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JP4655734B2 - Electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents

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JP4655734B2
JP4655734B2 JP2005119308A JP2005119308A JP4655734B2 JP 4655734 B2 JP4655734 B2 JP 4655734B2 JP 2005119308 A JP2005119308 A JP 2005119308A JP 2005119308 A JP2005119308 A JP 2005119308A JP 4655734 B2 JP4655734 B2 JP 4655734B2
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裕之 細萱
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、電気光学装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus.

従来、携帯電話等の表示部として、液晶装置等の電気光学装置が知られている。
当該電気光学装置は、対向する電極間に挟持された液晶装置等の電気光学物質への印加電圧を調整することにより、単位画素内の複数のドット毎に光量を制御し、画像表示を行っている。
このような電気光学装置においては、一方の基板に固定されたスペーサによって、電気光学物質の層厚を一定に維持する構成が知られている。また、このようなスペーサが、複数のドット間における遮光部と重なるように設けられた技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2003−344843号公報
Conventionally, an electro-optical device such as a liquid crystal device is known as a display unit of a mobile phone or the like.
The electro-optical device performs image display by controlling the amount of light for each of a plurality of dots in a unit pixel by adjusting a voltage applied to an electro-optical material such as a liquid crystal device sandwiched between opposing electrodes. Yes.
In such an electro-optical device, a configuration is known in which the layer thickness of the electro-optical material is maintained constant by a spacer fixed to one substrate. In addition, a technique in which such a spacer is provided so as to overlap a light shielding portion between a plurality of dots is known (for example, see Patent Document 1).
JP 2003-344843 A

ところで、このような液晶装置においては、表示領域と周辺領域との境界近傍において、表示ムラが生じるという問題があった。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、表示ムラを抑制できる電気光学装置及び電子機器を提供することを目的としている。
However, such a liquid crystal device has a problem in that display unevenness occurs near the boundary between the display region and the peripheral region.
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is that it provides an electro-optical device and an electronic apparatus that can suppress display unevenness.

本発明者は、表示領域と周辺領域との境界近傍においては、液晶層の複屈折と液晶層厚との積(リタデーション)Δndが不均一になりやすく、これに起因して表示ムラが生じることを見出した。
そこで、本発明者は、上記に基づいて以下の手段を有する本発明を想到した。
In the vicinity of the boundary between the display area and the peripheral area, the present inventor tends to make the product Δretard of the birefringence of the liquid crystal layer and the thickness of the liquid crystal layer (retardation), which causes display unevenness. I found.
Therefore, the present inventor has come up with the present invention having the following means based on the above.

即ち、本発明の電気光学装置は、第1基板及び第2基板によって挟持された電気光学物質を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う電気光学装置であって、前記第1基板と前記第2基板とのうち、一方の基板の内側に設けられた突起部が、他方の基板側に接触することにより、前記電気光学物質の層厚が規定され、前記表示領域における前記ドットの相互間と、前記表示領域の外部の周辺領域とには、遮光膜が設けられ、前記表示領域には、前記ドットから出射される光を着色する着色膜の一部と、前記遮光膜とが重なり合う積層部が設けられ、前記突起部は、前記表示領域における前記積層部に対応する位置と、前記周辺領域における前記遮光膜に対応する位置と、に設けられ、前記表示領域及び前記周辺領域の各領域において、所定の領域面積に対して前記突起部が設けられている設置面積が占める割合を突起部密度とし、前記周辺領域の一部における突起部密度は、前記表示領域おける突起部密度よりも高いこと、を特徴としている。   In other words, the electro-optical device of the present invention is an electro-optical device that includes an electro-optical material sandwiched between a first substrate and a second substrate and performs display in a display area composed of a plurality of dots. And the second substrate, the protrusion provided on the inner side of one of the substrates contacts the other substrate side, whereby the layer thickness of the electro-optic material is defined, and the dots of the display area A light shielding film is provided between each other and a peripheral area outside the display area, and the display area includes a part of a colored film that colors light emitted from the dots and the light shielding film. Overlapping stacked portions are provided, and the protrusions are provided at positions corresponding to the stacked portions in the display region and positions corresponding to the light shielding film in the peripheral region, and the display regions and the peripheral regions Each area In this case, the ratio of the installation area where the protrusions are provided to the predetermined area is the protrusion density, and the protrusion density in a part of the peripheral area is higher than the protrusion density in the display area. It is characterized by being expensive.

ここで、電気光学物質又は電気光学装置とは、電界により物質の屈折率が変化して光の透過率を変化させる電気光学効果を有するものの他、電気エネルギーを光学エネルギーに変換するもの等も含んで総称している。従って、例えば液晶装置や有機EL(Electro-Luminescence)装置、無機EL装置に代表される発光装置等を含む概念である。
また、「突起部密度」とは、表示領域及び周辺領域の各々に単位面積において、突起部が配置されている部分の面積(突起部一つ当りの面積と、突起部の本数との積)を意味する。
また、本発明において、「積層部に対応する位置」及び「遮光膜に対応する位置」とは、電気光学装置の表示側から見たときに、重なり合うことを意味する。従って、突起部は、電気光学装置の表示側から見たときに、表示領域の積層部と重なって設けられ、また、周辺領域の遮光膜と重なって設けられたものである。
Here, the electro-optical material or the electro-optical device includes an electro-optical effect that changes the light transmittance by changing the refractive index of the material by an electric field, and a device that converts electric energy into optical energy. Are collectively called. Therefore, it is a concept including a light emitting device represented by a liquid crystal device, an organic EL (Electro-Luminescence) device, an inorganic EL device, and the like.
In addition, the “projection density” is the area of the portion where the projection is arranged in the unit area in each of the display area and the peripheral area (the product of the area per projection and the number of projections) Means.
In the present invention, the “position corresponding to the laminated portion” and the “position corresponding to the light shielding film” mean overlapping when viewed from the display side of the electro-optical device. Accordingly, the protrusion is provided so as to overlap with the laminated portion of the display area when viewed from the display side of the electro-optical device, and also overlaps with the light shielding film in the peripheral area.

また、本発明においては、表示領域における積層部と、周辺領域における遮光膜の上方にはオーバーコート膜が設けられていることが好ましく、当該オーバーコート膜が被覆されることによって平坦化が施される。
また、本発明の電気光学装置が液晶装置である場合には、電気光学物質に相当する液晶層と接触する面に配向膜が設けられていることが好ましい。
また、表示領域においては、ドットの相互間の遮光膜の上方に着色膜の一部が設けられて積層部が構成されていてもよいし、当該遮光膜の下方に着色膜の一部が設けられていてもよい。
また、突起部は、表示領域と周辺領域との各々に規則的に配置されたものであり、弾性を有している。従って、突起部は、第1基板と第2基板とによって挟持され、第1基板と第2基板とを貼り合わせると、両基板が対向する方向おいて突起部に圧縮応力が生じる。これによって、第1基板及び第2基板の間において電気光学物質の層厚が維持される。
In the present invention, it is preferable that an overcoat film is provided above the laminated portion in the display region and the light shielding film in the peripheral region, and planarization is performed by covering the overcoat film. The
In the case where the electro-optical device of the present invention is a liquid crystal device, it is preferable that an alignment film is provided on a surface in contact with the liquid crystal layer corresponding to the electro-optical material.
Further, in the display area, a part of the colored film may be provided above the light shielding film between the dots to form a stacked portion, or a part of the colored film is provided below the light shielding film. It may be done.
The protrusions are regularly arranged in each of the display area and the peripheral area, and have elasticity. Therefore, the protruding portion is sandwiched between the first substrate and the second substrate, and when the first substrate and the second substrate are bonded together, compressive stress is generated in the protruding portion in the direction in which both the substrates face each other. Thereby, the layer thickness of the electro-optic material is maintained between the first substrate and the second substrate.

このような構成においては、基板面を基準とすると、表示領域の積層部の上面までの高さは、周辺領域の遮光膜の上面までの高さよりも高くなる。そして、上記構成のように各部に対応する突起部を設けて第1基板及び第2基板を貼り合わせると、積層部の突起部には、周辺領域の遮光膜の突起部よりも大きな圧縮応力が付与されてしまい、積層部の突起部は変形(潰れ)してしまう。
ここで、従来技術においては、積層部の突起部が変形することで、当該突起部の近傍における電気光学物質の層厚が薄くなり、表示ムラを招いていた。これに対して、本発明においては、周辺領域の一部における突起部密度が表示領域おける突起部密度よりも高いので、当該突起部密度が高い部分における突起部の圧縮応力を小さくすることができ、突起部の変形(潰れ)を抑制できる。これにより、電気光学物質の層厚が薄くなるを抑制し、表示領域及び周辺領域の境界において、電気光学物質の層厚を均一にすることができる。従って、表示ムラが抑制された電気光学装置を実現できる。
また、周辺領域は、遮光膜で覆われた部分であるため、突起部密度の大小に関わらず、表示に寄与することがない。従って、周辺領域における突起部密度は、自由に調整することが可能となる。
In such a configuration, when the substrate surface is used as a reference, the height of the display region to the upper surface of the stacked portion is higher than the height of the peripheral region to the upper surface of the light shielding film. When the first substrate and the second substrate are bonded to each other by providing the protrusion corresponding to each part as in the above configuration, the protrusion of the stacked portion has a larger compressive stress than the protrusion of the light shielding film in the peripheral region. It will be given and the projection part of a lamination part will change (crush).
Here, in the related art, the protrusion of the laminated portion is deformed, so that the layer thickness of the electro-optical material in the vicinity of the protrusion is reduced, resulting in display unevenness. On the other hand, in the present invention, since the protrusion density in a part of the peripheral region is higher than the protrusion density in the display area, the compressive stress of the protrusion in the portion where the protrusion density is high can be reduced. The deformation (collapse) of the protrusion can be suppressed. Accordingly, it is possible to suppress the thickness of the electro-optical material from being reduced, and to make the thickness of the electro-optical material uniform at the boundary between the display region and the peripheral region. Therefore, an electro-optical device in which display unevenness is suppressed can be realized.
Further, since the peripheral region is a portion covered with the light shielding film, it does not contribute to display regardless of the size of the protrusions. Therefore, it is possible to freely adjust the density of the protrusions in the peripheral region.

