JP5930783B2 - 有色硬質装飾部材 - Google Patents
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Description
(1)基材、前記基材上に積層される金属M1および金属M2、さらに選択的に金属M3を組み合わせた合金の低級酸化物層からなる密着層、前記密着層上に積層される金属M4および金属M5、さらに選択的に金属M6を組み合わせた合金と窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる傾斜密着層、前記傾斜密着層上に積層される金属M7および金属M8、さらに選択的に金属M9を組み合わせた合金と窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる耐磨耗層、前記耐磨耗層上に積層される金属M10および金属M11、さらに選択的に金属M12を組み合わせた合金と窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる色上げ傾斜層、及び前記色上げ傾斜層の上に積層される有色装飾層から構成される有色硬質装飾部材であって、前記金属M1、M4、M7及びM10は、それぞれMo、Wの1種又は2種から選ばれ、前記金属M2、M5、M8及びM11は、それぞれ、Nb、Taの1種又は2種から選ばれ、前記金属M3、M6、M9及びM12はCr、Ti、Hf、Zrの1種又は2種以上から選ばれ、前記傾斜密着層を構成する反応化合物における非金属元素の含有量が基材から離れるにつれて厚さ方向に傾斜的に増加し、前記色上げ傾斜層を構成する反応化合物における非金属元素の含有量が基材から離れるにつれて厚さ方向に傾斜的に減少することを特徴とする有色硬質装飾部材。
(2)前記有色装飾層は、Pt、Pd又はRhの白色貴金属膜であり、前記色上げ傾斜層との境界に前記色上げ傾斜層中の金属と前記白色貴金属との金属間化合物が形成されていることを特徴とする上記(1)に記載の有色硬質装飾部材。
(3)前記有色装飾層は、Ti、Zr又はHfの窒化物、炭化物、炭窒化物、又は窒酸化物からなる硬質膜であることを特徴とする上記(1)に記載の有色硬質装飾部材。
(4)前記有色装飾層は、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)硬質膜であることを特徴とする上記(1)に記載の有色硬質装飾部材。
(5)前記有色装飾層は、誘電体膜を単層又は多層で形成されてなる誘電体層であることを特徴とする上記(1)に記載の有色硬質装飾部材。
(6)前記色上げ傾斜層と前記有色装飾層と間にSi又はTiからななる密着層が単層又は多層で形成されていることを特徴とする上記(4)又は(5)に記載の有色硬質装飾部材。
(7)前記有色装飾層は、ツートン構造であることを特徴とする上記(1)〜(6)のいずれかに記載の有色硬質装飾部材。
(8)基材上に、金属M1および金属M2、さらに選択的に金属M3を組み合わせた合金の低級酸化物層からなる密着層を積層し、前記密着層上に金属M4および金属M5、さらに選択的に金属M6を組み合わせた合金の窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる傾斜密着層を、前記傾斜密着層を構成する反応混合物中の非金属元素の含有量が基材から離れるにつれて厚さ方向に傾斜的に増加するように積層させ、前記傾斜密着層上に金属M7および金属M8、さらに選択的に金属M9を組み合わせた合金の窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる耐磨耗層を積層させ、次いで、前記耐磨耗層上に金属M10および金属M11、さらに金属M12を組み合わせた合金の窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる色上げ傾斜層を、前記色上げ傾斜層を構成する反応化合物における非金属元素の含有量が基材から離れるにつれて厚さ方向に傾斜的に減少するように積層し、さらに前記色上げ傾斜層上に有色装飾層を積層する有色硬質装飾部材の製造方法であって、前記金属M1、M4、M7及びM10は、それぞれMo、Wの1種又は2種から選ばれ、前記金属M2、M5、M8及びM11は、それぞれNb、Taの1種又は2種から選ばれ,前記金属M3、M6、M9及びM12は、それぞれCr,Ti,Hf、Zrの1種または2種以上から選ばれる有色硬質装飾部材の製造方法。
