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JP2010078944A - Liquid crystal display and electronic equipment - Google Patents

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JP2010078944A
JP2010078944A JP2008247508A JP2008247508A JP2010078944A JP 2010078944 A JP2010078944 A JP 2010078944A JP 2008247508 A JP2008247508 A JP 2008247508A JP 2008247508 A JP2008247508 A JP 2008247508A JP 2010078944 A JP2010078944 A JP 2010078944A
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JP
Japan
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liquid crystal
columnar spacer
crystal display
display device
electrode
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Pending
Application number
JP2008247508A
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Japanese (ja)
Inventor
Kyoko Hirai
恭子 平井
Masaki Endo
正樹 遠藤
Kosuke Sano
孝輔 佐野
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Epson Imaging Devices Corp
Original Assignee
Epson Imaging Devices Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure with a high numerical aperture that prevents a columnar spacer from entering a pixel region side and then prevents light from leaking to prevent a display defect. <P>SOLUTION: An FFS type liquid crystal display 1 is provided with, on one substrate 10: a flattening film 18 covering at least a data line, a scan line, and a switching element 5; a first electrode 31 formed on the flattening film 18; an insulating film 33 covering the first electrode 31; and a second electrode 32 formed on the insulating film 33 and driving liquid crystal molecules constituting a liquid crystal layer 50 with an electric field generated with the first electrode 31. On the other substrate 20 of the pair of substrates 10 and 20, the liquid crystal display is provided with a columnar spacer 40 for holding an interval between the pair of substrates 10 and 20 in a position overlapping at least one of the data line, scan line, and switching element 5 in plane. On the surface of the other substrate 10, a recessed portion 41 is formed by hollowing the flattening film 18, and a portion of the columnar spacer 40 is put in the recessed portion 41. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal display device and an electronic apparatus.

近年、高開口率化に伴い、FFS(Fringe Field Switching)方式の液晶表示装置の開発が盛んに行われている。FFS方式の液晶表示装置は、画素領域における電極間に補助容量が構成されるため、従来のTN(Twisted Nematic)方式やVA(Virtical Alignment)方式に比べて、画素領域の周囲の遮光領域を効率良く削減でき、開口率を高めることができる。   In recent years, with the increase in aperture ratio, development of FFS (Fringe Field Switching) type liquid crystal display devices has been actively conducted. In the FFS liquid crystal display device, since an auxiliary capacitance is formed between electrodes in the pixel region, the light shielding region around the pixel region is more efficient than the conventional TN (Twisted Nematic) method and VA (Virtual Alignment) method. It can be reduced well and the aperture ratio can be increased.

また、これらの液晶表示装置を構成する一対の基板の間には、基板間の距離(セルギャップ)を一定に保つために柱状スペーサが設けられている。しかしながら、柱状スペーサは、製造工程においてガラス転移点を越えた状態でその先端が溶けることが多く、焼成後の形状にバラツキが発生してしまう。そのため、セルギャップを一定に保つことができず、液晶表示装置の表示不良が生じる場合がある。   In addition, columnar spacers are provided between a pair of substrates constituting these liquid crystal display devices in order to keep the distance (cell gap) between the substrates constant. However, the columnar spacer often melts at the tip of the columnar spacer in the state of exceeding the glass transition point in the manufacturing process, resulting in variations in the shape after firing. For this reason, the cell gap cannot be kept constant, and display defects of the liquid crystal display device may occur.

このような問題点を解決するために、例えば特許文献1では、柱状スペーサを一方の基板に形成された凸部の端縁に重なるように設けることで、柱状スペーサの先端と基板との接触面積を拡大し、荷重に対する柱状スペーサ及び基板の強度を向上させている。これにより、柱状スペーサの形状の変形を抑制してセルギャップを一定に保持し、液晶表示装置の表示不良の防止を可能にしている。
特開2005−62589号公報
In order to solve such a problem, for example, in Patent Document 1, by providing a columnar spacer so as to overlap an edge of a convex portion formed on one substrate, the contact area between the tip of the columnar spacer and the substrate And the strength of the columnar spacer and the substrate with respect to the load is improved. Thereby, the deformation of the columnar spacer is suppressed, the cell gap is kept constant, and the display defect of the liquid crystal display device can be prevented.
JP 2005-62589 A

しかしながら、特許文献1では、柱状スペーサが凸部を構成する信号線やTFT(Thin Film Transistor)に重なるように設けられているため、加圧試験を行う際に、荷重が加わったことによって柱状スペーサが画素領域側に侵入してしまう場合がある。また、柱状スペーサの画素領域側への侵入は通常使用時における基板の歪みやたわみによっても起こりうる。これにより、配向膜の表面に傷が付き、液晶分子の配向乱れが引き起こされ、黒表示となるべき箇所の光漏れが生じ、液晶表示装置の表示不良が発生してしまう惧れがある。   However, in Patent Document 1, since the columnar spacer is provided so as to overlap with a signal line and a TFT (Thin Film Transistor) constituting the convex portion, the columnar spacer is caused by a load applied during a pressure test. May enter the pixel region side. Further, the penetration of the columnar spacer into the pixel region side can also occur due to distortion or deflection of the substrate during normal use. As a result, the surface of the alignment film is scratched, the alignment disorder of the liquid crystal molecules is caused, the light leaks at the portion where black display is to occur, and the liquid crystal display device may have a display defect.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、FFS方式の液晶表示装置において、荷重が加わった場合に柱状スペーサが画素領域側に侵入することを防ぎ、光漏れを防ぐことで表示不良を防止しうる、高開口率の液晶表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances. In an FFS mode liquid crystal display device, when a load is applied, a columnar spacer is prevented from entering the pixel region side, thereby preventing light leakage. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device with a high aperture ratio that can prevent display defects.

