JP6741074B2 - 含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 - Google Patents

Description

本発明は、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品に関する。

含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すことから、表面処理剤等に用いられる。たとえば表面処理剤によって基材の表面に塗布し表面層を形成すると、基材の表面に潤滑性、撥水撥油性等が付与され、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキル鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、油脂等の汚れの除去性に優れる。

含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が求められる用途、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。
また、基材の表面に形成される表面層には、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）が求められる。屋外使用のタッチパネル（自動販売機、案内板等のデジタルサイネージ）、車載タッチパネル等においては、光に長時間さらされても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐光性）が求められる。

基材の表面に形成される表面層に耐摩擦性を付与するために、含フッ素エーテル化合物の末端に加水分解性シリル基を導入することが行われている。加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物は、加水分解性シリル基が分解して生成したシラノール基によって基材の表面に結合できる。
しかし、片末端に１個の加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物は、基材の表面との結合箇所が１箇所のみであるため、形成される表面層の耐摩擦性が不充分なことがある。

耐摩擦性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物または組成物としては、たとえば、下記のものが提案されている。
・片末端にＳｉによる分岐を介して３個の加水分解性シリル基を有するペルフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（特許文献１）。
・片末端に１個の加水分解性シリル基を有する含フッ素オルガノシラン化合物と、両末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素オルガノシラン化合物とを含む組成物（特許文献２）。

特開２０１４−２１８６３９号公報 国際公開第２０１２／０６４６４９号

本発明者らの知見によれば、以下の理由から、特許文献１の化合物から形成される表面層および特許文献２の組成物から形成される表面層は、耐光性が不充分である。その理由を以下のように考えている。
片末端に複数個の加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物や両末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物を用いた場合、基材との結合のためのスペースが多く必要であるため、基材の単位表面積あたりのポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の数が少なくなる。表面層が太陽光等にさらされると、含フッ素エーテル化合物の分解が起こり、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が離脱する。単位表面積あたりのポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の数が少ないと、少しのポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が離脱するだけで、表面層の撥水撥油性が低下する、すなわち耐光性が不充分である。

本発明は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を有し、耐摩耗性および耐光性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を有し、耐摩耗性および耐光性に優れる表面層を有する物品の提供を目的とする。

本発明は、下記［１］〜［１２］の構成を有する含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品を提供する。
［１］下式（１）で表される化合物（１）と、下式（２）で表される化合物（２）とを含む含フッ素エーテル組成物であって、前記化合物（１）の含有量が、前記化合物（１）と前記化合物（２）との合計に対して、１０〜９０モル％であることを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
［Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−］_ａ１Ｚ^１−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１）
ただし、Ａ^１は、ペルフルオロアルキル基であり、Ｑ^１は、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基（ただし、酸素原子はＲ^ｆ１に結合する。）、または１個以上の水素原子を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＲ^ｆ１に結合し、かつＲ^ｆ１に結合するオキシフルオロアルキレン基は１個以上の水素原子を含む。）であり、Ｒ^ｆ１は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＺ^１に結合する。）であり、ａ１は、１以上の整数であり、ａ１が２以上のときａ１個の［Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−］は、同一であっても異なっていてもよく、Ｚ^１は、（ａ１＋１）価の連結基であり、Ｒ^１は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌ^１は、水酸基または加水分解性基であり、ｎ１は、０または１であり、（３−ｎ１）個のＬ^１は、同一であっても異なっていてもよい。
［Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−］_ａ２Ｚ^２［−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_ｂ２ ・・・（２）
ただし、Ａ^２は、ペルフルオロアルキル基であり、Ｑ^２は、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基（ただし、酸素原子はＲ^ｆ２に結合する。）、または１個以上の水素原子を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＲ^ｆ２に結合し、かつＲ^ｆ２に結合するオキシフルオロアルキレン基は１個以上の水素原子を含む。）であり、Ｒ^ｆ２は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＺ^２に結合する。）であり、ａ２は、１以上の整数であり、ａ２が２以上のときａ２個の［Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−］は、同一であっても異なっていてもよく、Ｚ^２は、（ａ２＋ｂ２）価の連結基であり、Ｒ^２は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌ^２は、水酸基または加水分解性基であり、ｎ２は、０〜２の整数であり、ｎ２が０または１のとき（３−ｎ２）個のＬ^２は、同一であっても異なっていてもよく、ｎ２が２のときｎ２個のＲ^２は、同一であっても異なっていてもよく、ｂ２は、２以上の整数であり、ｂ２個の［−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］は、同一であっても異なっていてもよい。
［２］前記ｂ２が、２〜４の整数である、前記［１］の含フッ素エーテル組成物。

［３］前記化合物（１）が、下式（１−１）で表される化合物、下式（１−２）で表される化合物、下式（１−３）で表される化合物、下式（１−４）で表される化合物または下式（１−５）で表される化合物である、前記［１］または［２］の含フッ素エーテル組成物。
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１ＣＸ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−１）
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１ＣＸ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−２）
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１Ｃ（Ｏ）ＮＨＣ_ｋＨ_２ｋ−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１
・・・（１−３）
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１（ＣＨ_２）_２−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−４）
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１（ＣＨ_２）_３−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−５）
ただし、Ａ^１、Ｑ^１、Ｒ^ｆ１、Ｒ^１、Ｌ^１およびｎ１は、前記式（１）と同じであり、Ｑ^１１は、ペルフルオロアルキレン基であり、ＣＸ_２は、ＣＦＨまたはＣＨ_２であり、ｋは、１以上の整数である。
［４］前記化合物（２）が、下式（２−１）で表される化合物または下式（２−２）で表される化合物である、前記［１］〜［３］のいずれかの含フッ素エーテル組成物。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｑ^２１−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２１）］_ｐ−Ｒ^２２−Ｃ［−Ｒ^２３−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_３ ・・・（２−１）
ただし、Ａ^２、Ｑ^２、Ｒ^ｆ２、Ｒ^２、Ｌ^２およびｎ２は、前記式（２）と同じであり、Ｑ^２１は、ペルフルオロアルキレン基、１個以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、または１個以上の水素原子を含む炭素数２以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｒ^２１は、水素原子またはアルキル基であり、Ｒ^２２は、単結合、アルキレン基、またはアルキレン基の末端（ただし、右隣のＣと結合する側の末端。）にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の末端（ただし、右隣のＣと結合する側の末端。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｒ^２３は、アルキレン基、またはアルキレン基の末端（ただし、左隣のＣと結合する側の末端。）にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の末端（ただし、左隣のＣと結合する側の末端。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｑ^２２−Ｒ^２４−Ｎ［−Ｒ^２５−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_２ ・・・（２−２）
ただし、Ａ^２、Ｑ^２、Ｒ^ｆ２、Ｒ^２、Ｌ^２およびｎ２は、前記式（２）と同じであり、Ｑ^２２は、ペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^２４は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端（ただし、Ｎと結合する側の末端を除く。）にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の末端（ただし、Ｎと結合する側の末端を除く。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基であり、Ｒ^２５は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基である。