(9)反応性スパッタリング法により、前記密着層、前記傾斜密着層、前記耐磨耗層、前記色上げ傾斜層及び前記有色装飾層の少なくとも1つを積層することを特徴とする上記(8)に記載の有色硬質装飾部材の製造方法。
(10)反応性スパッタリング法において、前記非金属元素を含む反応ガス量を時系列的に増加又は減少させることにより前記傾斜密着層及び前記色上げ傾斜層を積層することを特徴とする上記(9)に記載の有色硬質装飾部材の製造方法。
(11)さらに、前記有色装飾層の一部にマスクを塗布し、前記有色装飾層のマスクされていない部分を酸またはアルカリにより剥離させることにより前記有色装飾層をツートン構造とする上記(8)〜(10)のいずれか1項に記載の有色硬質装飾部材の製造方法。
図1は本発明の有色硬質装飾部材の構造の一例を示す断面模式図である。基材としてSUS316L基材11の表面に、MoNb合金の低級酸化物からなる密着層12が形成され、密着層12上にMoNb合金の低級酸化物に傾斜的に窒素含有量を増加させた傾斜密着層13が形成され、傾斜密着層13上にMoNb合金窒化物層の耐磨耗層14が形成され、耐磨耗層14上に傾斜的に窒素含有量を低下させたMoNb合金色上げ傾斜層15が形成され、MoNb合金色上げ傾斜層15上に有色装飾層16が形成されている。
上記基材11としては金属またはセラミックスから形成される基材である。金属(合金を含む)として、具体的には、ステンレス鋼、チタン、チタン合金、銅、銅合金、タングステンまたは硬質化処理したステンレス鋼、チタン、チタン合金などが挙げられる。これらの金属は、一種単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いることができる。また上記基材11の形状については限定されない。
上記密着層12としては、Mo、Wの1種又は2種から選ばれる金属(M1)とNb、Taの1種又は2種から選ばれる金属(M2)との合金、またはさらにCr,Ti,Hf、Zrの1種又は2種以上から選ばれる金属(M3)を加えた合金の低級酸化物膜であり、基材材質との相性および被膜の使用環境によって選択される。密着層12は、これらの合金の低級酸化物膜からなるが、微量の炭素、窒素を含んでいても構わない。また合金中には上記金属M1、M2、M3以外に、V、B、Al、Si、Mn、Co、La、Ce、Y、Scなどの金属を合金中の割合で合計5wt%以内含まれていてもよい。
上記傾斜密着層13としては、Mo、Wの1種又は2種から選ばれる金属M4とNb、Taの1種又は2種から選ばれる金属M5との合金、またはさらにCr,Ti,Hf、Zrの1種又は2種以上から選ばれる金属M6を加えた合金と炭素、窒素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物において、非金属元素を傾斜的に増加させた膜から構成される。好ましくは、炭素、窒素、酸素の1種類以上の非金属元素を傾斜的に増加させた膜、例えば、炭化物膜、窒化物膜、炭窒化物膜、酸窒化物膜、酸炭化物膜、酸窒化炭化物膜等からなる。どのような材料を選択するかは、密着層12および耐磨耗層14との相性および被膜の使用環境によって決定される。また合金中には、上記金属M4、M5、M6以外に、V、B、Al、Si、Mn、Co、La、Ce、Y、Scなどの金属を合金中の割合で合計5wt%以内含まれていてもよい。
上記耐磨耗層14としては、Mo、Wの1種又は2種から選ばれる金属M7とNb、Taの1種又は2種から選ばれる金属M8の合金、またはさらにCr,Ti,Hf、Zrの1種又は2種以上から選ばれる金属(M9)を加えた合金と炭素、窒素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物から形成される。どのような材料を選択するかは求める外観色および被膜の使用環境によって決定される。また合金中には、上記金属M7、M8、M9以外に、V、B、Al、Si、Mn、Co、La、Ce、Y、Scなどの金属を合金中の割合で合計5wt%以内含まれていてもよい。
