JP4792787B2 - 洗浄装置付塗布装置 - Google Patents
洗浄装置付塗布装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4792787B2 JP4792787B2 JP2005104971A JP2005104971A JP4792787B2 JP 4792787 B2 JP4792787 B2 JP 4792787B2 JP 2005104971 A JP2005104971 A JP 2005104971A JP 2005104971 A JP2005104971 A JP 2005104971A JP 4792787 B2 JP4792787 B2 JP 4792787B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- slit nozzle
- nozzle
- liquid
- slit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 116
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 42
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 41
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 67
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 38
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 26
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims description 11
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
- B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
- B05B15/55—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids
- B05B15/555—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids discharged by cleaning nozzles
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
この方法では、感光性材料をガラス基板上に塗布する方式として、従来ではガラス基板中央に感光性材料を一定量滴下しその後ガラス基板を一定速度で回転させることで液を薄く均一に塗り広げる、スピンコート方式が一般的であった。しかしながら、この方式は材料を多量に使用するという点や、回転時にガラス基板中心部が厚膜化するという点で問題となっていた。
そこでそれらの欠点を補い、且つガラス基板の大型化にも対応しやすい塗布方式として近年主流になっているのが、スリットノズルを用いてガラス基板全面に所望の膜厚を直接、薄膜に塗布するダイコート方式である。
しかしながら、上記方式において、ガラス基板上に塗布する際にスリットノズル先端部に感光性材料が乾燥して固着し、それが剥がれ落ちてガラス基板上に異物となって残ってしまうことが大きな問題となっていた。
しかしながら、上記方法は洗浄ヘッドがスリットノズル長手方向に長いため、洗浄位置によって洗浄が不均一になってしまうことがあった。
そこで、ミスト状の洗浄液を噴き付ける洗浄液噴出口とその上部に気体噴出口を設け、スリットノズルの長手方向より短く設定された装置を、スリットノズルの長手方向に沿って移動しつつ両者を噴出することで、スリットノズル先端の傾斜部を洗浄する方法がある(特許文献2参照)。
しかしながら、上記方法では洗浄力は高く洗浄薬液使用量も低減できるものの、上部の気体噴出口からの噴出だけでは高い乾燥性を得られず、特に揮発性の低い洗浄薬液を使用する際は、一度の動作による洗浄ではスリットノズルの先端部を完全に乾燥させることができなかった。そのため、洗浄終了後に再度気体のみを供給して前記スリットノズルの先端部を乾燥させる工程(すなわち洗浄も含め二度の動作)を行う必要があり、洗浄一回当りのタクトタイムが長くなってしまうという問題があった。
前記洗浄装置は、前記スリットノズル先端部の外側に洗浄薬液であるNMPと不活性ガスである窒素を混合した2流体を噴出する1個以上の2流体ノズルと、前記2流体ノズルにおける洗浄装置進行方向とは逆進行方向側に配置されて不活性ガスである窒素を噴出する1個以上の液切りノズルとを前記スリットノズルの長手方向に配列してなる2組が、前記スリットノズル先端部の外側を挟みこむようにスリットノズルの長手方向に平行に近設されている洗浄部と、該洗浄部の下部に位置して、発生したミスト状廃液を強制排気する排気部とで構成される洗浄ヘッドを具備し、前記2流体ノズルと前記液切りノズルとの上部に位置し、前記不活性ガスである窒素をスリットノズルに向けて噴出する液遮断ノズルが、前記スリットノズルを挟み込むように対とされて、スリットノズルの長手方向に平行に近設されていることを特徴とする洗浄装置付塗布装置としたものである。
すなわち、スリットノズルの先端部を洗浄する洗浄装置を具備する洗浄装置付塗布装置において、洗浄薬液と不活性ガスを混合した2流体を噴出しつつスリットノズル長手方向に沿って移動させながら洗浄し、且つスリットの長手方向及び深さ方向に一定の傾斜を設けた液切りノズルとで、乾燥性の非常に高い洗浄を行うことができる。その結果、スリットノズル先端部の乾燥固着異物を完全に除去しつつ、且つ洗浄液残りに起因する縦筋ムラを抑えることができ、歩留まりが向上する。また毎回一動作の洗浄で完全にスリットノズル先端部を乾燥させ且つ清浄に保てるため、タクトタイムを短縮することができる。
さらに、不活性ガスがスリットノズルの斜面に向けて噴出され、これによって不活性ガスのカーテンが形成されるようになり、2流体ノズルより噴出される2流体ミスト及び液切りノズルより噴出される不活性ガスが、スリットノズルの斜面の上部へ巻き上がり、汚染するのを完全に防止することが可能となる。
