JP6062858B2 - 光学測定方法および光学測定装置 - Google Patents
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Description
光源20、
図示していない光学機械フレーム、
立体フィルタ21、
顕微鏡対物レンズ22、および
検出アセンブリ23、
図示していない処理ユニット
を備える。
例えば並進プレートを使用して、物体を機械的に並進運動させること、
例えば一連のガルバノミラーもしくは音響光学式並進器を使用して、物体へ照射されるビームを光学的に走査すること、または機械的もしくは光学的なこれらの並進運動手段を組み合わせたものを使用すること
が可能である。
・ 解析分量に光を照射する
・ 蛍光色素分子によって蛍光を放出する
・ 蛍光色素分子を焦点面に結像させる
・ 解析した光を共焦点ピンホールによって焦点面に限定する
・ 解析した光を光電検出器によって一体にする
・ 測定した強度を画像の画素値として表示する
に分けることができる。
トポロジー群の異なる少なくとも2つの一連の配光分布を試料に照射すること、
前記少なくとも1つの発光ナノエミッタが試料から再放出する光を検出すること、
検出光から、少なくとも1つの光学画像を各々の配光分布に対して生成すること、および
光学画像をアルゴリズムによって解析して、前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの位置情報を得ること
を含む、方法を提供する。
a)規則波のパラメータのうちの少なくとも1つ、
b)少なくとも1つの特異波の少なくとも1つのパラメータおよび
c)規則波と特異波との間または2つの特異波の間の位相差
のうちの少なくとも1つを変化させることによって形成される。
規則波および/または特異波の相対的振幅を制御するステップ、
所定の順序に従って、偏光および/または入射光波の位相状態または規則波および特異波を形成する結晶サブモジュールからの出射光波の位相状態を制御するステップ、特異波または規則波の形状を制御するステップ、および
光波の配光分布の中心位置を互いに揃えるステップ
のうちの少なくとも1つを含む。
a)単一の発光ナノエミッタ、
b)複数の同一位置の発光ナノエミッタ、および
c)互いに距離を置いて位置する複数の発光ナノエミッタ
のうちの少なくとも1つを区別し、これによって、発光ナノエミッタ間の距離が算出されることができる。
ほぼ平行な光ビームであって、収束角または発散角が平行光とは異なり、この角度値は、各々の点光源の縦方向の位置に応じて異なる光ビームを、各々の点光源から生成するステップ、
偏光が直交し幾何学形状が異なる同一位置の2つの光波である1つの規則波および1つの特異波であって、規則波と特異波との間のエネルギー比が、光ビームの収束角または発散角によって異なり、それによって点光源の縦方向の位置によっても異なる2つの光波を、入射光波から生成するステップ、
規則波および特異波の偏光状態、またはこの幾何学形状に基づいて、規則波および特異波を分離するのに適した偏光または幾何学形状を変更するステップ
のうちの少なくとも1つを含む。
各々のチャネルから出射する光度を融合し、偏光の縦方向の位置の長さまたは光の中の光度の管形状が、融合によって維持されるようにすること
を含む。
トポロジー群の異なる一連の少なくとも2つの小規模な配光分布を試料に照射するように適応した照射手段、
試料の前記少なくとも1つの発光ナノエミッタによって反射光を検出するように適応した検出手段、
検出光から、各々の配光分布に対して少なくとも1つの光学画像を生成するように適応した生成手段、および
光学画像のコンピュータ解析を実行して、前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの位置情報を得ることができる解析手段
を備える装置を提供する。
a)規則波のパラメータのうちの少なくとも1つ、
b)少なくとも1つの特異波の少なくとも1つのパラメータおよび
c)規則波と特異波との位相差または2つの特異波の位相差
のうちの少なくとも1つを変化させることによって、前記少なくとも2つの分布間に空間差を形成するように適応される。
a)単一の発光ナノエミッタ、
b)複数の同一位置の発光ナノエミッタ、および
c)互いに距離を置いて位置する複数のナノ標識光
のうちの少なくとも1つを区別し、これによって、ナノ標識光間の距離が算出される、。
