JP7166889B2 - 1,2-ジフルオロエチレンの製造方法 - Google Patents
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Description
項1
1,2-ジフルオロエチレンの製造方法において、
前記1,2-ジフルオロエチレンはE体単体、Z体単体又はE体とZ体との混合物であり、
触媒の存在下又は不存在下で1-クロロ-1,2-ジフルオロエタンの脱塩化水素反応を行う工程を備える、製造方法。
項2
前記脱塩化水素反応は、気相反応である、項1に記載の製造方法。
項3
前記脱塩化水素反応は、液相反応である、項1に記載の製造方法。
項4
前記脱塩化水素反応は、アルカリ溶液中で行われる、項3に記載の製造方法。
項5
前記1-クロロ-1,2-ジフルオロエタンを、塩化ビニルのフッ素化反応により製造する工程を備える、項1~4のいずれか1項に記載の製造方法。
項6
前記1-クロロ-1,2-ジフルオロエタンを、1,2-ジフルオロエタンの塩素化反応により製造する工程を備える、項1~4のいずれか1項に記載の製造方法。
脱塩化水素反応の方法は特に限定されず、例えば、公知の脱塩化水素反応の条件を広く適用することができる。
本開示の製造方法において、脱塩化水素反応で使用するHCFC-142aの製造方法は特に限定されず、例えば、公知の方法を広く採用することができる。あるいは、市販品等から脱塩化水素反応で使用するHCFC-142aを入手することもできる。
外径1.27cm、肉厚0.165cm、内径0.94cmのハステロイC製反応器を準備し、該反応器の中の熱伝導を高めるために3.0cm(計9.6g)のニッケルメッシュを反応器の上層部に保持させた。また、反応器の下層部には脱塩化水素反応の触媒として、3.5cm(4.8g)の活性炭「モルシーボンX2M」を充填した。当該触媒は予め乾燥した窒素ガスを、400℃で2時間フローさせることで前処理した。
脱塩化水素反応を450℃に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は21モル%、HFC-1132の選択率は93.3モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
脱塩化水素反応を700℃に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は89.6モル%、HFC-1132の選択率は90.3モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
脱塩化水素触媒として活性炭の代わりに、4.0cm(7.2g)のCsCl及びMgF2混合触媒(CsClとMgF2との混合質量比10:90)のペレットに変更したこと、及び、脱塩化水素反応を400℃に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は2.7モル%、HFC-1132の選択率は99.6モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
脱塩化水素反応を450℃に変更したこと以外は実施例4と同様の方法で目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は20.6モル%、HFC-1132の選択率は89.3モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
脱塩化水素反応を750℃に変更したこと以外は実施例4と同様の方法で目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は91.0モル%、HFC-1132の選択率は80.3モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
外径1.27cm、肉厚0.165cm、内径0.94cmのハステロイC製反応器を準備した。該反応器を550℃まで加熱した後、塩素ガスをHCFC-142aの全質量に対して1.5質量%含む混合ガスを、13.4mL/min(0.06g/mL)の速度で導入することで、HCFC-142aの脱塩化水素反応を550℃で行った。反応器出口から反応生成物を捕集し、この反応生成物を水洗塔に供給し、HCl等の副生成物を取り除いた後、続いて吸湿剤を充填したカラムを通過させ、残留水分を取り除き、目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は84.3モル%、HFC-1132の選択率は94.2モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
脱塩化水素触媒として活性炭の代わりに、4.0cm(4.1g)のソーダライムに変更したこと、及び、脱塩化水素反応を250℃に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は1.5モル%、HFC-1132の選択率は99.8モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
脱塩化水素反応を450℃に変更したこと以外は実施例8と同様の方法で目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は19.3モル%、HFC-1132の選択率は98.7モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
外径1.27cm、肉厚0.165cm、内径0.94cmのハステロイC製反応器を準備した。該反応器を715℃まで加熱した後、HCFC-142aを13.4mL/min(0.06g/mL)の速度で導入することで、HCFC-142aの脱塩化水素反応を715℃で行った。HCFC-142aは、反応器の上層部から下層部に流れるように反応器内に流入させ、反応器出口から反応生成物を捕集した。得られた反応生成物を水洗塔に供給し、HCl等の副生成物を取り除いた後、続いて吸湿剤を充填したカラムを通過させ、残留水分を取り除き、目的物を得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は73.1モル%、HFC-1132の選択率は61.8モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
5℃に保持した冷却管を備えた内容積300mLのハステロイC製オートクレーブに、KOHを35g(0.62mol)、水を75g、トリ-n-オクチルメチルアンモニウムクロライドを2.0g(4.9mmol)、HCFC-142aを34g(0.34mol)仕込み、反応器を120℃のオイルバスに浸漬し撹拌することで、脱塩化水素反応を行った(脱塩化水素反応の温度は120℃)。反応器の内圧が1.5MPaG(Gはゲージ圧を意味する。以下同じ。)を超えたら、1.0MPaGに減少するまで冷却管上部よりガスを抜き出し、抜き出したガスを反応器に接続している冷却トラップ(-78℃)中に回収させた。この操作を繰り返しながら、20時間、脱塩化水素反応を行った。反応終了後、反応器を80℃まで冷却し、この温度で気化する有機物を全て、前記冷却トラップ中に回収した。こうして得られた前記冷却トラップ中の反応回収物を目的物として得た。該目的物のGC分析を行ったところ、HCFC-142aの転化率は10.5モル%、HFC-1132の選択率は93.5モル%であった。また、得られたHFC-1132はE体とZ体との混合物HFC-1132(E,Z)であった。
Claims (4)
- 1,2-ジフルオロエチレンの製造方法において、
前記1,2-ジフルオロエチレンはE体単体、Z体単体又はE体とZ体との混合物であり、
触媒の存在下又は不存在下で1-クロロ-1,2-ジフルオロエタンの脱塩化水素反応を行う工程を備え、
前記脱塩化水素反応は、気相反応又は液相反応である、製造方法。 - 前記脱塩化水素反応は、アルカリ溶液中で行われる液相反応である、請求項1に記載の製造方法。
- 前記1-クロロ-1,2-ジフルオロエタンを、塩化ビニルのフッ素化反応により製造する工程を備える、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記1-クロロ-1,2-ジフルオロエタンを、1,2-ジフルオロエタンの塩素化反応により製造する工程を備える、請求項1~3のいずれか1項に記載の製造方法。
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