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JP5258640B2 - All-solid-state electrochromic device - Google Patents

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JP5258640B2 JP2009062581A JP2009062581A JP5258640B2 JP 5258640 B2 JP5258640 B2 JP 5258640B2 JP 2009062581 A JP2009062581 A JP 2009062581A JP 2009062581 A JP2009062581 A JP 2009062581A JP 5258640 B2 JP5258640 B2 JP 5258640B2
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隆哲 坂東
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、エレクトロクロミック素子に関し、さらに詳しくは、全ての構成要素が固体からなる全固体型エレクトロクロミック素子に関するものである。   The present invention relates to an electrochromic device, and more particularly to an all-solid-type electrochromic device in which all components are made of solid.

現在、表示素子としては、液晶表示素子(LCD)、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)などが広く用いられている。
これらの表示素子は、電圧を印加している間のみ色が変化し、文字や画像を表示することができるが、表示には、比較的高い電圧を必要とするため、消費電力が多く、用途によっては、作動用の電池(バッテリー)の交換を頻繁に行う必要があった。したがって、ICカードなどのように、接着材などによって、ICチップ、表示素子などの内装品が封止された構造のものでは、電池(バッテリー)を随時交換することが難しく、液晶表示素子や有機EL素子は不向きであった。
Currently, liquid crystal display elements (LCD), organic electroluminescence elements (organic EL elements), and the like are widely used as display elements.
These display elements change color only while a voltage is applied and can display characters and images, but display requires a relatively high voltage, and thus consumes a lot of power. In some cases, it was necessary to frequently replace the operating battery. Therefore, it is difficult to replace the battery (battery) at any time in a structure in which an interior part such as an IC chip or a display element is sealed with an adhesive, such as an IC card, and a liquid crystal display element or an organic The EL element was unsuitable.

そこで、用途によっては、液晶表示素子や有機EL素子に替わる表示素子として、エレクトロクロミック素子(EC素子)が注目されている。このEC素子は、作動に要する電圧が比較的低く、電子の移動を遮断して酸化還元状態を維持するだけで表示状態を静止できる性質(メモリー性)を有し、表示状態を維持するために電力が不要であるから、消費電力が少ないという利点がある。   Therefore, depending on the application, an electrochromic element (EC element) has attracted attention as a display element that replaces a liquid crystal display element or an organic EL element. This EC element has a relatively low voltage required for operation, and has a property (memory property) that allows the display state to be stopped simply by blocking the movement of electrons and maintaining the oxidation-reduction state. In order to maintain the display state Since no power is required, there is an advantage of low power consumption.

このようなEC素子としては、例えば、酸化または還元の際に吸収または反射に変化を生じさせるエレクトロクロミック層と、電解質として機能し、電子電流をブロックする間にイオンの通過を可能とするイオン伝導層(固体電解質層)と、デバイスが脱色された状態の時にイオンを蓄積する層として機能するカウンタ電極と、電位をEC素子に印加する機能を有する2つの導電層から構成される五層構造のものが開示されている(例えば、特許文献1参照)。   Such EC elements include, for example, an electrochromic layer that changes absorption or reflection during oxidation or reduction, and ion conduction that functions as an electrolyte and allows ions to pass through while blocking electron current. A five-layer structure comprising a layer (solid electrolyte layer), a counter electrode that functions as a layer that accumulates ions when the device is decolored, and two conductive layers that have the function of applying a potential to the EC element Have been disclosed (for example, see Patent Document 1).

特開2006−235632号公報JP 2006-235632 A

特許文献1に開示されているEC素子では、エレクトロクロミック層やイオン伝導層がスパッタリング法により形成されるものの、上記の全ての層が積層された後、約280〜500℃の温度範囲にて、約10分間〜30分間、デバイスが加熱処理されているため、イオン伝導層をはじめとする各層が結晶化している。このように、イオン伝導層が結晶化していると、EC素子において、発色層に対するリチウムイオンのドープ/脱ドープが起こり難く、低電流、低電圧では、EC素子のコントラストが低いだけでなく、繰り返し十分に発色しないという問題があった。   In the EC element disclosed in Patent Document 1, although the electrochromic layer and the ion conductive layer are formed by the sputtering method, after all the above layers are laminated, in a temperature range of about 280 to 500 ° C., Since the device is heat-treated for about 10 to 30 minutes, each layer including the ion conductive layer is crystallized. Thus, when the ion conductive layer is crystallized, in the EC element, it is difficult for the coloring layer to be doped / undoped with lithium ions. At low current and low voltage, not only the contrast of the EC element is low, but also repetitive. There was a problem of insufficient color development.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、紙基材上に設けられたクロミック層を備え、低電流、低電圧にて、コントラストを高く、繰り返し発色する全固体型エレクトロクロミック素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and comprises an chromic layer provided on a paper substrate, and has an all-solid-state electrochromic element that repeatedly develops color at low current and low voltage with high contrast. The purpose is to provide.