上記色上げ傾斜層15としては、Mo、Wの1種又は2種から選ばれる金属M10とNb、Taの1種又は2種から選ばれる金属M11の合金、またはさらにCr,Ti,Hf、Zrの1種又は2種以上から選ばれる金属M12を加えた合金と炭素、窒素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物において、非金属元素を傾斜的に減少させて形成する。例えば、炭化物膜、窒化物膜、炭窒化物膜、酸窒化物膜、酸炭化物膜、酸窒化炭化物膜等からなる。どのような材料を選択するかは耐磨耗層14との相性や求める外観色および被膜の使用環境によって決定される。また合金中には、上記金属M10、M11、M12以外に、V,B、Al、Si、Mn、Co、La、Ce、Y、Scなどの金属を合金中の割合で合計5wt%以内含まれていてもよい。
有色装飾層16としては、より高い明度を有するPt,Pd,Rhといった白色貴金属膜、金色を呈するTiN、ZrN、HfNなどの金属窒化物膜、ピンク色からブラウン色を呈するTiCN,ZrCN、HfCN、TiON、ZrON、HfONなどの金属炭窒化物膜、金属酸窒化物膜、黒色を呈するDLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜、干渉効果により様々なカラーを作り出せる誘電体膜の単層または多層からなる誘電体層を全部又は一部(ツートン構造)形成することによって作成される。
Siの酸化物、窒化物、炭化物、窒炭化物、酸窒化物
Alの酸化物、窒化物、酸窒化物、フッ化物
Znの酸化物、硫化物
Ce、Laの酸化物、フッ化物
Ti,Zr,Hfの酸化物
Cr、Biの酸化物
V、Nb、Taの酸化物
Yの酸化物、フッ化物
Mg、Caの酸化物、フッ化物、Baのフッ化物
Liの酸化物、フッ化物
Kのフッ化物
Naのフッ化物 Na5Al3F14 Na3AlF6 NaF
ITO膜
等が挙げられる。どの材質をどのような厚さでどのような順序で積層するのかは、要求される特性に応じて設計することができる。
本発明の有色硬質装飾部材を構成する各積層は、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法などによって形成することができるが、好ましくは、反応性スパッタリング法により形成される。
耐傷性試験は、JISに定めるSUS316L基材に装飾膜を施し、アルミナ粒子が均一に分散した磨耗紙を試験サンプルに一定加重で接触させ、一定回数擦ることで傷を発生させる。傷がついた試験サンプルの表面を、キズの方向と垂直方向にスキャンして表面粗さを測定し、二乗平均荒さとして耐傷性の評価とした。傷の発生量が多いほど、傷の深さが深いほど二乗平均荒さの数値が大きくなり、逆に傷の発生量が少ないほど、傷の深さが浅いほど二乗平均粗さの数値が小さくなることから、耐傷性を数値的に評価することができる。
膜硬度測定は、微小押込み硬さ試験機(FISCHER製H100)を用いて行った。測定子にはビッカース圧子を使用し、5mN荷重で10秒間保持した後に除荷を行い、挿入されたビッカース圧子の深さから膜硬度を算出した。
装飾部材の色調(明度、彩度)はKNICA MINOLTA製のApectra Magic NXを用いて行なった。色調は光源D65を用いて、L*a*b*色度図による各膜のL*a*b*を測定し、明度L*を測定した。
実施例1のスパッタリングターゲットの組成は、Mo45wt%Nb55wt%の焼結体及び金属Ptターゲットを使用した。図2に示されるように、基材21としてJISに規定されるSUS316L材を用い、基材21上にスパッタリング法でMoNb合金の低級酸化物からなる密着層22を0.1μm形成した。次に、酸素ガスを微量導入しながらメタンガスを傾斜的に増加させたMoNb合金酸炭化物膜の傾斜密着層23を0.2μm形成した。その後、MoNb合金炭化物膜からなる薄膜耐磨耗層24を2.2μm形成した。さらに、メタンガスを傾斜的に減少させたMoNb合金炭化物膜の色上げ傾斜層25を0.1μm形成した。その後、メタンガスを止めアルゴンガスのみを流し、Pt膜を0.05μm形成して有色硬質装飾部材20を作成した。