複数の点光源から放出される光を検出するように適合された検出手段、および
反射光を同時または連続的に検出するために、複数のセンサに対して分離するように適合された分離手段であって、発光ナノエミッタから再放出され特定の検出器に向けられた光の割合は、前記発光ナノエミッタの空間位置に依存する、分離手段、および
検出光から光学画像を生成するのに適した画像生成手段、および
光学画像のコンピュータ解析を実行して、複数の点光源の位置情報を得ることができる解析手段
を備える装置を提供する。
放出光の複数の点光源の光度の偏光を分離するビームスプリッタであって、偏光が直交する2つの独立したチャネルに分離できる、縦方向超解像モジュールの一部であるビームスプリッタ、および縦方向超解像モジュールの各々のチャネルから出射する光度を融合し、偏光の光度の縦方向の位置または幾何学的チャネルが、融合によって維持されるようにする手段を有する。
・ 光度の空間分布を表す光学画像、
・ 光学画像によって特定の瞬間に検出面に作成されたCCDの電荷の空間分布、CMOSに対する電流の空間分布またはSPADに対するイベントの空間分布を記述するための電子画像、
・ 電子画像を変換して作成した数字のマトリクスを記述するためのデジタル画像。
偏光測定とは、入射光の偏光状態を測定することを指す。入射光の偏光状態は、1852年にジョージ・ガブリエル・ストークスが導入した一連の値であるストークスパラメータを用いて説明することができ、これは光学分野で使用される。
本章では、本発明に必要で当業者に公知の一連の技術要素を取り上げる。
ある合成電場ベクトルがE(ρ、θ)であり、極座標で記述すると(ρ、θ)であるとすれば、この電場は、実際の振幅A(ρ、θ)、実際の位相φ(ρ、θ)および偏光の単位ベクトルu(r、θ)を用いて次式で表すことができる:
特異波は、中心の強度がゼロであり、方位角位相が2πの倍数分変動する。光学分野におけるこの研究テーマは、1974年にJ.F NyeおよびM.Berryによる重要文献[6]が最初であり、現在は「特異光学(singular optics)」として知られている。規則波 および特異波の例を以下に説明する。
以下に定義する小規模(コンパクト)であることの条件のうちの1つを満たせば、点光源の配光分布は小規模と考えられ、以下は、二者択一で非排他的な2つの条件である:
エアリー半径の1.75倍未満の半径の円にエネルギーの75%超が含まれる、あるいは
強度ゼロのラインで規定されエネルギーの65%超を含む光の範囲が、エアリー半径の2倍未満の半径の円内にある。
一方が規則的、他方が特異的であり、一方が点光源、他方がリング光源である。
2つの異なる配光分布の振幅の方位角次数が異なる。
2つの異なる配光分布の振幅の偏光または位相の方位角次数が異なる。
点光源の二次発光体を形成すること、
および生物学的実体または有機実体に対して発光体を所定位置に置くこと。
符号「i」:符号「i」を付した軸は、解析分量61の中心を中心とする基準デカルト座標系を表す。
符号「a」:符号「a」を付した軸は、離散点62と考えるナノエミッタ上の各々の発光ナノエミッタに対する基準デカルト座標系を表す。後述するPSIT方法を用いる場合、試料に渦が照射されれば、渦の中心を一般に解析分量の中心と定義する。
本明細書では、本発明の好適な実施態様に対して特異的なプラットフォーム、モジュールおよび光学系の名称として、「Super Resolution using Conical Diffraction(円錐回折を用いた超解像)」の頭字語SRCDを使用する。
PSIT、「様々なトポロジーの一連の照射強度」
および
PDOS、「位置依存光学セマフォ」
を同時にまたは別々に用いて実施されることができる。
・ トポロジーの異なる一連の小規模な配光分布を解析分量に照射する
・ 蛍光色素分子によって蛍光を放出する
・ 蛍光色素分子を焦点面上にイメージングする
・ 検出された反射光をいくつかの独立したチャネルに同時かつ/または連続的に分離する
・ 任意に、解析光の焦点面内に限定する
点状またはマトリクス状の1つ以上の光検出器によって光度を検出する
・ 検出された一連の像から、スパースオブジェクトを構成する蛍光色素分子のリスト、およびその特性を再構築する
・ トポロジー群の異なる一連の小規模な配光分布を試料に照射する。
・ 各々の小規模な配光分布に対して:
