JP6214502B2 - 偏光板の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、偏光板の製造方法に関する。

画像表示装置（特に液晶表示装置）には偏光板が用いられている。
このような偏光板は、偏光子の片面または両面に透明保護フィルム（例えば、セルロースアシレートフィルム等）を接着剤により貼り合わせたものが用いられている。
近年、液晶表示装置、特に中小型用途の液晶表示装置は薄型化が急激に進んでおり、例えば、ハードコート層を含めて偏光板全体の厚みを１００μｍ以下程度まで薄型化することが求められており、使用される部材（フィルム、偏光子）の薄膜化が急務となっている。

例えば、特許文献１には、薄型化の観点などから、「基材層と親水性高分子層が積層されている積層体が延伸処理されている延伸積層体であり、かつ親水性高分子層には少なくとも二色性物質が吸着されている延伸積層体を含有する偏光板であって、前記基材層と前記親水性高分子層が積層されている前記積層体は、前記基材層と前記親水性高分子層が直接積層されており、前記延伸積層体における親水性高分子層は、厚みが２〜１０μｍであり、前記延伸積層体における基材層は、厚みが５〜１００μｍであり、かつ透湿度が１２０ｇ／ｍ^２／２４ｈ以下の範囲であり、前記延伸積層体における親水性高分子層が偏光子として機能し、前記延伸積層体における基材層が偏光子の透明保護フィルムとして用いられることを特徴とする偏光板。」が記載されている（［請求項１］［００２０］）。

特開２０１１−１００１６１号公報

本発明者らは、特許文献１に記載された偏光板について検討したところ、二色性物質（例えば、ヨウ素など）を親水性高分子層（例えば、ポリビニルアルコールフィルムなど）に吸着させる際に、親水性高分子層と同時に基材層も染色（着色）され、その結果、偏光板の透過率が低下する問題があることを明らかとした。

そこで、本発明は、偏光子を薄膜化した場合であっても、染色処理に起因する基材層の染色を抑制し、透過率の低下を抑制することができる偏光板の製造方法を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、染色処理を施す積層体として、低透湿層と基材層と親水性高分子層とをこの順に積層した積層体を用いることにより、偏光子を薄膜化した場合であっても、基材層の染色を抑制し、作製される偏光板の透過率の低下を抑制できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。

［１］ 偏光子を有する偏光板を作製する偏光板の製造方法であって、
低透湿層、基材層および親水性高分子層がこの順で積層された積層体に対して染色処理を施し、親水性高分子層に二色性物質を吸着させることにより、親水性高分子層を偏光子として機能させる偏光子形成工程を有する、偏光板の製造方法。
［２］ 偏光子形成工程が、染色処理の前、染色処理と同時、または、染色処理の後に、更に延伸処理を施す工程である、［１］に記載の偏光板の製造方法。
［３］ 偏光子形成工程が、積層体に対して延伸処理を施した後に、染色処理を施す工程である、［１］に記載の偏光板の製造方法。
［４］ 低透湿層の透湿度が、１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、［１］〜［３］のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
［５］ 偏光子の厚みが、０．５〜３０μｍである、［１］〜［４］のいずれかに記載の偏光板の製造方法。

本発明によれば、偏光子を薄膜化した場合であっても、染色処理に起因する基材層の染色を抑制し、透過率の低下を抑制することができる偏光板の製造方法を提供することができる。
なお、本発明によれば、染色処理を施す積層体における基材層を偏光板の機能層（透明保護フィルム）として利用することができるため、本発明の製造方法は、薄膜化されていない偏光子を有する偏光板の作製にも有用に利用することができる。

図１は、本発明の偏光板の製造方法の一例を示す模式的な断面図である。 図２は、本発明の偏光板の製造方法の他の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

本発明の偏光板の製造方法（以下、「本発明の製造方法」とも略す。）は、偏光子を有する偏光板を作製する偏光板の製造方法であって、低透湿層、基材層および親水性高分子層がこの順で積層された積層体に対して染色処理を施し、親水性高分子層に二色性物質を吸着させることにより、親水性高分子層を偏光子として機能させる偏光子形成工程を有する、偏光板の製造方法である。

このような偏光子形成工程を有する本発明の製造方法は、偏光子を薄膜化した場合であっても、染色処理に起因する基材層の染色を抑制し、透過率の低下を抑制することができる。
ここで、染色処理で用いる染色液には、一般的に、水溶性の二色性物質（例えば、ヨウ素や有機染料等）が含まれており、この二色性物質が水溶媒中で水分子と一緒になり、水分子と同様にフィルム内に進入することができるようになる。
そのため、低透湿層を設けることにより水分子の透過性を落とすことで、水分子と一緒になった染色の原因になる二色性物質の透過性も下げることができる。
よって、本発明においては、低透湿層と基材層と親水性高分子層とをこの順に積層した積層体、特に、低透湿層を有することにより、偏光板の作製環境における水分などの影響を抑制するだけでなく、染色の原因となるヨウ素錯体の透過を抑制し、染色処理（染色浴への浸漬）の際に基材層が染色されることを抑制することができたためと考えられる。

図１は、本発明の偏光板の製造方法の一例を示す模式的な断面図である。
図１（Ａ）に示す積層体１０は、染色処理を施す前の積層体であり、低透湿層１２、基材層１４、および、親水性高分子層１６をこの順に有する積層体である。
一方、図１（Ｂ）に示す偏光板２０は、図１（Ａ）に示す積層体１０に染色処理を施し、親水性高分子層に二色性物質を吸着させた後の態様であり、低透湿層２２、基材層（透明保護フィルム）２４、および、二色性物質が吸着した親水性高分子層（偏光子）２６をこの順に有する偏光板である。

図２は、本発明の偏光板の製造方法の他の一例を示す模式的な断面図である。
図２（Ａ）に示す積層体３０は、染色処理を施す前の積層体であり、第１の低透湿層３２、基材層３４、第２の低透湿層３８、および、親水性高分子層３６をこの順に有する積層体である。
一方、図２（Ｂ）に示す偏光板２０は、図２（Ａ）に示す積層体３０に染色処理を施し、親水性高分子層に二色性物質を吸着させた後の態様であり、第１の低透湿層４２、基材層（透明保護フィルム）４４、第２の低透湿層４８、および、二色性物質が吸着した親水性高分子層（偏光子）４６をこの順に有する偏光板である。

以下に、本発明の製造方法における、積層体およびそれを構成する各層、ならびに、偏光子形成工程などについて詳述する。

［積層体］
積層体は、染色処理を施す前の積層体であり、低透湿層、基材層および親水性高分子層をこの順に有する積層体である。

〔低透湿層〕
上記低透湿層は、水分子の透過性を抑制する層であれば特に限定されないが、後述する染色処理の直前の透湿度（後述する染色処理の前に後述する延伸処理を施した場合は延伸処理の後の透湿度をいう。以下同様。）が、１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であるのが好ましく、７５ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であるのがより好ましく、５０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であるのが更に好ましい。また、透湿度は、０．０１ｇ／ｍ²／２４ｈ以上であるのが好ましい。
ここで、「透湿度」とは、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６の「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に記載された手法に従い、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、面積１ｍ²の試料を２４時間に通過する水蒸気の量（ｇ／ｍ²／ｄａｙ）をいう。

