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JP5325491B2 - Novel coating type optical compensation film and method for producing the same - Google Patents

Novel coating type optical compensation film and method for producing the same Download PDF

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JP5325491B2 JP2008199419A JP2008199419A JP5325491B2 JP 5325491 B2 JP5325491 B2 JP 5325491B2 JP 2008199419 A JP2008199419 A JP 2008199419A JP 2008199419 A JP2008199419 A JP 2008199419A JP 5325491 B2 JP5325491 B2 JP 5325491B2
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Description

本発明は高い透明性、高いリタデーション(複屈折)、リタデーション(複屈折)の低波長分散性、高い有機溶媒溶解性(溶液製膜性)、且つ十分な膜靭性を併せ持つ、液晶ディスプレー用塗布型光学補償(位相差)材料として有用な脂環式ポリイミドを含有してなる光学補償フィルムおよびその製造方法に関する。   The present invention has high transparency, high retardation (birefringence), low wavelength dispersion of retardation (birefringence), high organic solvent solubility (solution film formability), and sufficient film toughness. The present invention relates to an optical compensation film containing an alicyclic polyimide useful as an optical compensation (retardation) material and a method for producing the same.

テレビに代表される大型フラットパネルディスプレー(FPD)には、これまでプラズマディスプレーが主流であったが、近年液晶ディスプレー(LCD)の大型化技術の進歩により、大型の液晶テレビの需要が急速に拡大している。   Conventionally, plasma displays have been the mainstream for large flat panel displays (FPDs) represented by television, but recently, demand for large liquid crystal televisions has rapidly expanded due to advances in the technology for increasing the size of liquid crystal displays (LCD). doing.

大型液晶テレビのようなLCDの使用形態で最も重要な要求特性としてコントラストの視野角依存性の低減が挙げられる。大型液晶テレビでは近年広視野角化に有利なVA(垂直配向)モードやIPS(面内配向スイッチング)モードのLCDが採用されている。   Reduction of the viewing angle dependency of contrast is one of the most important required characteristics in the usage form of an LCD such as a large liquid crystal television. In recent years, LCDs in VA (vertical alignment) mode and IPS (in-plane alignment switching) mode, which are advantageous for widening the viewing angle, have been adopted in large liquid crystal televisions.

LCD構成部材のうち液晶セルや偏光膜は元来光学異方性を有しているため、広い視野角に渡って高コントラストを維持する目的で、これらの部材ごとに適した光学補償フィルムが用いられている。   Among LCD components, liquid crystal cells and polarizing films inherently have optical anisotropy, so an optical compensation film suitable for each of these members is used for the purpose of maintaining high contrast over a wide viewing angle. It has been.

VAモードLCDにおける液晶層に対する光学補償用フィルムとして一般にネガティブCプレートとポジティブAプレートを組み合わせて使用されているが、最近、前者は直交同時2軸延伸した高分子フィルムが適用されている。   In general, a negative C plate and a positive A plate are used in combination as an optical compensation film for a liquid crystal layer in a VA mode LCD. Recently, a polymer film that is biaxially stretched at the same time is applied to the former.

上記位相差フィルムには斜めから見た時のコントラス低下を防止するだけでなく、リタデーション(複屈折)波長依存性を補償することによる色補償機能も求められる。   The retardation film is required not only to prevent a decrease in contrast when viewed obliquely but also to have a color compensation function by compensating for retardation (birefringence) wavelength dependency.

液晶セルに使用される液晶分子材料ではリタデーション(複屈折)の波長依存性はしばしば長波長ほどリタデーション(複屈折)値が減少する正常波長分散となる。例えばSTNモードLCDでは液晶材料はしばしば正常分散特性を有するため、波長分散特性が正で大きなポリカーボネート系位相差フィルムが用いられている。一方VAモード液晶セルでは液晶層のリタデーション(複屈折)波長依存性が、使用する液晶材料やカラーフィルタに由来して通常よりもかなり小さくなる場合があり、これを補償するためにはリタデーション(複屈折)低波長分散特性を有する位相差フィルムが必要となる。   In the liquid crystal molecular material used for the liquid crystal cell, the wavelength dependence of retardation (birefringence) often becomes normal wavelength dispersion in which the retardation (birefringence) value decreases as the wavelength increases. For example, in a STN mode LCD, since a liquid crystal material often has normal dispersion characteristics, a polycarbonate phase difference film having positive and large wavelength dispersion characteristics is used. On the other hand, in the VA mode liquid crystal cell, the retardation (birefringence) wavelength dependency of the liquid crystal layer may be considerably smaller than usual due to the liquid crystal material and color filter used. In order to compensate for this, the retardation (birefringence) Refraction) A retardation film having low wavelength dispersion characteristics is required.

最近、上記目的のためVAモード液晶セル用位相差フィルムとして2軸延伸したシクロオレフィン系ポリマーフィルムが採用されている。しかしながら、位相差フィルムを偏光フィルムと液晶セルの間に挿入するためには接着剤を用いて積層する工程が必要であるため、パネルの薄型化には不利となる。一方、ポリビニルアルコール/ヨウ素系偏光膜の偏光子保護フィルム(例えばトリアセチルセルロース(TAC)フィルム)の一部に位相差機能を付与したり、偏光膜保護機能を有する位相差フィルムを用いる等の方法でLCD中の部材数を減らす試みも行われている。   Recently, a cycloolefin polymer film stretched biaxially has been adopted as a retardation film for a VA mode liquid crystal cell for the above purpose. However, in order to insert the retardation film between the polarizing film and the liquid crystal cell, a step of laminating using an adhesive is necessary, which is disadvantageous for thinning the panel. On the other hand, a method of imparting a retardation function to a part of a polarizer protective film (for example, a triacetyl cellulose (TAC) film) of a polyvinyl alcohol / iodine polarizing film or using a retardation film having a polarizing film protective function Attempts have also been made to reduce the number of members in the LCD.

上記のように、透明高分子材料を位相差フィルムに適用するべく大きな複屈折を発現させるためには、通常は高分子フィルムを機械的に高倍率で延伸しなければならい。仮に偏光子保護フィルム上に高分子ワニスを塗付・乾燥するだけで、高いリタデーション(複屈折)且つその低波長分散性を有する透明材料があれば、LCD製造工程が著しく簡略化され、薄型化にも有効な材料を提供しうる。例えば、特許文献1には、ポリイミド樹脂を用いたコーティング層を使用することが提案されているが、波長分散性については述べられていなかった。   As described above, in order to develop a large birefringence in order to apply the transparent polymer material to the retardation film, it is usually necessary to mechanically stretch the polymer film at a high magnification. If a transparent material with high retardation (birefringence) and low wavelength dispersion is obtained simply by applying and drying a polymer varnish on the polarizer protective film, the LCD manufacturing process will be greatly simplified and thinned. In addition, an effective material can be provided. For example, Patent Document 1 proposes the use of a coating layer using a polyimide resin, but does not describe wavelength dispersion.

また、非特許文献1には脂環式ポリイミドi−HPMDA−PIが開示されているが、ガラス基板代替としての用途は記載されているが、光学補償フィルムとして使用可能か否かは不明であった。
特表平8−511812 Polymer Preprints,Japan 268Vol.57, No.1(2008)
Although Non-Patent Document 1 discloses alicyclic polyimide i-HPMDA-PI, the use as an alternative to a glass substrate is described, but it is unclear whether it can be used as an optical compensation film. It was.
Special table flat 8-511812 Polymer Preprints, Japan 268 Vol. 57, no. 1 (2008)

本発明は高い透明性、高いリタデーション(複屈折)、リタデーション(複屈折)の低波長分散性、高い有機溶媒溶解性(溶液製膜性)、且つ十分な膜靭性を併せ持つ、液晶ディスプレー用塗布型光学補償(位相差)フィルム材料として有用な脂環式ポリイミドを含有してなる光学補償フィルムとその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has high transparency, high retardation (birefringence), low wavelength dispersion of retardation (birefringence), high organic solvent solubility (solution film formability), and sufficient film toughness. An object of the present invention is to provide an optical compensation film containing an alicyclic polyimide useful as an optical compensation (retardation) film material and a method for producing the same.

以上の問題を鑑み、鋭意研究を積み重ねた結果、下記一般式(1):
下記一般式(1):
As a result of intensive research in view of the above problems, the following general formula (1):
The following general formula (1):

Figure 0005325491
Figure 0005325491

(式(1)中、Aは2価の芳香族基または芳香族基を表す。)
で表される繰り返し単位を有するポリイミドのワニスを偏光子保護フィルム上に塗付・乾燥することで上記産業分野において極めて有益な位相差フィルムとなることを見出し、本発明を完成するに至った。
(In formula (1), A represents a divalent aromatic group or an aromatic group.)
It was found that a polyimide varnish having a repeating unit represented by the formula (1) was coated on a polarizer protective film and dried to be a very useful retardation film in the industrial field, and the present invention was completed.

即ち本発明の要旨は以下に示すものである。
1.上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリイミドを含有してなる光学補償フィルム。
That is, the gist of the present invention is as follows.
1. An optical compensation film comprising a polyimide having a repeating unit represented by the above formula (1).


2.上記式(1)で表されるポリイミドのワニスを基板上に塗付・乾燥することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。

2. A method for producing an optical compensation film, which comprises applying and drying a polyimide varnish represented by the above formula (1) on a substrate.

本発明によれば、高い透明性、高いリタデーション(複屈折)、リタデーション(複屈折)の低波長分散性、高い有機溶媒溶解性(溶液製膜性)、且つ十分な膜靭性を併せ持つ脂環式ポリイミドを含有してなる光学補償フィルム材料及びその製造方法を提供することができる。この脂環式ポリイミドは自己配向性によりそのワニスを塗付・乾燥するだけで大きなリタデーション(複屈折)と同時にその低波長分散性を発現することから、特にVAモードLCD用位相差フィルムとしてとして極めて有用である。   According to the present invention, an alicyclic compound having high transparency, high retardation (birefringence), low wavelength dispersion of retardation (birefringence), high organic solvent solubility (solution film-forming property), and sufficient film toughness. An optical compensation film material containing polyimide and a method for producing the same can be provided. This cycloaliphatic polyimide exhibits high retardation (birefringence) and low wavelength dispersion by applying and drying the varnish due to self-orientation, so it is extremely useful as a retardation film for VA mode LCDs. Useful.

以下に本発明の実施の形態について詳細に説明するが、これらは本発明の実施形態の一例であり、これらの内容に限定されない。     Embodiments of the present invention will be described in detail below, but these are examples of the embodiments of the present invention and the present invention is not limited to these contents.

まず本発明の光学補償材料を構成するポリイミドについて説明する。式(1)で表される脂環式ポリイミドは、下記式(2):   First, the polyimide constituting the optical compensation material of the present invention will be described. The alicyclic polyimide represented by the formula (1) is represented by the following formula (2):

Figure 0005325491
Figure 0005325491

で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物即ち(1R,2S,4S,5R)−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物を使用し、これとジアミンを等モル重付加反応してポリイミド前駆体とし、これをイミド化して製造することができる。 Is used, and (1R, 2S, 4S, 5R) -cyclohexanetetracarboxylic dianhydride is used to form a polyimide precursor by equimolar polyaddition reaction with diamine. This can be produced by imidization.

まず発明に係る光学補償フィルムを構成するポリイミド透明性について説明する。芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンから得られる一般の全芳香族ポリイミド系ではジイミド部位が電子受容体、ジアミン部位が電子供与体として作用し、分子内および分子間電荷移動相互作用によりポリイミドフィルムが著しく着色する。一方、該脂環式ポリイミドは上記脂環式テトラカルボン酸二無水物を用いているため、電荷移動相互作用が完全に妨害され、ポリイミドフィルムを無色透明にすることが可能である。   First, the transparency of polyimide constituting the optical compensation film according to the invention will be described. In general wholly aromatic polyimide systems obtained from aromatic tetracarboxylic dianhydrides and aromatic diamines, the diimide moiety acts as an electron acceptor and the diamine moiety acts as an electron donor, resulting in intramolecular and intermolecular charge transfer interactions. The polyimide film is markedly colored. On the other hand, since the alicyclic polyimide uses the alicyclic tetracarboxylic dianhydride, the charge transfer interaction is completely hindered, and the polyimide film can be made colorless and transparent.

次に本発明に係る光学補償フィルムの複屈折について説明する。フィルム面方向をXおよびY軸、膜厚方向をZ軸とおけば、XおよびY方向の屈折率が等しく(n=n=nin)且つ、これらがZ方向の屈折率(n)より高くなっているネガティブCプレート位相差フィルムを作製するためには通常、高分子フィルムを高倍率で直交同時2軸延伸してポリマー鎖をフィルム面に対してできるだけ平行に配向(以後、面内配向と称する)させる必要がある。このような延伸操作を行わず、ワニスの溶液キャスト製膜工程のみで大きな複屈折(Δn=nin−n)を発現させることは通常極めて困難であるが、式(1)で表される脂環式ポリイミドはこれを実現することができる。 Next, the birefringence of the optical compensation film according to the present invention will be described. Film surface direction X and Y-axis, if put the film thickness direction and Z-axis, equal X and Y directions of the refractive index (n x = n y = n in) and the refractive index of the Z-direction (n z ) In order to produce a higher negative C plate retardation film, a polymer film is usually biaxially stretched at a high magnification and orthogonally and the polymer chains are oriented as parallel as possible to the film surface (hereinafter referred to as surface). (Referred to as inner orientation). Without such stretching operations, to express a large birefringence (Δn = n in -n z) only in a solution cast film process the varnish is usually very difficult, the formula (1) Alicyclic polyimides can achieve this.

キャスト製膜工程でポリイミド鎖の面内配向を誘起して高い複屈折を発現させるためには、ポリイミドの主鎖骨格が高い直線性・剛直性を保持していることが好ましい。そのため重合に使用するジアミン成分も同様に直線性の高い分子構造を有するものを用いるのが好ましい。   In order to induce a high birefringence by inducing in-plane orientation of the polyimide chain in the cast film forming process, it is preferable that the main chain skeleton of the polyimide has high linearity and rigidity. For this reason, it is preferable to use a diamine component used for the polymerization having a highly linear molecular structure.

