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JP6074698B1 - Thermosetting adhesive sheet and use thereof - Google Patents

Thermosetting adhesive sheet and use thereof Download PDF

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JP6074698B1
JP6074698B1 JP2015151593A JP2015151593A JP6074698B1 JP 6074698 B1 JP6074698 B1 JP 6074698B1 JP 2015151593 A JP2015151593 A JP 2015151593A JP 2015151593 A JP2015151593 A JP 2015151593A JP 6074698 B1 JP6074698 B1 JP 6074698B1
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Abstract

【課題】 本発明の目的は、硬化時の寸法安定性に優れ、硬化後の接着性、耐熱性(特に加湿後)、屈曲性、電気絶縁性、低誘電率および低誘電正接に優れる熱硬化性接着シートを提供することである。【解決手段】 反応性官能基とハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基とを合計で0.01〜9(mmol/1g)含む樹脂(A1)、特定量の有機金属化合物(B)およびエポキシ基含有化合物(C)を含む熱硬化性組成物から形成されてなる熱硬化性接着シート。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To thermally cure excellent in dimensional stability during curing, excellent in adhesion after curing, heat resistance (especially after humidification), flexibility, electrical insulation, low dielectric constant and low dielectric loss tangent. It is providing an adhesive sheet. A resin (A1) containing a total of 0.01 to 9 (mmol / 1 g) of a reactive functional group and a functional group having a hetero atom other than halogen, a specific amount of an organometallic compound (B), and an epoxy group The thermosetting adhesive sheet formed from the thermosetting composition containing a containing compound (C). [Selection figure] None

Description

本発明は、低極性樹脂、有機金属化合物及びエポキシ基含有化合物を含有する熱硬化性接着シートに関する。本発明の熱硬化性接着シートは、プリント配線板の回路面の保護に好適に用いられる。   The present invention relates to a thermosetting adhesive sheet containing a low polarity resin, an organometallic compound, and an epoxy group-containing compound. The thermosetting adhesive sheet of the present invention is suitably used for protecting the circuit surface of a printed wiring board.

近年、エレクトロニクス分野の発展が目覚しく、特に電子機器の小型化、軽量化、高密度化が進み、プリント配線板をはじめとする電子材料には、薄型化、多層化、高精細化がますます要求されるようになっている。従来のガラスエポキシ等に代表される肉厚のリジッド基板の場合、高度な屈曲性、接着性、狭スペース化に伴う高い電気絶縁性、低誘電率、低誘電正接は求められなかった。
しかし、最近のプリント配線板をはじめとする電子材料には、耐熱性、加工性の他、高度な屈曲性、接着性、狭スペース化に伴う高い電気絶縁性、低誘電率、低誘電正接が求められている。
このような電子材料周辺に用いられる接着剤やコーティング剤としては、例えば、具体的には次の(1)〜(6)が挙げられる。
In recent years, there has been a remarkable development in the electronics field, and in particular, electronic devices have become smaller, lighter, and more dense, and electronic materials such as printed wiring boards are increasingly required to be thinner, multilayered, and more precise. It has come to be. In the case of a thick rigid substrate typified by conventional glass epoxy or the like, high flexibility, adhesiveness, high electrical insulation, low dielectric constant, and low dielectric loss tangent associated with a narrow space have not been required.
However, recent printed wiring boards and other electronic materials have not only heat resistance and workability, but also high flexibility, adhesion, high electrical insulation due to narrow space, low dielectric constant, and low dielectric loss tangent. It has been demanded.
Specific examples of adhesives and coating agents used around such electronic materials include the following (1) to (6).

(1)層間接着剤:回路基板同士を張り合わせるために用いられるもので、直接銅あるいは銀回路に接する。多層基板の層間に使用され、液状やシート状のものがある。 (1) Interlayer adhesive: Used to bond circuit boards together, and is in direct contact with copper or silver circuit. It is used between the layers of a multilayer substrate, and there are liquid and sheet-like ones.

(2)カバーレイフィルム用接着剤:カバーレイフィルム(回路の最表面を保護する目的で用いられるポリイミドフィルムなど)と、下地の回路基板と、を張り合わせるために用いられ、あらかじめポリイミドフィルムと、接着層とが一体化されているものが多い。 (2) Coverlay film adhesive: used to bond a coverlay film (such as a polyimide film used for the purpose of protecting the outermost surface of a circuit) and an underlying circuit board; In many cases, the adhesive layer is integrated.

(3)銅張フィルム(CCL)用接着剤:ポリイミドフィルムと銅箔とを張り合わせるために用いられる。銅回路形成時にエッチング等の加工が施される。 (3) Adhesive for copper-clad film (CCL): used to bond polyimide film and copper foil together. Processing such as etching is performed when the copper circuit is formed.

(4)カバーレイ:回路の最表面を保護する目的で用いられ、回路上に印刷インクを印刷したり、接着シートを張り合わせたりした後、硬化させることで形成される。感光性や熱硬化性のものがある。 (4) Coverlay: used for the purpose of protecting the outermost surface of the circuit, and is formed by printing a printing ink on the circuit or pasting an adhesive sheet and then curing. Some are photosensitive and thermosetting.

(5)補強板用接着剤:配線板の機械的強度を補完する目的で、配線板の一部を、金属、ガラスエポキシ、ポリイミド等の補強板に固定するために用いられる。 (5) Adhesive for reinforcing plate: For the purpose of complementing the mechanical strength of the wiring board, it is used to fix a part of the wiring board to a reinforcing plate made of metal, glass epoxy, polyimide or the like.

(6)電磁波シールド用接着剤:電子回路から発生する電磁ノイズを遮蔽する目的で、フレキシブルプリント配線板に貼着される。 (6) Adhesive for electromagnetic wave shield: Affixed to a flexible printed wiring board for the purpose of shielding electromagnetic noise generated from an electronic circuit.

これらの形態としては、液状(印刷用にインク化されたもの)やシート状(あらかじめフィルム化されたもの)等があり、用途に応じて適宜形態が選択される。   As these forms, there are liquid forms (ink-printed for printing), sheet-like forms (film-formed in advance), and the like is appropriately selected according to the application.

こういった電子材料周辺部材への高い要求に応えるため、様々な検討が行われているが、全ての特性を充分に満足させるものは得られていない。
例えば、特許文献1には、ウレタン変性エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤を主成分とするエポキシ樹脂組成物が開示されている。
Various studies have been made in order to meet such high demands on electronic material peripheral members, but no material that sufficiently satisfies all the characteristics has been obtained.
For example, Patent Document 1 discloses an epoxy resin composition mainly composed of a urethane-modified epoxy resin and an epoxy resin curing agent.

特許文献2、3には、シアネートエステル樹脂と1価のフェノール化合物を含む硬化性組成物が開示されている。   Patent Documents 2 and 3 disclose curable compositions containing a cyanate ester resin and a monovalent phenol compound.

特許文献4には、フェノール類、トリアジン環を有する化合物、ヒドロキシル基置換芳香族アルデヒドを反応させて得られるフェノール樹脂とエポキシ樹脂を含有することを特徴とする硬化性組成物が開示されている。   Patent Document 4 discloses a curable composition comprising a phenol resin obtained by reacting a phenol, a compound having a triazine ring, and a hydroxyl group-substituted aromatic aldehyde and an epoxy resin.

特許文献5には、ポリエーテルエステルアミドをラジカル重合させる硬化性組成物が開示されている。   Patent Document 5 discloses a curable composition for radical polymerization of polyetheresteramide.

特許文献6には、架橋構造を有しない熱可塑性樹脂を用いて積層体回路を形成する方法として、液晶ポリマーを用いる例が開示されている。   Patent Document 6 discloses an example in which a liquid crystal polymer is used as a method of forming a laminate circuit using a thermoplastic resin having no cross-linked structure.

特許文献7には、オキセタン構造と熱カチオン硬化触媒を主成分とする硬化性組成物が開示されている。   Patent Document 7 discloses a curable composition mainly composed of an oxetane structure and a thermal cation curing catalyst.

特許文献8には、可撓性を有する有機絶縁性フィルム、接着剤層および保護フィルムを有するTAB用接着剤付きテープであって、前記接着剤層がポリアミド樹脂と有機金属化合物とエポキシ樹脂とを含有する、TAB用接着剤付きテープが開示されている。具体的には、ポリアミド樹脂と有機金属化合物と2官能のエポキシ樹脂とを含有する接着剤シートにて銅箔とポリイミドフィルムとを貼り合わせた場合に、メッキ処理後における剥離強度(接着強度)が優れ、150℃環境下における絶縁性に優れる旨、記載されている。   Patent Document 8 discloses a tape with an adhesive for TAB having a flexible organic insulating film, an adhesive layer and a protective film, and the adhesive layer comprises a polyamide resin, an organometallic compound, and an epoxy resin. A tape with an adhesive for TAB is disclosed. Specifically, when a copper foil and a polyimide film are bonded together with an adhesive sheet containing a polyamide resin, an organometallic compound, and a bifunctional epoxy resin, the peel strength (adhesive strength) after plating treatment is It is described that it is excellent and has excellent insulation properties at 150 ° C.

特許文献9には、飽和炭化水素系重合体と環式脂肪族エポキシ樹脂とアルミキレート化合物とを含有する接着剤組成物が開示されている。前記接着剤組成物は、未硬化状態で液状であり、各種成型加工や各種電気・電子部品の封止に用いられる旨、記載されている。   Patent Document 9 discloses an adhesive composition containing a saturated hydrocarbon polymer, a cyclic aliphatic epoxy resin, and an aluminum chelate compound. It is described that the adhesive composition is liquid in an uncured state and is used for various molding processes and sealing of various electric / electronic components.

特許文献10には、塩素含有樹脂を金属管にライニング(接着)するための合成樹脂ライニング用接着剤組成物が開示されている。塩素含有樹脂を金属管にライニング(接着)するに際し、加熱に伴う塩素含有樹脂の劣化(脱塩素反応及び脱塩酸反応)を促進しないことが、ライニング用接着剤組成物に求められる。特許文献10記載の合成樹脂ライニング用接着剤組成物は、結晶性飽和ポリエステル樹脂とチタンキレート等とを含む組成物Aと、エポキシ基含有化合物Bとからなる。   Patent Document 10 discloses a synthetic resin lining adhesive composition for lining (adhering) a chlorine-containing resin to a metal tube. When lining (adhering) a chlorine-containing resin to a metal tube, the adhesive composition for lining is required not to accelerate deterioration (dechlorination reaction and dehydrochlorination reaction) of the chlorine-containing resin accompanying heating. The adhesive composition for synthetic resin lining described in Patent Document 10 comprises a composition A containing a crystalline saturated polyester resin and titanium chelate, and an epoxy group-containing compound B.

特許文献11には、導電性接着剤の樹脂成分として用いることのできる、ポリエステル単位またはポリエーテル単位を有する水酸基含有高分子化合物(A)、エポキシ化合物(B)、アルミニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物等のキレート化合物(D)を含有する樹脂組成物が開示されている。   In Patent Document 11, a hydroxyl group-containing polymer compound (A) having a polyester unit or a polyether unit, an epoxy compound (B), an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and the like that can be used as a resin component of a conductive adhesive. A resin composition containing the chelate compound (D) is disclosed.

特許文献12には、ポリイミド樹脂(A)、エポキシ樹脂(B)およびエポキシ樹脂硬化剤(C)を含む、熱重合性及び放射線重合性接着シートが開示されている。さらに、特許文献12には、異種材料間の界面結合を良くするための手段として、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤の利用が示唆されている。   Patent Document 12 discloses a thermally polymerizable and radiation polymerizable adhesive sheet containing a polyimide resin (A), an epoxy resin (B), and an epoxy resin curing agent (C). Furthermore, Patent Document 12 suggests the use of a titanium-based coupling agent and an aluminum-based coupling agent as a means for improving interfacial bonding between different materials.

特許文献13には、アクリル重合体(A)、エポキシ系熱硬化性樹脂(B)および有機キレート剤(D)を含む、接着剤組成物が開示されている。さらに、基材上に、剥離可能な接着剤層が前記接着剤組成物から形成されてなる接着シートが開示されている。   Patent Document 13 discloses an adhesive composition containing an acrylic polymer (A), an epoxy thermosetting resin (B), and an organic chelating agent (D). Furthermore, an adhesive sheet is disclosed in which a peelable adhesive layer is formed on the base material from the adhesive composition.

特許文献14には、アクリル系ポリマーと、イソシアネート系硬化剤と、エポキシ系や金属キレート系の硬化剤をさらに含有する光学用粘着剤が開示されている。   Patent Document 14 discloses an optical pressure-sensitive adhesive that further contains an acrylic polymer, an isocyanate curing agent, and an epoxy or metal chelate curing agent.

特許文献15には、ポリエステル樹脂と、キレート系化合物(C)と、特定のエポキシ樹脂(D)とを含有する樹脂組成物が開示されている。飲料缶、食缶等の胴及び蓋には、PETフィルム等のフィルムをアルミニウムや錫メッキ鋼板やティンフリースチール等の金属板に貼り付けたものが用いられる。特許文献15には、前記樹脂組成物は、前記フィルムを前記金属板に貼り付けるための接着剤として用い得る旨開示されている。   Patent Document 15 discloses a resin composition containing a polyester resin, a chelate compound (C), and a specific epoxy resin (D). For the body and lid of beverage cans, food cans, etc., a film such as a PET film attached to a metal plate such as aluminum, tin-plated steel plate or tin-free steel is used. Patent Document 15 discloses that the resin composition can be used as an adhesive for attaching the film to the metal plate.

特許文献16、17には、エポキシ樹脂、硬化剤、エポキシ樹脂と非相溶性である高分子化合物を含有する接着フィルムが開示され、異種材料間の界面結合向上を目的としてチタン系やアルミニウム系のカップリング剤の利用が示唆示されている。   Patent Documents 16 and 17 disclose an adhesive film containing an epoxy resin, a curing agent, and a polymer compound that is incompatible with the epoxy resin. For the purpose of improving the interfacial bond between different materials, a titanium-based or aluminum-based film is disclosed. The use of coupling agents is suggested.

特開2011−105916号公報JP 2011-105916 A 特開2001−214053号公報JP 2001-214053 A 特開2002−138199号公報JP 2002-138199 A 特開2006−249178号公報JP 2006-249178 A 特開2013−45755号公報JP 2013-45755 A 特開2005−105165号公報JP 2005-105165 A 特開2007−077330号公報JP 2007-073330 A 特開平9−64111号公報JP-A-9-64111 特開2000−230091号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2000-230091 特開平6−313160号公報JP-A-6-313160 特開平11−80695号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-80695 特開2003−41202号公報JP 2003-41202 A 国際公開 2011/125712International Publication 2011-125712 特開2011−37927号公報JP 2011-37927 A 特開2012−31222号公報JP 2012-312222 A 特開2008−195943号公報JP 2008-195943 A 特開2008−121005号公報JP 2008-112005 A

特許文献1に開示されるエポキシ樹脂組成物は、ウレタン由来の接着性や、良好な回路埋め込み性を示すものの、高極性なウレタン結合が多数含まれることから、電気絶縁性に劣るという問題があった。
特許文献2、3に開示される硬化性組成物は、良好な接着性や、高Tgに由来する耐熱性を示すものの、成型物がもろいといった問題があった。また、シアネート基の3量化により、対称構造を形成することから、比較的低誘電性を示すものの、元々の極性基が多いことから、誘電率は3.5前後と市場での要求レベルに届いていないといった問題があった。
特許文献4に開示される硬化性組成物は、高い芳香族含有量に由来する高い耐熱性と難燃性を示すものの、高い分子間相互作用により、屈曲性に劣るという問題があった。
特許文献5に開示される硬化性組成物は、アミドやエーテルに由来する高い接着性や絶縁性を示すものの、吸湿しやすい構造であることから加湿後の耐熱性に劣るという問題があった。
特許文献6に開示される積層体回路形成方法は、高温で樹脂を溶融させることにより高い接着性を発現できるが、溶融温度が280℃以上と高温なため、他の耐熱性に劣る部材に対する悪影響や、高温溶融に対応した設備導入の必要性といった問題があった。
特許文献7に開示される硬化性組成物は、水酸基の生成を抑えることによる低誘電化と、カチオン重合の長所である低硬化収縮に由来する加工安定性を示すものの、酸発生による金属腐食の懸念や、水分による硬化阻害といった安定性の面での問題があった。また、誘電率は3.1前後と比較的低誘電率を示すものの、市場での要求レベルには届いていないといった問題があった。
Although the epoxy resin composition disclosed in Patent Document 1 exhibits adhesiveness derived from urethane and good circuit embedding properties, it has a problem of poor electrical insulation because it contains a large number of highly polar urethane bonds. It was.
Although the curable compositions disclosed in Patent Documents 2 and 3 exhibit good adhesiveness and heat resistance derived from high Tg, there is a problem that a molded product is fragile. Trimerization of cyanate groups forms a symmetric structure, so it exhibits relatively low dielectric properties, but has many polar groups, so the dielectric constant reaches around 3.5, which is the required level in the market. There was a problem that it was not.
Although the curable composition disclosed in Patent Document 4 exhibits high heat resistance and flame retardancy derived from a high aromatic content, there is a problem that flexibility is inferior due to high intermolecular interaction.
Although the curable composition disclosed in Patent Document 5 exhibits high adhesiveness and insulating properties derived from amides and ethers, it has a problem of poor heat resistance after humidification because it has a structure that easily absorbs moisture.
The laminate circuit forming method disclosed in Patent Document 6 can exhibit high adhesiveness by melting a resin at a high temperature, but since the melting temperature is as high as 280 ° C. or higher, it has an adverse effect on other inferior heat resistant members. In addition, there was a problem that it was necessary to introduce equipment corresponding to high temperature melting.
Although the curable composition disclosed in Patent Document 7 exhibits low dielectric constant by suppressing the formation of hydroxyl groups and processing stability derived from low curing shrinkage, which is an advantage of cationic polymerization, it does not cause metal corrosion due to acid generation. There were concerns and problems in stability such as inhibition of curing by moisture. In addition, although the dielectric constant is relatively low at around 3.1, there is a problem that it does not reach the required level in the market.

特許文献8に開示される接着剤付きテープは、用いられるエポキシ樹脂が2官能であるため硬化後の耐熱性が不十分である。
特許文献9に開示される接着剤組成物は、未硬化状態では液状なので、シート状にはできない。
特許文献10に開示される接着剤組成物は、塩素含有樹脂を金属管に貼り付けるためのものであって、特許文献10にはプリント配線板への適用は記載されていない。
特許文献11に開示される導電性接着剤を用いてシートを得る旨は記載されていない。
特許文献12には、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤の利用が示唆されている。しかし、その利用は異種材料間の界面結合向上を目的とするものに過ぎない。
特許文献13には、有機キレート剤の利用は開示されているが、有機金属化合物の利用は記載されていない。
特許文献14に開示される粘着シートは、エージング後、即ち硬化後のシートをガラス板に貼って使用するものである。特許文献14には、硬化前の接着シートを被着体間に挟んで、熱硬化する旨は開示されていない。
特許文献15に開示される樹脂組成物は、飲料缶や食缶用のフィルム被覆金属板を得るためのものであって、特許文献15にはプリント配線板への適用は記載されていない。
特許文献16、17には、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤の利用が示唆されている。しかし、その利用は異種材料間の界面結合向上を目的とするものに過ぎない。
The tape with an adhesive disclosed in Patent Document 8 has insufficient heat resistance after curing because the epoxy resin used is bifunctional.
Since the adhesive composition disclosed in Patent Document 9 is liquid in an uncured state, it cannot be formed into a sheet.
The adhesive composition disclosed in Patent Document 10 is for attaching a chlorine-containing resin to a metal tube, and Patent Document 10 does not describe application to a printed wiring board.
There is no description that a sheet is obtained using the conductive adhesive disclosed in Patent Document 11.
Patent Document 12 suggests the use of a titanium coupling agent and an aluminum coupling agent. However, its use is only for the purpose of improving the interfacial bond between different materials.
Patent Document 13 discloses the use of an organic chelating agent, but does not describe the use of an organometallic compound.
The pressure-sensitive adhesive sheet disclosed in Patent Document 14 is used by pasting a sheet after aging, that is, after curing, on a glass plate. Patent Document 14 does not disclose that an adhesive sheet before curing is sandwiched between adherends and thermally cured.
The resin composition disclosed in Patent Document 15 is for obtaining a film-coated metal plate for beverage cans and food cans, and Patent Document 15 does not describe application to a printed wiring board.
Patent Documents 16 and 17 suggest the use of a titanium coupling agent and an aluminum coupling agent. However, its use is only for the purpose of improving the interfacial bond between different materials.

本発明は、硬化時の寸法安定性に優れ、硬化後の接着性、耐熱性(特に加湿後)、屈曲性、電気絶縁性、低誘電率および低誘電正接に優れる熱硬化性接着シートを提供することを目的とする。硬化時の寸法安定性と硬化後の耐熱性(特に加湿後)、接着性と低誘電正接は両立が難しい。そこで、本発明は、特にこれらを両立できる熱硬化性接着シートを提供することを目的とする。   The present invention provides a thermosetting adhesive sheet that is excellent in dimensional stability during curing, and has excellent adhesion after curing, heat resistance (particularly after humidification), flexibility, electrical insulation, low dielectric constant, and low dielectric loss tangent. The purpose is to do. It is difficult to achieve both dimensional stability during curing, heat resistance after curing (particularly after humidification), adhesion and low dielectric loss tangent. Then, this invention aims at providing the thermosetting adhesive sheet which can make these compatible especially.

本発明者らは前記の課題を解決するため、鋭意検討の結果、有機金属化合物(B)または前記エポキシ基含有化合物(C)の少なくともいずれか一方と反応し得る反応性官能基と、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基との合計量が0.01mmol/g以上、
9mmol/g以下の樹脂(A)、有機金属化合物(B)、および3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)とを含む熱硬化性組成物を用いることにより本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、下記条件(1)〜(9)の全てを満たす熱硬化性組成物から形成されてなる熱硬化性接着シートに関する。
(1)樹脂(A1)、有機金属化合物(B)および3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)を含む。
(2)樹脂(A1)は、エポキシ基を有さず、前記有機金属化合物(B)または前記エポキシ基含有化合物(C)の少なくともいずれか一方と反応し得る、反応性官能基(以下、単に反応性官能基とも略す)を有する。
(3)樹脂(A1)は、前記反応性官能基以外の官能基であって、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基(以下、樹脂(A1)の有するその他官能基または単にその他官能基とも略す)を有し得る。
(4)前記反応性官能基を有せず、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基を有する樹脂(A2)を含み得る。
(5)前記反応性官能基およびハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基のいずれをも有しない樹脂(A3)を含み得る。
(6)樹脂(A1)、樹脂(A2)および樹脂(A3)の合計1gに含まれる前記反応性官能基と前記ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基との合計量が、0.01mmol以上、9mmol以下である。
なお、樹脂(A1)、樹脂(A2)および樹脂(A3)の3種を合わせて、以下樹脂(A)と略することもある。
(7)前記有機金属化合物(B)は、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムアルコキシド化合物、アルミニウムアシレート化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタンアシレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物およびジルコニウムアシレート化合物からなる群より選ばれる少なくもと一種である。
(8)前記樹脂(A1)の反応性官能基1molに対し、前記有機金属化合物(B)中の金属が0.03〜3molである。
(9)前記樹脂(A1)が、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、フッ素樹脂、ポリオレフィン樹脂およびスチレン無水マレイン酸系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
In order to solve the above problems, the present inventors have conducted intensive studies, and as a result, a reactive functional group capable of reacting with at least one of the organometallic compound (B) or the epoxy group-containing compound (C), and other than halogen. The total amount with functional groups having heteroatoms of 0.01 mmol / g or more,
The present invention has been completed by using a thermosetting composition containing 9 mmol / g or less of resin (A), organometallic compound (B), and trifunctional or higher functional epoxy group-containing compound (C).
That is, the present invention relates to a thermosetting adhesive sheet formed from a thermosetting composition that satisfies all of the following conditions (1) to (9) .
(1) A resin (A1), an organometallic compound (B), and a trifunctional or higher functional epoxy group-containing compound (C) are included.
(2) The resin (A1) does not have an epoxy group and can react with at least one of the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C) (hereinafter simply referred to as “reactive functional group”). (Also abbreviated as a reactive functional group).
(3) The resin (A1) is a functional group other than the reactive functional group and has a hetero atom other than halogen (hereinafter, also abbreviated as other functional group or simply other functional group of the resin (A1)). ).
(4) Resin (A2) which does not have the said reactive functional group and has a functional group which has hetero atoms other than a halogen may be included.
(5) Resin (A3) which does not have any of the said reactive functional group and the functional group which has hetero atoms other than a halogen may be included.
(6) The total amount of the reactive functional group and the functional group having a hetero atom other than the halogen contained in a total of 1 g of the resin (A1), the resin (A2), and the resin (A3) is 0.01 mmol or more, 9 mmol or less.
In addition, the resin (A1), the resin (A2), and the resin (A3) may be collectively referred to as a resin (A) hereinafter.
(7) The organometallic compound (B) includes an aluminum chelate compound, an aluminum alkoxide compound, an aluminum acylate compound, a titanium chelate compound, a titanium alkoxide compound, a titanium acylate compound, a zirconium chelate compound, a zirconium alkoxide compound, and a zirconium acylate compound. It is at least a kind selected from the group consisting of
(8) The metal in the organometallic compound (B) is 0.03 to 3 mol relative to 1 mol of the reactive functional group of the resin (A1).
(9) The resin (A1) comprises an acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurethane polyurea resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polycarbonate resin, a polyphenylene ether resin, a fluororesin, a polyolefin resin, and a styrene maleic anhydride resin. It is at least one selected from the group.

前記反応性官能基は、カルボキシル基、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基および酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。   The reactive functional group is preferably at least one selected from the group consisting of a carboxyl group, an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, and an acid anhydride group.

前記樹脂(A1)の有する極性官能基中のへテロ原子は、O、N、SおよびPからなる群より選ばれる少なくも一種であることが好ましい。
前記樹脂(A1)の有する極性官能基は、エステル基、アミド基、イミド基、ウレタン基、ウレア基、エーテル基、カーボネート基、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群より選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。
The hetero atom in the polar functional group of the resin (A1) is preferably at least one selected from the group consisting of O, N, S and P.
The polar functional group of the resin (A1) is at least one selected from the group consisting of an ester group, an amide group, an imide group, a urethane group, a urea group, an ether group, a carbonate group, an acryloyl group, and a methacryloyl group. preferable.

