明する。図1は、第1実施形態における減衰付加装置1Aが、制振対象物Bに取り付けられた様子を模式的に示す概略正面図である。なお、図1において、減衰付加装置1Aの配置を把握し易くするために、機器2以外の部分については、正面図の代わりに、断面図が示されている。図2は、復元力発生部6の一例を模式的に示す概略断面図である。図3は、押付力発生部7の一例を模式的に示す概略断面図である。図4および図5は、摩擦力調整部8の一例を模式的に示す概略断面図である。図6は、摩擦力調整部8の第1変形例を模式的に示す概略断面図である。図7は、摩擦力調整部8の第2変形例を模式的に示す概略断面図である。図8は、従来の減衰付加装置100が取り付けられた制振対象物Bの振動モデルを示す模式図である。図9は、第1の実施形態における減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの振動モデルを示す模式図である。図10は、入力加速度と減衰比との関係を示すグラフである。図11は、固有振動数比と減衰比との関係を示すグラフである。
First Embodiment
The damping device 1A in the first embodiment will be described with reference to Figs. 1 to 11. Fig. 1 is a schematic front view showing the damping device 1A in the first embodiment attached to the vibration-damping target B. In Fig. 1, in order to easily grasp the arrangement of the damping device 1A, a cross-sectional view is shown instead of a front view for the parts other than the equipment 2. Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the restoring force generating unit 6. Fig. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the pressing force generating unit 7. Figs. 4 and 5 are schematic cross-sectional views showing an example of the frictional force adjusting unit 8. Fig. 6 is a schematic cross-sectional view showing a first modified example of the frictional force adjusting unit 8. Fig. 7 is a schematic cross-sectional view showing a second modified example of the frictional force adjusting unit 8. Fig. 8 is a schematic diagram showing a vibration model of the vibration-damping target B to which the conventional damping device 100 is attached. Fig. 9 is a schematic diagram showing a vibration model of the vibration-damping target B to which the damping device 1A in the first embodiment is attached. Fig. 10 is a graph showing the relationship between the input acceleration and the damping ratio. Fig. 11 is a graph showing the relationship between the natural frequency ratio and the damping ratio.

(構成・作用)
第1の実施形態における減衰付加装置1Aは、制振対象物Bと摺動盤4などの載置部Cと間に配置される。減衰付加装置1Aは、地震荷重や衝撃荷重などの外力が載置部Cに作用した時に制振対象物Bに生じる振動を減衰させるために用いられる。制振対象物Bとしては、原子力発電所で用いられる使用済核燃料貯蔵ラック、電気盤、ポンプ、熱交換器、変圧器などが例示される。
(Composition and Function)
The damping device 1A in the first embodiment is disposed between an object B to be damped and a mounting portion C such as a sliding plate 4. The damping device 1A is used to damp vibrations that occur in the object B to be damped when an external force such as an earthquake load or an impact load acts on the mounting portion C. Examples of the object B to be damped include spent nuclear fuel storage racks, electrical panels, pumps, heat exchangers, transformers, and the like used in nuclear power plants.

図1に記載の例では、建屋の床面3の上に、摺動盤4が載置されている。摺動盤4は、ボルト等の固定部材91によって床面3に固定されている。図1に記載の例では、制振対象物Bを載置する載置部Cは、摺動盤4であるが、載置部Cは、床面3自体であってもよい。 In the example shown in FIG. 1, a sliding plate 4 is placed on the floor surface 3 of a building. The sliding plate 4 is fixed to the floor surface 3 by a fixing member 91 such as a bolt. In the example shown in FIG. 1, the placement part C on which the vibration control target B is placed is the sliding plate 4, but the placement part C may be the floor surface 3 itself.

図1に記載の例では、制振対象物Bは、機器2(例えば、使用済核燃料貯蔵ラックなどの貯蔵機器、電気盤、変圧器などの電気機器、熱交換器などの熱機器、または、ポンプなどの流体機器)と、ベース部材5とを含む。ベース部材5は、機器2の下面に、溶接、ボルトなどによって固定されている。代替的に、機器2が直接的に載置部Cに載置され、ベース部材5が省略されてもよい。 In the example shown in FIG. 1, the vibration control object B includes equipment 2 (e.g., storage equipment such as a spent nuclear fuel storage rack, electrical equipment such as an electrical panel or a transformer, thermal equipment such as a heat exchanger, or fluid equipment such as a pump) and a base member 5. The base member 5 is fixed to the underside of the equipment 2 by welding, bolts, etc. Alternatively, the equipment 2 may be placed directly on the placement portion C, and the base member 5 may be omitted.

図1に記載の例では、ベース部材5には、後述の復元力発生部6、押付力発生部7、および、摩擦力調整部8が配置されている。ベース部材5は、復元力発生部6、押付力発生部7、および、摩擦力調整部8の少なくとも一部を収容可能な筐体構造を有していてもよい。図1に記載の例では、ベース部材5は、複数の側板5Aと、下板5Bと、上板5Cとを有する。複数の側板5Aの下部は、下板5Bに溶接などによって固定され、複数の側板5Aの上部は、上板5Cに溶接などによって固定される。 In the example shown in FIG. 1, the base member 5 is provided with a restoring force generating unit 6, a pressing force generating unit 7, and a friction force adjusting unit 8, which will be described later. The base member 5 may have a housing structure capable of housing at least a portion of the restoring force generating unit 6, the pressing force generating unit 7, and the friction force adjusting unit 8. In the example shown in FIG. 1, the base member 5 has multiple side plates 5A, a lower plate 5B, and an upper plate 5C. The lower portions of the multiple side plates 5A are fixed to the lower plate 5B by welding or the like, and the upper portions of the multiple side plates 5A are fixed to the upper plate 5C by welding or the like.

第1の実施形態における減衰付加装置1Aは、復元力発生部6と、押付力発生部7と、摩擦力調整部8と、を具備する。 The damping device 1A in the first embodiment includes a restoring force generating unit 6, a pressing force generating unit 7, and a friction force adjusting unit 8.

復元力発生部6は、制振対象物Bの底部(例えば、ベース部材5)と、制振対象物Bが載置される載置部C(例えば、摺動盤4)との間に配置される。図2(a)に記載の例では、載置部Cに作用する外力に起因して制振対象物Bが振動することによって、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置が、デフォルト位置P1(換言すれば、第1位置)からデフォルト位置P1とは異なる第2位置P2(図2(b)を参照。)に変化する。 The restoring force generating unit 6 is disposed between the bottom of the vibration-damping object B (e.g., the base member 5) and the support C (e.g., the sliding plate 4) on which the vibration-damping object B is placed. In the example shown in FIG. 2(a), the vibration of the vibration-damping object B due to an external force acting on the support C causes the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B with respect to the upper surface C1 of the support C to change from the default position P1 (in other words, the first position) to a second position P2 (see FIG. 2(b)) different from the default position P1.

復元力発生部6は、制振対象物Bが振動することによって載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1から第2位置P2に変化する場合に、当該相対位置をデフォルト位置P1(図2(a)を参照。)に復元する復元力を発生させる。 When the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C changes from the default position P1 to the second position P2 due to vibration of the vibration-damping object B, the restoring force generating unit 6 generates a restoring force that restores the relative position to the default position P1 (see FIG. 2(a)).

図3(a)に記載の例において、押付力発生部7は、制振対象物Bの下面B1を載置部Cの上面C1に押し付ける押付力を発生させる。当該押付力は、制振対象物Bの下面B1が載置部Cの上面C1に対して摺動する際に、下面B1と上面C1との間に摩擦力を生じさせる。例えば、押付力発生部7は、制振対象物Bが振動することによって載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1から第2位置P2に変化する場合に、制振対象物Bの下面B1に、第2位置P2からデフォルト位置P1に向かう方向に摩擦力F1を付与する。当該摩擦力F1によって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収され、制振対象物Bの振動が減衰される。 3(a), the pressing force generating unit 7 generates a pressing force that presses the lower surface B1 of the vibration-damping object B against the upper surface C1 of the mounting part C. When the lower surface B1 of the vibration-damping object B slides against the upper surface C1 of the mounting part C, the pressing force generates a frictional force between the lower surface B1 and the upper surface C1. For example, when the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting part C changes from the default position P1 to the second position P2 due to the vibration of the vibration-damping object B, the pressing force generating unit 7 applies a frictional force F1 to the lower surface B1 of the vibration-damping object B in the direction from the second position P2 to the default position P1. The frictional force F1 absorbs the vibration energy of the vibration-damping object B, and the vibration of the vibration-damping object B is damped.

図4および図5に記載の例において、摩擦力調整部8は、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力を、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して変更する。 In the example shown in Figures 4 and 5, the frictional force adjustment unit 8 changes the frictional force that the vibration damping object B receives directly or indirectly from the upper surface C1 of the mounting part C depending on the distance from the default position P1 to the second position P2.

図4および図5に記載の例において、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1(図4(a)あるいは図5(a)を参照。)から第2位置P2(図4(b)あるいは図5(b)を参照。)に変化する場合を想定する。図4(b)に記載の例では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが相対的に小さい。この場合、摩擦力調整部8は、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力の大きさ(F1)が相対的に小さな値となるように調整する。図5(b)に記載の例では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが相対的に大きい。この場合、摩擦力調整部8は、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力の大きさ(F1+F2)が相対的に大きな値となるように調整する。 4 and 5, it is assumed that the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B with respect to the upper surface C1 of the placement portion C changes from the default position P1 (see FIG. 4(a) or FIG. 5(a)) to the second position P2 (see FIG. 4(b) or FIG. 5(b)). In the example shown in FIG. 4(b), the distance from the default position P1 to the second position P2 is relatively small. In this case, the frictional force adjustment unit 8 adjusts the magnitude (F1) of the frictional force that the vibration-damping object B receives directly or indirectly from the upper surface C1 of the placement portion C to a relatively small value. In the example shown in FIG. 5(b), the distance from the default position P1 to the second position P2 is relatively large. In this case, the frictional force adjustment unit 8 adjusts the magnitude (F1+F2) of the frictional force that the vibration-damping object B receives directly or indirectly from the upper surface C1 of the placement portion C to a relatively large value.

(効果)
第1の実施形態では、減衰付加装置1Aは、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力を、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して変更する摩擦力調整部8を備える。デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさ、換言すれば、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置の変化の大きさに依存して、制振対象物Bに作用する制動力として機能する摩擦力の大きさが変更されることにより、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。例えば、制振対象物Bに入力される入力加速度が大きく、制振対象物Bの振幅が大きい場合には、より大きな制動力が作用する。その結果、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。
(effect)
In the first embodiment, the damping device 1A includes a frictional force adjusting unit 8 that changes the frictional force that the vibration-damping object B receives directly or indirectly from the upper surface C1 of the mounting portion C depending on the distance from the default position P1 to the second position P2. The magnitude of the frictional force that functions as a damping force acting on the vibration-damping object B is changed depending on the distance from the default position P1 to the second position P2, in other words, the magnitude of the change in the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C, so that the vibration of the vibration-damping object B can be effectively damped for a wide range of input acceleration. For example, when the input acceleration input to the vibration-damping object B is large and the amplitude of the vibration-damping object B is large, a larger damping force acts. As a result, the vibration of the vibration-damping object B can be effectively damped.

(任意付加的な構成)
続いて、図1乃至図7を参照して、第1の実施形態における減衰付加装置1Aにおいて採用可能な任意付加的な構成について説明する。
(Optional additional configuration)
Next, optional additional configurations that can be adopted in the damping device 1A in the first embodiment will be described with reference to FIGS.

(摩擦力調整部8)
図4および図5に記載の例では、摩擦力調整部8は、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面の総面積を変更する。
(Frictional force adjustment unit 8)
In the example shown in Figures 4 and 5, the frictional force adjustment unit 8 changes the total area of the sliding surface that slides against the upper surface C1 of the mounting portion C depending on the distance from the default position P1 to the second position P2.

