JP7279134B2 - Method for producing prolinamide compound - Google Patents
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Description
本発明は、医薬の合成中間体等として有用なプロリンアミド化合物の新規製造方法に関する。また、本発明は、当該化合物の新規製造方法を利用して、糖尿病治療薬等として有用なテネリグリプチン(化学名:{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノン又はその塩を製造する方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel method for producing prolinamide compounds useful as synthetic intermediates for pharmaceuticals and the like. The present invention also provides teneligliptin (chemical name: {(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1-phenyl- 1H-pyrazol-5-yl)piperazin-1-yl]pyrrolidin-2-yl}(1,3-thiazolidin-3-yl)methanone or a salt thereof.
プロリンアミド部分を含んだ側鎖を有するテネリグリプチン又はその塩は、DPP-IV阻害活性を示し、糖尿病等の治療又は予防において有用であることが報告されている(特許文献1、2参照)。 It has been reported that teneligliptin or a salt thereof having a side chain containing a prolinamide moiety exhibits DPP-IV inhibitory activity and is useful in the treatment or prevention of diabetes and the like (see Patent Documents 1 and 2).
特許文献1には、テネリグリプチン又はその塩については、その製造方法、及びその合成中間体であるプロリンアミド化合物の製造方法が開示されている。当該製造方法は、N-t-ブトキシカルボニル-L-トランス-4-ヒドロキシプロリンとチアゾリジンを、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール存在下、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を用いて縮合させた後、塩基存在下、ピリジン三酸化硫黄錯体を用いて酸化することにより製造したプロリンアミド化合物を経由してテネリグリプチン又はその塩を得るものである。しかしながら、この製造方法では当該プロリンアミド化合物の収率は不十分であり、工業的製造方法として利用する上ではさらなる改良が望まれていた。 Patent Document 1 discloses a method for producing teneligliptin or a salt thereof, and a method for producing a prolinamide compound, which is a synthetic intermediate thereof. The production method uses Nt-butoxycarbonyl-L-trans-4-hydroxyproline and thiazolidine in the presence of 1-hydroxybenzotriazole with 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride. and then oxidized with a pyridine sulfur trioxide complex in the presence of a base to obtain teneligliptin or a salt thereof via a proline amide compound produced. However, the yield of the proline amide compound is insufficient in this production method, and further improvement has been desired for use as an industrial production method.
また、別の方法として、(2S)-1-t-ブトキシカルボニル-4-オキソピロリジン-2-カルボン酸とチアゾリジンを、塩基存在下、n-プロピルホスホン酸無水物(環状三量体)を用いて縮合させることにより製造したプロリンアミド化合物を経由してテネリグリプチン又はその塩を製造する方法が報告されている(特許文献3参照)。当該製造方法は、工業的な規模においても利用可能な方法であるが、n-プロピルホスホン酸無水物(環状三量体)は、化学兵器禁止法の指定物質であり、届出義務、国際機関の査察官による査察(検査)を受け入れる義務等の一定の対応が必要である上に高価(4,200円/mol)であるため、必ずしも大量生産に適した方法であるとはいえない。 As another method, (2S)-1-t-butoxycarbonyl-4-oxopyrrolidine-2-carboxylic acid and thiazolidine are treated with n-propylphosphonic anhydride (cyclic trimer) in the presence of a base. A method has been reported for producing teneligliptin or a salt thereof via a prolinamide compound produced by condensing with (see Patent Document 3). This manufacturing method can also be used on an industrial scale. It is not necessarily suitable for mass production because it is expensive (4,200 yen/mol) and requires a certain response, such as an obligation to accept inspections (inspections) by inspectors.
さらに別の方法として、(2S)-1-t-ブトキシカルボニル-4-オキソピロリジン-2-カルボン酸とチアゾリジンを、4-ジメチルアミノピリジン存在下、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)を用いて縮合させることにより製造したプロリンアミド化合物を経由してテネリグリプチン又はその塩を製造する方法が報告されている(特許文献4のExample 3参照)。当該製造方法は、短時間で段階的に微調整が必要な
低温下(具体的には、-5℃~-10℃(30分)、続いて-6℃~-2℃(15~20分)、その後、0℃~5℃(60分))で行われるが、工業的な規模において、反応容器内を短時間で均一な温度に制御することや温度を微調整することは難しく、また、DCCは毒性(皮膚炎症性)を有し、且つ高価(825円/mol(4000円/kg))であるため、大量生産に適した方法とはいえない。
As yet another method, (2S)-1-t-butoxycarbonyl-4-oxopyrrolidine-2-carboxylic acid and thiazolidine are treated with N,N'-dicyclohexylcarbodiimide (DCC) in the presence of 4-dimethylaminopyridine. A method has been reported for producing teneligliptin or a salt thereof via a prolinamide compound produced by condensing with (see Example 3 of Patent Document 4). The production method requires stepwise fine adjustment in a short time at a low temperature (specifically, -5 ° C. to -10 ° C. (30 minutes), followed by -6 ° C. to -2 ° C. (15 to 20 minutes ), and then at 0 ° C. to 5 ° C. (60 minutes)), but on an industrial scale, it is difficult to control the temperature inside the reaction vessel to a uniform temperature in a short time and to finely adjust the temperature. , DCC is toxic (skin inflammation) and expensive (825 Yen/mol (4000 Yen/kg)), so it cannot be said to be a method suitable for mass production.
本発明の目的は、医薬の合成中間体等として有用なプロリンアミド化合物の工業的製造に適した安価で、安全且つ効率的な製造方法を提供することにある。また、当該製造方法を用いて、糖尿病治療薬等として有用なテネリグリプチン又はその塩の工業的に有利な製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an inexpensive, safe and efficient production method suitable for industrial production of prolinamide compounds useful as intermediates for the synthesis of pharmaceuticals. Another object of the present invention is to provide an industrially advantageous method for producing teneligliptin or a salt thereof, which is useful as a therapeutic agent for diabetes, etc., using the production method.
前記の通り、プロリンアミド化合物の工業的製造においては、プロリン誘導体のカルボキシ基とチアゾリジンの環状アミノ基との縮合工程に使用するアミド化方法、反応条件(仕込み量、反応溶媒、反応温度、反応時間等)、後処理方法等の最適化により、安全で、低コスト且つ高収率な方法が求められている。しかし、従来法は、いずれも工業的製造方法としては満足できるものではなく、また、膨大な数のアミド化方法(アミド化試薬(例、酸クロリド、縮合剤、混合酸無水物形成剤等)、塩基、添加剤等)、反応条件、後処理方法等の選択肢の組み合わせの中から、特定のプロリンアミド化合物の工業的製造に耐え得る最適な組み合わせを特定するには、通常大きな技術的困難性を伴う。 As described above, in the industrial production of a proline amide compound, the amidation method used in the condensation step between the carboxy group of the proline derivative and the cyclic amino group of the thiazolidine, the reaction conditions (amount charged, reaction solvent, reaction temperature, reaction time etc.), there is a demand for a safe, low-cost, high-yield method by optimizing post-treatment methods and the like. However, none of the conventional methods are satisfactory as industrial production methods, and a vast number of amidation methods (amidation reagents (e.g., acid chlorides, condensing agents, mixed acid anhydride forming agents, etc.) , bases, additives, etc.), reaction conditions, post-treatment methods, etc., to identify the optimum combination that can withstand industrial production of a specific proline amide compound, usually with great technical difficulty. Accompanied by
本発明者等は、鋭意研究した結果、アミド化試薬として毒性が比較的低く、且つ安価な混合酸無水物形成剤であるピバロイルクロリドを用い、塩基としてN,N-ジイソプロピルエチルアミン(以下、「DIPEA」と称することもある。)を用いることで、過剰量の試薬や基質を用いることなく、数百kgスケールの工業的規模の反応においても、目的とするプロリンアミド化合物を安価且つ高収率で再現性良く、好適に製造できることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
[1]:
一般式(3):
As a result of intensive research, the present inventors have found that pivaloyl chloride, which is a mixed acid anhydride-forming agent with relatively low toxicity and is inexpensive, is used as an amidation reagent, and N,N-diisopropylethylamine (hereinafter referred to as It is also called "DIPEA".), without using excessive amounts of reagents and substrates, even in an industrial-scale reaction of several hundred kg, the target prolinamide compound can be produced at a low cost and in high yield. The inventors have found that the production rate is high and the reproducibility is good, and the present invention has been completed.
