JP5564773B2 - 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子及び光学異方体 - Google Patents

Description

本発明は、重合性液晶化合物、この重合性液晶化合物及び重合性キラル化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、並びに、この液晶性高分子を構成材料とする光学異方体に関する。

近年、液晶化合物を用いて薄膜の光学異方体を製造する技術が注目されている。
設計した通りの光学性能を有する液晶層を得るためには、配向欠陥のない良好な液晶層を形成する必要がある。そこで、その液晶層の形成においては、配向欠陥のない液晶層を形成するために、液晶塗布の前工程から、プロセス上多くの項目において非常に緻密な制御が必要となる。

より具体的には、前工程においては、液晶を塗布する前に形成する配向膜が塗布される液晶化合物にフィットするように制御されていなければ、激しい配向欠陥に見舞われることが知られている。
また、液晶塗布工程では、配向温度は極めて重要な因子であり、精密な温度制御が要求されるだけでなく、加熱炉の空気層の乱れやそれに起因する温度ムラ、搬送速度等多岐に渡り緻密に制御することが必要である。

このように、従来においては、配向欠陥のない液晶層を形成する方策の多くは、プロセス面から問題を解決する試みが主流であった。
しかしながら、このような試みは、製造設備の面で多くの制約が発生し、設備投資金額面で不利に働く場合が多かった。
そこで、塗布する液晶組成物に少量添加するだけで配向欠陥が出現しにくくなるような、新しい配向良化添加剤の開発が要望されている。

本発明に関連するものとして、特許文献１には、２価のキラル基と、該キラル基の２つの結合手にそれぞれ結合する１価の基Ｄと１価の基Ｅとからなり、該１価の基Ｄと該１価の基Ｅは同じ構造の環を同数有し、且つ、以下の（Ｉ）又は（ＩＩ）を満たす、キラル剤が提案されている。
（Ｉ）該１価の基Ｄ及び該１価の基Ｅの、一方は炭素鎖を有し、もう一方は炭素鎖を有しない。
（ＩＩ）該１価の基Ｄ及び該１価の基Ｅの両方が炭素鎖を有し、且つ、該１価の基Ｄの炭素鎖の炭素数と該１価の基Ｅの炭素鎖の炭素数とが異なる。
特開２００７−１７６８７０号公報

液晶化合物を用いてコレステリック層を形成する際、オイリーストリーク（ｏｉｌｙ ｓｔｒｅａｋ）と呼ばれる線状の配向欠陥が現れることがある。
この配向欠陥は、コレステリック液晶層の濁りとなって観察され、本来の液晶層の有する光学性能を大きく低下させることが知られている。

そこで、本発明は、ごく少量添加するだけで、配向欠陥を大幅に減少、あるいは完全に消失させることが可能となる重合性液晶化合物、この重合性液晶化合物及び重合性キラル化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、並びに光学異方体を提供することを課題とする。

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、後述する式（Ｉ）で表される特定の重合性液晶化合物は、ごく少量添加するだけで、形成される液晶層の配向欠陥を大幅に減少、あるいは完全に消失させることが可能となることを見出し、本発明を完成させるに至った。

かくして本発明の第１によれば、下記（１）〜（６）の重合性液晶化合物が提供される。
（１）下記式（Ｉ）

〔式中、Ｙ_１〜Ｙ_１０はそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−ＮＲ^１−、又は、−ＮＲ^１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ_１〜Ｇ_４はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の２価の脂肪族基を表す。該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２−、−ＮＲ^２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及びＳ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ_１及びＺ_２はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａ_１〜Ａ_４はそれぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の有機基Ａを表す。
Ｘ_１〜Ｘ_８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ^３、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^３、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^３、−ＮＲ^４−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^３）Ｒ^４、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^３）Ｒ^４を表す。ここで、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ^３及び／又はＲ^４がアルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^５−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^５−、−ＮＲ^５−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及びＳ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ^５は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ａ及びｂはそれぞれ独立して、０又は１であり、ｃは１〜３の整数である。〕
で示される重合性液晶化合物。

（２）前記式（Ｉ）中、Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいビフェニレン基、又は置換基を有していてもよいナフチレン基である（１）に記載の重合性液晶化合物。
（３）前記式（Ｉ）中、Ｚ_１及びＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２ＣＨ_２−、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−、又はＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２−である（１）又は（２）に記載の重合性液晶化合物。

（４）前記式（Ｉ）中、Ｙ_１〜Ｙ_１０が、それぞれ独立して、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−であり、
Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、又は、−（ＣＨ_２）_４−であり、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよく、
Ｚ_１及びＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、又はＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、
Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、

で表される基である（１）に記載の重合性液晶化合物。
（５）前記式（Ｉ）中、Ｙ_１〜Ｙ_１０が、それぞれ独立して、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−であり、
Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、又は、−（ＣＨ_２）_４−であり、
Ｚ_１及びＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−であり、
Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、

で表される基である（１）に記載の重合性液晶化合物。
（６）Ｙ_１〜Ｙ_１０が、それぞれ独立して、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−であり、
Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、又は、−（ＣＨ_２）_４−であり、
Ｚ_１及びＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−であり、
Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、

で表される基である（１）に記載の重合性液晶化合物。
本発明の第２によれば、下記（７）の重合性液晶組成物が提供される。
（７）前記（１）〜（６）のいずれかに記載の重合性液晶化合物、及び重合性キラル化合物を含有する重合性液晶組成物。
本発明の第３によれば、下記（８）の液晶性高分子が提供される。
（８）前記（１）〜（６）のいずれかに記載の重合性液晶化合物、又は（７）に記載の重合性液晶組成物を重合して得られる液晶性高分子。
本発明の第４によれば、下記（９）の光学異方体が提供される。
（９）前記（８）に記載の液晶性高分子を構成材料とする光学異方体。
。

本発明によれば、ごく少量添加するだけで、配向欠陥を大幅に減少、あるいは完全に消失させることが可能となる重合性液晶化合物、この重合性液晶化合物及び重合性キラル化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、並びに光学異方体が提供される。

以下、本発明を、１）重合性液晶化合物、２）重合性液晶組成物、３）液晶性高分子、及び、４）光学異方体に項分けして詳細に説明する。

１）重合性液晶化合物
本発明の重合性液晶化合物は、前記式（Ｉ）で示される化合物である。
式（Ｉ）中、Ｙ_１〜Ｙ_１０はそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−ＮＲ^１−、又は、−ＮＲ^１−Ｏ−を表す。

Ｒ^１は、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。なかでも、Ｒ^１としては、水素原子又はメチル基が好ましい。

Ｇ_１〜Ｇ_４はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の脂肪族基、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族基を表す。

Ｇ_１〜Ｇ_４の、炭素数１〜２０の２価の脂肪族基としては、鎖状の脂肪族基、脂環式構造を有する脂肪族基等が挙げられる。これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基等の、鎖状の脂肪族基が好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等の、炭素数１〜１２のアルキレン基がより好ましく、テトラメチレン基〔−（ＣＨ_２）_４−〕、及びヘキサメチレン基〔−（ＣＨ_２）_６−〕が特に好ましい。

Ｇ_１〜Ｇ_４の、脂肪族基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられる。これらの中でも、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。