本発明の全固体型エレクトロクロミック素子は、第一基材と、該第一基材の一方の面上に順に積層された電極層、第一イオン供給層、第二イオン供給層、固体電解質層、発色層、透明電極層および第二基材と、を備えた全固体型エレクトロクロミック素子であって、前記第一イオン供給層はスピネル構造のマンガン酸リチウムからなり、前記第二イオン供給層はオリビン構造のリン酸鉄リチウムからなることを特徴とする。   The all-solid-state electrochromic device of the present invention includes a first base material, an electrode layer, a first ion supply layer, a second ion supply layer, and a solid electrolyte layer that are sequentially laminated on one surface of the first base material. An all-solid-type electrochromic device comprising a coloring layer, a transparent electrode layer, and a second substrate, wherein the first ion supply layer is made of spinel-type lithium manganate, and the second ion supply layer is It consists of lithium iron phosphate with an olivine structure.

前記第一基材および/または前記第二基材は紙基材であることが好ましい。   The first substrate and / or the second substrate is preferably a paper substrate.

本発明の全固体型エレクトロクロミック素子は、第一基材と、該第一基材の一方の面上に順に積層された電極層、第一イオン供給層、第二イオン供給層、固体電解質層、発色層、透明電極層および第二基材と、を備えた全固体型エレクトロクロミック素子であって、前記第一イオン供給層はスピネル構造のマンガン酸リチウムからなり、前記第二イオン供給層はオリビン構造のリン酸鉄リチウムからなるので、第一イオン供給層と第二イオン供給層から構成されるイオン供給層のイオン伝導度が安定し、変化しないから、紙基材からなる第一基材と第二基材の間に、電極層、第一イオン供給層、第二イオン供給層、固体電解質層、発色層および透明電極層からなるクロミック層が設けられていても、低電流、低電圧にて、コントラストを高く、繰り返し発色することができる。   The all-solid-state electrochromic device of the present invention includes a first base material, an electrode layer, a first ion supply layer, a second ion supply layer, and a solid electrolyte layer that are sequentially laminated on one surface of the first base material. An all-solid-type electrochromic device comprising a coloring layer, a transparent electrode layer, and a second substrate, wherein the first ion supply layer is made of spinel-type lithium manganate, and the second ion supply layer is Since it is made of lithium iron phosphate with an olivine structure, the ionic conductivity of the ion supply layer composed of the first ion supply layer and the second ion supply layer is stable and does not change. Even if a chromic layer consisting of an electrode layer, a first ion supply layer, a second ion supply layer, a solid electrolyte layer, a color developing layer and a transparent electrode layer is provided between the first substrate and the second substrate, low current, low voltage With high contrast It is possible to repeatedly coloring.

本発明の全固体型エレクトロクロミック素子の一実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one Embodiment of the all-solid-state electrochromic element of this invention.

本発明の全固体型エレクトロクロミック素子の実施の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
An embodiment of the all solid-state electrochromic device of the present invention will be described.
This embodiment is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the present invention unless otherwise specified.

「全固体型エレクトロクロミック素子」
図1は、本発明の全固体型エレクトロクロミック素子の一実施形態を示す概略断面図である。
この実施形態の全固体型エレクトロクロミック素子10は、第一基材11と、第一基材11の一方の面11a上に順に積層された電極層12、第一イオン供給層13、第二イオン供給層14、固体電解質層15、発色層16、透明電極層17および第二基材18とから概略構成されている。
電極層12は背面電極をなし、透明電極層17は表面電極をなしている。
"All-solid-state electrochromic device"
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the all solid-state electrochromic device of the present invention.
The all-solid-state electrochromic element 10 of this embodiment includes a first substrate 11, an electrode layer 12, a first ion supply layer 13, and a second ion that are sequentially stacked on one surface 11 a of the first substrate 11. The supply layer 14, the solid electrolyte layer 15, the coloring layer 16, the transparent electrode layer 17, and the second base material 18 are roughly configured.
The electrode layer 12 is a back electrode, and the transparent electrode layer 17 is a surface electrode.

「全固体型エレクトロクロミック素子」とは、電解質などの構成要素に液体を含むことなく、全ての構成要素が固体からなるものである。   The “all solid-type electrochromic device” is one in which all components are made of solid without including liquid in the components such as the electrolyte.