That is, the present invention
[1]:
General formula (3):
(式中、Rは、アミノ基の保護基を表す。)で表される化合物又はその塩とチアゾリジンとを、N,N-ジイソプロピルエチアミン(DIPEA)の存在下、ピバロイルクロリドを用いて縮合させることを特徴とする、一般式(2): (Wherein, R represents an amino-protecting group.) A compound represented by or a salt thereof and thiazolidine are treated with pivaloyl chloride in the presence of N,N-diisopropylethylamine (DIPEA). General formula (2), characterized by condensing:
(式中、Rは前記と同義である)で表される化合物又はその塩の製造方法、
[2]:
前記[1]に記載の製造方法により一般式(2):
(wherein R is as defined above) or a method for producing a salt thereof,
[2]:
General formula (2) by the production method described in [1] above:
(式中、Rは請求項1と同義である)で表される化合物又はその塩を製造し、当該化合物を、一般式(4): (wherein R is the same as in claim 1) or a salt thereof is produced, and the compound is converted to the general formula (4):
で表される化合物のカルボン酸塩存在下、還元的アミノ化反応に付すことにより、一般式(5): In the presence of a carboxylate of a compound represented by the general formula (5) by subjecting it to a reductive amination reaction:
で表される化合物又はその塩を製造し、次いで一般式(5)で表される化合物又はその塩のアミノ基の保護基Rを除去することからなる、一般式(1): General formula (1), comprising producing a compound represented by or a salt thereof, and then removing the protecting group R of the amino group of the compound represented by general formula (5) or a salt thereof:
で表される化合物又はその塩の製造方法、
[3]:
前記[2]に記載の製造方法により一般式(1):
A method for producing a compound represented by or a salt thereof,
[3]:
General formula (1) by the production method described in [2] above:
で表される化合物を製造し、次いで酸による造塩処理に付すことからなる、一般式(1)で表される化合物の塩の製造方法、
[4]:
Rが置換又は無置換のアルコキシカルボニルである、前記[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法、
[5]:
Rがt-ブトキシカルボニルである、前記[4]に記載の製造方法、
[6]:
一般式(1)で表される化合物又はその塩が、{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノンの2.5臭化水素酸塩である前記[2]~[5]のいずれかに記載の製造方法、
[7]:
一般式(1)で表される化合物又はその塩が、{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノンの2.5臭化水素酸塩・水和物である前記[2]~[5]のいずれかに記載の製造方法、及び
[8]:
前記[2]~[7]のいずれかに記載の製造方法により製造された一般式(1)で表される化合物又はその塩と医薬上許容される添加剤とを混合することを含む、医薬組成物の製造方法である。
A method for producing a salt of a compound represented by general formula (1), which comprises producing a compound represented by and then subjecting it to a salt-forming treatment with an acid,
[4]:
The production method according to any one of the above [1] to [3], wherein R is a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl,
[5]:
The production method according to [4] above, wherein R is t-butoxycarbonyl,
[6]:
The compound represented by the general formula (1) or a salt thereof is {(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1-phenyl-1H-pyrazol-5-yl)piperazin-1-yl] The production method according to any one of the above [2] to [5], which is pyrrolidin-2-yl}(1,3-thiazolidin-3-yl)methanone 2.5 hydrobromide,
[7]:
The compound represented by the general formula (1) or a salt thereof is {(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1-phenyl-1H-pyrazol-5-yl)piperazin-1-yl] The production method according to any one of the above [2] to [5], which is pyrrolidin-2-yl}(1,3-thiazolidin-3-yl)methanone 2.5 hydrobromide hydrate, as well as
[8]:
A medicament comprising mixing a compound represented by general formula (1) or a salt thereof produced by the production method according to any one of the above [2] to [7] and a pharmaceutically acceptable additive. A method for producing a composition.
本発明によれば、アミド化試薬として毒性が比較的低く、安価な混合酸無水物形成剤であるピバロイルクロリド(200円/mol)を用い、塩基としてN,N-ジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)を用いることにより、医薬の合成中間体等として有用なプロリンアミド化合物又はその塩を、数百kgスケールの工業的規模においても、安価、安全且つ簡便に、しかも、高純度且つ高収率で製造することができる。また、本発明の製造方法により得られるプロリンアミド化合物又はその塩を用いることにより、糖尿病治療薬等として有用なテネリグリプチン又はその塩を工業的有利に効率的に製造することができる。 According to the present invention, pivaloyl chloride (200 yen/mol), which is an inexpensive mixed acid anhydride-forming agent with relatively low toxicity, is used as the amidation reagent, and N,N-diisopropylethylamine (DIPEA) is used as the base. By using, a prolinamide compound or a salt thereof, which is useful as an intermediate for the synthesis of pharmaceuticals, etc., can be produced inexpensively, safely and simply at a high purity and in a high yield even on an industrial scale of several hundred kg. can do. Moreover, by using the prolinamide compound or its salt obtained by the production method of the present invention, teneligliptin or its salt, which is useful as a therapeutic drug for diabetes, can be produced industrially advantageously and efficiently.
(定義) (definition)
本発明において、「アミノ基の保護基」とは、有機化学の技術分野において一般的に使用される、アミノ基をその高反応性から保護するための、水素原子に代わる置換基を表す
。代表的な「アミノ基の保護基」としては、例えば、Wiley-Interscience社2007年刊「Protective Groups in Organic Synthesis, 4th Ed.」(Theodora W. Greene, Peter G. M.
Wuts著)等に記載された基が挙げられる。Rで表されるアミノ基の保護基としては、反
応を妨げない保護基であればよく、かかるアミノ基の保護基としては、例えば、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル等)並びに置換アルコキシカルボニル基(ベンジルオキシカルボニル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル、9-フルオレニルメトキシカルボニル等)が好適に使用できる。Rとしては、これらのうち、アルコキシカルボニル基が好ましく、とりわけt-ブトキシカルボニルが好ましい。
In the present invention, the term "protecting group for amino group" refers to a substituent substituted for a hydrogen atom, which is generally used in the technical field of organic chemistry to protect an amino group from its high reactivity. Examples of representative "protective groups for amino groups" include, for example, Wiley-Interscience, 2007, "Protective Groups in Organic Synthesis, 4th Ed." (Theodora W. Greene, Peter GM
Wuts) and the like. The amino-protecting group represented by R may be any protecting group that does not interfere with the reaction, and examples of such amino-protecting groups include alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, etc.) and substituted alkoxycarbonyl groups (benzyloxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 9-fluorenylmethoxycarbonyl, etc.) can be preferably used. Of these, R is preferably an alkoxycarbonyl group, particularly preferably t-butoxycarbonyl.
一般式(4)で表される化合物のカルボン酸塩を形成する「カルボン酸」としては、置換されていてもよい直鎖状又は分岐鎖状の炭素数1~7(C1-7)のカルボン酸が挙げられる。具体的には、例えば、ギ酸、炭素数2~7(C2-7)のアルキルカルボン酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸又はイソ酪酸等)、炭素数2~7(C2-7)の置換されたアルキルカルボン酸(トリフルオロ酢酸等)が挙げられる。これらのうち、アルキルカルボン酸が好ましく、とりわけ酢酸が好ましい。 As the “carboxylic acid” forming the carboxylate of the compound represented by the general formula (4), an optionally substituted linear or branched chain having 1 to 7 carbon atoms (C 1-7 ) Carboxylic acids are mentioned. Specifically, for example, formic acid, alkylcarboxylic acids having 2 to 7 carbon atoms (C 2-7 ) (acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, etc.), substitutions having 2 to 7 carbon atoms (C 2-7 ) and alkyl carboxylic acids (such as trifluoroacetic acid). Among these, alkylcarboxylic acids are preferred, and acetic acid is particularly preferred.
本明細書に開示される化合物は、1又はそれ以上の不斉炭素を有する場合がある。その
場合、本明細書に開示される化合物は、単一のエナンチオマー、単一のジアステレオマー、エナンチオマーの混合物又はジアステレオマーの混合物として存在する場合がある。
本明細書に開示される化合物は、上記の異性体を生じさせる構造上の特徴を同時に複数含むことがある。また、本明細書に開示される化合物は、上記の異性体をあらゆる比率で含み得る。
The compounds disclosed herein may have one or more asymmetric carbon atoms. In that case, the compounds disclosed herein may exist as a single enantiomer, a single diastereomer, a mixture of enantiomers or a mixture of diastereomers.