上記の課題を解決するため、対向配置された一対の基板間に液晶層が挟持され、前記一対の基板のうちの一方の基板に、互いに交差する複数のデータ線及び複数の走査線と、前記データ線及び前記走査線に電気的に接続された複数のスイッチング素子と、が設けられた液晶表示装置であって、前記一方の基板に、前記データ線と前記走査線と前記スイッチング素子とを少なくとも覆う平坦化膜と、前記平坦化膜上に形成された第1電極と、前記第1電極を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記第1電極との間に生じる電界によって前記液晶層を構成する液晶分子を駆動する第2電極と、が設けられ、前記一対の基板のうちの他方の基板には、前記データ線、前記走査線、前記スイッチング素子の少なくともいずれか一つと平面的に重なる位置に、前記一対の基板間の間隔を保持する柱状スペーサが設けられ、前記一方の基板の表面に、前記平坦化膜を窪ませて形成された凹部が設けられ、前記柱状スペーサの一部が前記凹部の内部に収容されていることを特徴とする。
この構成によれば、柱状スペーサは、平坦化膜に少なくとも底部を設けられた凹部の内部に収容されるので、荷重が加わっても画素領域側に侵入することがない。一般に、FFS方式の液晶表示装置において、第1電極及び第2電極は、平らな平坦化膜の上に形成される。この理由としては、第1電極及び第2電極が、一方の基板におけるTFT等の凹凸を反映した層間絶縁膜の上に形成されると、歪んで形成されてしまうことが挙げられる。その結果、第1電極と第2電極との間に生じる電界に乱れが生じ、液晶分子の配向乱れが引き起こされ、表示不良が発生する問題がある。したがって、FFS方式の一方の基板におけるTFTの上には、十分な厚さの平坦化膜が形成されているので、この厚い平坦化膜に十分な深さの凹部を形成することができる。すなわち、柱状スペーサは、平坦化膜を窪ませて設けられた凹部に深く埋め込まれ、柱状スペーサの先端の凹部に対する嵌め合い代は十分に確保されるため、しっかりと収容されて配置される。例えば、平坦化膜の上にいくつかの膜が積層され、平坦化膜に設けられた凹部の内面に沿って多層の膜が積層された場合でも、凹部の底部は平坦化膜に十分な深さで形成されるので、柱状スペーサの先端の嵌め合い代は十分に確保される。したがって、FFS方式において荷重が加わった場合の柱状スペーサの画素領域側への侵入を防ぎ、表示性能に優れ、高開口率の液晶表示装置が提供できる。
In order to solve the above problem, a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates arranged to face each other, and a plurality of data lines and a plurality of scanning lines intersecting each other on one of the pair of substrates, A plurality of switching elements electrically connected to the data lines and the scanning lines, and the at least one of the data lines, the scanning lines, and the switching elements is provided on the one substrate. A planarizing film covering; a first electrode formed on the planarizing film; an insulating film covering the first electrode; and an electric field generated between the first electrode and the first electrode. A second electrode for driving liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer, and the other of the pair of substrates has a flat surface and at least one of the data line, the scanning line, and the switching element. Heavy Columnar spacers that maintain a distance between the pair of substrates are provided at a position, and a recess formed by recessing the planarization film is provided on the surface of the one substrate, and a part of the columnar spacers is provided. Is housed in the recess.
According to this configuration, since the columnar spacer is accommodated in the recess having at least the bottom provided in the planarizing film, the columnar spacer does not enter the pixel region side even when a load is applied. In general, in the FFS mode liquid crystal display device, the first electrode and the second electrode are formed on a flat planarizing film. The reason for this is that when the first electrode and the second electrode are formed on an interlayer insulating film reflecting irregularities such as TFTs on one substrate, they are distorted. As a result, there is a problem that the electric field generated between the first electrode and the second electrode is disturbed, the alignment of liquid crystal molecules is disturbed, and display failure occurs. Therefore, since the planarizing film having a sufficient thickness is formed on the TFT on one substrate of the FFS system, a concave part having a sufficient depth can be formed in the thick planarizing film. That is, the columnar spacer is deeply embedded in a recess provided by recessing the planarizing film, and a fitting margin with respect to the recess at the tip of the columnar spacer is sufficiently secured, so that the columnar spacer is firmly accommodated and arranged. For example, even when several films are stacked on the planarization film and a multilayer film is stacked along the inner surface of the recess provided in the planarization film, the bottom of the recess has a sufficient depth in the planarization film. Thus, the fitting margin at the tip of the columnar spacer is sufficiently secured. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device that prevents the columnar spacer from entering the pixel region when a load is applied in the FFS mode, has excellent display performance, and has a high aperture ratio.

本発明においては、前記データ線と前記走査線とによって囲まれた画素領域内に少なくとも反射表示領域を有し、前記反射表示領域における前記平坦化膜上に反射膜が形成され、前記反射膜の下層側にあたる前記平坦化膜の表面に、光散乱用の凹凸が形成されていることが望ましい。
反射表示領域を有する液晶表示装置において、反射表示モードの表示品質を確保するために、反射膜の下層側に光散乱用の凹凸を形成することは有効である。この構成によれば、柱状スペーサは、反射膜に凹凸を付与するために平坦化膜に形成された光散乱用の凹凸と同一工程で、柱状スペーサを収容する凹部を形成できる。すなわち、柱状スペーサの収容のための凹部を形成するための工程を増やす必要がなく、凹部は光散乱用の凹凸と同一工程で形成されるので、特に製造工程を増やすことなく効率良く形成できる。したがって、反射型又は半透過反射型の液晶表示装置において、表示品質及び生産性に優れた液晶表示装置が提供できる。
In the present invention, the pixel region surrounded by the data lines and the scanning lines has at least a reflective display region, a reflective film is formed on the planarizing film in the reflective display region, It is desirable that irregularities for light scattering be formed on the surface of the planarizing film on the lower layer side.
In a liquid crystal display device having a reflective display region, it is effective to form light scattering irregularities on the lower layer side of the reflective film in order to ensure display quality in the reflective display mode. According to this configuration, the columnar spacer can form a recess for accommodating the columnar spacer in the same step as the light scattering unevenness formed on the planarization film in order to give the reflection film unevenness. That is, it is not necessary to increase the number of steps for forming the recesses for accommodating the columnar spacers, and the recesses are formed in the same process as the unevenness for light scattering, so that they can be efficiently formed without increasing the number of manufacturing steps. Therefore, in a reflective or transflective liquid crystal display device, a liquid crystal display device excellent in display quality and productivity can be provided.

本発明においては、前記柱状スペーサが、前記データ線もしくは前記走査線と平面的に重なる位置に設けられていることが望ましい。
この構成によれば、柱状スペーサが、データ線もしくは走査線によって遮光される遮光領域と平面的に重なるので、遮光の効果を格段に高めることが可能となる。
In the present invention, it is desirable that the columnar spacer is provided at a position overlapping the data line or the scanning line in a plan view.
According to this configuration, since the columnar spacer overlaps with the light shielding region shielded by the data line or the scanning line in a plan view, the light shielding effect can be remarkably enhanced.

本発明においては、前記凹部が、前記データ線もしくは前記走査線に沿う方向に長手方向を有することが望ましい。
この構成によれば、柱状スペーサは荷重がかけられても画素領域に侵入することがない。凹部の大きさは、柱状スペーサの先端をしっかりと固定して収容可能な大きさに限らず、柱状スペーサの先端が移動可能な大きさに形成されていてもよい。すなわち、柱状スペーサは荷重が加わったことにより凹部の内部で移動する場合、平坦化膜のデータ線もしくは走査線に沿って設けられた凹部の延在する方向に優先的に移動するので、画素領域に向かって移動することがない。したがって、配向膜の表面に傷が付き、液晶分子の配向乱れが引き起こされ、黒表示となるべき箇所の光漏れが生じることによる表示不良を防止することが可能となる。
In the present invention, it is desirable that the concave portion has a longitudinal direction in a direction along the data line or the scanning line.
According to this configuration, the columnar spacer does not enter the pixel region even when a load is applied. The size of the recess is not limited to a size that allows the tip of the columnar spacer to be firmly fixed and accommodated, but may be formed to a size that allows the tip of the columnar spacer to move. That is, when the columnar spacer moves inside the recess when a load is applied, the columnar spacer moves preferentially in the extending direction of the recess provided along the data line or the scanning line of the planarization film. Will not move towards. Therefore, the surface of the alignment film is scratched, the alignment disorder of the liquid crystal molecules is caused, and it is possible to prevent display defects due to light leakage at a position where black display is to occur.