実施例2のスパッタリングターゲットの組成は、Mo30wt%Ta70wt%の焼結体および金属Tiターゲットを使用した。図8に示されるように、基材31としてJISに規定されるSUS316L材を用い、基材31上にスパッタリング法でMoTa合金の低級酸化物からなる密着層32を0.1μm形成した。その後、酸素ガスを微量導入しながらメタンガスを傾斜的に増加させたMoTa合金酸炭化物膜の傾斜密着層33を0.2μm形成した。その後MoTa合金炭化物膜からなる薄膜耐磨耗層34を2.0μm形成した。その後メタンガスを傾斜的に減少させたMoTa合金炭化物膜の色上げ傾斜層35を0.1μm形成した。その後MoTa合金のスパッタリングを停止し、アルゴンガスと窒素ガスを導入しながらTiターゲットを放電させ、TiN膜36を0.2μm形成して有色硬質装飾部材30を作成した。この実施例2で得られる有色硬質装飾部材30の外観カラーは、Lab色空間表示により、L*:77.85、a*:3.92,b*:37.18であり金色を呈した。
実施例3のスパッタリングターゲットの組成は、Mo60wt%Nb30wt%Cr10wt%の焼結体および金属Ti、金属Siターゲットを使用した。図11に示すように、基材41としてJISに規定されるSUS316L材を用い、基材41上にスパッタリング法でMoNbCr合金の低級酸化物からなる密着層42を0.1μm形成した。その後、酸素ガスを微量導入しながらメタンガスを傾斜的に増加させたMoNbCr合金酸炭化物膜の傾斜密着層43を0.2μm形成した。その後MoNbCr合金炭化物膜からなる薄膜耐磨耗層44を2.2μm形成した。その後メタンガスを傾斜的に減少させたMoNbCr合金炭化物膜の色上げ傾斜層45を0.1μm形成した。その後MoNbCr合金のスパッタリングを停止し、アルゴンガスを導入しながらTiターゲットを放電させ、Ti膜46を0.05μm形成し、その後Tiターゲットのスパッタリングを停止し、アルゴンガスを導入しながら、Si膜47を0.1μm形成した。さらにその後スパッタリングを停止し、メタンガスを導入したプラズマCVD法によってDLC膜48を0.7μm形成し有色硬質装飾部材40を作成した。この実施例3で得られる有色硬質装飾部材40の外観カラーは、Lab色空間表示により、L*:48.75、a*:0.26,b*:1.8であり黒色を呈した。
実施例4のスパッタリングターゲットの組成は、Mo45wt%Nb55wt%の焼結体および金属Siターゲットを使用した。図14に示すように、基材51としてJISに規定されるSUS316L材を用い、基材51上にスパッタリング法でMoNb合金の低級酸化物からなる密着層52を0.1μm形成した。その後、酸素ガスを微量導入しながらメタンガスを傾斜的に増加させたMoNb合金酸炭化物膜の傾斜密着層53を0.2μm形成した。その後MoNb合金炭化物膜からなる薄膜耐磨耗層54を2.2μm形成した。その後メタンガスを傾斜的に減少させたMoNb合金炭化物膜の色上げ傾斜層55を0.1μm形成した。その後MoNb合金のスパッタリングを停止し、アルゴンガスを導入しながらSiターゲットを放電させ、膜厚をコントロールしてSi膜を0.072μm形成した。その後、Si膜上に膜厚をコントロールしたSi3N4膜、SiO2膜、Si3N4膜をこの順におのおの0.07μm、0.061μm、0.03μm積層した3層からなる誘電体多層膜56を積層形成して有色硬質装飾部材50を作成した。この実施例4で得られる有色硬質装飾部材50の外観カラーは、Lab色空間表示により、L*:64.18、a*:38.03,b*:5.19であり鮮やかな赤色を呈した。