− 試料の蛍光色素分子によって発光する。
− 光学顕微鏡を用いて、光学画像を作成する。光検出器で光学画像を取得し、デジタル像を作成する。
一連の伝送は、トポロジー群の異なる少なくとも2つの点状配光分布からなる。
一連の伝送は、発光ナノエミッタと称する蛍光色素分子で標識した生体試料に照射される。
そのハードウェア部分に、以下のものを備える:
・ 前述の共焦点顕微鏡と同様の適応したまたは最適化した共焦点顕微鏡であって、前述したような適切な部品をすべて有する共焦点顕微鏡200。
・ 標準の顕微鏡に搭載した、2つの新規かつ補足的な光学モジュール。
この2つの新規な光学モジュールは、光学モジュールLatSRCS700およびLongSRCS800であり、これについては、図6および図8をそれぞれ参照してのちに詳述する。
光学モジュール700LatSRCSは、本発明の一実施形態によるPSIT方法を実施するのに必要な照明ステップを実施する。
光学モジュールLongSRCS800は、本発明の一実施形態によるPDOS方法の複数の出射画像の状態で光度を分布するステップを実施する。
・ 図8を参照して説明していくアルゴリズムモジュールSRCDA600は、プラットフォームSRCDPが作成した画像から生体試料の超解像情報を再構築することができる。
・ その他の補助的素子であって、プラットフォームの作製に必要な、コンピュータ66およびソフトウェア67などの素子。
図6を参照して、本発明の一実施形態による光学モジュール、光学モジュールLatSRCS700、およびその顕微鏡法における特定の機能を説明する。
・ 基本配光分布:平行な円偏光子同士の間で得られる図7a00および図7a11であり、エアリー分布に近い分布。
・ 渦配光分布:交差円偏光子同士の間で得られる図7a01および図7a10。
・ 「三日月」分布と呼ぶ分布;副図7a0、2−5、7a1、2−5、7a2−5、0および7a2−5、1は、円偏光子と角度が変化する直線偏光子との間で得られる。この分布は非対称であり、軸は直線偏光子の軸に沿って回転する。
・ 「半月」分布と呼ぶ分布;副図7a42、7a35、7a24および7a53は、2つの交差偏光子の間で得られ、この分布は対称である。
・ より複雑な配光分布、図7bであり、0.5よりも大きい正規化した円錐パラメータρ0の結晶に対する分布。
・ 結晶間に静的または動的な偏光素子がある2つ(または2つ以上)の結晶が急峻な円錐形結晶(図示せず)を使用して、さらに別の配光分布を作成する。
図7に描いた基礎配光分布は、いくつかの方法で得られる。さらに、 その方法のうちのいくつかを、他の基礎配光分布の線形的組み合わせとして得ることができ、例えば渦分布は、任意の2つの直交する「半月」配光分布を合わせたものから得ることができる。
これまで展開した理論は、顕微鏡35の結像面内の配光分布を説明するものである。試料に照射された光の分布は、幾何学的イメージングの理論によれば、像面内の配光分布を縮小した画像である。
以下に、光学モジュールLongSRCSについてさらに詳細に説明する。
PDOS方法は、元は縦方向の超解像ができるように設計されたものだが、PDOS方法は、蛍光色素分子の横方向の位置の測定にも使用できる。実際、基礎配光分布は、蛍光色素分子の横方向の位置の変化にも影響を受けやすい。試料の面に対する光の照射が不可能な場合、 PDOS方法の代わりにPSIT方法を用いて超解像測定を実施してもよい。
本測定方法論の可能性を考えると、作成された情報を検出して復元できるさらに複雑な検出モジュールが必要であるという結論に至る。走査型共焦点顕微鏡法では、検出器は、PMTまたはSPADとしての単一の素子で構成される検出器である。検出器の取得時間は、走査機構によって決まる。
前述したように、SRCDAアルゴリズムは、当業者に公知の逆問題方法またはパラメータ推定方法を使用して実行されることができる。
前処理手順は、約数千の少数の空間時間素子に適用され、既存のハードウェアを用いてリアルタイムで実行される。
本発明の少なくとも1つの実施形態による合成光学プロセスは、ディスクリプタのアルゴリズムの論理的補数である。実際に、ディスクリプタの計算手順を実行すると、画像の追加で測定性能が改善される結果を導くことができる。顕微鏡法プラットフォームSRCDPにより、PSIT方法またはPDOS方法の一連の配光分布から、1つ以上の追加画像を取得することができる。