また、本発明の電気光学装置においては、前記周辺領域の一部における単位面積あたりの突起部の本数は、前記表示領域おける単位面積あたりの突起部の本数よりも多いこと、を特徴としている。
このように、突起部の本数の大小を規定することにより、周辺領域の一部における突起部密度を、表示領域おける突起部密度よりも高くすることができる。従って、当該突起部密度が高い部分における突起部の圧縮応力を小さくすることができ、突起部の変形(潰れ)を抑制できる。これにより、電気光学物質の層厚が薄くなるを抑制し、表示領域及び周辺領域の境界において、電気光学物質の層厚を均一にすることができる。
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the number of protrusions per unit area in a part of the peripheral region is larger than the number of protrusions per unit area in the display region.
Thus, by defining the number of protrusions, the protrusion density in a part of the peripheral area can be made higher than the protrusion density in the display area. Therefore, it is possible to reduce the compressive stress of the protrusion in the portion where the protrusion density is high, and to suppress deformation (collapse) of the protrusion. Accordingly, it is possible to suppress the thickness of the electro-optical material from being reduced, and to make the thickness of the electro-optical material uniform at the boundary between the display region and the peripheral region.

また、本発明の電気光学装置においては、前記周辺領域の一部における各突起部の面積は、前記表示領域おける各突起部の面積よりも大きいこと、を特徴としている。
このように、各突起部における面積の大小を規定することにより、周辺領域の一部における突起部密度を、表示領域おける突起部密度よりも高くすることができる。当該突起部密度が高い部分における突起部の圧縮応力を小さくすることができ、突起部の変形(潰れ)を抑制できる。これにより、電気光学物質の層厚が薄くなるを抑制し、表示領域及び周辺領域の境界において、電気光学物質の層厚を均一にすることができる。
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the area of each protrusion in a part of the peripheral area is larger than the area of each protrusion in the display area.
Thus, by defining the size of the area in each protrusion, the protrusion density in a part of the peripheral area can be made higher than the protrusion density in the display area. It is possible to reduce the compressive stress of the protrusion in the portion where the protrusion density is high, and to suppress deformation (collapse) of the protrusion. Accordingly, it is possible to suppress the thickness of the electro-optical material from being reduced, and to make the thickness of the electro-optical material uniform at the boundary between the display region and the peripheral region.

また、本発明の電気光学装置においては、前記周辺領域は、前記表示領域に近接する近接領域と、当該近接領域の周縁に位置する周縁領域と、からなり、前記近接領域の突起部密度は、前記表示領域の突起部密度よりも高く、前記周縁領域の突起部密度は、前記近接領域の突起部密度よりも低いこと、を特徴としている。
ここで、近接領域とは、上記構成における「周辺領域の一部」に相当する領域である。従って、近接領域の突起部密度が前記表示領域の突起部密度よりも高いので、近接領域における突起部の圧縮応力を小さくすることができ、突起部の変形(潰れ)を抑制できる。これにより、電気光学物質の層厚が薄くなるを抑制し、表示領域及び周辺領域の境界において、電気光学物質の層厚を均一にすることができる。
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the peripheral area includes a proximity area that is close to the display area and a peripheral area that is positioned at the periphery of the proximity area. The protrusion density of the display area is higher than that of the display area, and the protrusion density of the peripheral area is lower than the protrusion density of the adjacent area.
Here, the proximity region is a region corresponding to “a part of the peripheral region” in the above configuration. Accordingly, since the density of the protrusions in the proximity region is higher than the density of the protrusions in the display region, the compressive stress of the protrusions in the proximity region can be reduced, and deformation (collapse) of the protrusions can be suppressed. Accordingly, it is possible to suppress the thickness of the electro-optical material from being reduced, and to make the thickness of the electro-optical material uniform at the boundary between the display region and the peripheral region.

また、周縁領域の突起部密度が、近接領域の突起部密度よりも低いので、周縁領域における第1基板と第2基板とが撓みやすくなり、当該第1基板及び第2基板の金属端子間に配置された導通粒子を潰すことができ、金属端子間の導通を確実に得ることができる。
なお、当該周縁領域では、電気光学物質の層厚が薄くなるものの、表示に寄与しない領域であるため、表示ムラが生じることもない。
Further, since the density of the protrusions in the peripheral region is lower than the density of the protrusions in the adjacent region, the first substrate and the second substrate in the peripheral region are easily bent, and between the metal terminals of the first substrate and the second substrate. The arranged conductive particles can be crushed, and conduction between the metal terminals can be reliably obtained.
In the peripheral region, although the layer thickness of the electro-optical material is reduced, the region does not contribute to display, and thus display unevenness does not occur.

また、本発明の電気光学装置においては、前記着色膜の膜厚は、前記遮光膜の膜厚よりも大きいこと、を特徴としている。
ここで、本発明者らによれば、積層部上方の電気光学物質と、積層部の内側(ドット内側)における着色膜上方の電気光学物質と、の層厚差に起因して、電気光学物質の駆動電圧にばらつきが生じ易くなり、色ムラが生じて良好な表示特性が得られないことを見出した。そこで、着色膜の膜厚を遮光膜の膜厚よりも大きくすることで、表示領域を平坦化させることが可能となり、積層部上方の電気光学物質と、着色膜上方の電気光学物質との層厚を均一にすることができる。従って、表示領域においてコントラストの高い表示を行うことができる。
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the thickness of the colored film is larger than the thickness of the light shielding film.
Here, according to the present inventors, the electro-optic material is caused by the layer thickness difference between the electro-optic material above the laminated portion and the electro-optic material above the colored film inside the laminated portion (inside the dots). It has been found that the drive voltage of the display tends to vary, and color unevenness occurs, resulting in poor display characteristics. Therefore, by making the thickness of the colored film larger than the thickness of the light shielding film, the display region can be flattened, and the layer of the electro-optic material above the stacked portion and the electro-optic material above the colored film The thickness can be made uniform. Therefore, display with high contrast can be performed in the display area.

また、本発明の電気光学装置においては、前記表示領域の前記積層部に対応する位置の電気光学物質の層厚は、前記周辺領域の前記遮光膜に対応する位置の電気光学物質の層厚よりも薄いこと、を特徴としている。
ここで、「積層部に対応する位置の電気光学物質の層厚」とは、積層部が形成されている部分近傍の電気光学物質の層厚を意味する。また、換言すれば、積層部に対応する位置に設けられた突起部の近傍における電気光学物質の層厚を意味する。
また、「遮光膜に対応する位置の電気光学物質の層厚」とは、遮光膜が形成されている部分における電気光学物質の層厚、或いは、遮光膜に対応する位置に設けられた突起部の近傍における電気光学物質の層厚を意味する。
このように本発明によれば、上記の電気光学装置と同様の効果が得られるだけでなく、表示領域の積層部に対応する位置の電気光学物質の層厚を、周辺領域の遮光膜に対応する位置の電気光学物質の層厚よりも薄くすることができる。
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the layer thickness of the electro-optical material at a position corresponding to the stacked portion of the display region is greater than the layer thickness of the electro-optical material at a position corresponding to the light shielding film in the peripheral region. It is also characterized by being thin.
Here, the “layer thickness of the electro-optical material at a position corresponding to the stacked portion” means the layer thickness of the electro-optical material near the portion where the stacked portion is formed. In other words, it means the thickness of the electro-optical material in the vicinity of the protrusion provided at a position corresponding to the laminated portion.
The “layer thickness of the electro-optical material at a position corresponding to the light-shielding film” means the layer thickness of the electro-optical material at the portion where the light-shielding film is formed, or a protrusion provided at a position corresponding to the light-shielding film. Means the thickness of the electro-optical material in the vicinity of.
As described above, according to the present invention, not only the same effect as the electro-optical device described above can be obtained, but also the thickness of the electro-optical material at the position corresponding to the laminated portion of the display area can be adjusted to the light-shielding film in the peripheral area. It can be made thinner than the layer thickness of the electro-optical material at the position.

また、本発明の電気光学装置は、第1基板及び第2基板によって挟持された電気光学物質を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う電気光学装置であって、前記第1基板と前記第2基板と間に、前記電気光学物質の層厚を規定する複数の突起部が配置され、前記複数の突起部は、前記表示領域と前記周辺領域とに各々設けられ、前記表示領域の前記突起部が配置されてなる位置に対応する電気光学物質の層厚は、前記表示領域の外部の周辺領域において前記突起部が配置されてなる位置に対応する電気光学物質の層厚よりも薄く、前記表示領域及び前記周辺領域の各領域において、所定の領域面積に対して前記突起部が設けられている設置面積が占める割合を突起部密度とし、前記周辺領域の一部における突起部密度は、前記表示領域おける突起部密度よりも高いこと、を特徴としている。   The electro-optical device of the present invention is an electro-optical device that includes an electro-optical material sandwiched between a first substrate and a second substrate, and performs display in a display region composed of a plurality of dots. And a plurality of protrusions defining a layer thickness of the electro-optic material are disposed between the display area and the second substrate, and the plurality of protrusions are provided in the display area and the peripheral area, respectively. The layer thickness of the electro-optical material corresponding to the position where the protrusion is disposed is larger than the layer thickness of the electro-optical material corresponding to the position where the protrusion is disposed in the peripheral region outside the display region. In each of the display area and the peripheral area, the ratio of the installation area where the protrusion is provided to the predetermined area is defined as the protrusion density, and the protrusion density in a part of the peripheral area Is Higher than the protrusion density definitive serial display region is characterized.

ここで、「表示領域の突起部が配置されてなる位置に対応する電気光学物質の層厚」とは、表示領域の突起部が配置されている位置の近傍における電気光学物質の層厚を意味する。また、「周辺領域において突起部が配置されてなる位置に対応する電気光学物質の層厚」とは、周辺領域の突起部が配置されている位置の近傍における電気光学物質の層厚を意味する。
本発明によれば、周辺領域の一部における突起部密度が表示領域おける突起部密度よりも高いので、当該突起部密度が高い部分における突起部の圧縮応力を小さくすることができ、突起部の変形(潰れ)を抑制できる。これにより、表示ムラが抑制された電気光学装置を実現できる。
また、周辺領域は、遮光膜で覆われた部分であるため、突起部密度の大小に関わらず、表示に寄与することがない。従って、周辺領域における突起部密度は、自由に調整することが可能となる。
また、表示領域の突起部が配置されてなる位置に対応する電気光学物質の層厚を、周辺領域の突起部が配置されてなる位置に対応する電気光学物質の層厚よりも薄くすることができる。
Here, “the layer thickness of the electro-optical material corresponding to the position where the protrusions in the display area are arranged” means the layer thickness of the electro-optical material in the vicinity of the position where the protrusions in the display area are arranged To do. In addition, “the layer thickness of the electro-optical material corresponding to the position where the protrusion is arranged in the peripheral region” means the layer thickness of the electro-optical material in the vicinity of the position where the protrusion of the peripheral region is arranged. .
According to the present invention, since the protrusion density in a part of the peripheral area is higher than the protrusion density in the display area, it is possible to reduce the compressive stress of the protrusion in the portion where the protrusion density is high. Deformation (collapse) can be suppressed. Thereby, an electro-optical device in which display unevenness is suppressed can be realized.
Further, since the peripheral region is a portion covered with the light shielding film, it does not contribute to display regardless of the size of the protrusions. Therefore, it is possible to freely adjust the density of the protrusions in the peripheral region.
In addition, the layer thickness of the electro-optical material corresponding to the position where the protrusions in the display area are arranged may be made thinner than the layer thickness of the electro-optical material corresponding to the position where the protrusions in the peripheral area are arranged. it can.