また、前記脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２−、−ＮＲ^２−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。これらの中でも、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、及び−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が好ましい。
ここで、Ｒ^２は、前記Ｒ^１と同様の、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^２としては、水素原子又はメチル基が好ましい。

これらの基が介在する脂肪族基の具体例としては、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＮＲ^２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＮＲ^２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−等が挙げられる。

Ｚ_１及びＺ_２はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ｚ_１及びＺ_２の炭素数２〜１０のアルケニル基としては、炭素数２〜６のアルケニル基が好ましい。また、置換基のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。

Ｚ_１及びＺ_２のハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基の具体例としては、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ_２−、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２−等が挙げられる。

これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２ＣＨ_２−、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−、又は、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２−が好ましい。

Ａ_１〜Ａ_４はそれぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の有機基Ａを表す。Ａ_１〜Ａ_４の２価の有機基Ａとしては、２価の、脂肪族基及び芳香族基が挙げられる。

前記２価の脂肪族基には、鎖状又は環状の飽和もしくは不飽和の２価の脂肪族炭化水素基や脂環式炭化水素基が包含され、その炭素数は１〜３０、好ましくは２〜２２である。また、不飽和脂肪族基には、２重結合や３重結合を有するものが包含される。

前記２価の芳香族基としては、１つのベンゼン環を有する単環芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン等）から誘導される２価の炭化水素基や、２つ以上、通常、２〜４個のベンゼン環を有する多環芳香族炭化水素（ナフタレン、ビフェニル、ターフェニル等）から誘導される２価の炭化水素基が挙げられる。

これらの中でも、Ａ_１〜Ａ_４としては、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいビフェニレン基、又は置換基を有していてもよいナフチレン基であることが好ましく、下記（Ａ−ｉ）、（Ａ−ｉｉ）、又は（Ａ−ｉｉｉ）で表されるいずれかの基であることがより好ましく、（Ａ−ｉ）で表される基であることが特に好ましい。

上記式中、＊は結合手を表し、Ｘ_９〜Ｘ_２６はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ^６、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^６、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^６、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^６、−ＮＲ^７−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^６、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^６）Ｒ^７、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^６）Ｒ^７を表す。

ここで、Ｒ^６、Ｒ^７はそれぞれ独立して、水素原子；又は、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。
Ｘ_９〜Ｘ_２６、Ｒ^６、Ｒ^７の、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基の炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、及びイソプロピル基である。

前記置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられる。

また、Ｒ^６及び／又はＲ^７がアルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^８−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^８−、−ＮＲ^８−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。
ただし、−Ｏ−及びＳ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。
ここで、Ｒ^８は、水素原子、又は、前記Ｒ^１と同様の、炭素数１〜６のアルキル基を表す。

前記Ｒ^６、Ｒ^７の、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^８−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^８−、−ＮＲ^８−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在するアルキル基の具体例としては、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＮＲ^８−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^８−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＮＲ^８−ＣＨ_２−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_３等が挙げられる。

Ｘ_１〜Ｘ_８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ^３、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^３、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^３、−ＮＲ^４−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^３）Ｒ^４、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^３）Ｒ^４を表す。

ここで、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して、前記Ｒ^６、Ｒ^７と同様の、水素原子；又は、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。

また、Ｒ^３及び／又はＲ^４がアルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^５−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^５−、−ＮＲ^５−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。
ただし、−Ｏ−及びＳ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。
ここで、Ｒ^５は、水素原子、又は、前記Ｒ^１と同様の炭素数１〜６のアルキル基を表す。

前記Ｒ^３、Ｒ^４の、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^５−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^５−、−ＮＲ^５−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在するアルキル基の具体例としては、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＮＲ^５−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^５−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＮＲ^５−ＣＨ_２−ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_３等が挙げられる。

ａ及びｂはそれぞれ独立して、０又は１であり、ｃは１〜３の整数である。

本発明の重合性液晶化合物としては、下記（α）であることが好ましく、（β）であることがより好ましく、（γ）であることが更に好ましい。
（α）前記式（Ｉ）中、Ｙ_１〜Ｙ_１０が、それぞれ独立して、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−であり、
Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、−（ＣＨ_２）_４−を表し、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよく、
Ｚ_１及びＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、
Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、

で表される基である重合性液晶化合物。
（β）Ｙ_１〜Ｙ_１０が、それぞれ独立して、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−であり、
Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、又は、−（ＣＨ_２）_４−であり、
Ｚ_１及びＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−であり、
Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して

で表される基である重合性液晶化合物。
（γ）Ｙ_１〜Ｙ_１０が、それぞれ独立して、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−であり、
Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、又は、−（ＣＨ_２）_４−であり、
Ｚ_１及びＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−であり、
Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、

で表される基である重合性液晶化合物。

前記式（Ｉ）で表される本発明の重合性液晶化合物の好ましい具体例としては、以下のものが挙げられる。もちろん、本発明の重合性液晶化合物は下記の化合物に限定されるものではない。

（式中、Ｘ_１は前記と同じ意味を表す。）
本発明の重合性液晶化合物はいずれも、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−等の種々の化学結合を形成する公知の方法（例えば、サンドラー・カロ官能基別有機化合物合成法[Ｉ]、[ＩＩ] 廣川書店、１９７６年発行参照）を組み合わせて製造することができる。

本発明の重合性液晶化合物は、典型的には、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）、アミド結合（−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−）、及び酸クロライド（−ＣＯＣｌ）の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適宜結合・修飾することにより製造することができる。

エーテル結合の形成は、例えば、以下のようにして行うことができる。
（ｉ）式：Ｑ１−Ｘ（Ｘはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。）で表される化合物と、式：Ｑ２−ＯＭ（Ｍはアルカリ金属（主にナトリウム）を表す。以下にて同じ。）で表される化合物とを混合して縮合させる。なお、式中、Ｑ１及びＱ２は任意の有機基を表す（以下にて同じ。）。この反応は一般的にウイリアムソン合成と呼ばれる。
（ｉｉ）式：Ｑ１−Ｘで表される化合物と、式：Ｑ２−ＯＨで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
（ｉｉｉ）式：Ｑ１−Ｅ（Ｅはエポキシ基を表す。）で表される化合物と、式：Ｑ２−ＯＨで表される化合物とを、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
（ｉｖ）式：Ｑ１−ＯＦＮ（ＯＦＮは不飽和結合を有する基を表す。）で表される化合物と、式：Ｑ２−ＯＭで表される化合物とを、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して付加反応させる。
（ｖ）式：Ｑ１−Ｘで表される化合物と、式：Ｑ２−ＯＭで表される化合物とを、銅あるいは塩化第一銅存在下、混合して縮合させる。この反応は一般的にウルマン縮合と呼ばれる。