図4(b)に記載の例では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが相対的に小さい。図4(b)に記載の例では、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面は、制振対象物Bの下面B1(より具体的には、ベース部材5の下面B1)である。 In the example shown in FIG. 4(b), the distance from the default position P1 to the second position P2 is relatively small. In the example shown in FIG. 4(b), the sliding surface that slides against the upper surface C1 of the mounting portion C is the lower surface B1 of the vibration damping object B (more specifically, the lower surface B1 of the base member 5).

図5(b)に記載の例では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが相対的に大きく、制振対象物Bが摺動ブロック17と接触している。図5(b)に記載の例では、制振対象物Bおよび摺動ブロック17が載置部Cに対して摺動する。この場合、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面は、制振対象物Bの下面B1(より具体的には、ベース部材5の下面B1)と、摺動ブロック17の下面17wとの両方である。よって、図5(b)に記載の例では、図4(b)に記載の例と比較して、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面の総面積が大きい。摺動面の総面積が大きいことにより、制振対象物Bが、載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力の大きさが相対的に大きな値となる。図5(b)に記載の例では、制振対象物Bが、載置部Cの上面C1から直接的に摩擦力F1を受け、載置部Cの上面C1から摺動ブロック17を介して間接的に摩擦力F2を受ける。 In the example shown in FIG. 5(b), the distance from the default position P1 to the second position P2 is relatively large, and the vibration-damping object B is in contact with the sliding block 17. In the example shown in FIG. 5(b), the vibration-damping object B and the sliding block 17 slide against the mounting part C. In this case, the sliding surfaces that slide against the upper surface C1 of the mounting part C are both the lower surface B1 of the vibration-damping object B (more specifically, the lower surface B1 of the base member 5) and the lower surface 17w of the sliding block 17. Therefore, in the example shown in FIG. 5(b), the total area of the sliding surfaces that slide against the upper surface C1 of the mounting part C is larger than that of the example shown in FIG. 4(b). Due to the large total area of the sliding surfaces, the magnitude of the frictional force that the vibration-damping object B receives directly or indirectly from the upper surface C1 of the mounting part C becomes relatively large. In the example shown in FIG. 5(b), the vibration damping object B receives a friction force F1 directly from the upper surface C1 of the mounting part C, and receives a friction force F2 indirectly from the upper surface C1 of the mounting part C via the sliding block 17.

(摺動ブロック17)
図4(a)に記載の例では、摩擦力調整部8は、制振対象物Bの底部を構成するベース部材5とは独立して設けられる摺動ブロック17を有する。摺動ブロック17は、摺動ブロック17とベース部材5との間に隙間16が形成されるように、載置部Cを構成する摺動盤4に載置されている。
(Sliding block 17)
4(a), the frictional force adjusting section 8 has a sliding block 17 provided independently of the base member 5 constituting the bottom of the vibration damping object B. The sliding block 17 is placed on the sliding plate 4 constituting the mounting section C such that a gap 16 is formed between the sliding block 17 and the base member 5.

載置部Cに入力される入力加速度が小さく、制振対象物Bの振動応答が小さい場合を想定する。制振対象物Bの振動応答が小さい場合、図4(b)に例示されるように、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさは、隙間16(図4(a)を参照。)の大きさeよりも小さくなる。この場合、ベース部材5は摺動ブロック17と接触せず、ベース部材5のみが載置部Cに対して摺動する。よって、摺動ブロック17の存在は、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から受ける摩擦力の増加に寄与しない。 Let us assume that the input acceleration input to the mounting part C is small, and the vibration response of the vibration-damping object B is small. When the vibration response of the vibration-damping object B is small, as illustrated in FIG. 4(b), the distance from the default position P1 to the second position P2 is smaller than the size e of the gap 16 (see FIG. 4(a)). In this case, the base member 5 does not contact the sliding block 17, and only the base member 5 slides against the mounting part C. Therefore, the presence of the sliding block 17 does not contribute to an increase in the frictional force that the vibration-damping object B receives from the upper surface C1 of the mounting part C.

次に、載置部Cに入力される入力加速度が大きく、制振対象物Bの振動応答がより大きくなる場合を想定する。制振対象物Bの振動応答が大きい場合、図5(b)に例示されるように、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが、隙間16(図5(a)を参照。)の大きさeよりも大きくなる。この場合、ベース部材5が摺動ブロック17と接触することにより、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力が増加される。より具体的には、ベース部材5が摺動ブロック17と接触することにより、ベース部材5および摺動ブロック17の両方が載置部Cに対して摺動する。その結果、制振対象物Bが、載置部Cの上面C1から摺動ブロック17を介して間接的に受ける追加の摩擦力F2の分だけ、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から受ける摩擦力が増加する。 Next, assume that the input acceleration input to the mounting portion C is large, and the vibration response of the vibration-damping object B becomes larger. When the vibration response of the vibration-damping object B is large, as illustrated in FIG. 5(b), the distance from the default position P1 to the second position P2 becomes larger than the size e of the gap 16 (see FIG. 5(a)). In this case, the base member 5 comes into contact with the sliding block 17, and the frictional force that the vibration-damping object B receives directly or indirectly from the upper surface C1 of the mounting portion C is increased. More specifically, the base member 5 comes into contact with the sliding block 17, and both the base member 5 and the sliding block 17 slide against the mounting portion C. As a result, the frictional force that the vibration-damping object B receives from the upper surface C1 of the mounting portion C increases by the amount of the additional frictional force F2 that the vibration-damping object B receives indirectly from the upper surface C1 of the mounting portion C via the sliding block 17.

図5(b)に記載の例では、ベース部材5と摺動盤4との間の相対変位が閾値e(より具体的には、摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさe)を越えると、摩擦力調整部8の摺動ブロック17で追加の摩擦力F2が発生し、ベース部材5と摺動盤4の上面C1との間の摩擦力F1と、当該追加の摩擦力F2とによって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収される。図5に記載の例では、想定される相対変位の大きさに応じて、摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさを設定することにより、上述の閾値eを容易に調整することが可能である。 In the example shown in FIG. 5(b), when the relative displacement between the base member 5 and the sliding plate 4 exceeds the threshold value e (more specifically, the size e of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5), an additional frictional force F2 is generated in the sliding block 17 of the frictional force adjustment unit 8, and the vibrational energy of the vibration-damping target B is absorbed by the frictional force F1 between the base member 5 and the upper surface C1 of the sliding plate 4 and the additional frictional force F2. In the example shown in FIG. 5, the threshold value e can be easily adjusted by setting the size of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5 according to the expected magnitude of the relative displacement.

図4(a)に記載の例では、ベース部材5(より具体的には、ベース部材5の下板5B)に第1貫通孔部511hが形成されており、摺動ブロック17は、当該第1貫通孔部511hの内側に配置されている。また、摺動ブロック17の外面17tと第1貫通孔部511hの内面との間に、隙間16が形成されている。載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1である状態において、摺動ブロック17の外面17tと第1貫通孔部511hの内面との間の距離(e)が、隙間16の大きさに該当する。 In the example shown in FIG. 4(a), a first through hole portion 511h is formed in the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B of the base member 5), and the sliding block 17 is disposed inside the first through hole portion 511h. A gap 16 is formed between the outer surface 17t of the sliding block 17 and the inner surface of the first through hole portion 511h. When the relative position of the lower surface B1 of the vibration damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C is in the default position P1, the distance (e) between the outer surface 17t of the sliding block 17 and the inner surface of the first through hole portion 511h corresponds to the size of the gap 16.

摺動ブロック17は、平面視で、リング形状を有していてもよいし、その他の形状を有していてもよい。摺動ブロック17の外面17tは、平面視で、円形状を有し、第1貫通孔部511hの内面は、平面視で円形状を有していてもよい。図4(a)に記載の例では、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1である状態において、平面視における摺動ブロック17の中心と、平面視における第1貫通孔部511hの中心とが一致している。代替的に、制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1である状態において、平面視における摺動ブロック17の中心が、平面視における第1貫通孔部511hの中心からずれていてもよい。 The sliding block 17 may have a ring shape in plan view, or may have other shapes. The outer surface 17t of the sliding block 17 may have a circular shape in plan view, and the inner surface of the first through hole portion 511h may have a circular shape in plan view. In the example shown in FIG. 4(a), when the relative position of the lower surface B1 of the vibration damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C is the default position P1, the center of the sliding block 17 in plan view and the center of the first through hole portion 511h in plan view coincide with each other. Alternatively, when the relative position of the lower surface B1 of the vibration damping object B is the default position P1, the center of the sliding block 17 in plan view may be offset from the center of the first through hole portion 511h in plan view.

例えば、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置が第2位置P2からデフォルト位置P1に戻った状態において、平面視における摺動ブロック17の中心が、平面視における第1貫通孔部511hの中心からずれていてもよい。制振対象物Bがデフォルト位置P1に戻った状態において、平面視における摺動ブロック17の中心が、平面視における第1貫通孔部511hの中心からずれている場合、上述の隙間16の大きさは、摺動ブロック17の外面17tと第1貫通孔部511hの内面との間の最小距離を意味する。 For example, when the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C returns from the second position P2 to the default position P1, the center of the sliding block 17 in a planar view may be offset from the center of the first through-hole portion 511h in a planar view. When the vibration-damping object B returns to the default position P1, and the center of the sliding block 17 in a planar view is offset from the center of the first through-hole portion 511h in a planar view, the size of the above-mentioned gap 16 means the minimum distance between the outer surface 17t of the sliding block 17 and the inner surface of the first through-hole portion 511h.

(摩擦力調整部8のその他の構成)
図4(a)に記載の例では、摩擦力調整部8は、第1シャフト18と、第1付勢力調整部材19と、第1弾性部材21とを有する。摩擦力調整部8は、第1座金20a、第2座金20bなどの座金20を有していてもよい。
(Other configurations of frictional force adjustment unit 8)
4A, the frictional force adjustment unit 8 has a first shaft 18, a first biasing force adjustment member 19, and a first elastic member 21. The frictional force adjustment unit 8 may have washers 20 such as a first washer 20a and a second washer 20b.

図4(a)に記載の例では、第1シャフト18は、載置部C(より具体的には、摺動盤4)に固定されている。第1シャフト18は、螺合等によって載置部Cに固定される。図4(a)に記載の例では、摺動ブロック17に貫通孔部17hが形成されており、第1シャフト18は、当該貫通孔部17hに挿入されている。また、第1シャフト18の下端部18bは、螺合等によって摺動盤4に固定されている。 In the example shown in FIG. 4(a), the first shaft 18 is fixed to the mounting part C (more specifically, the sliding plate 4). The first shaft 18 is fixed to the mounting part C by screwing or the like. In the example shown in FIG. 4(a), a through hole part 17h is formed in the sliding block 17, and the first shaft 18 is inserted into the through hole part 17h. In addition, the lower end part 18b of the first shaft 18 is fixed to the sliding plate 4 by screwing or the like.

第1付勢力調整部材19は、第1シャフト18の長手方向軸AX1に沿って位置変更可能である。第1付勢力調整部材19が、第1シャフト18の長手方向軸AX1に沿って位置変更されることにより、第1弾性部材21の第1付勢力が調整される。第1付勢力調整部材19は、第1シャフト18の長手方向軸AX1に沿って位置変更可能である限りにおいて、どのような部材であってもよい。第1付勢力調整部材19は、第1シャフト18に螺合する第1ナット190であってもよいし、第1シャフト18に形成されたカム溝に沿って移動するカム部材であってもよい。また、第1シャフト18がボルトである場合には、第1付勢力調整部材19は、ボルトの頭部であってもよい。 The first biasing force adjustment member 19 can be repositioned along the longitudinal axis AX1 of the first shaft 18. The first biasing force of the first elastic member 21 is adjusted by changing the position of the first biasing force adjustment member 19 along the longitudinal axis AX1 of the first shaft 18. The first biasing force adjustment member 19 may be any member as long as it can be repositioned along the longitudinal axis AX1 of the first shaft 18. The first biasing force adjustment member 19 may be a first nut 190 that screws into the first shaft 18, or a cam member that moves along a cam groove formed in the first shaft 18. In addition, when the first shaft 18 is a bolt, the first biasing force adjustment member 19 may be the head of the bolt.