また、本発明の電子機器は、表示部を備える電子機器であって、前記表示部は先に記載の電気光学装置からなること、を特徴としている。
ここで、電子機器としては、例えば、携帯電話機、移動体情報端末、時計、ワープロ、パソコンなどの情報処理装置などを例示することができる。
従って、本発明によれば、先に記載の電気光学装置を用いた表示部を備えているので、表示ムラが抑制された表示部を備えた電子機器を提供することができる。
According to another aspect of the invention, there is provided an electronic apparatus including a display unit, wherein the display unit includes the electro-optical device described above.
Here, as an electronic device, information processing apparatuses, such as a mobile telephone, a mobile information terminal, a clock, a word processor, a personal computer, etc. can be illustrated, for example.
Therefore, according to the present invention, since the display unit using the electro-optical device described above is provided, an electronic apparatus including the display unit in which display unevenness is suppressed can be provided.

(液晶装置の第1実施形態)
以下、本発明の電気光学装置に係る液晶装置の第1実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図1は、本実施形態の液晶装置の全体構成を示す平面図、図2は、液晶装置の表示領域を示す図であって、図1のB−B'線に沿う断面図(横方向に切断した状態を示す断面図)である。また、図3は、液晶装置の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す平面図である。また、図4は、液晶装置の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す断面図であって、図1のC−C'線に沿う断面図(横方向に切断した状態を示す断面図)であり、図4(a)は本実施形態に係る液晶装置の断面図、図4(b)は従来の液晶装置の断面図である。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
(First Embodiment of Liquid Crystal Device)
Hereinafter, a first embodiment of a liquid crystal device according to an electro-optical device of the invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view showing the overall configuration of the liquid crystal device of the present embodiment, and FIG. 2 is a view showing a display area of the liquid crystal device, which is a cross-sectional view taken along line BB ′ in FIG. It is sectional drawing which shows the state cut | disconnected. FIG. 3 is a plan view showing the vicinity of the boundary between the display area and the peripheral area of the liquid crystal device. 4 is a cross-sectional view showing the vicinity of the boundary between the display region and the peripheral region of the liquid crystal device, and is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 1 (cross-sectional view showing a state cut in the horizontal direction). 4A is a cross-sectional view of the liquid crystal device according to the present embodiment, and FIG. 4B is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal device.
In each drawing, the thicknesses and dimensional ratios of the components are appropriately changed in order to make the drawings easy to see.

本実施形態における液晶装置は、パッシブマトリクス方式の透過型カラー液晶装置であって、液晶層への印加電圧がOFF(非印加)状態で、黒表示を示すノーマリーブラックモードの液晶装置である。
そして、図1に示すように、本実施形態の液晶装置1は、平面視矩形状の下基板部(第1基板)2Aと上基板部(第2基板)3Aとがシール材4を介して対向配置されている。シール材4の一部は各基板部2A,3Aの一辺(図1における上辺)側で開口して液晶注入口5となっており、双方の基板部2A,3Aとシール材4とに囲まれた空間内に液晶が封入され、液晶注入口5が封止材6によって封止されている。本実施形態では、上基板部3Aよりも下基板部2Aの外形寸法の方が大きく、上基板部3Aと下基板部2Aの1辺(図1における上辺、右辺、左辺)では縁が揃っているが、下基板部2Aの残りの1辺(図1における下辺)からは上基板部3Aの周縁部がはみ出すように配置されている。そして、上基板部3Aの下辺側の端部には、上基板部3A及び下基板部2Aの双方の電極を駆動するための駆動用半導体素子7が実装されている。
The liquid crystal device in the present embodiment is a passive-matrix transmissive color liquid crystal device, and is a normally black mode liquid crystal device that displays black when the voltage applied to the liquid crystal layer is in an OFF (non-application) state.
As shown in FIG. 1, the liquid crystal device 1 according to the present embodiment includes a lower substrate portion (first substrate) 2 </ b> A and an upper substrate portion (second substrate) 3 </ b> A having a rectangular shape in plan view through a sealing material 4. Opposed. A part of the sealing material 4 is opened on one side (upper side in FIG. 1) of each of the substrate portions 2A and 3A to form a liquid crystal injection port 5, and is surrounded by both the substrate portions 2A and 3A and the sealing material 4. Liquid crystal is sealed in the space, and the liquid crystal inlet 5 is sealed with a sealing material 6. In the present embodiment, the outer dimension of the lower substrate portion 2A is larger than that of the upper substrate portion 3A, and edges are aligned on one side (the upper side, the right side, and the left side in FIG. 1) of the upper substrate portion 3A and the lower substrate portion 2A. However, the peripheral portion of the upper substrate portion 3A protrudes from the remaining one side (the lower side in FIG. 1) of the lower substrate portion 2A. A driving semiconductor element 7 for driving both electrodes of the upper substrate portion 3A and the lower substrate portion 2A is mounted on an end portion on the lower side of the upper substrate portion 3A.

また、符号8は、表示領域9aと周辺領域9bとの境界線である。
ここで、当該境界線8より内包される側(内側)は、画像表示を行うための表示領域9aである。また、表示領域9aは、複数のドットがマトリクス状に配列された領域であって、実際に表示に寄与する領域のことを言う。
また、境界線8の外側は、表示領域9aの外部に位置する周辺領域9bであり、図1においては周辺領域9bを斜線で示している。また、周辺領域9bには、周辺見切りとして機能する周辺遮光膜が設けられている。
Reference numeral 8 denotes a boundary line between the display area 9a and the peripheral area 9b.
Here, the side (inside) included from the boundary line 8 is a display area 9a for performing image display. The display area 9a is an area in which a plurality of dots are arranged in a matrix and actually contributes to display.
The outside of the boundary line 8 is a peripheral area 9b located outside the display area 9a. In FIG. 1, the peripheral area 9b is indicated by diagonal lines. The peripheral region 9b is provided with a peripheral light shielding film that functions as a peripheral parting.

本実施形態の場合、図1に示すように、上基板部3A上に、図中縦方向に線状に延在する複数のセグメント電極11がストライプ状に形成されている。一方、下基板部2A上には、セグメント電極11と直交するように図中横方向に線状に延在する複数のコモン電極10がストライプ状に形成されている。
ここで、セグメント電極11とコモン電極10とが互い交差することにより、平面的に見て重なり合った領域が形成され、当該領域が「ドット」を構成している。
また、表示領域9aにおける複数のドットの各々においては、カラー表示を行うべく、カラーフィルタのR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の複数色からなる着色膜が設けられている。そして、R、G、Bの3個の着色膜で画面上の1つの画素(単位画素)が構成されている。
In the case of the present embodiment, as shown in FIG. 1, a plurality of segment electrodes 11 extending linearly in the vertical direction in the figure are formed in stripes on the upper substrate portion 3A. On the other hand, on the lower substrate portion 2A, a plurality of common electrodes 10 extending linearly in the horizontal direction in the figure so as to be orthogonal to the segment electrodes 11 are formed in stripes.
Here, when the segment electrode 11 and the common electrode 10 cross each other, a region overlapping in plan view is formed, and the region constitutes a “dot”.
Each of the plurality of dots in the display area 9a is provided with a colored film composed of a plurality of colors R (red), G (green), and B (blue) of the color filter in order to perform color display. One pixel (unit pixel) on the screen is constituted by three colored films of R, G, and B.

図2を参照して、表示領域9aの断面構造を見ると、液晶装置1は、下基板部2Aと、上基板部3Aとによって液晶層(電気光学物質)23を挟持した構成を有している。
ここで、下基板部2Aには、下基板(第1基板)2から液晶層23に向けて、カラーフィルタ13(着色膜13r,13g,13b)、ドット遮光膜(遮光膜)33、オーバーコート膜21、コモン電極10、及び配向膜20が設けられている。また、上基板部3Aには、上基板(第2基板)3から液晶層23に向けて、セグメント電極11、フォトスペーサ(突起部)24、及び配向膜22が設けられている。そして、フォトスペーサ24が上基板部3A及び下基板2Aに挟持されることで、液晶層23の層厚が維持される構成となっている。
Referring to FIG. 2, when the cross-sectional structure of display area 9a is viewed, liquid crystal device 1 has a configuration in which liquid crystal layer (electro-optical material) 23 is sandwiched between lower substrate portion 2A and upper substrate portion 3A. Yes.
Here, on the lower substrate portion 2A, from the lower substrate (first substrate) 2 toward the liquid crystal layer 23, the color filter 13 (colored films 13r, 13g, 13b), the dot light shielding film (light shielding film) 33, and the overcoat are provided. A film 21, a common electrode 10, and an alignment film 20 are provided. The upper substrate portion 3 </ b> A is provided with a segment electrode 11, a photo spacer (projection portion) 24, and an alignment film 22 from the upper substrate (second substrate) 3 toward the liquid crystal layer 23. The photo spacer 24 is sandwiched between the upper substrate portion 3A and the lower substrate 2A, so that the layer thickness of the liquid crystal layer 23 is maintained.

次に、下基板部2Aの構成について詳述する。
下基板2は、ガラス又はプラスチック等の透明性材料からなるものであり、バックライトユニット15からの光を透過させるものである。
また、カラーフィルタ13は、赤着色膜13rと、緑着色膜13gと、青着色膜13bと、を下基板2上に備えてなるものである。また、各着色膜13r,13g,13bは、樹脂材料からなり、その膜厚は1.0μmとなっている。
なお、各着色膜13r,13g,13bの膜厚は、1.0μmを限定するものではなく、約0.6〜2.0μmの範囲であればよい。
Next, the configuration of the lower substrate portion 2A will be described in detail.
The lower substrate 2 is made of a transparent material such as glass or plastic, and transmits light from the backlight unit 15.
The color filter 13 includes a red coloring film 13r, a green coloring film 13g, and a blue coloring film 13b on the lower substrate 2. Each colored film 13r, 13g, 13b is made of a resin material and has a thickness of 1.0 μm.
The thickness of each colored film 13r, 13g, 13b is not limited to 1.0 μm, and may be in the range of about 0.6 to 2.0 μm.