The compounds disclosed herein may simultaneously contain more than one structural feature giving rise to the above isomers. The compounds disclosed herein may also contain the above isomers in any ratio.
ジアステレオマー混合物は、クロマトグラフィーや結晶化などの慣用されている方法によって、それぞれのジアステレオマーに分離することができる。また、立体化学的に単一である出発物質を用いることにより、又は立体選択的な反応を用いる合成方法によりそれぞれのジアステレオマーを作ることもできる。 Diastereomeric mixtures can be separated into their respective diastereomers by conventional methods such as chromatography and crystallization. The respective diastereomers can also be made by using stereochemically uniform starting materials or by synthetic methods employing stereoselective reactions.
エナンチオマーの混合物からのそれぞれの単一なエナンチオマーへの分離は、当分野でよく知られた方法で行うことができる。
例えば、エナンチオマーの混合物と、実質的に純粋なエナンチオマーであってキラル補助剤として知られている化合物を反応させて形成させたジアステレオマー混合物から、分別結晶化やクロマトグラフィーのような標準的な方法で、異性体比率を高めたもしくは実質的に純粋な単一のジアステレオマーを分離することができる。分離されたジアステレオマーを、付加されたキラル補助剤を除去することにより、目的のエナンチオマーに変換することができる。
Separation of individual single enantiomers from a mixture of enantiomers can be accomplished by methods well known in the art.
For example, diastereomeric mixtures formed by reacting a mixture of enantiomers with compounds known as substantially pure enantiomers and chiral auxiliaries can be purified using standard methods such as fractional crystallization or chromatography. The method can separate enriched or substantially pure single diastereomers. The separated diastereomers can be converted to the desired enantiomers by removing the attached chiral auxiliary.
また、当分野でよく知られた、キラル固定相を使用するクロマトグラフィー法によって、化合物のエナンチオマーの混合物を直接分離することもできる。 Mixtures of the compound's enantiomers can also be separated directly by chromatographic methods using chiral stationary phases, which are well known in the art.
あるいは、化合物のどちらか一方のエナンチオマーを、実質的に純粋な光学活性出発原料を用いることにより、又は、プロキラルな中間体に対しキラル補助剤や不斉触媒を用いた立体選択的合成(不斉誘導)を行うことによって得ることもできる。 Alternatively, either enantiomer of the compound may be synthesized by stereoselective synthesis (asymmetric induction).
絶対立体配置は結晶性の生成物又は中間体のX線結晶解析により決定することができる。その際、必要によっては立体配置が既知である不斉中心を持つ試薬で誘導化された結晶性の生成物又は中間体を用いてもよい。 The absolute configuration may be determined by X-ray crystallography of crystalline products or intermediates. In that case, if necessary, a crystalline product or intermediate derivatized with a reagent having an asymmetric center whose configuration is known may be used.
(本発明の製造方法)
以下、本発明の製造方法についてさらに詳細に説明する。
(Manufacturing method of the present invention)
The manufacturing method of the present invention will be described in more detail below.
原料化合物は、市販品として容易に入手できるか、以下に示す製造方法若しくは自体公知の方法(例えば、国際公開第2002/014271号(特許文献1)、国際公開第2012/165547号(特許文献3)及び国際公開第2015/019238号(特許文献4)参照)により製造することができるか、又はこれらに準ずる方法に従って製造することができる。 The raw material compounds are readily available as commercial products, or can be produced by the following production methods or methods known per se (e.g., International Publication No. 2002/014271 (Patent Document 1), International Publication No. 2012/165547 (Patent Document 3 ) and International Publication No. 2015/019238 (Patent Document 4)), or can be produced according to a method equivalent thereto.
以下の各反応で用いられる化合物は、反応に支障を来たさない範囲において、無機酸塩(例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩)、有機酸塩(例えば、酢酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、トルエンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩)、金属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、アルミニウム塩)、又は塩基との塩(例えば、エチルアミン塩、グアニジン塩、アンモニウム塩、ヒドラジン塩、キニーネ塩、シンコニン塩)を形成していてもよい。 The compounds used in the following reactions are inorganic acid salts (e.g., hydrochlorides, hydrobromides, sulfates, nitrates, phosphates), organic acid salts ( acetate, tartrate, citrate, fumarate, maleate, toluenesulfonate, methanesulfonate), metal salts (e.g. sodium, potassium, calcium, aluminum salts), or A salt with a base (eg, ethylamine salt, guanidine salt, ammonium salt, hydrazine salt, quinine salt, cinchonine salt) may be formed.
また、以下の各工程で得られた化合物は、反応混合物から単離せずに又は粗生成物として次の工程に用いられてもよい。あるいは、当該化合物は通常公知の方法に従って反応混合物から単離されてもよく、再結晶、蒸留、クロマトグラフィー等の通常の分離手段により容易に精製されてもよい。さらに、当該化合物は、通常公知の方法に従って、無機酸塩、有機酸塩、金属塩、又は塩基との塩として単離されてもよい。 In addition, the compound obtained in each step below may be used in the next step without isolation from the reaction mixture or as a crude product. Alternatively, the compound may be isolated from the reaction mixture according to commonly known methods, and may be easily purified by conventional separation means such as recrystallization, distillation, chromatography and the like. Furthermore, the compound may be isolated as an inorganic acid salt, an organic acid salt, a metal salt, or a salt with a base according to generally known methods.
本発明に用いられる化合物及び得られた化合物、又はそれらの塩は、それらの溶媒和物、又は水和物を含むものである。 The compounds used in the present invention, the compounds obtained, or salts thereof include solvates or hydrates thereof.
(工程1) (Step 1)
(式中のRは、前記と同義である。) (R in the formula is as defined above.)
本工程は、自体公知の方法(例えば、国際公開第2002/014271号(特許文献1)、国際公開第2015/019238号(特許文献4)等)又はそれに準ずる方法に従って製造される一般式(3)で表される化合物又はその塩とチアゾリジンとを、N,N-ジイソプロピルエチアミン(DIPEA)の存在下、ピバロイルクロリドを用いて、混合酸無水物を経る縮合反応(アミド化反応)により、一般式(2)で表される化合物又はその塩を製造する工程である。本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行なうことができる。
チアゾリジンの使用量は、一般式(3)で表される化合物1モルに対して通常1.0~1.2モル、好ましくは、1.0モルである。
ピバロイルクロリドの使用量は、一般式(3)で表される化合物1モルに対して通常1.0~1.2モル、好ましくは、1.0モルである。
DIPEAの使用量は、一般式(3)で表される化合物1モルに対して通常1.0~1.2モル、好ましくは、1.0モルである。
This step is a method known per se (e.g., WO 2002/014271 (Patent Document 1), WO 2015/019238 (Patent Document 4), etc.) or a method according to the general formula (3 ) of a compound represented by or a salt thereof and thiazolidine in the presence of N,N-diisopropylethylamine (DIPEA), using pivaloyl chloride, through a condensation reaction (amidation reaction) via a mixed acid anhydride. , a step of producing a compound represented by the general formula (2) or a salt thereof. This step can be performed in a solvent that does not affect the reaction.
The amount of thiazolidine to be used is generally 1.0 to 1.2 mol, preferably 1.0 mol, per 1 mol of the compound represented by formula (3).
The amount of pivaloyl chloride to be used is generally 1.0 to 1.2 mol, preferably 1.0 mol, per 1 mol of the compound represented by formula (3).
The amount of DIPEA to be used is generally 1.0 to 1.2 mol, preferably 1.0 mol, per 1 mol of the compound represented by formula (3).
本反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行なうことが好ましい。反応溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(以下、THFと略称する。)、1,2-ジメトキシエタン、メチルエチルケトン、アセトン、アセトニトリル、N-メチルピロリドン、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、これらの混合溶媒等を使用することができ、好ましくは、酢酸エチルを使用することができる。 This reaction is preferably carried out in a solvent that does not affect the reaction. Examples of reaction solvents include ethyl acetate, isopropyl acetate, diethyl ether, tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF), 1,2-dimethoxyethane, methyl ethyl ketone, acetone, acetonitrile, N-methylpyrrolidone, dichloromethane, chloroform, and toluene. , a mixed solvent thereof, etc., preferably ethyl acetate.