第一基材11と第二基材18としては、少なくともその表層部には、ガラス繊維、アルミナ繊維などの無機繊維からなる織布、不織布、マット、紙などまたはこれらを組み合わせたもの、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維などの有機繊維からなる織布、不織布、マット、紙などまたはこれらを組み合わせたものや、あるいはこれらに樹脂ワニスを含浸させて成形した複合基材や、ポリアミド系樹脂基材、ポリエステル系樹脂基材、ポリオレフィン系樹脂基材、ポリイミド系樹脂基材、エチレン−ビニルアルコール共重合体基材、ポリビニルアルコール系樹脂基材、ポリ塩化ビニル系樹脂基材、ポリ塩化ビニリデン系樹脂基材、ポリスチレン系樹脂基材、ポリカーボネート系樹脂基材、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合系樹脂基材、ポリエーテルスルホン系樹脂基材などのプラスチック基材や、あるいはこれらにマット処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、フレームプラズマ処理、オゾン処理、または各種易接着処理などの表面処理を施したものなどの公知のものから選択して用いられる。また、紙としては、上質紙、コート紙、アート紙、キャストコート紙、再生紙、含浸紙、無塵紙、耐水紙、蛍光紙、これらの紙基材上に導電性塗料などにより回路を形成した導電性の紙基材などが挙げられる。
これらの中でも、第一基材11と第二基材18としては、ポリエチレンテレフタレートまたはポリイミドからなる電気絶縁性のフィルムまたはシート、あるいは、紙基材が好適に用いられる。
As the first base material 11 and the second base material 18, at least on the surface layer portion thereof, a woven fabric, a non-woven fabric, a mat, paper or the like made of inorganic fibers such as glass fiber and alumina fiber, or a combination thereof, polyester fiber Woven fabrics, non-woven fabrics, mats, paper, etc. made of organic fibers such as polyamide fibers, or combinations thereof, or composite substrates formed by impregnating them with a resin varnish, polyamide-based resin substrates, polyester-based materials Resin substrate, polyolefin resin substrate, polyimide resin substrate, ethylene-vinyl alcohol copolymer substrate, polyvinyl alcohol resin substrate, polyvinyl chloride resin substrate, polyvinylidene chloride resin substrate, polystyrene Resin base material, polycarbonate resin base material, acrylonitrile butadiene styrene copolymer resin base material Plastic base materials such as polyethersulfone-based resin base materials, or mat processing, corona discharge processing, plasma processing, ultraviolet irradiation processing, electron beam irradiation processing, flame plasma processing, ozone processing, or various types of easy adhesion processing. It is selected from known ones such as those subjected to surface treatment. In addition, as paper, high-quality paper, coated paper, art paper, cast coated paper, recycled paper, impregnated paper, dust-free paper, water-resistant paper, fluorescent paper, and a circuit was formed on these paper base materials using a conductive paint or the like. Examples thereof include a conductive paper base material.
Among these, as the first base material 11 and the second base material 18, an electrically insulating film or sheet made of polyethylene terephthalate or polyimide, or a paper base material is preferably used.

電極層12、透明電極層17としては、スズドープ酸化インジウム(ITO:Indium Tin Oxide)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)などから構成されるアモルファス電極層が挙げられる。
電極層12は、発色層15と対向する位置に設けられていないので、可視光透過率が問題になることはないから、透明でなくてもよい。
Examples of the electrode layer 12 and the transparent electrode layer 17 include an amorphous electrode layer composed of tin-doped indium oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), and the like.
Since the electrode layer 12 is not provided at a position facing the coloring layer 15, the visible light transmittance does not become a problem, and may not be transparent.

電極層12の厚みは、特に限定されないが、5nm〜3000nmの範囲で、目的とする導電性や可視光透過率などに応じて、適宜調整される。
透明電極層17の厚みは、特に限定されないが、5nm〜5000nmの範囲で、目的とする導電性や可視光透過率などに応じて、適宜調整される。
The thickness of the electrode layer 12 is not particularly limited, but is appropriately adjusted in the range of 5 nm to 3000 nm according to the intended conductivity and visible light transmittance.
The thickness of the transparent electrode layer 17 is not particularly limited, but is appropriately adjusted in the range of 5 nm to 5000 nm according to the intended conductivity, visible light transmittance, and the like.

第一イオン供給層13は、スピネル構造のマンガン酸リチウム(LiMn)から構成されるアモルファス層である。
ここで、スピネルとは、マグネシウムとアルミニウムの酸化物(MgAl)からなる等軸晶系の八面体の結晶のことであり、スピネル構造とは、この結晶と同じ構造のことである。
The first ion supply layer 13 is an amorphous layer composed of lithium manganate (LiMn 2 O 4 ) having a spinel structure.
Here, the spinel is an equiaxed octahedral crystal made of magnesium and aluminum oxide (MgAl 2 O 4 ), and the spinel structure is the same structure as this crystal.

第一イオン供給層13の厚みは、特に限定されないが、5nm〜5000nmの範囲で、目的とする素子の動作電圧、コントラスト、応答速度、可視光透過率などに応じて、適宜調整される。   Although the thickness of the 1st ion supply layer 13 is not specifically limited, It is suitably adjusted in the range of 5 nm-5000 nm according to the operating voltage, contrast, response speed, visible light transmittance, etc. of the target element.

第二イオン供給層14は、オリビン構造のリン酸鉄リチウム(LiFePO)から構成されるアモルファス層である。
ここで、オリビン構造とは、空間群Pmnbの対称性を有する斜方晶のことである。オリビン構造のリン酸鉄リチウムとは、酸素(O)が六方最密充填構造を形成し、リチウム(Li)と鉄(Fe)が六配位八面体を占有し、リン(P)が四配位四面体を占有している構造である。
The second ion supply layer 14 is an amorphous layer composed of lithium iron phosphate (LiFePO 4 ) having an olivine structure.
Here, the olivine structure is an orthorhombic crystal having symmetry of the space group P mnb . In the olivine lithium iron phosphate, oxygen (O) forms a hexagonal close-packed structure, lithium (Li) and iron (Fe) occupy a hexacoordinate octahedron, and phosphorus (P) is tetracoordinated. The structure occupies the tetrahedron.

第二イオン供給層14の厚みは、特に限定されないが、5nm〜5000nmの範囲で、目的とする素子の動作電圧、コントラスト、応答速度、可視光透過率などに応じて、適宜調整される。   The thickness of the second ion supply layer 14 is not particularly limited, but is appropriately adjusted in the range of 5 nm to 5000 nm according to the operating voltage, contrast, response speed, visible light transmittance, and the like of the target element.