PSIT方法は、蛍光色素分子の位置を高精度で測定する技術として使用されることができる。この測定には、前述したディスクリプタのアルゴリズムを使用できる。
シーケンスの3画像の和で構成される「トップハット(top hat)」画像、および2つの半月画像の和で構成される渦画像。
・ 基本波に照明された蛍光色素分子が放出した正規化強度は、基本波の中心での1からエアリー半径での0まで変化する。
・ 渦波に照明された蛍光色素分子が放出した正規化強度は、渦の中心での0から渦の最大の1まで変化し、エアリー半径よりもわずかに大きい値に向かう0に達する。比のアークタンジェントは、単調関数である。
本明細書では、デカルト極座標表現の簡易バージョンのみを詳述し、このバージョンでは、1点を座標x、yおよびρで表現する。この空間をピタゴラスの空間と称する。
次に、極座標でρ,θおよびρ,−θの位置の中心を境に対称に位置する2つの蛍光色素分子を考える。前段落に記載したシステムを使用する。
・ セントロイドは、配光分布のセントロイドを測定し、これが原点になる。
・ 識別子ρは、2つの蛍光色素分子の共通の半径値を測定する。
・ 半月の場合にθと−θとの間に縮退を含むディスクリプタθは、値θを測定する。
図11を参照すると、本発明の好適な実施形態で、本発明はさらに、プラットフォームSRCDP500に組み込まれた様々な制御素子について記載する。
PSIT方法の1つの実施形態では、規則波および特異波は、入射規則波が円錐形結晶32の代わりに1軸結晶を介して伝搬することによって形成される。
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Claims (49)
- 試料の少なくとも1つの発光ナノエミッタの空間位置を算出するための光学測定方法であって、
試料上で異なるトポロジー群に属する一連の第1の小規模な配光分布及び第2の小規模な配光分布を試料に照射すること、
前記試料の前記少なくとも1つの発光ナノエミッタが再放出する光を検出すること、
前記検出光から、第1の小規模な配光分布に照射された前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの第1のイメージおよび第2の小規模な配光分布に照射された前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの第2のイメージを生成すること、ならびに、
前記第1のイメージおよび第2のイメージをアルゴリズム解析して、前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの位置情報を得ること
を含む、方法。 - 前記2つの小規模な配光分布は、前記試料の同一位置にある、請求項1に記載の方法。
- トポロジー群の異なる前記少なくとも2つの小規模な配光分布は、規則波と特異波との間、または2つの特異波の間の干渉によって形成され、前記少なくとも2つの分布間の空間的相違は、以下のパラメータ:
a)前記規則波のパラメータのうちの少なくとも1つ、
b)少なくとも1つの特異波の少なくとも1つのパラメータおよび
c)前記規則波と前記特異波との間または2つの特異波の間の位相差
のうちの少なくとも1つを変化させることによって形成される、請求項1に記載の方法。 - 入射光波から、規則波および特異波を含む2つの同一位置にある光波を形成することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 入射規則波を2つの規則波に分離して、別々の幾何学的光路に沿わせること、
前記規則光波のうちの少なくとも1つを特異光波に変換すること、および
形成された2つの出射光波を融合すること
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記規則波および/または特異波の相対的振幅を制御するステップ、
所定のシーケンスで、偏光および/または入射光波の位相状態または規則波および特異波を形成する結晶サブモジュールの入射光波または出射光波の位相状態を制御するステップ、
前記特異波または規則波の形状を制御するステップ、および
光波の配光分布の中心位置を互いに揃えるステップ