エステル結合及びアミド結合の形成は、例えば、以下のようにして行うことができる。
（ｉ）式：Ｑ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｑ２−ＯＨ又はＱ２−ＮＨ_２で表される化合物とを、脱水縮合剤（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド等）の存在下に脱水縮合させる。
（ｉｉ）式：Ｑ１−ＣＯＯＨで表される化合物にハロゲン化剤を作用させることにより、式：Ｑ１−ＣＯＸで表される化合物を得、このものと式：Ｑ２−ＯＨ又はＱ２−ＮＨ_２で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる。
（ｉｉｉ）式：Ｑ１−ＣＯＯＨで表される化合物に酸無水物を作用させることにより、混合酸無水物を得た後、このものに、式：Ｑ２−ＯＨ又はＱ２−ＮＨ_２で表される化合物を反応させる。
（ｉｖ）式：Ｑ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｑ２−ＯＨ又はＱ２−ＮＨ_２で表される化合物とを、酸触媒あるいは塩基触媒の存在下に脱水縮合させる。

酸クロライドの形成は、例えば、以下のようにして行うことができる。
（ｉ）式:Ｑ１-ＣＯＯＨで表される化合物に三塩化リンあるいは五塩化リンを作用させる。
（ｉｉ）式:Ｑ１-ＣＯＯＨで表される化合物に塩化チオニルを作用させる。
（ｉｉｉ）式:Ｑ１-ＣＯＯＨで表される化合物に塩化オキサリルを作用させる。
（ｉｖ）式:Ｑ１-ＣＯＯＡｇ（Ａｇ：銀元素）で表される化合物に塩素を作用させる。
（ｖ）式:Ｑ１-ＣＯＯＨで表される化合物に赤色酸化第二水銀の四塩化炭素溶液を作用させる。

本発明の重合性液晶化合物の合成では、中間体に存在する水酸基を保護することで収率を向上させることができる。水酸基を保護する方法としては、公知の方法（例えば、Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ 第３版 出版：Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ、１９９９年発行参照）を利用して製造することができる。

水酸基の保護は、例えば、以下のようにして行うことができる。
（ｉ）式：Ｑ１Ｑ２Ｑ３−Ｓｉ-Ｘ（Ｘはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。）で表される化合物と、式：Ｑ４−ＯＨで表される化合物とを、イミダゾール、ピリジン等の塩基存在下に反応させる。なお、式中、Ｑ３、Ｑ４は任意の有機基を表す（以下にて同じ。）。
（ｉｉ）３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン等のビニルエーテルと式：Ｑ２−ＯＨで表される化合物とを、パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸ピリジン塩、塩化水素等の酸存在下に反応させる。

（ｉｉｉ）式：Ｑ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘで表される化合物と式：Ｑ２−ＯＨで表される化合物とを、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基存在下に反応させる。
（ｉｖ）式：Ｑ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ２で表される酸無水物と、式：Ｑ３−ＯＨで表される化合物とを、必要に応じ、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン等の塩基存在下に反応させる。
（ｖ）式：Ｑ１−Ｘで表される化合物と式：Ｑ２−ＯＨで表される化合物とを、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン等の塩基存在下に反応させる。

（ｖｉ）式：Ｑ１−Ｏ−ＣＨ_２−Ｘで表される化合物と式：Ｑ２−ＯＨで表される化合物とを、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基存在下に反応させる。
（ｖｉｉ）式：Ｑ１−Ｏ−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘで表される化合物と、式：Ｑ２−ＯＨで表される化合物とを、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等の塩基存在下に反応させる。
（ｖｉｉｉ）式：Ｑ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘで表される化合物と式：Ｑ２−ＯＨで表される化合物とを、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基存在下に反応させる。

水酸基の保護基を脱保護する方法としては、特に制限されず、例えば、以下に示す公知の方法が挙げられる。
（ｉ）テトラブチルアンモニウムフルオライド等のフッ素イオンを混合して脱保護させる。
（ｉｉ）パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸ピリジン塩、塩化水素、酢酸等の酸存在下、混合して脱保護させる。
（ｉｉｉ）水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基存在下、混合して脱保護させる。
（ｉｖ）Ｐｄ−Ｃ等の触媒存在下、水素添加することにより脱保護させる。
これらの方法は、保護基の構造、種類に応じて適宜選択採用することができる。

いずれの反応においても、反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、蒸留法等の公知の分離・精製手段を施すことにより、目的物を単離することができる。
目的物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。

本発明の重合性液晶化合物によれば、少量添加するだけで、液晶層の光学性能を低下させる配向欠陥を大幅に減少、あるいは消失させることができ、設計通りの液晶層の光学性能を引き出すことが可能となる。また、液晶を配向させる製造プロセスにおいて、その温度、時間許容度が大幅に広くなり、一般的な製造設備での製造が可能となり、設備投資金額が抑制でき、さらには、製品の歩留まり向上にも寄与できる。

２）重合性液晶組成物
本発明の第２は、本発明の重合性液晶化合物、及び重合性キラル化合物を含有する重合性液晶組成物である。

本発明の組成物は、上述した本発明の重合性液晶化合物の一種、又は二種以上を必須成分とする。本発明の組成物は、本発明の重合性液晶化合物に加えて、特開平１１−１３０７２９号公報、特開平８−１０４８７０号公報、特開２００５−３０９２５５号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特表２００２−５３３７４２号公報、特開２００２−３０８８３２号公報、特開２００２−２６５４２１号公報、特開昭６２−０７０４０６号公報、特開平１１−１００５７５号公報等、又は特願２００８−９２０９３号、特願２００８−９２１６２号、特願２００８−１７０８３５号等に記載されるその他の重合性液晶化合物（以下、「その他の重合性液晶化合物」ということがある。）を任意に用いてもよい。

前記その他の重合性液晶化合物の含有量は、特に限定されないが、本発明に用いる重合性液晶化合物全量中、５０重量％以下が好ましく、３０重量％以下がより好ましい。

本発明の組成物に用いる重合性キラル化合物は、分子内にキラルな炭素原子を有し、本発明の重合性液晶化合物と（共）重合可能な化合物であって、かつ本発明の重合性液晶化合物の配向を乱さないものであれば、特に制限されない。
ここで、「（共）重合」とは、通常の（共）重合反応のほか、（共）架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。

本発明の組成物においては、重合性キラル化合物を一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の重合性液晶組成物を構成する本発明の重合性液晶化合物は、重合性キラル化合物と混合することでコレステリック相を発現し得る。

重合性キラル化合物としては、例えば、特開平１１−１９３２８７号公報に記載されているような公知のものを使用することができる。かかるキラル化合物としては、例えば、以下の３つの一般式で示される化合物が挙げられるが、これらに限定されない。

上記式中、Ｒ^９及びＲ^１０としては、例えば、水素原子、メチル基、メトキシ基等が挙げられる。Ｙ^１１及びＹ^１２としては、例えば、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−等が挙げられる。また、ｍ^１、ｍ^２はそれぞれ独立して、２、４又は６である。
これらの一般式で表される化合物の具体例としては、下記に示される化合物が挙げられる。

本発明の重合性液晶組成物において、重合性キラル化合物の配合割合は、重合性液晶化合物１００重量部に対し、通常、０．１〜１００重量部、好ましくは０．５〜１０重量部である。

用いる重合開始剤としては、用いる重合性液晶化合物に存在する重合性基の種類に応じて適宜なものを選択して使用すればよい。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用すればよい。

ラジカル重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤と光ラジカル発生剤のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。

