JP6187067B2 - 座標検出システム、情報処理装置、プログラム、記憶媒体、座標検出方法 - Google Patents
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Description
図2は、本実施形態の座標検出システム500による座標の検出を模式的に説明する図の一例である。コンピュータ100は、図2(a)の右側に示すような各検出部(図2では検出部11cのみを示す)が検出した周辺発光部15の強度分布を保持している。x軸はディスプレイ200の辺(図2では底辺)に対する角度θであるとする。盤面上に何もない場合、図2(a)の右側のような強度分布が得られる。
図3は、コンピュータ100のハードウェア構成図の一例を示す。コンピュータ100は、市販の情報処理装置又は座標検出システム用に開発された情報処理装置である。コンピュータ100は、アドレスバスやデータバス等のバスライン118を介して電気的に接続されたCPU101、ROM102、RAM103、SSD104、ネットワークコントローラ105、外部記憶コントローラ106、センサコントローラ114、GPU112、及び、キャプチャデバイス111を有している。
図5(a)は指示具13の一例を説明する図である。指示具13は主に可動部131、圧力センサ133及び把持部140とを有している。すなわち、ホワイトボードにユーザが手書きするためのマーカーペンなどにおけるインクの滲出部の代わりに又は滲出部と共に、可動部131が設けられている。可動部131は、先端付近に赤外光を透過させる(かつ好ましくは可視光を遮蔽する)プラスチックやガラスなどに光源134が収容された先端発光部130を有している。
図7は、座標検出システム500の構成例を示す図の一例である。上述したように電子黒板は、検出部11、及び、周辺発光部15を主要な要素としてディスプレイ200の盤面における指示具13又は手指14の座標を算出する。検出部11、及び、周辺発光部15を図示するように配置することで、ディスプレイ上の任意の位置の座標を検出可能になる。このように、電子黒板の用途においては、検出範囲はたとえばコンピュータ100の出力を表示するディスプレイ200の表示範囲と一致させる。したがって、ディスプレイ200のサイズに応じて長さの異なる周辺発光部15を配置する。
図10は、検出部11の内部構成および発光した指示具13の受光を模式的に示す図の一例である。検出部11は、検出部11へ入射した赤外光を結像させる結像レンズ121と、固体撮像素子122とを有している。ここでは、固体撮像素子122は複数の受光素子が一列に配置されたCCD、CMOSであるとする。固体撮像素子122は二次元の撮像素子であってもよい。なお、結像レンズ121と周辺発光部15との間に赤外光だけを透過させるフィルタを配置してもよい。
θgに対しθpは一意に決まるので、θgが分かればθpを求めることができる。また、焦点距離fは固定である。したがって、上記の座標計算部25は、例えば受光素子番号にθpが対応づけられたテーブルを参照して、受光素子番号からθpを決定することができる。
検出部11cによりディスプレイ上の一点を指示する指示具13又は手指14の角度θR(図10のθpに相当)が分かり、検出部11dにより指示具13又は手指14の角度θLが分かれば、三角測量により座標を算出できる。図7に示したように、左側の検出部11dの固体撮像素子122の中心と、右側の検出部11cの固体撮像素子122の中心との距離をwとする。距離wは測定可能な値である。したがって、wと式(A)(B)とから、三角測量の原理により、座標計算部25は、手指14又は指示具13で指示された点の2次元座標(x,y)は、
x=w・tanθR/(tanθL+tanθR) ………………(1)
y=w・tanθL・tanθR/(tanθL+tanθR) ……(2)
として算出することができる。
図11は、検出部11が検出する受光レベルを模式的に示す図の一例である。図11(a)は検出部11c、周辺発光部15a、15dと指示具13の位置を模式的に示す図の一例である。
・閾値を下回った連続領域が検出されること
・閾値を超えた連続領域が検出されること
・閾値を下回った連続領域が検出されること
という条件を連続して満たす場合に、ピークを含む領域を検出する。例えば、閾値を下回った1つめの連続領域(特許請求の範囲の第1領域の一例)の最小値と、閾値を下回った2つめの連続領域(特許請求の範囲の第2領域の一例)の最小値の間を領域Ei〜Ejとして検出する。ピーク位置抽出部23は、例えば受光素子Ei〜Ejの中央をピーク位置に決定する。
・閾値を下回った連続領域が検出されること
・その後、所定数の受光素子内で、閾値を下回った連続領域が再度検出されること
という条件を連続して満たす場合に、ピークを含む領域を検出する。ピーク位置抽出部23は、1つめの閾値を下回った連続領域の最小値と、2つめの閾値を下回った連続領域の最小値の間を領域Ei〜Ejの中央をピーク位置に決定する。
図14(a)は、検出部11とアプリケーションがピーク位置を決定する手順を示すフローチャート図の一例である。図14(a)の処理は、座標検出システム500の電源がONになると開始される。
図15は、ディスプレイ200に表示されるUI画像、ストローク画像、出力画像の合成を模式的に説明する図の一例である。画像合成部28は視線方向に対し初期設定されている優先順位で3つの画像を合成する。ユーザが任意の画像を優先して手前で表示させたり、一部の画像の合成を行わないことも可能である。
