JP5942736B2 - ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体 - Google Patents
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(1)(メタ)アクリロイル基を有する重合性モノマー(A)、その少なくとも一部が脂環エポキシ基を有し、且つラジカル重合に対して実質的に不活性である重合性モノマー(B)、及び光重合開始剤系(C)を含み、重合性モノマー(A)及び重合性モノマー(B)がともに、芳香環、フッ素以外のハロゲン原子、及び、環状スルフィド及びメルカプト基以外に由来する硫黄原子、からなる群から選ばれる部位を有するホログラム記録材料。
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド化合物;トリブチルベンジル錫等の有機錫化合物;
テトラブチルアンモニウム トリフェニルブチルボレート、テトラブチルアンモニウム トリス(tert−ブチルフェニル)ブチルボレート、テトラブチルアンモニウムトリナフチルブチルボレート等のアルキルアリールホウ酸塩;
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート等のジアリールヨードニウム塩類;
η5−シクロペンタジエニル−η6−クメニル−アイアン(1+)−ヘキサフルオロホスフェート(1−)等の鉄アレーン錯体;トリス(トリクロロメチル)トリアジン等のトリアジン化合物;3,3’−ジ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)−4,4’−ジ(メトキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラキス(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−tert−ブチルパーオキシイソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、tert−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物;2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,1’−ビスイミダゾール等のビスイミダゾール誘導体;
等が挙げられる。
前記重合性モノマー(A) 10〜40重量部、
前記重合性モノマー(B) 10〜40重量部、
前記光重合開始剤系(C) 0.1〜10重量部、
前記可塑剤(D) 5〜50重量部、
前記高分子結合剤(E) 5〜50重量部、
とすることが好ましく、
前記重合性モノマー(A) 10〜30重量部、
前記重合性モノマー(B) 10〜30重量部、
前記光重合開始剤系(C) 0.5〜5重量部、
前記可塑剤(D) 10〜40重量部、
前記高分子結合剤(E) 10〜40重量部、
とすることがより好ましい。
ただし、高分子結合剤(E)を用いない場合には、
前記重合性モノマー(A) 10〜40重量部、
前記重合性モノマー(B) 10〜40重量部、
前記光重合開始剤系(C) 0.1〜10重量部、
前記可塑剤(D) 20〜80重量部
とすることが好ましく、
前記重合性モノマー(A) 10〜30重量部、
前記重合性モノマー(B) 10〜30重量部、
前記光重合開始剤系(C) 0.5〜5重量部、
前記可塑剤(D) 35〜60重量部、
とすることがより好ましい。
また、上記の各成分以外に、界面活性剤、重合禁止剤、連鎖移動剤、ラジカル重合反応及び/又はカチオン重合反応を促進するための助触媒、紫外線吸収剤などの各種添加剤を添加してもよい。
(CyEp−1の合成)
重合性モノマー(B1)として、下記式(1)で表される化合物(CyEp−1)を以下の手順で合成した。
p−トルエンスルホン酸一水和物63mgを40mLのトルエンに加え、ディーンスターク装置で30分間還流した。次に、3−シクロヘキセン−1−カルボン酸5.0g(40mmol)と9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン7.2g(17mmol)を加えて8時間加熱し、脱水エステル化した。次いで、50mLの5%冷NaOH水溶液で有機層を2回抽出した。分離後の水層に氷を加え、30mLの酢酸エチルで2回抽出した。この酢酸エチル層に先の有機層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥したのち、溶媒を留去し、粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムによって精製し、下記式(2)のシクロヘキセン環含有フルオレンを得た(収量:10.6g、収率98%)。