光ラジカル発生剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインプロピルエーテル等のベンゾイン；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェノン；２−メチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン及び２−アミルアントラキノン等のアントラキノン；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン及び２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン；アセトフェノンジメチルケタール及びベンジルジメチルケタール等のケタール；ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーズケトン及び４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤の具体例としては、例えば、チバスペシャリティーケミカルズ社製の、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、及び商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１等が挙げられる。

アニオン重合開始剤としては、例えば、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。

また、カチオン重合開始剤としては、例えば、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ等のルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。
これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明の重合性液晶組成物において、重合開始剤の配合割合は、重合性液晶化合物１００重量部に対し、通常０．１〜３０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部である。

また、前記重合性液晶化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等との（共）重合を行うに際しては、必要に応じて、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤等の機能性化合物を存在させてもよい。

本発明の重合性液晶組成物には、表面張力を調整するために、界面活性剤を配合するのが好ましい。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いればよく、例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤、例えば、セイミケミカル（株）製ＫＨ−４０等が挙げられる。本発明の重合性液晶組成物において、界面活性剤の配合割合は、重合性液晶化合物１００重量部に対し、通常、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．１〜２重量部である。

本発明の重合性液晶組成物を偏光フィルムや配向膜の原料、又は印刷インキ及び塗料、保護膜等の用途に利用する場合には、その目的に応じて、上記成分の他、後述の他の共重合可能な単量体、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等のその他の添加剤を配合してもよい。本発明の重合性液晶組成物において、その他の添加剤の配合割合は、重合性液晶化合物１００重量部に対し、好ましくは、各々０．１〜２０重量部である。

本発明の重合性液晶組成物は、通常、本発明の重合性液晶化合物、重合性キラル化合物、光重合開始剤、ノニオン系界面活性剤、及び所望によりその他の添加剤の所定量を適当な有機溶媒に溶解させることにより調製することができる。

用いる有機溶媒としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類；等が挙げられる。

以上のようにして得られる重合性液晶組成物は、後述するようにコレステリック液晶層やコレステリック液晶性高分子の製造原料として有用である。

３）液晶性高分子
本発明の第３は、本発明の重合性液晶化合物、又は本発明の重合性液晶組成物を重合して得られる液晶性高分子である。
ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。

本発明の液晶性高分子は、具体的には、（１）本発明の重合性液晶化合物を重合して得られる液晶性高分子、又は、（２）本発明の重合性液晶組成物を重合して得られる液晶性高分子である。

（１）本発明の重合性液晶化合物を重合して得られる液晶性高分子
本発明の重合性液晶化合物を重合して得られる液晶性高分子としては、本発明の重合性液晶化合物の単独重合体、本発明の重合性液晶化合物の２種以上からなる共重合体、本発明の重合性液晶化合物とその他の重合性液晶化合物との共重合体、又は、本発明の重合性液晶化合物と、他の共重合可能な単量体（但し、前述した重合性キラル化合物を除く）との共重合体等が挙げられる。

前記他の共重合可能な単量体としては、特に限定されるものではなく、例えば、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−メトキシフェニル、４−（６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸ビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４'−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−３’，４’−ジフルオロフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸ナフチル、４−アクリロイルオキシ−４’−デシルビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−シアノビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−メトキシビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−（４”−フルオロベンジルオキシ）−ビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−プロピルシクロヘキシルフェニル、４−メタクリロイル−４’−ブチルビシクロヘキシル、４−アクリロイル−４’−アミルトラン、４−アクリロイル−４’−（３，４−ジフルオロフェニル）ビシクロヘキシル、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−アミルフェニル）、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−（４’−プロピルシクロヘキシル）フェニル）等が挙げられる。

本発明の液晶性高分子が、本発明の重合性液晶化合物とその他の重合性液晶化合物との共重合体である場合、本発明の重合性液晶化合物単位の含有量は、特に限定されるものではないが、全構成単位に対して５０重量％以上が好ましく、７０重量％以上がより好ましい。かかる範囲にあると、ガラス転移温度（Ｔｇ）が高く、高い膜硬度を有する液晶性高分子を得ることができる。

本発明の重合性液晶化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等の（共）重合は、適当な重合開始剤の存在下に行うことができる。重合開始剤の使用割合としては、前記重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物に対する配合割合と同様でよい。

用いる重合開始剤としては、用いる重合性液晶化合物に存在する重合性基の種類に応じて適宜なものを選択して使用すればよい。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用すればよい。
これらの具体例としては、前記本発明の重合性液晶組成物の項で列記したものと同様のものが挙げられる。

本発明の液晶性高分子は、より具体的には、（ａ）適当な重合開始剤の存在下、前記重合性液晶化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等との（共）重合を適当な有機溶媒中で行う方法や、（ｂ）前記重合性液晶化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等を重合開始剤と共に有機溶媒に溶解した溶液を、公知の塗工法により支持体上に塗布した後、単量体を配向させた状態で脱溶媒し、次いで加熱又は活性エネルギー線を照射する方法により製造することができる。

前記（ａ）の方法に用いる有機溶媒としては、不活性なものであれば、特に制限されず、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素；シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱い性に優れる観点から、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１５０℃のものがより好ましい。

（ａ）の方法による場合には、例えば、後述するような重合反応条件に従って反応を行った後の重合反応液より目的とする液晶性高分子を単離し、得られる液晶性高分子を適当な有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液を適当な支持体上に塗工して得られた塗膜を乾燥後、液晶性を示す温度以上となるまで加熱して、徐冷して液晶状態を固定化することができる。

液晶性高分子を溶解するための有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶剤；等が挙げられる。

前記支持体としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質の基板を使用することができる。当該基板の材質としては、例えば、ポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス（登録商標；日本ゼオン社製）、ゼオノア（登録商標；日本ゼオン社製）、アートン（登録商標；ＪＳＲ社製）、及びアペル（登録商標；三井化学社製）〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。基板の形状としては、平板の他、曲面を有するものであっても良い。これらの基板は、必要に応じて、電極層、反射防止機能、反射機能を有していてもよい。

液晶性高分子の溶液を支持体に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばカーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法等が挙げられる。

前記（ｂ）の方法で用いる有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶剤；等が挙げられる。

用いる支持体としては、特に限定されないが、例えば、上述した液晶性高分子の溶液を塗工するのに用いることができるものとして列記したものと同様のものが挙げられる。

また、前記（ｂ）の方法において重合反応用の溶液を支持体に塗布する方法としては、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。例えば、上述した液晶性高分子の溶液を支持体上に塗工する方法として列記したものと同様のものが挙げられる。

（ｂ）の方法においては、支持体上に塗工した重合性液晶化合物を配向させることが好ましい。前記重合性液晶化合物を配向させる方法としては、例えば上述の支持体に事前に配向処理を施す方法が挙げられる。支持体に配向処理を施す好ましい方法としては、各種ポリイミド系配向膜、ポリビニルアルコール系配向膜等からなる液晶配向層を支持体の上に設け、ラビング等の処理を行う方法、支持体にＳｉＯ_２を斜方蒸着して配向膜を形成する方法、分子内に光二量化反応する官能基を有する有機薄膜や光で異性化する官能基を有する有機薄膜に、偏光又は非偏光を照射する方法等の公知の方法が挙げられる。重合性液晶化合物の重合は後述するような重合反応条件に従って行えばよい。