本発明においては、前記柱状スペーサが、前記スイッチング素子と平面的に重なる位置に設けられていることが望ましい。
この構成によれば、柱状スペーサは、データ線もしくは走査線と重なる領域よりも面積の大きいスイッチング素子と重なる領域に配置されるので、凹部の内部に柱状スペーサをはめ込むときの精度は粗くても良い。また、凹部の内部に柱状スペーサがはめ込まれなかった場合に、具体的には設計上のセルギャップよりも大きく仕上がることにより発生するコントラスト低下等の表示品位の低下を確実に防ぐことが可能となる。
In the present invention, it is preferable that the columnar spacer is provided at a position overlapping the switching element in a planar manner.
According to this configuration, since the columnar spacer is disposed in a region overlapping with the switching element having a larger area than the region overlapping with the data line or the scanning line, the accuracy when the columnar spacer is fitted into the recess may be rough. . In addition, when the columnar spacer is not fitted inside the recess, specifically, it is possible to reliably prevent display quality deterioration such as contrast deterioration caused by finishing larger than the designed cell gap. .

本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶表示装置を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、柱状スペーサの画素領域側への侵入を防ぎ、表示性能に優れ、高開口率の電子機器が提供できる。
An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal display device according to the present invention.
According to this configuration, it is possible to prevent the columnar spacer from entering the pixel region, to provide an electronic device with excellent display performance and high aperture ratio.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示した平面図である。なお、液晶表示装置の各構成部材における液晶層側を内側と呼び、その反対側を外側と呼ぶことにする。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. Note that the liquid crystal layer side of each component of the liquid crystal display device is referred to as an inner side, and the opposite side is referred to as an outer side.

図1に示すように、本実施形態の液晶表示装置1は、TFTアレイ基板(一方の基板)10と対向基板20とがシール材52によって貼り合わされている。このシール材52によって区画された領域内に液晶層50が封入されている。シール材52の一部には液晶を注入する注入口54が設けられている。注入口54は封止材55により封止されている。シール材52の形成領域の内側の領域には、遮光性材料からなる遮光膜(周辺見切り)53が形成されている。周辺見切り53の内側の領域は、画像や動画等を表示する表示領域9になっている。表示領域9には、複数の画素Gがマトリクス状に設けられている。また、表示領域9には、格子状にブラックマトリクス22が設けられている。このブラックマトリクス22の開口部が画素領域Lとなっている。なお、画素領域Lの周囲に位置する領域は、対向基板20上に格子状のブラックマトリクス22が形成されており、遮光領域Mとなっている。   As shown in FIG. 1, in the liquid crystal display device 1 of this embodiment, a TFT array substrate (one substrate) 10 and a counter substrate 20 are bonded together by a sealing material 52. A liquid crystal layer 50 is sealed in a region partitioned by the sealing material 52. An injection port 54 for injecting liquid crystal is provided in a part of the sealing material 52. The injection port 54 is sealed with a sealing material 55. A light shielding film (peripheral parting) 53 made of a light shielding material is formed in a region inside the region where the sealing material 52 is formed. An area inside the peripheral parting 53 is a display area 9 for displaying an image, a moving image, or the like. In the display area 9, a plurality of pixels G are provided in a matrix. The display area 9 is provided with a black matrix 22 in a grid pattern. An opening of the black matrix 22 is a pixel region L. Note that a region located around the pixel region L is a light shielding region M in which a grid-like black matrix 22 is formed on the counter substrate 20.

TFTアレイ基板10の周縁部は、対向基板20から張り出した張出領域となっている。この張出領域のうち図中下辺側には、データ線駆動回路201と、端子部202がTFTアレイ基板10の一辺に沿って形成されている。この一辺に隣接する二辺に沿って走査線駆動回路104が形成されている。TFTアレイ基板10の残る一辺(図中上辺側)には、表示領域9の両側に設けられた走査線駆動回路104の間を接続するための複数の引き回し配線105が設けられている。   The peripheral portion of the TFT array substrate 10 is an overhanging region that protrudes from the counter substrate 20. A data line driving circuit 201 and a terminal portion 202 are formed along one side of the TFT array substrate 10 on the lower side in the drawing in the overhanging region. A scanning line driving circuit 104 is formed along two sides adjacent to the one side. On the remaining side of the TFT array substrate 10 (upper side in the figure), a plurality of lead wirings 105 are provided for connecting between the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the display area 9.

図2は、本実施形態の液晶表示装置1の画素領域Lを拡大して示した部分平面図である。液晶表示装置1の画素領域Lには、画素電極(第1電極)31と、画素電極31をスイッチング制御するためのTFT(スイッチング素子)5と、が形成されている。このTFT5は、ソースがデータ線駆動回路201から延在するデータ線15aに電気的に接続されている。また、TFT5は、ゲートが走査線駆動回路104から延在する走査線12aに電気的に接続されている。また、TFT5は、ドレインが画素電極31に電気的に接続されている。   FIG. 2 is an enlarged partial plan view showing the pixel region L of the liquid crystal display device 1 of the present embodiment. A pixel electrode (first electrode) 31 and a TFT (switching element) 5 for switching control of the pixel electrode 31 are formed in the pixel region L of the liquid crystal display device 1. The TFT 5 has a source electrically connected to a data line 15 a extending from the data line driving circuit 201. The TFT 5 is electrically connected to the scanning line 12 a whose gate extends from the scanning line driving circuit 104. The TFT 5 has a drain electrically connected to the pixel electrode 31.

また、データ線15aはY軸方向(図示縦方向)に延在しており、走査線12aはX軸方向(図示横方向)に延在している。したがって、データ線15a及び走査線12aが平面視で略格子状に配線されている。   The data line 15a extends in the Y-axis direction (vertical direction in the figure), and the scanning line 12a extends in the X-axis direction (horizontal direction in the figure). Therefore, the data lines 15a and the scanning lines 12a are wired in a substantially lattice shape in plan view.

半導体層14は、走査線12aと部分的に重なる領域に形成されている。また、ソース電極15は、平面視で略逆L字状を有する配線であって、データ線15aから分岐して半導体層14と導通している。そして、ドレイン電極16は、後述する層間絶縁膜17及び平坦化膜18を貫通するコンタクトホール19を介して、画素電極31と電気的に接続されている。これら、半導体層14、ソース電極15及びドレイン電極16によってTFT5が構成される。したがって、TFT5は、データ線15a及び走査線12aの交差部近傍に設けられている。   The semiconductor layer 14 is formed in a region that partially overlaps the scanning line 12a. The source electrode 15 is a wiring having a substantially inverted L shape in plan view, and is branched from the data line 15 a and is electrically connected to the semiconductor layer 14. The drain electrode 16 is electrically connected to the pixel electrode 31 through a contact hole 19 penetrating an interlayer insulating film 17 and a planarizing film 18 described later. These semiconductor layer 14, source electrode 15 and drain electrode 16 constitute TFT 5. Therefore, the TFT 5 is provided in the vicinity of the intersection of the data line 15a and the scanning line 12a.