固体電解質層15としては、アモルファスイオン伝導透明層が挙げられる。
アモルファスイオン伝導透明層を構成する物質としては、一般式;Li(但し、AはLa、Siから選択された1種または2種、BはTi、Pから選択された1種または2種、0<w≦4、0≦x≦1、0<y≦1、0≦z≦12を示す。)にて表されるリチウム複合酸化物から選択される1種または2種以上が挙げられる。
リチウム複合酸化物としては、具体的には、La0.57Li0.26TiO、Li3.5Si0.50.5、LiPOなどが挙げられる。
Examples of the solid electrolyte layer 15 include an amorphous ion conductive transparent layer.
The substance constituting the amorphous ion conductive transparent layer has a general formula: Li w A x B y O z (where A is one or two selected from La and Si, and B is selected from Ti and P) 1 or 2 types, 0 <w ≦ 4, 0 ≦ x ≦ 1, 0 <y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 12) 1 type or 2 selected from lithium composite oxides More than species.
Specific examples of the lithium composite oxide include La 0.57 Li 0.26 TiO 3 , Li 3.5 Si 0.5 P 0.5 O 4 , and Li 3 PO 4 .

固体電解質層15が、これらのアモルファスリチウム複合酸化物から構成されていれば、固体電解質層15が結晶性の物質から構成されている場合よりも、全固体型エレクトロクロミック素子10の歩留まりが高くなるとともに、全固体型エレクトロクロミック素子10は、より低電流、低電圧で発色することができる。   If the solid electrolyte layer 15 is composed of these amorphous lithium composite oxides, the yield of the all-solid-state electrochromic element 10 is higher than when the solid electrolyte layer 15 is composed of a crystalline substance. At the same time, the all-solid-state electrochromic element 10 can be colored with a lower current and a lower voltage.

固体電解質層15の厚みは、特に限定されないが、5nm〜5000nmの範囲で、目的とする素子の動作電圧、コントラスト、応答速度、可視光透過率などに応じて、適宜調整される。   The thickness of the solid electrolyte layer 15 is not particularly limited, but is appropriately adjusted in the range of 5 nm to 5000 nm according to the operating voltage, contrast, response speed, visible light transmittance, and the like of the target element.

発色層16としては、WO、リチウム(Li)イオンドープのアモルファスLiWO3−x、ナトリウム(Na)イオンドープのアモルファスNaWOなどからなるアモルファス発色層が挙げられる。 Examples of the coloring layer 16 include amorphous coloring layers made of WO 3 , lithium (Li) ion-doped amorphous Li y WO 3-x , sodium (Na) ion-doped amorphous Na x WO 3, and the like.

発色層16の厚みは、特に限定されないが、5nm〜5000nmの範囲で、目的とする素子の動作電圧、コントラスト、応答速度、可視光透過率などに応じて、適宜調整される。   The thickness of the color forming layer 16 is not particularly limited, and is appropriately adjusted in the range of 5 nm to 5000 nm according to the operating voltage, contrast, response speed, visible light transmittance, and the like of the target element.

この全固体型エレクトロクロミック素子10によれば、第一イオン供給層13がスピネル構造のマンガン酸リチウムからなり、第二イオン供給層14がオリビン構造のリン酸鉄リチウムからなるので、第一イオン供給層13と第二イオン供給層14から構成されるイオン供給層のイオン伝導度が安定し、変化しないから、紙基材からなる第一基材11と第二基材18の間に、電極層12、第一イオン供給層13、第二イオン供給層14、固体電解質層15、発色層16および透明電極層17からなるクロミック層が設けられていても、低電流、低電圧にて、コントラストを高く、繰り返し発色することができる。具体的には、電圧3V、電流0.01mA〜1mAで、応答速度(発色速度)1秒〜3秒、表示状態を静止できる時間(メモリー時間)72時間以上を実現できる。   According to this all-solid-state electrochromic device 10, the first ion supply layer 13 is made of spinel lithium manganate and the second ion supply layer 14 is made of olivine lithium iron phosphate. Since the ion conductivity of the ion supply layer composed of the layer 13 and the second ion supply layer 14 is stable and does not change, an electrode layer is provided between the first base material 11 and the second base material 18 made of a paper base material. 12, even if a chromic layer comprising the first ion supply layer 13, the second ion supply layer 14, the solid electrolyte layer 15, the color forming layer 16 and the transparent electrode layer 17 is provided, the contrast is reduced at a low current and a low voltage. High color can be developed repeatedly. Specifically, at a voltage of 3 V and a current of 0.01 mA to 1 mA, a response speed (coloring speed) of 1 second to 3 seconds and a time during which the display state can be stopped (memory time) of 72 hours or more can be realized.

「全固体型エレクトロクロミック素子の製造方法」
次に、図1を参照して、この実施形態の全固体型エレクトロクロミック素子の製造方法を説明する。
この実施形態では、パルスレーザー堆積法(Pulsed Laser Deposition、PLD法)を用いて、第一基材11上に、電極層12、第一発色層13、第二発色層14、固体電解質層15、イオン供給層16および透明電極層17からなるクロミック層を形成する。
"Method for manufacturing all-solid-state electrochromic device"
Next, with reference to FIG. 1, the manufacturing method of the all-solid-state electrochromic element of this embodiment is demonstrated.
In this embodiment, a pulse laser deposition method (Pulsed Laser Deposition, PLD method) is used to form an electrode layer 12, a first coloring layer 13, a second coloring layer 14, a solid electrolyte layer 15 on the first substrate 11. A chromic layer composed of the ion supply layer 16 and the transparent electrode layer 17 is formed.

