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JP5499618B2 - 投射型液晶表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示素子を搭載した投射型液晶表示装置に関し、さらに詳細には、光入射側にマイクロレンズが形成された液晶表示素子を搭載した投射型液晶表示装置に関する。
現在、液晶表示素子を搭載した投射型液晶表示装置(液晶プロジェクタ)の開発が盛んに行われている。投射型液晶表示装置には、機能、形態からパーソナルコンピュータ用途などのデータプロジェクタ、ホームシアター用途などのフロントプロジェクタ、リアプロジェクタテレビジョン用途などのリアプロジェクタ等がある。
投射型液晶表示装置は、R(赤色)、G(緑色)、B(青色)3色のサブピクセルを各ドットに設けた液晶表示素子を1枚使った単板式と、モノクロの液晶表示素子をR、G、Bの光路ごとに3枚使った3板式とに大別される。また、投射型液晶表示装置は、その中枢となる液晶表示素子が透過型か反射型かに応じて、透過型プロジェクタと反射型プロジェクタとに分けられる。
投射型液晶表示装置においては、高輝度化、高画質化、高精細化、低価格化等に対する要求が高く、特に、投射光量の向上要求が高い。
投射光量は、投射画像の視認性の度合いを示すものであり、かかる投射光量を決定づける要素の1つに液晶表示素子がある。液晶表示素子は、光源から出射される光を画像信号に応じて空間的に変調し、その変調された画像を出射する役割をもつ。液晶表示素子により変調された光は、投射レンズによってスクリーンや壁などの投射面に投射され、その投射面上に画像を形成する。
かかる液晶表示素子では、各画素を駆動するために薄膜トランジスタ(TFT;Thin Film Transistor)などが基板上に作り込まれるため、隣接する画素間にはブラックマトリクスと呼ばれる光の遮蔽領域が設けられている。そのため、その開口率は決して100%とはならない。
そこで、従来では、液晶表示素子における開口率を上げるために、光入射側に配置された基板上に各ドット(1ピクセルまたは1サブピクセル)に対応して光軸方向にマイクロレンズを配置し、液晶表示素子の実効開口率を上げる工夫がなされている。ここで、液晶表示素子における“実効開口率”とは、液晶表示素子に入射する全光束に対する、液晶表示素子から出射される全光束の割合をいう。なお、投射型液晶表示装置においては、通常、液晶表示素子による光の損失のみならず、後段の投射レンズによる光のケラレを考慮したものを、液晶表示素子の実効開口率という。
このように光入射側に配置された基板上にマイクロレンズを配置することによりブラックマトリクスの遮光による光損失は小さくなる。しかし、その一方で、集光によって出射光の拡散が大きくなり、後段の投射レンズでの光のケラレや、Fナンバーの小さい投射レンズを使用することによるコストアップ、結像性能の低下などが発生してしまう。
そこで、入射側に配置されたマイクロレンズの後段にさらにマイクロレンズを設けて、かかる課題を抑制する液晶表示素子が開発されてきている。
例えば、特許文献1,2には、光入射側に配置された第1マイクロレンズで拡散した光を平行光化する第2マイクロレンズを備えた液晶表示素子が開示されている。かかる構成により、第1マイクロレンズでの集光による出射光の発散をキャンセルして、出射光の発散を小さくし、実効開口率を向上させている。
特開平6−75212号公報 特開平5−341283号公報
しかし、上記特許文献1の液晶表示素子では、第1マイクロレンズの焦点位置と第2マイクロレンズの焦点位置が略一致しており、光源からの照明光の発散成分をコントロールできず、条件次第によっては逆に発散を増長してしまうことになる。
また、上記特許文献2の液晶表示素子では、第1マイクロレンズと第2マイクロレンズとを共に光入射側に配置しているため、Fナンバーを大きくするのが難しい。しかも、さらに対向基板側に第1マイクロレンズと第2マイクロレンズとを形成するので、製造バラツキが大きくなり、品質バラツキや歩留り等の課題も発生しやすくなる。
そこで、上記課題を解決するために、請求項1に係る発明は、光を発する光源と、前記光源から出射された光を光学的に変調する液晶表示素子と、前記液晶表示素子によって変調された光を投射する投射レンズと、を備え、前記液晶表示素子は、液晶層と、高温ポリシリコンで形成されたTFT素子と、光が通過可能な2次元に配置された複数の画素開口を有する画素電極部と、前記液晶層に対して光入射側に形成され、前記複数の画素開口に対応して複数の正のパワーを有する第1マイクロレンズを2次元に配列した第1マイクロレンズアレイと、前記液晶層に対して光出射側に形成され、前記複数の画素開口に対応して複数の正のパワーを有する第2マイクロレンズを2次元に配列した第2マイクロレンズアレイと、を備え、前記第1マイクロレンズのFナンバーが前記投射レンズのFナンバー以上の大きさに設定され、前記第1マイクロレンズ及び前記第2マイクロレンズは、互いの主点位置が他方のマイクロレンズの焦点位置となるように配置され、前記画素開口は、前記光源からの光のビームウェストの位置に配置され、前記液晶層に対して出射側に、前記画素電極部及び前記第2マイクロレンズアレイを有するアクティブマトリクス基板が設けられており、前記アクティブマトリクス基板は、前記画素電極部と前記液晶層との間の層間絶縁膜内に前記第2マイクロレンズアレイを配置しており、前記第2マイクロレンズアレイは、前記画素電極部の上に前記層間絶縁膜を積層し、前記層間絶縁膜を半球状にエッチングして形成された凹部に前記層間絶縁膜とは屈折率が異なる材料をレベリングして化学機械研磨で平坦化して第2マイクロレンズを形成し、前記第2マイクロレンズのコーナー部にコンタクトホールを形成して当該コンタクトホールに導電材料を充填してITO−ドレインコンタクトを形成し、前記第2マイクロレンズの上に透明電極と配向膜とを順次に積層する、ことにより形成される投射型液晶表示装置とした。