反応温度としては、通常、-10℃~30℃から任意に選択することができ、好ましくは、-10℃~10℃である。
反応時間は、通常、10分~6時間程度であり、好ましくは、30分~2時間である。
The reaction temperature can generally be arbitrarily selected from -10°C to 30°C, preferably -10°C to 10°C.
The reaction time is usually about 10 minutes to 6 hours, preferably 30 minutes to 2 hours.
本反応の後処理方法としては、特に限定されないが、一般式(2)で表される化合物又はその塩の工業的製法(大量合成)においては、例えば、以下のような晶析による後処理方法を好適に使用することができる。
すなわち、前記縮合反応の反応混合液に水を添加して反応を停止させ、反応溶媒で抽出後、有機層を一部濃縮し、そこへ貧溶媒を加え、混合物を撹拌することにより晶析させて、当該結晶をろ取することにより、一般式(2)で表される化合物又はその塩を得ることができる。また、必要に応じて、貧溶媒の添加前に極性プロトン性溶媒を少量添加したり、晶析の際に冷却下で行うことも可能である。かかる後処理方法は、工業的スケールの仕込み量(数百kgスケール)であっても適用可能であり、これにより一般式(2)で表される化合物又はその塩を高純度、且つ高収率で得ることができる。
上記後処理方法に使用する極性プロトン性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール等のアルコール類が挙げられ、好ましくは、2-プロパノールである。
上記後処理方法に使用する貧溶媒としては、例えば、n-ヘキサン、n-ヘプタン、トルエン等の非極性非プロトン性溶媒が挙げられ、好ましくは、n-ヘプタンである。
貧溶媒を加える時の温度(加温条件)は、使用する溶媒の種類により変化し得るが、通常、40℃~80℃であり、好ましくは、40℃~50℃である。
結晶を析出させる時の温度(冷却条件)は、通常、10℃以下であり、好ましくは、0℃以下であり、より好ましくは、-5℃以下である。
The post-treatment method for this reaction is not particularly limited. can be preferably used.
That is, water is added to the reaction mixture of the condensation reaction to stop the reaction, and after extraction with the reaction solvent, the organic layer is partially concentrated, a poor solvent is added thereto, and the mixture is stirred to crystallize. The compound represented by the general formula (2) or a salt thereof can be obtained by filtrating the crystals. If necessary, a small amount of a polar protic solvent may be added before the addition of the poor solvent, or the crystallization may be carried out under cooling. Such a post-treatment method can be applied even with an industrial-scale charge (several hundred kg scale), whereby the compound represented by the general formula (2) or a salt thereof can be obtained with high purity and high yield. can be obtained with
The polar protic solvent used in the post-treatment method includes, for example, alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and butanol, preferably 2-propanol.
Examples of the poor solvent used in the post-treatment method include non-polar aprotic solvents such as n-hexane, n-heptane and toluene, preferably n-heptane.
The temperature (heating condition) at which the poor solvent is added may vary depending on the type of solvent used, but is usually 40°C to 80°C, preferably 40°C to 50°C.
The temperature (cooling condition) for precipitating crystals is usually 10° C. or lower, preferably 0° C. or lower, and more preferably -5° C. or lower.
(工程2)~(工程4) (Step 2) to (Step 4)
(式中のRは前記と同義である) (R in the formula is as defined above)
前記工程1で得られる一般式(2)で表される化合物又はその塩は、適宜、自体公知の方法又はそれらを組み合わせることにより、一般式(1)で表される化合物(テネリグリプチン)又はその塩に変換することができる。
具体的には、前記工程1で得られる一般式(2)で表される化合物又はその塩を、自体公知の方法(例えば、国際公開第2012/165547号(特許文献3)の実施例2参照)又はそれに準ずる方法に従って製造される一般式(4)で表される化合物のカルボン酸塩との還元的アミノ化反応に付すことにより、一般式(5)で表される化合物又はその塩を製造し(工程2)、次いで一般式(5)で表される化合物又はその塩のアミノ基の保護基Rを除去して一般式(1)で表される化合物を製造することができる(工程3)。さらに所望によりこれを酸による造塩処理に付すことにより、その塩(酸付加塩)に変換することができる。以下に、(工程2)~(工程4)について説明する。
The compound represented by the general formula (2) obtained in the step 1 or a salt thereof is obtained by a method known per se or a combination thereof, to obtain the compound represented by the general formula (1) (teneligliptin) or a salt thereof. can be converted to
Specifically, the compound represented by the general formula (2) obtained in the step 1 or a salt thereof is prepared by a method known per se (for example, see Example 2 of International Publication No. 2012/165547 (Patent Document 3) ) or by subjecting the compound represented by the general formula (4) to a reductive amination reaction with a carboxylate of the compound represented by the general formula (4) produced according to a method equivalent thereto to produce the compound represented by the general formula (5) or a salt thereof (Step 2), and then removing the protecting group R for the amino group of the compound represented by the general formula (5) or a salt thereof to produce the compound represented by the general formula (1) (Step 3 ). Further, if desired, it can be converted to its salt (acid addition salt) by subjecting it to a salt forming treatment with an acid. (Step 2) to (Step 4) will be described below.
(工程2) (Step 2)
一般式(4)で表される化合物のカルボン酸塩の存在下での一般式(2)で表される化合物の還元的アミノ化反応としては、通常、公知の方法を使用しうる。具体的には、適当な溶媒中、一般式(4)で表される化合物のカルボン酸塩、一般式(2)で表される化合物及び還元剤を反応させることにより行なうことができる。 As the reductive amination reaction of the compound represented by the general formula (2) in the presence of the carboxylate of the compound represented by the general formula (4), generally known methods can be used. Specifically, it can be carried out by reacting the carboxylate of the compound represented by general formula (4), the compound represented by general formula (2) and a reducing agent in a suitable solvent.
還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド、ジメチルアミンボラン、トリエチルアミンボラン、トリメチルアミンボラン、t-ブチルアミンボラン、N,N-ジエチルアニリンボラン又は2-ピコリンボランが挙げられ、好ましくは、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリドが挙げられる。
還元剤の使用量は、一般式(2)で表される化合物1モルに対して通常1.0~2.0モル、好ましくは、1.1~1.5モルである。
一般式(4)で表される化合物のカルボン酸塩の使用量は、一般式(2)で表される化合物1モルに対して通常0.9~1.1モル、好ましくは、1.0モルである。
Examples of the reducing agent include sodium borohydride, sodium triacetoxyborohydride, dimethylamine borane, triethylamine borane, trimethylamine borane, t-butylamine borane, N,N-diethylaniline borane and 2-picoline borane, preferably includes sodium triacetoxyborohydride.
The amount of the reducing agent to be used is generally 1.0-2.0 mol, preferably 1.1-1.5 mol, per 1 mol of the compound represented by formula (2).
The amount of the carboxylic acid salt of the compound represented by the general formula (4) to be used is usually 0.9 to 1.1 mol, preferably 1.0 mol, per 1 mol of the compound represented by the general formula (2). Mole.
反応溶媒としては、反応に影響を及ぼさない溶媒であれば、特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、メタノール、エタノール、2-プロパノール、THF、アセトニトリル、トルエン若しくはジメチルホルムアミド、又はこれらの混合溶媒を使用することができ、好ましくは、トルエンを使用することができる。 The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. For example, dichloromethane, methanol, ethanol, 2-propanol, THF, acetonitrile, toluene or dimethylformamide, or a mixed solvent thereof is used. preferably toluene can be used.
反応温度は、通常、-20~100℃から任意に選択することができ、反応時間は、通常、10分~1日程度である。 The reaction temperature can usually be arbitrarily selected from −20 to 100° C., and the reaction time is usually about 10 minutes to 1 day.
(工程3) (Step 3)
前記工程2で得られる一般式(5)で表される化合物又はその塩のアミノ基の保護基Rを除去する方法としては、用いられた保護基に応じて適した公知の方法を適宜使用しうる。 As a method for removing the amino-protecting group R of the compound represented by the general formula (5) obtained in step 2 or a salt thereof, a known method suitable for the protecting group used is appropriately used. sell.