(電極層12の形成)
まず、第一基材11を真空室内に配置して、この第一基材11を常温に維持する。
次いで、第一基材11の一方の面11aの最表面から所定の離間位置に、スズドープ酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズなどの電極層12用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を0.1Pa〜10Paに保持する。
次いで、ターゲットに、エネルギー密度0.1J/cm〜100J/cmのレーザー光を照射して、第一基材11の一方の面11a上に、アモルファスの電極層12を積層する。
(Formation of electrode layer 12)
First, the 1st base material 11 is arrange | positioned in a vacuum chamber, and this 1st base material 11 is maintained at normal temperature.
Next, a target for the electrode layer 12 such as tin-doped indium oxide, zinc oxide, or tin oxide is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the one surface 11a of the first base material 11, and the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is set to 0. Hold at 1 Pa to 10 Pa.
Next, the target is irradiated with laser light having an energy density of 0.1 J / cm 2 to 100 J / cm 2 , and the amorphous electrode layer 12 is laminated on the one surface 11 a of the first substrate 11.

(第一イオン供給層13の形成)
次いで、第一基材11上に設けられた電極層12の最表面から所定の離間位置に、スピネル構造のマンガン酸リチウム(LiMn)からなる第一イオン供給層13用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を0.1Pa〜50Paに保持する。
次いで、ターゲットに、エネルギー密度0.1J/cm〜100J/cmのレーザー光を照射して、電極層12上に、アモルファスの第一イオン供給層13を積層する。
(Formation of the first ion supply layer 13)
Next, a target for the first ion supply layer 13 made of lithium manganate having a spinel structure (LiMn 2 O 4 ) is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the electrode layer 12 provided on the first substrate 11. The oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is maintained at 0.1 Pa to 50 Pa.
Next, the target is irradiated with laser light having an energy density of 0.1 J / cm 2 to 100 J / cm 2 to stack the amorphous first ion supply layer 13 on the electrode layer 12.

(第二イオン供給層14の形成)
次いで、第一基材11上に設けられた第一イオン供給層13の最表面から所定の離間位置に、オリビン構造のリン酸鉄リチウム(LiFePO)からなる第二イオン供給層14用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を0.1Pa〜50Paに保持する。
次いで、ターゲットに、エネルギー密度0.1J/cm〜100J/cmのレーザー光を照射して、第一イオン供給層13上に、アモルファスの第二イオン供給層14を積層する。
(Formation of the second ion supply layer 14)
Next, the target for the second ion supply layer 14 made of lithium iron phosphate (LiFePO 4 ) having an olivine structure is placed at a predetermined distance from the outermost surface of the first ion supply layer 13 provided on the first substrate 11. And maintaining the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber at 0.1 Pa to 50 Pa.
Next, the target is irradiated with laser light having an energy density of 0.1 J / cm 2 to 100 J / cm 2 to stack the amorphous second ion supply layer 14 on the first ion supply layer 13.

(固体電解質層15の形成)
第一基材11上に設けられた第二イオン供給層14の最表面から所定の離間位置に、ペロブスカイト型のLa2/3-xLi3xTiOからなる固体電解質層15用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を0.1Pa〜50Paに保持する。
次いで、ターゲットに、エネルギー密度0.1J/cm〜100J/cmのレーザー光を照射して、第二イオン供給層14上に、アモルファスの固体電解質層15を積層する。
(Formation of solid electrolyte layer 15)
A target for the solid electrolyte layer 15 made of perovskite-type La 2 / 3-x Li 3x TiO 3 is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the second ion supply layer 14 provided on the first substrate 11. The oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is maintained at 0.1 Pa to 50 Pa.
Next, the target is irradiated with laser light having an energy density of 0.1 J / cm 2 to 100 J / cm 2 to stack the amorphous solid electrolyte layer 15 on the second ion supply layer 14.

リチウム複合酸化物としては、具体的には、ペロブスカイト型のLa2/3-xLi3xTiO、γ−LiPO型構造のLi3.6Si0.60.4などが挙げられる。 Specific examples of the lithium composite oxide include perovskite type La 2 / 3-x Li 3x TiO 3 and γ-Li 3 PO 4 type Li 3.6 Si 0.6 P 0.4 O 4. Is mentioned.

(発色層16の形成)
第一基材11上に設けられた固体電解質層15の最表面から所定の離間位置に、WO、リチウムイオンドープのアモルファスLiWO3−x、ナトリウムイオンドープのアモルファスNaWOなどの発色層16用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を0.1Pa〜30Paに保持する。
次いで、ターゲットに、エネルギー密度0.1J/cm〜100J/cmのレーザー光を照射して、固体電解質層15上に、アモルファスの発色層16を積層する。
(Formation of coloring layer 16)
WO 3 , lithium ion-doped amorphous Li y WO 3-x , sodium ion-doped amorphous Na x WO 3, etc. at a predetermined distance from the outermost surface of the solid electrolyte layer 15 provided on the first substrate 11. The target for the coloring layer 16 is disposed, and the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is maintained at 0.1 Pa to 30 Pa.
Next, the target is irradiated with laser light having an energy density of 0.1 J / cm 2 to 100 J / cm 2 , and the amorphous coloring layer 16 is laminated on the solid electrolyte layer 15.