前記樹脂(A1)1gの反応性官能基価の合計は、水酸化カリウム換算で1〜80mgであることが好ましい。 The resin (A1) Total reactive functional group value of 1g is preferably 1~80mg with potassium hydroxide terms.

前記樹脂(A1)の反応性官能基1molに対し、前記エポキシ基含有化合物(C)中のエポキシ基は0.1〜12molであることが好ましい。   It is preferable that the epoxy group in the said epoxy-group containing compound (C) is 0.1-12 mol with respect to 1 mol of reactive functional groups of the said resin (A1).

有機金属化合物(B)およびエポキシ基含有化合物(C)以外の化合物であって、樹脂(A1)の有する反応性官能基、有機金属化合物(B)及びエポキシ基の少なくともいずれか1種と反応し得るその他の硬化剤(D)をさらに含むことが好ましい。
前記その他の硬化剤(D)は、イソシアネート化合物、カルボジイミド化合物、および硫黄元素含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
It is a compound other than the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C), and reacts with at least one of the reactive functional group, organometallic compound (B) and epoxy group possessed by the resin (A1). It is preferable that the other hardening | curing agent (D) obtained is further included.
The other curing agent (D) is preferably at least one selected from the group consisting of an isocyanate compound, a carbodiimide compound, and a sulfur element-containing compound.

また、本発明には前記の熱硬化性接着シートと、前記熱硬化性接着シートの両面を覆う2つのシート状基材とを有する、シート状基材付き熱硬化性接着シートに関する。   In addition, the present invention relates to a thermosetting adhesive sheet with a sheet-like base material, which has the thermosetting adhesive sheet and two sheet-like base materials that cover both surfaces of the thermosetting adhesive sheet.

さらに本発明は、シート状基材の少なくとも片面に、下記条件(1)〜(9)の全てを満たす熱硬化性組成物を塗工・乾燥し、熱硬化性接着シートを形成し、前記熱硬化性接着シートの他方の面に、他のシート状基材を重ねる、シート状基材付き熱硬化性接着シートの製造方法に関する。
(1)樹脂(A1)、有機金属化合物(B)および3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)を含む。
(2)樹脂(A1)は、エポキシ基を有さず、前記有機金属化合物(B)または前記エポキシ基含有化合物(C)の少なくともいずれか一方と反応し得る、反応性官能基を有する。
(3)樹脂(A1)は、前記反応性官能基以外の官能基であって、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基を有し得る。
(4)前記反応性官能基を有せず、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基を有する樹脂(A2)を含み得る。
(5)前記反応性官能基およびハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基のいずれをも有しない樹脂(A3)を含み得る。
(6)樹脂(A1)、樹脂(A2)および樹脂(A3)の合計1gに含まれる前記反応性官能基と前記ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基との合計量が、0.01mmol以上、9mmol以下である。
(7)前記有機金属化合物(B)は、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムアルコキシド化合物、アルミニウムアシレート化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタンアシレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物およびジルコニウムアシレート化合物からなる群より選ばれる少なくもと一種である。
(8)前記樹脂(A1)の反応性官能基1molに対し、前記有機金属化合物(B)中の金属が0.03〜3molである。
(9)前記樹脂(A1)が、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、フッ素樹脂、ポリオレフィン樹脂およびスチレン無水マレイン酸系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
Furthermore, this invention coats and dries a thermosetting composition satisfying all of the following conditions (1) to (9) on at least one surface of the sheet-like substrate to form a thermosetting adhesive sheet, It is related with the manufacturing method of the thermosetting adhesive sheet with a sheet-like base material which piles up another sheet-like base material on the other side of a curable adhesive sheet.
(1) A resin (A1), an organometallic compound (B), and a trifunctional or higher functional epoxy group-containing compound (C) are included.
(2) The resin (A1) does not have an epoxy group, and has a reactive functional group that can react with at least one of the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C).
(3) The resin (A1) may have a functional group other than the reactive functional group and having a hetero atom other than halogen.
(4) Resin (A2) which does not have the said reactive functional group and has a functional group which has hetero atoms other than a halogen may be included.
(5) Resin (A3) which does not have any of the said reactive functional group and the functional group which has hetero atoms other than a halogen may be included.
(6) The total amount of the reactive functional group and the functional group having a hetero atom other than the halogen contained in a total of 1 g of the resin (A1), the resin (A2), and the resin (A3) is 0.01 mmol or more, 9 mmol or less.
(7) The organometallic compound (B) includes an aluminum chelate compound, an aluminum alkoxide compound, an aluminum acylate compound, a titanium chelate compound, a titanium alkoxide compound, a titanium acylate compound, a zirconium chelate compound, a zirconium alkoxide compound, and a zirconium acylate compound. It is at least a kind selected from the group consisting of
(8) The metal in the organometallic compound (B) is 0.03 to 3 mol relative to 1 mol of the reactive functional group of the resin (A1).
(9) The resin (A1) comprises an acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurethane polyurea resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polycarbonate resin, a polyphenylene ether resin, a fluororesin, a polyolefin resin, and a styrene maleic anhydride resin. It is at least one selected from the group.

さらに本発明は、前記熱硬化性接着シートを熱硬化してなる、周波数5GHzにおける誘電正接が0.0001〜0.01であるシート状硬化物に関する。   Furthermore, the present invention relates to a sheet-like cured product having a dielectric loss tangent at a frequency of 5 GHz of 0.0001 to 0.01, which is obtained by thermosetting the thermosetting adhesive sheet.

さらに本発明は、前記シート状硬化物を介して、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面が、シート状基材で保護されてなる、保護シート付きプリント配線板に関する。   Furthermore, this invention relates to the printed wiring board with a protective sheet in which the said circuit surface of the printed wiring board which has an electroconductive circuit is protected by the sheet-like base material through the said sheet-like hardened | cured material.

また、本発明は、前記熱硬化性接着シートを、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面と、シート状基材との間に挟み、前記熱硬化性接着シートを熱硬化する、保護シート付きプリント配線板の製造方法に関する。   Further, the present invention provides a protection in which the thermosetting adhesive sheet is sandwiched between the circuit surface of a printed wiring board having a conductive circuit and a sheet-like substrate, and the thermosetting adhesive sheet is thermoset. The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board with a sheet.

本発明の熱硬化性接着シートは硬化時の寸法安定に優れ、硬化後の接着性、加湿後の耐熱性、屈曲性、電気絶縁性、誘電率、誘電正接に優れる。特に、両立が難しかった、硬化時の寸法安定性と硬化後の耐熱性(特に加湿後)、接着性と低誘電正接を両立できるようになった。   The thermosetting adhesive sheet of the present invention is excellent in dimensional stability during curing, and is excellent in adhesiveness after curing, heat resistance after humidification, flexibility, electrical insulation, dielectric constant, and dielectric loss tangent. In particular, it has become difficult to achieve both compatibility, dimensional stability during curing, heat resistance after curing (particularly after humidification), adhesion and low dielectric loss tangent.

本発明の熱硬化性接着シートは、前述の通り、反応性官能基とその他官能基(以下、両者を合わせて、極性官能基、もしくは両官能基と略すこともある)との合計量が0.01mmol/g以上、9mmol/g以下の樹脂(A)と、有機金属化合物(B)と3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)とを含有する。前記の三成分を用いることにより、導電性回路を有するプリント配線板の導電性回路面に、保護用のシート状基材を貼る熱プレスの際の寸法安定性に優れ、銅に代表される導電性回路やポリイミドフィルム(プリント配線板の基材、保護用のシート状基材)に対する接着性、加湿後の半田耐熱性、プリント配線板を折りたたむ際の屈曲性、狭ピッチ配線回路のリークタッチを防ぐ電気絶縁性、高周波電気信号が伝播するプリント配線板周りの接着剤およびコーティング剤として重要となる誘電率や誘電正接、を著しく改善できる。   As described above, the thermosetting adhesive sheet of the present invention has a total amount of reactive functional groups and other functional groups (hereinafter, both may be abbreviated as polar functional groups or both functional groups). The resin (A) of 0.01 mmol / g or more and 9 mmol / g or less, an organometallic compound (B), and a trifunctional or more functional epoxy group-containing compound (C) are contained. By using the above three components, the conductive circuit surface of a printed wiring board having a conductive circuit is excellent in dimensional stability at the time of hot pressing to paste a protective sheet-like base material, and is represented by copper. Adhesiveness to conductive circuits and polyimide films (substrates for printed wiring boards, protective sheet-like substrates), solder heat resistance after humidification, bendability when folding printed wiring boards, and leak touch for narrow pitch wiring circuits It is possible to remarkably improve the electrical insulating property to prevent and the dielectric constant and dielectric loss tangent which are important as the adhesive and coating agent around the printed wiring board through which the high frequency electrical signal propagates.

これは反応性官能基とその他官能基との合計量が0.01[mmol/g]以上、9[mmol/g]以下の樹脂(A)を用いるからである。即ち、樹脂(A)は反応性官能基とその他官能基との合計量が上記範囲にあるので、従来の樹脂に比して極性が低い。従って、従来の高極性な樹脂を用いた場合の硬化物に比べ、本発明の熱硬化性接着シートを熱硬化してなる硬化物は疎水性に優れる。その結果、電気絶縁性に優れ、誘電率を低くでき、低電正接も低くできる。また、疎水性に優れる結果、吸湿性も低いので、高湿度下に置かれた後、半田浴に接触させても膨れ等が生じず、耐熱性も優れる、さらには、分子間相互作用が少ないことに由来する屈曲性を付与できるためである。   This is because a resin (A) having a total amount of reactive functional groups and other functional groups of 0.01 [mmol / g] or more and 9 [mmol / g] or less is used. That is, since the total amount of the reactive functional group and the other functional group is in the above range, the resin (A) has a lower polarity than the conventional resin. Therefore, the cured product obtained by thermosetting the thermosetting adhesive sheet of the present invention is superior in hydrophobicity as compared with the cured product using a conventional highly polar resin. As a result, the electrical insulation is excellent, the dielectric constant can be lowered, and the low electric tangent can also be lowered. In addition, as a result of excellent hydrophobicity, hygroscopicity is also low, so even if it is placed under high humidity and then brought into contact with a solder bath, it does not swell, etc., has excellent heat resistance, and there are few intermolecular interactions This is because flexibility derived from the above can be imparted.

有機金属化合物(B)は反応性に優れるので、硬化時に速やかに反応し、所望外(計画外)の軟化やはみ出しやズレ等の発生を防止でき、寸法安定性に優れる。また、有機金属化合物(B)は硬化後に疎水性骨格を形成するので、電気絶縁性の向上、誘電率および誘電正接の低下に寄与すると考えられる。   Since the organometallic compound (B) is excellent in reactivity, it reacts quickly at the time of curing, can prevent undesired (unplanned) softening, protrusion and misalignment, and is excellent in dimensional stability. In addition, since the organometallic compound (B) forms a hydrophobic skeleton after curing, it is considered that it contributes to an improvement in electrical insulation and a decrease in dielectric constant and dielectric loss tangent.

また、3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)の利用により強固な架橋を形成することができ、耐熱性、絶縁性を著しく向上することができる。さらに、接着性も付与することが出来る。   Further, the use of the trifunctional or higher functional epoxy group-containing compound (C) makes it possible to form a strong cross-link and remarkably improve heat resistance and insulation. Furthermore, adhesiveness can also be imparted.

例えば、樹脂(A)の代わりに、両官能基のトータル含有量が9.0mmol/gより多い樹脂を使用した場合、一般的には接着性は得られるものの、高周波電気信号が伝播するプリント配線板周りに必要な低誘電率が満足できない。これらの課題を解決するためには、誘電率の低い空気の有効利用を狙った空孔形成といった手段があり得るが、強度低下の原因となる空隙が形成されるために屈曲性が低下する。さらに空隙に水分が入り込むので、硬化物を高湿度下に置いた後、半田浴に接触させてと膨れ等が生じ、耐熱性が著しく悪化するといった問題が発生する。   For example, when a resin having a total content of both functional groups of more than 9.0 mmol / g is used instead of the resin (A), generally, a printed wiring that allows high-frequency electrical signals to propagate although adhesion can be obtained. The low dielectric constant required around the plate cannot be satisfied. In order to solve these problems, there may be means such as formation of holes aiming at effective utilization of air having a low dielectric constant, but the flexibility is lowered due to the formation of voids that cause a decrease in strength. Furthermore, since moisture enters the voids, there is a problem that, after placing the cured product under high humidity, contact with the solder bath causes swelling and the like, and the heat resistance is remarkably deteriorated.

また、樹脂(A)の代わりに、両官能基のトータル含有量が0.01mmol/gより少ない樹脂を使用した場合、一般的には低誘電率、低誘電正接は得られるものの、接着性を満足できず、加湿前の状態ですら耐熱性、絶縁性を満足することができない。   In addition, when a resin having a total content of both functional groups of less than 0.01 mmol / g is used instead of the resin (A), generally a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be obtained. It cannot be satisfied, and even before the humidification, heat resistance and insulation cannot be satisfied.

一方、本発明は、両官能基のトータル含有量が0.01[mmol/g]以上、9[mmol/g]以下の樹脂(A)を用いるので、そもそもの誘電率悪化の原因となる極性基が少なく、低誘電率を満足できる。さらには耐熱性や屈曲性といったプリント配線板用の熱硬化性接着シートとして重要となる特性に加え、狭ピッチ配線回路のリークタッチを防ぐ電気絶縁性を付与することができる。   On the other hand, since the present invention uses the resin (A) having a total content of both functional groups of 0.01 [mmol / g] or more and 9 [mmol / g] or less, the polarity that causes deterioration of the dielectric constant in the first place. There are few groups and a low dielectric constant can be satisfied. Furthermore, in addition to characteristics that are important as a thermosetting adhesive sheet for printed wiring boards, such as heat resistance and flexibility, it is possible to impart electrical insulation that prevents leak touch of narrow pitch wiring circuits.

また、本発明は有機金属化合物(B)を用いることも特徴である。例えば、有機金属化合物(B)の代わりに、ビニル基、アリル基などの光架橋基の場合、架橋によって新たな極性官能基を形成しにくいため、樹脂由来の誘電率、誘電正接を維持できる傾向にある。しかし、照射位置や厚みによって硬化度合いが変化するといった別の問題が発生する。
また、有機金属化合物(B)の代わりに、フェノール化合物など、プリント配線板用の接着剤やコーティング剤として一般的に使用され得る化合物を用いて架橋させた場合、硬化により水酸基など新たな極性基が形成されてしまう。そのため、低誘電率、低誘電正接という樹脂(A)の利点を活かしきれず、誘電率や誘電正接の高い硬化物しか得られない。
The present invention is also characterized by using an organometallic compound (B). For example, in the case of a photocrosslinking group such as a vinyl group or an allyl group instead of the organometallic compound (B), it is difficult to form a new polar functional group by crosslinking, so that the dielectric constant and dielectric loss tangent derived from the resin tend to be maintained. It is in. However, another problem that the degree of curing changes depending on the irradiation position and thickness occurs.
In addition, in the case of crosslinking using a compound that can be generally used as an adhesive or coating agent for a printed wiring board, such as a phenol compound, instead of the organometallic compound (B), a new polar group such as a hydroxyl group is obtained by curing. Will be formed. Therefore, the advantages of the resin (A) such as low dielectric constant and low dielectric loss tangent cannot be fully utilized, and only a cured product having a high dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained.

一方、本発明は、有機金属化合物(B)を用いることにより、硬化の際、極性の大きな官能基の生成を抑制でき、樹脂(A)の持つ低誘電率、低誘電正接といった特性を維持できるとともに、高い反応性に由来する加工性、強固な架橋構造形成に由来する電気絶縁性を付与することができる。   On the other hand, in the present invention, by using the organometallic compound (B), it is possible to suppress the generation of a functional group having a large polarity at the time of curing, and to maintain the characteristics of the resin (A) such as low dielectric constant and low dielectric loss tangent. At the same time, it is possible to impart processability derived from high reactivity and electrical insulation derived from formation of a strong crosslinked structure.

さらに、本発明は、3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)を用いるので、硬化物に耐熱性、絶縁性、接着性を付与することができる。
すなわち、本発明は、樹脂(A)、有機金属化合物(B)および3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)の三成分により、熱硬化性接着シートを硬化する際の寸法安定性の向上、硬化物としての加湿後の耐熱性の向上に加え、接着性と低誘電率の両立、屈曲性と電気絶縁性の両立という二律背反を解決できるのである。
これは、樹脂(A)の反応性官能基とエポキシ基含有化合物(B)との反応により生じた水酸基を、有機金属化合物(B)とさらに反応させることにより、密な架橋構造を形成させつつ、誘電率、誘電正接の悪化因子となる極性基の発生を抑えることができるからである。
Furthermore, since this invention uses a trifunctional or more than trifunctional epoxy group containing compound (C), heat resistance, insulation, and adhesiveness can be provided to hardened | cured material.
That is, the present invention improves the dimensional stability when curing a thermosetting adhesive sheet with the three components of the resin (A), the organometallic compound (B), and the trifunctional or higher functional epoxy group-containing compound (C). In addition to improving heat resistance after humidification as a cured product, it is possible to solve the trade-off between coexistence of adhesion and low dielectric constant, and compatibility of flexibility and electrical insulation.
This is because a hydroxyl group generated by the reaction between the reactive functional group of the resin (A) and the epoxy group-containing compound (B) is further reacted with the organometallic compound (B) to form a dense cross-linked structure. This is because it is possible to suppress the generation of polar groups that cause deterioration of dielectric constant and dielectric loss tangent.

以下、樹脂(A)について詳細に説明する。
本発明における樹脂(A)は、樹脂(A1)を必須とし、樹脂(A2)、(A3)をさらに含み得る。
樹脂(A1)は、反応性官能基とその他官能基との2種類を有する。
樹脂(A2)は、反応性官能基を持たず、その他官能基を有する。
樹脂(A3)は、反応性官能基およびその他官能基のいずれをも有しない。
Hereinafter, the resin (A) will be described in detail.
Resin (A) in this invention makes resin (A1) essential, and can further contain resin (A2) and (A3).
The resin (A1) has two types of reactive functional groups and other functional groups.
Resin (A2) does not have a reactive functional group, but has other functional groups.
Resin (A3) has neither a reactive functional group nor other functional groups.

樹脂(A1)の有する反応性官能基とは、有機金属化合物(B)またはエポキシ基含有化合物(C)の少なくともいずれか一方と反し得るものである。樹脂(A)の有する反応性官能基は、有機金属化合物(B)またはエポキシ基含有化合物(C)と反応し得る官能基であることが好ましく、20〜200℃で反応し得ることが好ましい。
前記反応性官能基としては、カルボキシル基、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基、酸無水物基およびアミノ基、シアネート基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、イミダゾール基、ピロール基、アセタール基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アルデヒド基、ヒドラジド基、ヒドラゾン基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシル基、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基および酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。
前記樹脂(A1)1gの反応性官能基価の合計は、水酸化カリウム換算で1〜80mgであることが好ましく、1〜50mgがさらに望ましく、4〜30mgがさらに望ましい。
前記反応性官能基は、架橋形成に寄与するので、硬化物の耐熱性、絶縁性の点から、反応性官能基価は水酸化カリウム換算で1mg以上であることが好ましい。また、硬化物の接着性、屈曲性の点から、反応性官能基価は水酸化カリウム換算で80mg以下であることが好ましい。
The reactive functional group possessed by the resin (A1) can be contrary to at least one of the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C). The reactive functional group of the resin (A) is preferably a functional group capable of reacting with the organometallic compound (B) or the epoxy group-containing compound (C), and preferably capable of reacting at 20 to 200 ° C.
Examples of the reactive functional group include a carboxyl group, an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, an acid anhydride group and an amino group, a cyanate group, an isocyano group, a cyanato group, an isocyanato group, an imidazole group, a pyrrole group, an acetal group, and an acryloyl group. A methacryloyl group, an aldehyde group, a hydrazide group, a hydrazone group, a phosphoric acid group, etc., and preferably at least one selected from the group consisting of a carboxyl group, an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group and an acid anhydride group.
The total reactive functional group value of 1 g of the resin (A1) is preferably 1 to 80 mg, more preferably 1 to 50 mg, and further preferably 4 to 30 mg in terms of potassium hydroxide.
Since the reactive functional group contributes to cross-linking formation, the reactive functional group value is preferably 1 mg or more in terms of potassium hydroxide from the viewpoint of heat resistance and insulation of the cured product. Moreover, it is preferable that a reactive functional group value is 80 mg or less in conversion of potassium hydroxide from the point of the adhesiveness of a hardened | cured material, and a flexibility.

樹脂(A1)および樹脂(A2)の有するその他官能基とは、前記反応性官能基以外の官能基であって、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基であり、へテロ原子としては、O、N、SおよびPからなる群より選ばれる少なくも一種が好ましい。
このような極性官能基としては、エステル基、アミド基、イミド基、エノン基、ウレタン基、ウレア基、エーテル基、カーボネート基、ケトン基、アシル基、イミノ基、酸ハロゲン化物基、マレイミド基、ニトロ基、ニトリル基、アミジン基、ホスフィン基、アセタール基、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキシム基等が挙げられ、
エステル基、アミド基、イミド基、ウレタン基、ウレア基、エーテル基、カーボネート基、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群より選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。
The other functional group of the resin (A1) and the resin (A2) is a functional group other than the reactive functional group, which is a functional group having a hetero atom other than halogen, and the hetero atom includes O, At least one selected from the group consisting of N, S and P is preferred.
Such polar functional groups include ester groups, amide groups, imide groups, enone groups, urethane groups, urea groups, ether groups, carbonate groups, ketone groups, acyl groups, imino groups, acid halide groups, maleimide groups, Nitro group, nitrile group, amidine group, phosphine group, acetal group, acryloyl group, methacryloyl group, oxime group, etc.
It is preferably at least one selected from the group consisting of ester groups, amide groups, imide groups, urethane groups, urea groups, ether groups, carbonate groups, acryloyl groups and methacryloyl groups.

本発明における樹脂(A1)は、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、フッ素樹脂、ポリオレフィン樹脂およびスチレン無水マレイン酸系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
なお、ここでいうポリオレフィン樹脂は、エチレンやプロピレン、ブタジエンなどオレフィン単位を含むモノマーから重合された樹脂であり、スチレンなどビニル系の樹脂との共重合物も含み得る。また、得られたポリブタジエン成分のC=C部分を水添するなど変性したものも含み得る。
The resin (A1) in the present invention is a group consisting of acrylic resin, polyester resin, polyurethane resin, polyurethane polyurea resin, polyamide resin, polyimide resin, polycarbonate resin, polyphenylene ether resin, fluorine resin, polyolefin resin, and styrene maleic anhydride resin. It is at least one kind selected.
The polyolefin resin here is a resin polymerized from a monomer containing an olefin unit such as ethylene, propylene, and butadiene, and may also include a copolymer with a vinyl resin such as styrene. Moreover, what modified | denatured by hydrogenating the C = C part of the obtained polybutadiene component may be included.

樹脂(A1)として、両官能基のトータル含有量が0.01〜9[mmol/g]の樹脂同士を複数用いることも可能であり、低誘電率、低誘電正接という樹脂(A1)の特徴を維持したまま、例えば、接着シートとしての加工性に優れる樹脂と耐熱性に優れる樹脂との併用により、性能の向上が可能である。
あるいは、樹脂(A1)として、両官能基のトータル含有量が9[mmol/g]より多い樹脂と両官能基のトータル含有量が0.01〜9[mmol/g]の樹脂とを併用したり、両官能基のトータル含有量が9[mmol/g]より多い樹脂と両官能基のトータル含有量が0.01[mmol/g]未満の樹脂とを併用したりすることもできる。両官能基由来の高極性成分により基材界面との密着力を付与できるため、接着力の高い硬化性組成物を得ることができる。
As the resin (A1), a plurality of resins having a total content of both functional groups of 0.01 to 9 [mmol / g] can be used. For example, performance can be improved by using a resin excellent in processability as an adhesive sheet and a resin excellent in heat resistance while maintaining the above.
Alternatively, as the resin (A1), a resin having a total content of both functional groups greater than 9 [mmol / g] and a resin having a total content of both functional groups of 0.01 to 9 [mmol / g] are used in combination. Alternatively, a resin having a total content of both functional groups of more than 9 [mmol / g] and a resin having a total content of both functional groups of less than 0.01 [mmol / g] may be used in combination. Since the adhesiveness with the base material interface can be imparted by the high polar component derived from both functional groups, a curable composition having high adhesive strength can be obtained.

ここで、樹脂(A1)の有する両官能基の量の求め方についてアクリル樹脂、およびポリエステル樹脂の場合を例にとり、より詳細に説明する。
アクリル樹脂形成の原料であるアクリレートモノマーやメタクリレートモノマーは、その他官能基の1つであるエステル結合を有する。
以下、モノアクリレートモノマーやモノメタクリレートモノマーの場合を例にとって説明する。重合に供した各モノマーの量を、W1、W2、・・・Wn(g)とし、各モノマーの分子量をM1、M2、・・・Mnとすると、アクリル樹脂1g当たりに含まれるエステル結合の含有量(mol)は、[(W1/M1)+(W2/M2)+・・・+(Wn/Mn)]/(W1+W2+・・・+Wn)となる。
アクリレートモノマーやメタクリレートモノマーが、カルボキシル基や水酸基を有する場合、重合に供し、これら反応性官能基を有する各モノマーの量と、各モノマーの分子量と、前記反応官能基の官能基数とから、アクリル樹脂1g当たりに含まれる反応性官能基の量(mol)を同様にして求めることができる。
そして、アクリル樹脂1g当たりに含まれるエステル結合の含有量(mol)と反応性官能基の量(mol)とを合計し、両官能基のトータル含有量を求める。
Here, how to determine the amount of both functional groups of the resin (A1) will be described in more detail by taking the case of an acrylic resin and a polyester resin as examples.
An acrylate monomer or a methacrylate monomer, which is a raw material for forming an acrylic resin, has an ester bond that is one of other functional groups.
Hereinafter, the case of a monoacrylate monomer or a monomethacrylate monomer will be described as an example. The amount of each monomer subjected to polymerization is W1, W2,... Wn (g), and the molecular weight of each monomer is M1, M2,. The amount (mol) is [(W1 / M1) + (W2 / M2) +... + (Wn / Mn)] / (W1 + W2 +... + Wn).
When an acrylate monomer or a methacrylate monomer has a carboxyl group or a hydroxyl group, it is subjected to polymerization. From the amount of each monomer having a reactive functional group, the molecular weight of each monomer, and the number of functional groups of the reactive functional group, an acrylic resin The amount (mol) of the reactive functional group contained per gram can be determined in the same manner.
Then, the ester bond content (mol) and reactive functional group content (mol) contained per gram of acrylic resin are summed to determine the total content of both functional groups.

