JP5078092B2 - 配管の支持構造 - Google Patents

Description

この発明は、発電所や化学プラント等における配管を支持構造物に支持するための構造と、支持方法に関する。

配管を支持部材上に支持する一般的方法として、Ｕボルトが用いられる。この場合、Ｕボルトの湾曲部に配管を挿入し、配管支持部材に穿たれたボルト孔にＵボルトを貫通させ、配管支持部材の裏側からナットを螺合させて固定する。高熱環境下で用いられる配管においては、配管の熱膨張を考慮して、配管を支持部材に支持する場合に、Ｕボルトで配管を完全に押さえつけてしまわず、配管との間に若干隙間をあけ、配管が軸方向に変位できるようにする支持構造が採用される（例えば特許文献１の図８参照）。この場合、Ｕボルトは、支持部材上に配置されるロックナットにより、配管とボルトとの隙間が規定値となるように管理される。
特開平１０−２１３１１８号公報

上記従来の配管支持構造においては、Ｕボルトの上部と配管との間隙の寸法は調整できるが、配管の左右方向の間隙の寸法は調整することができない。
したがって、この出願に係る発明は、配管の左右方向の間隙の寸法を調整することができ、しかもＵボルトへの左右方向の応力に対する強度を向上させることができる配管の支持構造および支持方法を提供することを課題としている。

以下添付図面の符号を参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
上記課題を解決するためのこの出願に係る発明は、一対のボルト挿通孔１１ａを有する支持部材１１上に、Ｕボルト１を用いて配管Ｐをその軸線方向の変位を許容しつつ支持する構造である。Ｕボルト１は、配管Ｐを包囲するように、配管Ｐ上に掛けられる。ライナプレート２が、配管Ｐと支持部材１１との間に介在する。環状のテーパ面３ａを有する一対の上ナット３が、ライナプレート２上に配置され、Ｕボルト１の両脚部１ａに螺合される。上ナット３は、配管Ｐの左右下部の外周に間隙ｇ１を置いて対向する。ライナプレート２と支持部材１１のボルト挿通孔２ａ，１１ａにＵボルト１の両脚部１ａが挿通される。一対の下ナット４が、支持部材１１の下方に配置され、Ｕボルト１の両脚部１ａに螺合される。これによって、Ｕボルト１の上部と配管Ｐの上部外周との間隙ｇ２が定められる。シムプレート５が、ライナプレート２と上ナット３との間に側方から挿入される。これによって、ライナプレート２上の上ナット３の上下位置が定められ、さらにそれによって、上ナット３のテーパ面３ａと配管Ｐの左右下部の外周との間隙ｇ１が定められる。
上記支持構造において、ライナプレート２は、配管Ｐを載せ受けるための凸部２ｂを有するものとすることができる。
また、上記支持構造において、下ナット４は、座面におけるねじ孔の周縁に、上方へ突出した環状突部４ａを有するものとすることができる。この環状突部４ａは、外周が下端から上端に向かって縮径する円錐面を有し、それの上端部が支持部材１１のボルト挿通孔１１ａに圧入されることにより、ボルト挿通孔１１ａとＵボルト１との遊隙が除去される。
この出願に係る発明の配管支持方法は、上記支持構造によって、配管Ｐをその軸線方向の変位を許容して支持する方法であり、ライナプレート２を支持部材１１上に配置する工程と、支持部材１１上に配置されたライナプレート２上に配管Ｐを配置する工程と、配管Ｐ上にＵボルト１を掛け、配管Ｐの左右下方においてＵボルト１の両脚部１ａに上ナット３を螺合させる工程と、ライナプレート２と支持部材１１にＵボルト１の両脚部１ａを挿通する工程と、支持部材１１の下方へ突出したＵボルト１の両脚部１ａに下ナット４を螺合させ、Ｕボルト１の上部と配管Ｐの上部外周との間隙ｇ２を定める工程と、Ｕボルト１上で上ナット３の上下位置を調整すると共に、ライナプレート２と上ナット３との間に生じる隙間に側方からシムプレート５を挿入することにより、上ナット３のテーパ面３ａと配管Ｐの左右下部の外周との間隙ｇ１を定めて上ナット３を固定する工程とを含む。
また、この出願に係る発明の他の配管支持方法は、さらに、下ナットの環状突部の上端部を支持部材のボルト挿通孔に圧入することにより、Ｕボルトとの遊隙を除去する工程とを含む。

この出願に係る発明の配管支持構造によれば、上ナット３とシムプレート５により、配管Ｐの左右方向の間隙ｇ１の寸法を調整することができ、しかも上ナット３によりＵボルト１が補強されるから、配管Ｐが左右方向に振動する場合に生じる左右方向の応力を上ナット３で受け、両脚部１ａの強度を向上させることができる。
ライナプレート２が、配管Ｐを載せ受けるための凸部２ｂを有するものであれば、比較的小径の配管Ｐに適用することができる。
下ナット４が、ねじ孔の周縁に環状突部４ａを有するものであれば、環状突部の上端部が支持部材１１のボルト挿通孔１１ａに圧入され、ボルト挿通孔１１ａとＵボルト１との遊隙が除去されるので、配管Ｐの左右方向の間隙ｇ１の寸法調整をより精密に行うことができる。
この出願に係る発明の配管支持方法によって、配管Ｐの左右方向の間隙ｇ１の寸法調整を容易に行うことができる。