(透明電極層17の形成)
第一基材11上に設けられた発色層16の最表面から所定の離間位置に、スズドープ酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズなどの透明電極層17用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を0.1Pa〜10Paに保持する。
次いで、ターゲットに、エネルギー密度0.1J/cm〜100J/cmのレーザー光を照射して、発色層16上に、アモルファスの透明電極層17を積層する。
(Formation of transparent electrode layer 17)
A target for the transparent electrode layer 17 such as tin-doped indium oxide, zinc oxide, tin oxide or the like is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the color forming layer 16 provided on the first substrate 11, and the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber Is maintained at 0.1 Pa to 10 Pa.
Next, the target is irradiated with laser light having an energy density of 0.1 J / cm 2 to 100 J / cm 2 , and an amorphous transparent electrode layer 17 is laminated on the color forming layer 16.

次いで、透明電極層17の上に、第二基材18を貼着して、全固体型エレクトロクロミック素子10を得る。   Next, the second base material 18 is stuck on the transparent electrode layer 17 to obtain the all solid-state electrochromic element 10.

以上説明したように、パルスレーザー堆積法(Pulsed Laser Deposition、PLD法)を用いて、第一基材11上に、電極層12、第一イオン供給層13、第二イオン供給層14、固体電解質層15、発色層16および透明電極層17からなるクロミック層を形成し、第一イオン供給層13用ターゲットとしてスピネル構造のマンガン酸リチウム(LiMn)を用い、第二イオン供給層14用ターゲットとしてオリビン構造のリン酸鉄リチウム(LiFePO)を用いれば、紙基材からなる第一基材11上にも、全ての層(電極層12、イオン供給層13、固体電解質層14、発色層15および透明電極層16)がアモルファスである全固体型エレクトロクロミック素子10を、低温にて製造することができる。ゆえに、全固体型エレクトロクロミック素子10を加熱処理する工程が必要ないから、固体電解質層14は結晶化することがなく、全固体型エレクトロクロミック素子10は、低電流、低電圧にて、安定に機能する。 As described above, the electrode layer 12, the first ion supply layer 13, the second ion supply layer 14, and the solid electrolyte are formed on the first substrate 11 by using a pulsed laser deposition (PLD method). A chromic layer composed of the layer 15, the color forming layer 16 and the transparent electrode layer 17 is formed, spinel-structured lithium manganate (LiMn 2 O 4 ) is used as the target for the first ion supply layer 13, and the second ion supply layer 14 If olivine-structured lithium iron phosphate (LiFePO 4 ) is used as a target, all layers (electrode layer 12, ion supply layer 13, solid electrolyte layer 14, color development) are also formed on the first substrate 11 made of a paper substrate. The all-solid-type electrochromic device 10 in which the layer 15 and the transparent electrode layer 16) are amorphous can be manufactured at a low temperature. That. Therefore, since the step of heat-treating the all-solid-state electrochromic element 10 is not necessary, the solid electrolyte layer 14 is not crystallized, and the all-solid-state electrochromic element 10 is stable at a low current and a low voltage. Function.

また、固体電解質層15の形成において、パルスレーザー堆積法を用いれば、不純物の含有率が0.2%のアモルファス固体電解質層を形成することができる。このアモルファス固体電解質15が設けられた全固体型エレクトロクロミック素子10は、歩留まりが約99%である。
一方、固体電解質層の形成において、スパッタリング法を用いれば、不純物の含有率が1%の結晶化固体電解質層が形成される。この結晶化固体電解質が設けられた全固体型エレクトロクロミック素子は、歩留まりが約90%となる。これは、スパッタリング法では、真空室内の酸素雰囲気圧を2Pa以下にしなければならないため、真空室内に存在する不純物の割合がパルスレーザー堆積法と比較して高くなることに起因すると思われる。
Further, in the formation of the solid electrolyte layer 15, if a pulse laser deposition method is used, an amorphous solid electrolyte layer having an impurity content of 0.2% can be formed. The all solid-state electrochromic element 10 provided with the amorphous solid electrolyte 15 has a yield of about 99%.
On the other hand, if a sputtering method is used in forming the solid electrolyte layer, a crystallized solid electrolyte layer having an impurity content of 1% is formed. The all-solid-type electrochromic device provided with this crystallized solid electrolyte has a yield of about 90%. This is presumably due to the fact that in the sputtering method, the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber must be 2 Pa or less, so that the proportion of impurities present in the vacuum chamber is higher than in the pulse laser deposition method.

以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.

「実施例」
(電極層の形成)
第一基材を真空室内に配置して、この第一基材を常温に維持し、第一基材の一方の面の最表面から所定の離間位置に、スズドープ酸化インジウムからなる電極層用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を2Paに保持し、ターゲットに、エネルギー密度7.1J/cmのレーザー光を照射して、第一基材の一方の面上に、アモルファスの電極層を積層した。
"Example"
(Formation of electrode layer)
An electrode layer target made of tin-doped indium oxide is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of one surface of the first substrate by arranging the first substrate in a vacuum chamber and maintaining the first substrate at room temperature. The oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is maintained at 2 Pa, the target is irradiated with laser light having an energy density of 7.1 J / cm 2 , and an amorphous electrode layer is formed on one surface of the first substrate. Were laminated.