画素電極31は、画素領域Lに対応して平面視で略矩形状を有しており、共通電極32と平面視で重なる領域に形成されている。画素電極31は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電材料で構成されている。   The pixel electrode 31 has a substantially rectangular shape in plan view corresponding to the pixel region L, and is formed in a region overlapping the common electrode 32 in plan view. The pixel electrode 31 is made of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

共通電極32は、平面視で略梯子状に形成されている。共通電極32は、画素電極31と同様に、例えばITO等の透明導電材料で構成されている。また、共通電極32は、画素電極31との重なり部分においてスリット32aを有しており、隣接するスリット32aとスリット32aとの間が帯状の電極部32bを構成している。そして、スリット32aを介して画素電極31と共通電極32との間で印加される電界によって液晶分子を駆動している。なお、本実施形態の液晶表示装置1はFFS方式の液晶表示装置の構造の一例に挙げて説明している。   The common electrode 32 is formed in a substantially ladder shape in plan view. Similar to the pixel electrode 31, the common electrode 32 is made of a transparent conductive material such as ITO. Further, the common electrode 32 has a slit 32a at an overlapping portion with the pixel electrode 31, and a band-shaped electrode portion 32b is configured between the adjacent slit 32a and the slit 32a. Then, liquid crystal molecules are driven by an electric field applied between the pixel electrode 31 and the common electrode 32 through the slit 32a. Note that the liquid crystal display device 1 of this embodiment is described as an example of the structure of an FFS liquid crystal display device.

柱状スペーサ40は、平面視で円形状に形成されている。柱状スペーサ40は、TFT5を構成する半導体層4と重なる領域に形成されている。なお、柱状スペーサ40を収容する凹部41が、柱状スペーサ40と同じ位置に形成されている。また、凹部41の大きさは、柱状スペーサ40の先端をしっかりと固定して収容可能な大きさに形成されている。   The columnar spacer 40 is formed in a circular shape in plan view. The columnar spacer 40 is formed in a region overlapping the semiconductor layer 4 constituting the TFT 5. A recess 41 for accommodating the columnar spacer 40 is formed at the same position as the columnar spacer 40. Further, the size of the recess 41 is formed such that the tip of the columnar spacer 40 can be firmly fixed and accommodated.

ところで、一般的な液晶表示装置は、液晶表示装置を構成する一対の基板の間に、セルギャップを一定に保つために柱状スペーサを設けている。この柱状スペーサは、製造工程においてガラス転移点を越えた状態でその先端が溶けることが多く、焼成後の形状にバラツキが発生することが多い。その結果、セルギャップを一定に保つことができず、液晶表示装置の表示不良の問題が生じる場合がある。   Incidentally, a general liquid crystal display device is provided with columnar spacers between a pair of substrates constituting the liquid crystal display device in order to keep the cell gap constant. The columnar spacer often melts at the tip of the columnar spacer in the state of exceeding the glass transition point in the manufacturing process, and the shape after firing often varies. As a result, the cell gap cannot be kept constant, and the problem of display failure of the liquid crystal display device may occur.

このような問題点を解決するために、特許文献1では、柱状スペーサを一方の基板に形成された凸部の端縁に重なるように設けることで、柱状スペーサの先端と基板との接触面積を拡大し、荷重に対する柱状スペーサ及び基板の強度を向上させ、柱状スペーサの形状の変形を抑制してセルギャップを一定に保持している。しかしながら、特許文献1では、柱状スペーサが凸部を構成する信号線やTFTに重なるように設けられているため、液晶表示装置の外側から加わる荷重によって柱状スペーサが凸部から外れて画素領域側に侵入してしまう可能性が高い。   In order to solve such a problem, in Patent Document 1, the contact area between the tip of the columnar spacer and the substrate is increased by providing the columnar spacer so as to overlap the edge of the convex portion formed on one substrate. The cell spacer is expanded and the column spacers and the substrate are improved in strength against the load, the deformation of the column spacers is suppressed, and the cell gap is kept constant. However, in Patent Document 1, since the columnar spacers are provided so as to overlap the signal lines and TFTs that form the projections, the columnar spacers are separated from the projections by the load applied from the outside of the liquid crystal display device and are located on the pixel region side. There is a high possibility of intrusion.

ここで、従来の液晶表示装置1000の表示不良の発生のメカニズムを説明する。図3(a)から図3(d)は、液晶表示装置1000の表示不良の発生のメカニズムを模式的に示した概略断面図である。液晶表示装置1000は、TFTアレイ基板1011(図示下側基板)と、対向基板1021(図示上側基板)と、配向膜1034,1035と、液晶層1050と、ブラックマトリクス1022と、柱状スペーサ1040と、を備えている。ブラックマトリクス1022により覆われた領域が遮光領域1000Mとなっている。また、遮光領域1000Mの外側に位置する領域が、画素領域1000Lとなっている。   Here, the mechanism of occurrence of display defects in the conventional liquid crystal display device 1000 will be described. FIG. 3A to FIG. 3D are schematic cross-sectional views schematically showing the mechanism of occurrence of display defects in the liquid crystal display device 1000. The liquid crystal display device 1000 includes a TFT array substrate 1011 (illustrated lower substrate), a counter substrate 1021 (illustrated upper substrate), alignment films 1034 and 1035, a liquid crystal layer 1050, a black matrix 1022, a columnar spacer 1040, It has. A region covered with the black matrix 1022 is a light shielding region 1000M. A region located outside the light shielding region 1000M is a pixel region 1000L.

次に、液晶表示装置1の表示不良の発生のメカニズムを図3(a)から図3(d)を用いて順に説明する。柱状スペーサ1040は、遮光領域1000Mにおける一対の基板1011,1021の間に設けられている。先ず、図3(a)に示すように、液晶表示装置1000に対して、対向基板1021をTFTアレイ基板側1011に押圧する方向に荷重が加わったとする。   Next, the mechanism of occurrence of display defects in the liquid crystal display device 1 will be described in order with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (d). The columnar spacer 1040 is provided between the pair of substrates 1011 and 1021 in the light shielding region 1000M. First, as shown in FIG. 3A, it is assumed that a load is applied to the liquid crystal display device 1000 in a direction in which the counter substrate 1021 is pressed against the TFT array substrate side 1011.