図4(a)に記載の例では、第1付勢力調整部材19は、第1シャフト18に螺合する第1ナット190である。図4(a)に記載の例では、第1シャフト18の上端部18aに雄ネジ部が形成されており、第1ナット190は、当該雄ネジ部に螺合している。この場合、第1ナット190が、第1シャフト18の長手方向軸AX1まわりに、第1シャフト18に対して相対回転されることにより、第1ナット190は、第1シャフトの長手方向軸AX1に沿って位置変更される。第1ナット190は、例えば、公知の回転治具(図示せず)により回転操作される。 In the example shown in FIG. 4(a), the first biasing force adjustment member 19 is a first nut 190 that screws onto the first shaft 18. In the example shown in FIG. 4(a), a male thread is formed on the upper end 18a of the first shaft 18, and the first nut 190 screws onto the male thread. In this case, the first nut 190 is rotated relative to the first shaft 18 around the longitudinal axis AX1 of the first shaft 18, so that the position of the first nut 190 is changed along the longitudinal axis AX1 of the first shaft. The first nut 190 is rotated, for example, by a known rotating jig (not shown).

第1弾性部材21は、第1付勢力調整部材19(より具体的には、第1ナット190)と摺動ブロック17との間に配置される。第1弾性部材21は、摺動ブロック17に摺動盤4に向かう方向(より具体的には、鉛直下方向)に第1付勢力を付与する。第1付勢力調整部材19が、第1シャフト18の長手方向軸AX1に沿って位置変更されることにより、第1弾性部材21の弾性変形量が変更され、摺動ブロック17に付与される第1付勢力の大きさが変更される(換言すれば、第1付勢力が調整される。)。 The first elastic member 21 is disposed between the first biasing force adjustment member 19 (more specifically, the first nut 190) and the sliding block 17. The first elastic member 21 applies a first biasing force to the sliding block 17 in a direction toward the sliding plate 4 (more specifically, a vertically downward direction). By changing the position of the first biasing force adjustment member 19 along the longitudinal axis AX1 of the first shaft 18, the amount of elastic deformation of the first elastic member 21 is changed, and the magnitude of the first biasing force applied to the sliding block 17 is changed (in other words, the first biasing force is adjusted).

図4(a)に記載の例では、第1弾性部材21は、第1シャフト18の長手方向に沿って積層された複数の皿バネを含む。代替的に、第1弾性部材21は、皿バネ以外のバネ、あるいは、ゴムであってもよい。図4(a)に記載の例では、第1弾性部材21は、第1シャフト18の周囲に配置されている。 In the example shown in FIG. 4(a), the first elastic member 21 includes a plurality of disc springs stacked along the longitudinal direction of the first shaft 18. Alternatively, the first elastic member 21 may be a spring other than a disc spring, or rubber. In the example shown in FIG. 4(a), the first elastic member 21 is disposed around the first shaft 18.

図4(a)に記載の例では、第1弾性部材21と摺動ブロック17との間に第1座金20aが配置されている。第1座金20aは、摺動ブロック17が載置部Cの上面C1に対して摺動する際に、摺動ブロック17の移動を円滑に案内する。第1座金20aの下面と摺動ブロック17の上面との間の静止摩擦係数は、摺動ブロック17の下面17wと載置部Cの上面C1との間の静止摩擦係数よりも小さいことが好ましい。この場合、摺動ブロック17がベース部材5によって押圧されると、摺動ブロック17は、第1座金20aおよび載置部Cの両方によって円滑に案内され、第1座金20aおよび載置部Cの両方に対して摺動する。 In the example shown in FIG. 4(a), a first washer 20a is disposed between the first elastic member 21 and the sliding block 17. The first washer 20a smoothly guides the movement of the sliding block 17 when the sliding block 17 slides against the upper surface C1 of the mounting portion C. It is preferable that the static friction coefficient between the lower surface of the first washer 20a and the upper surface of the sliding block 17 is smaller than the static friction coefficient between the lower surface 17w of the sliding block 17 and the upper surface C1 of the mounting portion C. In this case, when the sliding block 17 is pressed by the base member 5, the sliding block 17 is smoothly guided by both the first washer 20a and the mounting portion C, and slides against both the first washer 20a and the mounting portion C.

図4(a)に記載の例では、第1座金20aは、第1弾性部材21の下端部と接触する下部バネ受けとして機能している。 In the example shown in FIG. 4(a), the first washer 20a functions as a lower spring support that contacts the lower end of the first elastic member 21.

図4(a)に記載の例では、第1付勢力調整部材19(より具体的には、第1ナット190)と第1弾性部材21との間に第2座金20bが配置されている。第2座金20bは、第1弾性部材21の上端部と接触する上部バネ受けとして機能する。図4(a)に記載の例では、第2座金20bは、第1ナット190が回転操作される際に、第1ナット190の回転を円滑に案内する。 In the example shown in FIG. 4(a), the second washer 20b is disposed between the first biasing force adjustment member 19 (more specifically, the first nut 190) and the first elastic member 21. The second washer 20b functions as an upper spring support that contacts the upper end of the first elastic member 21. In the example shown in FIG. 4(a), the second washer 20b smoothly guides the rotation of the first nut 190 when the first nut 190 is rotated.

図5(a)に記載の例において、地震荷重や衝撃荷重などの外力が載置部Cに作用すると、ベース部材5が摺動盤4の上面C1を摺動し、摺動盤4の上面C1に対するベース部材5の下面B1の相対位置が、デフォルト位置P1から第2位置P2に変化する。デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離(換言すれば、摺動盤4に対するベース部材5の相対変位)が隙間16の大きさeを越えると、ベース部材5と摺動ブロック17とが接触し、ベース部材5および摺動ブロック17が摺動盤4に対して摺動する(図5(b)を参照。)。ベース部材5および摺動ブロック17が摺動盤4に対して摺動すると、摺動盤4からベース部材5に、第2位置P2からデフォルト位置P1に向かう方向に摩擦力F1が発生し、摺動盤4から摺動ブロック17に、第2位置P2からデフォルト位置P1に向かう方向に追加の摩擦力F2が発生する。当該摩擦力F1および追加の摩擦力F2によって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収される。 In the example shown in FIG. 5(a), when an external force such as an earthquake load or an impact load acts on the placement part C, the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding plate 4, and the relative position of the lower surface B1 of the base member 5 with respect to the upper surface C1 of the sliding plate 4 changes from the default position P1 to the second position P2. When the distance from the default position P1 to the second position P2 (in other words, the relative displacement of the base member 5 with respect to the sliding plate 4) exceeds the size e of the gap 16, the base member 5 comes into contact with the sliding block 17, and the base member 5 and the sliding block 17 slide against the sliding plate 4 (see FIG. 5(b)). When the base member 5 and the sliding block 17 slide against the sliding plate 4, a friction force F1 is generated from the sliding plate 4 to the base member 5 in the direction from the second position P2 to the default position P1, and an additional friction force F2 is generated from the sliding plate 4 to the sliding block 17 in the direction from the second position P2 to the default position P1. The vibration energy of the vibration damping object B is absorbed by the friction force F1 and the additional friction force F2.

図5(b)に記載の例では(換言すれば、載置部Cに入力される入力加速度が相対的に大きい場合)、摺動盤4とベース部材5との間に作用する摩擦力F1と、摺動盤4と摺動ブロック17との間に作用する追加の摩擦力F2との両方が、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する。他方、図4(b)に記載の例では(換言すれば、載置部Cに入力される入力加速度が相対的に小さい場合)、摺動盤4とベース部材5との間に作用する摩擦力F1が、制振対象物Bの振動の減衰に寄与し、摺動ブロック17は制振対象物Bの振動の減衰に寄与しない。このようにして、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を、より効果的に減衰させることができる。 In the example shown in FIG. 5(b) (in other words, when the input acceleration input to the mounting portion C is relatively large), both the friction force F1 acting between the sliding plate 4 and the base member 5 and the additional friction force F2 acting between the sliding plate 4 and the sliding block 17 contribute to the damping of the vibration of the vibration-damping object B. On the other hand, in the example shown in FIG. 4(b) (in other words, when the input acceleration input to the mounting portion C is relatively small), the friction force F1 acting between the sliding plate 4 and the base member 5 contributes to the damping of the vibration of the vibration-damping object B, and the sliding block 17 does not contribute to the damping of the vibration of the vibration-damping object B. In this way, the vibration of the vibration-damping object B can be damped more effectively for a wide range of input accelerations.

摩擦力調整部8が、摺動ブロック17と、第1付勢力調整部材19とを有する場合には、摩擦力F1の大きさに対する、追加の摩擦力F2の大きさの比率を容易に変更あるいは調整することができる。よって、制振対象物Bの振動特性などに合わせて、最適な減衰を容易に付加することができる。 When the frictional force adjustment unit 8 has a sliding block 17 and a first biasing force adjustment member 19, the ratio of the magnitude of the additional frictional force F2 to the magnitude of the frictional force F1 can be easily changed or adjusted. Therefore, it is possible to easily add optimal damping in accordance with the vibration characteristics of the vibration-damping object B.

図5(a)に記載の例では、第1弾性部材21は、ベース部材5の内側の第1空間SP1(より具体的には、上板5C、下板5Bと、複数の側板5Aとによって囲まれた空間)に配置されている。この場合、第1弾性部材21は、ベース部材5によって保護される。図5(a)に例示されるように、第1ナット190、および/または、第1シャフト18の上端部18aが、ベース部材5の内側の第1空間SP1に配置されていてもよい。 In the example shown in FIG. 5(a), the first elastic member 21 is disposed in a first space SP1 inside the base member 5 (more specifically, the space surrounded by the upper plate 5C, the lower plate 5B, and the multiple side plates 5A). In this case, the first elastic member 21 is protected by the base member 5. As illustrated in FIG. 5(a), the first nut 190 and/or the upper end 18a of the first shaft 18 may be disposed in the first space SP1 inside the base member 5.

図5(a)に記載の例では、ベース部材5の上板5Cに第1アクセス孔部511dが形成されている。第1アクセス孔部511dは、第1付勢力調整部材19(あるいは、第1シャフト18)と対向する位置に形成されていることが好ましい。上板5Cに第1アクセス孔部511dが形成されている場合、ユーザは、第1アクセス孔部511dを介して、第1付勢力調整部材19(あるいは、第1シャフト18)を操作することができる。 In the example shown in FIG. 5(a), a first access hole 511d is formed in the upper plate 5C of the base member 5. The first access hole 511d is preferably formed in a position facing the first biasing force adjustment member 19 (or the first shaft 18). When the first access hole 511d is formed in the upper plate 5C, the user can operate the first biasing force adjustment member 19 (or the first shaft 18) through the first access hole 511d.

図1に記載の例では、減衰付加装置1Aは、少なくとも2つの摩擦力調整部8を備える。減衰付加装置1Aが備える摩擦力調整部8の数は、制振対象物Bの大きさ等に応じて決定される。 In the example shown in FIG. 1, the damping device 1A includes at least two friction adjustment units 8. The number of friction adjustment units 8 included in the damping device 1A is determined according to the size of the vibration-damping object B, etc.

(第1変形例)
図6には、第1変形例における摩擦力調整部8が示されている。図6に記載の例では、摩擦力調整部8は、ベース部材5と摺動ブロック17との間の隙間16に配置される弾性部材22を有する。弾性部材22は、ベース部材5(より具体的には、下板5B)が摺動ブロック17に接触する際の衝撃を緩和する。弾性部材22は、例えば、板バネである。
(First Modification)
Fig. 6 shows the frictional force adjustment unit 8 in the first modified example. In the example shown in Fig. 6, the frictional force adjustment unit 8 has an elastic member 22 disposed in the gap 16 between the base member 5 and the sliding block 17. The elastic member 22 reduces the impact when the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B) comes into contact with the sliding block 17. The elastic member 22 is, for example, a leaf spring.