上記で合成したシクロヘキセン環含有フルオレン5.0g(7.6mmol)を、50mLの塩化メチレンに溶解し、氷冷した。次に、50mLの塩化メチレンに溶解した3.5g(15.2mmol)のm−クロロ過安息香酸(純度75%)を滴下した。氷冷したまま1時間撹拌し、さらに室温で4時間撹拌した。次いで50mLの5%冷NaOH水溶液で洗浄し、続いて過剰のm−クロロ過安息香酸を分解するため、50mLの5%亜硫酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。洗浄後の塩化メチレン溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去してオイル状の粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムによって精製し、式(1)の化合物CyEp−1を得た(収量:4.3g、収率:82%)。化合物CyEp−1の構造は、元素分析及び1H−NMRにより同定した。
(CyEp−2の合成)
重合性モノマー(B1)として、下記式(3)で表される化合物(CyEp−2)を、合成例1と同様の手順で合成した。
(ホログラム記録媒体サンプルの作製)
以下の手順に従って、表1に示す配合組成の記録材料組成物溶液を調製した。
重合性モノマー(A)として9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(新中村化学工業(株)製NKエステルA−BPEF、n20/D=1.62)2.0g、及び重合性モノマー(B1)として、合成例1で得られたモノマーCyEp−1を2.0g、可塑剤(D)としてセバシン酸ジエチル(東京化成工業(株)製、n20/D=1.44)0.5g、カチオン反応性可塑剤(Dc)としてネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(シグマ・アルドリッチ社製、n20/D=1.46)1.0g、及び高分子結合剤(E)として酢酸ビニルポリマー(シグマ・アルドリッチ社製、重量平均分子量Mw=100,000、n20/D=1.47)2.0gを混合し、次いで光ラジカル発生剤(C−1r)として3,3’−ジ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)−4,4’−ジ(メトキシカルボニル)ベンゾフェノンほか位置異性体混合物(チッソ(株)製BT−2、40%アニソール溶液)0.25g、光カチオン発生剤(C−1c)として、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート(三新化学工業(株)製サンエイドSI−100L)0.1g、及び20mgの増感色素(C−2)(Dye−1: 3−ブチル−2−[3−(3−ブチル−5−フェニル−1,3−ベンゾオキサゾール−2(3H)−イリデン)プロパ−1−エン−1−イル]−5−フェニル−1,3−ベンゾオキサゾール−1−イウム=ヘキサフルオロ−λ5−ホスファヌイド)を溶解させた10.37gのアセトン溶液(アセトンとして10.0g)を添加し、撹拌して溶解させた。なお、前記増感色素は、光ラジカル発生剤(C−1r)を分光増感する作用を有する。このようにして記録材料組成物を得た。
実施例1のホログラム記録媒体サンプルについて、図1に示すようなホログラム記録光学系を用いて、特性評価を行った。図1の紙面の方向を便宜的に水平方向とする。
回折効率η(%)=[(T0−Tp)/T0]×100
各構成成分を、表1〜2に示すような化合物及び配合組成とした以外は、実施例1と同様にしてホログラム記録媒体サンプルをそれぞれ作製し、その特性評価を行った。ただし、実施例5の記録媒体サンプルについてのみ、実施例1と同様の手順に従って反射型ホログラムの記録及び光ポストキュアを行った後、さらに80℃で1時間の熱ポストキュアを行った。結果を表3に示す。さらに、実施例1と同様の手順によって、80℃で100時間加熱した後の回折特性と、硬化膜のガラス転移温度(Tg)を測定した。結果をあわせて表3に示す。また、光重合開始剤系(C)及び希釈溶媒を除く各成分の屈折率(n20/D)を併せて表1〜2に付記した。ただし、CyEp−2については、室温で固体であることからその屈折率を示していない。また、E−4cの屈折率は、そのエタノール溶液の屈折率から、外挿によって求めた値である。
重合性モノマー(A)
・A−BPEF: 9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン (新中村化学工業(株)製)
・2−フェノキシエチルアクリレート (シグマ・アルドリッチ社製)
・CyEP−1: 合成例1で合成された重合性モノマー
・CyEP−2: 合成例2で合成された重合性モノマー
・E−4c: 2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルジフェニルホスフィンオキシド (片山化学工業(株)製、下記式(4)の化合物)