樹脂(A1)がポリエステル樹脂の場合も同様に、ポリエステル樹脂形成の原料であるカルボキシル基成分(無水物を含む)および水酸基成分の量(g)と各成分の分子量とから主鎖を構成するエステル結合の量(mol)を求め、主鎖末端の極性官能基の量(mol)および側鎖末端の極性官能基の量(mol)を加え、ポリエステル樹脂1g当たりに含まれる両官能基のトータル含有量(mol)を求める。なお、主鎖末端の極性官能基の量(mol)および側鎖末端の極性官能基の量(mol)は、カルボキシル基(無水物を含む)と水酸基との官能基の量(mol)の差から求めることができる。   Similarly, in the case where the resin (A1) is a polyester resin, the ester constituting the main chain from the amount (g) of the carboxyl group component (including anhydride) and hydroxyl group component, which are raw materials for forming the polyester resin, and the molecular weight of each component Obtain the amount (mol) of the bond, add the amount (mol) of the polar functional group at the end of the main chain and the amount (mol) of the polar functional group at the end of the side chain, and add the total content of both functional groups per gram of the polyester resin. The amount (mol) is determined. The amount (mol) of the polar functional group at the end of the main chain and the amount (mol) of the polar functional group at the end of the side chain are the difference in the amount (mol) of the functional group between the carboxyl group (including anhydride) and the hydroxyl group. Can be obtained from

本発明における樹脂(A2)としては、樹脂(A1)と同様のものが例示できる。すなわち、反応性官能基を有する原料を用いない他は樹脂(A1)と同様にして
樹脂(A2)を得ることができる。あるいは、反応性官能基を有する原料を用い樹脂を得た後、前記反応性官能基を適当な化合物で封鎖することによっても樹脂(A2)を得ることができる。
As resin (A2) in this invention, the thing similar to resin (A1) can be illustrated. That is, the resin (A2) can be obtained in the same manner as the resin (A1) except that no raw material having a reactive functional group is used. Alternatively, the resin (A2) can also be obtained by obtaining a resin using a raw material having a reactive functional group and then blocking the reactive functional group with an appropriate compound.

本発明における樹脂(A3)としては、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂が挙げられる。   Examples of the resin (A3) in the present invention include polyolefin resins and fluororesins.

樹脂(A)の両官能基のトータル含有量の求め方について説明する。
樹脂(A1)1g中の反応性官能基およびその他官能基の量をそれぞれ求める。
樹脂(A2)を併用する場合には、樹脂(A2)1g中のその他官能基の量を求める。
次いで、用いる樹脂(A1)、(A2)、(A3)のそれぞれの量から、樹脂(A)1g中の各割合を求め、樹脂(A1)1g中の反応性官能基およびその他官能基の量に、樹脂(A)1g中に占める樹脂(A1)の割合を乗じ、樹脂(A2)1g中のその他
官能基の量に、樹脂(A)1g中に占める樹脂(A2)の割合を乗じる。
The method for obtaining the total content of both functional groups of the resin (A) will be described.
The amounts of reactive functional groups and other functional groups in 1 g of the resin (A1) are determined.
When the resin (A2) is used in combination, the amount of other functional groups in 1 g of the resin (A2) is determined.
Next, from the respective amounts of the resins (A1), (A2) and (A3) to be used, the respective proportions in 1 g of the resin (A) are obtained, and the amounts of reactive functional groups and other functional groups in 1 g of the resin (A1) Is multiplied by the proportion of the resin (A1) in 1 g of the resin (A), and the amount of the other functional group in 1 g of the resin (A2) is multiplied by the proportion of the resin (A2) in 1 g of the resin (A).

続いて、有機金属化合物(B)について詳細に説明する。
有機金属化合物(B)は、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムアルコキシド化合物、アルミニウムアシレート化合物、 チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタンアシレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、およびジルコニウムアシレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
Subsequently, the organometallic compound (B) will be described in detail.
The organometallic compound (B) is made of an aluminum chelate compound, an aluminum alkoxide compound, an aluminum acylate compound, a titanium chelate compound, a titanium alkoxide compound, a titanium acylate compound, a zirconium chelate compound, a zirconium alkoxide compound, and a zirconium acylate compound. It is at least one kind selected.

ここで本発明に用いられるアルミニウムキレート化合物としては、代表的なものとして、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテテート)、アルミニウムジ−n−ブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウムジイソブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウムジ−sec−ブトキシドモノメチルアセトアセテート等が挙げられる。   Typical examples of the aluminum chelate compound used in the present invention include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetylacetonate bis ( Ethyl acetoacetate), aluminum tris (acetylacetate), aluminum monoacetylacetate bis (ethylacetoacetate), aluminum di-n-butoxide monomethylacetoacetate, aluminum diisobutoxide monomethylacetoacetate, aluminum di-sec-butoxide monomethylacetate Examples include acetate.

また、アルミニウムアルコキシド化合物としては、代表的なものとして、アルミニウムイソプロピレート、モノsec-ブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム-sec-ブチレート、アルミニウムエチレート等が挙げられる。   Representative examples of the aluminum alkoxide compound include aluminum isopropylate, monosec-butoxyaluminum diisopropylate, aluminum-sec-butyrate, and aluminum ethylate.

また、チタンキレートとしては、代表的なものとして、チタンアセチルアセトネート、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンエチルアセトアセテート、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、チタン-1.3-プロパンジオキシビス(エチルアセトアセテート)、ポリチタンアセチルアセチルアセトナート等が挙げられる。   Typical titanium chelates include titanium acetylacetonate, titanium tetraacetylacetonate, titanium ethylacetoacetate, titanium octylene glycolate, titanium ethylacetoacetate, titanium-1.3-propanedioxybis. (Ethyl acetoacetate), polytitanium acetylacetylacetonate and the like.

また、チタンアルコキシドとしては、代表的なものとして、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラオクチルチタネート、ダーシャリーアミルチタネート、テトラターシャリーブチルチタネート、テトラステアリルチタネート等が挙げられ、チタンアシレートとしては、チタンイソステアレート、トリ-n-ブトキシチタンモノステアレート、ジ-i-プロポキシチタンジステアレート、チタニウムステアレート、ジ-i-プロポキシチタンジイソステアレート、(2-n-ブトキシカルボニルベンゾイルオキシ)トリブトキシチタン等が挙げられる。   Typical examples of the titanium alkoxide include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetraoctyl titanate, dark amyl titanate, tetra tertiary butyl titanate, and tetrastearyl titanate. Examples of acylates include titanium isostearate, tri-n-butoxytitanium monostearate, di-i-propoxytitanium distearate, titanium stearate, di-i-propoxytitanium diisostearate, (2-n- Butoxycarbonylbenzoyloxy) tributoxytitanium and the like.

また、ジルコニウムキレートとしては、代表的なものとして、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムジブトキシビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等が挙げられる。   Representative examples of zirconium chelates include zirconium tetraacetylacetonate, zirconium tributoxyacetylacetonate, zirconium monobutoxyacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), zirconium dibutoxybis (ethylacetoacetate), zirconium Tetraacetylacetonate etc. are mentioned.

また、ジルコニウムアルコキシドとしては、代表的なものとして、ノルマルプロピルジルコネート、ノルマルブチルジルコネート等が挙げられ、ジルコニウムアシレートとしては、ステアリン酸ジルコニウム、オクチル酸ジルコニウム等が挙げられる。   Typical examples of the zirconium alkoxide include normal propyl zirconate and normal butyl zirconate. Examples of the zirconium acylate include zirconium stearate and zirconium octylate.

また、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、ジルコニウムキレート化合物は、特に反応性の観点からアセチルアセトネート錯体のものが好適に用いられる。   As the aluminum chelate compound, titanium chelate compound and zirconium chelate compound, those having an acetylacetonate complex are particularly preferably used from the viewpoint of reactivity.

本発明に用いられる有機金属化合物(B)は、前記樹脂(A1)の有する反応性官能基1molに対して、有機金属化合物(B)中の金属が0.03〜3molとなるよう含有することが重要であり、0.1〜1.5molとなるよう含有することが好ましく、0.2〜1molとなるよう含有することがさらに好ましい。有機金属化合物(B))中の金属の量を0.03mol以上とすることにより、架橋密度を増加させ、接着シートとしての加工性を向上でき、樹脂(A1)とエポキシ基含有化合物(C)との反応により誘電率、誘電正接の悪化の原因となる新たな極性基が生じた場合、有機金属化合物(B)が前記極性基と反応し、誘電率、誘電正接の悪化を抑制する。
有機金属化合物(B)中の金属の量を3mol以下とすることにより、熱的に弱い結合が相対的に少なくなるので、耐熱性に優れる硬化物を得ることができる。
The organometallic compound (B) used in the present invention contains 0.03 to 3 mol of metal in the organometallic compound (B) with respect to 1 mol of the reactive functional group of the resin (A1). Is important, it is preferable to contain it so that it may become 0.1-1.5 mol, and it is more preferable to contain so that it may become 0.2-1 mol. By setting the amount of metal in the organometallic compound (B)) to 0.03 mol or more, the crosslink density can be increased and the processability as an adhesive sheet can be improved, and the resin (A1) and the epoxy group-containing compound (C) When a new polar group that causes deterioration of the dielectric constant and dielectric loss tangent is generated by the reaction, the organometallic compound (B) reacts with the polar group and suppresses deterioration of the dielectric constant and dielectric loss tangent.
By setting the amount of the metal in the organometallic compound (B) to 3 mol or less, thermally weak bonds are relatively reduced, so that a cured product having excellent heat resistance can be obtained.

<エポキシ基含有化合物(C)>
続いて、エポキシ基含有化合物(C)について詳細に説明する。
本発明におけるエポキシ基含有化合物(C)は、エポキシ基を1分子中に平均3個以上有する化合物であればよい。エポキシ基有化合物としては、例えば、グリジシルエーテル型エポキシ樹脂、グリジシルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、又は環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂を用いることができる。
<Epoxy group-containing compound (C)>
Subsequently, the epoxy group-containing compound (C) will be described in detail.
The epoxy group-containing compound (C) in the present invention may be a compound having an average of 3 or more epoxy groups in one molecule. As the epoxy group-containing compound, for example, an epoxy resin such as a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, or a cyclic aliphatic (alicyclic type) epoxy resin can be used.

グリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、例えば、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、α−ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ樹脂、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、又はテトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。   Examples of the glycidyl ether type epoxy resin include a cresol novolak type epoxy resin, a phenol novolak type epoxy resin, an α-naphthol novolak type epoxy resin, a bisphenol A type novolak type epoxy resin, a tetrabromobisphenol A type epoxy resin, and a brominated phenol novolak. Type epoxy resin, tris (glycidyloxyphenyl) methane, tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane and the like.

グリシジルアミン型エポキシ樹脂としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、又はテトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。これらは接着性の面で優れており、本発明において好適に用いることができる。   Examples of the glycidylamine type epoxy resin include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, triglycidylmetaaminophenol, and tetraglycidylmetaxylylenediamine. These are excellent in terms of adhesiveness and can be suitably used in the present invention.

本発明に用いられるエポキシ基含有化合物(C)は、前記樹脂(A1)中の反応性官能基1molに対して、エポキシ基が0.1〜12molとなる範囲で含有することが好ましく、0.3〜10mol含有することがさらに好ましく、0.5〜5molモル含有することがさらに好ましい。樹脂(A)の反応性官能基に対し、エポキシ基を0.1mol以上とすることにより、架橋密度を増加させ、耐熱性、絶縁性、接着性を向上できる。エポキシ基を20mol以下とすることにより、新たな極性基の生成を抑制し、誘電正接の悪化を抑制できる。   The epoxy group-containing compound (C) used in the present invention is preferably contained in an amount of 0.1 to 12 mol of epoxy group with respect to 1 mol of the reactive functional group in the resin (A1). The content is more preferably 3 to 10 mol, and further preferably 0.5 to 5 mol. By making an epoxy group into 0.1 mol or more with respect to the reactive functional group of resin (A), a crosslinking density can be increased and heat resistance, insulation, and adhesiveness can be improved. By making an epoxy group 20 mol or less, the production | generation of a new polar group can be suppressed and the deterioration of a dielectric loss tangent can be suppressed.

本発明においては、前記樹脂(A)と有機金属化合物(B)、エポキシ基含有化合物(C)に加えて、物性を損なわない範囲で、有機金属化合物(B)およびエポキシ基含有化合物(C)以外の化合物であって、樹脂(A1)の有する反応性官能基、有機金属化合物(B)及びエポキシ基の少なくともいずれか1種と反応し得るその他の硬化剤(D)を添加することができる。その他の硬化剤(D)の具体例としては、イソシアネート基含有化合物、ブロックイソシアネート基含有化合物、オキセタン基含有化合物、アジリジン基含有化合物、カルボジイミド基含有化合物、ベンゾオキサジン化合物、β-ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物、硫黄含有化合物などが挙げられるが、特に限定されるものではない。   In the present invention, in addition to the resin (A), the organometallic compound (B), and the epoxy group-containing compound (C), the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C) are within the range not impairing the physical properties. Other curing agents (D) that can react with at least one of the reactive functional group of the resin (A1), the organometallic compound (B), and the epoxy group can be added. . Specific examples of other curing agents (D) include isocyanate group-containing compounds, blocked isocyanate group-containing compounds, oxetane group-containing compounds, aziridine group-containing compounds, carbodiimide group-containing compounds, benzoxazine compounds, and β-hydroxyalkylamide groups. Although a compound, a sulfur containing compound, etc. are mentioned, it is not specifically limited.

以下、イソシアネート基含有化合物、ブロックイソシアネート基含有化合物、オキセタン基含有化合物、アジリジン基含有化合物、カルボジイミド基含有化合物、ベンゾオキサジン化合物、β-ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物、硫黄含有化合物について、具体的に説明する。   Hereinafter, the isocyanate group-containing compound, the blocked isocyanate group-containing compound, the oxetane group-containing compound, the aziridine group-containing compound, the carbodiimide group-containing compound, the benzoxazine compound, the β-hydroxyalkylamide group-containing compound, and the sulfur-containing compound will be specifically described. To do.

[イソシアネート基含有化合物]
その他の硬化剤(D)の1つ、イソシアネート化合物としては、イソシアネート基を分子内に有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。1分子中にイソシアネート基を1個有するイソシアネート基含有化合物としては、具体的には、n−ブチルイソシアネート、イソプロピルイソシアネート、フェニルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1−ビス[(メタ)アクリロイルオキシメチル]エチルイソシアネート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。
また、1,6−ジイソシアナトヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、ジイソシアン酸4,4’−ジフェニルメタン、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,4−ジイソシアン酸トリレン、ジイソシアン酸トルエン、2,4−ジイソシアン酸トルエン、ジイソシアン酸ヘキサメチレン、ジイソシアン酸4−メチル−m−フェニレン、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、m−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、P−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のジイソシアン酸エステル化合物と水酸基、カルボキシル基、アミド基含有ビニルモノマーとを等モルで反応せしめた化合物もイソシアン酸エステル化合物として使用することができる。
[Isocyanate group-containing compound]
One of the other curing agents (D), the isocyanate compound, is not particularly limited as long as it is a compound having an isocyanate group in the molecule. Specific examples of the isocyanate group-containing compound having one isocyanate group in one molecule include n-butyl isocyanate, isopropyl isocyanate, phenyl isocyanate, benzyl isocyanate, (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 1,1-bis [ (Meth) acryloyloxymethyl] ethyl isocyanate, vinyl isocyanate, allyl isocyanate, (meth) acryloyl isocyanate, isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate and the like.
In addition, 1,6-diisocyanatohexane, isophorone diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, polymeric diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, tolylene 2,4-diisocyanate, toluene diisocyanate, 2,4-diisocyanic acid Toluene, hexamethylene diisocyanate, 4-methyl-m-phenylene diisocyanate, naphthylene diisocyanate, paraphenylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, cyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, tolidine diisocyanate, 2,2 , 4-Trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate Nitrate, m-tetramethylxylylene diisocyanate, P-tetramethylxylylene diisocyanate, diisocyanate ester compounds such as dimer acid diisocyanate and hydroxyl group, carboxyl group, and amide group-containing vinyl monomers are reacted in equimolar amounts. It can be used as an ester compound.

1分子中にイソシアネート基を2個有するイソシアネート基含有化合物としては、具体的には、1,3−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−トルイジンジイソシアネート、2,4,6−トリイソシアネートトルエン、1,3,5−トリイソシアネートベンゼン、ジアニシジンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、
トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2−プロピレンジイソシアネート、2,3−ブチレンジイソシアネート、1,3−ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、
ω,ω’−ジイソシアネート−1,3−ジメチルベンゼン、ω,ω’−ジイソシアネート−1,4−ジメチルベンゼン、ω,ω’−ジイソシアネート−1,4−ジエチルベンゼン、1,4−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,3−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ジイソシアネート、
3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート[別名:イソホロンジイソシアネート]、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,6−シクロヘキサンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネートが挙げられる。
Specific examples of the isocyanate group-containing compound having two isocyanate groups in one molecule include 1,3-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenyl diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, and 4,4′-diphenylmethane. Diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4′-toluidine diisocyanate, 2,4,6-triisocyanate toluene, 1,3,5-triisocyanate benzene, dianisidine diisocyanate, Aromatic diisocyanates such as 4,4′-diphenyl ether diisocyanate, 4,4 ′, 4 ″ -triphenylmethane triisocyanate,
Trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, 1,2-propylene diisocyanate, 2,3-butylene diisocyanate, 1,3-butylene diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene Aliphatic diisocyanates such as diisocyanates,
ω, ω′-diisocyanate-1,3-dimethylbenzene, ω, ω′-diisocyanate-1,4-dimethylbenzene, ω, ω′-diisocyanate-1,4-diethylbenzene, 1,4-tetramethylxylylene diisocyanate Araliphatic diisocyanates such as 1,3-tetramethylxylylene diisocyanate,
3-isocyanate methyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate [alias: isophorone diisocyanate], 1,3-cyclopentane diisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, methyl-2,4-cyclohexane Alicyclic diisocyanates such as diisocyanate, methyl-2,6-cyclohexane diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanate methyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanate methyl) cyclohexane Can be mentioned.

また、1分子中にイソシアネート基を3個有するイソシアネート基含有化合物としては、具体的には、芳香族ポリイソシアネート、リジントリイソシアネートなどの脂肪族ポリイソシアネート、芳香脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート等が挙げられ、前記で説明したジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、水と反応したビュウレット体、イソシアヌレート環を有する3量体が挙げられる。   Specific examples of the isocyanate group-containing compound having three isocyanate groups in one molecule include aliphatic polyisocyanates such as aromatic polyisocyanates and lysine triisocyanates, araliphatic polyisocyanates, and alicyclic polyisocyanates. And the like, and the trimethylolpropane adduct of diisocyanate described above, a burette reacted with water, and a trimer having an isocyanurate ring.

[ブロック化イソシアネート基含有化合物]
その他の硬化剤(D)の1つ、ブロック化イソシアネート化合物しては、前記イソシアネート基含有化合物中のイソシアネート基がε−カプロラクタムやMEKオキシム等で保護されたブロック化イソシアネート基含有化合物であればよく、特に限定されるものではない。具体的には、前記イソシアネート基含有化合物のイソシアネート基を、ε−カプロラクタム、MEKオキシム、シクロヘキサノンオキシム、ピラゾール、フェノール等でブロックしたものなどが挙げられる。特に、イソシアヌレート環を有し、MEKオキシムやピラゾールでブロックされたヘキサメチレンジイソシアネート三量体は、本発明に使用した場合、ポリイミドや銅に対する接着強度や耐熱性に優れるため、非常に好ましい。
[Blocked isocyanate group-containing compound]
As one of the other curing agents (D), the blocked isocyanate compound may be a blocked isocyanate group-containing compound in which the isocyanate group in the isocyanate group-containing compound is protected with ε-caprolactam, MEK oxime, or the like. There is no particular limitation. Specific examples include those obtained by blocking the isocyanate group of the isocyanate group-containing compound with ε-caprolactam, MEK oxime, cyclohexanone oxime, pyrazole, phenol and the like. In particular, a hexamethylene diisocyanate trimer having an isocyanurate ring and blocked with MEK oxime or pyrazole is very preferable because it has excellent adhesion strength and heat resistance to polyimide and copper.

[オキセタン基含有化合物]
その他の硬化剤(D)の1つ、オキセタン基含有化合物としては、例えば、1,4−ビス{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}オキセタン、1,3−ビス[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]ベンゼン、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、(2−エチル−2−オキセタニル)エタノールとテレフタル酸とのエステル化物、(2−エチル−2−オキセタニル)エタノールとフェノールノボラック樹脂とのエーテル化物、(2−エチル−2−オキセタニル)エタノールと多価カルボン酸化合物とのエステル化物等が挙げられる。ここで、オキセタン基含有化合物は有機金属化合物(B)とともに用いることで、硬化時の反応率が向上するため、本発明において好適に用いられる。
[Oxetane group-containing compound]
As one of the other curing agents (D), as an oxetane group-containing compound, for example, 1,4-bis {[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3- { [(3-Ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl} oxetane, 1,3-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] benzene, 4,4′-bis [(3-ethyl-3 -Oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, esterified product of (2-ethyl-2-oxetanyl) ethanol and terephthalic acid, etherified product of (2-ethyl-2-oxetanyl) ethanol and phenol novolac resin, (2-ethyl- 2-oxetanyl) ethanol and an esterified product of a polyvalent carboxylic acid compound. Here, since the reaction rate at the time of hardening improves by using an oxetane group containing compound with an organometallic compound (B), it is used suitably in this invention.

[アジリジン基含有化合物]
その他の硬化剤(D)の1つ、アジリジン化合物としては、分子内にアジリジン基を含有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。
アジリジン化合物としては、例えば、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、N,N’−トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、ビスイソフタロイル−1−(2−メチルアジリジン)、トリ−1−アジリジニルホスフィンオキサイド、N,N’−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリス−2,4,6−(1−アジリジニル)−1、3、5−トリアジン、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)ブチレート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−(2−メチル)アジリジニル)プロピオネート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)−2−メチルプロピオネート]、2,2’−ビスヒドロキシメチルブタノールトリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラ[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、ジフェニルメタン−4,4−ビス−N,N’−エチレンウレア、1,6−ヘキサメチレンビス−N,N’−エチレンウレア、2,4,6−(トリエチレンイミノ)−Syn−トリアジン、ビス[1−(2−エチル)アジリジニル]ベンゼン−1,3−カルボン酸アミド等が挙げられる。
[Aziridine group-containing compound]
One of the other curing agents (D), the aziridine compound, is not particularly limited as long as it is a compound containing an aziridine group in the molecule.
Examples of the aziridine compound include N, N′-diphenylmethane-4,4′-bis (1-aziridinecarboxite), N, N′-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxite), bisiso Phthaloyl-1- (2-methylaziridine), tri-1-aziridinylphosphine oxide, N, N′-hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxite), trimethylolpropane-tri-β -Aziridinylpropionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinylpropionate, tris-2,4,6- (1-aziridinyl) -1,3,5-triazine, trimethylolpropane tris [ 3- (1-aziridinyl) propionate], trimethylolpropane tris [3- (1-aziridinyl) butyrate], Limethylolpropane tris [3- (1- (2-methyl) aziridinyl) propionate], trimethylolpropane tris [3- (1-aziridinyl) -2-methylpropionate], 2,2′-bishydroxymethylbutanol Tris [3- (1-aziridinyl) propionate], pentaerythritol tetra [3- (1-aziridinyl) propionate], diphenylmethane-4,4-bis-N, N′-ethyleneurea, 1,6-hexamethylenebis- N, N′-ethylene urea, 2,4,6- (triethyleneimino) -Syn-triazine, bis [1- (2-ethyl) aziridinyl] benzene-1,3-carboxylic acid amide and the like can be mentioned.

特に、2,2’−ビスヒドロキシメチルブタノールトリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]は、本発明に使用した場合、熱プレス時のはみ出しを抑制でき、かつ硬化塗膜の柔軟性を保持したまま耐熱性を向上できるため、本発明において好適に用いられる。   In particular, 2,2′-bishydroxymethylbutanol tris [3- (1-aziridinyl) propionate], when used in the present invention, can suppress protrusion during hot pressing and retain the flexibility of the cured coating film. Since heat resistance can be improved as it is, it is preferably used in the present invention.

[カルボジイミド基含有化合物]
その他の硬化剤(D)の1つ、カルボジイミド基含有化合物としては、日清紡績株式会社のカルボジライトシリーズが挙げられる。その中でもカルボジライトV−01、03、05、07、09は有機溶剤との相溶性に優れており好ましい。本発明に使用した場合、接着性の向上が期待できるため、好適に用いられる。
[Carbodiimide group-containing compound]
As one of the other curing agents (D), a carbodiimide group-containing compound, a carbodilite series of Nisshinbo Co., Ltd. may be mentioned. Among these, Carbodilite V-01, 03, 05, 07, and 09 are preferable because of excellent compatibility with organic solvents. When used in the present invention, an improvement in adhesiveness can be expected, so that it is preferably used.

[ベンゾオキサジン化合物]
その他の硬化剤(D)の1つ、ベンゾオキサジン化合物としては、Macromolecules,36,6010(2003)記載の「P−a」、「P−alP」、「P−ala」、「B−ala」、Macromolecules,34,7257(2001)記載の「P−appe」、「B−appe」、四国化成株式会社製「B−a型ベンゾオキサジン」、「F−a型ベンゾオキサジン」、「B−m型ベンゾオキサジン」などが挙げられる。
[Benzoxazine compounds]
As one of the other curing agents (D), the benzoxazine compound includes “P-a”, “P-alP”, “P-ala”, “B-ala” described in Macromolecules, 36, 6010 (2003). , Macromolecules, 34, 7257 (2001), “P-appe”, “B-appe”, “Ba-type benzoxazine”, “F-a-type benzoxazine”, “B-m” manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd. Type benzoxazine ".