上記低透湿層は、低透湿性、製造適性、環境性などの観点から、分子内に環状脂肪族炭化水素基と不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（以下、「低透湿層用硬化性組成物」とも略す。）から形成されてなる層、または、環状ポリオレフィン系樹脂含有層であることが好ましく、環状ポリオレフィン系樹脂含有層であることがより好ましい。

＜低透湿層用硬化性組成物から形成されてなる層＞
本発明において、低透湿層用硬化性組成物から形成されてなる層は、低透湿性を付与するために、環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内に不飽和二重結合基を有する化合物を主成分として含有し、必要に応じて更に、重合開始剤、溶剤、含フッ素又はシリコーン系化合物、無機微粒子、無機層状化合物を含有する組成物を、後述する基材層上に直接又は他の層（例えば、易接着層など）を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。以下各成分について説明する。なお、組成物または層の主成分とは、その組成物またはその層の５０質量％以上を占める成分のことを言う。

（分子内に環状脂肪族炭化水素基と不飽和二重結合基を有する化合物）
分子内に環状脂肪族炭化水素基と不飽和二重結合基を有する化合物は、バインダーとして機能し得る。
また、この化合物は、硬化剤としても機能することができ、低透湿性を付与と同時に、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。
このような化合物を用いることによって、低透湿性と高い膜強度を実現できる。詳細は明らかではないが、分子内に環状脂肪族炭化水素基を有する化合物を用いることで、低透湿層に疎水的な環状脂肪族炭化水素基を導入し、疎水化することで、外部から分子の取り込みを防止し、透湿度を低下させる。また、分子内に不飽和二重結合基を有することで、架橋点密度を上げ、低透湿層中の水分子の拡散経路を制限する。架橋点密度を上げることは、環状脂肪族炭化水素基の密度を相対的に上昇させる効果も有り、低透湿層内をより疎水的にし、水分子の吸着を防止し、透湿度を低下させると考えられる。
架橋点密度を上げるために分子内に有する不飽和二重結合基の数は２以上であることがより好ましい。

環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数７以上の脂環式化合物から誘導される基であり、より好ましくは炭素数１０以上の脂環式化合物から誘導される基であり、さらに好ましくは炭素数１２以上の脂環式化合物から誘導される基である。
環状脂肪族炭化水素基としては、特に好ましくは、二環式、三環式等の、多環式化合物から誘導される基である。
より好ましくは、特開２００６−２１５０９６号公報の特許請求の範囲記載の化合物の中心骨格、特開昭２００１−１０９９９号公報記載の化合物の中心骨格、あるいは、アダマンタン誘導体の骨格等が挙げられる。

環状脂肪族炭化水素基（連結基含む）としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）のいずれかで表される基が好ましく、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＶ）で表される基がより好ましく、下記一般式（Ｉ）で表される基が更に好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。

一般式（ＩＩ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。

一般式（ＩＩＩ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。

一般式（ＩＶ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表し、Ｌ’’は水素原子または二価以上の連結基を表す。

一般式（Ｖ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表す。

環状脂肪族炭化水素基としては具体的には、ノルボルニル、トリシクロデカニル、テトラシクロドデカニル、ペンタシクロペンタデカニル、アダマンチル、ジアマンタニル等が挙げられる。

不飽和二重結合基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ₂が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル
基を含有する化合物を用いることができる。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタクリロイル基またはアクリロイル基を含む概念をいい、後述する（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルクロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸グリシジル、および、（メタ）アクリル樹脂についても同様である。

環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内に３個以上の不飽和二重結合基を有する化合物は、上記の環状脂肪族炭化水素基と不飽和二重結合を有する基が連結基を介して結合することにより構成される。
連結基としては、単結合、炭素数１〜６の置換されていてもよいアルキレン基、Ｎ位が地置換されていてもよいアミド基、Ｎ位が置換されていてもよいカルバモイル基、エステル基、オキシカルボニル基、エーテル基等、及びこれらを組み合わせて得られる基が挙げられる。

これらの化合物は、例えば、上記環状脂肪族炭化水素基を有するジオール、トリオール等のポリオールと、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を有する化合物のカルボン酸、カルボン酸誘導体、エポキシ誘導体、イソシアナート誘導体等との一段あるいは二段階の反応により容易に合成することができる。
好ましくは、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルクロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸グリシジルなどの化合物や、ＷＯ２０１２／００３１６Ａ号記載の化合物（例、１、１―ビス（アクリロキシメチル）エチルイソシアナート）を用いて、上記環状脂肪族炭化水素基を有するポリオールとの反応させることにより合成することができる。

以下、環状脂肪族炭化水素基を有し不飽和二重結合基を有する化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（重合開始剤）
低透湿層用硬化性組成物には、重合開始剤を含むことが好ましく、重合開始剤としては光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ＢＡＳＦ社製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／イルガキュア１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。

低透湿層用硬化性組成物中の光重合開始剤の含有量は、上記組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させ、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

（溶剤）
低透湿層用硬化性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、塗工時の乾燥性、透光性粒子の分散性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

後述する基材層を構成する材料がセルロースアシレートフィルムの場合、炭酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンのうち少なくとも１種類を用いることが好ましく、炭酸ジメチル、酢酸メチルの何れかがより好ましく、酢酸メチルが特に好ましい。

低透湿層用硬化性組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。

（含フッ素又はシリコーン系界面活性剤）
低透湿層用硬化性組成物は、界面活性剤として、公知の含フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤を使用することができる。
フッ素系界面活性剤の好ましい態様および具体例は、特開２００７−１０２２０６号公報の段落番号［００２３］〜［００８０］に記載されており、本発明においても同様の態様および具体例が挙げられる。

また、シリコーン系界面活性剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としては、ポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。

数平均分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。

好ましいシリコーン系化合物の例としては、例えば、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、“Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、（以上商品名）；チッソ（株）製の、“ＦＭ−７７２５”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−６６２１”、（以上商品名）；Ｇｅｌｅｓｔ製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”（以上商品名）；東レ・ダウコーニング（株）製の“ＳＨ２００”、“ＤＣ１１ＰＡ”、“ＳＴ８０ＰＡ”、“Ｌ７６０４”、“ＦＺ−２１０５”、“Ｌ−７６０４”、“Ｙ−７００６”、“ＳＳ−２８０１”、（以上商品名）；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“ＴＳＦ４００”（商品名）；などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

このようなシリコーン系または含フッ素系の界面活性剤は、低透湿層用硬化性組成物の全固形分中に０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。

（無機微粒子）
低透湿層用硬化性組成物は、低透湿層の透湿度をより低減するために、無機微粒子を含有するのが好ましい。
上記無機微粒子としては、無機酸化物微粒子やフッ化マグネシウムが用いられる。このなかでも特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。
上記無機微粒子の平均粒径（１次粒径）は、３０〜１００ｎｍであることが好ましく、３５〜９０ｎｍであることがより好ましく、４０〜８５ｎｍであることが更に好ましい。
無機微粒子の平均粒径が３０〜１００ｎｍであることで、透湿度低減効果が好ましく発揮される。