図16(a)は、再帰性反射部材が用いられた場合の検出部の概略構成図の一例である。図16(a)に示すように、周辺発光部15でなく光を反射する再帰性反射部材をディスプレイ200を囲むように配置してもよい。
本実施例では、表示装置としてディスプレイ200を用いたが、表示装置としてプロジェクタを用いてもよい。この場合、図3のディスプレイコントローラ113にプロジェクタが接続される。プロジェクタは周辺発光部15に囲まれた領域に画像を投影する。周辺発光部15に囲まれた領域は、表示機能を備えていない例えばホワイトボート又は本実施例のディスプレイ200でもよい。
13 指示具
14 手指
15 周辺発光部
21 極大領域検出部
22 極小領域検出部
23 ピーク位置抽出部
24 極小位置抽出部
25 座標計算部
100 コンピュータ
200 ディスプレイ
300 PC
500 座標検出システム
Claims (12)
- 盤面に対する指示動作により指示された座標を検出する座標検出システムであって、
前記盤面の周囲に配置された周辺発光部の光を水平方向に配列された受光素子で受光する少なくとも2つの受光手段と、
前記指示動作により遮光されてない状態の前記周辺発光部の光を前記受光素子ごとの受光レベルの分布として前記受光手段が受光した第1の強度分布と、前記指示動作により盤面が指示された状態の前記周辺発光部の光を前記受光素子ごとの受光レベルの分布として前記受光手段が受光した第2の強度分布との比較に基づいて、前記指示動作により指示された座標を検出する座標検出手段と、を有し、
前記座標検出手段は、前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第1の閾値より、受光レベルが大きい受光素子に基づき、第1の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第2の閾値より、受光レベルが小さい前記受光素子に基づき、第2の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第2の強度分布において前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第1の領域が存在し、該第1の領域から所定距離内に前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第2の領域が存在する場合、
前記座標検出手段は、前記第1の領域と前記第2の領域の中央部に基づき、前記第1の指示手段が指示する座標を検出する、ことを特徴とする座標検出システム。 - 前記周辺発光部が周期的に発光と消灯を繰り返す場合、
前記座標検出手段は前記周辺発光部が消灯している時間帯の前記第2の強度分布において、前記受光素子ごとに受光レベルが第3の閾値より大きいか否かを比較し、
前記周辺発光部が点灯している時間帯の前記第2の強度分布において、前記受光素子ごとに受光レベルが第2の閾値より小さいか否かを比較する、
ことを特徴とする請求項1に記載の座標検出システム。 - 前記受光手段は、四角形の前記盤面の四隅にそれぞれ配置されている、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の座標検出システム。 - 盤面に対する指示動作により指示された座標を検出する座標検出システムであって、
前記盤面の周囲に配置された周辺発光部と、
前記盤面の周囲に配置された周辺発光部の光を水平方向に配列された受光素子で受光する少なくとも2つの受光手段と、
前記指示動作により遮光されてない状態の前記周辺発光部の光を、前記受光素子ごとの受光レベルの分布として前記受光手段が受光した第1の強度分布と、前記指示動作により盤面が指示された際に前記受光素子ごとの受光レベルの分布として前記受光手段が受光した第2の強度分布との比較に基づいて、前記指示動作により指示された座標を検出する座標検出手段と、を有し、
前記座標検出手段は、前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第1の閾値より、受光レベルが大きい受光素子に基づき、第1の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第2の閾値より、受光レベルが小さい前記受光素子に基づき、第2の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第2の強度分布において前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第1の領域が存在し、該第1の領域から所定距離内に前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第2の領域が存在する場合、
前記座標検出手段は、前記第1の領域と前記第2の領域の中央部に基づき、前記第1の指示手段が指示する座標を検出する、ことを特徴とする座標検出システム。 - 端部から所定範囲内に発光部が搭載された第1の指示手段をさらに有し、
前記受光手段は、前記周辺発光部の発光強度に、前記発光部の発光強度が重畳した状態で受光レベルを検出する、
ことを特徴とする請求項4に記載の座標検出システム。 - 前記発光部の発光強度は前記周辺発光部の発光強度よりも大きい、ことを特徴とする請求項5に記載の座標検出システム。
- 前記発光部は前記第1の指示手段の端部が押圧された場合に発光し、押圧されなくなると消灯する、
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の座標検出システム。 - 前記第1の指示手段は、端部が押圧された場合に押圧信号を送信する送信手段を有し、