[β−ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物]
その他の硬化剤(D)の1つ、β−ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物としては、例えば、N,N,N’,N’−テトラキス(ヒドロキシエチル)アジパミド(エムスケミー社製Primidi XL-552)をはじめとする種々の化合物を挙げることができる。
[β-Hydroxyalkylamide group-containing compound]
As one of the other curing agents (D), as a β-hydroxyalkylamide group-containing compound, for example, N, N, N ′, N′-tetrakis (hydroxyethyl) adipamide (Primidi XL-552 manufactured by Ems Chemie) is used. Various compounds including the above can be mentioned.

[硫黄含有化合物]
その他の硬化剤(D)の1つ、硫黄含有化合物としては、チオール化合物、スルフィド化合物、ポリスルフィド化合物が挙げられる。本発明に使用した場合、接着性、耐熱性の向上が期待できるため、好適に用いられる。
[Sulfur-containing compounds]
Examples of one of the other curing agents (D) and the sulfur-containing compound include thiol compounds, sulfide compounds, and polysulfide compounds. When used in the present invention, it can be suitably used because it can be expected to improve adhesion and heat resistance.

[チオール化合物]
チオール化合物は、例えば、チオール基と、直鎖、枝分かれ、又は環式の炭化水素基とを少なくとも含有する。チオール基を2つ以上含有してもよい。炭化水素基は飽和でもよく、不飽和でもよい。炭化水素基の水素原子の一部が水酸基、アミノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルコキシシリル基などで置換されていてもよい。より具体的には、無色のチオール類としては、例えば、1-プロパンチオール、3-メルカプトプロピオン酸、(3-メルカプトプロピル)トリメトキシシラン、1-ブタンチオール、2-ブタンチオール、イソブチルメルカプタン、イソアミルメルカプタン、シクロペンタンチオール、1-ヘキサンチオール、シクロヘキサンチオール、6-ヒドロキシ-1-ヘキサンチオール、6-アミノ-1-ヘキサンチオール塩酸塩、1-ヘプタンチオール、7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール、7-アミド-1-ヘプタンチオール、1-オクタンチオール、tert-オクタンチオール、8-ヒドロキシ-1-オクタンチオール、8-アミノ-1-オクタンチオール塩酸塩、1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクタンチオール、1-ノナンチオール、1-デカンチオール、10-カルボキシ-1-デカンチオール、10-アミド-1-デカンチオール、1-ナフタレンチオール、2-ナフタレンチオール、1-ウンデカンチオール、11-アミノ-1-ウンデカンチオール塩酸塩、11-ヒドロキシ-1-ウンデカンチオール、1-ドデカンチオール、1-テトラデカンチオール、1-ヘキサデカンチオール、16-ヒドロキシ-1-ヘキサデカンチオール、16-アミノ-1-ヘキサデカンチオール塩酸塩、1-オクタデカンチオール、1,4-ブタンジチオール、2,3-ブタンジチオール、1,6-ヘキサンジチオール、1,2-ベンゼンジチオール、1,9-ノナンジチオール、1,10-デカンジチオール、1,3,5-ベンゼントリチオール、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらのチオール類は1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
[スルフィド化合物]
スルフィド化合物は、例えば、スルフィド基と、直鎖、枝分かれ、又は環式の炭化水素基とを少なくとも含有する。スルフィド基を2つ以上含有してもよい。炭化水素基の水素原子の一部が水酸基、アミノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルコキシシリル基などで置換されていてもよい。
より具体的には、スルフィド化合物として、例えば、プロピルスルフィド、フルフリルスルフィド、ヘキシルスルフィド、フェニルスルフィド、フェニルトリフルオロメチルスルフィド、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド、ヘプチルスルフィド、オクチルスルフィド、ノニルスルフィド、デシルスルフィド、ドデシルメチルスルフィド、ドデシルスルフィド、テトラデシルスルフィド、ヘキサデシルスルフィド、オクタデシルスルフィド、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドなどが挙げられる。これらのスルフィド類は1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
[ポリスルフィド化合物]
ポリスルフィド化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチルジスルフィド、プロピルジスルフィド、イソプロピルジスルフィド、3-カルボキシプロピルジスルフィド、アリルジスルフィド、イソブチルジスルフィド、tert-ブチルジスルフィド、アミルジスルフィド、イソアミルジスルフィド、5-カルボキシペンチルジスルフィド、フルフリルジスルフィド、ヘキシルジスルフィド、シクロヘキシルジスルフィド、フェニルジスルフィド、4-アミノフェニルジスルフィド、ヘプチルジスルフィド、7-カルボキシヘプチルジスルフィド、ベンジルジスルフィド、tert-オクチルジスルフィド、デシルジスルフィド、10-カルボキシデシルジスルフィド、ヘキサデシルジスルフィド、チウラムジスルフィドなどを用いることができる。
[Thiol compound]
The thiol compound contains, for example, at least a thiol group and a linear, branched, or cyclic hydrocarbon group. Two or more thiol groups may be contained. The hydrocarbon group may be saturated or unsaturated. Some of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group may be substituted with a hydroxyl group, amino group, carboxyl group, halogen atom, alkoxysilyl group, or the like. More specifically, examples of colorless thiols include 1-propanethiol, 3-mercaptopropionic acid, (3-mercaptopropyl) trimethoxysilane, 1-butanethiol, 2-butanethiol, isobutylmercaptan, isoamyl. Mercaptan, cyclopentanethiol, 1-hexanethiol, cyclohexanethiol, 6-hydroxy-1-hexanethiol, 6-amino-1-hexanethiol hydrochloride, 1-heptanethiol, 7-carboxy-1-heptanethiol, 7- Amido-1-heptanethiol, 1-octanethiol, tert-octanethiol, 8-hydroxy-1-octanethiol, 8-amino-1-octanethiol hydrochloride, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctanethiol, 1-nonanethiol, 1-decanethiol, 10-carboxy-1-decanethiol, 10-amido-1-decanethiol, 1- Phthalene thiol, 2-naphthalene thiol, 1-undecane thiol, 11-amino-1-undecane thiol hydrochloride, 11-hydroxy-1-undecane thiol, 1-dodecane thiol, 1-tetradecane thiol, 1-hexadecane thiol, 16 -Hydroxy-1-hexadecanethiol, 16-amino-1-hexadecanethiol hydrochloride, 1-octadecanethiol, 1,4-butanedithiol, 2,3-butanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,2-benzene Examples include dithiol, 1,9-nonanedithiol, 1,10-decanedithiol, 1,3,5-benzenetrithiol, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane. These thiols can be used alone or in combination of two or more.
[Sulphide compounds]
The sulfide compound contains, for example, at least a sulfide group and a linear, branched, or cyclic hydrocarbon group. Two or more sulfide groups may be contained. Some of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group may be substituted with a hydroxyl group, amino group, carboxyl group, halogen atom, alkoxysilyl group, or the like.
More specifically, as the sulfide compound, for example, propyl sulfide, furfuryl sulfide, hexyl sulfide, phenyl sulfide, phenyl trifluoromethyl sulfide, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, heptyl sulfide, octyl sulfide, nonyl sulfide, decyl Examples thereof include sulfide, dodecylmethyl sulfide, dodecyl sulfide, tetradecyl sulfide, hexadecyl sulfide, octadecyl sulfide, bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide and the like. These sulfides can be used alone or in combination of two or more.
[Polysulfide compound]
Examples of polysulfide compounds include 2-hydroxyethyl disulfide, propyl disulfide, isopropyl disulfide, 3-carboxypropyl disulfide, allyl disulfide, isobutyl disulfide, tert-butyl disulfide, amyl disulfide, isoamyl disulfide, 5-carboxypentyl disulfide, and furfuryl. Disulfide, hexyl disulfide, cyclohexyl disulfide, phenyl disulfide, 4-aminophenyl disulfide, heptyl disulfide, 7-carboxyheptyl disulfide, benzyl disulfide, tert-octyl disulfide, decyl disulfide, 10-carboxydecyl disulfide, hexadecyl disulfide, thiuram disulfide, etc. Can be used.

本発明において、その他の硬化剤(D)の使用量は、特に限定されるものではないが、前記樹脂(A)の反応性官能基1molに対して、0.01〜20mol含有することが好ましく、0.5〜10mol含有することがさらに好ましく、0.1〜5mol含有することがさらに好ましい。
あるいは、有機金属化合物(B)の金属1molに対して、0.01〜20mol含有することが好ましく、0.5〜10mol含有することがさらに好ましく、0.1〜5mol含有することがさらに好ましい。
あるいは、エポキシ基含有化合物(C)中のエポキシ基1molに対して、0.01〜20mol含有することが好ましく、0.5〜10mol含有することがさらに好ましく、0.1〜5mol含有することがさらに好ましい。
In the present invention, the use amount of the other curing agent (D) is not particularly limited, but it is preferably 0.01 to 20 mol with respect to 1 mol of the reactive functional group of the resin (A). , 0.5 to 10 mol is more preferable, and 0.1 to 5 mol is more preferable.
Or it is preferable to contain 0.01-20 mol with respect to 1 mol of metals of an organometallic compound (B), it is more preferable to contain 0.5-10 mol, and it is more preferable to contain 0.1-5 mol.
Or it is preferable to contain 0.01-20 mol with respect to 1 mol of epoxy groups in an epoxy-group containing compound (C), It is more preferable to contain 0.5-10 mol, It is preferable to contain 0.1-5 mol. Further preferred.

<フィラー>
次に、本発明のフィラーについて詳細に説明する。
本発明の熱硬化性接着シートは、難燃性の付与、接着剤の流動性制御、硬化物の弾性率向上等の目的でフィラーを含有することができる。
<Filler>
Next, the filler of the present invention will be described in detail.
The thermosetting adhesive sheet of the present invention can contain a filler for the purpose of imparting flame retardancy, controlling the fluidity of the adhesive, and improving the elastic modulus of the cured product.

フィラーとしては、特に限定されないが、形状としては球状、粉状、繊維状、針状、鱗片状等が挙げられる。
フィラーとしては例えば、ポリテトラフルオロエチレン粉末、ポリエチレン粉末、ポリアクリル酸エステル粉末、エポキシ樹脂粉末、ポリアミド粉末、ポリウレタン粉末、ポリシロキサンン粉末等の他、シリコーン、アクリル、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム等を用いた多層構造のコアシェル等の高分子フィラー;
リン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、リン酸グアニジン、ポリリン酸グアニジン、リン酸アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム、リン酸アミドアンモニウム、ポリリン酸アミドアンモニウム、リン酸カルバメート、ポリリン酸カルバメート等の(ポリ)リン酸塩系化合物、有機リン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、ホスホン酸化合物、ジエチルホスフィン酸アルミニウム、メチルエチルホスフィン酸アルミニウム、ジフェニルホスフィン酸アルミニウム、エチルブチルホスフィン酸アルミニウム、メチルブチルホスフィン酸アルミニウム、ポリエチレンホスフィン酸アルミニウム等のホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、ホスホルアミド化合物等のリン系難燃フィラー;
ベンゾグアナミン、メラミン、メラム、メレム、メロン、メラミンシアヌレート、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、トリアゾール系化合物、テトラゾール化合物、ジアゾ化合物、尿素等の窒素系難燃フィラー;
シリカ、マイカ、タルク、カオリン、クレー、ハイドロタルサイト、ウォラストナイト、ゾノトライト、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、ガラスフレーク、水和ガラス、チタン酸カルシウム、セピオライト、硫酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化ジルコニウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化アンチモン、酸化ニッケル、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ホウ酸亜鉛、ホウ酸アルミニウム等の無機フィラー等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as a filler, As a shape, spherical shape, powder shape, fibrous shape, needle shape, scale shape, etc. are mentioned.
Examples of fillers include polytetrafluoroethylene powder, polyethylene powder, polyacrylic acid ester powder, epoxy resin powder, polyamide powder, polyurethane powder, polysiloxane powder, silicone, acrylic, styrene butadiene rubber, butadiene rubber, etc. Polymer filler such as core shell of multilayer structure used;
(Poly) phosphates such as melamine phosphate, melamine polyphosphate, guanidine phosphate, guanidine polyphosphate, ammonium phosphate, ammonium polyphosphate, ammonium amidophosphate, ammonium amidophosphate, carbamate phosphate, carbamate polyphosphate Compounds, organophosphate ester compounds, phosphazene compounds, phosphonic acid compounds, diethyl diethylphosphinate, aluminum methylethylphosphinate, aluminum diphenylphosphinate, aluminum ethylbutylphosphinate, aluminum methylbutylphosphinate, aluminum polyethylenephosphinate, etc. Phosphorus flame retardant fillers such as acid compounds, phosphine oxide compounds, phosphorane compounds, phosphoramide compounds;
Nitrogen-based flame retardant fillers such as benzoguanamine, melamine, melam, melem, melon, melamine cyanurate, cyanuric acid compound, isocyanuric acid compound, triazole compound, tetrazole compound, diazo compound, urea;
Silica, mica, talc, kaolin, clay, hydrotalcite, wollastonite, zonotlite, silicon nitride, boron nitride, aluminum nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, glass flakes, hydrated glass, calcium titanate, sepiolite, sulfuric acid Magnesium, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zirconium hydroxide, barium hydroxide, calcium hydroxide, titanium oxide, tin oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, antimony oxide, nickel oxide, carbonic acid Examples include inorganic fillers such as zinc, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, zinc borate, and aluminum borate.

なかでもフィラーとしては、近年取り沙汰されている、環境への影響を配慮すると、リン系難燃フィラーや窒素系難燃フィラー等のノンハロゲン系難燃剤を使用することが望ましく、中でも本発明の接着剤組成物との併用によって、難燃性により効果のあるホスファゼン化合物、ホスフィン化合物、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸アンモニウム、メラミンシアヌレート等を用いることが好ましい。また、誘電率や誘電正接をさらに低下させる点では、ポリテトラフルオロエチレン粉末を使用することが好ましく、誘電特性のみならず接着性、屈曲性、電気絶縁性、耐熱性とのバランスに優れた硬化物を得ることができるようになる。本発明において、これらフィラーは、単独又は複数を併用して用いることができる。   Among them, it is desirable to use a non-halogen flame retardant such as a phosphorus flame retardant filler or a nitrogen flame retardant filler, which has been recently taken into consideration as the filler, and in particular, the adhesive of the present invention. It is preferable to use a phosphazene compound, a phosphine compound, a melamine polyphosphate, an ammonium polyphosphate, a melamine cyanurate, or the like that is more effective in flame retardancy when used in combination with the composition. In addition, it is preferable to use polytetrafluoroethylene powder from the viewpoint of further reducing the dielectric constant and dielectric loss tangent, and it has excellent balance not only with dielectric properties but also with adhesion, flexibility, electrical insulation and heat resistance. You can get things. In the present invention, these fillers can be used alone or in combination.

これらフィラーの平均粒子径としては、0.1μmから25μmであることが好ましい。0.1μmに近い平均粒子径を示すフィラーを用いた場合、フィラーによる改質効果が得やすく、さらに分散性や分散液の安定性が向上しやすい。また、25μmに近い平均粒子径を示すフィラーを用いた場合、硬化膜の機械特性が向上しやすくなる。   The average particle size of these fillers is preferably 0.1 μm to 25 μm. When a filler having an average particle diameter close to 0.1 μm is used, a modification effect by the filler is easily obtained, and further, dispersibility and stability of the dispersion liquid are easily improved. Moreover, when the filler which shows the average particle diameter near 25 micrometers is used, the mechanical characteristic of a cured film becomes easy to improve.

フィラーの添加量としては、前記樹脂(A)100質量部に対して0.01〜500質量部であることが好ましい。フィラー添加量がこの範囲を下回るとフィラーによる改質効果が得られにくく、この範囲を上回ると硬化膜の機械的特性が大きく損なわれる恐れがある。   As an addition amount of a filler, it is preferable that it is 0.01-500 mass parts with respect to 100 mass parts of said resin (A). If the amount of filler added is below this range, the modification effect by the filler is difficult to obtain, and if it exceeds this range, the mechanical properties of the cured film may be greatly impaired.

フィラーの添加方法は特に制限されるものではなく、従来公知のいかなる方法を用いても良いが、具体的には、重合前または途中に重合反応液に添加する方法、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法、フィラーを含む分散液を用意しこれを混合する方法などが挙げられる。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために分散剤、増粘剤等を接着シート物性に影響を及ぼさない範囲で用いることもできる。   The method for adding the filler is not particularly limited, and any conventionally known method may be used. Specifically, a method of adding to the polymerization reaction solution before or during the polymerization, using a three roll, etc. Examples thereof include a method of kneading the filler and a method of preparing a dispersion containing the filler and mixing it. Further, in order to disperse the filler satisfactorily and stabilize the dispersion state, a dispersant, a thickener and the like can be used as long as the physical properties of the adhesive sheet are not affected.

<その他添加剤>
この他、本発明の熱硬化性接着シートには、目的を損なわない範囲で任意成分として更に、染料、顔料、酸化防止剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、イオン捕集剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤などを添加することができる。
<Other additives>
In addition, the thermosetting adhesive sheet of the present invention may further include dyes, pigments, antioxidants, polymerization inhibitors, antifoaming agents, leveling agents, ion scavengers, moisturizing agents as optional components as long as the purpose is not impaired. An agent, a viscosity modifier, an antiseptic, an antibacterial agent, an antistatic agent, an antiblocking agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an electromagnetic wave shielding agent, and the like can be added.

[シート状基材付き熱硬化性接着シート]
本発明のシート状基材付き熱硬化性接着シートは、例えば、以下のようにして得ることができる。
溶液ないし分散液状態の熱硬化性接着剤を、シート状基材の少なくとも片面に、塗布後、通常40〜150℃で乾燥することにより、いわゆるBステージ状態の熱硬化性接着シートにシート状基材の付いたものを得ることができる。次いで熱硬化性接着シートの他方の面を他のシート状基材で覆うことにより、本発明のシート状基材付き熱硬化性接着シートを得ることができる。
用いるシート状基材の少なくとも一方は、剥離性のシート状基材であることが好ましい。すなわち、剥離性のシート状基材に、溶液ないし分散液状態の熱硬化性接着剤を塗布・乾燥し、熱硬化性接着シートを形成し、次いで熱硬化性接着シートの他方の面を他の剥離性のシート状基材で覆うこともできるし、被着体となる剥離性のないシート状基材で覆うこともできる。あるいは、被着体となる剥離性のないシート状基材に、溶液ないし分散液状態の熱硬化性接着剤を塗布・乾燥し、熱硬化性接着シートを形成し、次いで熱硬化性接着シートの他方の面を他の剥離性のシート状基材で覆うこともできる。
[Thermosetting adhesive sheet with sheet-like substrate]
The thermosetting adhesive sheet with a sheet-like substrate of the present invention can be obtained, for example, as follows.
After applying the thermosetting adhesive in a solution or dispersion state to at least one side of the sheet-like substrate, it is usually dried at 40 to 150 ° C., thereby forming a sheet-like base on the so-called B-stage thermosetting adhesive sheet. You can get the one with the material. Next, the other surface of the thermosetting adhesive sheet is covered with another sheet-like base material, whereby the thermosetting adhesive sheet with the sheet-like base material of the present invention can be obtained.
At least one of the sheet-like substrates to be used is preferably a peelable sheet-like substrate. That is, a thermosetting adhesive in a solution or dispersion state is applied to a peelable sheet-like substrate and dried to form a thermosetting adhesive sheet, and the other surface of the thermosetting adhesive sheet is then placed on the other side. It can also be covered with a peelable sheet-like base material, or can be covered with a non-peelable sheet-like base material to be an adherend. Alternatively, a thermosetting adhesive in a solution or dispersion state is applied to a non-peelable sheet-like substrate to be an adherend and dried to form a thermosetting adhesive sheet, and then the thermosetting adhesive sheet The other surface can be covered with another peelable sheet-like substrate.

熱硬化性接着シートの乾燥膜厚は、充分な接着性、ハンダ耐熱性を発揮させる為、また取り扱い易さの点から、5〜500μmであることが好ましく、更に好ましくは10〜100μmである。
塗布方法としては、例えば、コンマコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ロールコート、カーテンコート、バーコート、グラビア印刷、フレキソ印刷、ディップコート、スプレーコート、スピンコート等が挙げられる。
The dry film thickness of the thermosetting adhesive sheet is preferably 5 to 500 μm, more preferably 10 to 100 μm, from the viewpoint of easy handling and sufficient adhesiveness and solder heat resistance.
Examples of the coating method include comma coating, knife coating, die coating, lip coating, roll coating, curtain coating, bar coating, gravure printing, flexographic printing, dip coating, spray coating, and spin coating.

用いられるシート状基材のうち剥離性のないものとしては、各種プラスチックフィルムが挙げられ、例えば、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリフェニレンエーテルフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルムが挙げられる。
用いられるシート状基材のうち剥離性のあるものとしては、各種プラスチックフィルムに剥離処理をしたものや、紙に剥離処理をしたもの等が挙げられる。剥離処理の対象とされる各種プラスチックフィルムとしては、ポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルムが挙げられる。
Examples of the non-peelable sheet-like substrate used include various plastic films, such as polyimide films, polyester films, polyphenylene ether films, polyphenylene sulfide films, polystyrene films, polycarbonate films, polyether ether ketone films. Is mentioned.
Examples of the sheet-like base material that can be peeled include those obtained by subjecting various plastic films to release treatment and those obtained by subjecting paper to release treatment. Examples of the various plastic films to be subjected to the peeling treatment include polyester films and polyolefin films.

[シート状硬化物]、[保護シート付きプリント配線板]
本発明のシート状硬化物は、本発明の熱硬化性接着シートを熱硬化、例えば40〜200℃程度の温度で硬化してなるものである。
[Cured sheet], [Printed wiring board with protective sheet]
The sheet-like cured product of the present invention is obtained by thermosetting the thermosetting adhesive sheet of the present invention, for example, at a temperature of about 40 to 200 ° C.

熱硬化性接着シートの片面を剥離性のシート状基材が覆い、他方の面を被着体(例えば、ポリイミドフィルムやポリエステルフィルム)が覆っているシート状基材付き熱硬化性接着シートを用いる場合について説明する。
シート状基材付き熱硬化性接着シートから剥離性シート状基材を剥がす。露出した熱硬化性接着シートに他の被着体(例えば、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面側)を重ねる。次いで、加熱・加圧することによって、両被着体に挟まれた熱硬化性接着シートを熱硬化する。
このようにすれば、シート状硬化物を介して、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面が、シート状基材で保護されてなる、保護シート付きプリント配線板を得ることができる。
Use a thermosetting adhesive sheet with a sheet-like substrate in which one side of the thermosetting adhesive sheet is covered with a peelable sheet-like substrate and the other surface is covered with an adherend (for example, a polyimide film or a polyester film). The case will be described.
The peelable sheet-like substrate is peeled off from the thermosetting adhesive sheet with the sheet-like substrate. Another adherend (for example, the circuit surface side of the printed wiring board having a conductive circuit) is overlaid on the exposed thermosetting adhesive sheet. Next, the thermosetting adhesive sheet sandwiched between both adherends is thermoset by heating and pressurizing.
If it does in this way, the printed circuit board with a protection sheet which the said circuit surface of the printed wiring board which has an electroconductive circuit protected by a sheet-like base material can be obtained through a sheet-like hardened | cured material.

次に、熱硬化性接着シートの両面を2つの剥離性のシート状基材がそれぞれ覆っているシート状基材付き熱硬化性接着シートを用いる場合について説明する。
シート状基材付き熱硬化性接着シートから一方の剥離性シート状基材を剥がす。露出した熱硬化性接着シートに被着体(例えば、ポリイミドフィルムやポリエステルフィルム)を重ねる。熱硬化性接着シートの他方の面を覆っていた他の剥離性シート状基材を剥がす。露出した熱硬化性接着シートに他の被着体(例えば、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面側)を重ねる。次いで、加熱・加圧することによって、両被着体に挟まれた熱硬化性接着シートを熱硬化する。剥離性シート状基材を最初に剥がした面に、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面側を重ね、熱硬化性接着シートに他方の面にポリイミドフィルムやポリエステルフィルムを重ねることもできる。
Next, the case where the thermosetting adhesive sheet with a sheet-like base material in which two peelable sheet-like base materials respectively cover both surfaces of the thermosetting adhesive sheet is described.
One peelable sheet-like substrate is peeled off from the thermosetting adhesive sheet with the sheet-like substrate. An adherend (for example, a polyimide film or a polyester film) is stacked on the exposed thermosetting adhesive sheet. The other peelable sheet-like substrate that has covered the other surface of the thermosetting adhesive sheet is peeled off. Another adherend (for example, the circuit surface side of the printed wiring board having a conductive circuit) is overlaid on the exposed thermosetting adhesive sheet. Next, the thermosetting adhesive sheet sandwiched between both adherends is thermoset by heating and pressurizing. The circuit surface side of the printed wiring board having a conductive circuit can be overlaid on the surface from which the peelable sheet-like substrate is first peeled off, and a polyimide film or a polyester film can be overlaid on the other surface of the thermosetting adhesive sheet. .