なお、平均粒径３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の無機微粒子が透湿度低減効果を発現する機構に関しては、発明者は以下のように考えている。
低透湿層を有するフィルムの一方の面と他方の面の間に水蒸気分圧差をつけると、それをドライビングフォースに低透湿層内を水分子が通過して行く。低透湿層内に無機微粒子がある場合、水分子は無機微粒子内を通過することが出来ず、層内で通過可能な領域が制限されることで透湿度低減効果が生じると考えられる。
一方で、無機微粒子表面は水酸基で覆われており、水分子が吸着し易く、低透湿層内に水分子が存在し易い。定常状態に於いては、低透湿層内で水分子が無機微粒子表面で吸脱着を繰り返していると考えられる。同じ添加量の無機微粒子を低透湿層内に含有させた場合、無機微粒子の平均粒径が３０ｎｍ未満であると、無機微粒子の総表面積が大きくなり、更に無機微粒子間の平均距離が短くなることによって、水分子が無機微粒子内を通過できないという、上記の透湿度低減効果が十分に発揮できないと考えられる。
また、無機微粒子の平均粒径が１００ｎｍより大きいと、無機微粒子とバインダーの間など層内に隙間ができやすくなり、水分子が隙間を通過することで、透湿度が上昇してしまうと考えられる。

無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わないが単分散であることが好ましい。形状は、不定形であってもよいし、多孔質粒子や中空粒子であってもよいが、水分子の吸着が少ないことが好ましいため球径で内部に空洞のない粒子が最も好ましい。

無機微粒子は、平均粒径が異なるものを２種以上併用して用いることもできる。
ここで、無機微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真やＢＥＴ法など公知の方法から求めることができるが、本発明ではＢＥＴ法により平均粒径を求めるものとする。

また、上記無機微粒子は、常法により表面処理されていることが好ましく、シランカップリング剤により表面処理（表面修飾）されていることが好ましい。
特に、低透湿層用硬化性組成物への分散性を改良するために、無機微粒子の表面はオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。無機微粒子の表面の処理方法については、特開２００８−２４２３１４号公報の段落番号［００４６］〜［００７６］に記載されており、該文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶媒、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。

上記無機微粒子の含有量は、透湿度の低下効果を得るため、低透湿層用硬化性組成物の全固形分に対し１０〜８０質量％であることが好ましく、１５〜７５質量％であることがより好ましく、２０〜７０質量％であることが更に好ましい。上記範囲の下限以上であると、透湿度低減効果が得られ、上限以下であると、ボイドの発生による透湿度上昇の問題が起こり難い。

（無機層状化合物）
低透湿層用硬化性組成物は、低透湿層の透湿度を更に低減するために、無機層状化合物を含有するのが好ましい。
無機層状化合物は親水性の表面を有するため、有機化処理することが好ましい。

無機層状化合物とは、単位結晶層が積層した構造を有し、層間に溶媒を配位又は吸収することにより膨潤又はヘキ開する性質を示す無機化合物である。このような無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えば、スメクタイト群粘土鉱物（モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト等）、パームキュライト群粘土鉱物、カオリナイト群粘土鉱物、フィロケイ酸塩（マイカ等）などが例示できる。また、合成無機層状化合物も好ましく用いられ、合成無機層状化合物としては、合成スメクタイト（ヘクトライト、サポナイト、スティブンサイトなど）、合成マイカなどが挙げられ、スメクタイト、モンモリロナイト、マイカが好ましく、モンモリロナイト、マイカがより好ましい。市販品として使用できる無機層状化合物としては、ＭＥＢ−３（コープケミカル（株）製合成マイカ水分散液）、ＭＥ−１００（コープケミカル（株）製合成マイカ）、Ｓ１ＭＥ（コープケミカル（株）製合成マイカ）、ＳＷＮ（コープケミカル（株）製合成スメクタイト）、ＳＷＦ（コープケミカル（株）製合成スメクタイト）、クニピアＦ（クニミネ化学工業（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲルＨＶ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲルＦＷ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル ブライト１１（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル ブライト２３（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル ブライト２５（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル Ａ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル ２Ｍ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）等を用いることができる。
また、かかる無機層状化合物は、これら無機層状化合物に有機化処理を施したものであることが好ましい。

無機層状化合物は、低透湿性と基材−低透湿層間の密着性とを両立させる点から、微粒子化処理されているのが好ましい。微粒子化処理された無機層状化合物は、通常、板状又は扁平状であり、平面形状は特に制限されず、無定形状などであってもよい。微粒子化処理された無機層状化合物の平均粒子径（平面形状の平均粒子径）は、例えば、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜８μｍがより好ましく、０．１〜６μｍが特に好ましい。

＜環状ポリオレフィン系樹脂含有層＞
本発明において、環状ポリオレフィン系樹脂含有層は、環状ポリオレフィン系樹脂を主成分として含有する層である。なお、組成物または層の主成分とは、その組成物またはその層の５０質量％以上を占める成分のことを言う。

（環状ポリオレフィン系樹脂）
環状ポリオレフィン系樹脂とは、環状オレフィン構造を有する重合体樹脂を表す。
環状ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィンの重合体、（３）環状共役ジエンの重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及び（１）〜（４）の水素化物などがある。
本発明に好ましく用いられる環状オレフィン構造を有する重合体としては、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を少なくとも１種以上含む付加（共）重合体である環状ポリオレフィン系樹脂及び必要に応じ、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種以上を更に含んでなる付加（共）重合体である環状ポリオレフィン系樹脂である。また、一般式（ＩＩＩ）で表される環状繰り返し単位を少なくとも１種含む開環（共）重合体も好適に使用することができる。

式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）中、ｍは０〜４の整数を表す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘ¹〜Ｘ³、Ｙ¹〜Ｙ³は水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲ¹¹、−（ＣＨ₂）_nＯＣＯＲ¹²、−（ＣＨ₂）_nＮＣＯ、−（ＣＨ₂）_nＮＯ₂、−（ＣＨ₂）_nＣＮ、−（ＣＨ₂）_nＣＯＮＲ¹³Ｒ¹⁴、−（ＣＨ₂）_nＮＲ¹³Ｒ¹⁴、−（ＣＨ₂）_nＯＺ、−（ＣＨ₂）_nＷ、又はＸ¹とＹ¹あるいはＸ²とＹ²あるいはＸ³とＹ³から構成された（−ＣＯ）₂Ｏ、（−ＣＯ）₂ＮＲ¹⁵を示す。なお、Ｒ¹¹，Ｒ¹²，Ｒ¹³，Ｒ¹⁴，Ｒ¹⁵は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｚは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基、ＷはＳｉＲ¹⁶ _pＤ_3-p（Ｒ¹⁶は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子、−ＯＣＯＲ¹⁶又は−ＯＲ¹⁶、ｐは０〜３の整数を示す）、ｎは０〜１０の整数を示す。