・EG−250: 1,2−エポキシ基を有し、且つ9,9−ジアリールフルオレン骨格を有するフルオレンモノマー (大阪ガスケミカル(株)製、エポキシ当量:393g/eq)
・ベンジルグリシジルエーテル (シグマ・アルドリッチ社製)
・セバシン酸ジエチル (東京化成工業(株)製)
・ジ(エチレングリコール)ジベンゾエート (シグマ・アルドリッチ社製)
カチオン反応性可塑剤(Dc)
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル (シグマ・アルドリッチ社製)
・OXT−212: 2−エチルヘキシルオキセタン (東亞合成(株)製)
・2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール エトキシレート (シグマ・アルドリッチ社製、Mw=395、淡黄色粘稠液体、下記式(5)の化合物)
・酢酸ビニルポリマー (シグマ・アルドリッチ社製、Mw=100,000)
・ポリ(メタクリル酸メチル) (シグマ・アルドリッチ社製、Mw=23,800)
・BT−2: 3,3’−ジ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)−4,4’−ジ(メトキシカルボニル)ベンゾフェノンほか位置異性体混合物 (チッソ(株)製、40%アニソール溶液)
カチオン発生剤(C−1c)
・SI−100L: トリアリールスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート (三新化学工業(株)製)
・DAI−B: 4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート (東京化成工業(株)製)
増感色素(C−2)
・Dye−1: 3−ブチル−2−[3−(3−ブチル−5−フェニル−1,3−ベンゾオキサゾール−2(3H)−イリデン)プロパ−1−エン−1−イル]−5−フェニル−1,3−ベンゾオキサゾール−1−イウム=ヘキサフルオロ−λ5−ホスファヌイド (下記式(6)の化合物)
・CP−77: 1−(3−メチル−2−ブテニル)テトラヒドロチオフェニウム ヘキサフルオロアンチモネート ((株)ADEKA製、66%プロピレンカーボネート溶液、下記式(8)の化合物)
(11):光源
(12):シャッター
(13)、(15):凸レンズ
(14):ピンホール
(16)、(19)、(20):ミラー
(17):1/2波長板
(18):ビームスプリッタ
(21)、(22):アパーチャ
Claims (9)
- (メタ)アクリロイル基を有する重合性モノマー(A)、その少なくとも一部が脂環エポキシ基を有し、且つラジカル重合に対して実質的に不活性である重合性モノマー(B)、及び光重合開始剤系(C)を含み、重合性モノマー(A)及び重合性モノマー(B)がともに、芳香環、フッ素以外のハロゲン原子、及び、環状スルフィド及びメルカプト基以外に由来する硫黄原子、からなる群から選ばれる部位を有し、前記重合性モノマー(A)の少なくとも一部と、前記重合性モノマー(B)の少なくとも一部とが、ともに9,9−ジアリールフルオレン骨格を有するものであるホログラム記録材料。
- 前記重合性モノマー(A)と前記重合性モノマー(B)の総和に対する、前記重合性モノマー(A)の質量比が、10質量%以上90質量%以下である、請求項1に記載のホログラム記録材料。
- 前記重合性モノマー(A)及び前記重合性モノマー(B)のいずれの平均屈折率よりも0.03以上低い屈折率を有し、且つ室温で液状である可塑剤(D)をさらに含む、請求項1または2に記載のホログラム記録材料。
- 前記可塑剤(D)の少なくとも一部が、カチオン反応性可塑剤(Dc)である、請求項3に記載のホログラム記録材料。
- 前記重合性モノマー(A)及び前記重合性モノマー(B)のいずれの平均屈折率よりも0.03以上低い屈折率を有する高分子結合剤(E)をさらに含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載のホログラム記録材料。
- 前記光重合開始剤系(C)が、可視光の照射により前記重合性モノマー(A)を重合させる光ラジカル開始剤である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のホログラム記録材料。
- 前記光重合開始剤系(C)がさらに、光照射によりブレンステッド酸又はルイス酸を発生するものである、請求項1〜6のいずれか1項に記載のホログラム記録材料。
- 加熱によりブレンステッド酸またはルイス酸を発生する熱カチオン開始剤(F)をさらに含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載のホログラム記録材料。
- 基材と、前記基材上に形成された請求項1〜8のいずれか1項に記載のホログラム記録材料からなるホログラム記録層とを有するホログラム記録媒体。
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