つまり、本発明が目的とする洗浄装置付塗布装置を提供することができる。
このスリットノズル1において、塗布液を外部に排出する際に、リップ6を含むスリットノズル先端部8には塗布液が回り込んで付着し、これが乾燥固化して異物となる。また、この異物を洗浄除去する際に乾燥性が悪いと毛細管現象によりスリット5に洗浄薬液が進入し、これが塗布液に混入して塗布する際に縦筋ムラが発生する。
図1で示す通り、2流体ノズル10の内部には、洗浄薬液供給口12と不活性ガス供給口15に接続されている2流体を混合させるためのマニホールド13が形成されている。マニホールド13で混合された2流体ミストは2流体噴出口14よりスリットノズル先端部8に向けて噴出される。
上記液遮断ノズル11の内部には、不活性ガス供給口17とそれに接続された液遮断スリット24が設けられており、不活性ガス供給口17から供給された不活性ガスは液遮断スリット24よりスリットノズル1の斜面25の中段に向けて噴出される。これによって不活性ガスのカーテンが形成され、2流体ノズル10より噴出される2流体ミスト及び液切りノズル18より噴出される不活性ガスが、斜面25の上部へ巻き上がり、汚染するのを完全に防止することが可能となる。
図3で示す通り液切りスリット19の長手方向は、スリットノズル1の長手方向に対してスリットノズル先端部8に近い側(図3下側)が2流体ノズル10の装置進行方向とは逆進行方向側になるように傾斜しており、その傾斜角度Xは55°〜75°の範囲にある。また、液切りスリット19の深さ方向はスリットノズル1の長手方向に対してマニホールド20に近い側が2流体ノズル10の装置進行方向とは逆進行方向側になるように傾斜しており、その傾斜角度Yは50°〜70°の範囲である。傾斜角度X及び傾斜角度Yの範囲が前記範囲にある場合にはスリットノズル1の斜面25に付着した2流体ミストは完全に除去することが可能である。
そして洗浄部の下部には、上述したように洗浄部を支えるための固定ベース16と、発生したミスト状廃液を排出するための排気ダクト22からなる排気部が設けられている。
図5で示す通り、2流体ノズル10への洗浄薬液74の供給は、まずボールバルブ68を開き、エアーオペレートバルブ72を開くことで洗浄薬液タンク73をクリーンエアー67によって加圧し、その状態でエアーオペレートバルブ66を開くことで、洗浄薬液供給口12より供給される。洗浄薬液74の流量の調整は流量調整バルブ75によって行い、その時の流量値は流量計64に表示される。流量調整バルブ75とエアーオペレートバルブ66の間には異物を捕集するためのフィルター65が設けられている。
洗浄薬液タンク73を加圧するためのクリーンエアー67の圧力は、減圧弁69によって調整し、その時の圧力値は圧力計70に表示される。エアーオペレートバルブ72と圧力計70の間には異物を捕集するためのフィルター71が設けられている。
液切りノズル18への不活性ガス59の供給は、ボールバルブ60を開き且つエアーオペレートバルブ58を開くことによってなされる。流量の調整は流量調整バルブ57によって行い、その時の流量値は流量計56に表示される。
液遮断ノズル11への不活性ガス59の供給は、ボールバルブ60を開き、且つエアーオペレートバルブ52を開くことによってなされる。流量の調整は流量調整バルブ51によって行い、その時の流量値は流量計50に表示される。
不活性ガス59の圧力は、減圧弁61によって調整し、その時の圧力値は圧力計62に表示される。エアーオペレートバルブ52、55及び58と圧力計62の間には異物を捕集するためのフィルター63が設けられている。
塗布する感光性材料は市販の樹脂ブラックレジストを用い、洗浄薬液としてNMP(N−メチル−2−ピロリドン(或いは1−メチル−2−ピロリジノンでも可))を使用した。また、不活性ガスには窒素を使用した。更に、塗布膜を形成するガラス基板は無アルカリガラスで、サイズは680mm×880mm×t0.7mmを用いた。
液切りノズルは表1で示す様に、様々な傾斜角度のものを取り付けて事前に評価を行った。表で○はスリットノズルの斜面に洗浄薬液残りが全く見られなかったもの、△は一部洗浄薬液残りが見られたもの、×は洗浄薬液残りが見られたものを示している。この結果から、長手方向の傾斜角度Xは55°〜75°、深さ方向の傾斜角度Yは50°〜70°であれば、完全に洗浄薬液を除去できることがわかった。
図6、図7で示す通り、図示されないローダーユニットより投入されたガラス基板85は図示されない搬送ロボットによって洗浄装置付塗布装置86の塗布ステージ82上に載置され、真空吸着される。ボールバルブ36、60、68及びエアーオペレートバルブ72は予め開いており、塗布液タンク38及び洗浄薬液タンク73は常時加圧されている。スリットノズル1は待機位置Aにて有機溶剤81の雰囲気状態にある待機ポッド80の中にスリットノズル先端部8を格納した状態で待機しており、ガラス基板85が塗布ステージ82上に載置されると、待機上位置Bに上昇し、次いで塗布開始上位置Cに平行移動する。次いで塗布開始位置Dに下降し、この状態でエアーオペレートバルブ31を開いて塗布ビード83を形成した後、樹脂ブラックレジストを吐出しながら塗布膜84を形成しつつ塗布終了位置Eに平行移動する。スリットノズル1が塗布終了位置Eに移動すると、エアーオペレートバルブ31を閉じ、樹脂ブラックレジストの吐出を停止する。次いで塗布終了上位置Fに上昇し、次いで洗浄上位置Gに平行移動し、次いで洗浄位置Hに下降する。
2流体ミストの噴出が安定した時点で、直動ユニット90を駆動させ、洗浄ヘッド23はスリットノズル1の長手方向に沿って平行移動しながら洗浄を開始する。洗浄ヘッド23が洗浄ヘッド洗浄終了位置Jに移動すると、直動ユニット90が停止し、スリットノズル1は洗浄上位置Gに再び上昇する。次いで待機上位置Bに平行移動し、次いで待機位置Aに下降して、再び待機ポッド80の中にスリットノズル先端部8を格納した状態で待機する。
スリットノズル1が洗浄上位置Gに上昇すると同時に、直動ユニット90が駆動し、洗浄ヘッド23は洗浄ヘッド待機位置Iに平行移動を開始し、同時にエアーオペレートバルブ66を閉じNMPの供給を停止し、次いでエアーオペレートバルブ55を閉じ2流体用窒素の供給を停止し、次いでエアーオペレートバルブ58を閉じ液切り用窒素の供給を停止し、次いでエアーオペレートバルブ52を閉じ液遮断用窒素の供給を停止し、その後洗浄ヘッド23内部のミスト状廃液が完全に外部に排出された時点で強制排気装置77を停止する。洗浄ヘッド23が洗浄ヘッド待機位置Iに移動すると直動ユニット90は停止する。