また、ノルボルネン系重合体水素化物も好ましく用いることができ、特開平１−２４０５１７号、特開平７−１９６７３６号、特開昭６０−２６０２４号、特開昭６２−１９８０１号、特開２００３−１１５９７６７号あるいは特開２００４−３０９９７９号等に開示されているように、多環状不飽和化合物を付加重合あるいはメタセシス開環重合したのち水素添加することにより作られる。本発明に用いるノルボルネン系重合体において、Ｒ³〜Ｒ⁶は水素原子又は−ＣＨ₃が好ましく、透湿度が低いという観点から水素原子であることがさらに好ましい。Ｘ³、及びＹ³は水素原子、Ｃｌ、−ＣＯＯＣＨ₃が好ましく、透湿度が低いという観点から水素原子であることがさらに好ましい。その他の基は適宜選択される。ｍは０あるいは１が好ましい。

さらに、ノルボルネン系付加（共）重合体も好ましく用いることができ、特開平１０−７７３２号、特表２００２−５０４１８４号、米国公開特許２００４２２９１５７Ａ１号あるいはＷＯ２００４／０７０４６３Ａ１号等に開示されている。ノルボルネン系多環状不飽和化合物同士を付加重合する事によって得られる。また、必要に応じ、ノルボルネン系多環状不飽和化合物と、エチレン、プロピレン、ブテン；ブタジエン、イソプレンのような共役ジエン；エチリデンノルボルネンのような非共役ジエン；アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの線状ジエン化合物とを付加重合することもできる。中でもエチレンとの共重合体であることが好ましい。ノルボルネン系付加（共）重合体は、市販品としては例えばポリプラスチック（株）製ＴＯＰＡＳ６０１３などを用いることができる。

環状ポリオレフィン系樹脂含有層は、環状ポリオレフィン系樹脂を含有する硬化性組成物（以下、「環状ポリオレフィン系樹脂含有層形成用塗布組成物」とも略す。）を硬化して形成される層であるのが好ましい。
なお、環状ポリオレフィン系樹脂含有層形成用塗布組成物は、必要に応じて更に、上述した低透湿層用硬化性組成物と同様、重合開始剤、無機層状化合物、溶剤等を含有してもよく、特に、溶剤としては、以下の有機溶剤を用いるのが好ましい。

（有機溶剤）
環状ポリオレフィン系樹脂含有層形成用塗布組成物に使用できる有機溶剤としては、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、流動パラフィン、ミネラルスピリットなどの鎖状脂肪族炭化水素系溶剤、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、ジシクロヘプタン、トリシクロデカン、ヘキサヒドロインデン、シクロオクタンなどの脂環式炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、インデン、テトラヒドロナフタレンなどの脂環と芳香環とを有する炭化水素系溶剤、ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリルなどの含窒素炭化水素系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの含酸素炭化水素系溶剤、ジクロロメタン、クロロホルムなどの塩素系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−エチル−１−ヘキサノール、２−メチル−１ヘキサノール、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネートなどのカーボネート系溶剤、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチルなどのエステル系溶剤、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶剤、アセトン、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノンなどケトン系溶剤等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

＜低透湿層の厚さなど＞
上記低透湿層の厚さは、１〜２０μｍであることが好ましく、２〜１８μｍであることがより好ましく、３〜１７μｍであることが特に好ましい。
また、上記低透湿層は、１層であってもよいし、複数層設けてもよい。
更に、上記低透湿層は、透湿度ハードコート層機能、反射防止機能、防汚機能などを併せて持たせることも好ましい。

＜低透湿層の作製方法＞
上記低透湿層の作製方法は特に限定されないが、例えば、低透湿層を後述する基材層を構成する材料との共流延、共押出として作製する方法；低透湿層を後述する基材層上に塗布で積層して設ける方法；等が挙げられ、なかでも、後者の方法であるのが好ましい。

〔基材層〕
上記基材層としては、従来、偏光子の透明保護フィルムとして用いられていたものを用いることができる。
基材層を構成する材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性などに優れる熱可塑性樹脂を用いるのが好ましい。
このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリアミド樹脂；ポリイミド樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂；シクロ系ないしノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）；（メタ）アクリル樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリビニルアルコール樹脂；およびこれらの混合物；等が挙げられる。

また、上記基材層の材料としては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、例えば、（Ａ）側鎖に置換および／または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換および／または非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物のフィルム等が挙げられる。
具体的には、イソブチレンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムが挙げられる。
フィルムは樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。これらのフィルムは位相差が小さく、光弾性係数が小さいため偏光板の歪みによるムラなどの不具合を解消することができ、また透湿度が小さいため、加湿耐久性に優れる。

また、上記基材層には、上述した材料の他に、任意の適切な添加剤が１種類以上含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。
また、上記基材層中の上記熱可塑性樹脂の含有量は、５０〜１００質量％であるのが好ましく、５０〜９９質量％であるのがより好ましく、６０〜９８質量％であるのが更に好ましく、７０〜９７質量％であるのが特に好ましい。基材層中の上記熱可塑性樹脂の含有量が５０質量％以上であると、熱可塑性樹脂が本来有する高透明性等を十分に発現することができる。

上記基材層は、後述する染色処理の直前の透湿度が、１２０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であるのが好ましく、８０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であるのがより好ましく、２０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であるのが更に好ましい。
透湿度が、１２０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であると、後述する染色処理の過程において、上記基材層の染色をより抑制することができ、偏光板の透過率の低下をより抑制することができる。

積層体における基材層の透湿度は、基材層の厚みによって調整することができるが、より薄い厚みで上述した低透湿性（透湿度：１２０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下）を満足するには、基材層として低透湿性の材料を用いるのが好ましい。
低透湿性の材料としては、上記で例示した樹脂のなかでも、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、または、これらの混合体を用いることが好ましい。

本発明においては、上記基材層の材料として、低透湿性の観点から、特に、ポリエステル樹脂、および、（メタ）アクリル樹脂からなる群から選択される少なくとも１つを用いるのが好ましい。

＜ポリエステル樹脂＞
上記基材層の材料としてのポリエステル樹脂は特に限定されず、従来公知のポリエステル樹脂を使用することができる。
ポリエステル樹脂としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート等を挙げることができる。中でも、コストや機械的強度の観点から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが特に好ましい。

＜（メタ）アクリル樹脂＞
上記基材層の材料としての（メタ）アクリル樹脂は特に限定されず、従来公知の（メタ）アクリル樹脂を使用することができる。なお、（メタ）アクリル樹脂とは、メタクリル樹脂またはアクリル樹脂を含む概念であり、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体も含まれる。
また、（メタ）アクリル樹脂は、メタクリル系樹脂、アクリル系樹脂の他に、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体も含み、ラクトン環を有する重合体、無水コハク酸環を有する無水マレイン酸系重合体、無水グルタル酸環を有する重合体、グルタルイミド環含有重合体を含む。

本発明においては、上記（メタ）アクリル樹脂としては、特許文献１（特開２０１１−１００１６１号公報）の［００３３］〜［００３８］段落に記載された（メタ）アクリル系樹脂や、特開２０１０−０７９１７５号公報の［００３３］〜［００６３］段落に記載されたアクリル樹脂や共重合成分を適宜用いることができる。