実施例5のスパッタリングターゲットの組成は、Mo45wt%Nb55wt%の焼結体および金属Siターゲットを使用した。図18に示すように、基材61としてJISに規定されるSUS316L材を用い、基材61上にスパッタリング法でMoNb合金の低級酸化物からなる密着層62を0.1μm形成した。その後、酸素ガスを微量導入しながら窒素ガスを傾斜的に増加させたMoNb合金酸窒化物膜の傾斜密着層63を0.2μm形成した。その後MoNb合金窒化物膜からなる薄膜耐磨耗層64を2.2μm形成した。その後窒素ガスを傾斜的に減少させたMoNb合金窒化物膜の色上げ傾斜層65を0.1μm形成した。その後MoNb合金のスパッタリングを停止し、アルゴンガスを導入しながらSiターゲットを放電させ、膜厚をコントロールしてSi膜を0.03μm形成した。その後、Si膜上に膜厚をコントロールしたSi3N4膜、SiO2膜、Si3N4膜をこの順におのおの0.220μm、0.01μm、0.12μm積層した3層からなる誘電体多層膜66を積層形成して有色硬質装飾部材60を作成した。この実施例5で得られる有色硬質装飾部材60の外観カラーは、Lab色空間表示により、L*:63.11、a*:−12.61,b*:−44.5であり鮮やかな青色を呈した。
基材71としてJISに規定されるSUS316L材を用い、実施例5の図18に示される61〜66までと同様の被膜構成71〜76を形成した。次に誘電体積層膜76上の一部にマスキング(図示せず)を施した。その後、マスキングされていない部分を熱燐酸およびアルカリ溶剤により剥離した後、マスキングを除去することにより、図21に示されるツートン構造の有色硬質装飾部材70を作成した。図21に示されるように、有色硬質装飾部材70の外観は、色上げ傾斜層75と誘電体膜干渉層76とが混在する構造になり、白色と青色のツートンカラーとなって装飾性の高い硬質部材を得ることができる。
11 基材
12 密着層
13 傾斜密着層
14 耐磨耗層
15 色上げ傾斜層
16 有色装飾層
110 装飾部材
111 基材
112 密着層
113 耐磨耗層
114 Pt層
120 装飾部材
121 基材
122 Pt層
130 装飾部材
131 基材
132 Ti密着層
133 TiN硬化層
140 装飾部材
141 基材
142 Ti密着層
143 Si密着層
144 DLC層
150 装飾部材
151 基材
152 誘電体層
20 装飾部材
21 基材
22 密着層
23 傾斜密着層
24 耐磨耗層
25 色上げ傾斜層
26 有色装飾層
30 装飾部材
31 基材
32 密着層
33 傾斜密着層
34 耐磨耗層
35 色上げ傾斜層
36 TiN層
40 装飾部材
41 基材
42 密着層
43 傾斜密着層
44 耐磨耗層
45 色上げ傾斜層
46 Ti密着層
47 Si密着層
48 DLC層
50 装飾部材
51 基材
52 密着層
53 傾斜密着層
54 耐磨耗層
55 色上げ傾斜層
56 誘電体多層膜層
60 装飾部材
61 基材
62 密着層
63 傾斜密着層
64 耐磨耗層
65 色上げ傾斜層
66 誘電体層多層膜層
70 装飾部材
71 基材
72 密着層
73 傾斜密着層
74 耐磨耗層
75 色上げ傾斜層
76 誘電体多層膜層(ツートン構造)
Claims (11)
- 基材、前記基材上に積層される金属M1および金属M2、さらに選択的に金属M3を組み合わせた合金の低級酸化物層からなる密着層、前記密着層上に積層される金属M4および金属M5、さらに選択的に金属M6を組み合わせた合金と窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる傾斜密着層、前記傾斜密着層上に積層される金属M7および金属M8、さらに選択的に金属M9を組み合わせた合金と窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる耐磨耗層、前記耐磨耗層上に積層される金属M10および金属M11、さらに選択的に金属M12を組み合わせた合金と窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる色上げ傾斜層、及び前記色上げ傾斜層の上に積層される有色装飾層から構成される有色硬質装飾部材であって、前記金属M1、M4、M7及びM10は、それぞれMo、Wの1種又は2種から選ばれ、前記金属M2、M5、M8及びM11は、それぞれ、Nb、Taの1種又は2種から選ばれ、前記金属M3、M6、M9及びM12はCr、Ti、Hf、Zrの1種又は2種以上から選ばれ、前記傾斜密着層を構成する反応化合物における非金属元素の含有量が基材から離れるにつれて厚さ方向に傾斜的に増加し、前記色上げ傾斜層を構成する反応化合物における非金属元素の含有量が基材から離れるにつれて厚さ方向に傾斜的に減少することを特徴とする有色硬質装飾部材。