具体的には、例えば、保護基Rとしてt-ブトキシカルボニルが用いられている場合は、適当な溶媒中又は無溶媒で、酸と反応させて脱保護を行うことができる。酸としては、トリフルオロ酢酸、塩化水素、臭化水素又は硫酸等が挙げられ、好ましくは、臭化水素が挙げられる。当該酸の濃度は反応混合物に対し0.01~10mol/L、好ましくは、0.1~4mol/Lである。 Specifically, for example, when t-butoxycarbonyl is used as the protecting group R, deprotection can be carried out by reacting with an acid in a suitable solvent or without solvent. Examples of the acid include trifluoroacetic acid, hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, and the like, preferably hydrogen bromide. The concentration of the acid is 0.01-10 mol/L, preferably 0.1-4 mol/L, relative to the reaction mixture.
本反応は、適当な反応溶媒中で行なうことが好ましい。反応溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、2-プロパノール、THF、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、トルエン若しくは水、又はこれらの混合溶媒を使用することができ、好ましくは、2-プロパノール及び水の混合溶媒を使用することができる。 This reaction is preferably carried out in a suitable reaction solvent. As the reaction solvent, for example, dichloromethane, chloroform, methanol, ethanol, 2-propanol, THF, 1,4-dioxane, acetonitrile, toluene or water, or a mixed solvent thereof can be used, preferably 2- A mixed solvent of propanol and water can be used.
反応温度は、通常、0~100℃から任意に選択することができ、反応時間は、通常、10分~2日程度である。 The reaction temperature can usually be arbitrarily selected from 0 to 100° C., and the reaction time is usually about 10 minutes to 2 days.
保護基Rとしてメトキシカルボニル、エトキシカルボニル又はn-プロポキシカルボニル等が用いられている場合は、適当な溶媒中又は無溶媒で、塩基と反応させて脱保護を行うことができる。塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等が挙げられ、好ましくは、水酸化カリウムが挙げられる。当該塩基の濃度は反応混合物に対し、0.1~100mol/L、好ましくは、1~10mol/Lである。 When methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, or the like is used as the protecting group R, deprotection can be carried out by reacting with a base in a suitable solvent or without solvent. Examples of the base include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like, preferably potassium hydroxide. The concentration of the base is 0.1-100 mol/L, preferably 1-10 mol/L, relative to the reaction mixture.
本反応は、適当な反応溶媒中で行なうことが好ましい。反応溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2-プロパノール、THF、アセトニトリル若しくは水、又はこれらの混合溶媒を使用することができ、好ましくは、メタノール及び水の混合溶媒を使用することができる。 This reaction is preferably carried out in a suitable reaction solvent. As the reaction solvent, for example, methanol, ethanol, 2-propanol, THF, acetonitrile, water, or a mixed solvent thereof can be used, preferably a mixed solvent of methanol and water.
反応温度は、通常、0~100℃から任意に選択することができ、反応時間は、通常、10分~2日程度である。 The reaction temperature can usually be arbitrarily selected from 0 to 100° C., and the reaction time is usually about 10 minutes to 2 days.
保護基Rとして、ベンジルオキシカルボニルが用いられている場合は、適当な溶媒中、水素雰囲気下で、パラジウム炭素触媒又は水酸化パラジウム炭素触媒の存在下で脱保護を行なうことができる。 When benzyloxycarbonyl is used as the protecting group R, deprotection can be carried out in the presence of a palladium-carbon catalyst or a palladium hydroxide-carbon catalyst in a suitable solvent under a hydrogen atmosphere.
保護基Rとして、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニルが用いられている場合は、適当な溶媒中で亜鉛粉末と反応させることで脱保護を行なうことができる。 When 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl is used as the protecting group R, it can be deprotected by reacting it with zinc powder in an appropriate solvent.
保護基Rとして、9-フルオレニルメトキシカルボニルが用いられている場合は、適当な溶媒中又は無溶媒で、ピロリジン、ピペリジン又はモルホリンと反応させることで脱保護を行なうことができる。 When 9-fluorenylmethoxycarbonyl is used as the protecting group R, it can be deprotected by reacting it with pyrrolidine, piperidine or morpholine in a suitable solvent or without solvent.
(工程4) (Step 4)
前記工程3で得られる一般式(1)で表される化合物の酸による造塩処理は、通常公知の方法に従って対応する酸と処理することで行うことができる。例えば、一般式(1)で表される化合物と酸を、適当な溶媒中、造塩処理させることにより行なうことができる。 Salt formation treatment with an acid of the compound represented by the general formula (1) obtained in the step 3 can be carried out by treating with a corresponding acid according to a generally known method. For example, it can be carried out by subjecting the compound represented by the general formula (1) and an acid to a salt-forming treatment in a suitable solvent.
酸としては、例えば、塩化水素、臭化水素若しくは硝酸等の無機酸、又は、p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ベシル酸、ナフタレン-1-スルホン酸、ナフタレン-2-スルホン酸、没食子酸若しくはカンファースルホン酸等の有機酸が挙げられ、好ましくは、臭化水素である。具体的には、一般式(1)で表される化合物1モルに対して、1~10モル、好ましくは、2~5モルの酸を反応させることで、一般式(1)で表される化合物の塩を製造することができる。 Examples of acids include inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, and nitric acid, or p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, besylic acid, naphthalene-1-sulfonic acid, naphthalene-2-sulfonic acid, and gallic acid. Alternatively, an organic acid such as camphorsulfonic acid may be mentioned, preferably hydrogen bromide. Specifically, with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (1), 1 to 10 mol, preferably 2 to 5 mol of acid is reacted to obtain the compound represented by the general formula (1). Salts of compounds can be prepared.
反応溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、2-プロパノール、THF、アセトニトリル、トルエン若しくは水、又はこれらの混合
溶媒を使用することができ、好ましくは、2-プロパノール及び水の混合溶媒を使用することができる。
As the reaction solvent, for example, dichloromethane, chloroform, methanol, ethanol, 2-propanol, THF, acetonitrile, toluene or water, or a mixed solvent thereof can be used, preferably a mixed solvent of 2-propanol and water. can be used.
反応温度は、通常、0~100℃から任意に選択することができ、反応時間は、通常、10分~2日程度である。 The reaction temperature can usually be arbitrarily selected from 0 to 100° C., and the reaction time is usually about 10 minutes to 2 days.
一般式(1)で表される化合物の酸との塩を製造する場合においては、一般式(5)で表される化合物又はその塩のアミノ基の保護基Rとしてt-ブトキシカルボニル等の酸で除去できる保護基を用いると、保護基Rの除去反応と次の造塩処理とを同時に行うことができるので、より好ましい。 In the case of producing a salt of the compound represented by the general formula (1) with an acid, an acid such as t-butoxycarbonyl as the amino-protecting group R of the compound represented by the general formula (5) or a salt thereof It is more preferable to use a protecting group that can be removed by using R because the removal reaction of the protecting group R and the subsequent salt formation treatment can be carried out at the same time.
本発明の製造方法により好適に製造される化合物としては、テネリグリプチン(すなわち、{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノン)、又はその塩が挙げられる。 Compounds preferably produced by the production method of the present invention include teneligliptin (that is, {(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1-phenyl-1H-pyrazol-5-yl)piperazine- 1-yl]pyrrolidin-2-yl}(1,3-thiazolidin-3-yl)methanone), or salts thereof.
かかる化合物として、より詳細には、例えば、{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノンの2.5臭化水素酸塩が挙げられる。さらに詳細には、{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノンの2.5臭化水素酸塩の1~2水和物が挙げられる。 More specifically, such compounds include {(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1-phenyl-1H-pyrazol-5-yl)piperazin-1-yl]pyrrolidine-2- yl}(1,3-thiazolidin-3-yl)methanone 2.5 hydrobromide. More particularly {(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1-phenyl-1H-pyrazol-5-yl)piperazin-1-yl]pyrrolidin-2-yl}(1,3 -thiazolidin-3-yl)methanone 2.5 hydrobromide mono- or dihydrates.