のうちの少なくとも1つをさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 前記配光分布の重なりから出射する偏光を、静的または動的に形状を加工して、前記小規模な配光分布の形状およびサイズに対するベクトル効果を緩和することをさらに含み、前記ベクトル効果は、円偏光、放射偏光、または方位偏光のように対称に回転する静的偏光状態および/または動的偏光状態を供給して、出射偏光の形状を加工することによって光学画像を生成するための開口数の高いレンズによって生じる、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも2つの配光分布は、マルチモードレーザーの様々なモードの強度を制御することによって形成される、請求項1に記載の方法。
- 再放出光の平均波長λよりも実質的に小さいサイズの領域が前記試料内にあり、該領域では、前記トポロジー群の異なる少なくとも2つの小規模な配光分布の強度を数学的に特別に組み合わせた値は、前記領域に含まれる前記配光分布部分の横方向の位置に対して正であり、前記特別な数学的組み合わせは、前記領域以外の配光分布のその他の全部分でゼロに近い、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1つのナノエミッタは、蛍光色素分子であり、該蛍光色素分子の一連の蛍光光度は、トポロジー群の異なる一連の小規模な配光分布が前記蛍光色素分子に係る入射強度によって異なり、これによって、前記蛍光色素分子の空間位置が特徴付けられる、請求項1に記載の方法。
- ナノエミッタのうちの少なくとも2つは、異なる空間位置にある蛍光色素分子であり、各々の蛍光色素分子は、一連の蛍光光度を有し、この光の強度は、トポロジー群の異なる一連の小規模な配光分布が少なくとも2つの蛍光色素分子に係る入射強度によって異なり、これによって、少なくとも2つの蛍光色素分子の空間位置が特徴付けられる、請求項1に記載の方法。
- 再放出光の平均波長よりも実質的に小さいサイズの領域が試料内に存在し、該領域では、前記トポロジー群の異なる一連の小規模な配光分布を数学的に組み合わせた複数のものを比較することを利用して、
a)単一の発光ナノエミッタ、
b)複数の同一位置の発光ナノエミッタ、および
c)互いに距離を置いて位置する複数の発光ナノエミッタ
のうちの少なくとも1つを区別し、これによって、発光ナノエミッタ間の距離が算出される、請求項1に記載の方法。 - 一連の前記少なくとも2つの配光分布および/または一連の前記少なくとも2つの配光分布の位置を、測定データまたは外部情報に応じて変化させることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- トポロジーの異なる配光分布の照射は、円錐回折によって行われ、前記円錐回折を行う少なくとも1つの円錐形結晶の入射および出射の偏光状態を変化させることによって修正される、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1つの発光ナノエミッタの測定した空間位置は、前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの横方向の位置である、請求項1に記載の方法。
- 複数の点光源の空間位置を算出するための光学測定方法であって、
複数の点光源から放出される光を検出すること、および
放出された光を同時または連続的に検出するために、複数の検出器上に分離することであって、ここで、点光源から放出され特定の検出器に向けられた光の割合は、前記点光源の空間位置に依存していること、および
前記検出光から光学画像を生成すること、および
前記光学画像をアルゴリズムで解析して、複数の点光源の位置情報を得ること、
複数の点光源から放出される光度を、偏光ビームスプリッタを使用して、偏光が直交する複数の独立したチャネルに分離すること、および
各々のチャネルの光度を融合し、前記偏光の縦方向の位置の依存性または前記光度の幾何学的光路が、前記融合光内で維持されるようにすること
を含む方法。 - 前記測定した空間位置は、各々の点光源の縦方向の位置である、請求項16に記載の方法。
- 前記再放出光は、各々の点光源の縦方向の位置に応じて、または各々の点光源が放出する波長に応じて分離される、請求項17に記載の方法。
- 前記再放出光の前記分離は、複数の検出チャネルに対して、対物レンズの焦点面に位置決めされた光源から出射するコリメートされた再放出光を、前記焦点面の手前または背後にある前記点光源から出射するコリメートされていない再放出光から分離するように実行される、請求項16に記載の方法。