そのとき、図3(b)に示すように、液晶表示装置1000の対向基板1021(図示左側)が荷重により押し込まれ、左下がりに斜めに傾くように変形する。この対向基板1021の傾きに伴い、柱状スペーサ1040が圧縮されるように変形する。   At that time, as shown in FIG. 3B, the counter substrate 1021 (the left side in the figure) of the liquid crystal display device 1000 is pushed in by a load and is deformed so as to be inclined obliquely downward to the left. As the counter substrate 1021 is inclined, the columnar spacer 1040 is deformed so as to be compressed.

次に、図3(c)に示すように、柱状スペーサ1040の圧縮変形により、柱状スペーサ1040のTFTアレイ基板1011側(底部)の位置が、遮光領域1000M側から画素領域1000L側の方へ移動する。そして、柱状スペーサ1040の移動に伴い、TFTアレイ基板1011側で柱状スペーサ1040と配向膜1034との摩擦により、擦れ領域Sが形成される。この擦れ領域Sにおいて、配向膜1034の表面が乱れてしまう場合がある。   Next, as shown in FIG. 3C, the position of the columnar spacer 1040 on the TFT array substrate 1011 side (bottom) moves from the light shielding region 1000 </ b> M side toward the pixel region 1000 </ b> L side due to compression deformation of the columnar spacer 1040. To do. Along with the movement of the columnar spacer 1040, a rubbing region S is formed by friction between the columnar spacer 1040 and the alignment film 1034 on the TFT array substrate 1011 side. In the rubbing region S, the surface of the alignment film 1034 may be disturbed.

次に、図3(d)に示すように、液晶表示装置1000に対して、対向基板1021の図示左側上方からの荷重が開放される。すると、遮光領域1000Mから画素領域1000Lへ移動していた柱状スペーサ1040が、もとの位置に戻る。また、圧縮変形していた柱状スペーサ1040が、もとの形状に戻ろうとする復元力により、変形中の圧縮形状からもとの形状へもどる。   Next, as illustrated in FIG. 3D, the load from the upper left side of the counter substrate 1021 is released from the liquid crystal display device 1000. Then, the columnar spacer 1040 that has moved from the light shielding region 1000M to the pixel region 1000L returns to the original position. In addition, the columnar spacer 1040 that has been compressed and deformed returns to the original shape from the compressed shape that is being deformed by the restoring force to return to the original shape.

このとき、TFTアレイ基板1011側に形成された擦れ領域Sでは、柱状スペーサ1040と配向膜1034との間で往復分の摩擦が生じている。よって、擦れ領域Sにおける、往復分の摩擦による配向膜1034の乱れは、図3(c)で示した一方の移動分による配向膜1034の乱れよりも大きくなる。このような荷重が繰り返し加わることで、配向膜1034の乱れが一層大きくなる場合がある。具体的には、擦れ領域Sにおいて、ラビングによって形成された所望の液晶分子配向が荒らされた状態であり、液晶層1050を構成する液晶分子の配向は無秩序状態となる。その結果、画素領域1000Lに対応する配向膜1034の乱れた擦れ領域Sから、黒表示となるべき箇所の光漏れ(図示矢印)が生じ、液晶表示装置1000の表示不良が発生してしまう場合がある。   At this time, in the rubbing region S formed on the TFT array substrate 1011 side, reciprocal friction is generated between the columnar spacer 1040 and the alignment film 1034. Therefore, the disturbance of the alignment film 1034 due to the reciprocal friction in the rubbing region S is larger than the disturbance of the alignment film 1034 due to one movement shown in FIG. By repeatedly applying such a load, the alignment film 1034 may be more disturbed in some cases. Specifically, in the rubbing region S, the desired liquid crystal molecule alignment formed by rubbing is in a roughened state, and the alignment of the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer 1050 becomes disordered. As a result, light leakage (arrows in the figure) where black display should occur from the disordered rubbing region S of the alignment film 1034 corresponding to the pixel region 1000L may cause display failure of the liquid crystal display device 1000. is there.

このような問題を解消すべく、本実施形態に係る液晶表示装置1においては、図4に示すように、遮光領域Mにおける平坦化膜18を窪ませて形成された凹部41が設けられ、この凹部41の内部に柱状スペーサ40を収容している。   In order to solve such a problem, in the liquid crystal display device 1 according to the present embodiment, as shown in FIG. 4, a recess 41 formed by recessing the planarizing film 18 in the light shielding region M is provided. A columnar spacer 40 is accommodated in the recess 41.

図4は、図2のA−A線に沿う液晶表示装置1の断面図である。液晶表示装置1は、ガラス等の透明基板11からなるTFTアレイ基板10(図示下側基板)と、ガラス等の透明基板21からなる対向基板20(図示上側基板)とを有し、これら基板間に液晶層50を挟持している。   FIG. 4 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device 1 taken along the line AA of FIG. The liquid crystal display device 1 includes a TFT array substrate 10 (lower substrate in the figure) made of a transparent substrate 11 such as glass and a counter substrate 20 (upper substrate in the figure) made of a transparent substrate 21 such as glass. The liquid crystal layer 50 is sandwiched between the two.

遮光領域MにおけるTFTアレイ基板10を構成する透明基板11上には、TFT5が形成されている。TFT5は、透明基板11上に形成されたゲート電極12と、ゲート電極12を覆うように形成されたゲート絶縁膜13と、ゲート電極12上にゲート絶縁膜13を介して形成された半導体層14と、半導体層14の一方の端部上に形成されたソース電極15と、半導体層14の他方の端部上に形成されたドレイン電極16と、を有している。   On the transparent substrate 11 constituting the TFT array substrate 10 in the light shielding region M, the TFT 5 is formed. The TFT 5 includes a gate electrode 12 formed on the transparent substrate 11, a gate insulating film 13 formed so as to cover the gate electrode 12, and a semiconductor layer 14 formed on the gate electrode 12 via the gate insulating film 13. And a source electrode 15 formed on one end of the semiconductor layer 14 and a drain electrode 16 formed on the other end of the semiconductor layer 14.

TFT5上には、層間絶縁膜17が形成されている。層間絶縁膜17上には、層間絶縁膜17の表面の凹凸を平坦にする平坦化膜18が形成されている。平坦化膜18は、感光性アクリル等の絶縁性透明樹脂から構成されている。   An interlayer insulating film 17 is formed on the TFT 5. On the interlayer insulating film 17, a planarizing film 18 for flattening the unevenness of the surface of the interlayer insulating film 17 is formed. The planarizing film 18 is made of an insulating transparent resin such as photosensitive acrylic.

層間絶縁膜17及び平坦化膜18を貫通して、ドレイン電極16の表面に達するコンタクトホール19が設けられている。そして、コンタクトホール19の内面及び平坦化膜18上にITO等の導電材料からなる画素電極31が形成されることにより、画素電極31とドレイン電極16とが電気的に接続されている。   A contact hole 19 that reaches the surface of the drain electrode 16 through the interlayer insulating film 17 and the planarizing film 18 is provided. Then, the pixel electrode 31 made of a conductive material such as ITO is formed on the inner surface of the contact hole 19 and the planarizing film 18 so that the pixel electrode 31 and the drain electrode 16 are electrically connected.