本発明の製造方法の具体的な特徴として、以下が挙げられる。
(A)アミド化試薬として毒性が比較的低く且つ安価な混合酸無水物形成剤であるピバロイルクロリドを用いるので、従来法と比較して、安全且つ経済的な製造方法を提供することができる。
(B)塩基としてDIPEAを用いることにより、他の有機塩基(例、トリエチルアミン)を用いた場合とは異なり難溶性の塩の析出量が減り、撹拌効率が向上するため、反応溶媒の使用量を低減することができる(すなわち、1ロット当たりの仕込み量を増加させることができる)。
(C)原料基質である一般式(3)で表される化合物に対して、過剰量のチアゾリジン、アミド化試薬、及び塩基を用いることなく、等モルずつ用いるだけで反応が収率良く進行するため、類縁物質の生成が抑えられ、且つ過剰量の試薬の除去等の余分な精製操作が不要となり、実験操作や後処理も簡便に行うことができる。
(D)反応条件(反応温度:-10℃~10℃)も緩和であり、スケールアップ(数百kgスケール)にも耐え得ることから、特定のプロリンアミド化合物又はその塩(すなわち、一般式(2)で表される化合物又はその塩)、及びそれを用いるテネリグリプチン又はその塩の工業的製造方法として適している。
Specific features of the manufacturing method of the present invention include the following.
(A) Since pivaloyl chloride, which is a relatively low toxicity and inexpensive mixed acid anhydride forming agent, is used as an amidation reagent, it is possible to provide a safer and more economical production method than conventional methods. can.
(B) By using DIPEA as a base, unlike the case of using other organic bases (e.g., triethylamine), the amount of sparingly soluble salts precipitated is reduced, and the stirring efficiency is improved. can be reduced (ie, the charge per lot can be increased).
(C) The reaction proceeds with good yield by using equimolar amounts of the compound represented by the general formula (3), which is the raw material substrate, without using excessive amounts of thiazolidine, amidation reagent, and base. Therefore, the production of analogues is suppressed, extra purification procedures such as removal of excess reagents are not required, and experimental procedures and post-treatments can be easily performed.
(D) The reaction conditions (reaction temperature: −10° C. to 10° C.) are moderate and can withstand scale-up (several hundred kg scale). 2) or a salt thereof) and a method for industrially producing teneligliptin or a salt thereof using the same.
本発明の製造方法により製造された一般式(1)で表される化合物又はその塩(例、テネリグリプチン又はその塩)を含有する医薬組成物は、少なくとも1種以上の医薬上許容される添加剤等と、適宜、適量混合等することによって、製造される。 A pharmaceutical composition containing a compound represented by general formula (1) or a salt thereof (e.g., teneligliptin or a salt thereof) produced by the production method of the present invention contains at least one pharmaceutically acceptable additive etc., and the like, as appropriate, by mixing an appropriate amount.
医薬組成物中の一般式(1)で表される化合物又はその塩の含有率は、特段制限されないが、通常、該医薬組成物全体の30ないし80重量%、好ましくは45ないし55重量%である。 The content of the compound represented by general formula (1) or a salt thereof in the pharmaceutical composition is not particularly limited, but is usually 30 to 80% by weight, preferably 45 to 55% by weight of the entire pharmaceutical composition. be.
医薬上許容される添加剤としては、製剤素材として慣用の各種有機又は無機担体物質が
挙げられ、例えば、賦形剤、滑沢剤、結合剤、流動化剤、崩壊剤、溶解補助剤等が挙げられる。好ましくは、賦形剤、結合剤、流動化剤、崩壊剤であり、より好ましくは賦形剤である。
Examples of pharmaceutically acceptable additives include various organic or inorganic carrier substances commonly used as pharmaceutical materials, such as excipients, lubricants, binders, fluidizers, disintegrants, solubilizers, and the like. mentioned. Excipients, binders, fluidizers and disintegrants are preferred, and excipients are more preferred.
賦形剤の好適な例としては、D-マンニトール、ソルビトール、キシリトール、トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、乳糖、結晶セルロース、リン酸水素カルシウム等が挙げられ、好ましくは、D-マンニトール、キシリトール、トウモロコシデンプンである。
滑沢剤の好適な例としては、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、ステアリン酸、ショ糖脂肪酸エステル等が挙げられる。
結合剤の好適な例としては、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポビドン、ヒプロメロース、カルメロースナトリウム、メチルセルロース等が挙げられる。
流動化剤の好適な例としては、軽質無水ケイ酸、含水二酸化ケイ素、タルク等が挙げられる。
崩壊剤の好適な例としては、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルスターチナトリウム、カルメロースカルシウム、クロスポビドン等が挙げられる。
溶解補助剤の好適な例としては、安息香酸ナトリウム、エチレンジアミン、ヨウ化カリウム等が挙げられる。
Suitable examples of excipients include D-mannitol, sorbitol, xylitol, corn starch, potato starch, lactose, crystalline cellulose, calcium hydrogen phosphate and the like, preferably D-mannitol, xylitol and corn starch. be.
Suitable examples of lubricants include magnesium stearate, calcium stearate, talc, stearic acid, sucrose fatty acid esters, and the like.
Suitable examples of binders include hydroxypropylcellulose, polyvinyl alcohol, povidone, hypromellose, carmellose sodium, methylcellulose and the like.
Preferable fluidizing agents include light anhydrous silicic acid, hydrous silicon dioxide, talc and the like.
Preferable examples of disintegrants include low-substituted hydroxypropylcellulose, carboxymethyl starch sodium, carmellose calcium, crospovidone and the like.
Suitable examples of solubilizing agents include sodium benzoate, ethylenediamine, potassium iodide and the like.
本発明の製造方法により製造された一般式(1)で表される化合物又はその塩を含有する医薬組成物は、通常、固体であり、その形状は、特段限定されず、粒状、顆粒状ないし塊状のいずれであってもよい。 A pharmaceutical composition containing the compound represented by the general formula (1) or a salt thereof produced by the production method of the present invention is usually solid, and its shape is not particularly limited, and is granular, granular or It may be in any lump form.
本明細書中、略号、「Me」はメチル基、「Ph」はフェニル基、「Ac」はアセチル基、「t-Bu」は第三級ブチル基、「EDC」は1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、「HOBt」は1-ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物、「NMM」はN-メチルモルホリン、「TEA」はトリエチルアミン、「DMAP」は4-ジメチルアミノピリジン、「CDI」はN,N’-カルボニルジイミダゾール、「EEDQ」は1-エトキシカルボニル-2-エトキシ-1,2-ジヒドロキノリン、及び「DMC」は1,3-ジメチル-2-クロロイミダゾリニウムクロリドを各々表す。 In this specification, abbreviations, "Me" is a methyl group, "Ph" is a phenyl group, "Ac" is an acetyl group, "t-Bu" is a tertiary butyl group, "EDC" is 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, "HOBt" for 1-hydroxybenzotriazole hydrate, "NMM" for N-methylmorpholine, "TEA" for triethylamine, "DMAP" for 4-dimethylaminopyridine, " CDI" for N,N'-carbonyldiimidazole, "EEDQ" for 1-ethoxycarbonyl-2-ethoxy-1,2-dihydroquinoline, and "DMC" for 1,3-dimethyl-2-chloroimidazolinium chloride respectively.
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例中、「w%」とは、重量%を表し、「室温」とは、特記しない限り、15~30℃の温度を表す。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these. In the examples, "w %" represents weight %, and "room temperature" represents a temperature of 15 to 30°C unless otherwise specified.