図面を参照してこの発明の実施の形態を説明する。図１は本発明に係る配管の支持構造を示す分解斜視図、図２は図１の配管支持構造の正面図、図３は図１の配管支持構造の側面図である。

配管Ｐは、一対のボルト挿通孔１１ａを有する支持部材１１上に、Ｕボルト１を用いて、その軸線方向の変位を許容しつつ支持される。

Ｕボルト１は、配管Ｐを包囲するように、支持部材１１のボルト挿通孔１１ａに両脚部１ａが挿通される。

ライナプレート２が、配管Ｐと支持部材１１との間に介在するように支持部材１１上に載せ置かれ、それのボルト挿通孔２ａにＵボルト１の両脚部１ａが挿通される。

環状のテーパ面３ａを上部に有する一対の上ナット３が、ライナプレート２上に配置され、Ｕボルト１の両脚部１ａに螺合される。図２に示すように、上ナット３は、配管Ｐの左右下部の外周に間隙ｇ１を置いて対向する。

一対の下ナット４が、支持部材１１の下方に配置され、Ｕボルト１の両脚部１ａに螺合される。これによって、Ｕボルト１の上部と配管Ｐの上部外周との間隙ｇ２が定められる。下ナットは、上部の座面におけるねじ孔の周縁に、上方へ突出した環状突部４ａを有する。環状突部４ａは、外周が下端から上端に向かって縮径する円錐面を有し、上端部が支持部材１１のボルト挿通孔１１ａに圧入されることにより、ボルト挿通孔１１ａとＵボルト１との遊隙が除去される。

シムプレート５が、ライナプレート２と上ナット３との間に側方から挿入される。シムプレート５は、金属製平板の一方の側に開放した溝５ａを有する。シムプレート５によって、ライナプレート２上の上ナット３の上下位置が定められ、さらにそれによって、上ナット３のテーパ面３ａと配管Ｐの左右下部の外周との間隙ｇ１が定められる。上ナット３によりＵボルト１が補強されるから、配管Ｐが左右方向に振動する場合に生じる左右方向の応力を上ナット３で受け、両脚部１ａの強度を向上させることができる。

図４，５に示す他の実施形態においては、ライナプレート２が、配管Ｐを載せ受けるための凸部２ｂを有する。

上記支持構造によって、配管をその軸線方向の変位を許容して支持する作業は以下のように行われる。

ライナプレート２を支持部材１１上に配置し、その上に配管Ｐを配置する。配管Ｐ上にＵボルト１掛け、配管Ｐの左右下方においてＵボルト１の両脚部に上ナット３を螺合させる。ライナプレート２と支持部材１１のボルト挿通孔１１ａ，２ａにＵボルト１の両脚部１ａを挿通する。支持部材１１の下方へ突出したＵボルト１の両脚部１ａに下ナット４を螺合させ、Ｕボルト１の上部と配管Ｐの上部外周との間隙ｇ２を定める。Ｕボルト１上で、上ナット３の上下位置を調整すると共に、ライナプレート２と上ナット３との間に生じる隙間に側方からシムプレート５を挿入する。これにより、上ナット３のテーパ面３ａと配管Ｐの左右下部の外周との間隙ｇ１を定めて上ナット３を固定する。これにより、下ナットの環状突部４ａの上端部が支持部材１１のボルト挿通孔１１ａに圧入され、Ｕボルト１との遊隙が除去される。

本発明に係る配管の支持構造を示す分解斜視図である。 図１の配管支持構造の正面図である。 図１の配管支持構造の側面図である。 他の実施形態の配管支持構造の正面図である。 他の実施形態の配管支持構造の側面図である。

符号の説明

１ Ｕボルト
１ａ 脚部
２ ライナプレート
２ａ ボルト挿通孔
３ 上ナット
３ａ 環状のテーパ面
４ 下ナット
４ａ 環状突部
５ シムプレート
５ａ 溝
１１ 支持部材
１１ａ ボルト挿通孔
Ｐ 配管

Claims (1)

1. 一対のボルト挿通孔を有する支持部材上に、Ｕボルトを用いて配管をその軸線方向の変位を許容しつつ支持する構造であって、
   配管を包囲するように、支持部材のボルト挿通孔に両脚部が挿通されるＵボルトと、
   配管と支持部材との間に介在するように支持部材上に載せ置かれ、前記Ｕボルトの両脚部を挿通させることができるライナプレートと、
   このライナプレート上に位置して前記Ｕボルトの両脚部に螺合され、配管の左右下部の外周に間隙を置いて対向し、配管Ｐが左右方向に振動する場合に生じる左右方向の応力を受ける環状のテーパ面を有する一対の上ナットと、
   前記支持部材の下方に位置して前記Ｕボルトの両脚部に螺合されることによってＵボルトの上部と配管の上部外周との間隙を定める一対の下ナットと、
   前記ライナプレートと前記上ナットとの間に側方から挿入されることによってライナプレート上の上ナットの上下位置を定め、それによって上ナットのテーパ面と配管の左右下部の外周との間隙を定めるシムプレートとを具備することを特徴とする配管の支持構造。

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