また、請求項2に係る発明は、請求項1に記載の投射型液晶表示装置において、前記第1マイクロレンズ及び/又は前記第2マイクロレンズは、球面、非球面、またはフレネル面のいずれか1つ若しくは2以上を組み合わせて構成されることとした。
本発明によれば、液晶表示素子の実効開口率を向上し、かつ投射レンズにおけるケラレを微小にすることができ、これにより投射光量の向上を図ることができる。従って、例えば、従来と同等の投射光量を維持したまま、投射レンズのFナンバーを大きくし、光学系の低コスト化を実現することもできる。
本発明の一実施形態に係る投射型液晶表示装置の全体構成の一例を示す図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示素子の概略構成の一例を示す図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示素子の概略構成の一例を示す図である。 図3に示す液晶表示素子におけるマイクロレンズ部分の構成を簡略化して示す説明図である。 第1マイクロレンズのみを用いた従来の液晶表示素子の出射光角度分布の模式図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示素子の出射光角度分布の模式図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示素子の具体的構成の一例を示す図である。 本発明の一実施形態に係る他の液晶表示素子の具体的構成の一例を示す図である。 本発明の一実施形態に係る他の液晶表示素子の具体的構成の一例を示す図である。 本発明の一実施形態に係る他の液晶表示素子の具体的構成の一例を示す図である。 本発明の一実施形態に係る他の液晶表示素子の具体的構成の一例を示す図である。 本発明の他の実施形態に係る投射型液晶表示装置の全体構成の一例を示す図である。 本発明の他の実施形態に係る液晶表示素子の概略構成の一例を示す図である。 本発明の他の実施形態に係る液晶表示素子の概略構成の一例を示す図である。 従来の第1マイクロレンズアレイのみの構成のときの青の出射光角度分布の模式図である。 本発明の他の実施形態に係る投射型液晶表示装置での青の出射光角度分布の模式図である。 従来の第1マイクロレンズアレイのみの構成のときの緑の出射光角度分布の模式図である。 本発明の他の実施形態に係る投射型液晶表示装置での緑の出射光角度分布の模式図である。
本実施形態に係る投射型液晶表示装置は、光を発する光源と、この光源から出射された光を光学的に変調する液晶表示素子と、この液晶表示素子によって変調された光を投射する投射レンズとを備えている。
液晶表示素子は、液晶層と、光が通過可能な2次元に配置された複数の画素開口を有する画素電極部と、液晶層に対して光入射側に形成され、複数の画素開口に対応して複数の第1マイクロレンズを2次元に配列した第1マイクロレンズアレイを備えている。
このように液晶層に対して光入射側に第1マイクロレンズを形成することにより、画素開口への光の入射率を向上させることができる。
しかも、液晶表示素子には、さらに、液晶層に対して光出射側に形成され、複数の画素開口に対応して複数の第2マイクロレンズを2次元に配列した第2マイクロレンズアレイを備える。
そして、第1マイクロレンズ及び第2マイクロレンズが、互いが他方のマイクロレンズの焦点位置となるように配置している。
かかる構成により、光軸に対して発散角度成分を有して液晶表示素子へ入射した照明光は、発散角度成分が第2マイクロレンズアレイから出射するときに除去され、その出射角度が光軸に平行に入射した主光線の出射角度と略同一となる。
その結果、第2マイクロレンズアレイで、照明光の発散をおおよそ解消することができ、照明光の入射発散角を大きくすることができ、光利用効率を上げることもできる。
しかも、第1マイクロレンズのFナンバーが投射レンズのFナンバー以上の大きさに設定されているため、投射レンズでのケラレが極微小な条件で、最もブラックマトリクスでの光のケラレを小さくすることができる。
さらに、第2マイクロレンズを光出射側に配置しているため、Fナンバーを大きくしやすくなり、製造バラツキを抑えることができる。
以下、本発明の投射型液晶表示装置について図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係る投射型液晶表示装置の全体構成の一例を示している。この図に示した投射型液晶表示装置は、透過型の液晶表示素子を3枚用いてカラー画像表示を行ういわゆる3板方式の投射型液晶表示装置である。なお、説明は以下の順序で行う。
1.投射型液晶表示装置の全体構成
2.液晶表示素子の構成及び作用
3.液晶表示素子におけるマイクロレンズの光学的な作用及び効果
4.液晶表示素子の製造方法
5.その他の実施形態
〔1.投射型液晶表示装置の全体構成〕
本実施形態に係る投射型液晶表示装置1は、光を発する光源11と、一対の第1及び第2フライアイレンズ12,13と、これらのフライアイレンズ12,13の間に設けられ、光路(光軸10)を第2フライアイレンズ13側に略90度曲げるように配置された全反射ミラー14とを備えている。
光源11は、カラー画像表示に必要とされる、赤色光、青色光および緑色光を含んだ白色光を発するようになっている。この光源11は、白色光を発する発光体(図示せず)と、発光体から発せられた光を反射する凹面鏡とを含んで構成されている。発光体としては、例えば、ハロゲンランプ、メタルハライドランプまたはキセノンランプ等が使用される。凹面鏡は、例えば回転楕円面鏡や回転放物面鏡等の回転対称な面形状となっている。
