JP5412399B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
中心を有するイメージフィールドにパターン付放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
イメージフィールド内に基板のターゲット位置を位置決めするように構成された基板テーブルと、
投影システムと基板との間のスペースの少なくとも一部に沿って延在するように構成されたバリア部材であって、スペースに液体を供給するように構成された液体供給システムを備えるバリア部材と
液体抽出システムであって、
過小圧力または吸引流を受けるように構成された通路、および
液体を除去するために通路とスペースの間に接続され、イメージフィールドの中心から様々な距離に配置された複数の導管、を備える液体抽出システムと、
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
投影システムを使用して、中心を有するイメージフィールドに放射投影ビームを投影し、
基板のターゲット部分をイメージフィールドに配置し、
投影システムと基板の間のスペースに液体を供給し、
スペースから液体を除去するために吸引を提供することを含み、該吸引は、イメージフィールドの中心から様々な距離に配置され且つ通路に接続された複数の導管を通して作動する、デバイス製造方法、また、
中心光軸を有する投影システムを使用して、中心を有するイメージフィールドに放射投影ビームを投影し、
基板のターゲット部分をイメージフィールドに配置し、
投影システムの最終要素と基板の間のスペースに液浸液を供給し、
液浸液を除去するために吸引を提供することを含み、
前記吸引が、通路に接続され且つイメージフィールドの中心から様々な距離に配置された複数の導管を通して作動する、
ことを含むデバイス製造方法、が提供される。
イメージフィールドにパターン付放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
基板のターゲット部分をイメージフィールドに配置するように構成された基板テーブルと、
投影システムと基板の間のスペースの少なくとも一部に沿って延在するように構成されたバリア部材であって、スペースに液体を供給するように構成された液体供給システムを備えたバリア部材と、
液体抽出システムであって、
過小圧力または吸引流を受けるように構成された通路、および
液体を除去するために通路とスペースの間に接続され、イメージフィールドに対して様々な高さに配置された複数の導管、とを備える液体集中システムと、
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
投影システムを使用して、放射投影ビームを基板のターゲット部分に投影し、
投影システムと基板の間のスペースに液体を供給し、
液体を除去するために吸引を提供することを含み、吸引が、様々な高さに配置され且つ通路に接続された複数の導管を通して作動する、
ことを含むデバイス製造方法が提供される。
ここに示している本装置は透過タイプである(例えば透過マスクを使用する)。あるいは、装置は反射タイプでもよい(例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する)。
Claims (6)
- イメージフィールドにパターン付放射ビームを投影する投影システムと、
前記イメージフィールド内に基板のターゲット位置を位置決めする基板テーブルと、
前記投影システムの最終要素と前記基板及び/又は前記基板テーブルとの間のスペースに少なくとも部分的に液浸液を閉じ込める液体閉じ込めシステムと、を備え、
前記液体閉じ込めシステムは、
前記投影システムから異なる距離に配置され、前記液浸液が通過可能に構成された第1及び第2の導管と、
前記第1及び第2の導管に接続されたチャンバと、
前記チャンバに接続され、吸引が加えられる通路と、
を有し、
前記液体閉じ込めシステムは、前記液浸液が前記第1、第2の導管のいずれか又は双方に充填しているかに応じて該システムの液体抽出能力が変動するように構成されている、
リソグラフィ装置。 - 前記第1、第2の導管は、前記液体閉じ込めシステムの下部表面の開口にそれぞれ接続されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2の導管は、前記第1の導管よりも前記イメージフィールドの半径方向中心近くで前記スペースに接続し、前記第1の導管よりも前記イメージフィールドの半径方向中心近くで前記チャンバに通じる、請求項1又は請求項2に記載の装置。
- 前記第2の導管は、前記イメージフィールドに対して前記第1の導管よりも低い位置で前記スペースに接続し、前記イメージフィールドに対して前記第1の導管よりも低い位置で前記チャンバに通じる、請求項1又は請求項2に記載の装置。
- 前記第1、第2の導管を前記投影システムの周囲に複数備える請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の装置。
- 投影システムを使用して、イメージフィールドに放射投影ビームを投影し、
基板のターゲット部分を前記イメージフィールドに配置し、
前記投影システムと前記基板の間のスペースに液体を供給し、
液体閉じ込めシステムによって、前記投影システムの最終要素と前記基板及び/又は前記基板テーブルとの間のスペースに少なくとも部分的に液浸液を閉じ込め、
前記スペースから液体を除去するために、液体吸引システムを通して動作する吸引を、チャンバに導かれた、前記液体閉じ込めシステムの通路を介して提供し、
前記液体閉じ込めシステムの第1及び第2の導管の導管を介して前記液浸液を抽出することであって、該第1の導管は、前記チャンバを前記スペースに接続し、前記第2の導管は、前記第1の導管とは異なる位置で前記チャンバに接続し、かつ、前記チャンバを前記スペースに前記第1の導管とは異なる位置で接続する、ことと、
を有し、
前記液浸液の抽出において、前記液浸液が前記第1、第2の導管のいずれか又は双方に充填しているかに応じて該システムの液体抽出能力が変動する、
デバイス製造方法。
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