ドット遮光膜33は、樹脂ブラック等の遮光性の樹脂材料からなるものである。また、ドット遮光膜33は、各着色膜13r,13g,13bの相互間に位置し、各着色膜13r,13g,13bを区画するように設けられている。また、ドット遮光膜33は、各着色膜13r,13g,13bと同一の膜厚で形成され、その膜厚は1.0μmとなっている。また、ドット遮光膜33は、線幅が13μmとなるように形成されている。また、ドット遮光膜33は、周辺領域9bの表面に形成される周辺遮光膜34(後述)と同一工程において形成される。
なお、ドット遮光膜33の膜厚は、1.0μmを限定するものではなく、約0.6〜2.0μmの範囲であればよい。
The dot light shielding film 33 is made of a light shielding resin material such as resin black. The dot light shielding film 33 is located between the colored films 13r, 13g, and 13b, and is provided so as to partition the colored films 13r, 13g, and 13b. The dot light-shielding film 33 is formed with the same film thickness as the colored films 13r, 13g, and 13b, and the film thickness is 1.0 μm. The dot light shielding film 33 is formed so that the line width is 13 μm. The dot light shielding film 33 is formed in the same process as the peripheral light shielding film 34 (described later) formed on the surface of the peripheral region 9b.
The film thickness of the dot light-shielding film 33 is not limited to 1.0 μm and may be in the range of about 0.6 to 2.0 μm.

また、着色膜13r,13g,13bは、ドット遮光膜33によってドット毎に区画され設けられたものである。
図3に示すように、着色膜13r,13g,13bは各色毎にストライプ状に形成されたストライプ着色膜13sr,13sg,13sbの各々の一部を構成するものである。ストライプ着色膜13sr,13sg,13sbは、表示領域9aの紙面縦方向に延在して設けられ、当該延在方向において複数のドットに重なって設けられている。そして、ストライプ着色膜13sr,13sg,13sbは、図3の紙面左右方向に延在するドット遮光膜33を跨いでおり、当該ドット遮光膜33を跨ぐRGBのストライプ着色膜13sr,13sg,13sbは表示に寄与しない部分となる。従って、図3の紙面左右方向に延在するドット遮光膜33は、ストライプ着色膜が延在する方向において、ドット毎に各着色膜13r,13g,13bを区画するものとなる。また、図3の紙面縦方向に延在するドット遮光膜33は、紙面左右方向において、ドット毎に各着色膜13r,13g,13bを区画するものとなる。このように表示領域9aにドット遮光膜33が設けられていることにより、ストライプ着色膜13sr,13sg,13sbをドット毎に区画することとなり、ドット毎に矩形の着色膜13r,13g,13bが形成されたものとなる。
The colored films 13r, 13g, and 13b are provided for each dot by the dot light-shielding film 33.
As shown in FIG. 3, the colored films 13r, 13g, and 13b constitute a part of each of the stripe colored films 13sr, 13sg, and 13sb formed in a stripe shape for each color. The stripe colored films 13sr, 13sg, and 13sb are provided so as to extend in the vertical direction of the display area 9a, and are provided so as to overlap a plurality of dots in the extending direction. The stripe colored films 13sr, 13sg, and 13sb straddle the dot light shielding film 33 extending in the left-right direction in FIG. It will be a part that does not contribute to. Therefore, the dot light-shielding film 33 extending in the left-right direction in FIG. 3 partitions each colored film 13r, 13g, 13b for each dot in the direction in which the stripe colored film extends. Further, the dot light-shielding film 33 extending in the vertical direction on the paper surface in FIG. 3 partitions the colored films 13r, 13g, and 13b for each dot in the horizontal direction on the paper surface. Thus, by providing the dot light shielding film 33 in the display area 9a, the stripe colored films 13sr, 13sg, and 13sb are partitioned for each dot, and rectangular colored films 13r, 13g, and 13b are formed for each dot. Will be.

このように、ドット遮光膜33がストライプ着色膜13sr,13sg,13sbをドット毎に区画することで、着色膜13r,13g,13bの一部とドット遮光膜33とが重なり合う積層部14が形成されている。
更に、積層部14とカラーフィルタ13を覆うように、オーバーコート膜21が設けられており、これによって各着色膜13r,13g,13bの表面は保護されている。
また、コモン電極10は、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide, 以下、ITOと略記する)からなるものであり、下基板2上において紙面左右方向にストライプ状に形成されている。
また、配向膜20は、コモン電極10上に形成されたポリイミド等の樹脂材料からなるものである。当該配向膜20の表面側には、液晶分子のモードに応じたラビング処理や垂直配向処理が施されている。例えば、液晶分子が、TN(Twisted Nematic)モード、STN(Super Twisted Nematic)である場合には配向膜27にはラビング処理が施されており、また、誘電異方性が負の液晶分子を有するVA(Vertical Alignment)モードである場合には、垂直配向処理が施されている。なお、配向膜27が垂直配向膜である場合には、ポリイミド膜以外にも、無機膜を採用してもよい。
As described above, the dot light shielding film 33 partitions the stripe colored films 13sr, 13sg, and 13sb for each dot, thereby forming the stacked portion 14 in which a part of the colored films 13r, 13g, and 13b and the dot light shielding film 33 overlap. ing.
Further, an overcoat film 21 is provided so as to cover the laminated portion 14 and the color filter 13, and thereby the surfaces of the colored films 13r, 13g, and 13b are protected.
The common electrode 10 is made of indium tin oxide (hereinafter abbreviated as ITO), and is formed in stripes on the lower substrate 2 in the left-right direction on the paper.
The alignment film 20 is made of a resin material such as polyimide formed on the common electrode 10. On the surface side of the alignment film 20, a rubbing process or a vertical alignment process according to the mode of the liquid crystal molecules is performed. For example, when the liquid crystal molecules are in a TN (Twisted Nematic) mode or STN (Super Twisted Nematic), the alignment film 27 is subjected to a rubbing process and has liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy. In the VA (Vertical Alignment) mode, a vertical alignment process is performed. In the case where the alignment film 27 is a vertical alignment film, an inorganic film may be employed in addition to the polyimide film.

ここで、オーバーコート膜21は、例えばスピンコート法等の湿式成膜法によって形成されるものであり、その下層の表面段差に対してかなりの平坦化を施している。
また、コモン電極10は、スパッタ等の真空成膜法によって薄膜に形成されるため、オーバーコート膜21の表面形状に倣って形成される。
また、有機膜からなる配向膜20は、スピンコート法等の湿式成膜法によって形成されるため、その下層の表面段差に対して若干の平坦化を施している。また、無機膜からなる配向膜20は、真空成膜法によって薄膜に形成されるため、コモン電極10の表面形状に倣って形成される。
Here, the overcoat film 21 is formed by a wet film-forming method such as a spin coat method, for example, and the surface step of the lower layer is considerably flattened.
Further, since the common electrode 10 is formed into a thin film by a vacuum film forming method such as sputtering, the common electrode 10 is formed following the surface shape of the overcoat film 21.
Further, since the alignment film 20 made of an organic film is formed by a wet film forming method such as a spin coat method, the surface step of the lower layer is slightly flattened. Further, since the alignment film 20 made of an inorganic film is formed into a thin film by a vacuum film forming method, it is formed following the surface shape of the common electrode 10.

これにより、配向膜20の表面(液晶層23との界面)においては、積層部14の段差に対して若干の平坦化が施された凹凸形状が付与される。
即ち、積層部14上にオーバーコート膜21、コモン電極10、及び配向膜20が積層された凸部20aと、着色膜13r,13g,13b上にオーバーコート膜21、コモン電極10、及び配向膜20が積層された凹部20bとが形成される。
Thereby, on the surface of the alignment film 20 (interface with the liquid crystal layer 23), a concavo-convex shape in which a slight flattening is applied to the step of the stacked portion 14 is given.
That is, the convex portion 20a in which the overcoat film 21, the common electrode 10, and the alignment film 20 are stacked on the stacked portion 14, and the overcoat film 21, the common electrode 10, and the alignment film on the colored films 13r, 13g, and 13b. A recess 20b in which 20 is laminated is formed.

次に、上基板部3Aの構成について詳述する。
上基板3は、ガラス又はプラスチック等の透明性材料からなるものであり、バックライトユニット15からの光を透過させるものである。
また、セグメント電極11は、ITOからなるものであり、上基板3において紙面垂直方向(紙面を貫通する方向)にストライプ状に形成されている。
Next, the configuration of the upper substrate portion 3A will be described in detail.
The upper substrate 3 is made of a transparent material such as glass or plastic, and transmits light from the backlight unit 15.
The segment electrode 11 is made of ITO, and is formed in a stripe shape in the upper substrate 3 in a direction perpendicular to the paper surface (a direction penetrating the paper surface).

フォトスペーサ24は、アクリル等の樹脂材料からなる。当該フォトスペーサ24の形成方法としては、上記のオーバーコート膜21を形成する方法と同様の方法が採用される。従って、所定のパターンで感光性樹脂材料を露光することによってフォトスペーサ24を形成できるため、簡素な工程によって容易かつ規則的に形成することができる。
なお、上記のフォトスペーサ24の形成方法においては、感光性樹脂膜としてネガ型やポジ型が利用される。また、フォトスペーサ24は、表示領域9aの凸部20aに対応して設けられている。これにより、フォトスペーサ24の表面に設けられた配向膜22と、下基板2の配向膜20とが接触することで、液晶層23の層厚が規定される。更に、フォトスペーサ24は、弾性を有することから、液晶装置1の製造工程において下基板部2A及び上基板部3Aを貼り合わせた後に、当該貼り合わせ方向に加圧硬化されることで、変形するようになっている。
The photo spacer 24 is made of a resin material such as acrylic. As a method for forming the photo spacer 24, a method similar to the method for forming the overcoat film 21 is employed. Therefore, since the photo spacer 24 can be formed by exposing the photosensitive resin material in a predetermined pattern, it can be easily and regularly formed by a simple process.
In the method for forming the photo spacer 24 described above, a negative type or a positive type is used as the photosensitive resin film. Moreover, the photo spacer 24 is provided corresponding to the convex part 20a of the display area 9a. Thereby, the alignment film 22 provided on the surface of the photo spacer 24 and the alignment film 20 of the lower substrate 2 are in contact with each other, whereby the layer thickness of the liquid crystal layer 23 is defined. Furthermore, since the photo spacer 24 has elasticity, after the lower substrate portion 2A and the upper substrate portion 3A are bonded together in the manufacturing process of the liquid crystal device 1, the photo spacer 24 is deformed by being pressure-cured in the bonding direction. It is like that.

また、配向膜22は、セグメント電極11及びフォトスペーサ24上に形成されたポリイミド等の樹脂材料からなるものである。当該配向膜22の表面側には、液晶分子のモードに応じたラビング処理や垂直配向処理が施されている。例えば、液晶分子が、TNモード、STNである場合には配向膜27にはラビング処理が施されており、また、誘電異方性が負の液晶分子を有するVAモードである場合には、垂直配向処理が施されている。なお、配向膜27が垂直配向膜である場合には、ポリイミド膜以外にも、無機膜を採用してもよい。   The alignment film 22 is made of a resin material such as polyimide formed on the segment electrode 11 and the photo spacer 24. On the surface side of the alignment film 22, a rubbing process or a vertical alignment process according to the mode of the liquid crystal molecules is performed. For example, when the liquid crystal molecules are TN mode or STN, the alignment film 27 is rubbed, and when the liquid crystal molecules are VA mode having liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy, the alignment film 27 is vertical. An orientation treatment is performed. In the case where the alignment film 27 is a vertical alignment film, an inorganic film may be employed in addition to the polyimide film.