（２）本発明の重合性液晶組成物を重合して得られる液晶性高分子
本発明の重合性液晶組成物を重合開始剤の存在下に重合することにより、本発明の液晶性高分子を容易に得ることができる。得られる液晶性高分子はコレステリック液晶性高分子である。本発明においては、重合反応をより効率的に行う観点から、前記したような重合開始剤、特に光重合開始剤を用いるのが好ましい。

以下、かかる重合性液晶組成物を用いる態様について説明する。
本発明の重合性液晶組成物を、例えば、前記配向処理を施す方法に従って得られた、配向機能を有する支持体上に塗布し、本発明の重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物を、コレステリック相を保持した状態で均一に配向させ、重合させることによって、本発明の液晶性高分子を得ることができる。支持体としては、前記したようなものを使用することができる。

上記方法において、一様な配向状態を形成するためには、通常のツイステッド・ネマチック(ＴＮ)素子又はスーパー・ツイステッド・ネマチック(ＳＴＮ)素子で使用されているプレチルト角を与えるポリイミド薄膜を使用すると、重合性液晶化合物の配向状態の制御を容易にすることができる。

一般に、配向機能を有する支持体に液晶組成物を接触させた場合、液晶化合物は支持体表面で支持体を配向処理した方向に沿って配向する。液晶化合物が支持体表面と水平に配向するか、傾斜あるいは垂直して配向するかは、支持体表面への配向処理方法による影響が大きい。
例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式の液晶表示素子に使用するようなプレチルト角のごく小さな配向膜を支持体上に設ければ、ほとんど水平に配向した重合性液晶層が得られる。

また、ＴＮ型液晶表示素子に使用するような配向膜を支持体上に設けた場合は、少しだけ配向が傾斜した重合性液晶層が得られ、ＳＴＮ方式の液晶表示素子に使用するような配向膜を使うと、大きく配向が傾斜した重合性液晶層が得られる。

本発明の重合性液晶組成物を、プレチルト角を有する水平配向機能を有する支持体に接触させたときは、支持体表面から空気界面付近まで一様又は連続的に角度が変化して傾斜配向した光学異方体を得ることができる。

また、分子内に光二量化反応する官能基を有する有機薄膜や光で異性化する官能基を有する有機薄膜（以下「光配向膜」と略す。）に、偏光又は非偏光を照射する方法等（光配向法）を用いれば、パターン状に配向方向が異なる領域が分布した基板をも作製することができる。

初めに、光配向膜を設置した支持体上に光配向膜の吸収帯にある波長の光を照射し、一様な配向が得られる支持体を準備する。その後、当該支持体にマスクを被せ、マスクの上から光配向膜の吸収波長にある第１の照射と異なる状態の光、例えば偏光状態が異なる光あるいは照射角度及び方向が異なる光を照射して、照射部分だけに第１の照射で得られた部分と異なる配向機能を持たせる。

以上のようにして得られたパターン状に配向機能の異なる領域が分布した支持体に重合性液晶組成物を接触させれば、支持体の配向機能に応じてパターン状に配向方向の異なる領域が分布する。この状態で光照射による重合を行えば、配向パターンを有する液晶性高分子膜を得ることができる。

特に、前記支持体として、パターン状に配向方向の異なる領域が分布している略水平配向機能を有する支持体を使用すれば、位相差膜として特に有用な液晶性高分子膜を得ることができる。

そのほか、配向パターンを得る方法として、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）の触針で配向膜をラビングする方法、光学異方体をエッヂングする方法等の光配向膜を用いない方法も採用可能であるが、光配向膜を利用する方法が簡便であり好ましい。

本発明の重合性液晶組成物を支持体上に塗布する方法としては、バーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ダイコーティング、キャップコーティング、ディッピング法等の公知慣用のコーティング法が挙げられる。このとき、塗工性を高めるために、本発明の重合性液晶組成物に公知慣用の有機溶媒を添加してもよい。この場合は、本発明の重合性液晶組成物を支持体上に塗布後、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等で有機溶媒を除去するのが好ましい。

塗布後、本発明の重合性液晶組成物中の液晶化合物をコレステリック相を保持した状態で均一に配向させることが好ましい。具体的には、液晶の配向を促すような熱処理を行うことにより、配向をより促進することができる。

熱処理法としては、例えば、本発明の重合性液晶組成物を支持体上に塗布後、該液晶組成物のＣ（固相）−Ｎ（ネマチック相）転移温度（以下、「Ｃ−Ｎ転移温度」と略す。）以上に加熱して、該重合性液晶組成物を液晶相又は等方相液体状態にする。そこから、必要に応じ徐冷してコレステリック相を発現する。このとき、一旦液晶相を呈する温度に保ち、液晶相ドメインを充分に成長させてモノドメインとすることが望ましい。

また、本発明の重合性液晶組成物を支持体上に塗布後、本発明の重合性液晶組成物のコレステリック相が発現する温度範囲内で温度を一定時間保つような加熱処理を施しても良い。加熱処理の温度は、通常５０〜１５０℃であり、７０〜１２０℃であることが好ましく、加熱処理の時間は、通常０．５〜１５分であり、２〜１０分であることが好ましい。

加熱温度が高過ぎると重合性液晶化合物が好ましくない重合反応を起こして劣化するおそれがある。また、冷却しすぎると、重合性液晶組成物が相分離を起こし、結晶の析出、スメクチック相のような高次液晶相を発現し、配向処理が不可能になることがある。
このような熱処理をすることで、単に塗布するだけの塗工方法と比べて、配向欠陥の少ない均質な液晶性高分子膜を作製することができる。

また、このようにして均質な配向処理を行った後、液晶相が相分離を起こさない最低の温度、即ち過冷却状態となるまで冷却し、該温度において液晶相を配向させた状態で重合させることにより、配向秩序が高く、透明性に優れる液晶性高分子膜を得ることができる。

本発明の重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。

照射時の温度は、本発明の重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が液晶相を保持できる温度とし、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物の熱重合の誘起を避けるため、可能な限り３０℃以下とすることが好ましい。尚、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物は、通常、昇温過程において、Ｃ−Ｎ転移温度から、Ｎ（ネマチック相）−Ｉ（等方性液体相）転移温度（以下、「Ｎ−Ｉ転移温度」と略す。）範囲内で液晶相を示す。一方、降温過程においては、熱力学的に非平衡状態をとるため、Ｃ−Ｎ転移温度以下でも凝固せず液晶状態を保つ場合がある。この状態を過冷却状態という。本発明においては、過冷却状態にある重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物も液晶相を保持している状態に含めるものとする。紫外線照射強度は、通常１Ｗ／ｍ^２〜１０ｋＷ／ｍ^２の範囲、好ましくは５Ｗ／ｍ^２〜２ｋＷ／ｍ^２の範囲である。

また、マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させた後、該未重合部分の配向状態を、電場、磁場又は温度等をかけて変化させ、その後該未重合部分を重合させると、異なる配向方向をもった複数の領域を有する液晶性高分子膜を得ることができる。