第1及び第2フライアイレンズ12,13には、それぞれ複数のマイクロレンズ12M,13Mが2次元的に配列されている。第1及び第2フライアイレンズ12,13は、光の照度分布を均一化させるためのものであり、入射した光を複数の小光束に分割する機能を有している。従って、光源11から発せられた白色光は、第1及び第2フライアイレンズ12,13を透過することにより、複数の小光束に分割される。
この投射型液晶表示装置1は、また、第2フライアイレンズ13の光出射側に、PS合成素子15と、コンデンサレンズ16と、ダイクロイックミラー17とを順番に備えている。
第1及び第2フライアイレンズ12,13を透過した光は、PS合成素子15に入射する。PS合成素子15には、第2フライアイレンズ13における隣り合うマイクロレンズ間に対応する位置に、複数の1/2波長板15Aが設けられている。PS合成素子15は、入射した光を第1偏光光(P偏光成分)及び第2偏光光(S偏光成分)に分離し、一方の偏光光(例えばP偏光成分)を、その偏光方向を保ったままPS合成素子15から出射し、他方の偏光光(例えばS偏光成分)を、1/2波長板15Aの作用により、他の偏光成分(例えばP偏光成分)に変換して出射する。これにより、分離された2つの偏光光の偏光方向が特定の方向(例えばP偏光)に揃えられる。
PS合成素子15を出射した光は、コンデンサレンズ16を透過した後、ダイクロイックミラー17に入射する。ダイクロイックミラー17は、入射した光を、赤色光LRと、
その他の色光とに分離する。
この投射型液晶表示装置1は、また、ダイクロイックミラー17によって分離された赤色光LRの光路に沿って、全反射ミラー18と、フィールドレンズ24Rと、液晶表示素子25Rとを順番に備えている。全反射ミラー18は、ダイクロイックミラー17によって分離された赤色光LRを、液晶表示素子25Rに向けて反射する。全反射ミラー18によって反射された赤色光LRは、フィールドレンズ24Rを介して液晶表示素子25Rに入射する。液晶表示素子25Rに入射した赤色光LRは、液晶表示素子25Rにおいて、
画像信号に応じて空間的に変調された後、後述するクロスプリズム26の入射面26Rに入射する。
投射型液晶表示装置1は、さらに、ダイクロイックミラー17によって分離された他の色光の光路に沿って、ダイクロイックミラー19を備えている。ダイクロイックミラー19は、入射した光を、緑色光LGと青色光LBとに分離する。この投射型液晶表示装置1は、また、ダイクロイックミラー19によって分離された緑色光LGの光路に沿って、フィールドレンズ24Gと、液晶表示素子25Gとを順番に備えている。緑色光LGは、フィールドレンズ24Gを介して液晶表示素子25Gに入射する。液晶表示素子25Gに入射した緑色光LGは、液晶表示素子25Gにおいて、画像信号に応じて空間的に変調された後、後述するクロスプリズム26の入射面26Gに入射する。
この投射型液晶表示装置1は、さらに、ダイクロイックミラー19によって分離された青色光LBの光路に沿って、リレーレンズ20と、全反射ミラー21と、リレーレンズ22と、全反射ミラー23と、フィールドレンズ24Bと、液晶表示素子25Bとを順番に備えている。全反射ミラー21は、リレーレンズ20を介して入射した青色光LBを、全反射ミラー23に向けて反射する。全反射ミラー23は、リレーレンズ22を介して入射した青色光LBを液晶表示素子25Bに向けて反射する。液晶表示素子25Bは、フィールドレンズ24Bを介して入射した青色光LBを、画像信号に応じて空間的に変調した後、後述するクロスプリズム26の入射面26Bに入射する。
なお、液晶表示素子25R,25G,25Bのそれぞれの入射面には、第1及び第2フライアイレンズ12,13によって分割された複数の小光束が拡大された状態で重畳され、全体的に均一な照明がなされる。第1及び第2フライアイレンズ12,13によって分割された各小光束は、コンデンサレンズ16の焦点距離と第2フライアイレンズ13に設けられたマイクロレンズ13Mの焦点距離とで決まる拡大率で拡大される。
また、図示しないが、フィールドレンズ24R,24G,24Bのそれぞれの光出射面側に、液晶表示素子25R,25G,25Bのそれぞれに偏光を入射するための入射偏光板、また、クロスプリズム26の光入射面26R,26G,26Bのそれぞれに液晶表示素子で変調された光を制御する出射偏光板を有している。
この投射型液晶表示装置1は、また、赤色光LR、緑色光LGおよび青色光LBの光路が交わる位置に、3つの色光LR、LG,LBを合成するクロスプリズム26を備えている。この投射型液晶表示装置1は、また、クロスプリズム26から出射された合成光を、
スクリーン28に向けて投射するための投射レンズ27を備えており、クロスプリズム26の出射光が、投射レンズ27によってスクリーン28の前面側または背面側に投射されることにより、スクリーン28上に画像を形成する。なお、クロスプリズム26は、3つの入射面26R,26G,26Bと、一つの出射面26Tとを有している。入射面26R,26G,26Bには、それぞれ液晶表示素子25R,25G,25Bから出射された赤色光LR,緑色光LG,青色光LBがそれぞれ入射するようになっている。そして、クロスプリズム26は、入射面26R,26G,26Gに入射した3つの色光を合成して出射面26Tから出射する。
〔2.液晶表示素子の構成及び作用〕
図2及び図3は、液晶表示素子25R,25G,25Bの構成例を示している。なお、図3は、図2に示すA部分の拡大図である。液晶表示素子25R,25G,25Bは、それぞれ変調対象となる光の成分が異なるのみで、その機能、構成は実質的に同じである。
以下では、各色用の液晶表示素子25R,25G,25Bの構成をまとめて説明する。
図2に示すように、液晶表示素子25(25R,25G,25B)は、光入射側より、
防塵ガラス39A、対向基板40A、液晶層43、アクティブマトリクス基板40B、防塵ガラス39Bを備えている。
対向基板40Aは、図3に示すように、光入射側から順に、ガラス基板41と、このガラス基板41の光出射面側に積層された第1マイクロレンズアレイ42とを有している。
なお、図示しないが、第1マイクロレンズアレイ42と液晶層43との間に、対向電極と配向膜とをさらに有している。対向電極は、画素電極部45との間で電位を発生させるためのものである。
第1マイクロレンズアレイ42は、光入射面側に順次形成される低屈折率の光学物質層42aと高屈折率の光学物質層42bとにより構成され、後述する各画素電極46に対応して2次元的に設けられた複数の第1マイクロレンズ42Mを有している。各第1マイクロレンズ42Mは、全体として正の屈折力(パワー)を有している。図3に示す例では、
各第1マイクロレンズ42Mのレンズ面は球面形状で構成され、光入射側(光源側)に凸形状となっている。このような面形状で正のパワーを持たせるために、低屈折率の光学物質層42aと高屈折率の光学物質層42bは、その屈折率をそれぞれn1,n2とすると、「n2>n1」の関係を満たすように構成されている。なお、n2とn1の相対的な屈折率差は、例えば0.2〜0.3程度で、より高い値が確保されていることが望ましい。
また、光学物質層42a,42bは、例えばウレタン系やアクリル系の樹脂などにより形成される。
この第1マイクロレンズ42MのFナンバーは、後段の投射レンズ27のFナンバー以上の大きさに設定される。従って、後で詳述するように、液晶表示素子25に入射した光のうち、第1マイクロレンズ42Mによって集光され後述する画素開口46Aに入射した光のほとんどが画像表示に利用可能な有効な光となる。
アクティブマトリクス基板40Bは、ガラス基板48と、このガラス基板48の光入射面側に順次形成された第2マイクロレンズアレイ44と画素電極部45とを有している。なお、図示しないが、画素電極部45と液晶層43との間には配向膜(図示せず)が配置される。画素電極部45は、画素電極46とブラックマトリクス47とが2次元的に配列されて形成されている。各画素電極46は導電性を有した透明な部材によって構成され、ブラックマトリクス47は隣り合う画素電極46の間に形成されている。各ブラックマトリクス47は、例えば金属膜などにより遮光され、その内部には、隣接する画素電極46に対して、画像信号に応じて選択的に電圧を印加するための図示しないTFT素子が形成されている。ブラックマトリクス47によって囲まれ、入射光が透過可能な一つの画素電極46の開口領域が、1画素(ドット)分の画素開口46Aとなる。
第2マイクロレンズアレイ44は、光入射面側に順次形成された高屈折率の光学物質層44bと低屈折率の光学物質層44aとにより構成され、後述する各画素電極46に対応して2次元的に設けられた複数の第2マイクロレンズ44Mを有している。各第2マイクロレンズ44Mは、全体として正の屈折力(パワー)を有している。図3の例では、各第2マイクロレンズ44Mのレンズ面は球面形状で構成され、光入射側(光源側)に凸形状となっている。このような面形状で正のパワーを持たせるために、低屈折率の光学物質層44aと高屈折率の光学物質層44bは、その屈折率をそれぞれn3,n4とすると、「n4>n3」の関係を満たすように構成されている。なお、n3とn4の相対的な屈折率差は、例えば0.2〜0.3程度で、より高い値が確保されていることが望ましい。また、光学物質層44a,44bは、例えばウレタン系やアクリル系の樹脂などにより形成される。
このように、本実施形態に係る液晶表示素子25では、1ドットにつき光軸方向に2つのマイクロレンズ、すなわち、第1マイクロレンズ42Mと第2マイクロレンズ44Mが配置されるように構成されている。
そして、第1マイクロレンズ42M及び第2マイクロレンズ44Mを、互いが他方のマイクロレンズの焦点位置となるように配置している。すなわち、第1マイクロレンズ42Mの焦点位置を、第2マイクロレンズ44Mの主点位置H2(図4参照)に一致させ、かつ第2マイクロレンズ44Mの焦点位置を、第1マイクロレンズ42Mの主点位置H1(図4参照)に一致させている。
第1マイクロレンズ42Mは、集光機能を有した集光用レンズを形成し、液晶表示素子25へ入射する照明光が画素開口46Aを通過する割合を向上させる。また、第2マイクロレンズ44Mは、フィールド機能を有したフィールドレンズを形成している。第1マイクロレンズ42Mの焦点位置は、画素開口46A付近にある方が、開口効率が良くなるようにも思われるが、入射光についてすべての角度成分を考慮すると、画素開口46Aが焦点位置に完全に一致している場合が最も開口効率が良くなることにはならない。すべての角度成分を考慮すると、光のビームウェストの位置に画素開口46Aを配置することが望ましい。
第1及び第2マイクロレンズ42M,44Mは、正のパワーを持ち、所定の光学特性を満たすように構成されていれば良く、図示した形状に限定されない。例えば、球面、非球面、またはフレネル面のいずれか1つ若しくは2以上を組み合わせて構成されるようにしてもよい。また、第1及び第2マイクロレンズ42M,44Mは、高屈折率の樹脂を低屈折率の基板でカバーして形成してもよく、あるいは、フォトリソグラフィにより高屈折率材、低屈折率材を成形することにより形成してもよい。このとき、無機材料を用いることにより、材料の長寿命化になる。
〔3.液晶表示素子におけるマイクロレンズの光学的な作用及び効果〕
次に、主として図4を参照して、本実施の形態の特徴部分である液晶表示素子25における第1及び第2マイクロレンズ42M,44Mによる光学的な作用および効果について説明する。
図4では、説明を簡略化するため、液晶表示素子25における第1及び第2マイクロレンズ42M,44M部分の主要な構成要素のみを示している。既に説明したように、第1及び第2マイクロレンズ42M,44Mは、正のパワーを有している。また、第1マイクロレンズ42Mの焦点位置に第2マイクロレンズ44Mを配置し、第2マイクロレンズ44Mの焦点位置に第1マイクロレンズ42Mを配置している。さらに、光のビームウェストの位置に画素開口46Aを配置している。以下、このような構成において、液晶表示素子25の前段の照明光学系によって液晶表示素子25に発散角度βの照明光が全体的に照明されるものとして説明する。