導電性回路を有するプリント配線板としては、ポリエステルやポリイミド等の可とう性、絶縁性のあるプラスチックフィルム上に、導電性回路を形成したフレキシブルプリント配線板が挙げられる。
導電性回路を設ける方法としては、例えば、接着剤層を介して又は介さずにベースフィルム上に銅箔を設けてなるフレキシブル銅張板の銅箔上に感光性エッチングレジスト層を形成し、回路パターンを持つマスクフィルムを通して露光させて、露光部のみを硬化させ、次いで未露光部の銅箔をエッチングにより除去した後、残っているレジスト層を剥離するなどして、銅箔から導電性回路を形成することができる。
あるいは、ベースフィルム上にスパッタリングやメッキ等の手段で必要な回路のみを設ける方法も挙げられる。
あるいは、銀や銅の粒子を含有する導電性インキを用い、プリント技術によってベースフィルム上に導電性回路を形成する方法も挙げられる。
Examples of the printed wiring board having a conductive circuit include a flexible printed wiring board in which a conductive circuit is formed on a plastic film having flexibility and insulation such as polyester and polyimide.
As a method for providing a conductive circuit, for example, a photosensitive etching resist layer is formed on a copper foil of a flexible copper-clad plate in which a copper foil is provided on a base film with or without an adhesive layer. Expose the conductive circuit from the copper foil by exposing it through a mask film with a pattern, curing only the exposed area, then removing the unexposed area of the copper foil by etching, and then peeling off the remaining resist layer. Can be formed.
Or the method of providing only a required circuit by means, such as sputtering and plating, on a base film is also mentioned.
Or the method of forming an electroconductive circuit on a base film with a printing technique using the electroconductive ink containing the particle | grains of silver and copper is also mentioned.

本発明の熱硬化性接着シートは、保護シート付きプリント配線板の製造に好適に用いられる他、以下のように用いることもできる。
<複数のフレキシブルプリント配線の多層化>
複数のフレキシブルプリント配線の間に、本発明の熱硬化性接着シートを挟み、加熱・加圧することによって、熱硬化性接着シートを硬化させ、多層フレキシブルプリント配線板を得ることもできる。
<フレキシブルプリント配線板用のベースフィルムと銅箔との貼り合わせ>
例えば、ポリイミドフィルムと銅箔との間に、本発明の熱硬化性接着シートを挟み、加熱・加圧することによって、熱硬化性接着シートを硬化させることもできる。
<補強板の貼り付け>
フレキシブルプリント配線板とガラスエポキシ、金属、ポリイミド等の補強板との間に、本発明の熱硬化性接着シートを挟み、加熱・加圧することによって、熱硬化性接着シートを硬化させ、フレキシブルプリント配線板に補強板を付けることもできる。
The thermosetting adhesive sheet of the present invention is suitably used for producing a printed wiring board with a protective sheet, and can also be used as follows.
<Multi-layering of multiple flexible printed wiring>
By sandwiching the thermosetting adhesive sheet of the present invention between a plurality of flexible printed wirings and heating and pressing, the thermosetting adhesive sheet can be cured to obtain a multilayer flexible printed wiring board.
<Lamination of base film for flexible printed wiring board and copper foil>
For example, the thermosetting adhesive sheet can be cured by sandwiching the thermosetting adhesive sheet of the present invention between a polyimide film and a copper foil, and heating and pressing.
<Attaching the reinforcing plate>
By sandwiching the thermosetting adhesive sheet of the present invention between a flexible printed wiring board and a reinforcing plate made of glass epoxy, metal, polyimide, etc., the thermosetting adhesive sheet is cured by heating and pressurizing the flexible printed wiring. A reinforcing plate can be attached to the plate.

以下に、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。なお、実施例における、「部」および「%」は、「重量部」および「重量%」をそれぞれ表し、Mwは質量平均分子量を意味する。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the following examples do not limit the scope of rights of the present invention. In the examples, “parts” and “%” represent “parts by weight” and “% by weight”, respectively, and Mw represents a mass average molecular weight.

<水酸基価(フェノール性およびアルコール性)の測定方法>
フェノール性およびアルコール性の水酸基価は、樹脂固形1g中に含まれる水酸基の量を、水酸基をアセチル化させたときに水酸基と結合した酢酸を中和するために必要な水酸化カリウムの量(mg)で表したものである。
水酸基価は、JIS K0070に準じて測定し、下記式に示す通り、酸価を考慮して計算する。
<Measuring method of hydroxyl value (phenolic and alcoholic)>
The phenolic and alcoholic hydroxyl value is the amount of potassium hydroxide required to neutralize the amount of hydroxyl group contained in 1 g of resin solids to neutralize acetic acid bonded to the hydroxyl group when the hydroxyl group is acetylated (mg ).
The hydroxyl value is measured according to JIS K0070, and is calculated in consideration of the acid value as shown in the following formula.

共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、シクロヘキサノン溶媒100mlを加えて溶解する。更にアセチル化剤(無水酢酸25gをピリジンで溶解し、容量100mlとした溶液)を正確に5ml加え、約1時間攪拌した。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、30秒間持続する。その後、溶液が淡紅色を呈するまで0.5Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定する。
水酸基価は次式により求めた(単位:mgKOH/g)。
水酸基価(mgKOH/g)=[{(b−a)×F×28.05}/S]+D
ただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.5Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
b:空実験の0.5Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.5Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
D:酸価(mgKOH/g)
<酸価の測定>
共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、シクロヘキサノン溶媒100mlを加えて溶解する。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、30秒間保持する。その後、溶液が淡紅色を呈するまで0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定する。酸価は次式により求めた(単位:mgKOH/g)。
酸価(mgKOH/g)=(5.611×a×F)/S
ただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
About 1 g of a sample is accurately weighed in a stoppered Erlenmeyer flask and dissolved by adding 100 ml of cyclohexanone solvent. Further, exactly 5 ml of an acetylating agent (a solution in which 25 g of acetic anhydride was dissolved in pyridine to make a volume of 100 ml) was added and stirred for about 1 hour. To this, phenolphthalein reagent is added as an indicator and lasts for 30 seconds. Thereafter, the solution is titrated with a 0.5N alcoholic potassium hydroxide solution until the solution becomes light red.
The hydroxyl value was determined by the following formula (unit: mgKOH / g).
Hydroxyl value (mgKOH / g) = [{(ba) × F × 28.05} / S] + D
However,
S: Sample collection amount (g)
a: Consumption of 0.5N alcoholic potassium hydroxide solution (ml)
b: Consumption of the 0.5N alcoholic potassium hydroxide solution in the blank experiment (ml)
F: Potency of 0.5N alcoholic potassium hydroxide solution D: Acid value (mgKOH / g)
<Measurement of acid value>
About 1 g of a sample is accurately weighed in a stoppered Erlenmeyer flask and dissolved by adding 100 ml of cyclohexanone solvent. To this is added phenolphthalein reagent as an indicator and held for 30 seconds. Thereafter, the solution is titrated with a 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution until the solution becomes light red. The acid value was determined by the following formula (unit: mgKOH / g).
Acid value (mgKOH / g) = (5.611 × a × F) / S
However,
S: Sample collection amount (g)
a: Consumption of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution (ml)
F: Potency of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution

<酸無水物価の測定方法>
共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、1,4−ジオキサン溶媒100mlを加えて溶解した。これにオクチルアミン、1,4−ジオキサン、水の混合溶液(重量の混合比は1.49/800/80)を10mL加えて15分攪拌し、反応を完了させた。その後、過剰のオクチルアミンを0.02M過塩素酸、1,4−ジオキサンの混合溶液で滴定した。また、試料を加えていない、オクチルアミン、1,4−ジオキサン、水の混合溶液(重量の混合比は1.49/800/80)10mLもブランクとして測定を実施した。酸無水物価は次式により求めた(単位:mgKOH/g)
酸無水物価(mgKOH/g)=0.02×(B−S)×F×56.11/W
B:ブランクの滴定量(mL)
S:試料の滴定量(mL)
W:試料固形量(g)
F:0.02mol/L過塩素酸の力価
<Method for measuring acid anhydride value>
About 1 g of a sample was accurately weighed in a stoppered Erlenmeyer flask and dissolved by adding 100 ml of 1,4-dioxane solvent. 10 mL of a mixed solution of octylamine, 1,4-dioxane and water (weight mixing ratio: 1.49 / 800/80) was added thereto, and the mixture was stirred for 15 minutes to complete the reaction. Thereafter, excess octylamine was titrated with a mixed solution of 0.02M perchloric acid and 1,4-dioxane. Moreover, the measurement was carried out using 10 mL of a mixed solution of octylamine, 1,4-dioxane, and water (weight mixing ratio: 1.49 / 800/80), to which no sample was added, as a blank. The acid anhydride value was determined by the following formula (unit: mgKOH / g).
Acid anhydride value (mgKOH / g) = 0.02 × (B−S) × F × 56.11 / W
B: Blank titration (mL)
S: Sample titration (mL)
W: Sample solid content (g)
F: 0.02 mol / L perchloric acid titer

<質量平均分子量(Mw)の測定方法>
Mwの測定は東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)「HPC−8020」を用いた。GPCは溶媒(THF;テトラヒドロフラン)に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィーである。本発明における測定は、カラムに「LF−604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続して用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で行い、重量平均分子量(Mw)の決定はポリスチレン換算で行った。
<Measurement method of mass average molecular weight (Mw)>
For measurement of Mw, GPC (gel permeation chromatography) “HPC-8020” manufactured by Tosoh Corporation was used. GPC is liquid chromatography that separates and quantifies substances dissolved in a solvent (THF; tetrahydrofuran) based on the difference in molecular size. For the measurement in the present invention, “LF-604” (manufactured by Showa Denko KK: GPC column for rapid analysis: 6 mm ID × 150 mm size) is connected in series to the column, the flow rate is 0.6 ml / min, and the column temperature. It carried out on the conditions of 40 degreeC, and the determination of the weight average molecular weight (Mw) was performed in polystyrene conversion.

[合成例1]
<アクリル樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、メチルエチルケトン(以下、MEKという)300gを入れ、容器に窒素ガスを注入しながら80℃に加熱して、同温度でメタクリル酸ブチル30g、メタクリル酸メチル28g、メタクリル酸ラウリルとメタクリル酸トリデシルとの1:1(質量比)混合品3g、メタクリル酸12g、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下終了後、さらに80℃で3時間反応させた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル1.2部をMEK50gに溶解させたものを添加し、80℃で1時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。質量平均分子量は5.2万、酸価は78.2mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 1]
<Synthesis example of acrylic resin>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet pipe, inlet pipe, thermometer, 300 g of methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as MEK) is heated to 80 ° C. while injecting nitrogen gas into the container. At the same temperature, 30 g of butyl methacrylate, 28 g of methyl methacrylate, 3 g of 1: 1 (mass ratio) mixture of lauryl methacrylate and tridecyl methacrylate, 12 g of methacrylic acid, 2,2′-azobisisobutyronitrile 8 g of the mixture was added dropwise over 1 hour to conduct a polymerization reaction. After the completion of the dropwise addition, the mixture was further reacted at 80 ° C. for 3 hours, then 1.2 parts of 2,2′-azobisisobutyronitrile dissolved in 50 g of MEK was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 1 hour. An acrylic resin solution was obtained. The mass average molecular weight was 52,000, and the acid value was 78.2 mgKOH / g.

ここで、分子量142のメタクリル酸ブチル30gは0.21molなので、メタクリル酸ブチル30g中にはエステル基が0.21mol含まれる。
以下、同様に、分子量100のメタクリル酸メチル28g中にはエステル基を0.28molが含まれ、
平均分子量261のメタクリル酸ラウリルとメタクリル酸トリデシルとの混合物30g中にはエステル基が0.12mol含まれ、
分子量86のメタクリル酸12g中にはエステル基が0.14mol含まれ、さらに反応性官能基であるカルボキシル基が0.14mol含まれる。
そのため、樹脂100g中に含まれるエステル結合のモル数は、0.74molであり、カルボキシル基は0.14molである。ここから、樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は1.4mmol/g、その他官能基量は7.4mmol/g、トータル官能基量は、8.8mmol/gとなる。
Here, since 30 g of butyl methacrylate having a molecular weight of 142 is 0.21 mol, 0.21 mol of an ester group is contained in 30 g of butyl methacrylate.
Hereinafter, similarly, 0.28 mol of ester groups are contained in 28 g of methyl methacrylate having a molecular weight of 100,
0.12 mol of ester groups are contained in 30 g of a mixture of lauryl methacrylate having an average molecular weight of 261 and tridecyl methacrylate,
In 12 g of methacrylic acid having a molecular weight of 86, 0.14 mol of an ester group is contained, and further 0.14 mol of a carboxyl group which is a reactive functional group is contained.
Therefore, the number of moles of ester bonds contained in 100 g of resin is 0.74 mol, and the carboxyl group is 0.14 mol. From this, when the functional group in 1 g of resin is calculated, the reactive functional group amount is 1.4 mmol / g, the other functional group amount is 7.4 mmol / g, and the total functional group amount is 8.8 mmol / g.

[合成例2〜3]、[比較合成例1〜2]
合成例1と同様の方法で、表1の組成に従って合成を行い、アクリル樹脂を得た。
[Synthesis Examples 2-3], [Comparative Synthesis Examples 1-2]
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 1 in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain an acrylic resin.

[合成例4]
<ポリエステル樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、セバシン酸57.6g、トリメシン酸3.2g、シクロへキサンジメタノール27.5g、1.6−ヘキサンジオール9.7g、テトラブチルチタネート0.012gを仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、温度が安定したのを確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2KPaの真空下で、1時間保持した。その後、温度を低下し、ポリエステル樹脂を得た。質量平均分子量は3.2万、酸価は39.8mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 4]
<Examples of polyester resin synthesis>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube and thermometer, 57.6 g of sebacic acid, 3.2 g of trimesic acid, 27.5 g of cyclohexanedimethanol, 1.6-hexane Diol 9.7 g and tetrabutyl titanate 0.012 g were charged and stirred until the temperature of the exotherm became constant. When the temperature is stabilized, the temperature is raised to 110 ° C. After confirming that the temperature has stabilized, the temperature is raised to 120 ° C. after 30 minutes, and then the dehydration reaction is performed while raising the temperature by 10 ° C. every 30 minutes. Continued. When the temperature reached 230 ° C., the reaction was continued for 3 hours at the same temperature, and held for 1 hour under a vacuum of about 2 KPa. Thereafter, the temperature was lowered to obtain a polyester resin. The mass average molecular weight was 32,000, and the acid value was 39.8 mgKOH / g.

ここで、2官能の分子量202のセバシン酸57.6gは0.285molなので、セバシン酸57.6g中にはカルボキシル基が0.57mol含まれる。
以下、同様に、分子量210の3官能のトリメシン酸3.2g中にはカルボキシル基が0.045mol含まれ、
分子量144のシクロヘキサンジメタノール27.5g中には、アルコール性水酸基が0.382mol含まれ、
1.6−ヘキサンジオール9.7g中には、アルコール性水酸基が0.164mol含まれる。
つまり、カルボキシル基を0.615mol、アルコール性水酸基を0.546mol含むモノマーを反応させているため、樹脂中のエステル基量は0.546molであり、反応性官能基として残存するアルコール性水酸基は0.069molである。
仕込んだモノマーの合計量は97.9gであることから、樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は(0.069/97.9)×1000=0.7mmol/g、その他官能基量は(0.546/97.9)×1000=5.6mmol/g、トータル官能基量は、6.3mmol/gとなる。
Here, since 57.6 g of sebacic acid having a bifunctional molecular weight 202 is 0.285 mol, 0.57 mol of a carboxyl group is contained in 57.6 g of sebacic acid.
Hereinafter, similarly, 0.045 mol of a carboxyl group is contained in 3.2 g of trifunctional trimesic acid having a molecular weight of 210,
In 27.5 g of cyclohexanedimethanol having a molecular weight of 144, 0.382 mol of an alcoholic hydroxyl group is contained,
In 9.7 g of 1.6-hexanediol, 0.164 mol of an alcoholic hydroxyl group is contained.
That is, since the monomer containing 0.615 mol of carboxyl group and 0.546 mol of alcoholic hydroxyl group is reacted, the amount of ester groups in the resin is 0.546 mol, and the alcoholic hydroxyl group remaining as the reactive functional group is 0. 0.069 mol.
Since the total amount of charged monomers is 97.9 g, the amount of reactive functional group is (0.069 / 97.9) × 1000 = 0.7 mmol / g when the functional group in 1 g of resin is calculated. The functional group amount is (0.546 / 97.9) × 1000 = 5.6 mmol / g, and the total functional group amount is 6.3 mmol / g.

[合成例5〜10]、[比較合成例3]
合成例4と同様の方法で、表2の組成に従って合成を行い、ポリエステル系樹脂を得た。
[Synthesis Examples 5 to 10], [Comparative Synthesis Example 3]
Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 4 according to the composition shown in Table 2 to obtain a polyester resin.

[合成例11]
<ポリウレタン系樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、1.6−ヘキサンジオール10.6g、C36ダイマージオール(PRIPOL2033:クローダジャパン株式会社、OH価=207mgKOH/g)113.3g、トリレンジイソシアネート44.3g、溶剤としてトルエン240gを仕込み、窒素気流下、攪拌しながら60℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いてこのフラスコに、触媒としてジブチル錫ジラウレート0.016gを投入し、100℃で3時間攪拌し、ウレタン化の反応を行った。次に、トルエン40g、無水トリメリット酸17.6gを投入し、90℃で1時間攪拌後、135℃に昇温し、4時間反応させた。室温まで冷却し、ポリウレタン系樹脂を得た。質量平均分子量は1.1万、酸価は55.3mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 11]
<Synthesis example of polyurethane resin>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, thermometer, 1.6-hexanediol 10.6 g, C36 dimer diol (PRIPOL 2033: CRODA JAPAN, OH value = 207 mgKOH / g) 113.3 g, 44.3 g of tolylene diisocyanate, and 240 g of toluene as a solvent were charged, and the mixture was heated to 60 ° C. with stirring in a nitrogen stream and dissolved uniformly. Subsequently, 0.016 g of dibutyltin dilaurate was added to the flask as a catalyst, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 3 hours to carry out a urethanization reaction. Next, 40 g of toluene and 17.6 g of trimellitic anhydride were added, stirred at 90 ° C. for 1 hour, then heated to 135 ° C. and reacted for 4 hours. Cooling to room temperature gave a polyurethane resin. The mass average molecular weight was 11,000, and the acid value was 55.3 mgKOH / g.

ここで、2官能の分子量118の1.6−ヘキサンジオール10.6g中には、アルコール性水酸基が0.18mol含まれる。
以下、同様に、2官能の分子量540の36ダイマージオール113.3g中には、アルコール性水酸基が0.42mol含まれ、
2官能の分子量174のトリレンジイソシアネート44.3g中にはイソシアネート基が0.508mol含まれる。
つまり、アルコール性水酸基を0.6mol、イソシアネート基を0.508mol含むモノマーを反応させているため、樹脂中のウレタン基量は0.508molであり、反応性官能基として残存するアルコール性水酸基は0.092molである。
続けて投入した分子量210の無水トリメリット酸は、カルボキシル基を1つ、酸無水物基を1つ有すので、無水トリメリット酸17.6g中には、酸無水物基が0.092mol、カルボキシル基が0.092mol含まれる。この無水トリメリット酸によりアルコール性水酸基は消失し、エステル基が0.092mol生成し、カルボキシル基が0.183mol生成する。
これにより樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は0.98mmol/g、その他官能基量は3.2mmol/g、トータル官能基量は、4.2mmol/gとなる。
Here, 0.16 mol of alcoholic hydroxyl group is contained in 10.6 g of 1.6-hexanediol having a bifunctional molecular weight of 118.
Hereinafter, similarly, 113.3 g of a difunctional molecular weight 540 of 36 dimer diol contains 0.42 mol of an alcoholic hydroxyl group,
In 44.3 g of bifunctional torylene diisocyanate having a molecular weight of 174, 0.508 mol of isocyanate groups are contained.
That is, since the monomer containing 0.6 mol of alcoholic hydroxyl group and 0.508 mol of isocyanate group is reacted, the amount of urethane group in the resin is 0.508 mol, and the alcoholic hydroxyl group remaining as the reactive functional group is 0. 092 mol.
The trimellitic anhydride having a molecular weight of 210 charged continuously has one carboxyl group and one acid anhydride group. Therefore, in 17.6 g of trimellitic anhydride, the acid anhydride group is 0.092 mol, 0.092 mol of carboxyl groups are included. This trimellitic anhydride eliminates the alcoholic hydroxyl group, producing 0.092 mol of ester groups and 0.183 mol of carboxyl groups.
Thus, when the functional group in 1 g of the resin is calculated, the reactive functional group amount is 0.98 mmol / g, the other functional group amount is 3.2 mmol / g, and the total functional group amount is 4.2 mmol / g.

[合成例12]、[比較合成例4]
合成例11と同様の方法で、表3の組成に従って合成を行い、ポリウレタン系樹脂を得た。
[Synthesis Example 12], [Comparative Synthesis Example 4]
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 3 in the same manner as in Synthesis Example 11 to obtain a polyurethane resin.

[合成例13]
<ポリウレタンウレア系樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、1.6−ヘキサンジオール28.4g、ジメチロールブタン酸8.9g、トリレンジイソシアネート55.6g、溶剤としてトルエン122gを仕込み、窒素気流下、攪拌しながら60℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いてこのフラスコに、触媒としてジブチル錫ジラウレート0.008gを投入し、100℃で3時間攪拌し、ウレタン化の反応を行った。次に、80℃に降温してトルエン20gに溶解させたヘキシルアミン1.9gを30分かけて滴下し、その後100℃で6時間攪拌した。室温まで冷却し、ポリウレタンウレア系樹脂を得た。質量平均分子量は1.4万、酸価は34.8mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 13]
<Synthesis example of polyurethane urea resin>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube and thermometer, 28.4 g of 1.6-hexanediol, 8.9 g of dimethylolbutanoic acid, 55.6 g of tolylene diisocyanate, solvent As a solution, 122 g of toluene was charged, and the mixture was heated to 60 ° C. with stirring in a nitrogen stream to be dissolved uniformly. Subsequently, 0.008 g of dibutyltin dilaurate was added to the flask as a catalyst and stirred at 100 ° C. for 3 hours to carry out a urethanization reaction. Next, the temperature was lowered to 80 ° C. and 1.9 g of hexylamine dissolved in 20 g of toluene was dropped over 30 minutes, and then stirred at 100 ° C. for 6 hours. After cooling to room temperature, a polyurethaneurea resin was obtained. The mass average molecular weight was 14,000, and the acid value was 34.8 mgKOH / g.

ここで、2官能の分子量118の1.6−ヘキサンジオール28.4中には、アルコール性水酸基が0.48mol含まれ、
2官能の分子量148のジメチロールブタン酸8.9g中には、アルコール性水酸基0.12molとカルボキシル基0.06molが含まれ、
2官能の分子量174のトリレンジイソシアネート55.6g中にはイソシアネート基が0.638mol含まれる。
つまり、アルコール性水酸基を0.6mol、イソシアネート基を0.638mol含むモノマーを反応させているため、樹脂中のウレタン基量は0.6molであり、反応性官能基として残存するイソシアネート基は0.038molである。
続けて投入した1官能の分子量101のヘキシルアミン3.9g中には、アミノ基が0.038mol含まれる。このヘキシルアミンによりイソシアネート基は消失し、ウレア基が0.038mol生成する。
これにより樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は0.62mmol/g、その他官能基量は6.6mmol/g、トータル官能基量は、7.2mmol/gとなる。
Here, 0.48 mol of an alcoholic hydroxyl group is contained in the bifunctional molecular weight 118 1.6-hexanediol 28.4.
In 8.9 g of dimethylolbutanoic acid having a bifunctional molecular weight of 148, 0.12 mol of alcoholic hydroxyl group and 0.06 mol of carboxyl group are contained,
0.638 mol of isocyanate groups are contained in 55.6 g of tolylene diisocyanate having a bifunctional molecular weight of 174.
That is, since a monomer containing 0.6 mol of an alcoholic hydroxyl group and 0.638 mol of an isocyanate group is reacted, the amount of urethane groups in the resin is 0.6 mol, and the isocyanate group remaining as a reactive functional group is 0. 038 mol.
0.038 mol of an amino group is contained in 3.9 g of monofunctional molecular weight 101 hexylamine which is continuously added. With this hexylamine, the isocyanate group disappears and 0.038 mol of urea group is formed.
Thus, when the functional group in 1 g of the resin is calculated, the reactive functional group amount is 0.62 mmol / g, the other functional group amount is 6.6 mmol / g, and the total functional group amount is 7.2 mmol / g.

[合成例14]、[比較合成例5]
<ポリウレタンウレア系樹脂の合成例>
合成例13と同様の方法で、表4の組成に従って合成を行い、ポリウレタンウレア系樹脂を得た。
[Synthesis Example 14], [Comparative Synthesis Example 5]
<Synthesis example of polyurethane urea resin>
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 4 in the same manner as in Synthesis Example 13 to obtain a polyurethaneurea resin.

[合成例15]
<ポリアミド系樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、セバシン酸54.5g、トリメシン酸6.4g、プリアミン1074:クローダジャパン(株)製、C36ダイマージアミン(アミン価:210mgKOH/g)148.4g、イオン交換水を100g仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2KPaの真空下で、1時間保持した。その後、温度を低下し、ポリアミド樹脂を得た。質量平均分子量は2.8万、酸価は20.0mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 15]
<Synthesis example of polyamide resin>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 54.5 g of sebacic acid, 6.4 g of trimesic acid, preamine 1074: C36 dimer diamine (manufactured by Croda Japan Co., Ltd.) (Amine value: 210 mg KOH / g) 148.4 g and 100 g of ion-exchanged water were charged, and the mixture was stirred until the temperature of heat generation became constant. When the temperature was stabilized, the temperature was raised to 110 ° C., and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120 ° C. after 30 minutes, and then the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10 ° C. every 30 minutes. . When the temperature reached 230 ° C., the reaction was continued for 3 hours at the same temperature, and held for 1 hour under a vacuum of about 2 KPa. Thereafter, the temperature was lowered to obtain a polyamide resin. The mass average molecular weight was 28,000, and the acid value was 20.0 mgKOH / g.