- 測定データまたは外部情報に応じて、前記チャネルのパラメータを変化させることをさらに含む、請求項16に記載の方法。
- ほぼ平行な光ビームであって、収束角または発散角が前記平行光とは異なり、前記角度の値は、各々の点光源の縦方向の位置によって異なる光ビームを、前記放出光の各々の点光源から生成するステップ、
偏光が直交し幾何学形状が異なる同一位置の2つの光波である1つの規則波およびもう1つの特異波であって、前記規則波と前記特異波との間のエネルギー比が、前記光ビームの前記収束角もしくは発散角ならびに点光源の縦方向の位置によって異なる2つの光波を、入射光波から生成するステップ、および
前記規則波および前記特異波の偏光状態、またはこの幾何学形状に基づいて、前記規則波および前記特異波を分離することができる偏光または幾何学形状を修正するステップ
のうちの少なくとも1つを含む、請求項16に記載の方法。 - 特定の縦方向の位置に置かれたナノエミッタの点光源を集光すること、および
前記縦方向の位置の前後に位置決めされた光源を散乱させて、各々の点光源の前記縦方向の位置に応じて前記配光分布が集光時とは異なるようにすることを含む、請求項16に記載の方法。 - 偏光の異なる2つの光波であって、偏光の異なる波同士の間のエネルギー比が、焦点の空間分布およびナノエミッタの縦方向の位置によって異なる2つの光波を、入射光波から生成すること、および
規則波および特異波の偏光状態または幾何学形状に基づいて、前記規則波および特異波を分離すること
を含む、請求項16に記載の方法。 - 各々の点光源は、試料の1つ以上のナノエミッタに対応し、前記方法は、入射光によって前記ナノエミッタを照明することからなる予備ステップを含み、前記放出光の検出は、前記ナノエミッタから再放出される光を検出することからなる、請求項16に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの光学画像は、共焦点顕微鏡のような顕微鏡の光学器械を用いて生成され、前記再放出光の前記検出は、顕微鏡対物レンズの焦点面内に限定されることが好ましい、請求項16に記載の方法。
- 試料上に位置決めされた少なくとも1つの発光ナノエミッタの空間位置を算出する光学測定装置であって、
試料上で異なるトポロジー群に属する一連の第1の小規模な配光分布及び第2の小規模な配光分布を前記試料に照射するためのプロジェクタ、
前記試料の前記少なくとも1つの発光ナノエミッタが再放出した光を検出するように適応した検出手段、
前記検出光から、第1の小規模な配光分布に照射された前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの第1のイメージおよび第2の小規模な配光分布に照射された前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの第2のイメージを生成するように適応した画像生成手段、および
光学画像のコンピュータ解析を実行して、前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの位置情報を得るためのアナライザ
を備える装置。 - 前記プロジェクタは、2つの小規模な配光分布を前記試料に対して同一位置にするように構成される、請求項26に記載の装置。
- 前記プロジェクタは、規則波と特異波との間または2つの特異波の間の干渉によって、前記少なくとも2つの配光分布を形成するように構成され、以下のパラメータ:
a)前記規則波のパラメータのうちの少なくとも1つ、
b)少なくとも1つの特異波の少なくとも1つのパラメータおよび
c)前記規則波と前記特異波との位相差または2つの特異波の位相差、
のうちの少なくとも1つを変化させることによって、前記少なくとも2つの分布間に空間差を形成するように構成される、請求項26に記載の装置。 - 光源に対して光学的に相互作用し、
a)入射光波から、1つの規則波および1つの特異波を含む2つの同一位置の光波を形成する結晶サブモジュールであって、薄型の2軸結晶および/または1軸結晶を備える結晶サブモジュール、
b)入射規則波を、別々の幾何学的光路に沿う2つの規則波に分離するように適応した光学サブモジュールであって、再放出光の平均波長よりも小さいステップのネットワークと、薄型の2軸結晶または1軸結晶とを備える変換器を使用して、前記規則波のうちの1つを特異波にするように構成された光学サブモジュールにおいて、形成された2つの出射光波を融合するように設計された光学サブモジュール、