＜基材層の厚さ＞
基材層の厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの観点から、１〜５００μｍ程度であるのが好ましく、１〜３００μｍであるのがより好ましく、５〜２００μｍであるのが更に好ましく、５〜１５０μｍであるのが特に好ましい。
一方、後述する染色処理の前に後述する延伸処理を施した場合、延伸された積層体（以下、「延伸積層体」ともいう。）における基材層（延伸後の基材層）の厚さは、強度や取扱性等の作業性の観点から、５〜１００μｍ程度であるのが好ましく、５〜６０μｍであるのがより好ましく、５〜４０μｍであるのが更に好ましい。延伸積層体における基材層の厚さは、延伸前の基材層の厚さと延伸倍率により決定される。なお、一般に透湿度は、厚みの逆数に比例するため、延伸積層体の基材層の透湿度の制御は、上記透湿度の範囲になるように延伸前の基材層の厚さと延伸倍率を制御することにより決定することができる。

＜基材層の作製方法＞
基材層の作製方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など、従来公知のフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶融押出法が特に好適である。

溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の成形温度は、フィルム原料のガラス転移温度に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、例えば、好ましくは１５０℃〜３５０℃、より好ましくは２００℃〜３００℃である。

Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻き取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻き取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸などを行うこともできる。

〔親水性高分子層〕
上記親水性高分子層の形成に用いる親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料が挙げられる。ポリビニルアルコール系材料としては、例えば、ポリビニルアルコールおよびその誘導体があげられる。ポリビニルアルコールの誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等があげられる他、エチレン、プロピレン等のオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸そのアルキルエステル、アクリルアミド等で変性したものがあげられる。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜１００００程度が好ましく、１０００〜１００００がより好ましい。ケン化度は８０〜１００モル％程度のものが一般に用いられる。上記の他、親水性高分子としては、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等があげられる。上記親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料のなかでも、ポリビニルアルコールを用いるのが好ましい。

上記ポリビニルアルコール系樹脂中には、可塑剤、界面活性剤等の添加剤を含有することもできる。可塑剤としては、ポリオールおよびその縮合物等があげられ、たとえばグリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等があげられる。可塑剤等の使用量は、特に制限されないがポリビニルアルコール系樹脂中２０質量％以下とするのが好適である。

＜親水性高分子層の厚さ＞
親水性高分子層の厚さは、通常、１〜５０μｍ程度であるのが好ましく、２〜３０μｍであるのがより好ましい。
一方、延伸積層体における親水性高分子層の厚さは、偏光子を薄型として用いることを重視する観点から、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１〜２０μｍであるのがより好ましく、２〜１０μｍであるのが更に好ましい。なお、延伸積層体における親水性高分子層の厚さは、延伸処理により延伸または収縮が生じて、上記の厚さになる。

ここで、積層体、延伸積層体における親水性高分子層の厚さの測定は、親水性高分子層を基材層から剥がした後に測定することができる。厚さの測定は、厚みゲージ等により行う。

＜親水性高分子層の作製方法＞
親水性高分子層の作製方法としては、例えば、上述した基材層の低透湿層が設けられていない側の表面に直接又は他の層（例えば、第２の低透湿層や易接着層など）を介して、親水性高分子を含有する水溶液を塗工した後に、乾燥することにより作製することができる。
上記水溶液は、親水性高分子の粉末または親水性高分子フィルムの粉砕物、切断物等を、適宜に加熱した水（熱水）に溶解することにより調製することができる。
また、上記水溶液の塗工は、ワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを適宜に選択して採用できる。
なお、乾燥温度は、通常、５０〜２００℃であるのが好ましく、８０〜１５０℃であるのがより好ましい。また、乾燥時間は、通常、５〜３０分間程度であるのが好ましい。

〔他の層〕
積層体は、上述した低透湿層、基材層および親水性高分子層の他に、他の層を有していてもよい。
他の層としては、例えば、基材層と親水性高分子層との間に設ける任意の第２の低透湿層（図２（Ａ）−符号３８参照）や、基材層と低透湿層または親水性高分子層との間に設ける任意の易接着層等が挙げられる。

上記第２の低透湿層としては、上述した低透湿層と同様の層を用いることができる。
また、上記易接着層としては、例えば、上記基材層として（メタ）アクリル樹脂を用いる場合、ウレタン樹脂と微粒子とを含む易接着層組成物により形成されたものが挙げられる。また、上記基材層としてポリエステル樹脂を用いる場合、親水性セルロース誘導体、ポリビニルアルコール系化合物、親水性ポリエステル系化合物、ポリビニル系化合物、（メタ）アクリル酸化合物、エポキシ樹脂、ポリウレタン化合物、天然高分子化合物等により形成されたものが挙げられる。
易接着層を形成することにより、基材層と低透湿層または親水性高分子層との密着性が良好となる。

［偏光子形成工程］
本発明の製造方法は、積層体に対して染色処理を施し、親水性高分子層に二色性物質を吸着させることにより、親水性高分子層を偏光子として機能させる偏光子形成工程を有する。
また、本発明の製造方法は、染色処理の前、同時または後に、延伸処理を施すのが好ましく、親水性高分子層に吸着させた二色性物質の配向が良好となる理由から、染色処理の前に延伸処理を施すのがより好ましく、染色処理の前後に延伸処理を施すのが更に好ましい。

延伸処理は、一軸延伸を施すことにより行うのが好ましい。
一軸延伸は、積層体の長手方向に対して行う縦延伸、積層体の幅方向に対して行う横延伸のいずれも採用することができる。本発明では横延伸により行うことが好ましい。横延伸では、幅方向に延伸を行いながら、長手方向に収縮させることもできる。横延伸方式としては、例えば、テンターを介して一端を固定した固定端一軸延伸方法や、一端を固定しない自由端一軸延伸方法等があげられる。縦延伸方式としては、ロール間延伸方法、圧縮延伸方法、テンターを用いた延伸方法等があげられる。延伸処理は多段で行うこともできる。また、延伸処理は、二軸延伸、斜め延伸などを施すことにより行うことができる。

また、延伸処理は、湿潤式延伸方法と乾式延伸方法のいずれも採用できるが、本発明では乾式延伸方法を用いるのが、積層体を延伸する際の温度範囲を広く設定することができる点で好ましい。乾式延伸方法では、通常、積層体を５０〜２００℃程度に加熱した状態で延伸処理を施すのが好ましく、加熱温度は、８０〜１８０℃であるのがより好ましく、１００〜１６０℃であるのが更に好ましい。

延伸処理では、積層体の元長に対して、総延伸倍率で１．５〜１７倍の範囲になるように行うのが好ましく、１．５〜１０倍であるのがより好ましく、１．５〜８倍であるのが更に好ましい。なお、総延伸倍率は、延伸処理工程以外の工程等において延伸を伴う場合には、それらの工程における延伸を含めた累積の延伸倍率をいう。総延伸倍率は、他の工程等における延伸倍率を考慮して適宜に決定される。総延伸倍率が低いと、配向が不足して、高い光学特性（偏光度）の偏光子が得られにくい。一方、総延伸倍率が高すぎると延伸切れが生じ易くなり、また偏光子が薄くなりすぎて、続く工程での加工性が低下するおそれがある。