また、液晶層23は、下基板部2A及び上基板部3Aの間において、配向膜20,22に接触するように注入されている。また、凹部20bの液晶層23の層厚は、凹部20bと凸部20aとの膜厚差と、弾性変形したフォトスペーサ24の高さと、配向膜22の膜厚と、の和の値によって規定されている。
液晶層23としては、STN液晶を採用しているが、当該STN液晶に限定することなく、TNモード、VAモード等の液晶層を採用してもよい。当該液晶層23は、配向膜20,22の間に注入されることで、配向膜20,22のラビング方向に順じて配向されている。
The liquid crystal layer 23 is injected between the lower substrate portion 2A and the upper substrate portion 3A so as to be in contact with the alignment films 20 and 22. The thickness of the liquid crystal layer 23 in the recess 20b is defined by the sum of the film thickness difference between the recess 20b and the protrusion 20a, the height of the elastically deformed photo spacer 24, and the thickness of the alignment film 22. Has been.
Although the STN liquid crystal is used as the liquid crystal layer 23, the liquid crystal layer may be a TN mode, VA mode, or the like without being limited to the STN liquid crystal. The liquid crystal layer 23 is injected between the alignment films 20 and 22 to be aligned in the rubbing direction of the alignment films 20 and 22.

次に、下基板部2A及び上基板部3Aの外部の構成について説明する。
下基板部2Aの外面側(液晶層23を挟持する面とは異なる側)には位相差板18及び偏光板19が、上基板部3Aの外面側にも位相差板16及び偏光板17が形成されており、基板内面側(液晶層23側)に円偏光を入射可能に構成されており、これら位相差板18及び偏光板19が円偏光板を構成し、位相差板16及び偏光板17が楕円偏光板を構成している。偏光板19は、所定方向の偏光軸を備えた直線偏光のみを透過させる構成とされ、位相差板18としてはλ/4位相差板が採用されている。このような円偏光板としては、その他にも偏光板とλ/2位相差板とλ/4位相差板を組み合わせた構成のもの(広帯域円偏光板)を用いることが可能で、この場合、黒表示をより無彩色にすることができるようになる。また、偏光板とλ/2位相差板とλ/4位相差板、及びcプレート(膜厚方向に光軸を有する位相差板)を組み合わせた構成のものを用いることも可能で、一層広視角化を図ることができるようになる。また、下基板部2Aに形成された偏光板19の外側には、光源と導光板とからなるバックライトユニット15が設けられている。
Next, the external configuration of the lower substrate portion 2A and the upper substrate portion 3A will be described.
The phase difference plate 18 and the polarizing plate 19 are provided on the outer surface side of the lower substrate portion 2A (the side different from the surface sandwiching the liquid crystal layer 23), and the phase difference plate 16 and the polarizing plate 17 are also provided on the outer surface side of the upper substrate portion 3A. It is formed so that circularly polarized light can be incident on the substrate inner surface side (liquid crystal layer 23 side). These retardation plate 18 and polarizing plate 19 constitute a circularly polarizing plate, and the retardation plate 16 and polarizing plate. 17 constitutes an elliptically polarizing plate. The polarizing plate 19 is configured to transmit only linearly polarized light having a polarization axis in a predetermined direction, and a λ / 4 retardation plate is employed as the retardation plate 18. As such a circularly polarizing plate, it is possible to use a configuration in which a polarizing plate, a λ / 2 retardation plate and a λ / 4 retardation plate are combined (broadband circularly polarizing plate), The black display can be made more achromatic. Further, it is possible to use a structure in which a polarizing plate, a λ / 2 retardation plate, a λ / 4 retardation plate, and a c plate (a retardation plate having an optical axis in the film thickness direction) are combined. Visualization can be achieved. A backlight unit 15 including a light source and a light guide plate is provided outside the polarizing plate 19 formed on the lower substrate portion 2A.

次に、図3及び図4を参照して、表示領域9aと周辺領域9bの境界線8の近傍について説明する。
なお、図4(a),(b)においては、セグメント電極11及びコモン電極10が不図示となっているが、当該セグメント電極11及びコモン電極10は、表示領域9aに形成されているものとする。
Next, the vicinity of the boundary line 8 between the display area 9a and the peripheral area 9b will be described with reference to FIGS.
4A and 4B, the segment electrode 11 and the common electrode 10 are not shown, but the segment electrode 11 and the common electrode 10 are formed in the display region 9a. To do.

周辺領域9bは、表示領域9aに近接する近接領域(周辺領域の一部)29bと、当該近接領域29bの周縁に位置する周縁領域39bとからなる。また、周辺領域9bに相当する下基板2上には、上記のドット遮光膜33と同一工程によって形成され、樹脂ブラック等の遮光性の樹脂材料からなる周辺遮光膜(遮光膜)34が設けられている。また、当該周辺遮光膜34上には、上記のオーバーコート膜21及び配向膜20が形成されており、これによって、平坦面20cが形成されている。ここで、下基板2の表面を基準とすると、平坦面20cの上面までの高さは均一であり、凸部20aの表面の高さよりも低くなっている。   The peripheral area 9b includes a proximity area (a part of the peripheral area) 29b close to the display area 9a and a peripheral area 39b positioned at the peripheral edge of the proximity area 29b. On the lower substrate 2 corresponding to the peripheral region 9b, a peripheral light-shielding film (light-shielding film) 34 formed of the same process as the dot light-shielding film 33 and made of a light-shielding resin material such as resin black is provided. ing. Further, the overcoat film 21 and the alignment film 20 are formed on the peripheral light-shielding film 34, thereby forming a flat surface 20c. Here, when the surface of the lower substrate 2 is used as a reference, the height up to the upper surface of the flat surface 20c is uniform and is lower than the height of the surface of the convex portion 20a.

一方、周辺領域9bに相当する上基板3上においては、フォトスペーサ24と、当該フォトスペーサ24を被覆する配向膜22が設けられている。
ここで、フォトスペーサ24は、表示領域9aのフォトスペーサ24を形成する際に同時に形成される部材であり、自然開放時の高さや、材料の硬さが表示領域9aのフォトスペーサ24と同様となっている。当該フォトスペーサ24は、下基板2の周辺遮光膜34に対応する位置に設けられている。
そして、下基板部2A及び上基板部3Aが貼り合わされることにより、配向膜20,22が接触するので、周辺領域9bにおける下基板部2A及び上基板部3Aの間の液晶層層厚が規定される。従って、液晶層23の層厚は、フォトスペーサ24の高さと、配向膜22の膜厚との和の値によって規定されている。
On the other hand, on the upper substrate 3 corresponding to the peripheral region 9b, a photo spacer 24 and an alignment film 22 covering the photo spacer 24 are provided.
Here, the photospacer 24 is a member that is formed at the same time as the photospacer 24 in the display area 9a is formed. The height at the time of natural release and the hardness of the material are the same as those of the photospacer 24 in the display area 9a. It has become. The photo spacer 24 is provided at a position corresponding to the peripheral light shielding film 34 of the lower substrate 2.
Then, since the alignment films 20 and 22 are in contact with each other by bonding the lower substrate portion 2A and the upper substrate portion 3A, the liquid crystal layer thickness between the lower substrate portion 2A and the upper substrate portion 3A in the peripheral region 9b is defined. Is done. Accordingly, the thickness of the liquid crystal layer 23 is defined by the sum of the height of the photo spacer 24 and the thickness of the alignment film 22.

そして、本実施形態においては、本発明の特徴点として記載したように、近接領域29bにおけるフォトスペーサ24の密度(突起部密度)が、表示領域9aにおけるフォトスペーサ24の密度よりも高くなっている。また、周縁領域39bにおけるフォトスペーサ24の密度が、近接領域29bにおけるフォトスペーサ24の密度よりも低くなっている。
具体的に説明すると、図3に示すように、表示領域9aのフォトスペーサ24は、紙面左右方向においてドット間隔wdのピッチで配設されているのに対して、近接領域29bのフォトスペーサ24は、間隔wdの1/2のピッチで紙面左右方向に配設されている。また、紙面縦方向においては、フォトスペーサ24は、表示領域9a及び近接領域29bにおいて、等ピッチで配設されている。これによって、近接領域29bにおける単位面積当りのフォトスペーサ24の本数は、表示領域9aのそれよりも多くなっている。また、このように本数を異ならせることにより、表示領域9aに対する近接領域29bのフォトスペーサ24の密度比が2.0となっている。なお、本実施形態においては、密度比を2.0としているが、1.3〜3.5の範囲であればよい。
また、周縁領域39bのフォトスペーサ24は、表示領域9aと同様のドット間隔wdのピッチで配設されている。従って、近接領域29bにおける単位面積当りのフォトスペーサ24の本数は、周縁領域39bのそれよりも多くなっている。
In the present embodiment, as described as the feature point of the present invention, the density (projection density) of the photo spacers 24 in the proximity region 29b is higher than the density of the photo spacers 24 in the display region 9a. . Further, the density of the photo spacers 24 in the peripheral region 39b is lower than the density of the photo spacers 24 in the adjacent region 29b.
More specifically, as shown in FIG. 3, the photo spacers 24 in the display area 9a are arranged at a pitch of the dot interval wd in the horizontal direction of the paper, whereas the photo spacers 24 in the proximity area 29b are Are arranged in the left-right direction on the paper surface at a pitch of 1/2 of the interval wd. Further, in the vertical direction of the drawing, the photo spacers 24 are arranged at an equal pitch in the display area 9a and the proximity area 29b. As a result, the number of photo spacers 24 per unit area in the proximity region 29b is larger than that in the display region 9a. Further, by varying the number in this way, the density ratio of the photo spacers 24 in the proximity region 29b to the display region 9a is 2.0. In the present embodiment, the density ratio is 2.0, but may be in the range of 1.3 to 3.5.
Further, the photo spacers 24 in the peripheral area 39b are arranged at the same pitch of the dot interval wd as in the display area 9a. Therefore, the number of photo spacers 24 per unit area in the proximity region 29b is larger than that in the peripheral region 39b.