c)規則波および特異波の相対的振幅を制御し、好ましくは、波の配光分布の中心位置を互いに並進移動させる部分偏光子、
d)振幅、偏光または位相を光学的に制御する光学制御サブモジュールであって、前記結晶サブモジュールへ入射する光波または前記結晶サブモジュールから出射する光波の偏光状態および/または位相状態を、所定の順序で制御するための、少なくとも1つの制御可能または調整可能な光学制御サブモジュール、
e)前記規則波または特異波の波形状を制御するための、少なくとも1つの調整可能な光学素子を備えるサブ制御モジュール、
f)偏光検光子、および
g)前記配光分布の重なりから出射する偏光の形状を加工する静的または動的なサブモジュールであって、各々の小規模な配光分布の形状およびサイズに対するベクトル効果を緩和することができ、前記ベクトル効果は、円偏光、放射偏光、または方位偏光のように対称に回転する静的偏光状態および/または動的偏光状態を供給して出射偏光の形状を加工することによって、光学画像手段を生成する開口数の高い対物レンズによって生じる、サブモジュール
のうちの少なくとも1つを備える、請求項26に記載の装置。 - マルチモードレーザーであって、前記レーザーモードの強度を制御でき、トポロジー群の異なる少なくとも2つの小規模な配光分布は、様々なレーザーモードの強度を制御することによって形成されるマルチモードレーザーをさらに備える、請求項26に記載の光学装置。
- 再放出光の平均波長λよりも実質的に小さいサイズの領域が試料内に存在し、該領域では、照明手段によって形成されるトポロジー群の異なる前記少なくとも2つの小規模な配光分布の強度を数学的に特別に組み合わせた値は、前記領域内に含まれる横方向の位置に対して正であり、前記特別な数学的組み合わせは、前記領域以外の配光分布のその他の全部分で、ゼロに近い、請求項26に記載の光学装置。
- 少なくとも1つのナノエミッタは、蛍光色素分子であり、該蛍光色素分子の一連の蛍光光度は、トポロジー群の異なる一連の小規模な配光分布が前記蛍光色素分子に係る入射強度によって異なり、これによって、前記蛍光色素分子の空間位置が特徴付けられる、請求項26に記載の装置。
- ナノエミッタのうちの少なくとも2つは、異なる空間位置にある蛍光色素分子であり、各々の蛍光色素分子は、一連の蛍光光度を有し、前記光度は、トポロジー群の異なる一連の小規模な配光分布が前記少なくとも2つの蛍光色素分子に係る入射強度によって異なり、これによって、少なくとも2つの蛍光色素分子の空間位置が特徴付けられる、請求項26に記載の装置。
- 放出光の平均波長よりも実質的に小さいサイズの領域が試料内に位置し、前記トポロジー群の異なる一連の小規模な配光分布を数学的に組み合わせた複数のものを比較するための比較器を備えて、
a)単一の発光ナノエミッタ、
b)複数の同一位置の発光ナノエミッタ、および
c)互いに距離を置いて位置する複数の発光ナノマーカー
のうちの少なくとも1つを区別し、これによって、発光ナノマーカー間の距離が算出される、請求項26に記載の装置。 - 前記プロジェクタは、一連の前記少なくとも2つの配光分布および/または一連の前記少なくとも2つの配光分布の位置を、測定データまたは外部情報に応じて変化させるように構成される、請求項26に記載の装置。
- 前記プロジェクタは、円錐回折を行う少なくとも1つの円錐形結晶と、前記少なくとも1つの円錐形結晶の入射および出射の偏光状態を変化させるための調整器と、を備える、請求項26に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの発光ナノエミッタの横方向の位置を測定するように構成される、請求項26に記載の装置。
- 複数の点光源の空間位置を算出するための光学測定装置であって、
複数の点光源から放出される光を検出するように適合された検出手段、および
前記放出光を同時または連続的に検出するために、複数の検出器に向けて分離するように適合されたセパレータであって、点光源から再放出され特定の検出器に向けられた光の割合は、前記点光源の空間位置に依存する、セパレータ、および
前記検出光から光学画像を生成するための画像生成手段、および
光学画像のコンピュータ解析を実行して、複数の点光源の位置情報を得るためのアナライザ