一方、洗浄装置付塗布装置86にて樹脂ブラックレジストを塗布したガラス基板85は図示されない搬送ロボットにより次工程に搬送される。
5・・・スリット
8・・・スリットノズル先端部
10・・・2流体ノズル
11・・・液遮断ノズル
14・・・2流体噴出口
16・・・固定ベース
18・・・液切りノズル
19・・・液切りスリット
23・・・洗浄ヘッド
24・・・液遮断スリット
25・・・斜面
86・・・洗浄装置付塗布装置
Claims (1)
- スリットノズルの先端部を前記スリットノズルの長手方向に沿って移動しながら洗浄する洗浄装置を具備する洗浄装置付塗布装置において、
前記洗浄装置は、前記スリットノズル先端部の外側に洗浄薬液であるNMPと不活性ガスである窒素を混合した2流体を噴出する1個以上の2流体ノズルと、前記2流体ノズルにおける洗浄装置進行方向とは逆進行方向側に配置されて不活性ガスである窒素を噴出する1個以上の液切りノズルとを前記スリットノズルの長手方向に配列してなる2組が、前記スリットノズル先端部の外側を挟みこむようにスリットノズルの長手方向に平行に近設されている洗浄部と、該洗浄部の下部に位置して、発生したミスト状廃液を強制排気する排気部とで構成される洗浄ヘッドを具備し、前記2流体ノズルと前記液切りノズルとの上部に位置し、前記不活性ガスである窒素をスリットノズルに向けて噴出する液遮断ノズルが、前記スリットノズルを挟み込むように対とされて、スリットノズルの長手方向に平行に近設されていることを特徴とする洗浄装置付塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005104971A JP4792787B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 洗浄装置付塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005104971A JP4792787B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 洗浄装置付塗布装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006281101A JP2006281101A (ja) | 2006-10-19 |
JP4792787B2 true JP4792787B2 (ja) | 2011-10-12 |
Family
ID=37403559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005104971A Expired - Fee Related JP4792787B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 洗浄装置付塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4792787B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103286030A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-09-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种狭缝喷嘴清洁装置 |
CN104056748A (zh) * | 2013-03-21 | 2014-09-24 | 株式会社东芝 | 喷嘴清洗单元及喷嘴清洗方法 |
CN108855719A (zh) * | 2017-05-11 | 2018-11-23 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4985007B2 (ja) * | 2006-03-22 | 2012-07-25 | 東レ株式会社 | 塗布器の洗浄装置、塗布方法及び塗布装置、ならびに液晶ディスプレイ用部材の製造方法 |
JP4850680B2 (ja) * | 2006-12-15 | 2012-01-11 | 中外炉工業株式会社 | 吐出ノズルの清掃装置 |
KR100893670B1 (ko) * | 2007-08-10 | 2009-04-20 | 주식회사 케이씨텍 | 노즐 세정장치 및 세정방법 |
KR100897351B1 (ko) * | 2007-08-31 | 2009-05-15 | 세메스 주식회사 | 기판 현상 방법 및 장치 |
KR100897241B1 (ko) * | 2007-09-28 | 2009-05-14 | 주식회사 디엠에스 | 약액 채움장치를 구비한 슬릿코터 |
JP5352080B2 (ja) * | 2007-12-05 | 2013-11-27 | 東京応化工業株式会社 | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、塗布装置及び塗布方法 |
TWI544291B (zh) | 2012-05-22 | 2016-08-01 | 斯克林半導體科技有限公司 | 顯像處理裝置 |
JP5841492B2 (ja) * | 2012-05-22 | 2016-01-13 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 現像処理装置 |
CN103041943B (zh) * | 2013-01-10 | 2015-09-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 喷嘴清洁装置和具有该喷嘴清洁装置的涂布机 |
CN104941876A (zh) * | 2015-07-15 | 2015-09-30 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 一种涂胶机胶头的清洁设备 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3511106B2 (ja) * | 1999-04-07 | 2004-03-29 | 東京応化工業株式会社 | スリットノズルの洗浄装置 |