［５］前記化合物（１）の数平均分子量が、５００〜２０，０００であり、前記化合物（２）の数平均分子量が、５００〜２０，０００である、前記［１］〜［４］のいずれかの含フッ素エーテル組成物。
［６］前記化合物（１）の数平均分子量と前記化合物（２）の数平均分子量との差の絶対値が、２，０００以下である、前記［１］〜［５］のいずれかの含フッ素エーテル組成物。
［７］前記Ｒ^ｆ１が、（Ｒ^Ｆ１Ｏ）_ｍ１（ただし、Ｒ^Ｆ１は炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ１は２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲ^Ｆ１Ｏからなるものであってもよい。）であり、前記Ｒ^ｆ２が、（Ｒ^Ｆ２Ｏ）_ｍ２（ただし、Ｒ^Ｆ２は炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ２は２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲ^Ｆ２Ｏからなるものであってもよい。）である、前記［１］〜［６］のいずれかの含フッ素エーテル組成物。
［８］前記Ｒ^ｆ１が、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１４｝（ただし、ｍ１１およびｍ１２はそれぞれ１以上の整数であり、ｍ１３およびｍ１４はそれぞれ０または１以上の整数であり、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４は２〜２００の整数である。）または（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ただし、ｍ１５は１〜１００の整数である。）であり、前記Ｒ^ｆ２が、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２４｝（ただし、ｍ２１およびｍ２２はそれぞれ１以上の整数であり、ｍ２３およびｍ２４はそれぞれ０または１以上の整数であり、ｍ２１＋ｍ２２＋ｍ２３＋ｍ２４は２〜２００の整数である。）または（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）（ただし、ｍ２５は１〜９９の整数である。）である、前記［１］〜［７］のいずれかの含フッ素エーテル組成物。
［９］前記［１］〜［８］のいずれかの含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
［１０］前記［１］〜［８］のいずれかの含フッ素エーテル組成物から形成される表面層を有することを特徴とする物品。
［１１］前記［１］〜［８］のいずれかの含フッ素エーテル組成物を用いて、ドライコーティング法により基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を有する物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
［１２］前記［９］のコーティング液を用いて、ウェットコーティング法により基材の表面を処理して、含フッ素エーテル化合物から形成された表面層を有する物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。

本発明の含フッ素エーテル組成物およびコーティング液によれば、撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を有し、耐摩耗性および耐光性に優れる表面層を形成できる。
本発明の物品は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を有し、耐摩耗性および耐光性に優れる表面層を有する。

本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
オキシフルオロアルキレン基の化学式は、その酸素原子をフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得る基を意味する。たとえば、式（１）中のＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１である。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
^１Ｈ−ＮＭＲおよび^１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、たとえば式（１）中のＡ^１またはＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１である。

［含フッ素エーテル組成物］
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、本組成物とも記す。）は、特定の化合物（１）と、特定の化合物（２）とを含む。

（化合物（１））
化合物（１）は、下式（１）で表される化合物である。
［Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−］_ａ１Ｚ^１−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１）
化合物（１）は、末端にＡ^１中のＣＦ_３−を有するため、低表面エネルギーの表面層を形成できる。該表面層は潤滑性および耐摩擦性に優れる。また、化合物（１）は、Ｒ^ｆ１としてポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有するため、フッ素原子の含有量が多い。そのため、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面層を形成できる。

Ａ^１としては、表面層の潤滑性および耐摩擦性にさらに優れる点から、炭素数１〜１０のペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基がより好ましく、炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。

Ｑ^１が１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基（ただし、酸素原子はＲ^ｆ１に結合する。）、または１個以上の水素原子を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＲ^ｆ１に結合し、かつＲ^ｆ１に結合するオキシフルオロアルキレン基は１個以上の水素原子を含む。）である場合の、Ｑ^１における水素原子の数は、表面層の外観に優れる点から、１以上であり、２以上が好ましく、３以上が特に好ましい。Ｑ^１における水素原子の数は、表面層の撥水撥油性にさらに優れる点から、（Ｑ^１の炭素数）×２以下が好ましく、（Ｑ^１の炭素数）以下が特に好ましい。Ｑ^１が水素原子を有することによって、化合物（１）の液状媒体への溶解性が高くなる。そのため、コーティング液中で化合物（１）が凝集しにくく、また、基材の表面に塗布した後、乾燥させる途中に化合物（１）が凝集しにくいため、表面層の外観にさらに優れる。

Ｑ^１としては、化合物（１）の製造のしやすさの点から、単結合、ならびに、−ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−および−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＡ^１−Ｏに結合する。）が好ましい。Ｑ^１としては、単結合および−ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−が特に好ましい。

Ｒ^ｆ１としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、（Ｒ^Ｆ１Ｏ）_ｍ１（ただし、Ｒ^Ｆ１は炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ１は２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲ^Ｆ１Ｏからなるものであってもよい。）が好ましい。

Ｒ^Ｆ１としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、炭素数１〜６の分岐構造を有しないペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数１〜４の分岐構造を有しないフルオロアルキレン基がより好ましく、表面層の潤滑性にさらに優れる点から、炭素数１〜２の分岐構造を有しないフルオロアルキレン基が特に好ましい。

ｍ１は、２〜２００の整数であり、５〜１５０の整数が好ましく、１０〜１００の整数が特に好ましい。ｍ１が前記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性に優れる。ｍ１が前記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性に優れる。すなわち、化合物（１）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量あたりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、耐摩擦性が低下する。

（Ｒ^Ｆ１Ｏ）_ｍ１において、炭素数の異なる２種以上のＲ^Ｆ１Ｏが存在する場合、各Ｒ^Ｆ１Ｏの結合順序は限定されない。たとえば、２種のＲ^Ｆ１Ｏが存在する場合、２種のＲ^Ｆ１Ｏがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
（Ｒ^Ｆ１Ｏ）_ｍ１としては、表面層の耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性にさらに優れる点から、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１４｝、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１６、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１７および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が好ましく、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１４｝および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）がより好ましい。ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が剛直となり、基材の表面にてポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が密に整列しやすく、その結果、基材の単位表面積あたりのポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の数を多くしやすい点から、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が特に好ましい。
ただし、ｍ１１およびｍ１２は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ０または１以上の整数であり、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４は２〜２００の整数であり、ｍ１１個のＣＦ_２Ｏ、ｍ１２個のＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ、ｍ１３個のＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ、ｍ１４個のＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏの結合順序は限定されない。ｍ１６およびｍ１７は、それぞれ２〜２００の整数であり、ｍ１５は、１〜９９の整数である。

ａ１は、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性に優れる点から、１〜５の整数が好ましく、化合物（１）の製造のしやすさの点から、１が特に好ましい。