このような構成の液晶装置1においては、表示領域9aにおけるフォトスペーサ24が積層部14の位置に対応して設けられ、即ち、凸部20a上に配置されている。一方、近接領域29bにおけるフォトスペーサ24が周辺遮光膜34の位置に対応して設けられている。これにより、凸部20aのフォトスペーサ24には、周辺領域9bの周辺遮光膜34のフォトスペーサ24よりも大きな圧縮応力が付与されてしまい、凸部20aのフォトスペーサ24は周辺遮光膜34のそれよりも変形(潰れ)してしまう。
そして、上記のように、近接領域29bのフォトスペーサ24の密度が表示領域9aおけるフォトスペーサ24の密度よりも高いので、近接領域29bのフォトスペーサ24の圧縮応力が小さくなり、フォトスペーサ24の変形(潰れ)が抑制される。
In the liquid crystal device 1 having such a configuration, the photo spacer 24 in the display region 9a is provided corresponding to the position of the stacked portion 14, that is, disposed on the convex portion 20a. On the other hand, the photo spacer 24 in the proximity region 29 b is provided corresponding to the position of the peripheral light shielding film 34. As a result, a larger compressive stress is applied to the photo spacer 24 of the convex portion 20a than to the photo spacer 24 of the peripheral light shielding film 34 in the peripheral region 9b. It will be deformed (collapsed) rather than.
As described above, since the density of the photo spacers 24 in the proximity region 29b is higher than the density of the photo spacers 24 in the display region 9a, the compressive stress of the photo spacers 24 in the proximity region 29b becomes small, and the deformation of the photo spacers 24 (Crushing) is suppressed.

また、表示領域9aにおいては、凸部20a上にフォトスペーサ24が設けられることにより、表示領域9aにおける積層部14に対応する位置の液晶層23の層厚は、積層部14が形成されていない凹部20bに対応する位置の液晶層23の層厚よりも薄くなる。また、表示領域9aにおける積層部14に対応する位置の液晶層23の層厚は、周辺領域9bの周辺遮光膜34に対応する位置の液晶層23の層厚よりも薄くなる。また、表示領域9aにおける凹部20bの液晶層23の層厚は、近接領域29bとの液晶層23の層厚と同じになる。   Further, in the display region 9a, the photo spacer 24 is provided on the convex portion 20a, so that the laminated portion 14 is not formed in the layer thickness of the liquid crystal layer 23 at a position corresponding to the laminated portion 14 in the display region 9a. It becomes thinner than the layer thickness of the liquid crystal layer 23 at a position corresponding to the recess 20b. In addition, the layer thickness of the liquid crystal layer 23 at a position corresponding to the stacked portion 14 in the display area 9a is thinner than the layer thickness of the liquid crystal layer 23 at a position corresponding to the peripheral light shielding film 34 in the peripheral area 9b. The layer thickness of the liquid crystal layer 23 in the recess 20b in the display region 9a is the same as the layer thickness of the liquid crystal layer 23 in the proximity region 29b.

ここで、図4(a)及び(b)を参照し、本実施形態の液晶装置と、従来の液晶装置とを比較して説明する。
図4(b)は、従来の液晶装置を示す断面図であって、図4(a)の本実施形態の液晶装置1の断面図と同一の位置関係で図示したものである。また、図4(b)においては、図4(a)と同一構成には同一符号を付している。ここでは、同一構成の説明を省略している。
Here, with reference to FIGS. 4A and 4B, the liquid crystal device of the present embodiment will be described in comparison with a conventional liquid crystal device.
FIG. 4B is a cross-sectional view showing a conventional liquid crystal device, which is illustrated in the same positional relationship as the cross-sectional view of the liquid crystal device 1 of the present embodiment shown in FIG. In FIG. 4B, the same components as those in FIG. 4A are denoted by the same reference numerals. Here, the description of the same configuration is omitted.

従来の液晶装置においては、周辺領域9bと表示領域9aとにおいて、同ピッチのフォトスペーサ24が形成されている。即ち、本実施形態の近接領域29bのように、フォトスペーサ24の密度を表示領域9aと異ならせたものではない。
このような構成においては、凸部20aのフォトスペーサ24に大きな圧縮応力が付与されてしまうことで、凸部20aのフォトスペーサ24は周辺遮光膜34のそれよりも変形(潰れ)してしまう。更に、周辺領域9bの境界8の近傍においても、フォトスペーサ24が変形してしまう。これによって、境界8の近傍で液晶層23の層厚が不均一になり、Δndが不均一になることで表示ムラが生じる。
In the conventional liquid crystal device, photo spacers 24 having the same pitch are formed in the peripheral region 9b and the display region 9a. That is, unlike the proximity region 29b of this embodiment, the density of the photo spacers 24 is not different from that of the display region 9a.
In such a configuration, a large compressive stress is applied to the photo spacer 24 of the convex portion 20 a, so that the photo spacer 24 of the convex portion 20 a is deformed (collapsed) more than that of the peripheral light shielding film 34. Further, the photo spacer 24 is also deformed near the boundary 8 of the peripheral region 9b. As a result, the layer thickness of the liquid crystal layer 23 becomes non-uniform in the vicinity of the boundary 8, and Δnd becomes non-uniform, resulting in display unevenness.

上述したように、本実施形態の液晶装置1においては、近接領域29bにおけるフォトスペーサ24の変形を抑制できるので、表示領域9aにおける凹部20bの液晶層23と、近接領域29bとの液晶層23の層厚を一定にすることができ、Δndが均一になることで表示ムラを抑制することができる。
また、周辺領域9bは、周辺遮光膜34で覆われた部分であるため、フォトスペーサ24の密度の大小に関わらず、表示に寄与することがない。従って、周辺領域9aにおけるフォトスペーサ24密度は、自由に調整することが可能となる。
As described above, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, the deformation of the photo spacer 24 in the proximity region 29b can be suppressed, so the liquid crystal layer 23 in the recess 20b in the display region 9a and the liquid crystal layer 23 in the proximity region 29b. The layer thickness can be made constant and display unevenness can be suppressed by making Δnd uniform.
Further, since the peripheral region 9b is a portion covered with the peripheral light shielding film 34, it does not contribute to display regardless of the density of the photo spacer 24. Therefore, the density of the photo spacers 24 in the peripheral region 9a can be freely adjusted.

また、周縁領域39bにおけるフォトスペーサ24の密度が、近接領域29bのそれよりも低いので、周縁領域39bにおける下基板2と上基板3とが撓みやすくなり、当該下基板2と上基板3との金属端子間に配置された導通粒子を潰すことができ、金属端子間の導通を確実に得ることができる。なお、当該周縁領域39bでは、液晶層23の層厚が薄くなるものの、表示に寄与しない領域であるため、表示ムラが生じることもない。   Further, since the density of the photo spacer 24 in the peripheral region 39b is lower than that of the adjacent region 29b, the lower substrate 2 and the upper substrate 3 in the peripheral region 39b are easily bent, and the lower substrate 2 and the upper substrate 3 Conductive particles arranged between the metal terminals can be crushed, and conduction between the metal terminals can be obtained with certainty. In the peripheral region 39b, although the layer thickness of the liquid crystal layer 23 is reduced, it is a region that does not contribute to display, and thus display unevenness does not occur.

(液晶装置の第2実施形態)
次に、本発明の電気光学装置に係る液晶装置の第2実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図5は、本実施形態の液晶装置の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す断面図であって、図1のC−C'線に沿う断面図(横方向に切断した状態を示す断面図)である。
本実施形態においては、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して詳細な説明を省略する。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
(Second Embodiment of Liquid Crystal Device)
Next, a liquid crystal device according to a second embodiment of the electro-optical device of the invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the vicinity of the boundary between the display region and the peripheral region of the liquid crystal device according to the present embodiment, and is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. ).
In the present embodiment, only the parts different from the first embodiment will be described, the same components are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
In each drawing, the thicknesses and dimensional ratios of the components are appropriately changed in order to make the drawings easy to see.

本実施形態における液晶装置1は、表示領域9aにおいて着色膜13r,13g,13bの各々の膜厚がドット遮光膜33の膜厚よりも厚くなっている。そして、着色膜13r,13g,13b上にオーバーコート膜21が形成され、更に当該オーバーコート膜21上に配向膜20が形成されている。このように着色膜13r,13g,13bがドット遮光膜33よりも厚膜に形成されていることにより、積層部14上の段差が平坦化されたものとなっている。
一方、周辺領域9bにおいては、周辺遮光膜34上にオーバーコート膜21が形成され、更に当該オーバーコート膜21上に配向膜20が形成されている。
In the liquid crystal device 1 according to the present embodiment, each of the colored films 13r, 13g, and 13b is thicker than the dot light-shielding film 33 in the display region 9a. An overcoat film 21 is formed on the colored films 13r, 13g, and 13b, and an alignment film 20 is formed on the overcoat film 21. As described above, the colored films 13r, 13g, and 13b are formed thicker than the dot light-shielding film 33, so that the step on the stacked portion 14 is flattened.
On the other hand, in the peripheral region 9 b, the overcoat film 21 is formed on the peripheral light shielding film 34, and the alignment film 20 is further formed on the overcoat film 21.

また、本実施形態においては、第1実施形態と同様に、近接領域29bにおけるフォトスペーサ24の密度が、表示領域9aにおけるフォトスペーサ24の密度よりも高くなっている。また、周縁領域39bにおけるフォトスペーサ24の密度が、近接領域29bにおけるフォトスペーサ24の密度よりも低くなっている。   In the present embodiment, as in the first embodiment, the density of the photo spacers 24 in the proximity region 29b is higher than the density of the photo spacers 24 in the display region 9a. Further, the density of the photo spacers 24 in the peripheral region 39b is lower than the density of the photo spacers 24 in the adjacent region 29b.

そして、下基板部2Aと上基板部3Aとを貼り合わせて、その間に液晶層23を注入することにより、表示領域9aと周辺領域9bとの各々のフォトスペーサ24によって液晶層23の層厚が規定される。
ここで、表示領域9aには、着色膜膜13r,13g,13bが形成され、周辺領域9bには着色膜が形成されていないことから、表示領域9aにおける下基板2から配向膜20までの膜厚が、周辺領域9bにおけるそれよりも厚膜になる。
その結果、表示領域9aのフォトスペーサ24には、周辺領域9bのフォトスペーサ24よりも大きな圧縮応力が付与されて変形する。一方、近接領域29bにおいては、フォトスペーサ24の密度が表示領域9aおけるフォトスペーサ24の密度よりも高いので、近接領域29bのフォトスペーサ24の圧縮応力が小さくなり、フォトスペーサ24の変形(潰れ)が抑制される。
Then, by laminating the lower substrate portion 2A and the upper substrate portion 3A and injecting the liquid crystal layer 23 therebetween, the thickness of the liquid crystal layer 23 is increased by the photo spacers 24 in the display region 9a and the peripheral region 9b. It is prescribed.
Here, since the colored film films 13r, 13g, and 13b are formed in the display region 9a and the colored film is not formed in the peripheral region 9b, the film from the lower substrate 2 to the alignment film 20 in the display region 9a. The thickness is thicker than that in the peripheral region 9b.
As a result, the photospacer 24 in the display area 9a is deformed by applying a larger compressive stress than the photospacer 24 in the peripheral area 9b. On the other hand, in the proximity region 29b, the density of the photo spacers 24 is higher than the density of the photo spacers 24 in the display region 9a. Is suppressed.