実施例1
3-[(2S)-1-t-ブトキシカルボニル-4-オキソピロリジン-2-イルカルボニル]チアゾリジン(化合物2a)の製造
Example 1
Preparation of 3-[(2S)-1-t-butoxycarbonyl-4-oxopyrrolidin-2-ylcarbonyl]thiazolidine (compound 2a)
(2S)-1-t-ブトキシカルボニル-4-オキソピロリジン-2-カルボン酸(化合物3a)(250.0kg)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)(141kg)の酢酸エチル(2242.5kg)溶液に、ピバロイルクロリド(131.5kg)を10℃以下で加えた後、反応混合物を10℃以下で30分間撹拌した。この反応混合物にチアゾリジン(97.2kg)を10℃以下で加えた後、反応混合物を0~10℃で1時間撹拌した。この反応混合物に、水(500.0kg)を加え分液し、酢酸エチル層をリン酸水素二アンモニウム水溶液(リン酸水素アンモニウム144.0kgと水(750.0kg)より調製)と食塩水(食塩(75.0kg)と水(425.0kg)より調製)で順次洗浄した。酢酸エチル層を濃縮し、残量を1250Lにした後、2-プロパノール(976.3kg)を加えた後に再び濃縮し、残量を1000Lにした後、n-ヘプタン(1368kg)を40~45℃で添加し、混合物を-5℃以下で1時間撹拌した。析出した結晶を濾取し、n-ヘプタン(684.0kg)で洗浄した。得られた結晶に2-プロパノール(429.6kg)を加えた後、n-ヘプタン(1521.9kg)を40~45℃で添加し、混合物を-5℃以下で1時間撹拌した。析出した結晶を濾取し、n-ヘプタン(769.8kg)で洗浄した後、減圧乾燥することにより、3-[(2S)-1-t-ブトキシカルボニル-4-オキソピロリジン-2-イルカルボニル]チアゾリジン(化合物2a)を283.1kg得た。(収率86%)
1H-NMR(500MHz,DMSO-d6)δ1.36,1.40(9H,s),2.36-2.45(1H,m),2.97-3.12(3H,m),3.62-3.71(2H,m),3.74-3.94(2H,m),4.33-4.80(2H,m),4.91-5.04(1H,m).
(2S)-1-t-butoxycarbonyl-4-oxopyrrolidine-2-carboxylic acid (compound 3a) (250.0 kg), N,N-diisopropylethylamine (DIPEA) (141 kg) in ethyl acetate (2242.5 kg) After pivaloyl chloride (131.5 kg) was added to the solution at below 10°C, the reaction mixture was stirred at below 10°C for 30 minutes. Thiazolidine (97.2 kg) was added to the reaction mixture at below 10°C, and the reaction mixture was stirred at 0-10°C for 1 hour. Water (500.0 kg) was added to the reaction mixture and the layers were separated, and the ethyl acetate layer was separated from an aqueous diammonium hydrogen phosphate solution (prepared from 144.0 kg of ammonium hydrogen phosphate and water (750.0 kg)) and brine (salt (75.0 kg) and water (425.0 kg)). After concentrating the ethyl acetate layer to a residual amount of 1250 L, 2-propanol (976.3 kg) was added and concentrated again to a residual amount of 1000 L. Then, n-heptane (1368 kg) was added to 40 to 45°C. was added and the mixture was stirred below -5°C for 1 hour. Precipitated crystals were collected by filtration and washed with n-heptane (684.0 kg). After adding 2-propanol (429.6 kg) to the obtained crystals, n-heptane (1521.9 kg) was added at 40-45°C, and the mixture was stirred at -5°C or lower for 1 hour. The precipitated crystals are collected by filtration, washed with n-heptane (769.8 kg), and dried under reduced pressure to give 3-[(2S)-1-t-butoxycarbonyl-4-oxopyrrolidin-2-ylcarbonyl. ] 283.1 kg of thiazolidine (compound 2a) was obtained. (Yield 86%)
1 H-NMR (500 MHz, DMSO-d 6 ) δ 1.36, 1.40 (9H, s), 2.36-2.45 (1H, m), 2.97-3.12 (3H, m) , 3.62-3.71 (2H, m), 3.74-3.94 (2H, m), 4.33-4.80 (2H, m), 4.91-5.04 (1H, m).
実施例2
{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノンの2.5臭化水素酸塩の1~2水和物(化合物1a)の製造
Example 2
{(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1-phenyl-1H-pyrazol-5-yl)piperazin-1-yl]pyrrolidin-2-yl}(1,3-thiazolidine-3- yl)methanone 2.5 hydrobromide mono-dihydrate preparation (compound 1a)
(式中、Yは1~2を示す) (In the formula, Y represents 1 to 2)
3-メチル-1-フェニル-5-(1-ピペラジニル)ピラゾールの酢酸塩(化合物4a)(25.2kg)、3-[(2S)-1-t-ブトキシカルボニル-4-オキソピロリジン-2-イルカルボニル]チアゾリジン(化合物2a)(25.0kg)にトルエン(425L)を加え、更にナトリウムトリアセトキシボロヒドリド(23.0kg)のト
ルエン(75L)スラリーを8℃で加えた後、20~28℃で3時間撹拌した。この反応混合物に、水(150L)を加え、分液した。得られたトルエン層を5w%重曹水(158kg)、水(150L)の順で洗浄後、減圧濃縮、乾固し、得られた残渣に2-プロパノール(125L)を加えて再度減圧濃縮、乾固した。この残渣に2-プロパノール(375L)を加え、昇温し、48w%臭化水素酸(42.14kg)を75~77℃で滴下後、2.5時間還流した。反応混合物を冷却し、反応混合物をサンプリングして作成した種晶を58℃で接種後、58℃で1時間、次いで33~40℃で1時間、更に17~25℃で1時間晶析し、一夜静置した。析出した結晶を濾取し、2-プロパノール(50L)で結晶を洗浄した。得られた結晶を18時間温風乾燥(40~47℃)し、{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノンの臭化水素酸塩(50.0kg)を粗生成物として得た。
Acetate salt of 3-methyl-1-phenyl-5-(1-piperazinyl)pyrazole (compound 4a) (25.2 kg), 3-[(2S)-1-t-butoxycarbonyl-4-oxopyrrolidine-2- Toluene (425 L) was added to ylcarbonyl]thiazolidine (compound 2a) (25.0 kg), and a slurry of sodium triacetoxyborohydride (23.0 kg) in toluene (75 L) was added at 8°C, followed by addition at 20 to 28°C. and stirred for 3 hours. Water (150 L) was added to the reaction mixture and the layers were separated. The obtained toluene layer was washed with 5w% aqueous sodium bicarbonate solution (158 kg) and water (150 L) in that order, concentrated under reduced pressure and dried to dryness. Hardened. 2-Propanol (375 L) was added to this residue, the temperature was raised, 48 w% hydrobromic acid (42.14 kg) was added dropwise at 75 to 77°C, and the mixture was refluxed for 2.5 hours. The reaction mixture is cooled, seed crystals prepared by sampling the reaction mixture are inoculated at 58° C., crystallized at 58° C. for 1 hour, then at 33 to 40° C. for 1 hour, and further at 17 to 25° C. for 1 hour, Let stand overnight. Precipitated crystals were collected by filtration and washed with 2-propanol (50 L). The obtained crystals are dried with warm air (40 to 47° C.) for 18 hours to give {(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1-phenyl-1H-pyrazol-5-yl)piperazine-1 -yl]pyrrolidin-2-yl}(1,3-thiazolidin-3-yl)methanone hydrobromide (50.0 kg) was obtained as a crude product.
当該粗生成物(24.0kg)にエタノール(144L)を加え、加熱溶解(73℃)後、熱時濾過し、エタノール(24L)で洗浄した。この濾液及び洗液を合わせ、67℃で水(3.4L)を加えた後、49~55℃で2時間、次いで19~25℃で1時間晶析した。析出した結晶を濾取し、エタノール(24L)で洗浄した。得られた結晶を45℃で19時間減圧乾燥した後、50℃で18時間温風乾燥することにより、精製物として、{(2S,4S)-4-[4-(3-メチル-1-フェニル-1H-ピラゾール-5-イル)ピペラジン-1-イル]ピロリジン-2-イル}(1,3-チアゾリジン-3-イル)メタノンの2.5臭化水素酸塩の1~2水和物(化合物1a)を20.9kg得た。(収率79%、収率は2水和物とみなして計算した値)
1H-NMR(400MHz,C5D5N)δ2.02-2.14(1H,m),2.33(3H,m),2.46-2.56(4H,m),2.87(4H,m),2.91-3.12(3H,m),3.45-3.51(1H,m),3.63-3.67(1H,m),3.80-3.90(1.4H,m),4.08(0.6H,m),4.11-4.16(1H,m),4.68(0.6H,d,J=10.1Hz),4.72(0.6H,d,J=10.1Hz),4.80(0.4H,d,J=8.8Hz),4.96(0.4H,d,J=8.8Hz),5.42(0.6H,dd,J=8.8,8.8Hz),5.52(0.4H,dd,J=8.8,8.8Hz),5.76(0.4H,s),5.77(0.6H,s),7.32(1H,t,J=7.8Hz),7.53(2H
,dd,J=8.8,7.8Hz),8.07(2H,d=8.8Hz).