Ｚ^１は、本発明の効果を損なわない基であればよく、公知の含フッ素エーテル化合物においてポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖と加水分解性シリル基とを連結している基のいずれも採用できる。
Ｚ^１としては、後述する化合物（１−１）〜（１−５）における連結基である−Ｑ^１１ＣＸ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、−Ｑ^１１ＣＸ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｑ^１１Ｃ（Ｏ）ＮＨＣ_ｋＨ_２ｋ−、−Ｑ^１１（ＣＨ_２）_２−、−Ｑ^１１（ＣＨ_２）_３−等が挙げられる。

ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１は、加水分解性シリル基である。
Ｒ^１の１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられる。
Ｒ^１としては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。Ｒ^１の炭素数がこの範囲であると、化合物（１）を製造しやすい。

Ｌ^１における加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、化合物（１）の末端のＳｉ−Ｌ^１は、加水分解反応によってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成する。Ｌ^１の加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。

Ｌ^１としては、化合物（１）の製造のしやすさの点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。Ｌ^１としては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物（１）の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物（１）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

ｎ１は、０が特に好ましい。１個の加水分解性シリル基にＬ^１が複数存在することによって、基材との密着性がより強固になる。

化合物（１）としては、国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、国際公開第２０１５／０８７９０２号および特開２０１４−０８０４７３号公報に記載の含フッ素エーテル化合物、特開２０１２−０７２２７２号公報に記載の直鎖状フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、国際公開第２０１４／１６３００４号に記載の化合物、特許文献２に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、国際公開第２０１１／０５９４３０号、特開２０１３−１８７４３号公報、特開２０１３−１４４７２６号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン等が挙げられる。

化合物（１）の市販品としては、旭硝子社製のＡｆｌｕｉｄ（登録商標）Ｓ５５０、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、東レ・ダウコーニング社製の２６３４コーティング、信越化学工業社製のＫＹ−１７８等が挙げられる。

化合物（１）としては、製造のしやすさの点から、化合物（１−１）〜（１−５）が好ましい。
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１ＣＸ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−１）
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１ＣＸ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−２）
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１Ｃ（Ｏ）ＮＨＣ_ｋＨ_２ｋ−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１
・・・（１−３）
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１（ＣＨ_２）_２−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−４）
Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１（ＣＨ_２）_３−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−５）
ただし、Ａ^１、Ｑ^１、Ｒ^ｆ１、Ｒ^１、Ｌ^１およびｎ１は、前記式（１）と同じであり、Ｑ^１１は、ペルフルオロアルキレン基であり、ＣＸ_２は、ＣＦＨまたはＣＨ_２であり、ｋは、１以上の整数である。

Ｑ^１１としては、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基が好ましい。表面層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−が好ましい。
ｋは、１〜６の整数が好ましい。

化合物（１）は、公知の製造方法によって製造できる。たとえば、化合物（１−１）〜（１−５）は、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号に記載の製造方法によって製造できる。

（化合物（２））
化合物（２）は、下式（２）で表される化合物である。
［Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−］_ａ２Ｚ^２［−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_ｂ２ ・・・（２）
Ａ^２、Ｑ^２およびａ２は、化合物（１）におけるＡ^１、Ｑ^１およびａ１と同様であり、好ましい基、数値範囲も同様である。
Ｒ^ｆ２としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、（Ｒ^Ｆ２Ｏ）_ｍ２（ただし、Ｒ^Ｆ２は炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ２は２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲ^Ｆ２Ｏからなるものであってもよい。）が好ましい。
Ｒ^Ｆ２およびｍ２は、化合物（１）におけるＲ^Ｆ１およびｍ１と同様であり、好ましい基、数値範囲も同様である。

（Ｒ^Ｆ２Ｏ）_ｍ２において、炭素数の異なる２種以上のＲ^Ｆ２Ｏが存在する場合、各Ｒ^Ｆ２Ｏの結合順序は限定されない。たとえば、２種のＲ^Ｆ２Ｏが存在する場合、２種のＲ^Ｆ２Ｏがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
（Ｒ^Ｆ２Ｏ）_ｍ２としては、表面層の耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性にさらに優れる点から、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２４｝、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２６、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２７および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が好ましく、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２４｝および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）がより好ましい。ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が剛直となり、基材の表面にてポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が密に整列しやすく、その結果、基材の単位表面積あたりのポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の数を多くしやすい点から、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が特に好ましい。
ただし、ｍ２１およびｍ２２は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ２３およびｍ２４は、それぞれ０または１以上の整数であり、ｍ２１＋ｍ２２＋ｍ２３＋ｍ２４は２〜２００の整数であり、ｍ２１個のＣＦ_２Ｏ、ｍ２２個のＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ、ｍ２３個のＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ、ｍ２４個のＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏの結合順序は限定されない。ｍ２６およびｍ２７は、それぞれ２〜２００の整数であり、ｍ２５は、１〜９９の整数である。

Ｚ^２は、本発明の効果を損なわない基であればよく、公知の含フッ素エーテル化合物においてポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖と複数の加水分解性シリル基とを連結している基のいずれも採用できる。
Ｚ^２としては、後述する化合物（２−１）〜（２−２）における連結基である−Ｑ^２１−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２１）］_ｐ−Ｒ^２２−Ｃ［−Ｒ^２３−］_３、−Ｑ^２２−Ｒ^２４−Ｎ［−Ｒ^２５−］_２等が挙げられる。

ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２は、加水分解性シリル基である。
Ｒ^２およびＬ^２は、化合物（１）におけるＲ^１およびＬ^１と同様であり、好ましい基、数値範囲も同様である。
ｎ２は、０または１が好ましく、０が特に好ましい。１個の加水分解性シリル基にＬ^２が複数存在することによって、基材との密着性がより強固になる。
ｂ２は、耐摩擦性の点から、２〜４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。

化合物（２）としては、後述する化合物（２−１）〜（２−２）、特許文献１に記載のペルフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、特開２０１５−１９９９０６号公報、特開２０１５−２１４６６４号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書に記載の化合物、特開２０１５−１２９２３０号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン等が挙げられる。

化合物（２）の市販品としては、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＵＤ５０９、信越化学工業社製のＫＹ−１８５、ＫＹ−１９５、ＫＹ−１９００等が挙げられる。

化合物（２）としては、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および潤滑性に優れる点から、化合物（２−１）〜（２−２）が好ましい。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｑ^２１−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２１）］_ｐ−Ｒ^２２−Ｃ［−Ｒ^２３−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_３ ・・・（２−１）
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｑ^２２−Ｒ^２４−Ｎ［−Ｒ^２５−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_２ ・・・（２−２）

ｐが０の場合、Ｑ^２１は、たとえば、Ｒ^ｆ２が（Ｒ^Ｆ２Ｏ）_ｍ２であり、さらに、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２｝および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２３である場合、炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２４である場合、炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）である場合、炭素数３の直鎖のペルフルオロアルキレン基である。