また、マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させる際に、予め未重合状態の重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物に電場、磁場又は温度等をかけて配向を規制し、その状態を保ったままマスク上から光を照射して重合させることによっても、異なる配向方向をもった複数の領域を有する液晶性高分子膜を得ることができる。

本発明の重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物を重合させて得られる液晶性高分子は、支持体から剥離して単体で使用することも、支持体から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。

特に、本発明の重合性液晶組成物を重合して得られる液晶性高分子膜は、コレステリック液晶膜であり、極めて高い反射率を有するため、液晶表示素子における偏光子として好適である。

これに加えて積層法によりこのような液晶性高分子膜を複数積層させ、かつ選択される液晶性高分子膜の選択波長を適切に選択することにより、可視スペクトルの全ての光をカバーする多層偏光子を得ることもできる（ＥＰ０７２００４１号公報参照。）。

また、このような多層の偏光子の代わりに、適切な化合物及び加工条件と組合せていわゆる広域バンド偏光子（ｂｒｏａｄ−ｂａｎｄ ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）として使用することもできる。このための実施方法としては、例えば、ＷＯ９８／０８１３５号パンフレット、ＥＰ０６０６９４０号公報、ＧＢ２３１２５２９号公報、ＷＯ９６／０２０１６号パンフレット等に記載された方法が挙げられる。

さらに、本発明の重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物を用いてカラーフィルターを製造することもできる。このために、当業者に慣用の塗布方法によって、必要とされる波長を適切に施与することができる。

さらにまた、コレステリック液晶の熱変色性を利用することもできる。温度の調整により、コレステリックな層の色彩が赤色から緑色を経由して青色へと推移する。マスクを用いて特定の帯域を定義された温度で重合することができる。

以上のようにして得られる本発明の液晶性高分子の数平均分子量は、好ましくは５００〜５００，０００、更に好ましくは５，０００〜３００，０００である。該数平均分子量がかかる範囲にあれば、高い膜硬度が得られ、取り扱い性にも優れるため望ましい。液晶性高分子の数平均分子量は、単分散のポリスチレンを標準試料とし、テトラヒドロフランを溶離液とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。

本発明の液晶性高分子は、架橋点が分子内で均一に存在すると推定される。本発明の重合性液晶化合物を重合して得られるものであるから、架橋効率が高く、硬度に優れている。

本発明の液晶性高分子は、その配向性、及び屈折率、誘電率、磁化率等の物理的性質の異方性を利用して、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等の光学異方体の構成材料として用いることができる。

４）光学異方体
本発明の第４は、本発明の液晶性高分子を構成材料とする光学異方体である。
本発明の光学異方体としては、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等が挙げられる。

本発明の光学異方体は、本発明の重合性液晶化合物を（共）重合して得られる液晶性高分子を構成材料としているので、均一で高品質な液晶配向性を有している。

本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、部及び％は特に断りのない限り重量基準である。
なお、カラムクロマトグラフィーに用いた展開溶媒の比（括弧内に示す溶媒比）は容積比である。

（実施例１）重合性液晶化合物Ｔの合成

ステップ１：中間体Ａの合成

冷却器、温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２０重量％の水酸化カリウム水溶液６００ｇ、４−ヒドロキシ安息香酸を１００ｇ（０．７２ｍｍｏｌ）加え、次いで、クロロヘキサノールを１９８ｇ（１．４５ｍｍｏｌ）加え、全容を強攪拌下にて、３時間加熱還流した。反応液に２０重量％水酸化カリウム水溶液１００ｇを追加して更に４時間加熱還流した。室温まで冷却後、水６００ｇ、２−プロパノール３００ｇを加え、６００ｇの濃塩酸を３０分程度かけて滴下することで、白色粉末が沈殿した。これをろ取し、水で洗浄することで、中間体Ａを１４７ｇ（収率８５．７％）得た。

（中間体Ａの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＴＨＦ−ｄ８，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．０−１０．５（ｂｓ，１Ｈ）、８．１０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、４．１９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．６７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．９８−１．９５（ｍ，２Ｈ）、１．７０−１．６０（ｍ，６Ｈ）。

ステップ２：中間体Ｂの合成

冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、テトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略記する。） ７６０ｇに中間体Ａ ５２．２ｇ（０．２２ｍｏｌ）を加え、攪拌溶解させた。氷浴にて２℃に冷却後、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン（ＤＢＵ）３６．７ｇ（０．２４ｍｏｌ）をゆっくり加えた。その後、４０ｇのＴＨＦで希釈した２−メトキシエトキシメチルクロリド ３０．０ｇ（０．２４ｍｏｌ）を２０分かけて徐々に滴下した。滴下終了後、そのまま２℃で１時間攪拌を行った。反応終了後、反応液に水１０リットルを加え、酢酸エチル２リットルで抽出操作を行った。分液操作により水層を除去し、得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過を行い、硫酸ナトリウムを除去した。ろ液である酢酸エチル層をロータリーエバポレータを用いて減圧濃縮を行い淡黄色オイルを得た。この淡黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：ＴＨＦ＝２：１から３：２にグラジエント)により精製した。白色固体として、中間体Ｂを５７．０ｇ（収率７９．７％）得た。

（中間体Ｂの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、６．８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、５．５４（ｓ，２Ｈ）、４．００（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、３．８７−３．８２（ｍ，２Ｈ）、３．６５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、３．５８−３．５４（ｍ，２Ｈ）、３．３７（ｓ，３Ｈ）、１．８５−１．７７（ｍ，２Ｈ）、１．６３−１．５６（ｍ，２Ｈ）、１．５３−１．４１（ｍ，４Ｈ）。

ステップ３：中間体Ｃの合成

冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、中間体Ｂ５５．０ｇ（０．１７ｍｏｌ）をＮ−メチルピロリドン４００ｍｌに溶解させ、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（日本シイベルへグナ社製）７３．９ｇ（０．２５ｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン３０．９ｇ（０．２５ｍｏｌ）をさらに加えて溶解させた。１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）４８．５ｇ（０．２５ｍｏｌ）をゆっくり加えた。その後、１３時間２４℃で反応を行った。反応後、反応液に、酢酸エチル１．３リットル、水７．０リットル、飽和食塩水０．８リットルを加えて抽出操作を行った。分液操作により水層を除去し、得られた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過により硫酸マグネシウムをろ別した。酢酸エチル層をロータリーエバポレータを用いて減圧濃縮を行い淡黄色オイルを得た。淡黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：ＴＨＦ＝２：１)により精製した。白色固体として、中間体Ｃを５２．８ｇ（収率 ５２．２％）得た。

（中間体Ｃの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０１−７．９５（ｍ，４Ｈ）、６．９１−６．８７（ｍ，４Ｈ）、６．３９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、５．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ）、５．５５（ｓ，２Ｈ）、４．２９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、４．１６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、４．０３−３．９８（ｍ，４Ｈ）、３．８８−３．８５（ｍ，２Ｈ）、３．５８−３．５６（ｍ，２Ｈ）、３．３８（ｓ，３Ｈ）、１．８６−１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．５４−１．４０（ｍ，８Ｈ）。