JP4352194B2 (ja) * | 2000-04-04 | 2009-10-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板乾燥装置及び基板乾燥方法 |
JP2003260423A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-16 | Tatsumo Kk | ノズル先端部の洗浄装置及び洗浄方法 |
JP4145110B2 (ja) * | 2002-09-26 | 2008-09-03 | 東京応化工業株式会社 | スリットノズル洗浄装置及び洗浄方法 |
JP4451175B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2010-04-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | ノズル洗浄装置および基板処理装置 |
JP4487628B2 (ja) * | 2004-05-14 | 2010-06-23 | 凸版印刷株式会社 | 洗浄装置付塗布装置 |
-
2005
- 2005-03-31 JP JP2005104971A patent/JP4792787B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104056748A (zh) * | 2013-03-21 | 2014-09-24 | 株式会社东芝 | 喷嘴清洗单元及喷嘴清洗方法 |
CN103286030A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-09-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种狭缝喷嘴清洁装置 |
CN103286030B (zh) * | 2013-06-28 | 2016-08-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种狭缝喷嘴清洁装置 |
CN108855719A (zh) * | 2017-05-11 | 2018-11-23 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法 |
CN108855719B (zh) * | 2017-05-11 | 2021-06-11 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006281101A (ja) | 2006-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4792787B2 (ja) | 洗浄装置付塗布装置 | |
KR102011538B1 (ko) | 와이핑 패드 및 이 패드를 사용한 노즐 메인터넌스 장치와 도포 처리 장치 | |
US20070263026A1 (en) | Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures | |
JP4676359B2 (ja) | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 | |
JP2007296522A (ja) | 噴霧機構を備えた待機構造体を用いてインクジェット印刷ヘッドを保守するための方法及び装置 | |
JP2004167476A (ja) | スリットコータの予備吐出装置 | |
JP2001310147A (ja) | スリットコータの予備吐出装置および予備吐出方法 | |
US20070256709A1 (en) | Methods and apparatus for operating an inkjet printing system | |
JP4516034B2 (ja) | 塗布方法及び塗布装置及び塗布処理プログラム | |
JP4487628B2 (ja) | 洗浄装置付塗布装置 | |
WO2016169372A1 (zh) | 一种喷头清洗装置 | |
JP4812610B2 (ja) | ノズルの洗浄方法 | |
TWI478775B (zh) | 預塗處理方法及預塗處理裝置 | |
TWI496628B (zh) | 預塗處理方法及預塗處理裝置 | |
JP5364309B2 (ja) | 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法 | |
KR20100031284A (ko) | 평면 노즐의 세정 장치, 세정 시스템 및 세정 방법 | |
KR20030003235A (ko) | 기판처리장치 | |
JP4328342B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
KR102161798B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP4409930B2 (ja) | 塗工ノズル清浄装置 | |
CN114700237B (zh) | 一种涂布机以及涂布方法 | |
JP4830329B2 (ja) | スリットノズルの洗浄方法、及びスリットコータ | |
JP4163791B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP5088984B2 (ja) | 塗工装置 | |
JP4339299B2 (ja) | レジスト塗布装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110628 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110711 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140805 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |