JP5283928B2 - 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description
10A乃至10C 光源
20 照明光学系
210A乃至210C 照明系
220、220’及び220’’ 光学部材
220A ダハミラー
222A及び224A ミラー
220B ダハプリズム
222B及び224B 反射型プリズム
222Ba及び224Ba 内面
230 コンデンサー系
240 遮光部
242 開口
250 結像光学系
30 レチクル
40 投影光学系
50 ウエハ
CP 照明領域合成面
CP1 第1の照明領域合成面
CP2 第2の照明領域合成面
RIP 再結像面
IAL、IAR、IAC及びIAF 照明領域
CIA 合成照明領域
CIA1 第1の合成照明領域
CIA2 第2の合成照明領域
BL 境界線
Claims (10)
- 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、
前記光源からの光を用いて所定の照明領域を形成する複数の照明系と、
前記複数の照明系のそれぞれからの光束を反射する複数の反射面を有する光学部材と、
前記光学部材からの光により形成される合成照明領域の一部の光を遮光して前記合成照明領域の形状を整形する整形部とを有し、
前記複数の照明系のそれぞれからの光束が前記反射面で反射され、前記整形部の開口部の異なる位置を照明することで、各照明領域を繋げて1つの連続した前記合成照明領域が形成され、前記整形部を通過した光で前記被照明面を照明することを特徴とする照明光学系。 - 前記光学部材は、前記複数の反射面のうち隣接する反射面が直交するように構成されたダハミラーであることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記光学部材は、前記複数の反射面のうち1つの反射面を形成する内面をそれぞれ有する2つの反射型プリズムを含み、
前記2つの反射型プリズムは、それぞれの前記内面が入射光束の主光線に対して略45度の角度を有するように、且つ、それぞれの前記内面が互いに直交するように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。 - 前記合成照明領域は、V字形状又はU字形状であることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記開口部は、前記V字形状又は前記U字形状に内接する円弧形状であることを特徴とする請求項4に記載の照明光学系。
- 前記整形部を通過した光束を前記被照明面に結像する結像光学系を更に有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記結像光学系は、前記合成照明領域に入射する前記複数の照明系からの光束の境界線に直交する方向に非点収差を有することを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。
- 前記複数の照明系のそれぞれは、オプティカルインテグレータを含むことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の照明光学系。
- レチクルと基板とを走査しながら前記レチクルのパターンを前記基板に転写する走査型の露光装置であって、
光源からの光を用いて被照明面に配置された前記レチクルを照明する請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の照明光学系と、
前記レチクルのパターンの像を前記基板に投影する投影光学系と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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