ステップ３：中間体Ｄの合成

冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、中間体Ｃ５０．０ｇ（０．０８３ｍｏｌ）をＴＨＦに溶解させた。この溶液を冷水浴で１８℃に冷却した後、別途作成した１２規定の塩酸水溶液１８３．３ｇとメタノール８３．３ｇの混合溶液を３５分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後さらに２３℃で１時間攪拌を行い反応を行った。反応終了後、水１１．２リットル、酢酸エチル２．０リットルで抽出操作を行った。分液操作により水層を除去し、得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過により硫酸ナトリウムをろ別した。酢酸エチル層をロータリーエバポレータを用いて減圧濃縮を行い、得られた淡黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：ＴＨＦ＝２：１）により精製した。白色固体として、中間体Ｄを２５．９ｇ（収率６０．７％）得た。

（中間体Ｄの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．９２−６．８６（ｍ，４Ｈ）、６．３９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、５．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、４．０４−３．９８（ｍ，４Ｈ）、１．８６−１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．５５−１．４２（ｍ，８Ｈ）。

ステップ４：中間体Ｅの合成

冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に窒素気流中５−ホルミルサリチル酸９０ｇ（０．５４ｍｏｌ）、メタノール８７ｇ（２．７ｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジンをＴＨＦ１リットルに溶解した。この溶液に室温下にて、ＴＨＦ５００ｍｌに溶かしたＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド２２４ｇ（１．０９ｍｏｌ）を滴下漏斗にてゆっくりと加えた。その後、室温下にて６時間反応を行った。反応終了後、減圧濾過した後、ロータリーエバポレーターにて、ＴＨＦを減圧留去して濃縮し黄色オイルを得た。この黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ｎ−ヘキサン：ＴＨＦ＝９：１)により精製し、白色固体８０．４を得た（収率：８２．４％）。構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

（中間体Ｅの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１１．３６（ｓ，１Ｈ)、９．８８（ｓ，１Ｈ)、８．３９（ｓ，１Ｈ)、８．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、４．０１（ｓ，３Ｈ）。

ステップ５：中間体Ｆの合成

冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、４−ヒドロキシ安息香酸１００ｇ（０．７２ｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド１２６ｇ（０．８４ｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、「ＤＭＦ」と略記する。）１．２リットルに溶解した。この溶液に水浴下にて、ＤＭＦ７００ｍｌに溶解したイミダゾール１２０ｇ（１．８ｍｏｌ）を滴下漏斗にてゆっくりと加えた。その後、室温下に４時間反応を行った。反応終了後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０リットルに投入し、ｎ−ヘキサン１リットルで３回抽出した。分液操作により水層を除去し、得られたｎ−ヘキサン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過を行い硫酸マグネシウムを除去した。ｎ−へキサン層はロータリーエバポレーターにて濃縮を行い、淡黄色オイルを得た。この淡黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１)により精製し、無色オイルとして中間体Ｆを１００ｇ得た（収率：５８．４％）。構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

（中間体Ｆの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：９．８７（ｓ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、６．９３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、０．９８（ｓ，９Ｈ）、０．２３（ｓ，６Ｈ）。

ステップ６：中間体Ｇの合成

冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン１水和物１０６ｇ（２．１ｍｏｌ）をＴＨＦ５００ｍｌに加えた。この溶液に室温下にて、ＴＨＦ５００ｍｌに溶解した中間体Ｆ１００ｇ（０．４２ｍｏｌ）を滴下漏斗にてゆっくりと加えた。その後、室温下にて３時間反応を行った。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターにて、反応液が２００ｍｌ程度になるまで濃縮した。この溶液にクロロホルム２リットルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５リットルで２回洗浄した。分液操作により水層を除去し、得られたクロロホルム層にトリエチルアミン５０ｍｌを加えた後に、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、ろ過を行い硫酸マグネシウムを除去した。クロロホルム層をロータリーエバポレーターにて濃縮して、淡黄色オイルを得た。この黄色オイルをＴＨＦ５００ｍｌに溶解し、トリエチルアミン３０ｍｌを加えた。この溶液に室温下にて、ＴＨＦ５００ｍｌに溶解した中間体Ｅ７２ｇ（０．４ｍｏｌ）を滴下漏斗にてゆっくりと加えた。その後、室温下にて１２時間反応を行った。反応終了後、減圧濾過した後、ロータリーエバポレーターにて濃縮を行い、黄色オイルを得た。この黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ｎ−ヘキサン：ＴＨＦ＝２：１)により精製して、黄色固体としてとして中間体Ｇを１０７．６ｇ得た（収率：６１．７％）。構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

（中間体Ｇの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１１．０８（ｓ，１Ｈ）、８．６１（ｓ，１Ｈ）、８．５８（ｓ，１Ｈ）、８．２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０）、８．０１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、４．００（ｓ，３Ｈ）、０．９８（ｓ，９Ｈ）、０．２４（ｓ，６Ｈ）。

ステップ７：中間体Ｈの合成

冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、濃度１ｍｏｌ／ＬのテトラブチルアンモニウムフルオライドのＴＨＦ溶液を２４０ｍｌ加えた。この溶液に室温下にて、ＴＨＦ５００ｍｌに溶解した中間体Ｇ １００ｇ（０．２４ｍｏｌ）を滴下漏斗にてゆっくりと加えた。その後、室温下にて３時間反応を行った。反応終了後、反応液を水に投入し、1％のクエン酸水溶液を加えて弱酸性にした。この溶液をクロロホルム２リットルで２回抽出を行った。分液操作により水層を除去し、得られたクロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、ろ過を行い硫酸ナトリウムを除去した。クロロホルム層はロータリーエバポレーターにて濃縮を行い、黄色オイルを得た。この黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ｎ−ヘキサン：ＴＨＦ＝２：１)により精製し、中間体Ｈを黄色固体として６３ｇ得た（収率：８７．１％）。構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

（中間体Ｈの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１１．１０（ｓ，１Ｈ）、８．６１（ｓ，1Ｈ）、８．５８（ｓ，１Ｈ）、８．２７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．０１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．７５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、５．２１（ｓ，１Ｈ）、４．００（ｓ，３Ｈ）。

ステップ８：中間体Ｉの合成

冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（日本シイベルへグナ社製）４９．０ｇ（０．１７ｍｏｌ）をＴＨＦ７００ｍｌに溶解させた。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）３２.０ｇ（０．１７ｍｏｌ）を加え、２３℃で９０分間攪拌を行うことで、活性体を形成した。別途、中間体Ｈ５０．０ｇ（０．１７ｍｏｌ）をＴＨＦ９００ｍｌに溶解させた溶液を調製し、この溶液に先に調整した活性体を含む溶液を８０分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、７時間２３℃で反応を行った。その後、反応溶液をロータリーエバポレーターにて、反応液として２００ｍｌとなるまで濃縮した。この反応液に水１．６リットル、飽和食塩水２００ｍｌ、クロロホルム２００ｍｌを順次加え、抽出操作を行った。クロロホルム層を４．５％の食塩水１．２リットルで２回洗浄した。分液操作により水層を除去し、得られたクロロホルム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過を行い硫酸マグネシウムを除去した。クロロホルム層はロータリーエバポレーターにて濃縮を行い、黄色オイルを得た。得られた黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝２０：１）で精製を行い、淡黄色固体として中間体Ｉを２０．４ｇ（収率 ２１．３％）得た。