- 前記有色装飾層は、Pt、Pd又はRhの白色貴金属膜であり、前記色上げ傾斜層との境界に前記色上げ傾斜層中の金属と前記白色貴金属との金属間化合物が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有色硬質装飾部材。
- 前記有色装飾層は、Ti、Zr又はHfの窒化物、炭化物、炭窒化物、又は窒酸化物からなる有色硬質膜であることを特徴とする請求項1に記載の有色硬質装飾部材。
- 前記有色装飾層は、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)硬質膜であることを特徴とする請求項1に記載の有色硬質装飾部材。
- 前記有色装飾層は、誘電体膜が単層又は多層形成されてなる誘電体層であることを特徴とする請求項1に記載の有色硬質装飾部材。
- 前記色上げ傾斜層と前記有色装飾層と間にSi又はTiからななる密着層を単層又は多層で形成されていることを特徴とする請求項4又は5に記載の有色硬質装飾部材。
- 前記有色装飾層は、ツートン構造であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有色硬質装飾部材。
- 基材上に、金属M1および金属M2、さらに選択的に金属M3を組み合わせた合金の低級酸化物層からなる密着層を積層し、前記密着層上に金属M4および金属M5、さらに選択的に金属M6を組み合わせた合金の窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる傾斜密着層を、前記傾斜密着層を構成する反応混合物中の非金属元素の含有量が基材から離れるにつれて厚さ方向に傾斜的に増加するように積層させ、前記傾斜密着層上に金属M7および金属M8、さらに選択的に金属M9を組み合わせた合金の窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる耐磨耗層を積層させ、次いで、前記耐磨耗層上に金属M10および金属M11、さらに金属M12を組み合わせた合金の窒素、炭素、酸素の1種又は2種以上から選ばれる非金属元素との反応化合物からなる色上げ傾斜層を、前記色上げ傾斜層を構成する反応化合物における非金属元素の含有量が基材から離れるにつれて厚さ方向に傾斜的に減少するように積層し、さらに前記色上げ傾斜層上に有色装飾層を積層する有色硬質装飾部材の製造方法であって、前記金属M1、M4、M7及びM10は、それぞれMo、Wの1種又は2種から選ばれ、前記金属M2、M5、M8及びM11は、それぞれNb、Taの1種又は2種から選ばれ,前記金属M3、M6、M9及びM12は、それぞれCr,Ti,Hf、Zrの1種または2種以上から選ばれる有色硬質装飾部材の製造方法。
- 反応性スパッタリング法により、前記密着層、前記傾斜密着層、前記耐磨耗層、前記色上げ傾斜層及び前記有色装飾層の少なくとも1つを積層することを特徴とする請求項8に記載の有色硬質装飾部材の製造方法。
- 反応性スパッタリング法において、前記非金属元素を含む反応ガス量を時系列的に増加又は減少させることにより前記傾斜密着層及び前記色上げ傾斜層を積層することを特徴とする請求項9に記載の有色硬質装飾部材の製造方法。
- さらに、前記有色装飾層の一部にマスクを塗布し、前記有色装飾層のマスクされていない部分を酸またはアルカリにより剥離させることにより前記有色装飾層をツートン構造とする請求項8〜10のいずれか1項に記載の有色硬質装飾部材の製造方法。
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