ｐが１の場合、Ｑ^２１としては、下記の基が挙げられる。
（ｉ）ペルフルオロアルキレン基。
（ｉｉ）Ｒ^ＦＣＨ_２Ｏ（ただし、Ｒ^Ｆは、ペルフルオロアルキレン基である。）をＲ^ｆ２と結合する側に有し、１個以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基（炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよい。）をＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１）と結合する側に有する基。

（ｉｉ）のＱ^２１としては、化合物（２−１）の製造のしやすさの点から、下記の基が好ましい。
−Ｒ^ＦＣＨ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−Ｒ^ＦＣＨ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、−Ｒ^ＦＣＨ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−Ｒ^ＦＣＨ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−。

ｐが０と１の場合で、化合物（２−１）の特性はほとんど変わらない。ｐが１の場合にはアミド結合を有するが、Ｑ^２１の［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１）］と結合する側の末端の炭素原子に少なくとも１個のフッ素原子が結合していることにより、アミド結合の極性は小さくなり、表面層の撥水撥油性が低下しにくい。ｐが０か１かは、製造のしやすさの点から選択できる。
Ｒ^２１としては、化合物（２−１）の製造のしやすさの点から、水素原子が好ましい。
Ｒ^２１がアルキル基の場合、アルキル基としては、炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。

ｐが０の場合、Ｒ^２２としては、化合物（２−１）の製造のしやすさの点から、単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−および−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＱ^２１に結合する。）が好ましい。
ｐが１の場合、Ｒ^２２としては、化合物（２−１）の製造のしやすさの点から、単結合、−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２−からなる群から選ばれる基が好ましい。

Ｒ^２３としては、化合物（２−１）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−からなる群から選ばれる基（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
Ｒ^２３としては、表面層の耐光性に優れる点から、エーテル性酸素原子を有しないものが特に好ましい。
化合物（２−１）中の３個のＲ^２３は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｑ^２２は、たとえば、Ｒ^ｆ２が（Ｒ^Ｆ２Ｏ）_ｍ２であり、さらに、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２｝および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２３である場合、炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２４である場合、炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）である場合、炭素数３の直鎖のペルフルオロアルキレン基である。

Ｒ^２４としては、化合物（２−２）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＱ^２２に結合する。）が好ましい。
Ｒ^２４は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、表面層の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。

Ｒ^２５としては、化合物（２−２）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
Ｒ^２５は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、表面層の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性がさらに優れる。
Ｒ^２５としては、表面層の耐光性に優れる点からは、エーテル性酸素原子を有しないものが特に好ましい。
化合物（２−２）中の２個のＲ^２５は、同一の基であってもよく、同一の基でなくてもよい。

化合物（２−１）〜（２−２）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観にさらに優れる点から好ましい。

ただし、ＰＦＰＥはポリフルオロポリエーテル鎖、すなわちＡ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｑ^２１（またはＱ^２２）−である。ＰＦＰＥの好ましい形態は、上述した好ましいＡ^２、Ｑ^２、Ｒ^ｆ２およびＱ^２１（またはＱ^２２）を組み合わせたものとなる。

化合物（２−１）は、公知の合成方法を組み合わせることによって製造できる。たとえば、国際公開第２０１３／１２１９８４号等に記載の方法によって化合物（１４）または化合物（１５）を得た後、下記の方法（１）〜（４）によって製造できる。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−Ｃ（Ｏ）ＯＲ ・・・（１４）
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２ＯＨ ・・・（１５）
ただし、Ｒ^Ｆは、ペルフルオロアルキレン基であり、Ｒは、アルキル基である。

＜方法（１）＞
塩基性化合物の存在下、化合物（１５）にＣＦ_３ＳＯ_２Ｃｌを反応させて、化合物（１６）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２ＯＳＯ_２ＣＦ_３ ・・・（１６）
塩基性化合物の存在下、化合物（１６）にＨＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３を反応させて、化合物（１７ａ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ・・・（１７ａ）
化合物（１７ａ）とＨＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２とをヒドロシリル化反応して、化合物（２−１ａ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ［ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_３ ・・・（２−１ａ）
なお、Ｒ^ＦはＱ^２１に相当する。

＜方法（２）＞
ＨＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３と（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｏとを反応させて、化合物（２０）を得る。
ＣＦ_３ＳＯ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ・・・（２０）
塩基性化合物の存在下、化合物（１５）に化合物（２０）を反応させて、化合物（１７ｂ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ・・・（１７ｂ）
化合物（１７ｂ）とＨＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２とをヒドロシリル化反応して、化合物（２−１ｂ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_３ ・・・（２−１ｂ）
なお、Ｒ^ＦはＱ^２１に相当する。

＜方法（３）＞
化合物（１４）にＨ_２Ｎ−Ｒ^２２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３を反応させて、化合物（１７ｃ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^２２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３
・・・（１７ｃ）
化合物（１７ｃ）とＨＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２とをヒドロシリル化反応して、化合物（２−１ｃ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^２２−Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_３ ・・・（２−１ｃ）
なお、Ｒ^ＦはＱ^２１に相当する。

＜方法（４）＞
ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３とＨ_２Ｎ−Ｒ^２２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３とを反応させて、化合物（３０）を得る。
ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^２２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ・・・（３０）
塩基性化合物の存在下、化合物（１５）に化合物（３０）を反応させて、化合物（１７ｄ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^ＦＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^２２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ・・・（１７ｄ）
化合物（１７ｄ）とＨＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２とをヒドロシリル化反応して、化合物（２−１ｄ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^ＦＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^２２−Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_３ ・・・（２−１ｄ）
なお、Ｒ^ＦＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２はＱ^２１に相当する。

＜（化合物（２−２）の製造方法＞
化合物（２−２）は、公知の合成方法を組み合わせることによって製造できる。たとえば、上述の化合物（２−１）の方法（１）と同様にして化合物（１６）を得た後、下記の方法（５）によって製造できる。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２ＯＳＯ_２ＣＦ_３ ・・・（１６）

＜方法（５）＞
塩基性化合物の存在下、化合物（１６）にＨＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２を反応させて、化合物（１７ｅ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２−Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２ ・・・（１７ｅ）
化合物（１７ｅ）とＨＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２とをヒドロシリル化反応して、化合物（２−２ｅ）を得る。
Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｒ^Ｆ−ＣＨ_２−Ｎ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_２ ・・・（２−２ｅ）
なお、Ｒ^ＦはＱ^２２に相当する。