（中間体Ｉの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１１．１０（ｓ，１Ｈ）、８．６６（ｓ，１Ｈ）、８．６０（ｓ，１Ｈ）、８．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、８．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．３０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ）、４．１８ （ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．００（ｓ，３Ｈ）、１．８８−１．８１（ｍ，２Ｈ）、１．７６−１．６９（ｍ，２Ｈ）、１．５６−１．４４（ｍ，４Ｈ）。

ステップ９：重合性液晶化合物Ｔの合成
冷却器、温度計及び滴下漏斗を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、Ｎ−メチルピロリドン１９３ｇ、中間体Ｉ１９．３ｇ（０．０３４ｍｏｌ）、中間体Ｄ２５．９ｇ（０．０５１ｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．６２ｇ（５．１ｍｍｏｌ）を加えて溶解させた。次に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）９．７０ｇ（０．０５１ｍｏｌ）をゆっくり加え、１２時間２４℃で反応した。反応後酢酸エチル２．５リットル、水２．５リットル、飽和食塩水１．７リットルを用いて抽出操作を行い、分液操作により水層を除去し、得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ろ液をロータリーエバポレーターにて濃縮を行い、黄色オイルを得た。得られた黄色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製して、淡黄色固体として重合性液晶化合物Ｔを５．４ｇ（収率 １５．０％）得た。

（重合性液晶化合物Ｔの^１Ｈ−ＮＭＲデータ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．６８（ｓ，２Ｈ）、８．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、８．１７−８．０９（ｍ，５Ｈ）、７．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．３４−７．３１（ｍ，３Ｈ）、６．９９−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、６．３９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、５．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、５．８０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、４．３１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．２０−４.１５（ｍ，４Ｈ）、４．０７−３．９８ (ｍ，６Ｈ)、３．７８（ｓ，３Ｈ）、１．８８−１．６７（ｍ，１２Ｈ）、１．６０−１．４４ （ｍ，１２Ｈ）。

（配向性の評価）
（実施例１）
上記で得られた重合性液晶化合物Ｔ１００重量部に対し、シクロペンタノン１５３重量部に溶解して溶液とした。これに、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：イルガキュア１９１９）を３．３重量部、キラル剤６．０重量部、界面活性剤（１重量%のシクロペンタノン溶液として使用）１１．６重量部を添加して溶解した溶液を調製した。キラル剤としてＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製）を、界面活性剤としてセイミケミカル（株）製ＫＨ−４０を、それぞれ使用して試験液を得た。

この試験液を、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にバーコーター（テスター産業社製：ＳＡ−２０３ バーコーター Ｒｏｄ Ｎｏ． ８ シャフト径 １２．７ｍｍ）を用いて塗布した後、ホットプレート上にて１００℃で３分間乾燥させた。得られた皮膜に水銀ランプで１０００ｍＪ／ｃｍ^２に相当する紫外線を照射して厚さ４μｍの硬化膜を得た。この硬化膜を偏光顕微鏡で観察し、オイリーストリークと呼ばれる配向欠陥の量を目視で確認して判定した。偏光顕微鏡の観察写真図を図１〜３に示す。図中、オイリーストリークと呼ばれる配向欠陥は黒い線として観察される。評価は５段階で判定し、配向欠陥が全く見られない場合（図１）を５、配向欠陥が部分的に見られる場合（図２）を３、全面に渡って配向欠陥が存在する場合（図３）を１と、それぞれ判定した。よって、値が大きいほど良い結果であることを示している。また、図で示されていない評価の２及び４については、顕微鏡写真の結果から目視にて図の中間と判断した場合にその評価とした。

（実施例２〜３、比較例１）
前記した試験液の重合性液晶化合物Ｔ １００重量部の一部又は全部を、特願２００８−９２０９３に記載の方法で製造した下記化合物Ｕ（他の重合性液晶化合物）に、表１に示すような割合に変更して試験を実施した。なお、表１中、％は「重量％」である。

（評価結果）

表１の結果から、本発明の重合性液晶化合物の配合割合が多くなると配向性が良くなることが分かる。

硬化膜の偏光顕微鏡の観察写真図であり、配向欠陥が全く見られない場合である。 硬化膜の偏光顕微鏡の観察写真図であり、配向欠陥が部分的に見られる場合である。 硬化膜の偏光顕微鏡の観察写真図であり、全面にわたって配向欠陥が存在する場合である。

Claims (8)

1. 下記式（Ｉ）
   

   

   
   〔式中、Ｙ_１〜Ｙ_１０はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−を表す。
   Ｇ_１〜Ｇ_４はそれぞれ独立して、ハロゲン原子及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれる置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基を表す。
   Ｚ_１およびＺ_２はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
   Ａ_１〜Ａ_４はそれぞれ独立して、下記（Ａ−ｉ）、（Ａ−ｉｉ）又は（Ａ−ｉｉｉ）のいずれかを表す。
   
   

   

   
   （上記式中、＊は結合手を表し、Ｘ_９〜Ｘ_２６はそれぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子；ハロゲン原子及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれる置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；−ＯＲ^６ ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^６ ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^６ ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^６ ；−ＮＲ^７−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^６ ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^６）Ｒ^７；又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^６）Ｒ^７ ；を表す。ここで、Ｒ^６、Ｒ^７はそれぞれ独立して、水素原子；又は、ハロゲン原子及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれる置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）
   Ｘ_１〜Ｘ_８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ^３、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^３、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^３、−ＮＲ^４−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^３）Ｒ^４、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^３）Ｒ^４を表す。ここで、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子；又は、ハロゲン原子及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれる置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基；を表す。
   ａおよびｂはそれぞれ独立して、０又は１であり、ｃは１〜３の整数である。〕
   で示される重合性液晶化合物。
2. 前記式（Ｉ）中、Ｚ_１およびＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２ＣＨ_２−、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−、又はＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２−である請求項１に記載の重合性液晶化合物。
3. 前記式（Ｉ）中、Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、又は、−（ＣＨ_２）_４−であり、−Ｏ−、−Ｃ（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよく、
   Ｚ_１およびＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、又はＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、
   Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、
   

   

   で表される基である請求項１に記載の重合性液晶化合物。
4. 前記式（Ｉ）中、Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、又は、−（ＣＨ_２）_４−であり、
   Ｚ_１およびＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−であり、
   Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、
   

   

   で表される基である請求項１に記載の重合性液晶化合物。
5. 前記式（Ｉ）中、Ｇ_１〜Ｇ_４が、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_６−、又は、−（ＣＨ_２）_４−であり、
   Ｚ_１およびＺ_２が、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−であり、
   Ａ_１〜Ａ_４が、それぞれ独立して、
   

   

   で表される基である請求項１に記載の重合性液晶化合物。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載の重合性液晶化合物、および重合性キラル化合物を含有する重合性液晶組成物。
7. 請求項１〜５のいずれかに記載の重合性液晶化合物、又は、請求項６に記載の重合性液晶組成物を重合して得られる液晶性高分子。
8. 請求項７に記載の液晶性高分子を構成材料とする光学異方体。

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