ここで、2官能の分子量202のセバシン酸202g中には、カルボキシル基が0.54mol含まれ、
3官能の分子量210のトリメシン酸6.3g中には、カルボキシル基が0.09mol含まれ、
2官能の分子量534のプリアミン1074、148.4g中にはアミノ基が0.556mol含まれる。
つまり、カルボキシル基を0.63mol、アミノ基を0.556mol含むモノマーを反応させているため、樹脂中のアミド基量は0.556molであり、反応性官能基として残存するカルボキシル基は0.074molである。10gの水が抜けるので、樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は0.37mmol/g、その他官能基量は2.79mmol/g、トータル官能基量は、3.2mmol/gとなる。
Here, in 202 g of sebacic acid having a bifunctional molecular weight of 202, 0.54 mol of a carboxyl group is contained,
In 6.3 g of trimesic acid having a molecular weight of 210, 0.09 mol of a carboxyl group is contained,
0.556 mol of amino groups are contained in the bifunctional molecular weight 534 of the preamine 1074 and 148.4 g.
That is, since the monomer containing 0.63 mol carboxyl group and 0.556 mol amino group is reacted, the amount of amide group in the resin is 0.556 mol, and the remaining carboxyl group as a reactive functional group is 0.074 mol. It is. Since 10 g of water escapes, when the functional group in 1 g of resin is calculated, the reactive functional group amount is 0.37 mmol / g, the other functional group amount is 2.79 mmol / g, and the total functional group amount is 3.2 mmol / g. g.

[合成例16〜17]、[比較合成例6]
合成例15と同様の方法で、表5の組成に従って合成を行い、ポリアミド系樹脂を得た。
[Synthesis Examples 16 to 17], [Comparative Synthesis Example 6]
Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 15 in accordance with the composition shown in Table 5 to obtain a polyamide resin.

[合成例18]
<ポリイミド系樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物「6FDA」88.8g、ダイマージイソシアネート(BASFジャパン株式会社製、NCO%=13.8%)110.1gIPDIヌレート(イソホロンジイソシアネートのヌレート体)6.06gを仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分毎に10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で3時間保持した。その後、温度を低下し、ポリイミド樹脂を得た。質量平均分子量は3.4万、酸無水物価は7.5mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 18]
<Synthesis example of polyimide resin>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet pipe, inlet pipe, and thermometer, 88.8 g of 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride “6FDA”, dimer isocyanate (BASF) Japan Co., Ltd., NCO% = 13.8%) 110.1 g IPDI nurate (nuphorate of isophorone diisocyanate) 6.06 g was charged and stirred until the temperature of heat generation became constant. When the temperature was stabilized, the temperature was raised to 110 ° C., and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120 ° C. after 30 minutes, and then the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10 ° C. every 30 minutes. . When the temperature reached 230 ° C., the reaction was continued for 3 hours at the same temperature, and kept under a vacuum of about 2 kPa for 3 hours. Thereafter, the temperature was lowered to obtain a polyimide resin. The mass average molecular weight was 34,000, and the acid anhydride value was 7.5 mgKOH / g.

ここで、2官能の分子量444の6FDA88.8g中には酸無水物基が0.4mol含まれ、
2官能の分子量638のダイマージイソシアネート110.1g中にはイソシアネート基が0.345mol含まれ、
3官能の分子量667のIPDIヌレート6.1g中にはイソシアネート基が0.027mol含まれる。
つまり、酸無水物基を0.4mol、イソシアネート基を0.373mol含むモノマーを反応させているため、樹脂中のイミド基量は1.879molであり、反応性官能基として残存する酸無水物基は0.138molである。6.7gの水が抜けるので、樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は0.14mmol/g、その他官能基量は1.88mmol/g、トータル官能基量は、2.0mmol/gとなる。
Here, 0.4 mol of an acid anhydride group is contained in 88.8 g of 6FDA having a bifunctional molecular weight of 444,
In 110.1 g of dimerized isocyanate having a bifunctional molecular weight of 638, 0.345 mol of an isocyanate group is contained,
0.027 mol of an isocyanate group is contained in 6.1 g of a trifunctional molecular weight 667 IPDI nurate.
That is, since the monomer containing 0.4 mol of acid anhydride group and 0.373 mol of isocyanate group is reacted, the amount of imide group in the resin is 1.879 mol, and the acid anhydride group remaining as a reactive functional group Is 0.138 mol. Since 6.7 g of water escapes, the functional group amount in the resin 1 g is calculated to be 0.14 mmol / g, the other functional group amount is 1.88 mmol / g, and the total functional group amount is 2. 0 mmol / g.

[合成例19〜23]、[比較合成例7]
合成例18と同様の方法で、表6の組成に従って合成を行い、ポリイミド系樹脂を得た。
[Synthesis Examples 19 to 23], [Comparative Synthesis Example 7]
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 6 in the same manner as in Synthesis Example 18 to obtain a polyimide resin.

[合成例24]
<ポリカーボネート系樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、炭酸エチレン25.2g、1,4−シクロへキサンジメタノール38.9g、トリメチロールプロパン4.0g、テトラブチルチタネート0.003gを仕込み、常圧、攪拌下、シクロへキサンジメタノールと炭酸エチレンの混合物を留去しながら、エステル交換反応を8時間行なった。この間、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら反応温度は190℃まで徐々に昇温させ、留出物の組成はシクロへキサンジメタノールと炭酸エチレンの混合物の共沸組成の近傍となるように調節した。そのままの温度で3時間反応を続け、約2KPaの真空下で、さらに3時間保持した。その後、温度を低下し、ポリカーボネート樹脂を得た。質量平均分子量は1.4万、水酸基価は48.2mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 24]
<Synthesis example of polycarbonate resin>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, thermometer, ethylene carbonate 25.2 g, 1,4-cyclohexanedimethanol 38.9 g, trimethylolpropane 4.0 g, The transesterification was carried out for 8 hours while adding 0.003 g of tetrabutyl titanate and distilling off a mixture of cyclohexanedimethanol and ethylene carbonate under normal pressure and stirring. During this period, the reaction temperature is gradually raised to 190 ° C. while raising the temperature by 10 ° C. every 30 minutes, so that the composition of the distillate is close to the azeotropic composition of the mixture of cyclohexanedimethanol and ethylene carbonate. Adjusted. The reaction was continued for 3 hours at the same temperature, and was further maintained for 3 hours under a vacuum of about 2 KPa. Thereafter, the temperature was lowered to obtain a polycarbonate resin. The mass average molecular weight was 14,000, and the hydroxyl value was 48.2 mgKOH / g.

ここで、2官能の分子量144の1,4−シクロへキサンジメタノール38.9g中にはアルコール性水酸基が0.54mol含まれ、3官能の分子量134のトリメチロールプロパン4.0gには、アルコール性水酸基0.09mol含まれ、
2官能の分子量88の炭酸エチレン25.2g中にはカーボネート基が0.29mol含まれる。
つまり、アルコール性水酸基を0.63mol、カーボネート基を0.29mol含むモノマーを反応させているため、樹脂中のカーボネート基量は0.29molであり、反応性官能基として残存するアルコール性水酸基は0.059molである。17.7gのエチレングリコールが抜けるので、樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は1.16mmol/g、その他官能基量は5.67mmol/g、トータル官能基量は、6.8mmol/gとなる。
Here, 0.54 mol of alcoholic hydroxyl group is contained in 38.9 g of 1,4-cyclohexanedimethanol having a bifunctional molecular weight of 144, and 4.0 g of trimethylolpropane having a trifunctional molecular weight of 134 is alcohol. 0.09 mol of a hydroxyl group is contained,
0.22 mol of carbonate groups are contained in 25.2 g of bifunctional ethylene carbonate having a molecular weight of 88.
That is, since the monomer containing 0.63 mol of alcoholic hydroxyl group and 0.29 mol of carbonate group is reacted, the amount of carbonate group in the resin is 0.29 mol, and the alcoholic hydroxyl group remaining as the reactive functional group is 0. 0.059 mol. Since 17.7 g of ethylene glycol is lost, the functional groups in 1 g of resin are calculated. The amount of reactive functional groups is 1.16 mmol / g, the amount of other functional groups is 5.67 mmol / g, and the total amount of functional groups is 6. 0.8 mmol / g.

[合成例25]
<ポリカーボネート系樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、炭酸エチレン25.2g、1.6−ヘキサンジオール35.5g、テトラブチルチタネート0.003gを仕込み、常圧、攪拌下、1.6ヘキサンジオールと炭酸エチレンの混合物を留去しながら、エステル交換反応を8時間行なった。この間、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら反応温度は190℃まで徐々に昇温させ、留出物の組成は1.6−ヘキサンジオールと炭酸エチレンの混合物の共沸組成の近傍となるように調節した。そのままの温度で3時間反応を続け、約2KPaの真空下で、さらに3時間保持した。その後、温度を低下し、無水トリメリット酸2.2g、トルエン30gを添加し、110℃で3時間反応させ、その後、温度を低下し、ポリカーボネート樹脂を得た。質量平均分子量は1.3万、酸価は20.4mgKOH/g、水酸基価は15.3mgKOH/gであった。また、構造から算出される極性官能基量は7.5mmol/gであった。
[Synthesis Example 25]
<Synthesis example of polycarbonate resin>
A 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer was charged with 25.2 g of ethylene carbonate, 35.5 g of 1.6-hexanediol, and 0.003 g of tetrabutyl titanate. The ester exchange reaction was carried out for 8 hours while distilling off a mixture of 1.6 hexanediol and ethylene carbonate under pressure and stirring. During this period, the reaction temperature is gradually raised to 190 ° C. while raising the temperature by 10 ° C. every 30 minutes, and the composition of the distillate is close to the azeotropic composition of the mixture of 1.6-hexanediol and ethylene carbonate. Adjusted as follows. The reaction was continued for 3 hours at the same temperature, and was further maintained for 3 hours under a vacuum of about 2 KPa. Thereafter, the temperature was decreased, 2.2 g of trimellitic anhydride and 30 g of toluene were added and reacted at 110 ° C. for 3 hours, and then the temperature was decreased to obtain a polycarbonate resin. The mass average molecular weight was 13,000, the acid value was 20.4 mgKOH / g, and the hydroxyl value was 15.3 mgKOH / g. The amount of polar functional group calculated from the structure was 7.5 mmol / g.

[比較合成例8]
合成例24と同様の方法で、表7の組成に従って合成を行い、ポリカーボネート系樹脂を得た。
[Comparative Synthesis Example 8]
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 7 in the same manner as in Synthesis Example 24 to obtain a polycarbonate resin.

[合成例26]
<ポリフェニレンエーテル系樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコを30℃の恒温水槽中に置いた。塩化銅(I)9.9gをピリジン2.0gに加え、酸素を吹き込みながらかき混ぜ、トルエン5.0gを加えることで、触媒溶液となる銅(II)ピリジン錯体溶液を得た。また、2,6−ジメチルフェノール98.0gと2.2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン30.0gをトルエン3.0gに溶解し、フェノール溶液を得た。その後、30℃に保持し、酸素置換した反応容器内に触媒、フェノール両溶液を滴下混合し、激しくかき混ぜた。モノマー添加開始時から66分後に、酸素を窒素に切り換え、重合を停止させた。反応溶液を0.3gの濃塩酸を含む110gのメタノール中に滴下した。沈殿したポリマーをろ過し、25.0gのメタノール、ついで1.0gの濃塩酸を含む25.0gのメタノール、最後に25.0gのメタノールで洗浄した。120℃で3時間乾燥させ、トルエン50.0g、2−プロパノール50.0gで希釈して、トータル官能基量が0.01mmol/g以上、9.0mmol/g以下の樹脂(A)であるポリフェニレンエーテル樹脂を得た。質量平均分子量は1.5万、フェノール性水酸基価は15.4mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 26]
<Synthesis example of polyphenylene ether resin>
A four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, an inlet tube, and a thermometer was placed in a constant temperature water bath at 30 ° C. 9.9 g of copper (I) chloride was added to 2.0 g of pyridine, stirred while blowing oxygen, and 5.0 g of toluene was added to obtain a copper (II) pyridine complex solution serving as a catalyst solution. In addition, 98.0 g of 2,6-dimethylphenol and 30.0 g of 2.2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane were dissolved in 3.0 g of toluene to obtain a phenol solution. Thereafter, both the catalyst and phenol solutions were added dropwise and mixed vigorously in a reaction vessel maintained at 30 ° C. and purged with oxygen. 66 minutes after the start of monomer addition, the oxygen was switched to nitrogen to stop the polymerization. The reaction solution was dropped into 110 g of methanol containing 0.3 g of concentrated hydrochloric acid. The precipitated polymer was filtered and washed with 25.0 g methanol, then 25.0 g methanol containing 1.0 g concentrated hydrochloric acid and finally 25.0 g methanol. Polyphenylene which is dried at 120 ° C. for 3 hours, diluted with 50.0 g of toluene and 50.0 g of 2-propanol, and having a total functional group content of 0.01 mmol / g or more and 9.0 mmol / g or less (A) An ether resin was obtained. The mass average molecular weight was 15,000, and the phenolic hydroxyl value was 15.4 mgKOH / g.

ここで、2官能の分子量122の2,6−ジメチルフェノール98.0gg中にはフェノール性水酸基が0.80mol含まれ、2官能の分子量284の2,2−ビス(4−ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)プロパン30.0gには、フェノール性水酸基0.21mol含まれる。
重合した後のフェノール性水酸基とエーテル基の合計量は、初期のフェノール基の合計量となる。固形量は128gのため、1.01/128×1000の計算式によりトータル官能基量は、7.9mmol/gとなる。
In this case, 0.80 mol of phenolic hydroxyl group is contained in 98.0 mg of 2,6-dimethylphenol having a bifunctional molecular weight of 122, and 2,2-bis (4-hydroxy-3,5 having a bifunctional molecular weight of 284 is included. -Dimethylphenyl) propane (30.0 g) contains 0.21 mol of a phenolic hydroxyl group.
The total amount of phenolic hydroxyl groups and ether groups after polymerization is the total amount of initial phenol groups. Since the solid amount is 128 g, the total functional group amount is 7.9 mmol / g according to the calculation formula of 1.01 / 128 × 1000.

[合成例27]
<オレフィン系樹脂の合成例>
主鎖合成、水添、酸変性と3段階で合成を完了させた。
<主鎖合成>
乾燥した窒素雰囲気下で、内容量5リットルのステンレスリアクターにシクロヘキサン330gと、スチレンの25重量%シクロヘキサン溶液576g(スチレンとして144g)と、9mmolのn−BuLiと、45mmolのTHFとを加え、50℃で30分間重合した。
次いで、ブタジエン/シクロヘキサンの17.7%溶液を1733g(ブタジエンとして306g)加え、ジャケットの温度を75℃に昇温し1時間重合した。引き続きジメチルジクロルスズ(Me2 SnCl2 )4.05mmolを加え、15分間カップリング反応を行い、主鎖を合成した。
[Synthesis Example 27]
<Example of synthesis of olefin resin>
The synthesis was completed in three stages: main chain synthesis, hydrogenation, and acid modification.
<Main chain synthesis>
In a dry nitrogen atmosphere, 330 g of cyclohexane, 576 g of a 25 wt% cyclohexane solution of styrene (144 g as styrene), 9 mmol of n-BuLi, and 45 mmol of THF were added to a stainless steel reactor having a content of 5 liters. For 30 minutes.
Next, 1733 g (306 g as butadiene) of a 17.7% solution of butadiene / cyclohexane was added, and the temperature of the jacket was raised to 75 ° C. to polymerize for 1 hour. Subsequently, 4.05 mmol of dimethyldichlorotin (Me 2 SnCl 2 ) was added, and a coupling reaction was performed for 15 minutes to synthesize the main chain.

<水添反応>
窒素置換した反応容器に乾燥、精製したシクロヘキサン1000gを仕込み、ビスシクロペンタジエニルチタニウムジクロリド100mmolを添加し、十分に攪拌しながらトリメチルアルミニウム200mmolを含むn−ヘキサン溶液を添加して、室温にて約3日間反応させ、水素添用触媒を得た。
主鎖合成した樹脂に、上記水素添加用触媒を、前記樹脂100質量部当たりチタン換算で100ppmとなるように添加し、水素圧0.7MPa、温度75℃で水素添加反応を行い、樹脂溶液を得た。上記樹脂溶液は、次の段階のために、真空オーブン中で0.1Torrで24時間乾燥させ、固形分100%の樹脂を取り出した。
<Hydrogenation reaction>
Into a reaction vessel purged with nitrogen, 1000 g of dried and purified cyclohexane was added, 100 mmol of biscyclopentadienyltitanium dichloride was added, and an n-hexane solution containing 200 mmol of trimethylaluminum was added with sufficient stirring. The reaction was carried out for 3 days to obtain a hydrogenation catalyst.
To the resin synthesized in the main chain, the above hydrogenation catalyst is added to 100 ppm in terms of titanium per 100 parts by mass of the resin, a hydrogenation reaction is performed at a hydrogen pressure of 0.7 MPa, and a temperature of 75 ° C. Obtained. The resin solution was dried in a vacuum oven at 0.1 Torr for 24 hours for the next step, and a resin with a solid content of 100% was taken out.

<酸変性>
上記で得た樹脂100gに対して、無水マレイン酸1g、ベンゾイルパーオキサイド0.1g、イルガノックス1010(BASFジャパン製、酸化防止剤)0.06gをドライブレンドし、ベント付き32ミリの二軸押出機を用いて、さらに混合し、溶融混錬し、ペレット状サンプルを得た。混合、溶融混練時の二軸押出機の温度は、ホッパー下部40℃ 、混合ゾーン80℃、反応ゾーン170℃、ダイス180℃とした。
得られたペレット状サンプル100重量部に、アセトン85重量部、ヘプタン85重量部を加え、耐圧反応器中、85℃で2時間加熱攪拌した。同操作終了後、金網でペレットを回収し、これを140℃ 、0.1Torrで20時間真空乾燥して、オレフィン系樹脂を得た。質量平均分子量は5万、酸無水物価は5.7mgKOH/gであった。
<Acid modification>
100 g of the resin obtained above is dry blended with 1 g of maleic anhydride, 0.1 g of benzoyl peroxide, and 0.06 g of Irganox 1010 (manufactured by BASF Japan, antioxidant), 32 mm biaxial extrusion with vent Using a machine, the mixture was further mixed and melt-kneaded to obtain a pellet-like sample. The temperature of the twin screw extruder during mixing and melt-kneading was set to 40 ° C. at the bottom of the hopper, 80 ° C. for the mixing zone, 170 ° C. for the reaction zone, and 180 ° C. for the die.
To 100 parts by weight of the obtained pellet-shaped sample, 85 parts by weight of acetone and 85 parts by weight of heptane were added, and the mixture was heated and stirred at 85 ° C. for 2 hours in a pressure resistant reactor. After completion of the operation, the pellets were collected with a wire mesh and vacuum-dried at 140 ° C. and 0.1 Torr for 20 hours to obtain an olefin resin. The mass average molecular weight was 50,000, and the acid anhydride value was 5.7 mgKOH / g.

ここで、官能基を有さない樹脂100gに対して、酸無水物基0.01molを含む1官能の無マレイン酸1gを添加して、前記樹脂を変性していることから、変性後の樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は0.1mmol/g、その他官能基量は0mmol/g、トータル官能基量は、0.1mmol/gとなる。   Here, since the resin is modified by adding 1 g of monofunctional maleic acid containing 0.01 mol of acid anhydride group to 100 g of the resin having no functional group, the modified resin is used. When the functional group in 1 g is calculated, the reactive functional group amount is 0.1 mmol / g, the other functional group amount is 0 mmol / g, and the total functional group amount is 0.1 mmol / g.

[合成例28〜30]
<オレフィン系樹脂の合成例>
合成例27と同様の方法で、表9の組成に従って合成を行い、オレフィン系樹脂を得た。
[Synthesis Examples 28-30]
<Example of synthesis of olefin resin>
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 9 in the same manner as in Synthesis Example 27 to obtain an olefin resin.

[合成例31]
<オレフィン系樹脂の合成例>
合成例27と同様の方法で、表9の組成に従って合成を行った後、200gの水を加えて、酸無水物を開環させるという操作を加え、オレフィン系樹脂を得た。
[Synthesis Example 31]
<Example of synthesis of olefin resin>
After synthesizing according to the composition shown in Table 9 in the same manner as in Synthesis Example 27, 200 g of water was added to open the acid anhydride to obtain an olefin resin.

[合成例32〜33]
<オレフィン系樹脂の合成例>
合成例27と同様の方法で、表9の組成に従って合成を行ったが、2段階目の水添作業を実施せずに、オレフィン系樹脂を得た。
[Synthesis Examples 32-33]
<Example of synthesis of olefin resin>
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 9 in the same manner as in Synthesis Example 27, but an olefin-based resin was obtained without performing the second stage hydrogenation operation.

[比較合成例9〜10]
<オレフィン系樹脂の合成例>
合成例27と同様の方法で、表9の組成に従って合成を行ったが、3段階目の酸変性作業を実施せずに、オレフィン系樹脂を得た。
[Comparative Synthesis Examples 9 to 10]
<Example of synthesis of olefin resin>
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 9 in the same manner as in Synthesis Example 27, but an olefin-based resin was obtained without performing the third step of acid modification.

[合成例34]
<フッ素系樹脂の合成例>
1000mLのステンレス製オートクレーブに、ヘキサフルオロプロピレン35.2g、ピバリン酸ビニル46.5g、ヒドロキシブチルビニルエーテル4.93g、エチルビニルエーテル12.7g、クロトン酸0.7g及びジイソプロピルパーオキシジカーボネート0.8gを仕込み、0℃ に冷却した後、減圧下に脱気した。その後、攪拌下で40℃ に加熱し、24時間反応させ、反応器内圧が5kg/cm2から2kg/cm2に下がった時点で反応を停止し、フッ素系樹脂を得た。質量平均分子量は4.8万、酸価は4.6mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 34]
<Synthesis example of fluororesin>
A 1000 mL stainless steel autoclave is charged with 35.2 g of hexafluoropropylene, 46.5 g of vinyl pivalate, 4.93 g of hydroxybutyl vinyl ether, 12.7 g of ethyl vinyl ether, 0.7 g of crotonic acid and 0.8 g of diisopropyl peroxydicarbonate. After cooling to 0 ° C., the mixture was degassed under reduced pressure. Thereafter, the mixture was heated to 40 ° C. with stirring and reacted for 24 hours. The reaction was stopped when the internal pressure of the reactor dropped from 5 kg / cm 2 to 2 kg / cm 2 to obtain a fluororesin. The mass average molecular weight was 48,000, and the acid value was 4.6 mgKOH / g.

ここで、分子量128のピバリン酸ビニル46.5g中にはエステル基が0.36mol含まれ、分子量72のエチルビニルエーテル12.7g中にはエステル基が0.18mol含まれ、分子量116のヒドロキシブチルビニルエーテル4.93g中にはアルコール性水酸基およびエステル基が0.042molずつ含まれ、分子量86のクロトン酸0.70g中には、カルボキシル基が0.008mol含まれる。
つまり、アルコール性水酸基を0.042mol、カルボキシル基を0.008mol、エステル基を0.582mol含むモノマーを反応させており、これらの官能基は反応後もそのまま残存する。ここから、樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は0.5mmol/g、その他官能基量は5.82mmol/g、トータル官能基量は、6.3mmol/gとなる。
Here, 0.36 mol of ester groups are contained in 46.5 g of vinyl pivalate having a molecular weight of 128, 0.18 mol of ester groups are contained in 12.7 g of ethyl vinyl ether having a molecular weight of 72, and hydroxybutyl vinyl ether having a molecular weight of 116. In 4.93 g, 0.042 mol of alcoholic hydroxyl group and ester group are contained, and in 0.70 g of crotonic acid having a molecular weight of 86, 0.008 mol of carboxyl group is contained.
That is, a monomer containing 0.042 mol of an alcoholic hydroxyl group, 0.008 mol of a carboxyl group and 0.582 mol of an ester group is reacted, and these functional groups remain as they are after the reaction. From this, when the functional group in 1 g of resin is calculated, the reactive functional group amount is 0.5 mmol / g, the other functional group amount is 5.82 mmol / g, and the total functional group amount is 6.3 mmol / g.

[合成例35]
<フッ素系樹脂の合成例>
合成例34と同様の方法で、表10の組成に従って合成を行い、フッ素系樹脂を得た。
[Synthesis Example 35]
<Synthesis example of fluororesin>
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 10 in the same manner as in Synthesis Example 34 to obtain a fluororesin.

[合成例36]
<スチレン無水マレイン酸系樹脂の合成例>
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、MEK300gを入れ、容器に窒素ガスを注入しながら80℃に加熱して、同温度でスチレン516.1g、無水マレイン酸48.4g、過酸化ベンゾイル0.2gの混合物を1時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下終了後、さらに80℃で3時間反応させた後、過酸化ベンゾイル0.2gをMEK50gに溶解させたものを添加し、80℃で1時間反応させて、スチレン無水マレイン酸系樹脂溶液を得た。質量平均分子量は6.2万、酸無水物価は49.0mgKOH/gであった。
ここで、1官能の分子量98の無水マレイン酸48.4g中には、酸無水物基が0.49mol含まれる。酸無水物基は反応後も残存することから、樹脂1g中の官能基を計算すると、反応性官能基量は0.9mmol/g、その他官能基量は0mmol/g、トータル官能基量は、0.9mmol/gとなる。
[Synthesis Example 36]
<Synthesis Example of Styrene Maleic Anhydride Resin>
In a 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 300 g of MEK was placed, heated to 80 ° C. while injecting nitrogen gas into the vessel, and 516.1 g of styrene at the same temperature. Then, a mixture of 48.4 g of maleic anhydride and 0.2 g of benzoyl peroxide was added dropwise over 1 hour to carry out a polymerization reaction. After completion of the dropwise addition, the mixture was further reacted at 80 ° C. for 3 hours, and then 0.2 g of benzoyl peroxide dissolved in 50 g of MEK was added and reacted at 80 ° C. for 1 hour to obtain a styrene maleic anhydride resin solution. It was. The weight average molecular weight was 62,000, and the acid anhydride value was 49.0 mgKOH / g.
Here, 0.49 mol of an acid anhydride group is contained in 48.4 g of maleic anhydride having a monofunctional molecular weight of 98. Since the acid anhydride group remains even after the reaction, calculating the functional group in 1 g of resin, the amount of reactive functional group is 0.9 mmol / g, the amount of other functional groups is 0 mmol / g, the total amount of functional groups is 0.9 mmol / g.

[合成例37〜38]、[比較合成例11]
<スチレン無水マレイン酸系樹脂の合成例>
合成例36と同様の方法で、表11の組成に従って合成を行い、スチレン無水マレイン酸系樹脂を得た。
[Synthesis Examples 37 to 38], [Comparative Synthesis Example 11]
<Synthesis Example of Styrene Maleic Anhydride Resin>
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 11 in the same manner as in Synthesis Example 36 to obtain a styrene maleic anhydride resin.