（含フッ素エーテル化合物）
化合物（１）は、単一化合物であってもよく、Ａ^１、Ｑ^１、Ｒ^ｆ１、Ｚ^１、ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１等が異なる２種類以上の化合物（１）からなる混合物であってもよい。
本発明において単一化合物である化合物（１）とは、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を構成するオキシペルフルオロアルキレン基の数に分布を有する以外は同一の化合物群を意味する。たとえば化合物（１−１）の場合、（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１が｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２｝の場合、ｍ１１とｍ１２に分布を有する以外は同一の化合物群および｛（ＣＦ_２Ｏ）_{ｍ１１／ｍ１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{ｍ１２／ｍ１}｝_ｍ１で表した場合にｍ１の数に分布を有する以外は同一の化合物群を意味する。
化合物（２）も同様に、単一化合物であってもよく、Ａ^２、Ｑ^２、Ｒ^ｆ２、ａ２、Ｚ^２、ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２等が異なる２種類以上の化合物（２）からなる混合物であってもよい。

化合物（１）の数平均分子量は、５００〜２０，０００が好ましく、８００〜１０，０００がより好ましく、１，０００〜８，０００が特に好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、耐摩擦性に優れる。
化合物（２）の数平均分子量は、５００〜２０，０００が好ましく、８００〜１０，０００がより好ましく、１，０００〜８，０００が特に好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、耐摩擦性に優れる。

化合物（１）の数平均分子量と化合物（２）の数平均分子量との差の絶対値は、２，０００以下が好ましく、１，０００以下がより好ましく、５００以下が特に好ましい。ドライコーティング法によって表面層を形成する場合、分子量が小さい化合物が比較的早く基材の表面に蒸着し、分子量が大きい化合物が比較的遅く基材の表面に蒸着する。そのため、化合物（１）と化合物（２）とで分子量が大きく違う場合、分子量が小さい化合物が先に基材の表面に蒸着し、分子量が大きい化合物が基材の表面に蒸着しにくい。化合物（１）の数平均分子量と化合物（２）の数平均分子量との差の絶対値を小さくすることによって、化合物（１）および化合物（２）が所望の比率で均一に基材の表面に蒸着しやすくなる。

本組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、化合物（１）および化合物（２）以外の含フッ素エーテル化合物（以下、他の含フッ素エーテル化合物とも記す。）を含んでいてもよい。他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物（１）または化合物（２）の製造過程で副生する含フッ素エーテル化合物、化合物（１）および化合物（２）と同様の用途に用いられる公知の（特に市販の）含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。他の含フッ素エーテル化合物は、化合物（１）および化合物（２）の特性を低下させるおそれが少ない化合物であって、かつ本組成物中の化合物（１）および化合物（２）に対する相対的な含有量が化合物（１）および化合物（２）の特性を低下させるおそれが少ない量であることが好ましい。
他の含フッ素エーテル化合物が化合物（１）または化合物（２）の製造過程で副生する含フッ素エーテル化合物の場合、化合物（１）または化合物（２）の製造における化合物（１）または化合物（２）の精製が容易となり、また精製工程を簡略化できる。他の含フッ素エーテル化合物が化合物（１）および化合物（２）と同様の用途に用いられる公知の含フッ素エーテル化合物の場合、化合物（１）および化合物（２）の特性を補う等の新たな作用効果が発揮される場合がある。

本組成物は、化合物（１）、化合物（２）および他の含フッ素エーテル化合物以外の不純物を含んでいてもよい。不純物としては、化合物（１）、化合物（２）および他の含フッ素エーテル化合物の製造上不可避の化合物等が挙げられる。本組成物は、後述する液状媒体を含まない。

（本組成物の組成）
化合物（１）の含有量は、化合物（１）と化合物（２）との合計に対して、１０〜９０モル％であり、２０〜８５モル％が好ましく、４０〜７５モル％が特に好ましい。化合物（１）の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、耐光性に優れる表面層を形成できる。化合物（１）の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、耐摩耗性に優れる表面層を形成できる。
すなわち、複数の加水分解性シリル基を有する化合物（２）によって表面層の耐摩耗性を確保しつつ、基材の表面に導入された化合物（２）の間の空いたスペースに１個の加水分解性シリル基を有する化合物（１）を入り込ませ、基材の単位表面積あたりのポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の数を増やし、耐光性を向上させる。

化合物（２）を製造する際には、ヒドロシリル化によって加水分解性基が完全に導入されずに、加水分解性基が１個だけ導入された化合物（１）に相当する化合物が生成することがある。本発明においては、本組成物中の化合物（１）の含有量を所望の含有量としやすい点から、化合物（２）を製造する際には、化合物（１）に相当する化合物の副生はできるだけ抑えることが好ましい。化合物（２）の製造時に副生する化合物（１）相当の化合物の含有量は、化合物（１）と化合物（２）との合計に対して、１０モル％未満が好ましく、５モル％以下が特に好ましい。

本組成物中の化合物（１）と化合物（２）と他の含フッ素エーテル化合物との合計の含有量は、８０〜１００質量％が好ましく、８５〜１００質量％が特に好ましい。すなわち不純物の含有量は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下が特に好ましい。

化合物（１）と化合物（２）と他の含フッ素エーテル化合物との合計に対して、他の含フッ素エーテル化合物の含有量は、０〜４０質量％が好ましく、０〜３０質量％がより好ましく、０〜２０質量％が特に好ましい。すなわち化合物（１）と化合物（２）との合計の含有量は、６０〜１００質量％が好ましく、７０〜１００質量％がより好ましく、８０〜１００質量％が特に好ましい。

［コーティング液］
本発明のコーティング液（以下、本コーティング液とも記す。）は、本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
本組成物の濃度は、本コーティング液中、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。

液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。
フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ_６Ｆ_１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ−２０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
本コーティング液は、液状媒体を９０〜９９．９９９質量％含むことが好ましく、９９〜９９．９質量％含むことが特に好ましい。

本コーティング液は、本組成物および液状媒体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、それら以外の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、たとえば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
本コーティング液における、他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。

本コーティング液の固形分濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。コーティング液の固形分濃度は、加熱前のコーティング液の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。また、本組成物の濃度は、固形分濃度と、本組成物および溶媒等の仕込み量とから算出可能である。

［物品］
本発明の物品は、本組成物から形成される表面層を基材の表面に有する。

本組成物においては、化合物（１）および化合物（２）中の加水分解性シリル基が加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が形成され、該シラノール基は分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が形成され、または該シラノール基が基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）が形成される。すなわち、本発明における表面層は、化合物（１）および化合物（２）を、該化合物の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応した状態で含む。

表面層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面層の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ−Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。

本発明における基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはＳｉＯ_２膜等の下地膜が形成されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材が好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材は、透光性を有する。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。

本発明の物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、本発明の物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって本コーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、本発明の物品を得る方法。

本組成物は、ドライコーティング法にそのまま用いることができる。本組成物は、ドライコーティング法によって密着性に優れた表面層を形成するのに好適である。ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。化合物（１）および化合物（２）の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適に利用できる。

ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。

表面層の耐摩擦性を向上させるために、必要に応じて、化合物（１）および化合物（２）と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。たとえば、水分を有する大気中で表面層が形成された基材を加熱して、加水分解性シリル基のシラノール基への加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、溶媒に浸す方法、表面層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。