染色処理は、積層体における親水性高分子層に、二色性物質を吸着させることより行う。
ここで、二色性物質としては、水溶性の二色性物質であるのが好ましく、例えば、ヨウ素や有機染料等が挙げられる。
また、有機染料としては、例えば、レッドＢＲ、レッドＬＲ、レッドＲ、ピンクＬＢ、ルビンＢＬ、ボルドーＧＳ、スカイブルーＬＧ、レモンエロー、ブルーＢＲ、ブルー２Ｒ、ネイビーＲＹ、グリーンＬＧ、バイオレットＬＢ、バイオレットＢ、ブラックＨ、ブラックＢ、ブラックＧＳＰ、エロー３Ｇ、エローＲ、オレンジＬＲ、オレンジ３Ｒ、スカーレットＧＬ、スカーレットＫＧＬ、コンゴーレッド、ブリリアントバイオレットＢＫ、スプラブルーＧ、スプラブルーＧＬ、スプラオレンジＧＬ、ダイレクトスカイブルー、ダイレクトファーストオレンジＳ、ファーストブラック等が挙げられる。
これらの二色性物質は、一種単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。

また、染色処理は、例えば、二色性物質を含有する溶液（染色溶液）に、積層体を浸漬することにより行うのが好ましい。
染色溶液としては、二色性物質を溶媒に溶解した溶液が使用できる。
溶媒としては、水が一般的に使用されるが、水と相溶性のある有機溶媒がさらに添加されてもよい。二色性物質の濃度としては、０．０１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．０２〜７質量％の範囲にあることがより好ましく、０．０２５〜５質量％であることが特に好ましい。

また、二色性物質としてヨウ素を使用する場合、染色効率をより一層向上できることから、さらにヨウ化物を添加することが好ましい。
ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらヨウ化物の添加割合は、上記染色溶液において、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましい。これらのなかでも、ヨウ化カリウムを添加することが好ましく、ヨウ素とヨウ化カリウムの割合（重量比）は、１：５〜１：１００の範囲にあることが好ましく、１：６〜１：８０の範囲にあることがより好ましく、１：７〜１：７０の範囲にあることが特に好ましい。

染色溶液への積層体の浸漬時間は、特に限定されないが、通常は、１５秒〜５分間の範囲であることが好ましく、１分〜３分間であることがより好ましい。また、染色溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲にあることが好ましく、２０〜４０℃の範囲にあることがより好ましい。

本発明の製造方法における偏光子形成工程は、上述した染色処理および任意の延伸処理に加えて、架橋処理を施すことができる。
架橋処理は、例えば、架橋剤を含む溶液（架橋溶液）中に積層体を浸漬してことにより行うことができる。
架橋剤としては、従来公知の物質が使用できる。例えば、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物や、グリオキザール、グルタルアルデヒド等があげられる。これらは一種単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。

架橋溶液としては、架橋剤を溶媒に溶解した溶液が使用できる。
溶媒としては、例えば水が使用できるが、さらに、水と相溶性のある有機溶媒を含んでもよい。上記溶液における架橋剤の濃度は、これに限定されるものではないが、１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、２〜６質量％であることがより好ましい。

架橋溶液中には、偏光子の面内の均一な特性が得られる点から、ヨウ化物を添加してもよい。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタンがあげられ、この含有量は０．０５〜１５質量％であるのが好ましく、０．５〜８質量％であるのがより好ましい。

架橋溶液への上記積層体の浸漬時間は、通常、１５秒〜５分間であることが好ましく、３０秒〜３分間であることがより好ましい。また、架橋溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲にあることが好ましく、２０〜５０℃の範囲にあることがより好ましい。

さらに、架橋処理も染色処理と同様に、架橋溶液を塗工または噴霧する方法を用いても行うことができる。架橋処理は、上記架橋剤を染色溶液中に配合することにより、架橋処理と上記染色処理とを同時に行うことができる。また、架橋処理を延伸処理と行ってもよい。

本発明の製造方法における偏光子形成工程は、上述した処理の他に、金属イオン処理を施すことができる。
金属イオン処理は、金属塩を含む水溶液に、積層体を浸漬することにより行う。金属イオン処理により、種々の金属イオンを積層体の親水性高分子層中に含有させることができる。

金属イオンとしては、特に色調調整や耐久性付与の点からコバルト、ニッケル、亜鉛、クロム、アルミニウム、銅、マンガン、鉄などの遷移金属の金属イオンが好ましく用いられる。これら金属イオンのなかでも、色調調整や耐熱性付与などの点から亜鉛イオンが好ましい。亜鉛塩としては、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などが挙げられる。

金属イオン含浸処理には、金属塩溶液が用いられる。金属塩溶液中の亜鉛イオンの濃度は、０．１〜１０質量％程度であるのが好ましく、０．３〜７質量％であるのがより好ましい。また、金属塩溶液はヨウ化カリウム等のヨウ化物を含有させた水溶液を用いるのが金属イオンを含浸させやすく好ましい。金属塩溶液中のヨウ化物濃度は０．１〜１０質量％程度であるのが好ましく、０．２〜５質量％であるのがより好ましい。

金属イオン含浸処理にあたり、金属塩溶液の温度は、通常１５〜８５℃程度であるのが好ましく、２５〜７０℃であるのがより好ましい。また、浸漬時間は通常１〜１２０秒程度であるのが好ましく、３〜９０秒間であるのがより好ましい。金属イオン含浸処理の段階は特に制限されず、染色溶液および／または架橋溶液中に亜鉛塩を共存させておいて、染色処理および／または架橋処理と同時に行ってもよい。また延伸処理と同時に行うこともできる。

上記処理が施された後には、得られた積層体に、洗浄処理を施すことができる。洗浄処理は、ヨウ化カリウム等のヨウ化物溶液により行うことができる。ヨウ化物溶液中のヨウ化物濃度は、通常、０．５〜１０質量％程度であるのが好ましく、０．５〜８質量％であるのがより好ましく、１〜６質量％であるのが更に好ましい。

ヨウ化物溶液による洗浄処理にあたり、その処理温度は、通常１５〜６０℃程度であるのが好ましく、２５〜４０℃であるのがより好ましい。浸漬時間は通常１〜１２０秒程度であるのが好ましく、３〜９０秒間であるのがより好ましい。ヨウ化物溶液による洗浄処理の段階は、乾燥処理前であれば特に制限はない。

また、洗浄処理としては、水洗浄処理を施すことができる。水洗浄処理は、通常、イオン交換水、蒸留水などの純水に上記延伸積層体を浸漬することにより行うことができる。水洗浄温度は、通常、５〜５０℃であるのが好ましく、１０〜４５℃であるのがより好ましく、１５〜４０℃であるのが更に好ましい。浸漬時間は、通常、１０〜３００秒間であるのが好ましく、２０〜２４０秒間であるのがより好ましい。

洗浄処理の後には乾燥処理を施すことができる。乾燥処理は、任意の適切な方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用されうる。例えば、加熱乾燥の場合の乾燥温度は、通常、２０〜８０℃程度であるのが好ましく、乾燥時間は、通常、１〜１０分間程度であるのが好ましい。

本発明の製造方法により作製される偏光板（以下、「本発明の偏光板」という。）は、基材層の片側に低透湿層を有し、他方の側に親水性高分子層（偏光子）を有する。なお、基材層は、偏光子の透明保護フィルムとして、そのまま用いることができる。