上述したように、本実施形態においては、着色膜膜13r,13g,13bの膜厚をドット遮光膜33の膜厚よりも大きくすることで、表示領域9aのオーバーコート膜21の表面を平坦化させることが可能となり、積層部14の上方における液晶層23の層厚と、着色膜13r,13g,13bの上方における液晶層23の層厚を均一にすることができる。従って、表示領域9aにおいてコントラストの高い表示を行うことができる。   As described above, in the present embodiment, the surface of the overcoat film 21 in the display area 9a is planarized by making the film thickness of the colored film films 13r, 13g, and 13b larger than the film thickness of the dot light shielding film 33. Accordingly, the layer thickness of the liquid crystal layer 23 above the stacked portion 14 and the layer thickness of the liquid crystal layer 23 above the colored films 13r, 13g, and 13b can be made uniform. Accordingly, display with high contrast can be performed in the display area 9a.

(液晶装置の第3実施形態)
次に、本発明の電気光学装置に係る液晶装置の第3実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図6は、本実施形態の液晶装置の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す断面図であって、図1のC−C'線に沿う断面図(横方向に切断した状態を示す断面図)である。
本実施形態においては、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して詳細な説明を省略する。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
(Third embodiment of liquid crystal device)
Next, a third embodiment of the liquid crystal device according to the electro-optical device of the invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the vicinity of the boundary between the display region and the peripheral region of the liquid crystal device of the present embodiment, and is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. ).
In the present embodiment, only the parts different from the first embodiment will be described, the same components are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
In each drawing, the thicknesses and dimensional ratios of the components are appropriately changed in order to make the drawings easy to see.

既述の第1実施形態においては、表示領域9aのフォトスペーサ24のピッチよりも、近接領域29bのフォトスペーサ24のピッチを小さくすることで、近接領域29bにおける単位面積当りのフォトスペーサ24の本数を、表示領域9aのそれよりも多くしている。これによって、表示領域9aに対する近接領域29bのフォトスペーサ24の密度比を高くしている。
これに対して、本実施形態においては、図6に示すように、表示領域9aと近接領域29bとにおいてフォトスペーサ24のピッチを同じにしているものの、近接領域29bのフォトスペーサ24の面積を表示領域9aのそれよりも大きくしている。
換言すれば、本実施形態においては、表示領域9aと近接領域29bとにおける単位面積当りのフォトスペーサ24の本数を同じにしているが、近接領域29bにおける一本当りのフォトスペーサ24の太さを表示領域9aのそれよりも大きくしている。
In the first embodiment described above, the number of photo spacers 24 per unit area in the proximity region 29b is reduced by making the pitch of the photo spacers 24 in the proximity region 29b smaller than the pitch of the photo spacers 24 in the display region 9a. Is larger than that of the display area 9a. As a result, the density ratio of the photo spacers 24 in the proximity region 29b to the display region 9a is increased.
On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 6, although the pitch of the photo spacer 24 is the same in the display area 9a and the proximity area 29b, the area of the photo spacer 24 in the proximity area 29b is displayed. It is larger than that of the region 9a.
In other words, in the present embodiment, the number of photo spacers 24 per unit area in the display area 9a and the proximity area 29b is the same, but the thickness of the photo spacer 24 per line in the proximity area 29b is set to be the same. It is larger than that of the display area 9a.

上述したように、本実施形態においても、近接領域29bにおけるフォトスペーサ24の密度が、表示領域9aにおけるフォトスペーサ24の密度よりも高くすることが可能となる。従って、近接領域29bにおけるフォトスペーサ24の変形を抑制できるので、表示領域9aと近接領域29bとの境界8における液晶層23の層厚を一定にすることができ、Δndが均一になることで表示ムラを抑制することができる。   As described above, also in this embodiment, the density of the photo spacers 24 in the proximity region 29b can be made higher than the density of the photo spacers 24 in the display region 9a. Accordingly, since the deformation of the photo spacer 24 in the proximity region 29b can be suppressed, the layer thickness of the liquid crystal layer 23 at the boundary 8 between the display region 9a and the proximity region 29b can be made constant, and Δnd becomes uniform. Unevenness can be suppressed.

なお、本発明の技術範囲は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、反射型や半透過反射型の液晶装置においても、本発明を適用することができる。
また、本実施形態においては、ノーマリーブラックモードの液晶装置について説明したが、本発明は当該モードを限定するものではなく、ノーマリーホワイトモードの液晶装置においても適用可能である。
The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the present invention can be applied to a reflective or transflective liquid crystal device.
In the present embodiment, the normally black mode liquid crystal device has been described. However, the present invention is not limited to this mode, and can be applied to a normally white mode liquid crystal device.

(電子機器)
次に、本発明の上記実施形態の液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図7は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図7において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記液晶装置を用いた表示部を示している。このような携帯電話等の電子機器の表示部に、上記実施形態の液晶装置を用いた場合、表示ムラが抑制された液晶表示部を備えた電子機器となる。
(Electronics)
Next, specific examples of the electronic apparatus provided with the liquid crystal device according to the embodiment of the invention will be described.
FIG. 7 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 7, reference numeral 1000 denotes a mobile phone body, and reference numeral 1001 denotes a display unit using the liquid crystal device. When the liquid crystal device of the above-described embodiment is used as a display unit of such an electronic device such as a mobile phone, the electronic device includes a liquid crystal display unit in which display unevenness is suppressed.

(実験結果1)
次に、本発明の実施例1について説明する。
図8は、既述の第1実施形態に示す液晶装置において、表示領域9a及び近接領域29bの境界8近傍に生じる表示ムラの程度を調査した実験結果を示している。
本実施例においては、4つのパラメータを異ならせて実験を行っている。即ち、図8に示すように、(1)周縁領域39bにおける1ドット当りのフォトスペーサの個数(スペーサ密度C1)と、(2)近接領域29bのドット数(幅W2)と、(3)近接領域29bにおける1ドット当りのフォトスペーサの個数(スペーサ密度C2)と、(4)表示領域9aにおける1ドット当りのフォトスペーサの個数(スペーサ密度C3)と、を各々異ならせて実験を行っている。
また、(1)〜(4)の条件のうち、(3)と(4)の条件から(5)密度比を求めている。
また、(6)境界近傍の表示ムラにおいて、「×」,「△」,「○」,「◎」とは、表示ムラの程度を示している。そのうち「×」はムラが顕著に生じた結果を示している。「△」は、製品レベルの液晶装置として許容される範囲の表示ムラが生じた結果を示している。「○」及び「◎」は、殆ど表示ムラが生じなかった結果を示し、特に「◎」は表示ムラが確認されなかった結果を示している。
更に、本実験は、「従来例1」に示す液晶装置と、「実施例1」〜「実施例14」に示す液晶装置を実験対象としている。
(Experimental result 1)
Next, Example 1 of the present invention will be described.
FIG. 8 shows the experimental results of investigating the degree of display unevenness that occurs in the vicinity of the boundary 8 between the display region 9a and the proximity region 29b in the liquid crystal device shown in the first embodiment.
In the present embodiment, the experiment is performed with different four parameters. That is, as shown in FIG. 8, (1) the number of photo spacers per dot in the peripheral area 39b (spacer density C1), (2) the number of dots in the adjacent area 29b (width W2), and (3) proximity Experiments were performed by varying the number of photo spacers per dot (spacer density C2) in the region 29b and (4) the number of photo spacers per dot (spacer density C3) in the display region 9a. .
Further, among the conditions (1) to (4), (5) the density ratio is obtained from the conditions (3) and (4).
In (6) display unevenness near the boundary, “×”, “Δ”, “◯”, and “◎” indicate the degree of display unevenness. Among them, “x” indicates a result of remarkable unevenness. “Δ” indicates a result of occurrence of display unevenness in a range acceptable as a product-level liquid crystal device. “◯” and “◎” indicate results in which display unevenness hardly occurred, and in particular “◎” indicates results in which display unevenness was not confirmed.
Further, this experiment is conducted on the liquid crystal device shown in “Conventional Example 1” and the liquid crystal devices shown in “Example 1” to “Example 14”.

そして、(6)境界近傍の表示ムラを確認したところ、従来例1は「×」の結果が得られた。また、「実施例1」,「実施例4」,「実施例5」,「実施例6」,「実施例7」,「実施例9」,「実施例10」,「実施例11」,「実施例13」,及び「実施例14」は、「△」の結果が得られた。また、「実施例2」,「実施例8」,「実施例12」は、「○」の結果が得られた。また、「実施例3」は、「◎」の結果が得られた。
そして、このような表示ムラの結果と、(5)密度比との関係を調べると、密度比が1.67〜2.00の範囲において、「○」若しくは「◎」の結果が得られることが明らかになった。また、密度比が1.33〜1.67の範囲、若しくは、3.00〜4.00の範囲において、「△」の結果が得られることが明らかになった。
And (6) When the display nonuniformity of the boundary vicinity was confirmed, the result of "x" was obtained for the prior art example 1. In addition, “Example 1”, “Example 4”, “Example 5”, “Example 6”, “Example 7”, “Example 9”, “Example 10”, “Example 11”, In “Example 13” and “Example 14”, the result of “Δ” was obtained. In addition, “Example 2”, “Example 8”, and “Example 12” obtained a result of “◯”. Further, in “Example 3”, the result of “◎” was obtained.
When the relationship between the result of such display unevenness and (5) the density ratio is examined, a result of “◯” or “◎” is obtained in the range of the density ratio of 1.67 to 2.00. Became clear. Further, it was revealed that a result of “Δ” was obtained when the density ratio was in the range of 1.33 to 1.67, or in the range of 3.00 to 4.00.

(実験結果2)
次に、本発明の実施例2について説明する。
図9は、既述の第2実施形態に示す液晶装置において、表示領域9a及び近接領域29bの境界8近傍に生じる表示ムラの程度を調査した実験結果を示している。
本実験では、「実施例15」及び「実施例16」に示す液晶装置を実験対象としている。当該「実施例15」及び「実施例16」は、カラーフィルタ13の膜厚と、近接領域29bにおける1ドット当りのフォトスペーサの個数(スペーサ密度C2)と、を異ならせている。
また、本実験では、ドット遮光膜の厚みを一定、周縁領域39bにおける1ドット当りのフォトスペーサの個数(スペーサ密度C1)を一定、近接領域29bのドット数(幅W2)を一定、としている。
(Experimental result 2)
Next, Example 2 of the present invention will be described.
FIG. 9 shows an experimental result in which the degree of display unevenness occurring in the vicinity of the boundary 8 between the display area 9a and the adjacent area 29b in the liquid crystal device shown in the second embodiment described above is shown.
In this experiment, the liquid crystal devices shown in “Example 15” and “Example 16” are the objects of the experiment. In the “Example 15” and “Example 16”, the film thickness of the color filter 13 and the number of photo spacers per one dot (spacer density C2) in the proximity region 29b are different.
In this experiment, the thickness of the dot light-shielding film is constant, the number of photo spacers per dot (spacer density C1) in the peripheral region 39b is constant, and the number of dots (width W2) in the adjacent region 29b is constant.