以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
以下、「％」は特に断りのない限り「質量％」である。また、２種以上の化合物（１）からなる混合物または２種以上の化合物（２）からなる混合物を「化合物」、化合物（１）と化合物（２）とを含むものを「組成物」と記す。
例２〜７、例１１〜１２および例１４〜１９は実施例、例１、８、１３および２０は比較例である。

［製造例１：化合物（１−３−１）］
出発物質における（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位の数を変更した以外は国際公開第２０１３／１２１９８４号の例６に記載の方法と同様の方法によって、化合物（１−３−１）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−３−１）

化合物（１−３−１）のＮＭＲスペクトル：
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．３（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．２（２Ｆ）。
単位数ｍ１５の平均値：１３、化合物（１−３−１）の数平均分子量：４，９００。

［製造例２：化合物（１−１−１）］
国際公開第２０１４／１６３００４号の例６に記載の方法と同様の方法によって、化合物（１−１−１）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ）−｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２｝−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−１−１）
単位数ｍ１１の平均値：２１、単位数ｍ１２の平均値：２０、数平均分子量：４，３００。

［製造例３：化合物（２−１−１）］
出発物質における（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位の数を変更した以外は国際公開第２０１３／１２１９８４号の例６に記載の方法と同様の方法によって、化合物（１４−１）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３ ・・・（１４−１）
単位数ｍ２５の平均値：１３、化合物（１４−１）の数平均分子量：４，７００。

５０ｍＬのナスフラスコに、化合物（１４−１）の９．０ｇおよびＨ_２Ｎ−ＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の０．４５ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、化合物（１４−１）がすべて化合物（１７ｃ−１）に変換していることを確認した。また、副生物であるメタノールが生成していた。得られた溶液をＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（旭硝子社製、ＡＥ−３０００）の９．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ−３０００）で精製し、化合物（１７ｃ−１）の７．６ｇ（収率８４％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ・・・（１７ｃ−１）
単位数ｍ２５の平均値：１３、化合物（１７ｃ−１）の数平均分子量：４，８００。

１０ｍＬのテトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（以下、ＰＦＡとも記す。）製サンプル管に、化合物（１７ｃ−１）の６．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０７ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の０．７８ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の０．４９ｇを入れ、４０℃で１０時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（２−１−１）の６．７ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３ ・・・（２−１−１）

化合物（２−１−１）のＮＭＲスペクトル：
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３〜１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５５．２（３Ｆ）、−８２．１（５４Ｆ）、−８８．１（５４Ｆ）、−９０．２（２Ｆ）、−１１９．６（２Ｆ）、−１２５．４（５２Ｆ）、−１２６．２（２Ｆ）。
単位数ｍ２５の平均値：１３、化合物（２−１−１）の数平均分子量：５，４００。

［製造例４：化合物（２−１−２）］
国際公開第２０１３／１２１９８４号の例７−１記載の方法にしたがい、化合物（１５−１）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＨ ・・・（１５−１）
単位数ｍ２５の平均値：１３、化合物（１５−１）の数平均分子量：４，７００。

２００ｍＬのナスフラスコ内に、ＨＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の２０．０ｇおよび（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｏの２５．５ｇを入れ、窒素雰囲気下、０℃で２，６−ルチジンの１９．３ｇを滴下した。室温まで昇温し１時間撹拌した。反応終了後、水洗して有機相を回収し、エバポレータで濃縮した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝８５／１５（質量比））で精製して化合物（２０）の１５．１ｇ（収率８５％）を得た。
ＣＦ_３ＳＯ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ・・・（２０）

２０ｍＬのナスフラスコ内にて、炭酸セシウムの１．３ｇ、化合物（１５−１）の２．７ｇおよび化合物（２０）の０．１７ｇをＡＣ−６０００の４．２ｇに懸濁させ、９０℃に昇温して４時間撹拌した。反応終了後、水洗して有機相を回収し、エバポレータで濃縮した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ−３０００／酢酸エチル＝９９／１（質量比））で精製して化合物（１７ｂ−１）の１．７ｇ４．９ｇ（収率５７％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ・・・（１７ｂ−１）。
単位数ｍ２５の平均値：１３、化合物（１７ｂ−１）の数平均分子量：４，８５０。

１０ｍＬのＰＦＡ製容器に、化合物（１７ｂ−１）の１．６ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．００２ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の０．２０ｇ、アニリンの０．００３ｇおよび１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の０．１５ｇを入れ、４０℃で４時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物（１７ｂ−１）の３つのアリル基がヒドロシリル化された化合物（２−１−２）の１．６ｇ（収率９５％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であり、化合物（１７ｂ−１）は残存していなかった。ヒドロシリル化の選択率は１００％であり、化合物（１７ｂ−１）の３つのアリル基の一部または全部がインナーオレフィン（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３）に異性化した副生物は副生しなかった。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３ ・・・（２−１−２）

化合物（２−１−２）のＮＭＲスペクトル：
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（６Ｈ）、１．７（６Ｈ）、３．４−３．８（３７Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：Ｃ_６Ｆ_６） δ（ｐｐｍ）：−５６．３（３Ｆ）、−８４．０（５４Ｆ）、−８９．２（５４Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．５（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２８．６（２Ｆ）。
単位数ｍ２５の平均値：１３、化合物（２−１−２）の数平均分子量：５，２１０。

［製造例５：化合物（２−２−１）］
３００ｍＬの３つ口フラスコに、２４％ＫＯＨ水溶液の２４．４ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールの３３ｇ、化合物（４１）（ソルベイソレクシス社製、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ（登録商標）Ｄ４０００）の２２０ｇを入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ_２（東京化成工業社製）の１９．４ｇを加えた。窒素雰囲気下、６０℃で８時間撹拌した。希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、粗生成物（ａ）の２３３ｇを得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して分取した。展開溶媒としては、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（旭硝子社製、ＡＣ−６０００）、ＡＣ−６０００／ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（旭硝子社製、ＡＥ−３０００）＝１／２（質量比）、ＡＥ−３０００／酢酸エチル＝９／１（質量比）を順に用いた。各フラクションについて、末端基の構造および構成単位の単位数（ｍ２１、ｍ２２）の平均値を^１Ｈ−ＮＭＲおよび^１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。粗生成物中には化合物（１５−２）、化合物（４２）および化合物（４１）がそれぞれ、４２モル％、４９モル％および９モル％含まれていたことがわかった。化合物（１５−２）の９８．６ｇ（収率：４４．８％）および化合物（４２）の５１．９ｇ（収率：２３．６％）が得られた。
ＨＯ−ＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２｝−ＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ ・・・（４１）
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ）−｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２｝−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＯＨ ・・・（１５−２）
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ）−｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２｝−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ−Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３ ・・・（４２）
単位数ｍ２１の平均値：２１、単位数ｍ２２の平均値：２０、化合物（１５−２）の数平均分子量：４，１５０。