本発明の偏光板は、実用に際して他の光学層と積層した光学フィルムとして用いることができる。その光学層については特に限定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／２や１／４等の波長板を含む）、視角補償フィルムなどの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層を１層または２層以上用いることができる。特に、本発明の偏光板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、偏光板に更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光板、あるいは偏光板に更に輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。

本発明の偏光板または光学フィルムは液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと偏光板または光学フィルム、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による偏光板または光学フィルムを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、などの任意なタイプのものを用いうる。

液晶セルの片側又は両側に偏光板または光学フィルムを配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による偏光板または光学フィルムは液晶セルの片側又は両側に設置することができる。両側に偏光板または光学フィルムを設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

ここで、位相差値は、平行ニコル回転法を原理とする位相差計〔王子計測機器（株）製，製品名「ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ」〕を用いて、波長５９０ｎｍの値について測定した、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの値と、フィルム厚み（ｄ）から、正面位相差Ｒｅ、厚み方向位相差Ｒｔｈ、Ｎｚを求めた。［ただし、フィルムの遅相軸方向、進相軸方向及び厚さ方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）はフィルムの厚みとする。遅相軸方向は、フィルム面内の屈折率の最大となる方向とする。］。

また、透湿度は、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６の「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に記載された手法に従い、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、面積１ｍ²の試料を２４時間に通過する水蒸気の量（ｇ／ｍ²／ｄａｙ）を測定した。

［実施例１］
〔親水性高分子を含有する水溶液の調製〕
（株）クラレ製のポリビニルアルコールフィルム（平均重合度２４００，ケン化度９９モル％、商品名：ＶＦ‐ＰＳ２４００）を、１辺が５ｍｍ以下の小片に裁断し、９５℃の熱水中に溶解して、濃度１０質量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。

〔基材層の作製〕
基材層として、厚み８０μｍのアクリル系樹脂フィルム（ラクトン化ポリメチルメタクリレートフィルム，Ｒｅ＝２ｎｍ，Ｒｔｈ＝０ｎｍ）を用いた。
このアクリル系樹脂フィルムは、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂［共重合モノマーの重量比：メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２；ラクトン環化率約１００％］９０質量部と、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ ＡＳ２０，東洋スチレン（株）製｝１０質量部との混合物（（株）日本触媒製）を溶融押出成膜した後、縦２．０倍に延伸することにより得た。
なお、下記表１中、低透湿層としてのアクリル系樹脂フィルムは、単に「アクリル」と表記する。

〔低透湿層形成用組成物の調製〕
低透湿層形成用組成物を下記に示すように調製した。

＜低透湿層形成用組成物Ｂ−１の組成＞
・Ａ−ＤＣＰ（１００％）：トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
［新中村化学工業（株）製］ ９７．０質量部
・イルガキュア９０７（１００％）：重合開始剤
［ＢＡＳＦ社製］ ３．０質量部
・下記式で表されるＳＰ−１３（レベリング剤）： ０．０４質量部
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン）： ８１．８質量部

〔積層体の作製〕
＜低透湿層の形成＞
上記アクリル系樹脂フィルム（基材層）の片面に、上記低透湿層形成用組成物Ｂ−１を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。
その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低透湿層を形成した。なお、低透湿層の膜厚は３０μｍになるよう塗布量を調整した。
なお、下記表１中、低透湿層は、単に「Ａ−ＤＣＰ」と表記する。

＜親水性高分子層の形成＞
上記アクリル系樹脂フィルム（基材層）の低透湿層が設けられた面とは反対側の面に、先に調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃で１０分間乾燥させて、親水性高分子層として厚み７μｍのポリビニルアルコール塗膜を形成した積層体を得た。

〔延伸処理〕
上記積層体を、１４３℃の加熱下で、テンター装置を用いて、自由端一軸延伸により、幅方向に、延伸倍率５倍まで延伸して延伸積層体とした。このとき、チャック間距離は１００ｍｍ、延伸速度は２ｍｍ／ｓｅｃとした。
この延伸処理後の積層体（延伸積層体）における低透湿層の厚みは１５μｍであり、基材層の厚みは４０μｍであり、親水性高分子層の厚みは５μｍであった。

〔染色処理：偏光子の形成〕
延伸処理後の延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。
その後、６０℃で４分間乾燥を行い、偏光板を得た。
得られた偏光板（延伸積層体）における低透湿層の厚みは１５μｍであり、基材層（透明保護フィルム）の厚みは４０μｍであり、親水性高分子層（偏光子）の厚みは５μｍであった。

［実施例２］
低透湿形成用組成物Ｂ−１に代えて、以下に示す低透湿層形成用組成物Ｂ−２を用いて塗布膜厚を１２μｍとし、延伸後の厚みを５μｍとした低透湿層を形成した以外は、実施例１と同様の方法により偏光板を作製した。なお、下記表１中、低透湿層は、単に「ＴＯＰＡＳ」と表記する。

〔低透湿層形成用組成物の調製〕
低透湿層形成用組成物Ｂ−２を下記に示すように調製した。
＜低透湿層形成用組成物Ｂ−２の組成＞
・環状ポリオレフィン系樹脂 ＴＯＰＡＳ ６０１３
（Ｐｏｌｙｐｌａｓｔｉｃｓ（株）製） １００質量部
・シクロヘキサン ５１０質量部
・シクロヘキサノン ５７質量部

［実施例３］
低透湿形成用組成物Ｂ−１に代えて、以下に示す低透湿層形成用組成物Ｂ−３を用いて低透湿層を形成した以外は、実施例１と同様の方法により偏光板を作製した。なお、下記表１中、低透湿層は、単に「シリカ」と表記する。

〔反応性シリカ粒子の調製〕
＜反応性シリカ微粒子Ａの調製＞
日産化学工業（株）製、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、平均粒径８０ｎｍ、コロイダルシリカ、固形分３０質量％ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）液を、ロータリーエバポレーターを用いてＩＰＡからＭＥＫ（メチルエチルケトン）に溶剤置換を行い、シリカ粒子３０質量％のＭＥＫ分散液を得た。このＭＥＫ分散液１００質量部に３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを５質量部添加し、５０℃で１時間加熱処理することにより、表面処理された平均粒径８０ｎｍの反応性シリカ微粒子の固形分３０質量％ＭＥＫ分散液を得た。（粒径はＢＥＴ法を用いて測定した。）ロータリーエバポレーターを用いて、得られた３０質量％の溶液を濃縮化し、固形分４０質量％ＭＥＫ分散液を得た。

〔低透湿層形成用組成物の調製〕
低透湿層形成用組成物Ｂ−３を下記に示すように調製した。低透湿層形成用組成物Ｂ−３の固形分濃度は５５質量％であった。
＜低透湿層形成用組成物Ｂ−３の組成＞
・Ａ−ＤＣＰ ４６．９６ｇ
・反応性シリカ微粒子Ａ（固形分４０質量％） １２０．００ｇ
・イルガキュア９０７ ３．００ｇ
・上記式で表されるＳＰ−１３ ０．０４ｇ
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ６．８２ｇ

［実施例４］
実施例１において、延伸処理前の基材層として、厚み８０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は、実施例１と同様の方法により偏光板を作製した。なお、下記表１中、基材層は、単に「ＰＥＴ」と表記する。