(第2変形例)
図7には、第2変形例における摩擦力調整部8が示されている。図7(a)に記載の例では、摺動ブロック17は、第1ブロック17aおよび第2ブロック17bを含む複数のブロックを有する。
(Second Modification)
A frictional force adjusting section 8 in a second modified example is shown in Fig. 7. In the example shown in Fig. 7(a), the sliding block 17 has a plurality of blocks including a first block 17a and a second block 17b.

第1ブロック17aは、第1ブロック17aとベース部材5(より具体的には、下板5B)との間に第1隙間16aが形成されるように、摺動盤4に載置されている。また、第2ブロック17bは、第2ブロック17bとベース部材5(より具体的には、下板5B)との間に第1隙間16aよりも大きな第2隙間16bが形成されるように、摺動盤4に載置されている。 The first block 17a is placed on the sliding plate 4 so that a first gap 16a is formed between the first block 17a and the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B). The second block 17b is placed on the sliding plate 4 so that a second gap 16b larger than the first gap 16a is formed between the second block 17b and the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B).

図7(b)に例示されるように、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが、第1隙間16aの大きさe1(図7(a)を参照。)よりも大きく、第2隙間16bの大きさe2(図7(a)を参照。)よりも小さい場合に、ベース部材5が第1ブロック17aと接触することにより、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力が増加される。 As illustrated in FIG. 7(b), when the distance from the default position P1 to the second position P2 is greater than the size e1 of the first gap 16a (see FIG. 7(a)) and less than the size e2 of the second gap 16b (see FIG. 7(a)), the base member 5 comes into contact with the first block 17a, thereby increasing the frictional force that the vibration-damping object B receives directly or indirectly from the upper surface C1 of the mounting portion C.

また、図7(c)に例示されるように、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが第2隙間16bの大きさe2(図7(a)を参照。)よりも大きい場合に、ベース部材5が第1ブロック17aおよび第2ブロック17bの両方と接触することにより、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力が更に増加される。 Furthermore, as illustrated in FIG. 7(c), when the distance from the default position P1 to the second position P2 is greater than the size e2 of the second gap 16b (see FIG. 7(a)), the base member 5 comes into contact with both the first block 17a and the second block 17b, thereby further increasing the frictional force that the vibration-damping object B receives directly or indirectly from the upper surface C1 of the mounting portion C.

図7に記載の例では、載置部Cに入力される入力加速度の大きさに応じて、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する摺動ブロック17の数が変更される。例えば、載置部Cに入力される入力加速度の大きさが小さい場合、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する摺動ブロック17の数がゼロであり、載置部Cに入力される入力加速度の大きさが大きくなると、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する摺動ブロック17の数が増加され、載置部Cに入力される入力加速度の大きさが更に大きくなると、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する摺動ブロック17の数が更に増加される。このようにして、図7に記載の例では、更に広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を、より効果的に減衰させることができる。 In the example shown in FIG. 7, the number of sliding blocks 17 that contribute to the attenuation of the vibration of the object to be damped B is changed depending on the magnitude of the input acceleration input to the mounting part C. For example, when the magnitude of the input acceleration input to the mounting part C is small, the number of sliding blocks 17 that contribute to the attenuation of the vibration of the object to be damped B is zero, and when the magnitude of the input acceleration input to the mounting part C increases, the number of sliding blocks 17 that contribute to the attenuation of the vibration of the object to be damped B is increased, and when the magnitude of the input acceleration input to the mounting part C increases further, the number of sliding blocks 17 that contribute to the attenuation of the vibration of the object to be damped B is further increased. In this way, in the example shown in FIG. 7, the vibration of the object to be damped B can be more effectively damped for an even wider range of input acceleration.

(復元力発生部6)
図2(a)に記載の例では、復元力発生部6は、ベース部材5と摺動盤4との間に配置される棒バネ9を有する。棒バネ9は、ベース部材5および摺動盤4のそれぞれに支持される。
(Restoring force generating unit 6)
2A, the restoring force generating unit 6 has a rod spring 9 disposed between the base member 5 and the sliding plate 4. The rod spring 9 is supported by both the base member 5 and the sliding plate 4.

棒バネ9は、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1から第2位置P2に変化する場合に、棒バネ9の曲げ剛性を利用して、当該相対位置をデフォルト位置P1に復元する。より具体的には、地震荷重や衝撃荷重などの外力が載置部Cに作用することに起因してベース部材5が摺動盤4の上面C1に対して摺動する時、棒バネ9の曲げ剛性によって、摺動盤4に対するベース部材5の相対位置が元の位置(換言すれば、デフォルト位置P1)に復元される。 When the relative position of the lower surface B1 of the vibration control object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C changes from the default position P1 to the second position P2, the rod spring 9 uses the bending rigidity of the rod spring 9 to restore the relative position to the default position P1. More specifically, when the base member 5 slides against the upper surface C1 of the sliding plate 4 due to an external force such as an earthquake load or an impact load acting on the mounting portion C, the bending rigidity of the rod spring 9 restores the relative position of the base member 5 with respect to the sliding plate 4 to its original position (in other words, the default position P1).

図2(a)に記載の例では、棒バネ9の下端部9bは、摺動盤4に形成された第1嵌合部10(より具体的には、第1凹部)に嵌合されている。この場合、摺動盤4に対する棒バネ9の下端部9bの水平方向への相対移動が、第1嵌合部10によって拘束される。図2(a)に記載の例では、棒バネ9の上端部9aは、ベース部材5の上板5Cに形成された第2嵌合部11(より具体的には、貫通孔部)に嵌合されている。この場合、ベース部材5に対する棒バネ9の上端部9aの水平方向への相対移動が、第2嵌合部11によって拘束される。 In the example shown in FIG. 2(a), the lower end 9b of the rod spring 9 is fitted into a first fitting portion 10 (more specifically, a first recess) formed in the sliding plate 4. In this case, the horizontal movement of the lower end 9b of the rod spring 9 relative to the sliding plate 4 is restricted by the first fitting portion 10. In the example shown in FIG. 2(a), the upper end 9a of the rod spring 9 is fitted into a second fitting portion 11 (more specifically, a through hole portion) formed in the upper plate 5C of the base member 5. In this case, the horizontal movement of the upper end 9a of the rod spring 9 relative to the base member 5 is restricted by the second fitting portion 11.

図2(a)に記載の例では、ベース部材5(より具体的には、ベース部材5の下板5B)に第2貫通孔部512hが形成されており、棒バネ9は、当該第2貫通孔部512hに挿入されている。棒バネ9の外面9tと第2貫通孔部512hの内面との間には、第3隙間G3が形成されている。棒バネ9の外面9tと第2貫通孔部512hの内面との間の距離が、第3隙間G3の大きさに該当する。第3隙間G3の大きさは、図4(a)に例示される摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさeよりも大きいことが好ましい。第3隙間G3が十分に大きいことにより、ベース部材5が水平方向に振動する際に、ベース部材5と棒バネ9の下端部9bとが干渉することが防止される。 In the example shown in FIG. 2(a), a second through hole portion 512h is formed in the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B of the base member 5), and the rod spring 9 is inserted into the second through hole portion 512h. A third gap G3 is formed between the outer surface 9t of the rod spring 9 and the inner surface of the second through hole portion 512h. The distance between the outer surface 9t of the rod spring 9 and the inner surface of the second through hole portion 512h corresponds to the size of the third gap G3. The size of the third gap G3 is preferably larger than the size e of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5 as illustrated in FIG. 4(a). By making the third gap G3 sufficiently large, interference between the base member 5 and the lower end portion 9b of the rod spring 9 is prevented when the base member 5 vibrates in the horizontal direction.

図1に記載の例では、減衰付加装置1Aは、少なくとも2つの復元力発生部6を備える。減衰付加装置1Aが備える復元力発生部6の数は、制振対象物Bの大きさ等に応じて決定される。 In the example shown in FIG. 1, the damping device 1A includes at least two restoring force generating units 6. The number of restoring force generating units 6 included in the damping device 1A is determined according to the size of the vibration-damping object B, etc.

(押付力発生部7)
図3(a)に記載の例では、押付力発生部7は、第2シャフト12と、第2付勢力調整部材13と、第2弾性部材15とを有する。押付力発生部7は、第3座金14a、第4座金14bなどの座金14を有していてもよい。
(Pressing force generating unit 7)
3A, the pressing force generating unit 7 has a second shaft 12, a second biasing force adjusting member 13, and a second elastic member 15. The pressing force generating unit 7 may have washers 14 such as a third washer 14a and a fourth washer 14b.

図3(a)に記載の例では、第2シャフト12は、載置部C(より具体的には、摺動盤4)に固定されている。第2シャフト12は、螺合等によって載置部Cに固定される。図3(a)に記載の例では、ベース部材5(より具体的には、ベース部材5の下板5B)に第3貫通孔部513hが形成されており、第2シャフト12は、当該第3貫通孔部513hに挿入されている。また、第2シャフト12の下端部12bは、螺合等によって摺動盤4に固定されている。 In the example shown in FIG. 3(a), the second shaft 12 is fixed to the mounting part C (more specifically, the sliding plate 4). The second shaft 12 is fixed to the mounting part C by screwing or the like. In the example shown in FIG. 3(a), a third through hole part 513h is formed in the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B of the base member 5), and the second shaft 12 is inserted into the third through hole part 513h. In addition, the lower end part 12b of the second shaft 12 is fixed to the sliding plate 4 by screwing or the like.

第2シャフト12の外面12tと第3貫通孔部513hの内面との間には、第4隙間G4が形成されている。第2シャフト12の外面12tと第3貫通孔部513hの内面との間の距離が、第4隙間G4の大きさに該当する。第4隙間G4の大きさは、図4(a)に例示される摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさeよりも大きいことが好ましい。第4隙間G4が十分に大きいことにより、ベース部材5が水平方向に振動する際に、ベース部材5と第2シャフト12とが干渉することが防止される。 A fourth gap G4 is formed between the outer surface 12t of the second shaft 12 and the inner surface of the third through hole portion 513h. The distance between the outer surface 12t of the second shaft 12 and the inner surface of the third through hole portion 513h corresponds to the size of the fourth gap G4. The size of the fourth gap G4 is preferably larger than the size e of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5 illustrated in FIG. 4(a). By making the fourth gap G4 sufficiently large, interference between the base member 5 and the second shaft 12 is prevented when the base member 5 vibrates in the horizontal direction.

第2付勢力調整部材13は、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更可能である。第2付勢力調整部材13が、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更されることにより、第2弾性部材15の第2付勢力が調整される。第2付勢力調整部材13は、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更可能である限りにおいて、どのような部材であってもよい。第2付勢力調整部材13は、第2シャフト12に螺合する第2ナット130であってもよいし、第2シャフト12に形成されたカム溝に沿って移動するカム部材であってもよい。また、第2シャフト12がボルトである場合には、第2付勢力調整部材13は、ボルトの頭部であってもよい。 The second biasing force adjustment member 13 can be repositioned along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12. The second biasing force of the second elastic member 15 is adjusted by changing the position of the second biasing force adjustment member 13 along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12. The second biasing force adjustment member 13 may be any member as long as it can be repositioned along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12. The second biasing force adjustment member 13 may be a second nut 130 that screws into the second shaft 12, or a cam member that moves along a cam groove formed in the second shaft 12. In addition, when the second shaft 12 is a bolt, the second biasing force adjustment member 13 may be the head of the bolt.