第1及び第2マイクロレンズ42M,44Mの光軸60に対して平行な主光線60A(図中、実線で示す)に対して角度成分を持って入射する発散光60B(図中、破線で示す)について考える。光軸60に対して±βの角度で液晶表示素子25を照明する光は、主光線60Aを中心に、±βの角度で発散した状態で第1マイクロレンズ42Mを通過する。この光は、第2マイクロレンズ44Mの焦点位置に第1マイクロレンズ42Mが配置されているために、第2マイクロレンズ44Mを通過する際に、すべて主光線60Aに平行な光に変わってしまう。すなわち、主光線60Aと発散光60Bの双方とも、第2マイクロレンズ44Mを出射した後の最大発散角度αは等しくなる。
以上の光学的作用を有する第1及び第2マイクロレンズ42M,44Mを搭載することにより、液晶表示素子25を出射する光の最大発散角度θは、以下の式(1)で表されることになる。
θ=α ……(1)
この式(1)は、液晶表示素子25における出射光の発散角度θも、第2マイクロレンズ44Mの外形(半径)aと第2マイクロレンズ44Mによる焦点距離f2との2つのパラメータだけで決まり、照明光の発散角度βは、出射光の発散角度θに影響を及ぼさないことを意味している。すなわち、本実施形態によれば、照明光の発散角度βが液晶表示素子25を出射するときには除去され、第1マイクロレンズ42Mのみの場合と比較して角度βの分だけ出射発散角度θを小さくすることができる。
これにより、本実施の形態では、投射レンズ27のFナンバーに合わせ、第1マイクロレンズ42Mの焦点距離を短くすることができ、第1マイクロレンズ42Mのみで構成した場合と比較して、ブラックマトリクス47における光のケラレの量を低減することができる。この効果によって、実効開口率を悪化させることなく第1マイクロレンズ42Mの焦点距離を従来に比べて大幅に短くすることが可能になると共に、画素開口46Aに形成される集光スポットサイズも大幅に小さくすることができる。これにより、液晶表示素子25における実効開口率を向上させることが可能となる。
さらに、本実施の形態では、従来に比べて画素開口46Aに対して集光スポットサイズを十分に小さくすることが可能になるので、従来に比べて入射発散角度βを大きくすることができる。そして、図4より明らかなように、入射発散角度βを大きくすることによって、集光スポットサイズを画素開口46Aの開口寸法限界まで拡大して、出射光量の向上を図ることが可能である。
しかも、図4に示すように、第1マイクロレンズ42Mと第2マイクロレンズ44Mとの間に光のビームウェストが位置するように光学的に設計し、かかるビームウェスト位置に画素開口46Aを配置することで、開口効率をさらに向上させることができる。
本発明者らは、本実施形態に係る投射型液晶表示装置1の優位性を確認するためにシミュレーションを行った。かかるシミュレーション結果の模式図を図5及び図6に示す。図5は第1マイクロレンズのみを用いた従来の液晶表示素子での出射光角度分布を示し、図6は本実施形態に係る液晶表示素子での出射光角度分布を示している。なお、本シミュレーションは照明発散角12°、画素ピッチ8.4μm(開口率55%)条件で行っている。
図5及び図6に示すように、本実施形態に係る投射型液晶表示装置1の方が従来の投射型液晶表示装置に比べて、総合的に光の発散が小さくなっていることがわかる。この条件で、投射レンズのFナンバーを1.7とした場合、本実施形態に係る投射型液晶表示装置1の方が投射光量が10%高くなる結果が得られた。
このように、出射光の発散角度αが小さくなるため、従来の投射光量を維持したまま、
投射レンズ27のFナンバーを従来よりも大きくすることも可能となり、そのようにすることで投射レンズ27のコスト削減も可能となる。例えば、上記の例の場合、本実施形態の液晶表示素子25を使用すると、従来の投射光量を維持したまま、投射レンズ27のFナンバーを1.7から2.0にすることができる。
以上のように、本実施形態に係る投射型液晶表示装置1では、第1マイクロレンズ42M及び第2マイクロレンズ44Mを、互いが他方のマイクロレンズの焦点位置となるように配置しており、照明光の発散を解消することができ、照明光の入射発散角を大きくすることができ、光利用効率を上げることもできる。
しかも、第1マイクロレンズ42MのFナンバーを投射レンズ27のFナンバーの大きさまで小さく設定することができるため、第1マイクロレンズ42Mでは、投射レンズ27のケラレを考慮して焦点距離を長くする必要がなくなり、ブラックマトリクスでの光のケラレを小さくすることができる。
さらに、第2マイクロレンズが光出射側に配置しているため、Fナンバーを大きくしやすくなり、製造バラツキを抑えることができる。
なお、本実施形態においては、第1マイクロレンズ42Mと第2マイクロレンズ44Mとの距離を互いが他方のマイクロレンズの焦点位置となるように配置するが、100%正確である必要はない。すなわち、第1マイクロレンズ42Mと第2マイクロレンズ44Mが、100%正確に互いが他方のマイクロレンズの焦点位置にあるとしたときの第1マイクロレンズ42Mと第2マイクロレンズ44Mとの間の距離に対して、これらの距離が±16%の範囲内であれば、最適条件のときの明るさに対し95%以上の明るさとなり、安定した特性を出すことができる。さらに好ましくは、これらの距離が±11%の範囲内であれば、最適条件のときの明るさに対し98%以上の明るさとなり、より安定した特性を出すことができる。
〔4.液晶表示素子の製造方法〕
上述の実施形態の液晶表示素子の具体的な構成の一例として、例えば、図7に示すように構成することができる。
図7に示す液晶表示素子225は、まず、透明基板248に、複数の第2マイクロレンズ244Mからなる第2マイクロレンズアレイを形成する。さらに、これらの第2マイクロレンズ244M上に、層間絶縁膜249を介して裏面遮光膜250、TFT素子251、表面遮光膜250’、透明電極252などを順次形成することで画素電極部245を形成する。その後、この画素電極部245上に配向膜253を形成することによってアクティブマトリクス基板240Bが形成される。裏面遮光膜250及び表面遮光膜250’により実質的なブラックマトリクスが形成される。また、アクティブマトリクス基板240Bとの間で液晶層243を挟む対向基板240Aは、第1マイクロレンズ242M、カバー層256、透明電極255、配向膜254から形成される。
この液晶表示素子225は、投射型液晶表示装置で用いられるため、TFT素子251は、高温ポリシリコンで形成され、ゲート酸化膜形成のプロセス温度が600℃〜1000℃になる。そのため、第2マイクロレンズ244Mは高温プロセスに耐える無機材料で形成されねばならず、第2マイクロレンズ244MからTFT素子251までの製造プロセスは以下のような製造プロセスが一般的に考えられる。
まず、透明基板248をエッチングして、半球状の凹部を形成する。その後、この凹部にSiONなどの高屈折率の無機膜244aをP−CVD法で凹部に積層し、無機膜244aを研磨により平坦化する。これにより、第2マイクロレンズ244Mが形成される。
次に、第2マイクロレンズ244M上に、SiO膜などの層間絶縁膜249を積層し、この層間絶縁膜249上にWSiなどの高融点金属で裏面遮光膜250を形成する。その後、層間絶縁膜249及び裏面遮光膜250上にTFT素子251などを形成している。
かかる製造プロセスでは、上述したように、TFT素子251のゲート酸化膜形成のプロセス温度が600℃〜1000℃であるため、第2マイクロレンズ244Mの無機膜244aも、600℃〜1000℃の高温でアニールされることになる。
しかし、液晶表示素子225全体に広がった無機膜244aはそのサイズに比例して非常に大きく膨張することから、図8に示すように熱ストレスにより無機膜244aにクラックや膜剥がれが発生する恐れがある。この膨張の度合いはプロセス温度に比して大きくなる。
一方、第2マイクロレンズ244Mの無機膜244aにおけるクラックや膜剥がれを解消するために、TFT素子251を形成する時のプロセス温度を下げた場合、良好なゲート酸化膜とTFT特性が得られなくなる。
そこで、プロセス温度を下げず、しかも、第2マイクロレンズ244Mにクラックや膜剥がれなどを発生させずに第2マイクロレンズ244Mをアクティブマトリクス基板に内蔵させるために、液晶表示素子の構造として、次に示す構造を採用することができる。
すなわち、図9に示す液晶表示素子325のように、第2マイクロレンズ344Mをアクティブマトリクス基板340Bの透明電極352下の層間絶縁膜346内に配置するようにし、TFT素子351を形成した後に、第2マイクロレンズ344Mを形成する。なお、第2マイクロレンズ344Mはマイクロレンズアレイとしてアクティブマトリクス基板340Bに複数形成される。また、後述する裏面遮光膜350及び表面遮光膜350’により実質的なブラックマトリクスが形成される。なお、アクティブマトリクス基板340Bとの間で液晶層343を挟む対向基板340Aは、第1マイクロレンズ342M、カバー層456、透明電極355、配向膜354から形成される。
この液晶表示素子325では、第2マイクロレンズ344Mを層間絶縁膜346内に形成するため、第2マイクロレンズ344Mの一部に透明電極352とTFT素子351のドレイン電極を接続するコンタクトが必要となる。この液晶表示素子325の製造プロセスは以下の通りである。なお、ここではプロセスの主要部分を説明する。
まず、透明基板348上にWSiなどで裏面遮光膜350を形成する。その後、TFT素子351を形成する。このとき、プロセス温度はゲート酸化膜の形成時の温度が最も高く600℃〜1000℃である。
次いで、蓄積容量及び信号線を兼ねた表面遮光膜350’を形成する。この構成により、画素開口形状が決まる。
次いで、SiOなどの低屈折率材料で層間絶縁膜344bを積層する。この層間絶縁膜344bを半球状にエッチングし、高屈折率膜であるSiON膜344aをP−CVD法などでレベリングし、このSiON膜344aをCMPで平坦化して、第2マイクロレンズ344Mを形成する。
次いで、第2マイクロレンズ344Mのコーナー部分にコンタクトホールを形成し、このコンタクトホールを導電材料で充填してコンタクトを形成する。
その後、第2マイクロレンズ344Mの上に透明電極352と、配向膜353を順次形成する。
以上のように、TFT素子351を形成した後に、第2マイクロレンズ344Mを形成することから、600℃〜1000℃の高温に第2マイクロレンズ344Mが曝されることがない。従って、第2マイクロレンズ344Mにおいて、熱ストレスによるクラックや膜剥がれの発生を抑制できる。
また、層間絶縁膜346中に形成された第2マイクロレンズ344Mは、TFT画素サイズと同じサイズで形成できるので、第2マイクロレンズ344Mの面積不足による透過光量損失が生じない。
このとき、対向基板340A側の第1マイクロレンズ342Mと、アクティブマトリクス基板340B側の第2マイクロレンズ344Mは互いの焦点部に位置するために、第1マイクロレンズ342M側のカバー層356の厚さで互いの距離を調整している。
ここで、図10に、透明電極352とTFT素子351のドレイン電極とを電気的に接続するコンタクト部分の断面構造の模式図を示す。
同図に示すように、第2マイクロレンズ344MはSiOなどの層間絶縁膜349を介して、透明電極352の直下に形成されている。そして、透明電極352とTFT素子351のドレイン電極とを電気的に接続するITO−ドレインコンタクト370,372,374,376が第2マイクロレンズ344Mの一部を貫通する形で形成されている。なお、ITO−ドレインコンタクト370,372,374,376は、接続用電極371,373,375によって接続されている。また、図10中、符号385は、信号配線であり、符号384はCs電極、符号390はゲート電極、符号386はソースコンタクト、符号391はゲートコンタクトである。表面遮光膜350’は、コンタクト381,接続用電極382、コンタクト383を介してCs電極384に接続される。
第2マイクロレンズ344Mは、ITO−ドレインコンタクト370を避ける形で層間絶縁膜346中に形成される。これは、第2マイクロレンズ344Mの形成前にコンタクトホールを層間絶縁膜346に形成し、その後、層間絶縁膜346を半球状に等方エッチングして第2マイクロレンズ344Mを形成する際に、エッチング量を大きくするとコンタクトホールが削られるからである。従って、第2マイクロレンズ344Mの有効サイズは、第2マイクロレンズ344Mの中心とITO−ドレインコンタクト370との位置関係で制約される。
図11は、第2マイクロレンズ344MとITO−ドレインコンタクト370(372,374,376)との位置関係を示した図である。第2マイクロレンズ344Mは円形であり、その有効半径は第2マイクロレンズ344Mの中心からドレインコンタクト370(372,374,376)までの距離より小さく設定される。
なお、ここでは、第2マイクロレンズ344Mの形成位置を透明電極352直下の層間絶縁膜346中として説明したが、形成位置はこれに限定されるものではない。例えば、図10において表面遮光膜350’と信号線385間の層間絶縁膜392中に形成されても良い。
このように、液晶表示素子325の対向基板340Aとアクティブマトリクス基板340Bの両方にマイクロレンズアレイを内蔵した基板において、アクティブマトリクス基板340B側の第2マイクロレンズ344MはTFT素子351を形成した後に、透明電極352とTFT素子351間の層間絶縁膜346内に形成されている。
従って、第2マイクロレンズ344MがTFT素子351の形成プロセス以降に形成されることになり、熱ストレスによる第2マイクロレンズ344Mのクラックや膜剥がれが発生しない。これにより第2マイクロレンズ344Mの特性が損なわれず、また製造性が向上する。
また、対向基板340Aとアクティブマトリクス基板340Bそれぞれに内蔵された第1マイクロレンズ342Mと第2マイクロレンズ344Mとが互いの焦点位置に形成されている。そのため、透過率が向上し、かつ投射レンズにおけるケラレを微小にすることができ、投射光量の大きい液晶投射型表示装置を実現することができる。あるいは従来と同等の投射光量を維持したまま、投射レンズのFナンバーを大きくし、光学系の低コスト化を実現することができる。
〔5.その他の実施形態〕
上述の実施形態では最も一般的な液晶表示素子を3枚使用する投射型液晶表示装置の例をあげたが、単板式のカラー表示型の投射型液晶表示装置でも同様の効果を得ることができる。図12に単板式のカラー表示型の投射型液晶表示装置1’の構成を示す。
単板式のカラー表示型の投射型液晶表示装置1’は、図12に示すように、光源101、リフレクタ102、ロッドインテグレータ103、色分離部104、PS合成素子105、コンデンサレンズ106、フィールドレンズ107、液晶表示素子125、投射レンズ127から構成されている。
光源101は、カラー画像表示に必要とされる、赤色光、青色光および緑色光を含んだ白色光を発する。光源101の発光体から出射された白色光は、リフレクタ102によって、ロッドインテグレータ103に向けて投射される光となる。リフレクタ102からの出射光は、ロッドインテグレータ103に集光する。ロッドインテグレータ103は、リフレクタ102からの入射光の光分布を均一化し、色分離部104に出射する。ロッドインテグレータ103からの出射光は、色分離部104に入射する。
色分離部104は、ロッドインテグレータ103からの入射光を3原色に色分解する色分離プリズム104aと、色分離プリズム104aにより反射された光を、透過した光と略平行となるように反射する反射プリズム104R、104Bとから構成されている。色分離部104の色分離プリズム104aは、ロッドインテグレータ103からの入射光を3原色に色分解し、例えば、緑色光LGを透過し、その他の赤色光LR、青色光LBをそれぞれ異なる方向に反射する。反射プリズム104Rは、色分離プリズム104aにより反射された赤色光LRが入射され、入射された赤色光LRを緑色光LGと略平行となる方向に反射する。反射プリズム104Bは、色分離プリズム104aにより反射された青色光LBが入射され、入射された青色光LBを緑色光LGと略平行となる方向に反射する。
PS合成素子105は、PS合成素子15と同様に、入射した光をP偏光成分及びS偏光成分の偏光に分離し、一方の偏光(例えばP偏光)を、その偏光方向を保ったまま偏光変換素子から出射し、他方の偏光(例えばS偏光)を、他の偏光成分(例えばP偏光成分)に変換して出射する。PS合成素子105から出射した光は、コンデンサレンズ106によって集光され、フィールドレンズ107を介して液晶表示素子125に入射される。
コンデンサレンズ106及びフィールドレンズ107は、ロッドインテグレータ103の出射光が出射される出射面と液晶表示素子125とが共役の関係となるように調整され、そのため、液晶表示素子125において各色の光LR、LG、LBが重畳されて結像する。また、フィールドレンズ107は、液晶表示素子125において入射光の角度分布が均一であるテレセントリック照明となるようにする働きもする。
液晶表示素子125は、いわゆる透過型の液晶表示素子であり、フィールドレンズ107から入射する光各色の光LR、LG、LBを入射して、画像信号に応じて光学的に変調して、後段の投射レンズ127に向けて出射する。異なる角度で入射した各色の光は、液晶表示素子125内に設けられた第1マイクロレンズアレイ42(図13参照)により各色の画素に振り分け、液晶により各画素を通る光の透過率をコントロールすることでカラー表示を実現している(基本原理は、特開平4−60538号公報を参照。)。
かかる液晶表示素子125は、図13に示すように、画素電極部145において1画素にR,G,B毎の画素電極146R,146G,146Bが形成され、これらの画素電極間にブラックマトリクス147が形成される点以外は、上記液晶表示素子25と同様の構成をしている。なお、液晶表示素子25と同様の構成については、同一符号を付し、具体的な説明は省略する。
このように液晶表示素子125は、液晶表示素子25と同様の構成とすることで、第2マイクロレンズ44Mにより照明光の発散がキャンセルされ、液晶表示素子25と同様の効果を得る上に、赤色光LRや青色光LBの発散も小さくすることができ、投射光量が大きく、かつホワイトバランスのとれた投射型液晶表示装置を実現することができる。
また、図14に示すように、第2マイクロレンズ44Mにて赤色光LRの主光線と青色光LBの主光線とが緑色光LGの主光線と平行になる。
例えば、照明光の発散角度βがH方向±3°でV方向±7°、それぞれの主光線の角度が青:8°、緑:0°、赤:−8°、投射レンズ127のFナンバー:1.7の場合をシミュレーション計算すると、本実施形態に係る投射型液晶表示装置1’において投射光量に及ぼす効果は従来の第1マイクロレンズアレイのみの構成に比べ、青、赤:1.216倍、緑:1.033倍となる。
このときの青色光LBと緑色光LGの出射光角度分布の模式図を図15〜図18に示す。図15は従来の第1マイクロレンズアレイのみの構成のときの青の出射光角度分布、図16は実施形態に係る投射型液晶表示装置1’での青の出射光角度分布、図17は従来の第1マイクロレンズアレイのみの構成のときの緑の出射光角度分布、図18は実施形態に係る投射型液晶表示装置1’での緑の出射光角度分布である。
これらの結果からわかるように、緑色光LGは実施形態に係る投射型液晶表示装置1’の方が総合的に光の発散が小さくなっており、青色光LBや赤色光LRでは主光線角度が第2マイクロレンズ44Mで補正されるため、さらにその効果が大きい。
なお、上述においては、光源101としてアーク光源を例に挙げて説明したが、LEDやレーザが光源の光学系でも適用可能である。また、ロッドインテグレータ103もフライアイレンズやミラーあるいはガラスプリズムでできたロッドインテグレータのいずれも用いることもできる。
以上、本発明の実施形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明したが、これらは例示であり、当業者の知識に基づいて種々の変形、改良を施した他の形態で本発明を実施することが可能である。
1,1’ 投射型液晶表示装置
11 光源
12 第1フライアイレンズ
13 第2フライアイレンズ
14,18,21,23 全反射ミラー
15 PS合成素子
16 コンデンサレンズ
17,19 ダイクロイックミラー
20,22 リレーレンズ
24R,24G,24B フィールドレンズ
25(25R,25G,25B),125 液晶表示素子
26 クロスプリズム
27,127 投射レンズ
28 スクリーン
40A 対向基板
40B アクティブマトリクス基板
42 第1マイクロレンズアレイ
42M,242M,342M 第1マイクロレンズ
43 液晶層
44 第2マイクロレンズアレイ
44M,244M,344M 第2マイクロレンズ
45,145,245 画素電極部
46,146(146R,146G,146B) 画素電極
47,147 ブラックマトリクス
41,48 ガラス基板

Claims (2)

  1. 光を発する光源と、
    前記光源から出射された光を光学的に変調する液晶表示素子と、
    前記液晶表示素子によって変調された光を投射する投射レンズと、を備え、
    前記液晶表示素子は、
    液晶層と、
    高温ポリシリコンで形成されたTFT素子と、光が通過可能な2次元に配置された複数の画素開口を有する画素電極部と、
    前記液晶層に対して光入射側に形成され、前記複数の画素開口に対応して複数の正のパワーを有する第1マイクロレンズを2次元に配列した第1マイクロレンズアレイと、
    前記液晶層に対して光出射側に形成され、前記複数の画素開口に対応して複数の正のパワーを有する第2マイクロレンズを2次元に配列した第2マイクロレンズアレイと、を備え、
    前記第1マイクロレンズのFナンバーが前記投射レンズのFナンバー以上の大きさに設定され、
    前記第1マイクロレンズ及び前記第2マイクロレンズは、互いの主点位置が他方のマイクロレンズの焦点位置となるように配置され
    前記画素開口は、前記光源からの光のビームウェストの位置に配置され、
    前記液晶層に対して出射側に、前記画素電極部及び前記第2マイクロレンズアレイを有するアクティブマトリクス基板が設けられており、
    前記アクティブマトリクス基板は、前記画素電極部と前記液晶層との間の層間絶縁膜内に前記第2マイクロレンズアレイを配置しており、
    前記第2マイクロレンズアレイは、前記画素電極部の上に前記層間絶縁膜を積層し、前記層間絶縁膜を半球状にエッチングして形成された凹部に前記層間絶縁膜とは屈折率が異なる材料をレベリングして化学機械研磨で平坦化して第2マイクロレンズを形成し、前記第2マイクロレンズのコーナー部にコンタクトホールを形成して当該コンタクトホールに導電材料を充填してITO−ドレインコンタクトを形成し、前記第2マイクロレンズの上に透明電極と配向膜とを順次に積層する、ことにより形成される投射型液晶表示装置。
  2. 前記第1マイクロレンズ及び/又は前記第2マイクロレンズは、球面、非球面、またはフレネル面のいずれか1つ若しくは2以上を組み合わせて構成されている請求項1に記載の投射型液晶表示装置。
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