［実施例５］
低透湿形成用組成物Ｂ−１に代えて、実施例２と同様の低透湿層形成用組成物Ｂ−２を用いて実施例２と同様の低透湿層（塗布後の厚み：１２μｍ，延伸後の厚み：５μｍ）を形成した以外は、実施例４と同様の方法により偏光板を作製した。

［実施例６］
低透湿形成用組成物Ｂ−１に代えて、実施例３と同様の低透湿層形成用組成物Ｂ−３を用いて実施例３と同様の低透湿層（塗布後の厚み：３０μｍ，延伸後の厚み：１５μｍ）を形成した以外は、実施例４と同様の方法により偏光板を作製した。

［実施例７］
親水性高分子層を形成する前に、上記アクリル系樹脂フィルム（基材層）の低透湿層が設けられた面とは反対側の面に、以下に示すコロナ放電処理を施して易接着層を形成し、その後に親水性高分子層を形成した以外は、実施例１と同様の方法により、偏光板を作製した。
得られた偏光板（延伸積層体）における基材層（透明保護フィルム）の厚みは４０μｍであり、低透湿層の厚みは１５μｍであり、易接着層の厚みは０．２μｍであり、親水性高分子層（偏光子）の厚みは５μｍであった。

＜コロナ放電処理＞
上記アクリル系樹脂フィルム（基材層）の低透湿層が設けられた面とは反対側の面に、コロナ放電処理（コロナ放電電子照射量：７７Ｗ／ｍ²／ｍｉｎ）を施した。

＜易接着層の形成＞
ポリエステルウレタン（第一工業製薬製、商品名：スーパーフレックス２１０、固形分：３３％）１６．８ｇ、架橋剤（オキサゾリン含有ポリマー、日本触媒製、商品名：エポクロスＷＳ−７００、固形分：２５％）４．２ｇ、１質量％のアンモニア水２．０ｇ、コロイダルシリカ（扶桑化学工業製、クォートロンＰＬ−３、固形分：２０質量％）０．４２ｇおよび純水７６．６ｇを混合し、易接着剤組成物を得た。
得られた易接着剤組成物を、コロナ放電処理を施した面に、乾燥後の厚みが３５０ｎｍとなるように、バーコーター（＃６）で塗布した。その後、（メタ）アクリル系樹脂フィルムを熱風乾燥機（１４０℃）に投入し、易接着剤組成物を約５分乾燥させて、易接着層（０．５μｍ）を形成した。

［実施例８］
親水性高分子層を形成する前に、上記アクリル系樹脂フィルム（基材層）の低透湿層が設けられた面とは反対側の面に、実施例７と同様のコロナ放電処理を施して易接着層を形成し、その後に親水性高分子層を形成した以外は、実施例４と同様の方法により、偏光板を作製した。

［実施例９］
易接着層の代わりに、実施例１と同様の低透湿層形成用組成物Ｂ−１を用いて低透湿層（第２の低透湿層）を設けた以外は、実施例７と同様の方法により、偏光板を作製した。
得られた偏光板（延伸積層体）における低透湿層の厚みは１５μｍであり、基材層（透明保護フィルム）の厚みは４０μｍであり、第２の低透湿層の厚みは１５μｍであり、親水性高分子層（偏光子）の厚みは５μｍであった。

［実施例１０］
易接着層の代わりに、実施例１と同様の低透湿層形成用組成物Ｂ−１を用いて低透湿層（第２の低透湿層）を設けた以外は、実施例８と同様の方法により、偏光板を作製した。
得られた偏光板（延伸積層体）における低透湿層の厚みは１５μｍであり、基材層（透明保護フィルム）の厚みは４０μｍであり、第２の低透湿層の厚みは１５μｍであり、親水性高分子層（偏光子）の厚みは５μｍであった。

［実施例１１］
延伸処理前の低透湿層の厚み２０μｍとなるように塗布量を調整し、延伸処理後の低透湿層の厚みを１０μｍとした以外は、実施例４と同様の方法により偏光板を作製した。

［比較例１］
低透湿層を設けなかった以外は、実施例１と同様の方法により偏光板を作製した。

［評価］
得られた偏光板の光学特性を、積分球付き分光光度計（日本分光株式会社製のＶ７１００）にて測定した。
各直線偏光に対する透過率はグランテラ‐プリズム偏光子を通して得られた完全偏光を１００％として測定した。単体透過率（Ｔｓ）を波長５５０ｎｍで測定した。
単体透過率（Ｔｓ）が４２．０％以上であるものを「Ａ」と評価し、単体透過率（Ｔｓ）が４１．５％以上４２．０％未満であるものを「Ｂ」と評価し、単体透過率（Ｔｓ）が４１．０％以上４１．５％未満であるものを「Ｃ」と評価し、単体透過率（Ｔｓ）が４１．０％未満であるものを「Ｄ」と評価した。

表１に示す結果から、積層体に低透湿層を設けずに偏光板を作製した場合、透過率が低くなり、光学特性に劣ることが分かった（比較例１）。
これに対し、積層体に低透湿層を設けて偏光板を作製した場合、透過率が４１．０％以上となり、光学特性に優れることが分かった（実施例１〜１１）。また、実施例４と実施例１１との対比から、低透湿層の透湿度が１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であると、透過率が４１．５％以上となり、光学特性がより優れることが分かった。特に、基材層の両面に低透湿層を設けた積層体を用いて偏光板を作製した場合は、透過率が４２．０％以上となり、光学特性が更に優れることが分かった（実施例９および１０）。

１０ 積層体
１２ 低透湿層
１４ 基材層
１６ 親水性高分子層
２０ 偏光板
２２ 低透湿層
２４ 基材層（透明保護フィルム）
２６ 二色性物質が吸着した親水性高分子層（偏光子）
３０ 積層体
３２ 第１の低透湿層
３４ 基材層
３６ 親水性高分子層
３８ 第２の低透湿層
４０ 偏光板
４２ 第１の低透湿層
４４ 基材層（透明保護フィルム）
４６ 二色性物質が吸着した親水性高分子層（偏光子）
４８ 第２の低透湿層

Claims (4)

1. 偏光子を有する偏光板を作製する偏光板の製造方法であって、
   低透湿層、基材層および親水性高分子層がこの順で積層された積層体に対して染色処理を施し、前記親水性高分子層に二色性物質を吸着させることにより、前記親水性高分子層を前記偏光子として機能させる偏光子形成工程を有し、
   前記低透湿層の透湿度が、１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であり、
   前記低透湿層の厚みが、１〜２０μｍであり、
   前記基材層の厚みが、５〜５００μｍであり、
   前記低透湿層が、分子内に環状脂肪族炭化水素基と不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物から形成されてなる層、または、環状ポリオレフィン系樹脂含有層であり、
   前記基材層の材料が、ポリエステル樹脂、および、（メタ）アクリル樹脂からなる群から選択される少なくとも１つである、偏光板の製造方法。
2. 前記偏光子形成工程が、前記染色処理の前、前記染色処理と同時、または、前記染色処理の後に、更に延伸処理を施す工程である、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
3. 前記偏光子形成工程が、前記積層体に対して延伸処理を施した後に、前記染色処理を施す工程である、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
4. 前記偏光子の厚みが、０．５〜３０μｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法。