図3(a)に記載の例では、第2付勢力調整部材13は、第2シャフト12に螺合する第2ナット130である。図3(a)に記載の例では、第2シャフト12の上端部12aに雄ネジ部が形成されており、第2ナット130は、当該雄ネジ部に螺合している。第2ナット130が、第2シャフト12の長手方向軸AX2まわりに、第2シャフト12に対して相対回転されることにより、第2ナット130は、第2シャフトの長手方向軸AX2に沿って位置変更される。第2ナット130は、例えば、公知の回転治具(図示せず)により回転操作される。 In the example shown in FIG. 3(a), the second biasing force adjustment member 13 is a second nut 130 that screws onto the second shaft 12. In the example shown in FIG. 3(a), a male thread is formed on the upper end 12a of the second shaft 12, and the second nut 130 screws onto the male thread. The second nut 130 is rotated relative to the second shaft 12 around the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12, whereby the position of the second nut 130 is changed along the longitudinal axis AX2 of the second shaft. The second nut 130 is rotated, for example, by a known rotating jig (not shown).

第2弾性部材15は、第2付勢力調整部材13(より具体的には、第2ナット130)とベース部材5(より具体的には、ベース部材5の下板5B)との間に配置される。第2弾性部材15は、ベース部材5に摺動盤4に向かう方向(より具体的には、鉛直下方向)に第2付勢力を付与する。当該第2付勢力によって、ベース部材5が摺動盤4に押し付けられる。第2付勢力調整部材13が、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更されることにより、第2弾性部材15の弾性変形量が変更され、ベース部材5に付与される第2付勢力の大きさが変更される(換言すれば、第2付勢力が調整される。)。 The second elastic member 15 is disposed between the second biasing force adjustment member 13 (more specifically, the second nut 130) and the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B of the base member 5). The second elastic member 15 applies a second biasing force to the base member 5 in a direction toward the sliding plate 4 (more specifically, in a vertically downward direction). The second biasing force presses the base member 5 against the sliding plate 4. By changing the position of the second biasing force adjustment member 13 along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12, the amount of elastic deformation of the second elastic member 15 is changed, and the magnitude of the second biasing force applied to the base member 5 is changed (in other words, the second biasing force is adjusted).

図3(a)に記載の例では、第2弾性部材15は、第2シャフト12の長手方向に沿って積層された複数の皿バネを含む。代替的に、第2弾性部材15は、皿バネ以外のバネ、あるいは、ゴムであってもよい。図3(a)に記載の例では、第2弾性部材15は、第2シャフト12の周囲に配置されている。 In the example shown in FIG. 3(a), the second elastic member 15 includes a plurality of disc springs stacked along the longitudinal direction of the second shaft 12. Alternatively, the second elastic member 15 may be a spring other than a disc spring, or rubber. In the example shown in FIG. 3(a), the second elastic member 15 is disposed around the second shaft 12.

図3(a)に記載の例では、第2弾性部材15とベース部材5との間に第3座金14aが配置されている。第3座金14aは、ベース部材5が載置部Cの上面C1(より具体的には、摺動盤4の上面)に対して摺動する際に、ベース部材5の移動を円滑に案内する。第3座金14aの下面とベース部材5との間の静止摩擦係数は、ベース部材5の下面B1と載置部Cの上面C1との間の静止摩擦係数よりも小さいことが好ましい。この場合、ベース部材5が水平方向に振動するとき、ベース部材5は、第3座金14aおよび載置部Cの両方によって円滑に案内され、第3座金14aおよび載置部Cの両方に対して摺動する。 In the example shown in FIG. 3(a), a third washer 14a is disposed between the second elastic member 15 and the base member 5. The third washer 14a smoothly guides the movement of the base member 5 when the base member 5 slides against the upper surface C1 of the mounting portion C (more specifically, the upper surface of the sliding plate 4). It is preferable that the static friction coefficient between the lower surface of the third washer 14a and the base member 5 is smaller than the static friction coefficient between the lower surface B1 of the base member 5 and the upper surface C1 of the mounting portion C. In this case, when the base member 5 vibrates in the horizontal direction, the base member 5 is smoothly guided by both the third washer 14a and the mounting portion C, and slides against both the third washer 14a and the mounting portion C.

図3(a)に記載の例では、第3座金14aは、第2弾性部材15の下端部と接触する下部バネ受けとして機能している。 In the example shown in FIG. 3(a), the third washer 14a functions as a lower spring support that contacts the lower end of the second elastic member 15.

図3(a)に記載の例では、第2付勢力調整部材13(より具体的には、第2ナット130)と第2弾性部材15との間に第4座金14bが配置されている。第4座金14bは、第2弾性部材15の上端部と接触する上部バネ受けとして機能する。図3(a)に記載の例では、第4座金14bは、第2ナット130が回転操作される際に、第2ナット130の回転を円滑に案内する。 In the example shown in FIG. 3(a), a fourth washer 14b is disposed between the second biasing force adjustment member 13 (more specifically, the second nut 130) and the second elastic member 15. The fourth washer 14b functions as an upper spring support that contacts the upper end of the second elastic member 15. In the example shown in FIG. 3(a), the fourth washer 14b smoothly guides the rotation of the second nut 130 when the second nut 130 is rotated.

図3(a)に記載の例において、地震荷重や衝撃荷重などの外力が載置部Cに作用すると、ベース部材5が摺動盤4の上面C1を摺動し、摺動盤4の上面C1に対するベース部材5の下面B1の相対位置が、デフォルト位置P1から第2位置P2に変化する(図3(b)を参照。)。ベース部材5が摺動盤4に対して摺動すると、摺動盤4からベース部材5に、第2位置P2からデフォルト位置P1に向かう方向に摩擦力F1が発生する。当該摩擦力F1によって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収され、制振対象物Bの振動が減衰される。 In the example shown in FIG. 3(a), when an external force such as an earthquake load or an impact load acts on the mounting portion C, the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding plate 4, and the relative position of the lower surface B1 of the base member 5 with respect to the upper surface C1 of the sliding plate 4 changes from the default position P1 to the second position P2 (see FIG. 3(b)). When the base member 5 slides against the sliding plate 4, a frictional force F1 is generated from the sliding plate 4 to the base member 5 in the direction from the second position P2 toward the default position P1. The frictional force F1 absorbs the vibrational energy of the vibration-damping object B, and the vibration of the vibration-damping object B is damped.

図3(a)に記載の例において、第2付勢力調整部材13が、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更されると、ベース部材5に付与される第2付勢力の大きさが変更される。また、第2付勢力の大きさが変更されることにより、上述の摩擦力F1の大きさが変更(換言すれば、調整)される。 In the example shown in FIG. 3(a), when the second biasing force adjustment member 13 is repositioned along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12, the magnitude of the second biasing force applied to the base member 5 is changed. In addition, by changing the magnitude of the second biasing force, the magnitude of the above-mentioned frictional force F1 is changed (in other words, adjusted).

図3(a)に記載の例では、第2弾性部材15は、ベース部材5の内側の第2空間SP2(より具体的には、上板5C、下板5Bと、複数の側板5Aとによって囲まれた空間)に配置されている。この場合、第2弾性部材15は、ベース部材5によって保護される。図3(a)に例示されるように、第2ナット130、および/または、第2シャフト12の上端部12aが、ベース部材5の内側の第2空間SP2に配置されていてもよい。 In the example shown in FIG. 3(a), the second elastic member 15 is disposed in a second space SP2 inside the base member 5 (more specifically, the space surrounded by the upper plate 5C, the lower plate 5B, and the multiple side plates 5A). In this case, the second elastic member 15 is protected by the base member 5. As illustrated in FIG. 3(a), the second nut 130 and/or the upper end 12a of the second shaft 12 may be disposed in the second space SP2 inside the base member 5.

図3(a)に記載の例では、ベース部材5の上板5Cに第2アクセス孔部513dが形成されている。第2アクセス孔部513dは、第2付勢力調整部材13(あるいは、第2シャフト12)と対向する位置に形成されていることが好ましい。上板5Cに第2アクセス孔部513dが形成されている場合、ユーザは、第2アクセス孔部513dを介して、第2付勢力調整部材13(あるいは、第2シャフト12)を操作することができる。 In the example shown in FIG. 3(a), a second access hole 513d is formed in the upper plate 5C of the base member 5. The second access hole 513d is preferably formed in a position facing the second biasing force adjustment member 13 (or the second shaft 12). When the second access hole 513d is formed in the upper plate 5C, the user can operate the second biasing force adjustment member 13 (or the second shaft 12) through the second access hole 513d.

図1に記載の例では、減衰付加装置1Aは、少なくとも2つの押付力発生部7を備える。減衰付加装置1Aが備える押付力発生部7の数は、制振対象物Bの大きさ等に応じて決定される。 In the example shown in FIG. 1, the damping device 1A includes at least two pressing force generating units 7. The number of pressing force generating units 7 included in the damping device 1A is determined according to the size of the vibration-damping object B, etc.

(復元力発生部6、押付力発生部7、および、摩擦力調整部8による複合作用)
図1に記載の例において、載置部Cに水平方向に地震荷重などの外力が加わると、ベース部材5が摺動盤4の上面C1を滑動する。
(Combined Action of the Restoring Force Generator 6, the Pressing Force Generator 7, and the Friction Force Adjuster 8)
In the example shown in FIG. 1, when an external force such as an earthquake load is applied horizontally to the placement portion C, the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding plate 4.

ベース部材5が摺動盤4の上面C1を滑動すると、図2に例示される復元力発生部6は、棒バネ9による復元力を発生し、摺動盤4に対するベース部材5の振動変位が抑制される。断面形状および/または断面寸法の異なる棒バネ9を準備することにより、棒バネ9の曲げ剛性を変化させ、制振対象物Bの支持剛性(固有振動数)を調整することができる。 When the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding plate 4, the restoring force generating unit 6 illustrated in FIG. 2 generates a restoring force by the rod spring 9, suppressing the vibration displacement of the base member 5 relative to the sliding plate 4. By preparing rod springs 9 with different cross-sectional shapes and/or cross-sectional dimensions, the bending rigidity of the rod springs 9 can be changed, and the support rigidity (natural frequency) of the vibration-damping object B can be adjusted.

ベース部材5が摺動盤4の上面C1を滑動すると、図3に例示される押付力発生部7は、ベース部材5と摺動盤4の上面C1との間に摩擦力を発生させる。当該摩擦力によって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収される。第2付勢力調整部材13を用いて第2弾性部材15の変形量を調整し、ベース部材5を摺動盤4に押し付ける押付力を変化させることができる。こうして、ベース部材5が摺動盤4の上面C1を滑動するときに発生するベース部材5と摺動盤4との間の摩擦力F1の大きさを調整することができる。 When the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding plate 4, the pressing force generating unit 7 illustrated in FIG. 3 generates a frictional force between the base member 5 and the upper surface C1 of the sliding plate 4. The frictional force absorbs the vibration energy of the vibration damping object B. The second biasing force adjusting member 13 can be used to adjust the amount of deformation of the second elastic member 15, thereby changing the pressing force pressing the base member 5 against the sliding plate 4. In this way, the magnitude of the frictional force F1 generated between the base member 5 and the sliding plate 4 when the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding plate 4 can be adjusted.

載置部Cに入力される入力加速度が大きく、制振対象物Bの振動応答がより大きくなる場合を想定する。図5(b)に例示されるように、ベース部材5と摺動盤4との間の相対変位が閾値e(より具体的には、摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさe)を越えると、摩擦力調整部8で追加の摩擦力F2が発生し、ベース部材5と摺動盤4の上面C1との間の摩擦力F1と、当該追加の摩擦力F2とによって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収される。想定される相対変位の大きさに応じて、摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさを設定することにより、閾値eを容易に調整することが可能である。また、第1付勢力調整部材19を用いて第1弾性部材21の変形量を調整し、摺動ブロック17を摺動盤4に押し付ける押付力を変化させることができる。こうして、ベース部材5と摺動盤4の上面C1との間の摩擦力F1の大きさに対する、追加の摩擦力F2の大きさを自由に調整することができる。 Assume that the input acceleration input to the placement part C is large, and the vibration response of the vibration-damping target B becomes larger. As illustrated in FIG. 5(b), when the relative displacement between the base member 5 and the sliding plate 4 exceeds the threshold value e (more specifically, the size e of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5), an additional frictional force F2 is generated in the frictional force adjustment part 8, and the vibration energy of the vibration-damping target B is absorbed by the frictional force F1 between the base member 5 and the upper surface C1 of the sliding plate 4 and the additional frictional force F2. The threshold value e can be easily adjusted by setting the size of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5 according to the expected magnitude of the relative displacement. In addition, the deformation amount of the first elastic member 21 can be adjusted using the first biasing force adjustment member 19, and the pressing force pressing the sliding block 17 against the sliding plate 4 can be changed. In this way, the magnitude of the additional frictional force F2 relative to the magnitude of the frictional force F1 between the base member 5 and the upper surface C1 of the sliding plate 4 can be freely adjusted.