平坦化膜18及び画素電極31の上には、FFS絶縁膜33が形成されている。そして、画素領域LにおけるFFS絶縁膜33上には、共通電極32がフリンジ状のスリット32aを有して形成されている。TFTアレイ基板10の最上層で液晶層50に接する面には、配向膜34が設けられている。   An FFS insulating film 33 is formed on the planarizing film 18 and the pixel electrode 31. On the FFS insulating film 33 in the pixel region L, the common electrode 32 is formed with a fringe-shaped slit 32a. An alignment film 34 is provided on the uppermost surface of the TFT array substrate 10 and in contact with the liquid crystal layer 50.

遮光領域MにおけるTFTアレイ基板10には、平坦化膜18を窪ませて形成された凹部41が設けられている。換言すると、凹部41は、平坦化膜に少なくとも底部41aを有するように設けられている。柱状スペーサ40は、配向膜34の凹部41の内部に収容されている。具体的には、柱状スペーサ40のTFTアレイ基板10側の柱状スペーサ40の先端が、平坦化膜18の上に積層された配向膜34の凹部41の内部に収容されるようになっている。   The TFT array substrate 10 in the light shielding region M is provided with a recess 41 formed by recessing the planarizing film 18. In other words, the recess 41 is provided so as to have at least a bottom 41a in the planarizing film. The columnar spacer 40 is accommodated in the recess 41 of the alignment film 34. Specifically, the tip of the columnar spacer 40 on the TFT array substrate 10 side of the columnar spacer 40 is accommodated in the recess 41 of the alignment film 34 laminated on the planarizing film 18.

一方、対向基板20には、透明基板21の内面側(液晶層50側)にカラーフィルタを構成する赤(R)、緑(G)、青(B)のいずれかの色材層23が画素G(図1参照)毎に形成されている。各色材層23の周囲には、画素G周辺の光漏れを防止するために、ブラックマトリクス22が形成されている。なお、このブラックマトリクス22により覆われた領域が遮光領域Mを構成している。また、色材層23を保護するとともに色材層23による段差を平坦化するためのオーバーコート層(図示略)が形成され、オーバーコート層上にTFTアレイ基板10側と同様の配向膜35が形成されラビング処理が施されている。   On the other hand, the counter substrate 20 has a color material layer 23 of red (R), green (G), and blue (B) constituting a color filter on the inner surface side (liquid crystal layer 50 side) of the transparent substrate 21. It is formed for each G (see FIG. 1). A black matrix 22 is formed around each color material layer 23 in order to prevent light leakage around the pixel G. A region covered with the black matrix 22 constitutes a light shielding region M. Further, an overcoat layer (not shown) for protecting the color material layer 23 and flattening a step due to the color material layer 23 is formed, and an alignment film 35 similar to the TFT array substrate 10 side is formed on the overcoat layer. Formed and rubbed.

なお、柱状スペーサ40は、一対の基板10,20が貼り合わされ固定される前に、対向基板20の液晶層50の側に形成され、次いで、TFTアレイ基板10の液晶層50の側に設けられた凹部41に嵌め合わされる。   The columnar spacer 40 is formed on the liquid crystal layer 50 side of the counter substrate 20 before the pair of substrates 10 and 20 are bonded and fixed, and then provided on the liquid crystal layer 50 side of the TFT array substrate 10. Is fitted into the recessed portion 41.

このように、同一基板である透明基板11上に、FFS絶縁膜33を介して下部電極である画素電極31と上部電極である共通電極32を形成し、上部電極である共通電極32にスリット32aを形成して、下部電極である画素電極31との間に電圧を印加し、基板面に対し主に平行な横電界を発生させて配向膜34を介して液晶分子を駆動することができる。   Thus, the pixel electrode 31 as the lower electrode and the common electrode 32 as the upper electrode are formed on the transparent substrate 11 as the same substrate via the FFS insulating film 33, and the slit 32a is formed in the common electrode 32 as the upper electrode. And a voltage is applied between the pixel electrode 31 as the lower electrode to generate a horizontal electric field mainly parallel to the substrate surface, and the liquid crystal molecules can be driven through the alignment film 34.

本実施形態の液晶表示装置1によれば、柱状スペーサ40は、平坦化膜18に少なくとも底部41aを設けられた凹部41の内部に収容されるので、荷重が加わっても画素領域L側に侵入することがない。一般に、FFS方式の液晶表示装置1において、第1電極31及び第2電極32は、平らな平坦化膜18の上に形成される。この理由としては、第1電極31及び第2電極32が、TFTアレイ基板10におけるTFT5等の凹凸を反映した層間絶縁膜17の上に形成されると、歪んで形成されてしまうことが挙げられる。その結果、第1電極31と第2電極32との間に生じる電界に乱れが生じ、液晶分子の配向乱れが引き起こされ、表示不良が発生する問題がある。したがって、FFS方式のTFTアレイ基板10におけるTFT5の上には、十分な厚さの平坦化膜18が形成されているので、この厚い平坦化膜18に十分な深さの凹部41を形成することができる。すなわち、柱状スペーサ40は、平坦化膜18を窪ませて設けられた凹部41に深く埋め込まれ、柱状スペーサ40の先端の凹部41に対する嵌め合い代は十分に確保されるため、しっかりと収容されて配置される。例えば、平坦化膜18の上にいくつかの膜が積層され、平坦化膜18に設けられた凹部41の内面に沿って多層の膜が積層された場合でも、凹部41の底部41aは平坦化膜18に十分な深さで形成されるので、柱状スペーサ40の先端の嵌め合い代は十分に確保される。したがって、FFS方式において荷重が加わった場合の柱状スペーサ40の画素領域L側への侵入を防ぎ、表示性能に優れ、高開口率の液晶表示装置1が提供できる。   According to the liquid crystal display device 1 of the present embodiment, the columnar spacer 40 is accommodated in the concave portion 41 in which at least the bottom 41a is provided in the planarizing film 18, so that it enters the pixel region L side even when a load is applied. There is nothing to do. In general, in the FFS mode liquid crystal display device 1, the first electrode 31 and the second electrode 32 are formed on the flat planarizing film 18. The reason for this is that when the first electrode 31 and the second electrode 32 are formed on the interlayer insulating film 17 reflecting the unevenness of the TFT 5 or the like in the TFT array substrate 10, the first electrode 31 and the second electrode 32 are distorted. . As a result, there is a problem that the electric field generated between the first electrode 31 and the second electrode 32 is disturbed, the alignment of liquid crystal molecules is disturbed, and display defects occur. Accordingly, since the planarizing film 18 having a sufficient thickness is formed on the TFT 5 in the TFT array substrate 10 of the FFS system, the recess 41 having a sufficient depth is formed in the thick planarizing film 18. Can do. That is, the columnar spacer 40 is deeply embedded in a recess 41 provided by recessing the planarizing film 18, and a fitting margin with respect to the recess 41 at the tip of the columnar spacer 40 is sufficiently secured. Be placed. For example, even when several films are stacked on the planarization film 18 and a multilayer film is stacked along the inner surface of the recess 41 provided in the planarization film 18, the bottom 41a of the recess 41 is planarized. Since the film 18 is formed with a sufficient depth, the fitting margin at the tip of the columnar spacer 40 is sufficiently secured. Therefore, it is possible to prevent the columnar spacer 40 from entering the pixel region L side when a load is applied in the FFS method, and to provide the liquid crystal display device 1 with excellent display performance and high aperture ratio.