複数の点光源の光度を、縦方向超解像モジュールの前で、偏光が直交する2つの独立したチャネルに分離するように構成された偏光ビームスプリッタ、および
縦方向超解像モジュールの出射する光度を融合し、各々のチャネルで、偏光の縦方向の位置またはラインの光度の幾何学的チャネルの依存性が、前記融合光内で維持されるようにする手段
を備える光学測定装置。 - 各々の点光源の縦方向の位置を測定するように構成される、請求項38に記載の装置。
- 前記セパレータは、各々の点光源の縦方向の位置に応じて、または各々の点光源から放出される波長に応じて再放出される光を分割するように構成される、請求項38に記載の装置。
- 前記セパレータは、複数の検出チャネルに対して、対物レンズの焦点面に位置決めされた点光源から出射するコリメートされた放出光を、焦点面の手前または背後にある点光源から出射するコリメートされていない放出光から分離するように構成される、請求項38に記載の装置。
- 測定データまたは外部に基づいて前記検出チャネルのパラメータを変化させるための調整器をさらに備える、請求項38に記載の装置。
- 小量の光の中に置かれた複数の点光源から来る光度を、各々の点光源の縦方向の位置に応じて、別々の検出器に、および/または同じ検出器の別々の幾何学的位置に誘導するための誘導器を備える、請求項38に記載の装置。
- 光学補助を介して、顕微鏡対物レンズおよびサブ検出モジュールと相互作用し、この両者を互いに相互作用させる少なくとも1つのサブモジュールを備える、請求項38に記載の装置。
- a)ほぼ平行な光ビームであって、収束角または発散角が前記平行光とは異なり、前記角度の値が、各々の点光源の縦方向の位置に応じて異なる光ビームを、各々の点光源から形成するための光学ビーム生成器、
b)結晶サブモジュール、または結晶サブモジュールのカスケードであって、各々の結晶サブモジュールは、2軸結晶もしくは1軸結晶またはこのアセンブリ、ならびに補助光学器械のうちの少なくとも1つを備え、偏光が直交し幾何学形状が異なる同一位置の2つの光波である1つの規則波およびもう1つの特異波であって、規則波と特異波との間のエネルギー比がビームの収束角または発散角によって異なり、それによって、発光する点光源の縦方向の位置によっても異なる2つの光波を、入射光波から形成するように適応した、結晶サブモジュール、および/または
c)規則波および特異波の偏光状態、またはこの幾何学形状に基づいて、規則波および特異波を分離することができる偏光または幾何学形状を修正するための偏光調整器
を備える、請求項38に記載の光学装置。 - a)所定の縦方向の位置に置かれた再放出光からの点光源を集光して、前記縦方向の位置の前後に位置決めされた光源をわずかに散乱させて、各々の点光源の縦方向の位置に応じて配光分布が集光時とは異なるようにするための光学集光器、
b)偏光を空間的に変化させる偏光子であって、厚さを変更できる少なくとも1つの1軸結晶、再放出光の平均波長よりも低い段階のネットワークおよび/または位相板を有し、偏光の異なる2つの光波であって、偏光の異なる波同士の間のエネルギー比が焦点の空間分布によって異なり、該空間分布を介して、発光する点光源の縦方向の位置によっても異なる2つの光波を、入射光波から形成する偏光子、および/または
c)規則波および特異波の偏光状態またはその幾何学形状に基づいて、規則波および特異波を分離するように構成された偏光器または幾何学形状形成器
をさらに備える、請求項38に記載の装置。 - 各々の点光源は、試料の1つ以上のナノエミッタに対応し、前記装置は、入射光によってナノエミッタを照明できる照明器をさらに備え、前記検出器は、ナノエミッタから再放出される光を検出するように適応される、請求項38に記載の装置。
- 試料の少なくとも1つのナノエミッタの空間位置を算出する光学測定機器であって、
共焦点顕微鏡、
請求項26に記載の測定装置、および/または請求項38に記載の測定装置
を備える光学測定機器。 - 試料の少なくとも1つの発光ナノエミッタの空間位置を算出する光学測定方法であって、
前記試料内の少なくとも1つのナノエミッタの横方向の位置を算出するための請求項1に記載の測定方法、および
前記試料の少なくとも1つのナノエミッタの縦方向の位置を測定するための請求項16に記載の測定方法
を含む光学測定方法。
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