１００ｍＬの２つ口ナスフラスコに、化合物（１５−２）の３０．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の３０．０ｇ、ＣＦ_３ＳＯ_２Ｃｌ（和光純薬工業社製）の１．４４ｇおよびトリエチルアミンの１．４５ｇを入れ、窒素雰囲気下、室温で４時間撹拌した。反応終了後、ＡＫ−２２５の１５ｇを加え、水および飽和食塩水で各１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物（１６−１）の３０．６ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ）−｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２｝−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＳＯ_２ＣＦ_３ ・・・（１６−１）
単位数ｍ２１の平均値：２１、単位数ｍ２２の平均値：２０、化合物（１６−１）の数平均分子量：４，２８０。

５０ｍＬのナスフラスコ内に、化合物（１６−１）の１５．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の１５．０ｇ、ＨＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（東京化成工業社製）の２．３１ｇ、およびトリエチルアミンの０．６９ｇを入れ、窒素雰囲気下、９０℃で１６時間撹拌した。反応終了後、ＡＫ−２２５の１５ｇを加え、水および飽和食塩水で各１回洗浄し、有機相を回収した後、シリカゲル１．５ｇと混合し、フィルタろ過で有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物（１７ｅ−１）の１４．１ｇ（収率９５％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ）−｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２｝−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２ ・・・（１７ｅ−１）
単位数ｍ２１の平均値：２１、単位数ｍ２２の平均値：２０、化合物（１７ｅ−１）の数平均分子量：４，２３０。

１００ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、化合物（１７ｅ−１）の１２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０３２ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の１．３ｇ、アニリンの０．０１ｇおよび１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の０．５ｇを入れ、７０℃で１０時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物（１７ｅ−１）の２つアリル基がヒドロシリル化された化合物（２−２−１）の１２．４ｇ（収率９８％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であり、化合物（１７ｅ−１）は残存していなかった。ヒドロシリル化の選択率は１００％であった。
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ）−｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２｝−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｎ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２ ・・・（２−２−１）
単位数ｍ２１の平均値：２１、単位数ｍ２２の平均値：２０、化合物（２−２−１）の数平均分子量：４，４７０。

［例１〜８］
表１に示す割合で化合物（１）と化合物（２）とを混合し、例２〜７の組成物を得た。
例１〜８の化合物または組成物を用いて基材の表面処理を行い、物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法を用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。

（ドライコーティング法）
ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ−３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１〜８の化合物または組成物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０^−３Ｐａ以下に排気した。化合物または組成物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への成膜を終了させた。化合物または組成物が堆積された基材を、１２０℃で３０分間加熱処理した後に、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ−２２５）に浸漬し、基材の表面に表面層を有する物品を得た。

（評価方法）
＜接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ−ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ−５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。

＜初期接触角＞
表面層について、初期水接触角および初期ｎ−ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
初期水接触角：
◎（優） ：１１５度以上。
○（良） ：１１０度以上１１５度未満。
△（可） ：１００度以上１１０度未満。
×（不可）：１００度未満。
初期ｎ−ヘキサデカン接触角：
◎（優） ：６６度以上。
○（良） ：６５度以上６６度未満。
△（可） ：６３度以上６５度未満。
×（不可）：６３度未満。

＜耐摩擦性＞
表面層について、ＪＩＳ Ｌ ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度以下。
○（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
△（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超２０度以下。
×（不可）：１万回往復後の水接触角の変化が２０度超。

＜外観＞
物品のヘーズをヘーズメータ（東洋精機社製）にて測定した。ヘーズが小さいほど含フッ素エーテル化合物が均一に塗布できており、外観に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：ヘーズが０．１％以下。
○（良） ：ヘーズが０．１％超０．２％以下。
△（可） ：ヘーズが０．２％超０．３％以下。
×（不可）：ヘーズが０．３％超。

＜指紋汚れ除去性＞
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（旭化成社製、ベンコット（登録商標）Ｍ−３）にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを表面層上に乗せ、荷重：９．８Ｎにて１０秒間押しつけた。指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータにて測定し、初期値とした。指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパーを取り付けた往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重：４．９Ｎにて拭き取りを行った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、ヘーズが初期値から１０％以下になる拭き取り回数を測定した。拭き取り回数が少ないほど指紋汚れを容易に除去でき、指紋汚れ拭き取り性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：拭き取り回数が３回以下。
○（良） ：拭き取り回数が４〜５回。
△（可） ：拭き取り回数が６〜８回。
×（不可）：拭き取り回数が９回以上。

＜耐光性＞
表面層に対し、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（東洋精機社製、ＳＵＮＴＥＳＴ ＸＬＳ＋）を用いて、ブラックパネル温度：６３℃にて、光線（６５０Ｗ／ｍ^２、３００〜７００ｎｍ）を６７２時間照射した後、水接触角を測定した。促進耐光試験後の水接触角の低下が小さいほど光による性能の低下が小さく、耐光性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が１０度以下。
○（良） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が１０度超１５度以下。
△（可） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が１５度超２０度以下。
×（不可）：促進耐光試験後の水接触角の変化が２０度超。

＜潤滑性＞
人工皮膚（出光テクノファイン社製、ＰＢＺ１３００１）に対する表面層の動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システム（新東科学社製、ＨＨＳ２０００）を用い、接触面積：３ｃｍ×３ｃｍ、荷重：０．９８Ｎの条件で測定した。動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：動摩擦係数が０．３以下。
○（良） ：動摩擦係数が０．３超０．４以下。
△（可） ：動摩擦係数が０．４超０．５以下。
×（不可）：動摩擦係数が０．５超。

化合物（１）の含有量が、化合物（１）と化合物（２）との合計に対して、１０〜９０モル％である例２〜７は、耐摩擦性および耐光性に優れていた。
化合物（２）のみの例１は、耐光性に劣っていた。
化合物（１）のみの例８は、耐摩擦性に劣っていた。

［例１１〜２０］
表２に示す割合で化合物（１）と化合物（２）とを混合し、例１１〜２１の組成物を得た。例１〜８と同様に物品を得て、物品の評価を行った。結果を表２に示す。

化合物（１）の含有量が、化合物（１）と化合物（２）との合計に対して、１０〜９０モル％である例１１〜１２および１４〜１９は、耐摩擦性および耐光性に優れていた。
化合物（２）のみの例１３は、耐光性に劣っていた。
化合物（１）のみの例２０は、耐摩擦性と耐光性に劣っていた。

本発明の含フッ素エーテル化合物は、光学物品、タッチパネル（指で触れる面等）、反射防止フィルム、反射防止ガラス等の基材の表面に撥水撥油性等を付与する表面処理に好適に用いることができる。また、金型の離型剤として用いることもできる。
なお、２０１６年１０月３１日に出願された日本特許出願２０１６−２１３２２４号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (12)