なお、本実施形態では、柱状スペーサ40が設けられる凹部41において、平坦化膜18の上には配向膜34のみの一つの膜が積層されているが、これに限らず、複数の膜が積層されていてもよい。すなわち、柱状スペーサ40を十分に収容できる凹部41の深さが備えられていればよい。また、逆に平坦化膜18の上に何も積層されておらず、平坦化膜18がむき出しになっていてもよい。   In the present embodiment, in the recess 41 where the columnar spacer 40 is provided, a single film of only the alignment film 34 is stacked on the planarizing film 18, but this is not a limitation, and a plurality of films are stacked. May be. That is, the depth of the recessed part 41 which can fully accommodate the columnar spacer 40 may be provided. Conversely, nothing is stacked on the planarizing film 18 and the planarizing film 18 may be exposed.

(柱状スペーサと凹部の変形例1)
次に、柱状スペーサ40の形状と凹部41の形状との関係を詳細に説明する。図5は、本実施形態に係る液晶表示装置1の柱状スペーサ40の第1変形例を示した概略平面図である。本図は、図2に対応した、液晶表示装置1のデータ線15a、走査線12a及びTFT5の周辺、及び柱状スペーサ40の配置の位置関係を示す図となっている。図2と同様の要素には同一の記号を付し、詳細な説明を省略する。なお、図5中では、画素電極31と、共通電極32の図示を省略している。
(Modification 1 of columnar spacer and recess)
Next, the relationship between the shape of the columnar spacer 40 and the shape of the recess 41 will be described in detail. FIG. 5 is a schematic plan view showing a first modification of the columnar spacer 40 of the liquid crystal display device 1 according to the present embodiment. This figure shows the positional relationship of the arrangement of the columnar spacers 40 and the periphery of the data lines 15a, the scanning lines 12a and the TFTs 5 of the liquid crystal display device 1 corresponding to FIG. Elements similar to those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted. In FIG. 5, the pixel electrode 31 and the common electrode 32 are not shown.

データ線15a、走査線12a及びTFT5を覆うように、ブラックマトリクス22が形成されている。このブラックマトリクス22の形成された領域が、遮光領域Mとなっている。本変形例では、遮光領域Mにおいて、図示上下方向に延在するデータ線15aと平面視で重なり合う領域に、柱状スペーサ40及び凹部41が形成されている。   A black matrix 22 is formed so as to cover the data lines 15a, the scanning lines 12a, and the TFTs 5. A region where the black matrix 22 is formed is a light shielding region M. In the present modification, columnar spacers 40 and recesses 41 are formed in the light shielding region M in regions overlapping with the data lines 15a extending in the illustrated vertical direction in plan view.

凹部41は、データ線15aの延在方向に長手を有する長円状に形成されている。この凹部41の形成領域に、平面視円形状の柱状スペーサ40が略中央に位置して収容されている。   The recess 41 is formed in an oval shape having a length in the extending direction of the data line 15a. A columnar spacer 40 having a circular shape in plan view is accommodated in the formation region of the concave portion 41 so as to be positioned at the approximate center.

凹部41のデータ線15aの幅方向(図示横方向)の長さ41Xは、柱状スペーサ40の径40Dと略同じに、または、柱状スペーサ40の径40Dよりも小さくなっている。また、凹部41のデータ線15aに延在する方向(図示縦方向)の長さ41Yは、柱状スペーサ40の径40Dよりも、十分に大きくなっている。すなわち、柱状スペーサ40の凹部41に対するデータ線15aの延在する方向のクリアランスは、柱状スペーサ40の凹部41に対するデータ線15aの幅方向のクリアランスに比べて、柱状スペーサ40が十分に移動可能に大きくなっている。   The length 41X in the width direction (the horizontal direction in the figure) of the data line 15a of the recess 41 is substantially the same as the diameter 40D of the columnar spacer 40 or smaller than the diameter 40D of the columnar spacer 40. Further, the length 41Y of the recess 41 in the direction extending in the data line 15a (the vertical direction in the drawing) is sufficiently larger than the diameter 40D of the columnar spacer 40. That is, the clearance in the extending direction of the data line 15a with respect to the concave portion 41 of the columnar spacer 40 is larger than the clearance in the width direction of the data line 15a with respect to the concave portion 41 of the columnar spacer 40 so that the columnar spacer 40 is sufficiently movable. It has become.

本変形例によれば、柱状スペーサ40が、データ線15aもしくは走査線12aによって遮光される遮光領域Mと平面的に重なるので、遮光の効果を格段に高めることが可能となる。   According to this modification, the columnar spacer 40 overlaps with the light shielding region M shielded by the data line 15a or the scanning line 12a in a planar manner, so that the light shielding effect can be remarkably enhanced.

また、本変形例によれば、柱状スペーサ40は荷重がかけられても画素領域Lに侵入することがない。凹部41の大きさは、柱状スペーサ40の先端をしっかりと固定して収容可能な大きさに限らず、柱状スペーサ40の先端が移動可能な大きさに形成されていてもよい。すなわち、柱状スペーサ40は荷重が加わったことにより凹部41の内部で移動する場合、平坦化膜18のデータ線15aもしくは走査線12aに沿って設けられた凹部41の延在する方向に優先的に移動するので、画素領域Lに向かって移動することがない。したがって、配向膜34の表面に傷が付き、液晶分子の配向乱れが引き起こされ、黒表示となるべき箇所の光漏れが生じることによる表示不良を防止することが可能となる。   Further, according to this modification, the columnar spacer 40 does not enter the pixel region L even when a load is applied. The size of the recess 41 is not limited to a size that allows the tip of the columnar spacer 40 to be firmly fixed and accommodated, but may be formed to a size that allows the tip of the columnar spacer 40 to move. That is, when the columnar spacer 40 moves inside the recess 41 due to the load applied, the columnar spacer 40 preferentially extends in the direction in which the recess 41 provided along the data line 15a or the scanning line 12a of the planarization film 18 extends. Since it moves, it does not move toward the pixel region L. Therefore, the surface of the alignment film 34 is scratched, the alignment disorder of the liquid crystal molecules is caused, and it is possible to prevent a display defect due to light leakage at a position where black display is to occur.