(第一イオン供給層の形成)
次いで、第一基材上に設けられた電極層の最表面から所定の離間位置に、スピネル構造のマンガン酸リチウム(LiMn)からなる第一イオン供給層用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を30Paに保持し、ターゲットに、エネルギー密度3J/cmのレーザー光を照射して、電極層上に、アモルファスの第一イオン供給層を積層した。
(Formation of the first ion supply layer)
Next, a target for the first ion supply layer made of spinel lithium manganate (LiMn 2 O 4 ) is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the electrode layer provided on the first substrate, and the vacuum chamber Was maintained at 30 Pa, and the target was irradiated with laser light having an energy density of 3 J / cm 2 to laminate an amorphous first ion supply layer on the electrode layer.

(第二イオン供給層の形成)
次いで、第一基材上に設けられた第一イオン供給層の最表面から所定の離間位置に、オリビン構造のリン酸鉄リチウム(LiFePO)からなる第二イオン供給層用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を30Paに保持し、ターゲットに、エネルギー密度3J/cmのレーザー光を照射して、第一イオン供給層上に、アモルファスの第二イオン供給層を積層した。
(Formation of second ion supply layer)
Next, a target for the second ion supply layer made of lithium iron phosphate having an olivine structure (LiFePO 4 ) is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the first ion supply layer provided on the first substrate, The oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber was maintained at 30 Pa, and the target was irradiated with laser light having an energy density of 3 J / cm 2 to laminate an amorphous second ion supply layer on the first ion supply layer.

(固体電解質層の形成)
第一基材上に設けられた第二イオン供給層の最表面から所定の離間位置に、一般式;Li(但し、AはLa、Siから選択された1種または2種、BはTi、Pから選択された1種または2種、0<w≦4、0≦x≦1、0<y≦1、0≦z≦12)にて表されるリチウム複合酸化物から選択される1種または2種以上からなる固体電解質層用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を10Paに保持し、ターゲットに、エネルギー密度5.5J/cmのレーザー光を照射して、第二イオン供給層上に、アモルファスの固体電解質層を積層した。
(Formation of solid electrolyte layer)
Li w A x B y O z (where A is one selected from La and Si, or a predetermined distance from the outermost surface of the second ion supply layer provided on the first substrate) 2 and B is one or two selected from Ti and P, 0 <w ≦ 4, 0 ≦ x ≦ 1, 0 <y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 12) A solid electrolyte layer target composed of one or more selected from the above is disposed, the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is maintained at 10 Pa, and the target is irradiated with laser light having an energy density of 5.5 J / cm 2. Then, an amorphous solid electrolyte layer was laminated on the second ion supply layer.

(発色層の形成)
第一基材上に設けられた固体電解質層の最表面から所定の離間位置に、WOからなる発色層用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を12Paに保持し、ターゲットに、エネルギー密度5.5J/cmのレーザー光を照射して、固体電解質層上に、アモルファスの発色層を積層した。
(Formation of coloring layer)
A coloring layer target made of WO 3 is placed at a predetermined distance from the outermost surface of the solid electrolyte layer provided on the first substrate, and the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is maintained at 12 Pa. An amorphous coloring layer was laminated on the solid electrolyte layer by irradiating with a laser beam having a density of 5.5 J / cm 2 .

(透明電極層の形成)
第一基材上に設けられた発色層の最表面から所定の離間位置に、スズドープ酸化インジウムからなる透明電極層用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を2Paに保持し、ターゲットに、エネルギー密度7.1J/cmのレーザー光を照射して、発色層上に、アモルファスの透明電極層を積層した。
(Formation of transparent electrode layer)
A transparent electrode layer target made of tin-doped indium oxide is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the color forming layer provided on the first substrate, and the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is maintained at 2 Pa. An amorphous transparent electrode layer was laminated on the color-developing layer by irradiation with a laser beam having an energy density of 7.1 J / cm 2 .

次いで、透明電極層の上に、第二基材を貼着して、実施例の全固体型エレクトロクロミック素子を得た。   Next, a second base material was stuck on the transparent electrode layer to obtain an all solid-type electrochromic device of the example.

「比較例1」
第一イオン供給層上に、第二イオン供給層を設けなかった以外は実施例と同様にして、比較例1の全固体型エレクトロクロミック素子を得た。
“Comparative Example 1”
An all-solid-type electrochromic device of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in the example except that the second ion supply layer was not provided on the first ion supply layer.