1. 下式（１）で表される化合物（１）と、下式（２）で表される化合物（２）とを含む含フッ素エーテル組成物であって、
   前記含フッ素エーテル組成物中の前記化合物（１）の含有量が、前記化合物（１）と前記化合物（２）との合計に対して、１０〜９０モル％であることを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
   ［Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−］_ａ１Ｚ^１−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１）
   ただし、
   Ａ^１は、ペルフルオロアルキル基であり、
   Ｑ^１は、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基（ただし、酸素原子はＲ^ｆ１に結合する。）、または１個以上の水素原子を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＲ^ｆ１に結合し、かつＲ^ｆ１に結合するオキシフルオロアルキレン基は１個以上の水素原子を含む。）であり、
   Ｒ^ｆ１は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＺ^１に結合する。）であり、
   ａ１は、１以上の整数であり、
   ａ１が２以上のときａ１個の［Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−］は、同一であっても異なっていてもよく、
   Ｚ^１は、（ａ１＋１）価の連結基であり、
   Ｒ^１は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
   Ｌ^１は、水酸基または加水分解性基であり、
   ｎ１は、０または１であり、
   （３−ｎ１）個のＬ^１は、同一であっても異なっていてもよい。
   ［Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−］_ａ２Ｚ^２［−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_ｂ２ ・・・（２）
   ただし、
   Ａ^２は、ペルフルオロアルキル基であり、
   Ｑ^２は、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基（ただし、酸素原子はＲ^ｆ２に結合する。）、または１個以上の水素原子を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＲ^ｆ２に結合し、かつＲ^ｆ２に結合するオキシフルオロアルキレン基は１個以上の水素原子を含む。）であり、
   Ｒ^ｆ２は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（ただし、末端の酸素原子はＺ^２に結合する。）であり、
   ａ２は、１以上の整数であり、
   ａ２が２以上のときａ２個の［Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−］は、同一であっても異なっていてもよく、
   Ｚ^２は、（ａ２＋ｂ２）価の連結基であり、
   Ｒ^２は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
   Ｌ^２は、水酸基または加水分解性基であり、
   ｎ２は、０〜２の整数であり、
   ｎ２が０または１のとき（３−ｎ２）個のＬ^２は、同一であっても異なっていてもよく、
   ｎ２が２のときｎ２個のＲ^２は、同一であっても異なっていてもよく、
   ｂ２は、２以上の整数であり、
   ｂ２個の［−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］は、同一であっても異なっていてもよい。
2. 前記ｂ２が、２〜４の整数である、請求項１に記載の含フッ素エーテル組成物。
3. 前記化合物（１）が、下式（１−１）で表される化合物、下式（１−２）で表される化合物、下式（１−３）で表される化合物、下式（１−４）で表される化合物または下式（１−５）で表される化合物である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル組成物。
   Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１ＣＸ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−１）
   Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１ＣＸ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−２）
   Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１Ｃ（Ｏ）ＮＨＣ_ｋＨ_２ｋ−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−３）
   Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１（ＣＨ_２）_２−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−４）
   Ａ^１−Ｏ−Ｑ^１−Ｒ^ｆ１−Ｑ^１１（ＣＨ_２）_３−ＳｉＲ^１ _ｎ１Ｌ^１ _３−ｎ１ ・・・（１−５）
   ただし、
   Ａ^１、Ｑ^１、Ｒ^ｆ１、Ｒ^１、Ｌ^１およびｎ１は、前記式（１）と同じであり、
   Ｑ^１１は、ペルフルオロアルキレン基であり、
   ＣＸ_２は、ＣＦＨまたはＣＨ_２であり、
   ｋは、１以上の整数である。
4. 前記化合物（２）が、下式（２−１）で表される化合物または下式（２−２）で表される化合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。
   Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｑ^２１−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２１）］_ｐ−Ｒ^２２−Ｃ［−Ｒ^２３−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_３ ・・・（２−１）
   ただし、
   Ａ^２、Ｑ^２、Ｒ^ｆ２、Ｒ^２、Ｌ^２およびｎ２は、前記式（２）と同じであり、
   Ｑ^２１は、ペルフルオロアルキレン基、１個以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、または１個以上の水素原子を含む炭素数２以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
   Ｒ^２１は、水素原子またはアルキル基であり、
   Ｒ^２２は、単結合、アルキレン基、またはアルキレン基の末端（ただし、右隣のＣと結合する側の末端。）にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の末端（ただし、右隣のＣと結合する側の末端。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
   Ｒ^２３は、アルキレン基、またはアルキレン基の末端（ただし、左隣のＣと結合する側の末端。）にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の末端（ただし、左隣のＣと結合する側の末端。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
   Ａ^２−Ｏ−Ｑ^２−Ｒ^ｆ２−Ｑ^２２−Ｒ^２４−Ｎ［−Ｒ^２５−ＳｉＲ^２ _ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２］_２ ・・・（２−２）
   ただし、
   Ａ^２、Ｑ^２、Ｒ^ｆ２、Ｒ^２、Ｌ^２およびｎ２は、前記式（２）と同じであり、
   Ｑ^２２は、ペルフルオロアルキレン基であり、
   Ｒ^２４は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端（ただし、Ｎと結合する側の末端を除く。）にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の末端（ただし、Ｎと結合する側の末端を除く。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基であり、
   Ｒ^２５は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基である。
5. 前記化合物（１）の数平均分子量が、５００〜２０，０００であり、
   前記化合物（２）の数平均分子量が、５００〜２０，０００である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。
6. 前記化合物（１）の数平均分子量と前記化合物（２）の数平均分子量との差の絶対値が、２，０００以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。
7. 前記Ｒ^ｆ１が、（Ｒ^Ｆ１Ｏ）_ｍ１（ただし、Ｒ^Ｆ１は炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ１は２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲ^Ｆ１Ｏからなるものであってもよい。）であり、
   前記Ｒ^ｆ２が、（Ｒ^Ｆ２Ｏ）_ｍ２（ただし、Ｒ^Ｆ２は炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ２は２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲ^Ｆ２Ｏからなるものであってもよい。）である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。
8. 前記Ｒ^ｆ１が、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１４｝（ただし、ｍ１１およびｍ１２はそれぞれ１以上の整数であり、ｍ１３およびｍ１４はそれぞれ０または１以上の整数であり、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４は２〜２００の整数である。）または（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）（ただし、ｍ１５は１〜９９の整数である。）であり、
   前記Ｒ^ｆ２が、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２４｝（ただし、ｍ２１およびｍ２２はそれぞれ１以上の整数であり、ｍ２３およびｍ２４はそれぞれ０または１以上の整数であり、ｍ２１＋ｍ２２＋ｍ２３＋ｍ２４は２〜２００の整数である。）または（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ２５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）（ただし、ｍ２５は１〜９９の整数である。）である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
10. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物から形成される表面層を有することを特徴とする物品。
11. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物を用いて、ドライコーティング法により基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を有する物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
12. 請求項９に記載のコーティング液を用いて、ウェットコーティング法により基材の表面を処理して、含フッ素エーテル化合物から形成された表面層を有する物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。