(効果)
続いて、図8乃至図11を参照して、減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの振動モデルを用いて、減衰付加装置1Aによって奏される効果の一例について説明する。
(effect)
Next, with reference to Figs. 8 to 11, an example of the effect achieved by the damping device 1A will be described using a vibration model of an object B to be damped to which the damping device 1A is attached.

図8は、従来の減衰付加装置100が取り付けられた制振対象物Bの振動モデルを示す。「W1」は制振対象物Bの重量を示し、「k1」は制振対象物Bの剛性(ばね定数)を示し、「c1」は、制振対象物Bの減衰係数を示す。また、「W2」は、減衰付加装置100の重量を示し、「k2」は、減衰付加装置100の剛性(ばね定数)を示し、「Fr2」は、押付力発生部7によって生じる摩擦力を示す。図9は、第1の実施形態における減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの振動モデルの一例を示す。「W1」は制振対象物Bの重量を示し、「k1」は制振対象物Bの剛性(ばね定数)を示し、「c1」は、制振対象物Bの減衰係数を示し、「W2」は、減衰付加装置1Aの重量を示し、「k2」は、減衰付加装置1Aの剛性(ばね定数)を示し、「Fr2」は、押付力発生部7によって生じる摩擦力を示し、「Fr2’」は、摩擦力調整部8によって生じる追加の摩擦力を示す。 Figure 8 shows a vibration model of a vibration-damping object B to which a conventional damping device 100 is attached. "W1" indicates the weight of the vibration-damping object B, "k1" indicates the stiffness (spring constant) of the vibration-damping object B, and "c1" indicates the damping coefficient of the vibration-damping object B. Furthermore, "W2" indicates the weight of the damping device 100, "k2" indicates the stiffness (spring constant) of the damping device 100, and "Fr2" indicates the frictional force generated by the pressing force generating unit 7. Figure 9 shows an example of a vibration model of a vibration-damping object B to which a damping device 1A in the first embodiment is attached. "W1" indicates the weight of the vibration-damping object B, "k1" indicates the stiffness (spring constant) of the vibration-damping object B, "c1" indicates the damping coefficient of the vibration-damping object B, "W2" indicates the weight of the damping addition device 1A, "k2" indicates the stiffness (spring constant) of the damping addition device 1A, "Fr2" indicates the frictional force generated by the pressing force generating unit 7, and "Fr2'" indicates the additional frictional force generated by the frictional force adjusting unit 8.

図10は、載置部Cに入力される入力加速度と減衰比との関係を示すグラフである。なお、減衰比とは、臨界減衰係数に対する減衰係数の割合を意味する。図10には、制振対象物Bに、減衰付加装置100あるいは減衰付加装置1Aが取り付けられることにより、どの程度、減衰比が増加するか(換言すれば、制振性能が向上するか)が示されている。 Figure 10 is a graph showing the relationship between the input acceleration input to the mounting section C and the damping ratio. The damping ratio means the ratio of the damping coefficient to the critical damping coefficient. Figure 10 shows the extent to which the damping ratio increases (in other words, the vibration control performance improves) by attaching the damping device 100 or the damping device 1A to the vibration control target B.

なお、図10には、減衰付加装置が取り付けられていない制振対象物B自体が有している減衰比が4%であり、また、制振対象物Bの共振振動数域を十分にカバーする振動数範囲で正弦スイープ波が入力される場合の例が示されている。図10の横軸は、載置部Cに入力される水平方向の入力加速度の大きさを示し、図10の縦軸は、減衰比を示す。図10において、黒丸、黒三角、黒四角、白丸、白三角、白四角は、制振対象物Bに減衰付加装置100(剛性比k2/k1、および、重量W1に対する摩擦力Fr2の比率は、グラフ中に示されるとおりである。)が取り付けられた場合において、入力加速度に対する減衰比の変化を示す。また、図10において、太い実線は、制振対象物Bに減衰付加装置1Aが取り付けられた場合において、入力加速度に対する減衰比の変化を示す。 In addition, FIG. 10 shows an example in which the damping ratio of the vibration-damping object B itself, which does not have a damping device attached, is 4%, and a sine sweep wave is input in a frequency range that sufficiently covers the resonant frequency range of the vibration-damping object B. The horizontal axis of FIG. 10 indicates the magnitude of the horizontal input acceleration input to the mounting part C, and the vertical axis of FIG. 10 indicates the damping ratio. In FIG. 10, black circles, black triangles, black squares, white circles, white triangles, and white squares indicate the change in damping ratio with respect to the input acceleration when the damping device 100 (the stiffness ratio k2/k1 and the ratio of the friction force Fr2 to the weight W1 are as shown in the graph) is attached to the vibration-damping object B. In addition, in FIG. 10, the thick solid line indicates the change in damping ratio with respect to the input acceleration when the damping device 1A is attached to the vibration-damping object B.

図10から、減衰比は、顕著な振幅依存性(換言すれば、入力加速度の大きさに応じて大きく変動する特性)を有することが把握される。図10に記載の例では、入力加速度が10Galから増加することに伴い減衰比が増大している。また、入力加速度が100Galを超えた付近で、減衰比が最大となり、更に入力加速度が増加することに伴い減衰比は徐々に低下している。図10の例では、いずれの入力加速度が入力される場合でも、減衰付加装置1が取り付けられる前の減衰比4%を概ね上回る減衰比が得られている。 From FIG. 10, it can be seen that the damping ratio has a significant amplitude dependency (in other words, a characteristic that varies greatly depending on the magnitude of the input acceleration). In the example shown in FIG. 10, the damping ratio increases as the input acceleration increases from 10 Gal. In addition, when the input acceleration exceeds about 100 Gal, the damping ratio becomes maximum, and as the input acceleration increases further, the damping ratio gradually decreases. In the example of FIG. 10, regardless of the input acceleration, a damping ratio that generally exceeds the damping ratio of 4% before the damping device 1 is attached is obtained.

図10の例では、減衰比の最大値は、減衰付加装置100の摩擦力Fr2の大きさによって影響されず、減衰付加装置100の剛性k2が低くなると大きくなる傾向が示されている。また、減衰付加装置100の摩擦力Fr2が増加すると、減衰比のピーク(減衰特性曲線)が高加速度側にシフトする傾向が示されている。 In the example of Figure 10, the maximum value of the damping ratio is not affected by the magnitude of the frictional force Fr2 of the damping device 100, and tends to increase as the stiffness k2 of the damping device 100 decreases. In addition, as the frictional force Fr2 of the damping device 100 increases, the peak of the damping ratio (damping characteristic curve) tends to shift toward the high acceleration side.

第1の実施形態では、制振対象物Bの応答振幅の増加(換言すれば、載置部Cに対する制振対象物Bの相対変位の増加)に伴い、摩擦力調整部8は、追加の摩擦力Fr2’を発生させる。よって、第1の実施形態では、入力加速度の大きさが大きくなった場合に、追加の摩擦力Fr2’を発生させることにより、減衰比のピーク(減衰特性曲線)を、制振対象物Bの振動中に高加速度側にシフトさせることができる。こうして、高加速度側での減衰低下が抑制される。その結果、第1の実施形態では、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。 In the first embodiment, as the response amplitude of the vibration-damping object B increases (in other words, as the relative displacement of the vibration-damping object B with respect to the mounting portion C increases), the frictional force adjustment portion 8 generates an additional frictional force Fr2'. Thus, in the first embodiment, when the magnitude of the input acceleration increases, the peak of the damping ratio (damping characteristic curve) can be shifted to the high acceleration side during vibration of the vibration-damping object B by generating an additional frictional force Fr2'. In this way, the decrease in damping on the high acceleration side is suppressed. As a result, in the first embodiment, the vibration of the vibration-damping object B can be effectively damped for a wide range of input accelerations.

なお、図7に例示されるように、減衰付加装置1Aは、隙間16の大きさ(e1;e2)が異なる複数の摩擦力調整部8を有していてもよい。この場合、ベース部材5と摺動盤4との間の相対変位の大きさに応じて、摩擦力を複数段階で増加させることができる。よって、更に広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。 As shown in FIG. 7, the damping device 1A may have multiple friction adjustment parts 8 with different sizes (e1; e2) of the gap 16. In this case, the friction force can be increased in multiple stages depending on the magnitude of the relative displacement between the base member 5 and the sliding plate 4. This makes it possible to effectively damp the vibration of the vibration-damping object B against an even wider range of input acceleration.

図11には、図10に示されるグラフを、固有振動数比をパラメータとして再整理したグラフが示されている。なお、固有振動数比は、減衰付加装置1Aが取り付けられる前の制振対象物Bの固有振動数に対する、減衰付加装置1Aが取り付けられた後の制振対象物Bの固有振動数の割合を意味する。 Figure 11 shows a graph in which the graph shown in Figure 10 has been rearranged using the natural frequency ratio as a parameter. Note that the natural frequency ratio refers to the ratio of the natural frequency of the vibration-damping object B after the damping device 1A is attached to the natural frequency of the vibration-damping object B before the damping device 1A is attached.

図9に記載の例において、減衰付加装置1Aの剛性k2が低下すると制振対象物Bの固有振動数は低下する。図11は、減衰付加装置1Aの剛性k2が低下し、制振対象物Bの固有振動数が低下すると(図11において、横軸左側にシフトすると)、減衰比の最大値が増加する傾向を示している。図11には、減衰付加装置1Aが取り付けられる前の減衰比(4%)が、最大で27%程度まで上昇する結果が示されている。 In the example shown in Figure 9, as the stiffness k2 of the damping device 1A decreases, the natural frequency of the vibration-damping object B decreases. Figure 11 shows that as the stiffness k2 of the damping device 1A decreases and the natural frequency of the vibration-damping object B decreases (shifting to the left on the horizontal axis in Figure 11), the maximum damping ratio tends to increase. Figure 11 shows the result that the damping ratio (4%) before the damping device 1A is installed increases to a maximum of approximately 27%.

例えば、制振対象物Bに、第1の実施形態における減衰付加装置1Aを取り付けることにより、制振対象物Bの固有振動数を、元の固有振動数の0.5倍以上0.9倍以下となるように設定することを想定する。この場合、図11に記載の例では、減衰付加装置1Aが取り付けられる前の制振対象物Bの減衰比(4%)に対し、減衰付加装置1Aを取り付けることにより、減衰比を約3%~23%追加して、減衰比を約7~27%にすることができる。通常の溶接構造によって制振対象物Bを固定した場合の減衰比が1%程度であることを考慮すると、第1の実施形態における減衰付加装置1Aは、制振対象物Bに非常に大きな減衰を付加することが分かる。 For example, it is assumed that the natural frequency of the vibration-damping object B is set to 0.5 to 0.9 times the original natural frequency by attaching the damping device 1A of the first embodiment to the vibration-damping object B. In this case, in the example shown in FIG. 11, the damping ratio of the vibration-damping object B before the damping device 1A is attached (4%) can be increased by approximately 3% to 23% by attaching the damping device 1A, making the damping ratio approximately 7 to 27%. Considering that the damping ratio when the vibration-damping object B is fixed by a normal welding structure is approximately 1%, it can be seen that the damping device 1A of the first embodiment adds a very large damping to the vibration-damping object B.