「比較例2」
第一基材上に設けられた電極層の最表面から所定の離間位置に、オリビン構造のリン酸鉄リチウム(LiFePO)からなる第一イオン供給層用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を30Paに保持し、ターゲットに、エネルギー密度3J/cmのレーザー光を照射して、電極層上に、第一イオン供給層を積層し、次いで、第一基材上に設けられた第一イオン供給層の最表面から所定の離間位置に、スピネル構造のマンガン酸リチウム(LiMn)からなる第一イオン供給層用ターゲットを配置し、真空室内の酸素雰囲気圧を30Paに保持し、ターゲットに、エネルギー密度3J/cmのレーザー光を照射して、第一イオン供給層上に、第二イオン供給層を積層した以外は実施例と同様にして、比較例2の全固体型エレクトロクロミック素子を得た。
“Comparative Example 2”
A target for a first ion supply layer made of lithium iron phosphate having an olivine structure (LiFePO 4 ) is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the electrode layer provided on the first substrate, and an oxygen atmosphere in a vacuum chamber The pressure is maintained at 30 Pa, the target is irradiated with laser light having an energy density of 3 J / cm 2 , the first ion supply layer is laminated on the electrode layer, and then the first substrate provided on the first substrate A target for the first ion supply layer made of spinel lithium manganate (LiMn 2 O 4 ) is disposed at a predetermined distance from the outermost surface of the one ion supply layer, and the oxygen atmosphere pressure in the vacuum chamber is maintained at 30 Pa. , the target, by irradiating a laser beam energy density 3J / cm 2, on the first ion supplying layer, except for laminating a second ion supply layer in the same manner as in example, all of Comparative example 2 To obtain a type electrochromic device.

[初期コントラストの評価]
実施例および比較例1,2の全固体型エレクトロクロミック素子に対して、電圧3Vを4秒間印加したときの、680nmの可視光に対する、電圧印加前のエレクトロクロミック素子の反射率(百分率)を、電圧印加後の反射率の(百分率)で除することにより、それぞれの全固体型エレクトロクロミック素子の初期コントラストを測定した。
[Evaluation of initial contrast]
The reflectivity (percentage) of the electrochromic device before voltage application with respect to visible light of 680 nm when the voltage of 3 V was applied for 4 seconds to the all solid-state electrochromic devices of Examples and Comparative Examples 1 and 2. By dividing by the reflectance (percentage) after voltage application, the initial contrast of each all-solid-state electrochromic device was measured.

その結果、実施例の全固体型エレクトロクロミック素子の初期コントラストは6.6であった。
比較例1の全固体型エレクトロクロミック素子の初期コントラストは2.6であった。
比較例2の全固体型エレクトロクロミック素子は動作(発色)しなかった。
As a result, the initial contrast of the all solid-state electrochromic device of the example was 6.6.
The initial contrast of the all solid-state electrochromic device of Comparative Example 1 was 2.6.
The all solid-state electrochromic device of Comparative Example 2 did not operate (color development).

[発色の繰り返し性能評価]
実施例および比較例1,2の全固体型エレクトロクロミック素子に対して、コントラストが2になるまで、電圧3Vを4秒間印加して、発色を何回まで繰り返せるか確認した。
[Evaluation of color repetitive performance]
With respect to the all-solid-state electrochromic elements of Examples and Comparative Examples 1 and 2, a voltage of 3 V was applied for 4 seconds until the contrast reached 2, and it was confirmed how many times the color development could be repeated.

その結果、実施例の全固体型エレクトロクロミック素子は発色を800回繰り返せた。
比較例1の全固体型エレクトロクロミック素子は発色を50回繰り返せた。
比較例2の全固体型エレクトロクロミック素子は動作(発色)しなかった。
As a result, the all solid-state electrochromic device of the example could repeat the color development 800 times.
The all solid-state electrochromic device of Comparative Example 1 was able to repeat color development 50 times.
The all solid-state electrochromic device of Comparative Example 2 did not operate (color development).

以上の評価結果から、実施例の全固体型エレクトロクロミック素子は、コントラストおよび発色の繰り返し性能に優れていることが確認された。   From the above evaluation results, it was confirmed that the all-solid-state electrochromic device of the example was excellent in contrast and coloring repeatability.

10・・・全固体型エレクトロクロミック素子、11・・・第一基材、12・・・電極層、13・・・第一イオン供給層、14・・・第二イオン供給層、15・・・固体電解質層、16・・・発色層、17・・・透明電極層、18・・・第二基材。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... All-solid-state electrochromic element, 11 ... 1st base material, 12 ... Electrode layer, 13 ... 1st ion supply layer, 14 ... 2nd ion supply layer, 15 ... Solid electrolyte layer, 16 ... coloring layer, 17 ... transparent electrode layer, 18 ... second substrate.

Claims (2)

第一基材と、該第一基材の一方の面上に順に積層された電極層、第一イオン供給層、第二イオン供給層、固体電解質層、発色層、透明電極層および第二基材と、を備えた全固体型エレクトロクロミック素子であって、
前記第一イオン供給層はスピネル構造のマンガン酸リチウムからなり、前記第二イオン供給層はオリビン構造のリン酸鉄リチウムからなることを特徴とする全固体型エレクトロクロミック素子。
A first base material, and an electrode layer, a first ion supply layer, a second ion supply layer, a solid electrolyte layer, a coloring layer, a transparent electrode layer, and a second group, which are sequentially laminated on one surface of the first base material An all-solid-state electrochromic device comprising a material,
The all-solid-state electrochromic device, wherein the first ion supply layer is made of spinel lithium manganate and the second ion supply layer is made of olivine lithium iron phosphate.
前記第一基材および/または前記第二基材は紙基材であることを特徴とする請求項1に記載の全固体型エレクトロクロミック素子。
The all-solid-state electrochromic device according to claim 1, wherein the first base material and / or the second base material is a paper base material.
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