そして、境界近傍の表示ムラを確認したところ、「実施例15」及び「実施例16」のいずれも、表示ムラが殆ど生じなかった結果(「○」)が得られた。   Then, when the display unevenness in the vicinity of the boundary was confirmed, in both “Example 15” and “Example 16”, a result (“◯”) in which display unevenness hardly occurred was obtained.

本発明の第1実施形態に係る液晶装置の平面図。1 is a plan view of a liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention. 図1のB−B’線に沿う断面構成図。FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram taken along line B-B ′ of FIG. 1. 図1の表示領域と周辺領域の境界近傍を示す平面図。The top view which shows the boundary vicinity of the display area of FIG. 1, and a peripheral area. 図1のC−C’線に沿う断面構成図であり第1実施形態と従来例との比較図。It is a cross-sectional block diagram which follows the C-C 'line of FIG. 1, and is a comparison figure of 1st Embodiment and a prior art example. 本発明の第2実施形態に係る液晶装置のC−C’線に沿う断面構成図。The cross-sectional block diagram which follows the C-C 'line | wire of the liquid crystal device which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る液晶装置のC−C’線に沿う断面構成図。The cross-sectional block diagram which follows the C-C 'line | wire of the liquid crystal device which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の電子機器を示す斜視図。FIG. 11 is a perspective view showing an electronic apparatus of the invention. 本発明の実施例1を説明するための図。The figure for demonstrating Example 1 of this invention. 本発明の実施例2を説明するための図。The figure for demonstrating Example 2 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 液晶装置(電気光学装置)、 2A 下基板部(第1基板)、 2 下基板(第1基板)、 3A 上基板部(第2基板)、 3 上基板(第2基板)、 9a 表示領域、 9b 周辺領域、 13 カラーフィルタ(着色膜)、 13r,13g,13b 着色膜、 14 積層部、 23 液晶層(電気光学物質)、 24 フォトスペーサ(突起部)、 29b 近接領域(周辺領域の一部)、 33 ドット遮光膜(遮光膜)、 34 周辺遮光膜(遮光膜)、 39b 周縁領域、 1000 携帯電話(電子機器)。


DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid crystal device (electro-optical device), 2A Lower substrate part (first substrate), 2 Lower substrate (first substrate), 3A Upper substrate part (second substrate), 3 Upper substrate (second substrate), 9a Display area 9b peripheral region, 13 color filter (colored film), 13r, 13g, 13b colored film, 14 laminated portion, 23 liquid crystal layer (electro-optical material), 24 photospacer (projection), 29b proximity region (one of peripheral region) Part), 33 dot light shielding film (light shielding film), 34 peripheral light shielding film (light shielding film), 39b peripheral area, 1000 mobile phone (electronic device).


Claims (7)

対向配置された第1基板及び第2基板によって挟持された液晶層を具備し、複数のドッ
トからなる表示領域において表示を行う液晶装置であって、
前記第1基板と前記第2基板とのうち、一方の基板の内側に設けられた突起部が、他方
の基板側に接触することにより、前記液晶層の層厚が規定され、
前記表示領域における前記ドットの相互間と、前記表示領域の外部の周辺領域とには、
遮光膜が設けられ、
前記表示領域には、前記ドットから出射される光を着色する着色膜の一部と、前記遮光
膜とが重なり合う積層部が設けられ、
前記周辺領域は、前記表示領域に近接する近接領域と、当該近接領域の周縁に位置する
周縁領域とを有し、
前記周縁領域において、前記第1基板及び前記第2基板はそれぞれ対向する位置に金属
端子を有し、前記第1基板の前記金属端子と前記第2基板の前記金属端子とが導通粒子を
介して電気的に接続されており、
前記突起部は、
前記表示領域における前記積層部に対応する位置と、
前記周辺領域における前記遮光膜に対応する位置と、
に設けられ、
前記表示領域及び前記周辺領域の各領域において、所定の領域面積に対して前記突起部
が設けられている設置面積が占める割合を突起部密度とすると、
前記近接領域の突起部密度は、前記表示領域の突起部密度よりも高くなるように設定さ
れており、
前記周縁領域の突起部密度は、前記近接領域の突起部密度よりも低くなるように、かつ
、前記周縁領域において前記第1基板と前記第2基板とが前記液晶層側に撓み前記第1基
板の前記金属端子と前記第2基板の前記金属端子とで前記導通粒子を潰した状態が保持さ
れるように、設定されている
ことを特徴とする液晶装置
Comprising a clamping been liquid crystal layer by the first and second substrates facing each other, a liquid crystal device which performs display in a display area comprising a plurality of dots,
Of the first substrate and the second substrate, the protrusion provided on the inner side of one of the substrates contacts the other substrate, whereby the layer thickness of the liquid crystal layer is defined,
Between the dots in the display area and the peripheral area outside the display area,
A light shielding film is provided,
The display area is provided with a laminated portion in which a part of a colored film for coloring light emitted from the dots and the light shielding film are overlapped,
The peripheral area is located in the proximity area close to the display area and the periphery of the proximity area
A peripheral region,
In the peripheral region, the first substrate and the second substrate are metal at positions facing each other.
A terminal, wherein the metal terminal of the first substrate and the metal terminal of the second substrate have conductive particles.
Is electrically connected through
The protrusion is
A position corresponding to the stacked portion in the display area;
A position corresponding to the light shielding film in the peripheral region;
Provided in
In each area of the display area and the peripheral area, the ratio of the installation area where the protrusions are provided to the predetermined area is the protrusion density ,
The protrusion density in the proximity area is set to be higher than the protrusion density in the display area.
And
The protrusion density in the peripheral area is lower than the protrusion density in the adjacent area, and
The first substrate and the second substrate bend toward the liquid crystal layer in the peripheral region, and the first substrate
The state where the conductive particles are crushed by the metal terminal of the plate and the metal terminal of the second substrate is maintained.
Is set to be
A liquid crystal device characterized by that .
前記近接領域における単位面積あたりの突起部の本数は、前記表示領域おける単位面積あたりの突起部の本数よりも多いこと、
を特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
The number of protrusions per unit area in the proximity region is greater than the number of protrusions per unit area in the display region;
The liquid crystal device according to claim 1.
前記近接領域における各突起部の面積は、前記表示領域おける各突起部の面積よりも大きいこと、
を特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
The area of each protrusion in the proximity region is larger than the area of each protrusion in the display region;
The liquid crystal device according to claim 1.
前記着色膜の膜厚は、前記遮光膜の膜厚よりも大きいこと、
を特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の液晶装置
The thickness of the colored film is larger than the thickness of the light shielding film;
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device is a liquid crystal device .
前記表示領域の前記積層部に対応する位置の液晶層の層厚は、
前記周辺領域の前記遮光膜に対応する位置の液晶層の層厚よりも薄いこと、
を特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の液晶装置
The layer thickness of the liquid crystal layer at a position corresponding to the stacked portion of the display area is
Less than the thickness of the liquid crystal layer at a position corresponding to the light shielding film in the peripheral region;
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device is a liquid crystal device .
第1基板及び第2基板によって挟持された液晶層を具備し、複数のドットからなる表示
領域において表示を行う液晶装置であって、
前記第1基板と前記第2基板と間に、前記液晶層の層厚を規定する複数の突起部が配
置され、
前記複数の突起部は、前記表示領域と前記周辺領域とに各々設けられ、
前記表示領域の前記突起部が配置されてなる位置に対応する液晶層の層厚は、
前記表示領域の外部の周辺領域において前記突起部が配置されてなる位置に対応する
晶層の層厚よりも薄く、
前記周辺領域は、前記表示領域に近接する近接領域と、当該近接領域の周縁に位置する
周縁領域とを有し、
前記周縁領域において、前記第1基板及び前記第2基板はそれぞれ対向する位置に金属
端子を有し、前記第1基板の前記金属端子と前記第2基板の前記金属端子とが導通粒子を
介して電気的に接続されており、
前記表示領域及び前記周辺領域の各領域において、所定の領域面積に対して前記突起部
が設けられている設置面積が占める割合を突起部密度とすると、
前記近接領域の突起部密度は、前記表示領域の突起部密度よりも高くなるように設定さ
れており、
前記周縁領域の突起部密度は、前記近接領域の突起部密度よりも低くなるように、かつ
、前記周縁領域において前記第1基板と前記第2基板とが前記液晶層側に撓み前記第1基
板の前記金属端子と前記第2基板の前記金属端子とで前記導通粒子を潰した状態が保持さ
れるように、設定されている
ことを特徴とする液晶装置
A liquid crystal device comprising a liquid crystal layer sandwiched between a first substrate and a second substrate, and performing display in a display region composed of a plurality of dots,
In between the first substrate and the second substrate, a plurality of projections defining the thickness of the liquid crystal layer is disposed,
The plurality of protrusions are provided in the display area and the peripheral area,
The layer thickness of the liquid crystal layer corresponding to the position where the projections of the display area are arranged is
Liquid corresponding to the position where the protrusion is arranged in the peripheral area outside the display area
Thinner than the crystal layer thickness,
The peripheral area is located in the proximity area close to the display area and the periphery of the proximity area
A peripheral region,
In the peripheral region, the first substrate and the second substrate are metal at positions facing each other.
A terminal, wherein the metal terminal of the first substrate and the metal terminal of the second substrate have conductive particles.
Is electrically connected through
In each area of the display area and the peripheral area, the ratio of the installation area where the protrusions are provided to the predetermined area is the protrusion density .
The protrusion density in the proximity area is set to be higher than the protrusion density in the display area.
And
The protrusion density in the peripheral area is lower than the protrusion density in the adjacent area, and
The first substrate and the second substrate bend toward the liquid crystal layer in the peripheral region, and the first substrate
The state in which the conductive particles are crushed by the metal terminal of the plate and the metal terminal of the second substrate is maintained.
Is set to be
A liquid crystal device characterized by that .
表示部を備える電子機器であって、
前記表示部は請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の液晶装置からなること、を
特徴とする電子機器。
An electronic device including a display unit,
An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to any one of claims 1 to 6 .
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