しかしながら、剛直で直線状のジアミンを単独で使用すると、高い複屈折の発現こそ期待されるが、得られるポリイミドは有機溶媒に対する溶解性を失い、ワニスの塗布・乾燥による製膜工程そのものが困難となる恐れがある。   However, if a rigid and linear diamine is used alone, high birefringence is expected, but the resulting polyimide loses solubility in organic solvents, and the film formation process itself by applying and drying varnish is difficult. There is a fear.

たとえ剛直なジアミンを用いたとしても、ポリイミドの前駆体の段階では有機溶媒に可溶である。従ってポリイミドフィルムを形成するために、ポリイミドワニスを用いる代わりにポリイミド前駆体ワニスを塗布・乾燥・熱イミド化することも可能である。しかしながら、基板が耐熱性の低いTACフィルムである場合は、250℃以上での加熱を必要とする熱イミド化工程は採用不可である。   Even if rigid diamines are used, they are soluble in organic solvents at the polyimide precursor stage. Therefore, in order to form a polyimide film, a polyimide precursor varnish can be applied, dried, and thermally imidized instead of using a polyimide varnish. However, when the substrate is a TAC film having low heat resistance, a thermal imidization process that requires heating at 250 ° C. or higher cannot be employed.

また偏光子保護フィルム上にポリイミドワニスを塗布・乾燥する場合、式(1)で表される脂環式ポリイミドは偏光子保護フィルム層を浸蝕しない溶媒が任意に選択される。例えば偏光子保護フィルムをTACフィルムとする場合、TACフィルムを浸蝕しないアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒や酢酸エチル、γ―ブチロラクトン等のエステル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒に室温で高い溶解性を有し、安定なワニスを形成をすることが必要となる。   Moreover, when apply | coating and drying a polyimide varnish on a polarizer protective film, the solvent which does not erode a polarizer protective film layer is arbitrarily selected for the alicyclic polyimide represented by Formula (1). For example, when the polarizer protective film is a TAC film, a ketone solvent such as acetone, cyclopentanone, or cyclohexanone that does not erode the TAC film, an ester solvent such as ethyl acetate or γ-butyrolactone, or an aromatic solvent such as toluene or xylene It is necessary to form a stable varnish having high solubility in a solvent at room temperature.

本発明の光学補償材料を構成するポリイミドが上記の要求特性を実現するために使用可能なジアミンは特に限定されないが、ジアミン成分のうち例えば下記式(3)〜(5):   The diamine that can be used for the polyimide constituting the optical compensation material of the present invention to realize the above-mentioned required properties is not particularly limited, but among the diamine components, for example, the following formulas (3) to (5):

Figure 0005325491
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Figure 0005325491
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Figure 0005325491
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のいずれかで表される、フッ素置換基を有する剛直構造のジアミンを単独あるいは部分的に用いることが好ましい。 It is preferred to use a diamine having a rigid structure having a fluorine substituent, either alone or in part.

上記ジアミンに加え、脂肪族ジアミンを共重合成分として部分的に併用することにより、低波長分散性を更に改善することもできる。   In addition to the above diamine, the low wavelength dispersibility can be further improved by partially using an aliphatic diamine as a copolymerization component.

ジアミン成分として上記以外に屈曲結合を有する4,4’−オキシジアニリン等のジアミンモノマーを共重合成分として併用することでポリイミドの溶解性や膜靭性を更に改善することもできる。
<ポリイミド前駆体の製造方法>
本発明に係る光学補償フィルムを構成するポリイミドの前駆体を製造する方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。より具体的には、以下の方法により得られる。まずジアミンを重合溶媒に溶解し、この溶液にジアミンと実質的に等モルの該脂環式テトラカルボン酸二無水物粉末を徐々に添加し、メカニカルスターラーを用い、0〜100℃、好ましくは20〜60℃で0.5〜150時間好ましくは1〜48時間攪拌する。この際モノマー濃度は5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。このモノマー濃度範囲で重合を行うことにより均一で高重合度のポリイミド前駆体溶液を得ることができる。ポリイミド前駆体の重合度が増加しすぎて、重合溶液が攪拌しにくくなった場合は、適宜同一溶媒で希釈することもできる。
In addition to the above, as a diamine component, a diamine monomer such as 4,4′-oxydianiline having a flex bond may be used as a copolymer component to further improve the solubility and film toughness of polyimide.
<Method for producing polyimide precursor>
The method for producing the polyimide precursor constituting the optical compensation film according to the present invention is not particularly limited, and a known method can be applied. More specifically, it is obtained by the following method. First, diamine is dissolved in a polymerization solvent, and substantially equimolar amount of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride powder is gradually added to the solution, and 0 to 100 ° C., preferably 20 using a mechanical stirrer. Stir at -60 ° C for 0.5-150 hours, preferably 1-48 hours. In this case, the monomer concentration is 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight. By carrying out polymerization in this monomer concentration range, a polyimide precursor solution having a uniform and high degree of polymerization can be obtained. When the polymerization degree of the polyimide precursor increases too much and the polymerization solution becomes difficult to stir, it can be appropriately diluted with the same solvent.

ポリイミドフィルムの靭性の観点からポリイミド前駆体の重合度はできるだけ高いことが望ましい。上記モノマー濃度範囲で重合を行うことによりポリマーの重合度が十分高く、モノマー及びポリマーの溶解性も十分確保することができる。上記範囲より低い濃度で重合を行うと、ポリイミド前駆体の重合度が十分高くならない場合があり、また、上記モノマー濃度範囲より高濃度で重合を行うと、モノマーや生成するポリマーの溶解が不十分となる場合がある。また、脂肪族ジアミンを使用した場合、重合初期にしばしば塩形成が起こり、重合が妨害されるが、塩形成を抑制しつつできるだけ重度を上げるためには、重合時のモノマー濃度に注意を払うべきである。   From the viewpoint of the toughness of the polyimide film, it is desirable that the degree of polymerization of the polyimide precursor is as high as possible. By performing the polymerization in the above monomer concentration range, the degree of polymerization of the polymer is sufficiently high, and the solubility of the monomer and the polymer can be sufficiently ensured. When polymerization is performed at a concentration lower than the above range, the degree of polymerization of the polyimide precursor may not be sufficiently high, and when polymerization is performed at a concentration higher than the above monomer concentration range, the monomer and the polymer to be generated are not sufficiently dissolved. It may become. In addition, when an aliphatic diamine is used, salt formation often occurs at the initial stage of polymerization and the polymerization is hindered. However, in order to increase the severity as much as possible while suppressing the salt formation, attention should be paid to the monomer concentration at the time of polymerization. It is.

また、ポリイミドフィルムの靭性およびワニスのハンドリングの観点から、ポリイミド前駆体の固有粘度は好ましくは0.1〜5.0dL/gの範囲であり、0.3〜3.0dL/gの範囲であることがより好ましい。   Further, from the viewpoint of polyimide film toughness and varnish handling, the intrinsic viscosity of the polyimide precursor is preferably in the range of 0.1 to 5.0 dL / g, and in the range of 0.3 to 3.0 dL / g. It is more preferable.

本発明に係る光学補償フィルムを構成するポリイミドの要求特性およびポリイミド前駆体の重合反応性を損なわない範囲で、重合の際に使用可能な芳香族ジアミンとしては、特に限定されないが、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキシレン、2,4−ジアミノデュレン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−メチレンビス(2−メチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2−エチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジエチルアニリン)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、2,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート、ベンジジン、3,3’−ジヒドロキシベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、o−トリジン、m−トリジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、p−ターフェニレンジアミン等が挙げられる。またこれらを2種類以上併用することもできる。   The aromatic diamine that can be used in the polymerization is not particularly limited as long as the required characteristics of the polyimide constituting the optical compensation film according to the present invention and the polymerization reactivity of the polyimide precursor are not impaired, but p-phenylenediamine is not particularly limited. M-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, 2,4-diaminoxylene, 2,4-diaminodurene, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-methylenebis (2 -Methylaniline), 4,4'-methylenebis (2-ethylaniline), 4,4'-methylenebis (2,6-dimethylaniline), 4,4'-methylenebis (2,6-diethylaniline), 4, 4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether Ter, 2,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diamino Benzanilide, 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate, benzidine, 3,3′-dihydroxybenzidine, 3,3′-dimethoxybenzidine, o-tolidine, m-tolidine, 2,2′-bis (trifluoromethyl) Benzidine, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4 -Aminophenoxy) biphenyl, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4 -(4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2 , 2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, p-terphenylenediamine and the like. Two or more of these may be used in combination.

本発明に係る光学補償フィルムを構成するポリイミドの要求特性およびポリイミド前駆体の重合反応性を損なわない範囲で、重合の際に使用可能な脂肪族ジアミンとしては、特に限定されないが、例えば、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、イソホロンジアミン、トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン、シス−1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,4−シクロヘキサンビス(メチルアミン)、2,5−ビス(アミノメチル)ビシクロ〔2.2.1〕ヘプタン、2,6−ビス(アミノメチル)ビシクロ〔2.2.1〕ヘプタン、3,8−ビス(アミノメチル)トリシクロ〔5.2.1.0〕デカン、1,3−ジアミノアダマンタン、2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)ヘキサフルオロプロパン、1,3−プロパンジアミン、1,4−テトラメチレンジアミン、1,5−ペンタメチレンジアミン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,7−ヘプタメチレンジアミン、1,8−オクタメチレンジアミン、1,9−ノナメチレンジアミン等が挙げられる。またこれらを2種類以上併用することもできる。   The aliphatic diamine that can be used in the polymerization is not particularly limited as long as the required characteristics of the polyimide constituting the optical compensation film according to the present invention and the polymerization reactivity of the polyimide precursor are not impaired. 4'-methylenebis (cyclohexylamine), isophoronediamine, trans-1,4-diaminocyclohexane, cis-1,4-diaminocyclohexane, 1,4-cyclohexanebis (methylamine), 2,5-bis (aminomethyl) Bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 3,8-bis (aminomethyl) tricyclo [5.2.1.0] decane, 1,3-diaminoadamantane, 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) propane, 2,2-bis (4-aminocycline) Hexyl) hexafluoropropane, 1,3-propanediamine, 1,4-tetramethylenediamine, 1,5-pentamethylenediamine, 1,6-hexamethylenediamine, 1,7-heptamethylenediamine, 1,8-octa Examples include methylene diamine and 1,9-nonamethylene diamine. Two or more of these may be used in combination.

ポリイミドフィルムの複屈折発現という観点から、ポリイミド鎖の面内配向を誘起するのに有効な剛直・直線性の高い構造を有するジアミン即ち、p−フェニレンジアミン、2−トリフルオロメチル−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジアミノトルエン、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート、ベンジジン、3,3’−ジヒドロキシベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、o−トリジン、m−トリジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、p−ターフェニレンジアミン、トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン等をジアミン成分として使用することができるが、ポリイミドフィルムのリタデーション(複屈折)、その低波長分散性および溶媒溶解性の観点から2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、2−トリフルオロメチル−1,4−フェニレンジアミン等が特に好適に用いられる。また、上記剛直構造のジアミンの含有量は全ジアミン使用量の10〜100モル%、好ましくは30〜95モル%である。   From the viewpoint of developing birefringence of the polyimide film, a diamine having a highly rigid and highly linear structure effective for inducing in-plane orientation of the polyimide chain, that is, p-phenylenediamine, 2-trifluoromethyl-1,4- Phenylenediamine, 2,5-diaminotoluene, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminobenzanilide, 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate, benzidine, 3,3'-dihydroxybenzidine, 3, 3'-dimethoxybenzidine, o-tolidine, m-tolidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, p-terphenylenediamine, trans-1,4-diaminocyclohexane, etc. can be used as the diamine component. Yes, but the retardation (birefringence) of the polyimide film 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine, 3,3′-bis (trifluoromethyl) benzidine, 2-trifluoromethyl-1,4-phenylenediamine, etc. from the viewpoint of low wavelength dispersibility and solvent solubility Is particularly preferably used. Further, the content of the rigid structure diamine is 10 to 100 mol%, preferably 30 to 95 mol% of the total amount of diamine used.

該ポリイミド前駆体は式(2)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物とその他の脂環式テトラカルボン酸二無水物を共重合成分として用いて重合を行う。その際共重合可能な脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、特に限定されないが、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、5−(ジオキソテトラヒドロフリル−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−テトラリン−1,2−ジカルボン酸無水物、テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。またこれらを2種類以上併用することもできる。上記の脂環式酸二無水物の内、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物がより好適に用いられる。共重合の際、式(14)で表される酸二無水物の含有率は全酸二無水物使用量に対して10〜99モル%である。   The polyimide precursor is polymerized using an alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (2) and another alicyclic tetracarboxylic dianhydride as a copolymerization component. In this case, the copolymerizable alicyclic tetracarboxylic dianhydride is not particularly limited, but bicyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [ 2.2.2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 5- (dioxotetrahydrofuryl-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -tetralin-1,2-dicarboxylic anhydride, tetrahydrofuran-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo-3, Examples thereof include 3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, etc. Two or more of these may be used in combination. Alicyclic acid Among the water substances, bicyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride is more preferably used.In the copolymerization, the acid represented by the formula (14) is used. The content of dianhydride is 10 to 99 mol% with respect to the total amount of acid dianhydride used.

重合反応の際使用される溶媒としてはN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホオキシド等の非プロトン性溶媒が好ましいが、原料モノマーと生成するポリイミド前駆体が溶解すれば問題はなく特にその構造には限定されない。具体的に例示するならば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド溶媒、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチルーγ−ブチロラクトン等の環状エステル溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート溶媒、トリエチレングリコール等のグリコール系溶媒、m−クレゾール、p−クレゾール、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール等のフェノール系溶媒、アセトフェノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシドなどが好ましく採用される。さらに、その他の一般的な有機溶剤、即ちフェノール、0−クレゾール、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールメチルアセテート、エチルセロソルブ、プチルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒なども添加して使用できる。   The solvent used in the polymerization reaction is preferably an aprotic solvent such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, etc., but is formed with raw material monomers. There is no problem as long as the polyimide precursor is dissolved, and the structure is not particularly limited. Specifically, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, γ-caprolactone, ε -Cyclic ester solvents such as caprolactone, α-methyl-γ-butyrolactone, carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate, glycol solvents such as triethylene glycol, m-cresol, p-cresol, 3-chlorophenol, 4-chloro Phenol solvents such as phenol, acetophenone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane, dimethyl sulfoxide and the like are preferably used. In addition, other common organic solvents such as phenol, 0-cresol, butyl acetate, ethyl acetate, isobutyl acetate, propylene glycol methyl acetate, ethyl cellosolve, ptyl cellosolve, 2-methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, Tetrahydrofuran, dimethoxyethane, diethoxyethane, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, xylene, toluene, chlorobenzene, terpene, mineral spirit, Petroleum naphtha solvents can also be added.

上記のようにして得られたポリイミド前駆体はその重合溶液を、大量の水やメタノール等の貧溶媒中に滴下・濾過・乾燥し、粉末として単離することもできる。
<脂環式ポリイミドの製造方法>
本発明の光学補償材料を構成する脂環式ポリイミドは、上記の方法で得られたポリイミド前駆体を脱水閉環反応(イミド化反応)することで製造することができる。イミド化の方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。ポリイミドの使用可能な形態は、フィルム、金属箔/ポリイミドフィルム積層体、プラスチックフィルム/ポリイミド積層体、粉末、成型体およびワニスが挙げられる。
The polyimide precursor obtained as described above can be isolated as a powder by dropping, filtering and drying the polymerization solution into a large amount of poor solvent such as water or methanol.
<Method for producing alicyclic polyimide>
The alicyclic polyimide constituting the optical compensation material of the present invention can be produced by subjecting the polyimide precursor obtained by the above method to a dehydration ring-closing reaction (imidation reaction). The imidization method is not particularly limited, and a known method can be applied. Examples of usable forms of polyimide include films, metal foil / polyimide film laminates, plastic film / polyimide laminates, powders, molded articles, and varnishes.

まずポリイミドフィルムを製造する方法について述べる。用いる基板がガラス、銅、アルミニウム、ステンレス、シリコン等の耐熱基板である場合は、まずポリイミド前駆体の重合溶液(ワニス)をこれらの基板上に流延し、オーブン中40〜180℃、好ましくは50〜150℃で乾燥する。次に得られたポリイミド前駆体フィルムを基板上で真空中、窒素等の不活性ガス中、あるいは空気中200〜400℃、より好ましくは250〜350℃で加熱することでポリイミドフィルムを製造することができる。加熱温度はイミド化の閉環反応を十分に行なうという観点から200℃以上、生成したポリイミドフィルムの熱安定性の観点から400℃以下が好ましい。またイミド化は真空中あるいは不活性ガス中で行うことが望ましいが、イミド化温度が高すぎなければ空気中でイミド化を行っても差し支えない。   First, a method for producing a polyimide film will be described. When the substrate to be used is a heat-resistant substrate such as glass, copper, aluminum, stainless steel, silicon, etc., first, a polyimide precursor polymerization solution (varnish) is cast on these substrates, and 40 to 180 ° C. in an oven, preferably Dry at 50-150 ° C. Next, a polyimide film is produced by heating the obtained polyimide precursor film on a substrate in a vacuum, in an inert gas such as nitrogen, or in air at 200 to 400 ° C., more preferably 250 to 350 ° C. Can do. The heating temperature is preferably 200 ° C. or higher from the viewpoint of sufficiently carrying out the imidization ring-closing reaction, and 400 ° C. or lower from the viewpoint of the thermal stability of the produced polyimide film. Moreover, it is desirable to perform imidization in a vacuum or in an inert gas, but if the imidization temperature is not too high, imidation may be performed in air.

またイミド化反応は、上記のような熱処理に代えて、ポリイミド前駆体フィルムをピリジンやトリエチルアミン等の3級アミン存在下、無水酢酸等の脱水環化試薬を含有する溶液に浸漬することによって行うことも可能である。また、これらの脱水環化試薬をあらかじめポリイミド前駆体ワニス中に投入・攪拌し、それを上記基板上に流延・乾燥することで、部分的にイミド化したポリイミド前駆体フィルムを作製することもでき、これを更に上記のように熱処理することでポリイミドフィルムが得られる。   The imidation reaction is performed by immersing the polyimide precursor film in a solution containing a dehydrating cyclization reagent such as acetic anhydride in the presence of a tertiary amine such as pyridine or triethylamine instead of the heat treatment as described above. Is also possible. Moreover, it is also possible to prepare a partially imidized polyimide precursor film by previously charging and stirring these dehydrating cyclization reagents in a polyimide precursor varnish, and casting and drying them on the substrate. This can be further heat-treated as described above to obtain a polyimide film.

また、上記脱水環化試薬をポリイミド前駆体ワニス中に投入し、−20〜150℃、好ましくは20〜80℃で0.5〜48時間攪拌し化学イミド化を完結させることも可能である。反応溶液にポリイミドが可溶である場合、反応溶液を大量の水やメタノール等の貧溶媒中に滴下・濾過しポリイミドを粉末として単離することもできる。またポリイミド粉末を上記重合溶媒に再溶解してポリイミドワニスとすることができる。   The dehydration cyclization reagent can be charged into the polyimide precursor varnish and stirred at −20 to 150 ° C., preferably 20 to 80 ° C. for 0.5 to 48 hours to complete the chemical imidization. When the polyimide is soluble in the reaction solution, the reaction solution can be dropped and filtered into a large amount of poor solvent such as water or methanol to isolate the polyimide as a powder. Moreover, a polyimide powder can be redissolved in the said polymerization solvent to make a polyimide varnish.

ポリイミド前駆体の重合溶液をそのままあるいは同一の溶媒で適度に希釈した後、その溶液を150〜250℃に加熱することで、ポリイミド自体が用いた溶媒に溶解する場合、本発明のポリイミドのワニスを容易に製造することができる。溶媒に不溶な場合は、ポリイミド粉末を沈殿物として得ることができる。この際、イミド化の副生成物である水等を共沸留去するために、トルエンやキシレン等を添加しても差し支えない。また触媒としてγ―ピコリン等の塩基を添加することができる。得られたワニスを大量の水やメタノール等の貧溶媒中に滴下・濾過・乾燥し、ポリイミドを粉末として単離することもできる。   When the polyimide precursor polymerization solution is diluted as it is or with the same solvent, the polyimide varnish of the present invention is used when the solution is heated to 150 to 250 ° C. and dissolved in the solvent used by the polyimide itself. It can be manufactured easily. When insoluble in the solvent, the polyimide powder can be obtained as a precipitate. At this time, toluene, xylene or the like may be added in order to azeotropically distill off water or the like which is a by-product of imidization. Further, a base such as γ-picoline can be added as a catalyst. The obtained varnish can be dropped, filtered and dried in a large amount of poor solvent such as water or methanol to isolate the polyimide as a powder.

ポリイミドの分子量低下をできるだけ抑制するという観点から、ポリイミド前駆体ワニスを加熱してイミド化する方法より、ワニス中に化学イミド化試薬を投入・攪拌し加熱せずにイミド化するほうが望ましい。   From the viewpoint of suppressing the molecular weight reduction of the polyimide as much as possible, it is preferable to imidize the varnish without heating by adding and stirring a chemical imidizing reagent, rather than heating and imidizing the polyimide precursor varnish.

ポリイミド粉末を溶媒に再溶解してワニスとする際に使用可能な溶媒として、特に限定されないが、上記重合溶媒を使用することができる。また、偏光子保護フィルム上にポリイミドワニスを塗付・乾燥してポリイミドフィルムを形成する場合は、偏光子保護フィルムを浸蝕しない溶媒が好適に用いられる。例えば、偏光子保護フィルムとして代表的なTACフィルムを用いる場合は、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチルーγ−ブチロラクトン、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル等のエステル系溶媒、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルエチルケトン、アセトン等のケトン系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好適に用いられる。   Although it does not specifically limit as a solvent which can be used when melt | dissolving a polyimide powder in a solvent again to make a varnish, The said polymerization solvent can be used. Moreover, when a polyimide varnish is applied and dried on a polarizer protective film to form a polyimide film, a solvent that does not erode the polarizer protective film is preferably used. For example, when a typical TAC film is used as a polarizer protective film, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, γ-caprolactone, ε-caprolactone, α-methyl-γ-butyrolactone, butyl acetate, acetic acid Ester solvents such as ethyl and isobutyl acetate, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone and acetone, and aromatic solvents such as toluene and xylene are preferably used.

また、該ポリイミドは、式(2)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物とジアミンを溶媒中高温で反応させることにより、ポリイミド前駆体を一旦形成することなく、一段階で重合することができる。この際、反応溶液は反応促進の観点から、130〜250℃、好ましくは150〜200℃の温度範囲に保持するとよい。また該ポリイミドが用いた溶媒に不溶な場合、ポリイミドは沈殿として得られ、可溶な場合はポリイミドのワニスとして得られる。重合溶媒は特に限定さないが、使用可能な溶媒として、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性溶媒が例として挙げられが、より好ましくはm−クレゾール等のフェノール系溶媒やNMP等のアミド系溶媒が用いられる。これらの溶媒にイミド化反応の副生成物である水を共沸留去するために、トルエンやキシレン等を添加することができる。またイミド化触媒としてγ―ピコリン等の塩基を添加することができる。得られたワニスを大量の水やメタノール等の貧溶媒中に滴下・濾過・乾燥しポリエステルイミドを粉末として単離することができる。またポリイミドが溶媒に可溶である場合はその粉末を上記溶媒に再溶解してポリイミドワニスとすることができる。   In addition, the polyimide is polymerized in one step without once forming a polyimide precursor by reacting the alicyclic tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (2) with a diamine in a solvent at a high temperature. be able to. At this time, the reaction solution may be maintained in a temperature range of 130 to 250 ° C., preferably 150 to 200 ° C. from the viewpoint of promoting the reaction. When the polyimide is insoluble in the solvent used, the polyimide is obtained as a precipitate, and when soluble, it is obtained as a polyimide varnish. The polymerization solvent is not particularly limited, and examples of usable solvents include aprotic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and dimethyl sulfoxide. However, a phenol solvent such as m-cresol or an amide solvent such as NMP is more preferably used. In order to azeotropically distill off water, which is a by-product of the imidization reaction, to these solvents, toluene, xylene, or the like can be added. A base such as γ-picoline can be added as an imidization catalyst. The resulting varnish can be dropped, filtered and dried in a large amount of poor solvent such as water or methanol to isolate the polyesterimide as a powder. When the polyimide is soluble in a solvent, the powder can be redissolved in the above solvent to obtain a polyimide varnish.

上記ポリイミドワニスを基板上に塗布し、40〜400℃、好ましくは100〜350℃で乾燥するによってもポリイミドフィルムを形成することができる。特にTACフィルム上に該ポリイミドフィルムを形成する場合は、TACフィルムの耐熱性の観点から乾燥は40〜150℃、好ましくは50〜140℃で行う。   A polyimide film can also be formed by applying the polyimide varnish on a substrate and drying at 40 to 400 ° C., preferably 100 to 350 ° C. In particular, when the polyimide film is formed on a TAC film, drying is performed at 40 to 150 ° C, preferably 50 to 140 ° C, from the viewpoint of heat resistance of the TAC film.

上記のように得られたポリイミド粉末を200〜450℃、好ましくは250〜400℃で加熱溶融または圧縮することで該ポリイミドをフィルム状に熱成型することもできる。   The polyimide powder obtained as described above can be thermoformed into a film by heating and melting or compressing at 200 to 450 ° C., preferably 250 to 400 ° C.

ポリイミド前駆体溶液中にN,N−ジシクロヘキシルカルボジイミドやトリフルオロ無水酢酸等の脱水試薬を添加・撹拌して0〜150℃、好ましくは20〜100℃で反応させることにより、ポリイミドの異性体であるポリイソイミドが生成する。イソイミド化反応は上記脱水試薬を含有する溶液中にポリエステルイミド前駆体フィルムを浸漬することでも可能である。ポリイソイミドワニスを上記と同様な手順で製膜した後、250〜400℃、好ましくは270〜350℃で熱処理することにより、ポリイミドへ容易に変換することができる。   It is an isomer of polyimide by adding and stirring a dehydrating reagent such as N, N-dicyclohexylcarbodiimide or trifluoroacetic anhydride in the polyimide precursor solution and reacting at 0 to 150 ° C., preferably 20 to 100 ° C. Polyisoimide is formed. The isoimidization reaction can also be performed by immersing the polyesterimide precursor film in a solution containing the dehydrating reagent. After polyisoimide varnish is formed in the same procedure as described above, it can be easily converted to polyimide by heat treatment at 250 to 400 ° C., preferably 270 to 350 ° C.

ポリイミドおよびその前駆体中に、必要に応じて酸化安定剤、フィラー、接着促進剤、シランカップリング剤、感光剤、光重合開始剤、増感剤、末端封止剤、架橋剤等の添加物を加えることができる。
<ポリイミドの要求特性>
上記ポリイミドを位相差フィルムに適用するために要求されるフィルム特性として、高透明性、高リタデーション(複屈折)、リタデーション(複屈折)の低波長分散特性、高い溶解性、および十分な膜靭性が挙げられる。
Additives such as oxidation stabilizers, fillers, adhesion promoters, silane coupling agents, photosensitizers, photopolymerization initiators, sensitizers, end-capping agents, crosslinking agents, etc., as necessary, in the polyimide and its precursors Can be added.
<Required properties of polyimide>
The film characteristics required for applying the polyimide to the retardation film include high transparency, high retardation (birefringence), low wavelength dispersion characteristics of retardation (birefringence), high solubility, and sufficient film toughness. Can be mentioned.

上記ポリイミドフィルムは無着色であることが必要である。透明性の指標として膜厚20μmのフィルムの波長400nmにおける光透過率が75%以上であれば支障はなく、好ましくは80%以上であり、更に好ましくは85%以上である。   The polyimide film needs to be uncolored. If the light transmittance at a wavelength of 400 nm of a film having a thickness of 20 μm is 75% or more as an index of transparency, there is no problem, preferably 80% or more, and more preferably 85% or more.

上記ポリイミドフィルムは高いリターデーション(複屈折)値を有することが必要である。リタデーションの指標として波長550nmにおける複屈折値Δn(nin−n)が0.01以上であれば支障は無く、好ましくは0.02以上、更に好ましくは0.03以上である。リタデーションRe=Δn×d(dは膜厚)の関係からポリイミドフィルムの複屈折値が高いほど位相差フィルムの膜厚を薄く設計できる点で有利である。 The polyimide film needs to have a high retardation (birefringence) value. No hindrance if the birefringence value Δn (n in -n z) is 0.01 or more at a wavelength of 550nm as an index of the retardation is preferably 0.02 or more, more preferably 0.03 or more. From the relationship of retardation Re = Δn × d (d is film thickness), the higher the birefringence value of the polyimide film, the more advantageous it is that the film thickness of the retardation film can be designed thinner.

上記ポリイミドフィルムはリタデーション(複屈折)の低波長分散特性を示すことが必要である。その指標として450nmおよび550nmにおけるリタデーションまたは複屈折の比(Re450/Re550=Δn450/Δn550)が1.06以下であれば支障はなく、好ましくは1.04以下、更に好ましくは1.03以下である。 The polyimide film needs to exhibit low wavelength dispersion characteristics of retardation (birefringence). If the ratio of retardation or birefringence at 450 nm and 550 nm (Re 450 / Re 550 = Δn 450 / Δn 550 ) is 1.06 or less, there is no problem, preferably 1.04 or less, more preferably 1. 03 or less.

上記ポリイミドフィルムは十分な膜靭性を示すことが必要である。その指標として180°折曲試験によりフィルムが破断しないことが必要である。   The polyimide film needs to exhibit sufficient film toughness. As an index, it is necessary that the film does not break by a 180 ° bending test.

上記ポリイミドフィルムを基板上に溶液キャスト法で製膜するためには有機溶媒に対する溶解性が必要である。特にTACフィルム上に製膜するためにはTACフィルムを侵食しないケトン系溶媒やエステル系溶媒及び芳香族系溶媒に対する溶解性が必要となる。また、TACフィルムの耐熱性やポリイミド自身の配向緩和を防止する観点から、キャスト製膜(乾燥)温度はできるだけ低いことが望ましい。そのため溶液キャスト製膜に用いる溶媒の沸点は低い方が望ましいが、180℃以下であれば支障は無く、好ましくは150℃以下、更に好ましくは130℃以下である。   In order to form the polyimide film on a substrate by a solution casting method, solubility in an organic solvent is required. In particular, in order to form a film on a TAC film, solubility in a ketone solvent, an ester solvent, and an aromatic solvent that does not erode the TAC film is required. Further, from the viewpoint of preventing the heat resistance of the TAC film and the relaxation of orientation of the polyimide itself, it is desirable that the cast film formation (drying) temperature is as low as possible. For this reason, it is desirable that the solvent used in the solution casting film has a lower boiling point, but if it is 180 ° C. or lower, there is no problem, preferably 150 ° C. or lower, more preferably 130 ° C. or lower.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、これら実施例に限定されるものではない。なお、以下の例における物性値は、次の方法により測定した。
<固有粘度>
0.5重量%のポリイミド前駆体溶液を、オストワルド粘度計を用いて30℃で測定した。
<カットオフ波長(透明性)>
日本分光社製紫外可視分光光度計(V−530)を用いて、200nmから900nmの可視・紫外線透過率を測定した。透過率が0.5%以下となる波長(カットオフ波長)を透明性の指標とした。カットオフ波長が短い程、ポリイミド膜の透明性が良好であることを意味する。
<光透過率(透明性)>
日本分光社製紫外可視分光光度計(V−530)を用いて、400nmにおける光透過率を測定した。透過率が高い程、ポリイミド膜の透明性が良好であることを意味する。
<複屈折:Δn、およびその波長分散>
アタゴ社製偏光子付アッベ屈折計(アッベ4T)を用いて、ポリイミドフィルム(膜厚約20μm)に平行な方向(nin)と垂直な方向(nout)の一定波長における屈折率(ナトリウムランプの波長589nmまたはキセノンランプ分光光源使用)を測定し、これらの屈折率の差から複屈折(Δn=nin−nout)を求めた。複屈折の波長分散は、キセノンランプ光源からの光を回折格子(バンドパス10nm)で分光した単色光を光ファイバーケーブルを介して上記屈折計に導入して各波長における複屈折を測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, it is not limited to these Examples. The physical property values in the following examples were measured by the following methods.
<Intrinsic viscosity>
A 0.5 wt% polyimide precursor solution was measured at 30 ° C. using an Ostwald viscometer.
<Cutoff wavelength (transparency)>
Using a UV-visible spectrophotometer (V-530) manufactured by JASCO Corporation, the visible / ultraviolet transmittance from 200 nm to 900 nm was measured. The wavelength (cutoff wavelength) at which the transmittance was 0.5% or less was used as an index of transparency. The shorter the cutoff wavelength, the better the transparency of the polyimide film.
<Light transmittance (transparency)>
The light transmittance at 400 nm was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (V-530) manufactured by JASCO Corporation. The higher the transmittance, the better the transparency of the polyimide film.
<Birefringence: Δn and its wavelength dispersion>
Using an Abbe refractometer with polarizer (Abbe 4T) manufactured by Atago Co., Ltd., a refractive index (sodium lamp) at a constant wavelength in a direction (n in ) parallel to a polyimide film (film thickness of about 20 μm) and a direction (n out ) The wavelength was 589 nm or a xenon lamp spectral light source was used, and birefringence (Δn = n in −n out ) was determined from the difference in refractive index. For birefringence wavelength dispersion, monochromatic light obtained by separating light from a xenon lamp light source with a diffraction grating (bandpass 10 nm) was introduced into the refractometer through an optical fiber cable, and birefringence at each wavelength was measured.

[実施例1]
<ポリイミド前駆体の重合、イミド化およびポリイミドフィルム特性の評価>
よく乾燥した攪拌機付密閉反応容器中に2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(以下、TFMBと称する)5mmolを入れ、モレキュラーシーブス4Aで十分に脱水したN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解した後、この溶液に式(2)で表される脂環式テトラカルボン酸二無水物粉末(岩谷瓦斯社製)5mmolを一度に加えた。この時全モノマー濃度は30重量%である。溶液粘度が高くなり攪拌しにくくなったため、DMAcを適宜追加して、最終的には全モノマー濃度17.8重量%まで希釈した。最終的に72時間撹拌し透明、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。このポリイミド前駆体溶液は室温および−20℃で一ヶ月間放置しても沈澱、ゲル化は全く起こらず、高い溶液貯蔵安定を示した。DMAc中で測定したこのポリイミド前駆体の固有粘度は1.25dL/gであり、高重合体であった。このポリイミド前駆体溶液に過剰量の無水酢酸/ピリジン(体積比7/3)を攪拌しながら滴下し、室温で24時間攪拌して化学イミド化を行った。この際反応溶液はゲル化しなかった。化学イミド化終了後、反応溶液を大量のメタノール中に滴下してポリイミドを沈殿・濾過してメタノールで十分洗浄した後、100℃で真空乾燥してポリイミド粉末を得た。この一部を用いて、シクロペンタノン中、30℃で測定したポリイミドの固有粘度は1.32dL/gであった。ポリイミド粉末をシクロペンタノンに再溶解し(10重量%)、ガラス基板に塗布して150℃で2時間真空乾燥して膜厚約10μmの透明なポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムは180°折曲げ試験によっても破断せず、十分な可撓性を示した。また同様にして5μm厚の薄膜を作製し、赤外吸収スペクトルを測定したところ、化学イミド化はほぼ完結していることが確認された。
[Example 1]
<Polymerization of polyimide precursor, imidization and evaluation of polyimide film characteristics>
N, N-dimethylacetamide (DMAc) which was sufficiently dehydrated with Molecular Sieves 4A was charged with 5 mmol of 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (hereinafter referred to as TFMB) in a well-closed sealed reaction vessel with a stirrer. Then, 5 mmol of alicyclic tetracarboxylic dianhydride powder (manufactured by Iwatani Gas Co., Ltd.) represented by the formula (2) was added to the solution at once. At this time, the total monomer concentration is 30% by weight. Since the viscosity of the solution increased and it became difficult to stir, DMAc was added as appropriate, and finally diluted to a total monomer concentration of 17.8 wt%. Finally, the mixture was stirred for 72 hours to obtain a transparent, uniform and viscous polyimide precursor solution. This polyimide precursor solution did not precipitate or gel at all even when allowed to stand at room temperature and −20 ° C. for one month, and showed high solution storage stability. The intrinsic viscosity of this polyimide precursor measured in DMAc was 1.25 dL / g and was a high polymer. To this polyimide precursor solution, an excessive amount of acetic anhydride / pyridine (volume ratio 7/3) was added dropwise with stirring, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours for chemical imidization. At this time, the reaction solution did not gel. After the chemical imidization was completed, the reaction solution was dropped into a large amount of methanol, and the polyimide was precipitated and filtered, sufficiently washed with methanol, and then vacuum dried at 100 ° C. to obtain a polyimide powder. Using this part, the intrinsic viscosity of the polyimide measured at 30 ° C. in cyclopentanone was 1.32 dL / g. The polyimide powder was redissolved in cyclopentanone (10 wt%), applied to a glass substrate, and vacuum dried at 150 ° C. for 2 hours to obtain a transparent polyimide film having a thickness of about 10 μm. This polyimide film did not break even in the 180 ° bending test and showed sufficient flexibility. Similarly, when a thin film having a thickness of 5 μm was prepared and an infrared absorption spectrum was measured, it was confirmed that chemical imidization was almost completed.

得られたポリイミドフィルムの物性値を表1に示す。こ透明性を評価したところ、400nmにおける光透過率は87.4%、カットオフ波長は291nmであり極めて高い透明性を示した。ナトリウムランプを光源として測定した複屈折は0.0279であり、脂環式ポリイミドにしては比較的高い複屈折値を示した。また、Re450/Re550=1.039であり、低波長分散性を示した。一例として広範囲の波長に対してΔnをプロットしたものを図1に示す。
[実施例2]
ジアミン成分として、TFMBを単独で用いる代わりに、これとイソフォロンジアミン(以下IPDAと称する)を併用した以外は、実施例1に記載した方法と同様にポリイミド前駆体を重合し、化学イミド化・キャスト製膜してポリイミドフィルムを作製して膜物性を評価した。ジアミン成分のモル比はTFMB:IPDA=80:20である。表1に示すようにこのポリイミドフィルムは実施例1に記載したポリイミドと同様に高透明性、高複屈折および複屈折の低波長分散性(Re450/Re550=1.057)を示した。
[比較例1]
TFMBと1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(以下DMCBDAと称する)より実施例1に記載した方法に従ってポリイミド前駆体を重合した。しかしながらこれに化学イミド化剤を投入したところ、反応溶液がゲル化し、イミド化を完結することが困難であった。化学イミド化の代わりにこのポリイミド前駆体ワニスをガラス基板にキャスト後熱イミド化してポリイミドフィルムとし、溶媒に再溶解してポリイミドワニスの作製を試みたが、NMPにのみわずかに溶解するが、ケトン系溶媒やエステル系溶媒等その他の溶媒には殆ど溶解性を示さなかった。また、DMCBDAの代わりに1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)および下記式(6)で表されるシス、シス、シス、シス−1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物を用いた系についても上記と同様に溶解性に乏しく、TAC上に溶液キャスト法で本発明の光学補償フィルムを形成する工程を適用することは不可であった。
Table 1 shows the physical property values of the obtained polyimide film. When this transparency was evaluated, the light transmittance at 400 nm was 87.4%, and the cutoff wavelength was 291 nm, indicating extremely high transparency. The birefringence measured using a sodium lamp as the light source was 0.0279, which was relatively high for an alicyclic polyimide. In addition, Re 450 / Re 550 = 1.039, which showed low wavelength dispersion. As an example, FIG. 1 shows a plot of Δn against a wide range of wavelengths.
[Example 2]
As a diamine component, instead of using TFMB alone, a polyimide precursor was polymerized in the same manner as described in Example 1 except that this and isophorone diamine (hereinafter referred to as IPDA) were used in combination. A film was cast to prepare a polyimide film, and the film properties were evaluated. The molar ratio of the diamine component is TFMB: IPDA = 80: 20. As shown in Table 1, this polyimide film exhibited high transparency, high birefringence and low wavelength dispersion of birefringence (Re 450 / Re 550 = 1.057) in the same manner as the polyimide described in Example 1.
[Comparative Example 1]
A polyimide precursor was polymerized from TFMB and 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as DMCBDA) according to the method described in Example 1. However, when a chemical imidizing agent was added thereto, the reaction solution gelled and it was difficult to complete imidization. Instead of chemical imidization, this polyimide precursor varnish was cast on a glass substrate and then heat imidized to form a polyimide film. Then, the polyimide varnish was re-dissolved in a solvent and tried to produce a polyimide varnish. It was hardly soluble in other solvents such as system solvents and ester solvents. Further, instead of DMCBDA, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) and cis, cis, cis, cis-1,2,4,5- represented by the following formula (6) The system using cyclohexanetetracarboxylic dianhydride is also poor in solubility as described above, and it was impossible to apply the step of forming the optical compensation film of the present invention on the TAC by the solution casting method.

Figure 0005325491
Figure 0005325491

Figure 0005325491
Figure 0005325491

実施例1における波長とΔnの関係を表す。The relationship between the wavelength in Example 1 and (DELTA) n is represented.

Claims (3)

下記一般式(1):
Figure 0005325491
で表される繰り返し単位を有するポリイミドを含有してなる光学補償フィルム。
(式(1)中、Aは2価の芳香族基または芳香族基を表す。)
The following general formula (1):
Figure 0005325491
An optical compensation film comprising a polyimide having a repeating unit represented by:
(In formula (1), A represents a divalent aromatic group or an aromatic group.)
下記一般式(1):
Figure 0005325491
で表される繰り返し単位を有するポリイミドのワニスを基板上に塗付・乾燥することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法(式(1)中、Aは2価の芳香族基または芳香族基を表す。)。
The following general formula (1):
Figure 0005325491
A method for producing an optical compensation film, wherein a polyimide varnish having a repeating unit represented by formula (1) is applied to a substrate and dried (wherein A is a divalent aromatic group or aromatic group) Represents.)
基板が偏光子保護フィルムである、請求項2記載の光学補償フィルムの製造方法。   The method for producing an optical compensation film according to claim 2, wherein the substrate is a polarizer protective film.
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