前記発光部は常時発光しており、
前記座標検出手段が検出した座標に基づき操作を受け付ける操作受け付け手段を有し、
前記操作受け付け手段は、前記押圧信号を受信した時に前記座標検出手段が座標を検出したか、又は、前記押圧信号を受信しない時に前記座標検出手段が座標を検出したかによって、異なる操作を受け付ける、
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の座標検出システム。 - 盤面に対する指示動作により指示された座標を検出する情報処理装置であって、
前記盤面の周囲に配置された周辺発光部の光を水平方向に配列された受光素子で受光した2つの受光手段から、
前記指示動作により遮光されてない状態の前記周辺発光部の光を前記受光素子ごとの受光レベルの分布として取得した第1の強度分布と、前記指示動作により盤面が指示された状態の前記周辺発光部の光を前記受光素子ごとの受光レベルの分布として取得した第2の強度分布との比較に基づいて、前記指示動作により指示された座標を検出する座標検出手段と、を有し、
前記座標検出手段は、前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第1の閾値より、受光レベルが大きい受光素子に基づき、第1の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第2の閾値より、受光レベルが小さい前記受光素子に基づき、第2の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第2の強度分布において前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第1の領域が存在し、該第1の領域から所定距離内に前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第2の領域が存在する場合、
前記座標検出手段は、前記第1の領域と前記第2の領域の中央部に基づき、前記第1の指示手段が指示する座標を検出する、ことを特徴とする情報処理装置。 - 盤面に対する指示動作により指示された座標を検出する情報処理装置を、
前記盤面の周囲に配置された周辺発光部の光を水平方向に配列された受光素子で受光した2つの受光手段から、
前記指示動作により遮光されてない状態の前記周辺発光部の光を前記受光素子ごとの受光レベルの分布として取得した第1の強度分布と、前記指示動作により盤面が指示された状態の前記周辺発光部の光を前記受光素子ごとの受光レベルの分布として取得した第2の強度分布との比較に基づいて、前記指示動作により指示された座標を検出する座標検出手段、として機能させ、
前記座標検出手段は、前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第1の閾値より、受光レベルが大きい受光素子に基づき、第1の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第2の閾値より、受光レベルが小さい前記受光素子に基づき、第2の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第2の強度分布において前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第1の領域が存在し、該第1の領域から所定距離内に前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第2の領域が存在する場合、
前記座標検出手段は、前記第1の領域と前記第2の領域の中央部に基づき、前記第1の指示手段が指示する座標を検出する、プログラム。 - 請求項10記載のプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
- 情報処理装置が盤面に対する指示動作により指示された座標を検出する座標検出方法であって、
前記盤面の周囲に配置された周辺発光部の光を水平方向に配列された受光素子で受光した2つの受光手段から、
座標検出手段が、前記指示動作により遮光されてない状態の前記周辺発光部の光を前記受光素子ごとの受光レベルの分布として取得した第1の強度分布と、前記指示動作により盤面が指示された状態の前記周辺発光部の光を前記受光素子ごとの受光レベルの分布として取得した第2の強度分布との比較に基づいて、前記指示動作により指示された座標を検出するステップを有し、
前記座標検出手段は、前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第1の閾値より、受光レベルが大きい受光素子に基づき、第1の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第1の強度分布の受光レベルに基づき前記受光素子ごとに設定された第2の閾値より、受光レベルが小さい前記受光素子に基づき、第2の指示手段が指示する座標を検出し、
前記第2の強度分布において前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第1の領域が存在し、該第1の領域から所定距離内に前記第1の閾値より小さい受光レベルの受光素子が連続する第2の領域が存在する場合、
前記座標検出手段は、前記第1の領域と前記第2の領域の中央部に基づき、前記第1の指示手段が指示する座標を検出する、ことを特徴とする座標検出方法。
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