以下、表1〜11において共通
BMA:n−ブチルメタクリレート
MMA:メチルメタクリレート
LMA:ラウリルメタクリレート
TDMA:トリデシルメタクリレート
LMA/TDMA=1/1混合品
tBA:ter-ブチルアクリレート
MAA:メタクリル酸
HEMA:2−ヒドロキエチルメタクリレート
AIBN:アゾビスイソブチロニトリル
プリポール2033:クローダジャパン(株)製、C36ダイマージオール(OH価:207mgKOH/g)
プリポール1009:クローダジャパン(株)製、C36ダイマー酸(酸価:195.0mgKOH/g)
TDI:トリレンジイソシアネート
TMA:無水トリメリット酸
プリアミン1074:クローダジャパン(株)製、C36ダイマージアミン(アミン価:210mgKOH/g)
NBDA:ノルボルナンジアミン
ビスアニリンM:三井化学ファイン(株)製、1,3−ビス[2−(4−アミノフェニル)−2−プロピル]ベンゼン
IPDIヌレート:イソホロンジイソシアネートのヌレート体
ワンダミンHM:新日本理化(株)製、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン
KF−8010:信越シリコーン(株)製、両末端アミノ変性シリコーンオイル(アミン価:430mgKOH/g)
HAB:4,4'−ジアミノー3,3'―ジヒドロキシビフェニル
1,6−HD:1,6−ヘキサンジオール
2,6−DMP:2,6−ジメチルフェノール
BXF:2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン
n−BuLi:ノルマルブチルリチウム
THF:テトラヒドロフラン
Hereinafter, in Tables 1 to 11, common BMA: n-butyl methacrylate MMA: methyl methacrylate LMA: lauryl methacrylate TDMA: tridecyl methacrylate LMA / TDMA = 1/1 mixture tBA: ter-butyl acrylate MAA: methacrylic acid HEMA: 2- Hydroxyethyl methacrylate AIBN: Azobisisobutyronitrile preporal 2033: C36 dimer diol (OH value: 207 mgKOH / g), manufactured by Croda Japan Co., Ltd.
Pripol 1009: C36 dimer acid (acid value: 195.0 mgKOH / g), manufactured by Croda Japan Co., Ltd.
TDI: tolylene diisocyanate TMA: trimellitic anhydride preamine 1074: C36 dimer diamine (amine value: 210 mgKOH / g), manufactured by Croda Japan Co., Ltd.
NBDA: norbornanediamine bisaniline M: manufactured by Mitsui Chemicals Fine Co., Ltd., 1,3-bis [2- (4-aminophenyl) -2-propyl] benzene IPDI nurate: nurate Wandamine HM of isophorone diisocyanate HM: Shin Nippon Rika 4,4'-diaminodicyclohexylmethane KF-8010 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., both terminal amino-modified silicone oil (amine value: 430 mgKOH / g)
HAB: 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxybiphenyl 1,6-HD: 1,6-hexanediol 2,6-DMP: 2,6-dimethylphenol BXF: 2,2-bis (4-hydroxy -3,5-dimethylphenyl) propane n-BuLi: normal butyl lithium THF: tetrahydrofuran

(実施例1)
合成例1で得られた極性官能基のトータル官能基量が0.01mmol/g以上、9.0mmol/g以下の樹脂(A)の固形分100gに対して、有機金属化合物(B)として、Alキレート化合物「AlキレートA」(川研ファインケミカル株式会社製)を、前記樹脂(A)中の反応性官能基1モルに対して有機金属化合物(B)中の金属が0.3モルとなる量添加し、エポキシ基含有化合物(C)として、jER1031S(三菱化学(株)製、4官能テトラキスフェノール型エポキシ化合物)を、前記樹脂(A)中の反応性官能基1モルに対してエポキシ基含有化合物(C)中のエポキシ基が2モルとなる量添加し、シクロヘキサノン溶剤で固形分濃度が25%になるように溶解して熱硬化性組成物を調整した。
この熱硬化性組成物を剥離処理されたポリエステルフィルム上に、乾燥後の膜厚が30μmとなるように均一に塗工して乾燥させ、接着シートを設けた。次に、剥離処理された別のポリエステルフィルムを前記接着シート上にラミネートし、両面保護フィルム付きの接着シートを得た。
Example 1
With respect to 100 g of the solid content of the resin (A) having a total functional group amount of 0.01 mmol / g or more and 9.0 mmol / g or less of the polar functional group obtained in Synthesis Example 1, as an organometallic compound (B), When the Al chelate compound “Al chelate A” (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) is used, the metal in the organometallic compound (B) is 0.3 mol with respect to 1 mol of the reactive functional group in the resin (A). The epoxy group-containing compound (C) was added in an amount of jER1031S (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, tetrafunctional tetrakisphenol type epoxy compound) with respect to 1 mol of the reactive functional group in the resin (A). The thermosetting composition was prepared by adding an amount such that the epoxy group in the containing compound (C) was 2 mol, and dissolving in a cyclohexanone solvent so that the solid content concentration was 25%.
This thermosetting composition was uniformly applied onto a release-treated polyester film so that the film thickness after drying was 30 μm and dried to provide an adhesive sheet. Next, another release-treated polyester film was laminated on the adhesive sheet to obtain an adhesive sheet with a double-sided protective film.

[実施例2〜3]
表21に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに合成例2、3で得られたアクリル系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 2-3]
A double-sided protective film in the same manner as in Example 1 except that the acrylic resin obtained in Synthesis Examples 2 and 3 was used instead of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1 with the composition shown in Table 21. An adhesive sheet with a mark was prepared.

[比較例1〜2]
表21に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに比較合成例1、2で得られたアクリル系樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Examples 1-2]
Double-sided protective film in the same manner as in Example 1 except that the acrylic resin obtained in Comparative Synthesis Examples 1 and 2 was used instead of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1 with the composition shown in Table 21. An adhesive sheet with a mark was prepared.

[比較例3]
表21に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかった以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 3]
An adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the organometallic compound (B) was not used with the composition shown in Table 21.

[比較例4]
表21に示した組成で、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかった以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 4]
With the composition shown in Table 21, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy group-containing compound (C) was not used.

[実施例4〜10]、[比較例5]
表22に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに、合成例4〜10、比較合成例3で得られたポリエステル系樹脂、を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 4 to 10], [Comparative Example 5]
Example 1 with the composition shown in Table 22 except that instead of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1, the polyester resins obtained in Synthesis Examples 4 to 10 and Comparative Synthesis Example 3 were used. Similarly, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例6]、[比較例7]
表22に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例6)エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例7)した以外は、実施例4と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 6], [Comparative Example 7]
The composition shown in Table 22 was the same as Example 4 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 6) and the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 7). An adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例11〜12]、[比較例8]
表23に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに、合成例11〜12、比較合成例4で得られたポリウレタン系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 11 to 12], [Comparative Example 8]
The composition shown in Table 23 was the same as in Example 1 except that instead of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1, the polyurethane resins obtained in Synthesis Examples 11 to 12 and Comparative Synthesis Example 4 were used. Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例9]、[比較例10]
表23に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例9)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例10)した以外は、実施例11と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 9], [Comparative Example 10]
The composition shown in Table 23 was the same as Example 11 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 9) or the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 10). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例13〜14] 、[比較例11]
表24に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに、合成例13〜14、比較合成例5で得られたポリウレタンウレア系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 13 to 14], [Comparative Example 11]
Example 1 except that the polyurethane urea resin obtained in Synthesis Examples 13 to 14 and Comparative Synthesis Example 5 was used in place of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1 with the composition shown in Table 24. Similarly, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例12]、[比較例13]
表24に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例12)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例13)した以外は、実施例13と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 12], [Comparative Example 13]
The composition shown in Table 24 was the same as Example 13 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 12) or the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 13). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例15〜17]、[比較例14]
表25に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに合成例15〜17、比較合成例6で得られたポリアミド系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 15 to 17], [Comparative Example 14]
The composition shown in Table 25 was the same as that of Example 1 except that the polyamide resins obtained in Synthesis Examples 15 to 17 and Comparative Synthesis Example 6 were used instead of the acrylic resins obtained in Synthesis Example 1. Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例15]、[比較例16]
表25に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例15)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例16)した以外は、実施例15と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 15], [Comparative Example 16]
The composition shown in Table 25 was the same as Example 15 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 15) or the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 16). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例18〜23]、[比較例17]
表26に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに合成例18〜23、比較合成例7で得られたポリイミド系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 18 to 23], [Comparative Example 17]
The composition shown in Table 26 was the same as that of Example 1 except that the polyimide resins obtained in Synthesis Examples 18 to 23 and Comparative Synthesis Example 7 were used instead of the acrylic resins obtained in Synthesis Example 1. Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例18]、[比較例19]
表26に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例18)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例19)した以外は、実施例18と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 18], [Comparative Example 19]
The composition shown in Table 26 was the same as that of Example 18 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 18) or the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 19). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例24〜25]、[比較例20]
表27に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに、合成例24〜25、比較合成例8で得られたポリカーボネート系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 24 to 25], [Comparative Example 20]
The composition shown in Table 27 is the same as that of Example 1 except that instead of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1, the polycarbonate resins obtained in Synthesis Examples 24 to 25 and Comparative Synthesis Example 8 were used. Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例21]、[比較例22]
表27に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例21)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例22)した以外は、実施例24と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 21], [Comparative Example 22]
The composition shown in Table 27 was the same as that of Example 24 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 21) or the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 22). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例26]
表28に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに、合成例26で得られたポリフェニレンエーテル系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Example 26]
A double-sided protective film having the composition shown in Table 28 in the same manner as in Example 1 except that the polyphenylene ether resin obtained in Synthesis Example 26 was used instead of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1. An adhesive sheet with a mark was prepared.

[比較例23]、[比較例24]

表28に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例23)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例24)した以外は、実施例26と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 23], [Comparative Example 24]

The composition shown in Table 28 was the same as that of Example 26 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 23) or the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 24). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例27〜33]、[比較例25〜26]
表29に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに、合成例27〜33、比較合成例9、10で得られたオレフィン系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 27 to 33], [Comparative Examples 25 to 26]
Example 1 except that the olefin resins obtained in Synthesis Examples 27 to 33 and Comparative Synthesis Examples 9 and 10 were used in place of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1 with the composition shown in Table 29. In the same manner as above, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例27]、[比較例28]
表30に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例27)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例28)した以外は、実施例27と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 27], [Comparative Example 28]
The composition shown in Table 30 was the same as that of Example 27 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 27) and the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 28). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例34〜35]
表31に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに、合成例34〜35で得られたフッ素系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 34 to 35]
In the composition shown in Table 31, double-sided protection was carried out in the same manner as in Example 1 except that the fluororesins obtained in Synthesis Examples 34 to 35 were used in place of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1. An adhesive sheet with a film was prepared.

[比較例29]、[比較例30]
表31に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例27)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例28)した以外は、実施例34と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 29], [Comparative Example 30]
The composition shown in Table 31 was the same as that of Example 34 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 27) or the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 28). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例30]
表31に示した組成で、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかった以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 30]
With the composition shown in Table 31, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy group-containing compound (C) was not used.

[実施例36〜38]、[比較例31]
表32に示した組成で、合成例1で得られたアクリル系樹脂の代わりに、合成例36〜38で得られたスチレン無水マレイン酸系樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 36 to 38], [Comparative Example 31]
In the same manner as in Example 1 except that the styrene maleic anhydride resin obtained in Synthesis Examples 36 to 38 was used in place of the acrylic resin obtained in Synthesis Example 1 with the composition shown in Table 32. An adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[比較例32]、[比較例33]
表32に示した組成で、有機金属化合物(B)を用いなかったり(比較例32)、エポキシ基含有化合物(C)を用いなかったり(比較例33)した以外は、実施例36と同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Comparative Example 32], [Comparative Example 33]
The composition shown in Table 32 was the same as that of Example 36 except that the organometallic compound (B) was not used (Comparative Example 32) or the epoxy group-containing compound (C) was not used (Comparative Example 33). Thus, an adhesive sheet with a double-sided protective film was prepared.

[実施例39〜47]、[実施例48〜56]、[実施例57〜65]、[実施例67〜74]
表33〜36に示した組成で、有機金属化合物(B)及びエポキシ基含有化合物(C)の種類を変更した以外は、実施例15、18、26、27とそれぞれ同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 39 to 47], [Examples 48 to 56], [Examples 57 to 65], [Examples 67 to 74]
Double-sided protective film in the same manner as in Examples 15, 18, 26, and 27 except that the types of the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C) were changed in the compositions shown in Tables 33 to 36. An adhesive sheet with a mark was prepared.

[実施例75〜80] 、[実施例81〜86]、[実施例87〜92]、[実施例93〜98]
表37〜40に示した組成で、有機金属化合物(B)の配合量を変更した以外は、実施例15、18、26、27とそれぞれ同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 75 to 80], [Examples 81 to 86], [Examples 87 to 92], [Examples 93 to 98]
Except having changed the compounding quantity of the organometallic compound (B) with the composition shown to Tables 37-40, it carried out similarly to Example 15, 18, 26, and 27, respectively, and created the adhesive sheet with a double-sided protective film. .

[実施例99〜104] 、[実施例105〜110]、[実施例111〜116] 、[実施例117〜122]
表41〜44に示した組成で、エポキシ基含有化合物(C)の配合量を変更した以外は、実施例15、18、26、27とそれぞれ同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 99 to 104], [Examples 105 to 110], [Examples 111 to 116], [Examples 117 to 122]
Except having changed the compounding quantity of the epoxy-group containing compound (C) with the composition shown in Tables 41-44, it carried out similarly to Example 15, 18, 26, and 27, respectively, and created the adhesive sheet with a double-sided protective film. did.

[実施例123〜127] 、[実施例128〜132]、[実施例133〜137] 、[実施例138〜142]
表45〜48に示した組成で、樹脂(A)の併用を実施した以外は、実施例15、18、26、27とそれぞれ同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 123-127], [Examples 128-132], [Examples 133-137], [Examples 138-142]
Adhesive sheets with double-sided protective films were prepared in the same manner as in Examples 15, 18, 26, and 27 except that the resin (A) was used in combination with the compositions shown in Tables 45 to 48.

[実施例143〜151] 、[実施例152〜160]、[実施例161〜169] 、[実施例170〜178]
表49〜52に示した組成で、その他の硬化剤(D)を加えた以外は、実施例15、18、26、27とそれぞれ同様にして、両面保護フィルム付きの接着シートを作成した。
[Examples 143 to 151], [Examples 152 to 160], [Examples 161 to 169], [Examples 170 to 178]
Adhesive sheets with double-sided protective films were prepared in the same manner as in Examples 15, 18, 26, and 27 except that the other curing agents (D) were added with the compositions shown in Tables 49 to 52.

以下、表21〜52において共通。
jER1031S:三菱化学(株)製、4官能テトラキスフェノール型エポキシ化合物
jER604:三菱化学(株)製、4官能グリシジルアミン化合物
jER630:三菱化学(株)製、3官能グリシジルアミン化合物
TETRAD−C:三菱ガス化学(株)製、4官能グリシジルアミン化合物
TETRAD−X:三菱ガス化学(株)製、4官能グリシジルアミン化合物
jER306:三菱化学(株)製、ビスフェノールF型エポキシ化合物
BL3175:住化バイエルウレタン(株)製、イソシアヌレート型ブロックイソシアネート
V−07:日清紡(株)製、ポリカルボジイミド化合物
V−03:日清紡(株)製、ポリカルボジイミド化合物
アルミキレートA:川研ファインケミカル(株)製、Alキレート化合物
ASBD:川研ファインケミカル(株)製、Alアルコキシド化合物
TC401:マツモトファインケミカル(株)製、Tiキレート化合物
TA−30:マツモトファインケミカル(株)製、Tiアルコキシド化合物
ZC700:マツモトファインケミカル(株)製、Zrキレート化合物
TC800:マツモトファインケミカル(株)製、Tiアシレート化合物
ケミタイトPZ: (株)日本触媒製、多官能アジリジン化合物
DICY:ジシアンジアミド
CABRUS2:(株)ダイソー製、ポリスルフィド系シランカップリング剤
KBM803:信越シリコーン(株)製、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
ノクセラーTOT−N:大内新興化学工業株式会社(株)製、チウラムジスルフィド化合物
ノクセラーDM:大内新興化学工業株式会社(株)製、チアゾリルジスルフィド化合物
Hereinafter, it is common in Tables 21-52.
jER1031S: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, tetrafunctional tetrakisphenol type epoxy compound jER604: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, tetrafunctional glycidylamine compound jER630: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trifunctional glycidylamine compound TETRAD-C: Mitsubishi Gas TetraAD-X, a tetrafunctional glycidylamine compound manufactured by Kagaku Co., Ltd .: Tetrafunctional glycidylamine compound jER306, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., bisphenol F type epoxy compound BL3175, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. ), Isocyanurate type blocked isocyanate V-07: manufactured by Nisshinbo Co., Ltd., polycarbodiimide compound V-03: manufactured by Nisshinbo Co., Ltd., polycarbodiimide compound aluminum chelate A: manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd., Al chelate compound ASBD : Kawaken Fine Chemical ( Co., Ltd., Al alkoxide compound TC401: Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., Ti chelate compound TA-30: Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., Ti alkoxide compound ZC700: Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., Zr chelate compound TC800: Matsumoto Fine Chemical ( Co., Ltd., Ti acylate compound Chemitite PZ: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., polyfunctional aziridine compound DICY: dicyandiamide CABRUS 2: manufactured by Daiso Co., Ltd., polysulfide silane coupling agent KBM803: manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., 3-mercapto Propyltrimethoxysilane noxeller TOT-N: manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd., thiuram disulfide compound Noxeller DM: manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd., thiazolyl disulfide compound

実施例および比較例で得られた接着シートについて、加工性、接着性、耐熱性、屈曲性、電気絶縁性、誘電率、誘電正接を以下の方法で評価した。結果を表21〜52に示す。   For the adhesive sheets obtained in Examples and Comparative Examples, processability, adhesiveness, heat resistance, flexibility, electrical insulation, dielectric constant, and dielectric loss tangent were evaluated by the following methods. The results are shown in Tables 21-52.

<評価>
(1)寸法安定性
保護フィルムを除去した、65mm×65mmの大きさの接着シートを、厚さが75μmのポリイミドフィルム[東レ・デュポン(株)製「カプトン300H」]の間に挟み、80℃でラミネートし、続いて160℃、1.0MPaの条件で30分圧着処理を行った。さらに、この試験片を160℃で2時間熱硬化させ、評価用試験片を作成した。この試験片について、圧着処理前と熱硬化後との接着剤層の面積の差を測定し、これをはみ出し面積として加工性を評価した。この加工性は、圧着処理時に接着層が熱によって軟化し、回路基板の位置ズレや配線間の接触を引き起こす度合いを評価するものであり、結果を次の基準で判断した。
A・・・「はみ出し面積 ≦ 100mm2
B・・・「100mm2 < はみ出し面積 ≦ 200mm2
C・・・「200mm2 < はみ出し面積 ≦ 350mm2
D・・・「350mm2 < はみ出し面積 ≦ 500mm2
E・・・「500mm2 < はみ出し面積」
<Evaluation>
(1) Dimensional stability A 65 mm × 65 mm adhesive sheet from which the protective film has been removed is sandwiched between polyimide films with a thickness of 75 μm [“Kapton 300H” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.], and 80 ° C. Then, a pressure-bonding process was performed for 30 minutes at 160 ° C. and 1.0 MPa. Furthermore, this test piece was heat-cured at 160 ° C. for 2 hours to prepare an evaluation test piece. About this test piece, the difference of the area of the adhesive bond layer before a press-bonding process and after thermosetting was measured, and processability was evaluated by setting this as the protruding area. This workability is to evaluate the degree to which the adhesive layer is softened by heat during the crimping process and causes the positional deviation of the circuit board and the contact between the wirings, and the result was judged according to the following criteria.
A ... "Projection area ≤ 100mm 2 "
B ... “100 mm 2 <overhang area ≦ 200 mm 2
C: “200 mm 2 <overhang area ≦ 350 mm 2
D: “350 mm 2 <excess area ≦ 500 mm 2
E ... "500mm 2 <protruding area"

(2)接着性
寸法安定性の評価で作成した試験片を幅10mm、長さ65mmに切り出し、23℃相対湿度50%の雰囲気下で、引っ張り速度300mm/minでTピール剥離試験を行い、接着強度(N/cm)を測定した。この試験は、常温使用時における接着層の接着強度を評価するものであり、結果を次の基準で判断した。
A・・・「12(N/cm) < 接着強度」
B・・・「8(N/cm) < 接着強度 ≦ 12(N/cm)」
C・・・「5(N/cm) < 接着強度 ≦ 8(N/cm)」
D・・・「3(N/cm) < 接着強度 ≦ 5(N/cm)」
E・・・「接着強度 ≦ 3(N/cm)」
(2) Adhesive The test piece prepared in the evaluation of dimensional stability was cut into a width of 10 mm and a length of 65 mm, and a T peel peel test was conducted at 23 mm relative humidity and 50% relative humidity at a pulling speed of 300 mm / min. The strength (N / cm) was measured. This test evaluates the adhesive strength of the adhesive layer when used at room temperature, and the results were judged according to the following criteria.
A ... "12 (N / cm) <Adhesive strength"
B: “8 (N / cm) <Adhesion strength ≦ 12 (N / cm)”
C: “5 (N / cm) <Adhesion strength ≦ 8 (N / cm)”
D: “3 (N / cm) <Adhesion strength ≦ 5 (N / cm)”
E ... "Adhesive strength ≤ 3 (N / cm)"

(3)耐熱性
上記(2)と同様に、幅10mm、長さ65mmに切り出した試験片を、23℃相対湿度50%の雰囲気下で24時間以上保管し、その後、各種温度にて溶融半田にポリイミドフィルム面を接触させて1分間浮かべた。その後、試験片の外観を目視で観察し、硬化接着層の発泡、浮き、剥がれ等の接着異常の有無を評価した。この試験は、半田接触時における硬化接着層の熱安定性を、外観で評価するものであり、耐熱性の良好なものは、外観が変化しないのに対して、耐熱性の悪いものは、半田処理後に発泡や剥がれが発生する。これらの評価結果を次の基準で判断した。
A・・・「300℃でも外観変化全く無し」
B・・・「280℃で外観変化全く無し。300℃では発泡が確認される」
C・・・「260℃でも外観変化全く無し。280℃では発泡が確認される」D・・・「240℃でも外観変化全く無し。260℃では発泡が確認される」E・・・「240℃にて発泡が観察される」
(3) Heat resistance As in (2) above, test pieces cut out to a width of 10 mm and a length of 65 mm are stored for 24 hours or more in an atmosphere of 23 ° C. and 50% relative humidity, and then molten solder at various temperatures. The polyimide film surface was brought into contact with and floated for 1 minute. Thereafter, the appearance of the test piece was visually observed to evaluate the presence or absence of adhesion abnormality such as foaming, floating and peeling of the cured adhesive layer. This test evaluates the thermal stability of the cured adhesive layer at the time of solder contact by appearance. Good heat resistance does not change the appearance, while poor heat resistance has no solder. Foaming or peeling occurs after treatment. These evaluation results were judged according to the following criteria.
A ... "No change in appearance even at 300 ° C"
B: “No change in appearance at 280 ° C. Foaming is confirmed at 300 ° C.”
C: "No change in appearance even at 260 ° C. Foaming is confirmed at 280 ° C" D: "No change in appearance at 240 ° C. Foaming is confirmed at 260 ° C" E: "240 Foaming is observed at ℃. ''

(4)屈曲性
硬化性樹脂組成物を、厚さが75μmのポリイミドフィルム[東レ・デュポン(株)製「カプトン300H」]上に、乾燥後の膜厚が30μmになるように均一に塗工して乾燥させ、さらに、この試験片を160℃で2時間熱硬化させ、評価用試験片を作成した。評価用試験片を、硬化塗膜面を外側にして180度折り曲げ、ひび割れが発生するまでの回数を次の基準で評価した。
A・・・「20回屈曲させてもクラック(ひび割れ)が見られない」
B・・・「14回屈曲させてもクラックが見られない。20回までにクラック発生」
C・・・「8回屈曲させてもクラックが見られない。14回までにクラック発生」
D・・・「3回屈曲させてもクラックが見られない。8回までにクラック発生」
E・・・「3回屈曲させるまでにクラック発生」
(4) Flexibility Uniform coating of the curable resin composition on a polyimide film with a thickness of 75 μm [“Kapton 300H” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] so that the film thickness after drying becomes 30 μm. Then, this test piece was heat-cured at 160 ° C. for 2 hours to prepare a test piece for evaluation. The evaluation test piece was bent 180 degrees with the cured coating surface facing outward, and the number of times until cracking occurred was evaluated according to the following criteria.
A ... "No cracks are seen even after bending 20 times"
B ... "No cracks are seen even after bending 14 times. Cracks occur up to 20 times"
C ... "No cracks are seen even if bent 8 times. Cracks occur up to 14 times"
D: “No cracks are seen even if bent 3 times. Cracks occur up to 8 times”
E ... "Crack occurs before bending 3 times"

(5)電気絶縁性
保護フィルムを除去した、65mm×65mmの大きさの接着シートを、厚さが25μmのポリイミドフィルム[東レ・デュポン(株)製「カプトン100H」]とポリイミド上に銅回路が形成された櫛型パターン(導体パターン幅/スペース幅=50μm/50μm)プリント配線板との間に挟み、80℃でラミネートし、続いて160℃、1.0MPaの条件で30分圧着処理を行った。さらに、この試験片を160℃で2時間熱硬化させ、評価用試験片を作成した。この試験片の導体回路に、温度130℃、相対湿度85%の雰囲気下で直流電圧50Vを連続的に100時間加え、100時間後の導体間の絶縁抵抗値を測定した。評価基準は以下の通りである。
A・・・絶縁抵抗値109Ω以上
B・・・絶縁抵抗値108以上109Ω未満
C・・・絶縁抵抗値107以上108Ω未満
D・・・絶縁抵抗値106以上107Ω未満
E・・・絶縁抵抗値106未満
(5) Electrical insulation A 65 mm × 65 mm adhesive sheet from which the protective film has been removed is a 25 μm thick polyimide film [“Kapton 100H” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] and a copper circuit on the polyimide. It is sandwiched between the formed comb pattern (conductor pattern width / space width = 50 μm / 50 μm) and printed wiring board, laminated at 80 ° C., and then subjected to crimping for 30 minutes at 160 ° C. and 1.0 MPa. It was. Furthermore, this test piece was heat-cured at 160 ° C. for 2 hours to prepare an evaluation test piece. A DC voltage of 50 V was continuously applied to the conductor circuit of this test piece for 100 hours under an atmosphere of a temperature of 130 ° C. and a relative humidity of 85%, and the insulation resistance value between the conductors after 100 hours was measured. The evaluation criteria are as follows.
A: Insulation resistance value 10 9 Ω or more B ... Insulation resistance value 10 8 or more and less than 10 9 Ω C ... Insulation resistance value 10 7 or more and less than 10 8 Ω D ... Insulation resistance value 10 6 or more 10 Less than 7 Ω E ・ ・ ・ Insulation resistance less than 10 6