従来の摺動型の免震機構を用いた振動抑制技術は、地震動の主成分の振動数域を避けて、制振対象物Bの固有振動数(一般的に、免震の固有振動数と呼ばれる。)が、例えば、0.3Hz程度の非常に低い振動数に設定される。この場合、長周期地震動では、制振対象物Bの変位が大きくなる可能性がある。 Conventional vibration suppression technology using sliding-type seismic isolation mechanisms avoids the frequency range of the main components of seismic motion, and sets the natural frequency of the vibration-control target B (generally called the natural frequency of seismic isolation) to a very low frequency, for example, around 0.3 Hz. In this case, long-period seismic motion can cause large displacements of the vibration-control target B.

これに対し、第1の実施形態では、制振対象物Bに減衰付加装置1Aが取り付けられた後の制振対象物Bの固有振動数を、制振対象物Bに減衰付加装置1Aが取り付けられる前の制振対象物Bの固有振動数の0.5倍以上0.9倍以下となるように設定することが可能である。例えば、制振対象物Bが、使用済核燃料貯蔵ラックや電気盤のような構造物を含む場合、減衰付加装置1Aが取り付けられる前の状態では、当該制振対象物Bの固有振動数は10Hz~30Hz程度となる。この場合、制振対象物Bに減衰付加装置1を取り付けた後の状態において、制振対象物Bの固有振動数を5Hz以上とすることができる。この場合、第1の実施形態における減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの固有振動数を、一般的な免震機構が取り付けられた制振対象物Bの固有振動数(0.3Hz)の約16倍以上にすることができる。両者の応答加速度が同じであると考えた場合、両者の間の応答変位の比は、両者の間の振動数の比の二乗分の一となることから、減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの応答変位は、一般的な免震機構が取り付けられた制振対象物Bの応答変位の数百分の一となり、極めて小さくなることがわかる。 In contrast, in the first embodiment, the natural frequency of the vibration-damping object B after the damping device 1A is attached to the vibration-damping object B can be set to be 0.5 to 0.9 times the natural frequency of the vibration-damping object B before the damping device 1A is attached to the vibration-damping object B. For example, when the vibration-damping object B includes a structure such as a spent nuclear fuel storage rack or an electrical panel, the natural frequency of the vibration-damping object B before the damping device 1A is attached is about 10 Hz to 30 Hz. In this case, the natural frequency of the vibration-damping object B after the damping device 1 is attached to the vibration-damping object B can be set to 5 Hz or more. In this case, the natural frequency of the vibration-damping object B to which the damping device 1A in the first embodiment is attached can be set to about 16 times or more the natural frequency (0.3 Hz) of the vibration-damping object B to which a general seismic isolation mechanism is attached. If we consider that the response acceleration of both is the same, the ratio of the response displacement between the two is one squared of the ratio of the vibration frequencies between the two, so we can see that the response displacement of the vibration-control object B to which the damping device 1A is attached is extremely small, being one hundredth of the response displacement of the vibration-control object B to which a general seismic isolation mechanism is attached.

一般的な免震機構を採用する場合には、制振対象物Bの応答変位が大きくなることから、制振対象物Bと周辺構造物との間の衝突を避けるために、応答変位を考慮して、制振対象物B用の配置面積を大きくする必要がある。これに対し、第1の実施形態における減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bは、一般的な免震機構に比べて、応答変位が極めて小さいため、制振対象物Bの配置設計が容易である。 When a general seismic isolation mechanism is adopted, the response displacement of the vibration-control object B becomes large, and therefore in order to avoid collisions between the vibration-control object B and surrounding structures, it is necessary to increase the placement area for the vibration-control object B, taking into account the response displacement. In contrast, the vibration-control object B to which the damping device 1A in the first embodiment is attached has an extremely small response displacement compared to a general seismic isolation mechanism, making it easy to design the placement of the vibration-control object B.

更に、第1の実施形態における減衰付加装置1Aにおいて、制振対象物Bの振動特性および/または載置部Cへの振動入力条件に応じて、減衰付加装置1Aの剛性k2および/または摩擦力Fr2が調整可能とされる場合、減衰付加装置1Aは、制振対象物Bに最適な減衰を付加することができる。 Furthermore, in the first embodiment, in the case where the stiffness k2 and/or frictional force Fr2 of the damping device 1A are adjustable according to the vibration characteristics of the object to be damped B and/or the vibration input conditions to the mounting portion C, the damping device 1A can add optimal damping to the object to be damped B.

更に、第1の実施形態における減衰付加装置1Aにおいて、追加の摩擦力Fr2’の大きさ、および/または、隙間16の大きさeが調整可能とされる場合、これらのパラメータが調整されることにより、広範囲の入力加速度に対して、高い減衰効果を得ることが可能になる。例えば、地震入力や、飛翔体が建屋に衝突することに伴う衝撃波入力など様々な振動入力に対して、高い減衰効果が得られる。また、原子力発電所で用いられる使用済核燃料貯蔵ラック、電気盤、ポンプ、熱交換器、変圧器など様々な機器に対して、それぞれの振動特性に対応した調整が行われることにより、制振対象物Bに最適な減衰力を付加することができる。 Furthermore, in the damping adding device 1A in the first embodiment, if the magnitude of the additional friction force Fr2' and/or the size e of the gap 16 are adjustable, by adjusting these parameters, it becomes possible to obtain a high damping effect against a wide range of input acceleration. For example, a high damping effect can be obtained against various vibration inputs such as earthquake inputs and shock wave inputs caused by a flying object colliding with a building. In addition, by making adjustments corresponding to the vibration characteristics of various equipment used in nuclear power plants, such as spent nuclear fuel storage racks, electrical panels, pumps, heat exchangers, and transformers, an optimal damping force can be added to the vibration control target B.

(第2の実施形態)
図1乃至図3、図12を参照して、第2の実施形態における減衰付加装置1Bについて説明する。図1は、第2の実施形態における減衰付加装置1Bが、制振対象物Bに取り付けられた様子を模式的に示す概略正面図である。なお、図1において、減衰付加装置1Bの配置を把握し易くするために、機器2以外の部分については、正面図の代わりに、断面図が示されている。図2は、復元力発生部6の一例を模式的に示す概略断面図である。図3は、押付力発生部7の一例を模式的に示す概略断面図である。図12は、第2の実施形態における減衰付加装置1Bの摩擦力調整部8の一例を模式的に示す概略断面図である。
Second Embodiment
A damping device 1B according to the second embodiment will be described with reference to Figures 1 to 3 and 12. Figure 1 is a schematic front view showing a state in which the damping device 1B according to the second embodiment is attached to an object B to be damped. In Figure 1, in order to make it easier to understand the arrangement of the damping device 1B, a cross-sectional view is shown instead of a front view for parts other than the equipment 2. Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a restoring force generating unit 6. Figure 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a pressing force generating unit 7. Figure 12 is a schematic cross-sectional view showing an example of a frictional force adjusting unit 8 of the damping device 1B according to the second embodiment.

第1の実施形態では、摩擦力調整部8が、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面の総面積が変更される例、より具体的には、摺動ブロック17が追加的に摺動される例について説明された。これに対し、第2の実施形態では、摩擦力調整部8は、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面の総面積を変更することなく追加の摩擦力を発生させる点で第1の実施形態とは異なる。 In the first embodiment, an example was described in which the frictional force adjustment unit 8 changes the total area of the sliding surface that slides against the upper surface C1 of the mounting part C depending on the distance from the default position P1 to the second position P2, more specifically, an example in which the sliding block 17 slides additionally. In contrast, in the second embodiment, the frictional force adjustment unit 8 differs from the first embodiment in that it generates additional frictional force without changing the total area of the sliding surface that slides against the upper surface C1 of the mounting part C.

第2の実施形態では、第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。他方、第2の実施形態では、第1の実施形態で説明済みの事項についての繰り返しとなる説明は省略する。したがって、第2の実施形態において、明示的に説明をしなかったとしても、第1の実施形態において説明済みの事項を第2の実施形態に適用できることは言うまでもない。 In the second embodiment, the differences from the first embodiment will be mainly described. On the other hand, in the second embodiment, repeated explanations of matters already described in the first embodiment will be omitted. Therefore, it goes without saying that matters already described in the first embodiment can be applied to the second embodiment even if they are not explicitly described in the second embodiment.

(構成・作用)
図1乃至図3に例示されるように、第2の実施形態における減衰付加装置1Bは、(1)制振対象物Bの底部(より具体的には、ベース部材5)と、制振対象物Bが載置される載置部C(より具体的には、摺動盤4)との間に配置され、制振対象物Bが振動することによって載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1から第2位置P2に変化する場合に、当該相対位置をデフォルト位置P1に復元する復元力を発生させる復元力発生部6と、(2)制振対象物Bの下面B1を載置部Cの上面C1に押し付ける押付力を発生させる押付力発生部7と、を具備する。また、図12に例示されるように、第2の実施形態における減衰付加装置1Bは、(3)制振対象物Bが載置部Cの上面C1から受ける摩擦力を、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して変更する摩擦力調整部8を、備える。
(Composition and Function)
1 to 3, the damping adding device 1B in the second embodiment includes: (1) a restoring force generating unit 6 that is disposed between the bottom of the vibration-damping object B (more specifically, the base member 5) and a placement unit C (more specifically, the sliding plate 4) on which the vibration-damping object B is placed, and that generates a restoring force for restoring the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B to the upper surface C1 of the placement unit C to the default position P1 when the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B with respect to the upper surface C1 of the placement unit C changes from the default position P1 to the second position P2 due to the vibration of the vibration-damping object B; and (2) a pressing force generating unit 7 that generates a pressing force for pressing the lower surface B1 of the vibration-damping object B against the upper surface C1 of the placement unit C. Also, as illustrated in FIG. 12, the damping adding device 1B in the second embodiment includes: (3) a friction force adjusting unit 8 that changes the friction force that the vibration-damping object B receives from the upper surface C1 of the placement unit C depending on the magnitude of the distance from the default position P1 to the second position P2.

図12に記載の例では、載置部Cの上面C1の第1領域AR1と制振対象物Bとの間の動摩擦係数が、載置部Cの上面C1の第2領域AR2と制振対象物Bとの間の動摩擦係数よりも大きい。また、図12に記載の例では、上述のデフォルト位置P1から第2位置P2までの距離が閾値eよりも小さい場合には、制振対象物Bの下面B1は上述の第1領域AR1に接触せず、上述のデフォルト位置P1から第2位置P2までの距離が閾値e以上になると、制振対象物Bの下面B1が上述の第1領域AR1と接触する。制振対象物Bの下面B1が上述の第1領域AR1と接すると、追加の摩擦力が発生する。 In the example shown in FIG. 12, the dynamic friction coefficient between the first region AR1 of the upper surface C1 of the mounting portion C and the vibration-damping object B is greater than the dynamic friction coefficient between the second region AR2 of the upper surface C1 of the mounting portion C and the vibration-damping object B. Also, in the example shown in FIG. 12, when the distance from the default position P1 to the second position P2 is smaller than the threshold value e, the lower surface B1 of the vibration-damping object B does not contact the first region AR1, and when the distance from the default position P1 to the second position P2 is equal to or greater than the threshold value e, the lower surface B1 of the vibration-damping object B contacts the first region AR1. When the lower surface B1 of the vibration-damping object B contacts the first region AR1, an additional frictional force is generated.

第2の実施形態では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさ、換言すれば、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置の変化の大きさに依存して、制振対象物Bに作用する制動力として機能する摩擦力の大きさが変更される。こうして、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。例えば、制振対象物Bに入力される入力加速度が大きく、制振対象物Bの振幅が大きい場合には、より大きな制動力が作用する。その結果、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。 In the second embodiment, the magnitude of the frictional force acting as a braking force on the vibration-damping object B is changed depending on the distance from the default position P1 to the second position P2, in other words, the magnitude of the change in the relative position of the lower surface B1 of the vibration-damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C. In this way, the vibration of the vibration-damping object B can be effectively damped for a wide range of input accelerations. For example, when the input acceleration input to the vibration-damping object B is large and the amplitude of the vibration-damping object B is large, a larger braking force is applied. As a result, the vibration of the vibration-damping object B can be effectively damped.

