JP5088487B2 - 液体噴射ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
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Description
かかる本発明では、流路形成基板と接合基板とを接合した状態で各基板の割れ易い方向が異なるため全体としての剛性が実質的に向上し、各基板に割れが生じ難くなる。
かかる本発明では、流路形成基板とリザーバ形成基板との割れを防止することができると共に、リザーバ部を極めて高精度に形成することができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る製造方法によって製造されるインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図であり、図2(a)は図1の平面図、図2(b)は図2(a)のA−A´断面図であり、図3は、流路形成基板の平面図であり、図4は、リザーバ形成基板の平面図である。
Claims (6)
- 液滴を噴射するノズルに連通する圧力発生室が複数並設された流路形成基板と、前記圧力発生室内に圧力を付与する圧力発生手段と、前記流路形成基板の一方の面に接合された接合基板とを具備し、
前記流路形成基板が面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり、前記圧力発生室の長手方向に沿った端面が(110)面に垂直な第1の(111)面で構成される一方、
前記接合基板は、面方位(110)のシリコン単結晶基板からなると共に当該接合基板の(110)面に垂直な第1の(111)面と前記流路形成基板の第1の(111)面とが交差する向きで前記流路形成基板に接合されていることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 前記接合基板の第1の(111)面と前記流路形成基板の第1の(111)面とが直交していることを特徴とする請求項1に記載の液体噴射ヘッド。
- 前記接合基板が前記圧力発生室の並設方向に沿って延設されて複数の前記圧力発生室とそれぞれ連通するリザーバ部を有するリザーバ形成基板であり、
前記リザーバ部の長手方向に沿った端面が前記第1の(111)面に垂直な第2の(111)面で構成されていることを特徴とする請求項2に記載の液体噴射ヘッド。 - 面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり液滴を噴射するノズルに連通する圧力発生室が複数並設された流路形成基板と、前記圧力発生室内に圧力を付与する圧力発生手段と、前記流路形成基板の一方の面に接合された面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり前記圧力発生室の並設方向に沿って延設されて複数の前記圧力発生室とそれぞれ連通するリザーバ部を有するリザーバ形成基板とを具備する液体噴射ヘッドの製造方法であって、
前記流路形成基板が複数一体的に形成される流路形成基板用ウェハを異方性エッチングすることによって、前記圧力発生室を、その長手方向に沿った端面が当該流路形成基板用ウェハの(110)面に対して垂直な第1の(111)面で構成される一方、
前記リザーバ形成基板が複数一体的に形成されるリザーバ形成基板用ウェハを異方性エッチングすることによって、前記リザーバ部を、その長手方向に沿った端面が当該リザーバ形成基板用ウェハの(110)面に対して垂直な第1の(111)面で構成されるように形成する形成工程と、
前記流路形成基板用ウェハと前記リザーバ形成基板用ウェハとを、前記流路形成基板用ウェハの第1の(111)面と前記リザーバ形成基板用ウェハの第1の(111)面とが交差する方向で接合する接合工程と、
前記流路形成基板用ウェハ及び前記リザーバ形成基板用ウェハを各流路形成基板及びリザーバ形成基板に分割する分割工程と、
を有することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 - 前記流路形成基板用ウェハと前記リザーバ形成基板用ウェハとのオリフラ面は、一方が(111)面に沿い、他方が(112)面に沿うことを特徴とする請求項4に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。
- 前記分割工程では、前記流路形成基板用ウェハ及び前記リザーバ形成基板用ウェハの内部に集光点を合わせてレーザ光を照射して、レーザ光照射側の表層のみに連結部を残して各ウェハに所定幅で脆弱部を形成し、その後外力を加えることにより、前記脆弱部に沿ってこれらの各ウェハを分割することを特徴とする請求項4又は5に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。
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