(6)誘電率
実施例及び比較例で作成した両面保護フィルム付き接着シートの片側の保護フィルムを除去し、160℃、1.0MPaの条件で1時間熱硬化させ後、両側の保護フィルムを除去し、評価用試験片を作製した。この試験片について、(株)エー・イー・ティー製誘電率測定装置を用い、空洞共振器法により、測定温度23℃、測定周波数5GHzにおける誘電率および誘電正接を求めた。
A・・・誘電率が2.6以下である
B・・・誘電率が2.6より大きく2.8以下である
C・・・誘電率が2.8より大きく3.0以下である
D・・・誘電率が3.0より大きく3.2以下である
E・・・誘電率が3.2より大きい
(6) Dielectric constant The protective film on one side of the adhesive sheet with the double-sided protective film prepared in Examples and Comparative Examples is removed, and after heat curing at 160 ° C. and 1.0 MPa for 1 hour, the protective film on both sides is removed. Then, a test piece for evaluation was produced. About this test piece, the dielectric constant and dielectric loss tangent in the measurement temperature of 23 degreeC and the measurement frequency of 5 GHz were calculated | required with the cavity resonator method using the dielectric constant measuring apparatus by an EA Corporation.
A: Dielectric constant is 2.6 or less B: Dielectric constant is more than 2.6 and 2.8 or less C ... Dielectric constant is more than 2.8 and 3.0 or less D ... Dielectric constant is greater than 3.0 and less than or equal to 3.2 E ... Dielectric constant is greater than 3.2

(7)誘電正接
A・・・誘電正接が0.001以下である
B・・・誘電正接が0.001より大きく0.002以下である
C・・・誘電正接が0.002より大きく0.01以下である
D・・・誘電正接が0.01より大きく0.05以下である
E・・・誘電正接が0.05より大きい
(7) Dielectric loss tangent A: Dielectric tangent is 0.001 or less B: Dielectric tangent is greater than 0.001 and 0.002 or less C: Dielectric tangent is greater than 0.002 D is 01 or less D: Dissipation factor is greater than 0.01 and less than 0.05 E: Dissipation factor is greater than 0.05

表21〜32に示す実施例と比較例をみてわかる通り、比較例1、2、5、8、11、14、17、20に用いた極性官能基のトータル含有量、即ち、反応性官能基と前記ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基との合計量が9[mmol/g]より多い樹脂を用いて接着シートを作成すると、誘電率、誘電正接が著しく悪化した。
また、比較例25、26、31からわかるように、極性官能基のトータル含有量が0.01[mmol/g]より少ない樹脂を用いて接着シートを作成すると寸法安定性、接着性、耐熱性、電気絶縁性が著しく悪化した。
また、比較例3、6、9、12、15、18、21、23、27、29、32からわかるように、有機金属化合物(B)を用いずに、エポキシ基含有化合物(C)は用いて接着シートを作成すると、寸法安定性や誘電正接が著しく悪化した。
また、比較例4、7、10、13、16、19、22、24、28、30、33からわかるように、エポキシ基含有化合物(C)を用いずに、有機金属化合物(B)は用いて接着シートを作成すると、接着性、耐熱性が著しく悪化した。
As can be seen from the examples and comparative examples shown in Tables 21 to 32, the total content of polar functional groups used in Comparative Examples 1, 2, 5, 8, 11, 14, 17, and 20, that is, reactive functional groups When the adhesive sheet was made using a resin having a total amount of the functional group having a hetero atom other than halogen and more than 9 [mmol / g], the dielectric constant and dielectric loss tangent were significantly deteriorated.
Further, as can be seen from Comparative Examples 25, 26, and 31, when an adhesive sheet is prepared using a resin having a total content of polar functional groups of less than 0.01 [mmol / g], dimensional stability, adhesiveness, and heat resistance. The electrical insulation was significantly deteriorated.
Moreover, as can be seen from Comparative Examples 3, 6, 9, 12, 15, 18, 21, 23, 27, 29, and 32, the epoxy group-containing compound (C) was used without using the organometallic compound (B). As a result, the dimensional stability and dielectric loss tangent deteriorated significantly.
Further, as can be seen from Comparative Examples 4, 7, 10, 13, 16, 19, 22, 24, 28, 30, 33, the organometallic compound (B) was used without using the epoxy group-containing compound (C). As a result, the adhesiveness and heat resistance deteriorated significantly.

一方、実施例に用いた極性官能基のトータル含有量が0.01mmol/g以上、9mmol/g以下である樹脂(A)と特定量の有機金属化合物(B)とエポキシ基含有化合物(C)を含む場合には、全ての物性においてバランスよく良好な結果が得られ、特に比較例で二律背反の関係にあった接着性と低誘電正接の両立、寸法安定性と耐熱性の両立を実現することができた。これは、有機金属化合物(B)とエポキシ基含有化合物(C)の組み合わせにより、硬化時の極性基の発生を抑えることが可能になった結果、樹脂(A)に由来する低誘電率、低誘電正接の特徴を維持しつつ、エポキシ基含有化合物(C)由来の銅との接着性の良さを活かせたためであると考えられる。また、有機金属化合物(B)は樹脂(A)中の反応性官能基と迅速に反応するので、寸法安定性を向上しつつ、樹脂(A)とエポキシ基含有化合物(C)の反応による強固な架橋を形成することで耐熱性が付与できるためであると考えられる。   On the other hand, the resin (A) having a total content of polar functional groups used in the examples of 0.01 mmol / g or more and 9 mmol / g or less, a specific amount of the organometallic compound (B), and the epoxy group-containing compound (C) When it contains, good results are obtained in a well-balanced manner in all physical properties, and in particular, it achieves compatibility between adhesiveness and low dielectric loss tangent, which are in a contradictory relationship in the comparative example, and compatibility between dimensional stability and heat resistance. I was able to. This is because the combination of the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C) makes it possible to suppress the generation of polar groups at the time of curing, resulting in a low dielectric constant derived from the resin (A), low This is considered to be because the good adhesiveness with the copper derived from the epoxy group-containing compound (C) was utilized while maintaining the characteristics of the dielectric loss tangent. In addition, since the organometallic compound (B) reacts rapidly with the reactive functional group in the resin (A), the dimensional stability is improved and the robustness by the reaction between the resin (A) and the epoxy group-containing compound (C). This is considered to be because heat resistance can be imparted by forming a proper crosslink.

本発明の接着シート形成に用いられる熱硬化性組成物は、接着性、加湿後の耐熱性、耐熱性、屈曲性、電気絶縁性、誘電率、誘電正接に優れた硬化物を与えるので、プリント配線板をはじめとする電子材料用のコーティング剤、回路被覆用ソルダーレジスト、カバーレイフィルム、電磁波シールド用接着剤、メッキレジスト、プリント配線板用層間電気絶縁材料、光導波路等に好適に用いることができる。   The thermosetting composition used for forming the adhesive sheet of the present invention provides a cured product excellent in adhesion, heat resistance after humidification, heat resistance, flexibility, electrical insulation, dielectric constant, and dielectric loss tangent. Suitable for use in coating materials for electronic materials including wiring boards, solder resists for circuit coating, coverlay films, adhesives for electromagnetic wave shielding, plating resists, interlayer electrical insulation materials for printed wiring boards, optical waveguides, etc. it can.

Claims (14)

下記条件(1)〜(9)の全てを満たす熱硬化性組成物から形成されてなる熱硬化性接着シート。
(1)樹脂(A1)、有機金属化合物(B)および3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)を含む。
(2)樹脂(A1)は、エポキシ基を有さず、前記有機金属化合物(B)または前記エポキシ基含有化合物(C)の少なくともいずれか一方と反応し得る、反応性官能基を有する。
(3)樹脂(A1)は、前記反応性官能基以外の官能基であって、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基を有し得る。
(4)前記反応性官能基を有せず、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基を有する樹脂(A2)を含み得る。
(5)前記反応性官能基およびハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基のいずれをも有しない樹脂(A3)を含み得る。
(6)樹脂(A1)、樹脂(A2)および樹脂(A3)の合計1gに含まれる前記反応性官能基と前記ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基との合計量が、0.01mmol以上、9mmol以下である。
(7)前記有機金属化合物(B)は、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムアルコキシド化合物、アルミニウムアシレート化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタンアシレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物およびジルコニウムアシレート化合物からなる群より選ばれる少なくもと一種である。
(8)前記樹脂(A1)の反応性官能基1molに対し、前記有機金属化合物(B)中の金属が0.03〜3molである。
(9)前記樹脂(A1)が、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、フッ素樹脂、ポリオレフィン樹脂およびスチレン無水マレイン酸系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
A thermosetting adhesive sheet formed from a thermosetting composition that satisfies all of the following conditions (1) to (9) .
(1) A resin (A1), an organometallic compound (B), and a trifunctional or higher functional epoxy group-containing compound (C) are included.
(2) The resin (A1) does not have an epoxy group, and has a reactive functional group that can react with at least one of the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C).
(3) The resin (A1) may have a functional group other than the reactive functional group and having a hetero atom other than halogen.
(4) Resin (A2) which does not have the said reactive functional group and has a functional group which has hetero atoms other than a halogen may be included.
(5) Resin (A3) which does not have any of the said reactive functional group and the functional group which has hetero atoms other than a halogen may be included.
(6) The total amount of the reactive functional group and the functional group having a hetero atom other than the halogen contained in a total of 1 g of the resin (A1), the resin (A2), and the resin (A3) is 0.01 mmol or more, 9 mmol or less.
(7) The organometallic compound (B) includes an aluminum chelate compound, an aluminum alkoxide compound, an aluminum acylate compound, a titanium chelate compound, a titanium alkoxide compound, a titanium acylate compound, a zirconium chelate compound, a zirconium alkoxide compound, and a zirconium acylate compound. It is at least a kind selected from the group consisting of
(8) The metal in the organometallic compound (B) is 0.03 to 3 mol relative to 1 mol of the reactive functional group of the resin (A1).
(9) The resin (A1) comprises an acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurethane polyurea resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polycarbonate resin, a polyphenylene ether resin, a fluororesin, a polyolefin resin, and a styrene maleic anhydride resin. It is at least one selected from the group.
反応性官能基が、カルボキシル基、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基および酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも一種である、請求項1記載の熱硬化性接着シート。   The thermosetting adhesive sheet according to claim 1, wherein the reactive functional group is at least one selected from the group consisting of a carboxyl group, an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, and an acid anhydride group. ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基中の前記へテロ原子が、O、N、SおよびPからなる群より選ばれる少なくも一種である、請求項1または2記載の熱硬化性接着シート。   The thermosetting adhesive sheet according to claim 1 or 2, wherein the hetero atom in the functional group having a hetero atom other than halogen is at least one selected from the group consisting of O, N, S and P. ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基が、エステル基、アミド基、イミド基、ウレタン基、ウレア基、エーテル基、カーボネート基、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群より選ばれる少なくとも一種である、請求項1〜3いずれか1項に記載の熱硬化性接着シート。   The functional group having a hetero atom other than halogen is at least one selected from the group consisting of an ester group, an amide group, an imide group, a urethane group, a urea group, an ether group, a carbonate group, an acryloyl group, and a methacryloyl group. The thermosetting adhesive sheet according to any one of 1 to 3. 樹脂(A1)1gの反応性官能基価の合計が、水酸化カリウム換算で1〜80mgである、請求項1〜いずれか1項に記載の熱硬化性接着シート。 The thermosetting adhesive sheet according to any one of claims 1 to 4 , wherein the total reactive functional group value of 1 g of the resin (A1) is 1 to 80 mg in terms of potassium hydroxide. 樹脂(A1)の反応性官能基1molに対し、エポキシ基含有化合物(C)中のエポキシ基が0.1〜12molである、請求項1〜いずれか1項に記載の熱硬化性接着シート。 The thermosetting adhesive sheet according to any one of claims 1 to 5 , wherein the epoxy group in the epoxy group-containing compound (C) is 0.1 to 12 mol relative to 1 mol of the reactive functional group of the resin (A1). . 有機金属化合物(B)およびエポキシ基含有化合物(C)以外の化合物であって、樹脂(A1)の有する反応性官能基、有機金属化合物(B)及びエポキシ基の少なくともいずれか1種と反応し得るその他の硬化剤(D)をさらに含むことを特徴とする請求項1〜いずれか1項に記載の熱硬化性接着シート。 It is a compound other than the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C), and reacts with at least one of the reactive functional group, organometallic compound (B) and epoxy group possessed by the resin (A1). The thermosetting adhesive sheet according to any one of claims 1 to 6 , further comprising another curing agent (D) to be obtained. その他の硬化剤(D)が、イソシアネート化合物、カルボジイミド化合物、および硫黄元素含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項記載の熱硬化性接着シート。 8. The thermosetting adhesive sheet according to claim 7, wherein the other curing agent (D) is at least one selected from the group consisting of an isocyanate compound, a carbodiimide compound, and a sulfur element-containing compound. 請求項1〜いずれか1項に記載の熱硬化性接着シートと、前記熱硬化性接着シートの両面を覆う2つのシート状基材とを有する、シート状基材付き熱硬化性接着シート。 The thermosetting adhesive sheet with a sheet-like base material which has the thermosetting adhesive sheet of any one of Claims 1-8, and two sheet-like base materials which cover both surfaces of the said thermosetting adhesive sheet. 2つのシート状基材のうち、少なくとも一方が剥離性シート状基材である、請求項記載のシート状基材付き熱硬化性接着シート。 The thermosetting adhesive sheet with a sheet-like substrate according to claim 9 , wherein at least one of the two sheet-like substrates is a peelable sheet-like substrate. シート状基材の少なくとも片面に、下記条件(1)〜(9)の全てを満たす熱硬化性組成物を塗工し、乾燥し、熱硬化性接着シートを形成し、前記熱硬化性接着シートの他方の面に、他のシート状基材を重ねる、シート状基材付き熱硬化性接着シートの製造方法。
(1)樹脂(A1)、有機金属化合物(B)および3官能以上のエポキシ基含有化合物(C)を含む。
(2)樹脂(A1)は、エポキシ基を有さず、前記有機金属化合物(B)または前記エポキシ基含有化合物(C)の少なくともいずれか一方と反応し得る、反応性官能基を有する。
(3)樹脂(A1)は、前記反応性官能基以外の官能基であって、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基を有し得る。
(4)前記反応性官能基を有せず、ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基を有する樹脂(A2)を含み得る。
(5)前記反応性官能基およびハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基のいずれをも有しない樹脂(A3)を含み得る。
(6)樹脂(A1)、樹脂(A2)および樹脂(A3)の合計1gに含まれる前記反応性官能基と前記ハロゲン以外のヘテロ原子を有する官能基との合計量が、0.01mmol以上、9mmol以下である。
(7)前記有機金属化合物(B)は、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムアルコキシド化合物、アルミニウムアシレート化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタンアシレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物およびジルコニウムアシレート化合物からなる群より選ばれる少なくもと一種である。
(8)前記樹脂(A1)の反応性官能基1molに対し、前記有機金属化合物(B)中の金属が0.03〜3molである。
(9)前記樹脂(A1)が、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、フッ素樹脂、ポリオレフィン樹脂およびスチレン無水マレイン酸系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
A thermosetting composition satisfying all of the following conditions (1) to (9) is applied to at least one surface of the sheet-like base material, dried to form a thermosetting adhesive sheet, and the thermosetting adhesive sheet A method for producing a thermosetting adhesive sheet with a sheet-like substrate, wherein another sheet-like substrate is stacked on the other surface of the sheet.
(1) A resin (A1), an organometallic compound (B), and a trifunctional or higher functional epoxy group-containing compound (C) are included.
(2) The resin (A1) does not have an epoxy group, and has a reactive functional group that can react with at least one of the organometallic compound (B) and the epoxy group-containing compound (C).
(3) The resin (A1) may have a functional group other than the reactive functional group and having a hetero atom other than halogen.
(4) Resin (A2) which does not have the said reactive functional group and has a functional group which has hetero atoms other than a halogen may be included.
(5) Resin (A3) which does not have any of the said reactive functional group and the functional group which has hetero atoms other than a halogen may be included.
(6) The total amount of the reactive functional group and the functional group having a hetero atom other than the halogen contained in a total of 1 g of the resin (A1), the resin (A2), and the resin (A3) is 0.01 mmol or more, 9 mmol or less.
(7) The organometallic compound (B) includes an aluminum chelate compound, an aluminum alkoxide compound, an aluminum acylate compound, a titanium chelate compound, a titanium alkoxide compound, a titanium acylate compound, a zirconium chelate compound, a zirconium alkoxide compound, and a zirconium acylate compound. It is at least a kind selected from the group consisting of
(8) The metal in the organometallic compound (B) is 0.03 to 3 mol relative to 1 mol of the reactive functional group of the resin (A1).
(9) The resin (A1) comprises an acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurethane polyurea resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polycarbonate resin, a polyphenylene ether resin, a fluororesin, a polyolefin resin, and a styrene maleic anhydride resin. It is at least one selected from the group.
請求項1〜いずれか1項に記載の熱硬化性接着シートを熱硬化してなる、周波数5GHzにおける誘電正接が0.0001〜0.01であるシート状硬化物。 A sheet-like cured product having a dielectric loss tangent of 0.0001 to 0.01 at a frequency of 5 GHz, which is obtained by thermosetting the thermosetting adhesive sheet according to any one of claims 1 to 8 . 請求項12記載のシート状硬化物を介して、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面が、シート状基材で保護されてなる、保護シート付きプリント配線板。 A printed wiring board with a protective sheet, wherein the circuit surface of the printed wiring board having a conductive circuit is protected by a sheet-like substrate through the sheet-like cured product according to claim 12 . 請求項1〜いずれか1項に記載の熱硬化性接着シートを、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面と、シート状基材との間に挟み、前記熱硬化性接着シートを熱硬化する、保護シート付きプリント配線板の製造方法。 The thermosetting adhesive sheet according to any one of claims 1-8, said circuit surface of the printed wiring board having a conductive circuit, sandwiched between the sheet-like substrate, the thermosetting adhesive sheet A method for producing a printed wiring board with a protective sheet, which is thermoset.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113286835A (en) * 2019-01-29 2021-08-20 东洋纺株式会社 Adhesive composition containing dimer alcohol copolymerized polyimide polyurethane resin
JP2021155680A (en) * 2020-03-30 2021-10-07 リンテック株式会社 Film adhesive
JP2021155679A (en) * 2020-03-30 2021-10-07 リンテック株式会社 Film adhesive
CN114207068A (en) * 2019-09-06 2022-03-18 东洋纺株式会社 Polyolefin adhesive composition
CN114258414A (en) * 2019-08-26 2022-03-29 阿克佐诺贝尔国际涂料股份有限公司 In-mold composite covering film
JP2022051543A (en) * 2020-09-18 2022-03-31 三菱ケミカル株式会社 Polyester-based resin, adhesive composition and adhesive
JP7156562B1 (en) 2021-04-16 2022-10-19 三菱ケミカル株式会社 Adhesive composition for flexible printed wiring board
CN116507670A (en) * 2020-11-24 2023-07-28 富士胶片株式会社 Polymer film and laminate

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3569654B1 (en) 2017-01-10 2023-08-23 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Epoxy resin composition
JP6365755B1 (en) * 2017-11-28 2018-08-01 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermosetting adhesive sheet and use thereof
CN108504294A (en) * 2017-02-24 2018-09-07 昆山雅森电子材料科技有限公司 A kind of coloured ultra-thin cover film of high frequency and preparation method
JP6905139B2 (en) * 2018-02-23 2021-07-21 日清紡ケミカル株式会社 Resin composition, resin material and resin crosslinked product
WO2019189723A1 (en) * 2018-03-30 2019-10-03 味の素株式会社 Sealing composition
JP6943270B2 (en) * 2018-05-23 2021-09-29 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermosetting adhesive sheet and its use
JP6555491B2 (en) * 2018-05-23 2019-08-07 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermosetting adhesive sheet and use thereof
CN114080439B (en) * 2019-08-08 2024-01-26 东洋纺Mc株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet, laminate, and printed wiring board
JP7211403B2 (en) * 2019-10-23 2023-01-24 三菱ケミカル株式会社 Adhesive composition and adhesive
TW202134381A (en) 2019-10-23 2021-09-16 日商三菱化學股份有限公司 Adhesive composition for flexible printed wiring board, adhesive for flexible printed wiring board, and flexible printed wiring board
JP6919776B1 (en) * 2019-11-28 2021-08-18 東洋紡株式会社 Adhesive film, laminate and printed wiring board
WO2021124857A1 (en) * 2019-12-20 2021-06-24 株式会社アイセロ Thermoplastic adhesive composition
US20230120487A1 (en) * 2020-01-16 2023-04-20 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Resin composition
JP7127674B2 (en) * 2020-02-21 2022-08-30 三菱ケミカル株式会社 Adhesive composition and adhesive
TW202136420A (en) * 2020-02-28 2021-10-01 日商富士軟片股份有限公司 Curable resin composition, cured film, laminate, production method for cured film, and semiconductor device
JP7552037B2 (en) * 2020-03-05 2024-09-18 株式会社レゾナック Resin composition, prepreg, laminate, resin film, printed wiring board, semiconductor package, and method for producing resin composition
KR102229884B1 (en) * 2020-07-01 2021-03-18 동우 화인켐 주식회사 Adhesive Composition and Adhesive Sheet Using the Same
KR102229885B1 (en) * 2020-07-01 2021-03-18 동우 화인켐 주식회사 Adhesive Composition and Adhesive Sheet Using the Same
KR102229883B1 (en) * 2020-07-01 2021-03-18 동우 화인켐 주식회사 Adhesive Composition and Adhesive Sheet Using the Same
KR20220081183A (en) * 2020-12-08 2022-06-15 동우 화인켐 주식회사 Adhesive Composition and Adhesive Sheet Using the Same
KR20220081182A (en) * 2020-12-08 2022-06-15 동우 화인켐 주식회사 Adhesive Composition and Adhesive Sheet Using the Same
CN117098825A (en) * 2021-03-30 2023-11-21 琳得科株式会社 Curable adhesive composition and cured product
KR20230161422A (en) * 2021-03-30 2023-11-27 린텍 가부시키가이샤 adhesive sheet
JPWO2022210673A1 (en) * 2021-03-30 2022-10-06
KR20240033256A (en) 2021-12-06 2024-03-12 미쯔비시 케미컬 주식회사 Laminates, adhesive compositions and circuit board materials

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0964111A (en) * 1995-08-21 1997-03-07 Toray Ind Inc Tape with adhesive for tab and semiconductor device
JP4590927B2 (en) * 2004-05-12 2010-12-01 横浜ゴム株式会社 Adhesive composition
JP5540847B2 (en) * 2010-04-08 2014-07-02 藤倉化成株式会社 Acrylic adhesive composition and adhesive film
JP2013035933A (en) * 2011-08-05 2013-02-21 Nitto Denko Corp Self-adhesive sheet
JP6030061B2 (en) * 2011-09-28 2016-11-24 Dicグラフィックス株式会社 Resin composition
JP2013093564A (en) * 2011-10-04 2013-05-16 Hitachi Chemical Co Ltd Resin paste for die bonding, semiconductor device manufacturing method, and semiconductor device
JP5914169B2 (en) * 2012-05-28 2016-05-11 株式会社有沢製作所 Resin composition for flexible printed wiring board
JP6292808B2 (en) * 2013-09-13 2018-03-14 デクセリアルズ株式会社 Adhesive and light emitting device

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113286835A (en) * 2019-01-29 2021-08-20 东洋纺株式会社 Adhesive composition containing dimer alcohol copolymerized polyimide polyurethane resin
CN113286835B (en) * 2019-01-29 2023-09-29 东洋纺Mc株式会社 Adhesive composition containing dimeric alcohol copolymerized polyimide polyurethane resin
CN114258414A (en) * 2019-08-26 2022-03-29 阿克佐诺贝尔国际涂料股份有限公司 In-mold composite covering film
CN114258414B (en) * 2019-08-26 2024-07-23 阿克佐诺贝尔国际涂料股份有限公司 In-mold composite overlay film
CN114207068B (en) * 2019-09-06 2024-04-02 东洋纺Mc株式会社 Polyolefin adhesive composition
CN114207068A (en) * 2019-09-06 2022-03-18 东洋纺株式会社 Polyolefin adhesive composition
JP2021155680A (en) * 2020-03-30 2021-10-07 リンテック株式会社 Film adhesive
JP2021155679A (en) * 2020-03-30 2021-10-07 リンテック株式会社 Film adhesive
JP7527823B2 (en) 2020-03-30 2024-08-05 リンテック株式会社 Film adhesive
JP7446887B2 (en) 2020-03-30 2024-03-11 リンテック株式会社 film adhesive
JP2022051543A (en) * 2020-09-18 2022-03-31 三菱ケミカル株式会社 Polyester-based resin, adhesive composition and adhesive
JP7223300B2 (en) 2020-09-18 2023-02-16 三菱ケミカル株式会社 Polyester resin, adhesive composition and adhesive
CN116507670A (en) * 2020-11-24 2023-07-28 富士胶片株式会社 Polymer film and laminate
JP2022164556A (en) * 2021-04-16 2022-10-27 三菱ケミカル株式会社 Adhesive composition for flexible printed wiring board
JP7156562B1 (en) 2021-04-16 2022-10-19 三菱ケミカル株式会社 Adhesive composition for flexible printed wiring board

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