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although several embodiments of the present invention have been described above, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be embodied in various other forms, and various omissions, substitutions, and modifications can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are included in the scope of the invention and its equivalents described in the claims.

1、1A、1B…減衰付加装置、2…機器、3…床面、4…摺動盤、5…ベース部材、5A…側板、5B…下板、5C…上板、6…復元力発生部、7…押付力発生部、8…摩擦力調整部、9…棒バネ、9a…上端部、9b…下端部、9t…外面、10…第1嵌合部、11…第2嵌合部、12…第2シャフト、12a…上端部、12b…下端部、12t…外面、13…第2付勢力調整部材、14…座金、14a…第3座金、14b…第4座金、15…第2弾性部材、16…隙間、16a…第1隙間、16b…第2隙間、17…摺動ブロック、17a…第1ブロック、17b…第2ブロック、17h…貫通孔部、17t…外面、17w…下面、18…第1シャフト、18a…上端部、18b…下端部、19…第1付勢力調整部材、20…座金、20a…第1座金、20b…第2座金、21…第1弾性部材、22…弾性部材、91…固定部材、100…減衰付加装置、130…第2ナット、190…第1ナット、511d…第1アクセス孔部、511h…第1貫通孔部、512h…第2貫通孔部、513d…第2アクセス孔部、513h…第3貫通孔部、AR1…第1領域、AR2…第2領域、B…制振対象物、B1…下面、C…載置部、C1…上面、G3…第3隙間、G4…第4隙間、SP1…第1空間、SP2…第2空間 1, 1A, 1B...damping addition device, 2...equipment, 3...floor surface, 4...sliding plate, 5...base member, 5A...side plate, 5B...lower plate, 5C...upper plate, 6...restoring force generating portion, 7...pressing force generating portion, 8...friction force adjusting portion, 9...rod spring, 9a...upper end, 9b...lower end, 9t...outer surface, 10...first fitting portion, 11...second fitting portion, 12...second shaft, 12a...upper end, 12b...lower end, 12t...outer surface, 13...second biasing force adjusting member, 14...washer, 14a...third washer, 14b...fourth washer, 15...second elastic member, 16...gap, 16a...first gap, 16b...second gap, 17...sliding block, 17a...first block, 17b...second block, 17h...through hole portion, 1 7t...outer surface, 17w...lower surface, 18...first shaft, 18a...upper end, 18b...lower end, 19...first biasing force adjustment member, 20...washer, 20a...first washer, 20b...second washer, 21...first elastic member, 22...elastic member, 91...fixing member, 100...damping device, 130...second nut, 190...first nut, 511d...first access hole, 511h...first through hole, 512h...second through hole, 513d...second access hole, 513h...third through hole, AR1...first region, AR2...second region, B...vibration damping object, B1...lower surface, C...mounting portion, C1...upper surface, G3...third gap, G4...fourth gap, SP1...first space, SP2...second space

Claims (6)

制振対象物の底部と、前記制振対象物が載置される載置部との間に配置され、前記制振対象物が振動することによって前記載置部の上面に対する前記制振対象物の下面の相対位置がデフォルト位置から第2位置に変化する場合に、前記相対位置を前記デフォルト位置に復元する復元力を発生させる復元力発生部と、
前記制振対象物の前記下面を前記載置部の前記上面に押し付ける押付力を発生させる押付力発生部と、
前記制振対象物が前記載置部の前記上面から直接的または間接的に受ける摩擦力を、前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさに依存して変更する摩擦力調整部と
を具備し、
前記摩擦力調整部は、前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさに依存して、前記載置部の前記上面に対して摺動する摺動面の総面積を変更する
減衰付加装置。
a restoring force generating unit that is disposed between a bottom of an object to be damped and a mounting portion on which the object to be damped is mounted, and that generates a restoring force that restores a relative position of a lower surface of the object to be damped with respect to an upper surface of the mounting portion to a default position when the relative position changes from a default position to a second position due to vibration of the object to be damped;
a pressing force generating unit configured to generate a pressing force for pressing the lower surface of the object to be vibration-damped against the upper surface of the placement unit;
a friction force adjustment unit that changes a friction force that the vibration damping target receives directly or indirectly from the upper surface of the placement unit depending on a distance from the default position to the second position ,
The friction adjustment unit changes a total area of a sliding surface that slides against the upper surface of the placement unit depending on a distance from the default position to the second position.
Damping addition device.
前記摩擦力調整部は、前記制振対象物の前記底部を構成するベース部材とは独立して設けられる摺動ブロックを有し、
前記摺動ブロックは、前記摺動ブロックと前記ベース部材との間に隙間が形成されるように、前記載置部を構成する摺動盤に載置され、
前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさが前記隙間の大きさよりも大きい場合に、前記ベース部材が前記摺動ブロックと接触することにより前記摩擦力が増加されるように構成される
請求項に記載の減衰付加装置。
the frictional force adjustment unit has a sliding block provided independently of a base member constituting the bottom of the vibration damping object,
the sliding block is placed on a sliding plate constituting the placement portion such that a gap is formed between the sliding block and the base member;
The damping device according to claim 1 , wherein the frictional force is increased by the base member coming into contact with the sliding block when the distance from the default position to the second position is greater than the gap.
前記摩擦力調整部は、
前記摺動盤に固定される第1シャフトと、
前記第1シャフトの長手方向軸に沿って位置変更可能な第1付勢力調整部材と、
前記第1付勢力調整部材と前記摺動ブロックとの間に配置され、前記摺動ブロックに前記摺動盤に向かう方向に第1付勢力を付与する第1弾性部材と
を有する
請求項に記載の減衰付加装置。
The friction force adjustment unit is
A first shaft fixed to the sliding plate;
a first biasing force adjustment member that is changeable in position along a longitudinal axis of the first shaft;
3. The damping adding device according to claim 2 , further comprising: a first elastic member disposed between the first biasing force adjustment member and the sliding block, the first elastic member applying a first biasing force to the sliding block in a direction toward the sliding plate.
前記摩擦力調整部は、前記ベース部材と前記摺動ブロックとの間の前記隙間に配置される弾性部材を有する
請求項2または3に記載の減衰付加装置。
The damping adding device according to claim 2 or 3 , wherein the frictional force adjusting portion has an elastic member disposed in the gap between the base member and the sliding block.
前記摺動ブロックは、第1ブロックおよび第2ブロックを含む複数のブロックを有し、
前記第1ブロックは、前記第1ブロックと前記ベース部材との間に第1隙間が形成されるように、前記摺動盤に載置され、
前記第2ブロックは、前記第2ブロックと前記ベース部材との間に前記第1隙間よりも大きな第2隙間が形成されるように、前記摺動盤に載置され、
前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさが、前記第1隙間の大きさよりも大きく、前記第2隙間の大きさよりも小さい場合に、前記ベース部材が前記第1ブロックと接触することにより前記摩擦力が増加されるように構成され、
前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさが前記第2隙間の大きさよりも大きい場合に、前記ベース部材が前記第1ブロックおよび前記第2ブロックの両方と接触することにより前記摩擦力が更に増加されるように構成される
請求項2乃至4のいずれか一項に記載の減衰付加装置。
The sliding block has a plurality of blocks including a first block and a second block,
the first block is placed on the sliding plate such that a first gap is formed between the first block and the base member;
the second block is placed on the sliding plate such that a second gap larger than the first gap is formed between the second block and the base member;
When a distance from the default position to the second position is greater than a size of the first gap and smaller than a size of the second gap, the base member comes into contact with the first block, thereby increasing the frictional force;
The damping device according to any one of claims 2 to 4, wherein the frictional force is further increased by the base member contacting both the first block and the second block when the distance from the default position to the second position is greater than the second gap.
前記復元力発生部は、前記ベース部材と前記摺動盤との間に配置され、前記ベース部材および前記摺動盤のそれぞれに支持される棒ばねを有し、
前記押付力発生部は、
前記摺動盤に固定される第2シャフトと、
前記第2シャフトの長手方向軸に沿って位置変更可能な第2付勢力調整部材と、
前記第2付勢力調整部材と前記ベース部材との間に配置され、前記ベース部材に前記摺動盤に向かう方向に第2付勢力を付与する第2弾性部材と
を有する
請求項2乃至5のいずれか一項に記載の減衰付加装置。
the restoring force generating unit is disposed between the base member and the sliding plate and includes a rod spring supported by each of the base member and the sliding plate,
The pressing force generating unit includes:
A second shaft fixed to the sliding plate;
a second biasing force adjustment member that is changeable in position along a longitudinal axis of the second shaft;
6. The damping adding device according to claim 2, further comprising: a second elastic member disposed between the second biasing force adjustment member and the base member, the second elastic member applying a second biasing force to the base member in a direction toward the sliding plate.
JP2021085988A 2021-05-21 2021-05-21 Damping Addition Device Active JP7551567B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021085988A JP7551567B2 (en) 2021-05-21 2021-05-21 Damping Addition Device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021085988A JP7551567B2 (en) 2021-05-21 2021-05-21 Damping Addition Device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022178881A JP2022178881A (en) 2022-12-02
JP7551567B2 true JP7551567B2 (en) 2024-09-17

Family

ID=84238699

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021085988A Active JP7551567B2 (en) 2021-05-21 2021-05-21 Damping Addition Device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7551567B2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016166518A (en) 2015-03-02 2016-09-15 薫和 半澤 Frictional vibration damping device
JP2016196910A (en) 2015-04-03 2016-11-24 株式会社大林組 Seismic isolation device
JP6591310B2 (en) 2016-02-23 2019-10-16 株式会社東芝 Spent fuel storage rack
JP2020085158A (en) 2018-11-28 2020-06-04 株式会社東芝 Attenuation adding device and attenuation adding method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016166518A (en) 2015-03-02 2016-09-15 薫和 半澤 Frictional vibration damping device
JP2016196910A (en) 2015-04-03 2016-11-24 株式会社大林組 Seismic isolation device
JP6591310B2 (en) 2016-02-23 2019-10-16 株式会社東芝 Spent fuel storage rack
JP2020085158A (en) 2018-11-28 2020-06-04 株式会社東芝 Attenuation adding device and attenuation adding method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022178881A (en) 2022-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101870158B1 (en) Displacement limiting type anti-seismic mount
KR102177483B1 (en) Damper for seismic isolation
JP2000055117A (en) Base isolation device
JP7551567B2 (en) Damping Addition Device
JP6420012B1 (en) Passive vibration control device for buildings
JP7102249B2 (en) Multi-sided slide bearing device for structures
KR102444015B1 (en) Anti-vibration electrical safety control board
JP6463137B2 (en) Seismic reduction device
JP2017053128A (en) Attenuator mounting structure
JP2017110731A (en) Unit type vibration damping device and vibration isolation mount provided with the unit type vibration damping device
KR101393694B1 (en) Friction damper
JP6854232B2 (en) Seismic control device
JP5781387B2 (en) Seismic reduction device
JP5462059B2 (en) Foundation structure
JP2017186860A (en) Base-isolated building for long-period earthquakes
KR100390542B1 (en) Vibration control system of construction
JP6441090B2 (en) Seismic isolation structure
JPH1130278A (en) Base isolation construction
KR101393696B1 (en) Friction damper
JP7141638B2 (en) Vibration isolation structure
JP2013040670A (en) Impact damper
JP5095015B1 (en) Seismic isolation device
KR102314390B1 (en) Vibration Isolation for Case
KR102388199B1 (en) Dynamic absorber and vibration reduce facilities including the same
JP2001221283A (en) Equipment support equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240122

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240509

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240611

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240712

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240806

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240904

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7551567

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150