Ethanol (144 L) was added to the crude product (24.0 kg), dissolved by heating (73° C.), filtered while hot, and washed with ethanol (24 L). The filtrate and washings were combined, water (3.4 L) was added at 67°C, and the mixture was crystallized at 49-55°C for 2 hours and then at 19-25°C for 1 hour. Precipitated crystals were collected by filtration and washed with ethanol (24 L). The obtained crystals were dried under reduced pressure at 45° C. for 19 hours and then dried with warm air at 50° C. for 18 hours to give a purified product of {(2S,4S)-4-[4-(3-methyl-1- Phenyl-1H-pyrazol-5-yl)piperazin-1-yl]pyrrolidin-2-yl}(1,3-thiazolidin-3-yl)methanone 2.5 hydrobromide mono- or dihydrate 20.9 kg of (compound 1a) was obtained. (Yield 79%, yield calculated assuming dihydrate)
1 H-NMR (400 MHz, C 5 D 5 N) δ 2.02-2.14 (1 H, m), 2.33 (3 H, m), 2.46-2.56 (4 H, m), 2. 87 (4H, m), 2.91-3.12 (3H, m), 3.45-3.51 (1H, m), 3.63-3.67 (1H, m), 3.80- 3.90 (1.4H, m), 4.08 (0.6H, m), 4.11-4.16 (1H, m), 4.68 (0.6H, d, J=10.1Hz ), 4.72 (0.6 H, d, J = 10.1 Hz), 4.80 (0.4 H, d, J = 8.8 Hz), 4.96 (0.4 H, d, J = 8.8 Hz). 8Hz), 5.42 (0.6H, dd, J = 8.8, 8.8Hz), 5.52 (0.4H, dd, J = 8.8, 8.8Hz), 5.76 (0 .4H, s), 5.77 (0.6H, s), 7.32 (1H, t, J=7.8Hz), 7.53 (2H
, dd, J=8.8, 7.8 Hz), 8.07 (2H, d=8.8 Hz).
比較例1~14
各種アミド化試薬、及び各種塩基又は各種添加剤の存在下、(2S)-1-t-ブトキシカルボニル-4-オキソピロリジン-2-カルボン酸(化合物3a)とチアゾリジン(化合物3aに対して1.1モル)から3-[(2S)-1-t-ブトキシカルボニル-4-オキソピロリジン-2-イルカルボニル]チアゾリジン(化合物2a)への変換反応を検討した結果を下記表1に示す。
Comparative Examples 1-14
(2S)-1-t-butoxycarbonyl-4-oxopyrrolidine-2-carboxylic acid (compound 3a) and thiazolidine (1. 1 mol) to 3-[(2S)-1-t-butoxycarbonyl-4-oxopyrrolidin-2-ylcarbonyl]thiazolidine (compound 2a), and the results are shown in Table 1 below.
その結果、アミド化試薬としてSOCl2及び(CO)2Cl2を使用した場合には、化合物2aは全く得られなかった(比較例11及び12)。また、表1によれば、反応溶媒の収率への影響は見られなかった(比較例2及び3)。さらに、ピバロイルクロリドをアミド化試薬として用いて、DIPEA以外の他の有機塩基を使用した場合には、難溶性の有機塩基の塩酸塩(例、トリエチルアミン塩酸塩(比較例5))の析出量が増えるために撹拌が困難になり、反応が安定せず、副生物が生じやすくなる。また、反応性の高い有機塩基であるDMAPを使用した場合(比較例6)には、多くの副生物が生成したため、化合物2aを高純度且つ高収率で得ることが難しく、スケールアップすることが困難であることが分かった。 As a result, no compound 2a was obtained when SOCl 2 and (CO) 2 Cl 2 were used as amidation reagents (Comparative Examples 11 and 12). Moreover, according to Table 1, the reaction solvent did not affect the yield (Comparative Examples 2 and 3). Furthermore, when pivaloyl chloride is used as an amidation reagent and organic bases other than DIPEA are used, precipitation of hydrochlorides of sparingly soluble organic bases (e.g., triethylamine hydrochloride (Comparative Example 5)) As the amount increases, stirring becomes difficult, the reaction becomes unstable, and by-products tend to occur. In addition, when DMAP, which is a highly reactive organic base, was used (Comparative Example 6), many by-products were produced, making it difficult to obtain compound 2a with high purity and high yield, and scale-up was difficult. found to be difficult.
実施例1、及び上記表1の結果から、化合物3aとチアゾリジンとの縮合反応においては、塩基としてDIPEAの存在下、アミド化試薬としてピバロイルクロリドを用いた場合に、仕込み量を工業的スケール(数百kgスケール)まで増やしても、化合物2aを高純度且つ高収率で製造できることが分かった。これに対し、ピバロイルクロリド以外のアミド化試薬は、いずれもピバロイルクロリドよりも遥かに高価であり、また、前記の通り、アミド化試薬としてピバロイルクロリドを用いた場合でも、他の塩基を用いた場合には、得られる化合物2aの純度や収率が低下することから、比較例1~14の製造方法は、いずれも化合物2aの工業的製法として適さないことが分かった。 From the results of Example 1 and Table 1 above, in the condensation reaction of compound 3a and thiazolidine, in the presence of DIPEA as a base and using pivaloyl chloride as an amidation reagent, the amount of charge was reduced to an industrial scale. It was found that compound 2a can be produced with high purity and high yield even if the production is increased to (several hundred kg scale). In contrast, all amidation reagents other than pivaloyl chloride are much more expensive than pivaloyl chloride, and as described above, even when pivaloyl chloride is used as the amidation reagent, other When the base is used, the purity and yield of the obtained compound 2a are lowered, so it was found that none of the production methods of Comparative Examples 1 to 14 is suitable as an industrial production method of compound 2a.
本発明の製造方法によれば、アミド化試薬として毒性が比較的低く、且つ安価なピバロイルクロリドを用い、塩基としてDIPEAを用いることにより、過剰量の基質(チアゾリジン)、アミド化試薬、及び塩基を用いることなく、原料基質(すなわち、一般式(3)で表される化合物)に対して、それぞれ等モルずつ用いるだけで反応が収率良く進行し、医薬の合成中間体等として有用なプロリンアミド化合物(すなわち、一般式(2)で表される化合物)又はその塩を高純度で提供することができる。また、本発明の製造方法によれば、プロリンアミド化合物の製造工程において、従来法に比べて反応条件が緩和で、且つ後処理も簡便であり、スケールアップ(数百kgスケール)にも耐え得ることから、DPP-IV阻害活性を示し、糖尿病等の治療又は予防において有用なテネリグリプチン又はその塩の経済性及び安全性に優れた工業的製造方法を提供することができる。 According to the production method of the present invention, pivaloyl chloride, which has relatively low toxicity and is inexpensive, is used as an amidation reagent, and DIPEA is used as a base. Without using a base, the reaction proceeds in good yield only by using an equimolar amount of each relative to the raw material substrate (that is, the compound represented by the general formula (3)), and it is useful as an intermediate for the synthesis of pharmaceuticals. A prolinamide compound (that is, a compound represented by general formula (2)) or a salt thereof can be provided with high purity. In addition, according to the production method of the present invention, in the production process of the proline amide compound, the reaction conditions are relaxed compared to the conventional method, the post-treatment is simple, and it can withstand scale-up (several hundred kg scale). Therefore, it is possible to provide an economical and safe industrial production method for teneligliptin or a salt thereof that exhibits DPP-IV inhibitory activity and is useful in the treatment or prevention of diabetes and the like.
以上、本発明の具体的な態様のいくつかを詳細に説明したが、当業者であれば示された特定の態様には、本発明の教示と利点から実質的に逸脱しない範囲で様々な修正と変更をなすことは可能である。従って、そのような修正および変更も、すべて特許請求の範囲で請求される本発明の精神と範囲内に含まれるものである。 Although several specific aspects of the invention have been described in detail above, various modifications to the specific aspects presented to those skilled in the art may be made without departing substantially from the teachings and advantages of the invention. It is possible to make changes with Accordingly, all such modifications and variations are intended to be included within the spirit and scope of the invention as claimed.
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