なお、本変形例では、柱状スペーサ40及び凹部41は、遮光領域Mにおけるデータ線15aと平面視で重なり合う領域に設けられているが、これに限らず、遮光領域Mにおいて、データ線15aと直交する方向に延在する走査線12aと平面視で重なり合う領域に設けられていてもよい。すなわち、遮光領域Mにおいて、データ線15aもしくは走査線12aと重なり合う領域に設けられていればよい。   In this modification, the columnar spacer 40 and the recess 41 are provided in a region overlapping the data line 15a in the light shielding region M in plan view, but the present invention is not limited to this, and the light shielding region M is orthogonal to the data line 15a. It may be provided in a region that overlaps the scanning line 12a extending in the direction in plan view. That is, the light shielding region M may be provided in a region overlapping with the data line 15a or the scanning line 12a.

(柱状スペーサと凹部の変形例2)
図6は、本発明に係る液晶表示装置1の柱状スペーサ40の第2変形例を示した概略平面図である。本図は、図5に対応した、液晶表示装置1のデータ線15a、走査線12a及びTFT5の周辺、及び柱状スペーサ40の配置の位置関係を示す図となっている。図5と同様の要素には同一の記号を付し、詳細な説明を省略する。
(Modification 2 of columnar spacer and recess)
FIG. 6 is a schematic plan view showing a second modification of the columnar spacer 40 of the liquid crystal display device 1 according to the present invention. This figure shows the positional relationship of the arrangement of the columnar spacer 40 and the periphery of the data line 15a, the scanning line 12a and the TFT 5 of the liquid crystal display device 1 corresponding to FIG. Elements similar to those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted.

本変形例では、遮光領域Mにおいて、TFT5と平面視で重なり合う領域に、柱状スペーサ40及び凹部41が形成されている。凹部41は、平面視円形状に形成されている。柱状スペーサ40は平面視円形状に形成され、凹部41の形成領域の略中央に位置して収容されている。   In the present modification, columnar spacers 40 and recesses 41 are formed in regions that overlap the TFT 5 in plan view in the light shielding region M. The recess 41 is formed in a circular shape in plan view. The columnar spacer 40 is formed in a circular shape in plan view, and is accommodated in a position substantially in the center of the formation region of the recess 41.

凹部41の径41Dは、柱状スペーサ40の径40Dよりも十分に大きくなっている。すなわち、柱状スペーサ40は、データ線15aもしくは走査線12aと重なり合う領域よりも、面積の大きい凹部41を形成できるTFT5と重なる領域の中で、十分に移動可能となっている。   The diameter 41 </ b> D of the recess 41 is sufficiently larger than the diameter 40 </ b> D of the columnar spacer 40. That is, the columnar spacer 40 is sufficiently movable in a region overlapping the TFT 5 that can form the recess 41 having a larger area than a region overlapping the data line 15a or the scanning line 12a.

本変形例によれば、柱状スペーサ40は、データ線15aもしくは走査線12aと重なる領域よりも面積の大きいTFT5と重なる領域に配置されるので、凹部41の内部に柱状スペーサ40をはめ込むときの精度は粗くても良い。また、凹部41の内部に柱状スペーサ40がはめ込まれなかった場合に、具体的には設計上のセルギャップよりも大きく仕上がることにより発生するコントラスト低下等の表示品位の低下を確実に防ぐことが可能となる。   According to this modification, the columnar spacer 40 is arranged in a region overlapping with the TFT 5 having a larger area than the region overlapping with the data line 15a or the scanning line 12a, so that accuracy when the columnar spacer 40 is fitted into the recess 41 is obtained. May be rough. In addition, when the columnar spacer 40 is not fitted inside the recess 41, it is possible to reliably prevent display quality degradation such as contrast degradation caused by finishing larger than the designed cell gap. It becomes.

(第2実施形態)
図7は、本発明に係る液晶表示装置の他の表示形態を有する第2実施形態の液晶表示装置1Aの画素領域Lを示した平面図である。本実施形態の液晶表示装置1Aは、第1実施形態の液晶表示装置1と異なり、一つの画素領域L内において透過表示と反射表示とをなす半透過反射型の液晶表示装置1Aである。本図は、図2に対応した、液晶表示装置1Aの画素領域Lを示す図となっている。図2と同様の要素には同一の記号を付し、詳細な説明を省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 7 is a plan view showing a pixel region L of the liquid crystal display device 1A of the second embodiment having another display form of the liquid crystal display device according to the present invention. Unlike the liquid crystal display device 1 of the first embodiment, the liquid crystal display device 1A of the present embodiment is a transflective liquid crystal display device 1A that performs transmissive display and reflective display within one pixel region L. This figure shows a pixel region L of the liquid crystal display device 1A corresponding to FIG. Elements similar to those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted.

本実施形態の液晶表示装置1Aにおいて、画素領域LのTFT5側(図示上側)は透過表示領域Tとなっている。また、画素領域LのTFT5側と反対側(図示下側)は反射表示領域Rとなっている。透過表示領域Tと反射表示領域Rの境界部は、複数の帯状の電極部32bのうちの一つと重なるように位置している。   In the liquid crystal display device 1A of this embodiment, the TFT 5 side (the upper side in the drawing) of the pixel region L is a transmissive display region T. Further, the opposite side (the lower side in the figure) of the pixel region L to the TFT 5 side is a reflective display region R. A boundary portion between the transmissive display region T and the reflective display region R is positioned so as to overlap one of the plurality of strip-shaped electrode portions 32b.

図8は、図7のB−B線に沿う液晶表示装置1Aの断面図である。本図は、図4に対応した、液晶表示装置1Aの断面構成を示す図となっている。図4と同様の要素には同一の記号を付し、詳細な説明を省略する。   FIG. 8 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device 1A taken along line BB in FIG. This figure shows a cross-sectional configuration of the liquid crystal display device 1A corresponding to FIG. Elements similar to those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

反射表示領域RにおけるTFTアレイ基板10を構成する平坦化膜18の表面には、光散乱用の凹凸42が形成されている。この光散乱用の凹凸42を覆って、例えばアルミニウム等の光反射性の高い金属膜や、屈折率の異なる誘電体膜を積層した誘電体積層膜から構成される反射膜36が形成されている。このような構成によって、反射膜36での反射光を散乱させることができ、反射表示の視認性を向上させることができる。   On the surface of the planarization film 18 constituting the TFT array substrate 10 in the reflective display region R, light scattering irregularities 42 are formed. Covering the light scattering irregularities 42 is formed a reflective film 36 composed of a metal film having a high light reflectivity, such as aluminum, or a dielectric laminated film in which dielectric films having different refractive indexes are laminated. . With such a configuration, the reflected light from the reflective film 36 can be scattered, and the visibility of the reflective display can be improved.

反射膜36上には、画素電極31が形成されている。画素電極31は、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの間(境界部)で一体に成形されている。また、反射表示領域Rにおける画素電極31は、反射膜36の凹凸に沿うように、凹凸に形成されている。また、反射表示領域Rにおける画素電極31上に形成されるFFS絶縁膜33及び、このFFS絶縁膜33上に形成される共通電極32についても、画素電極31と同様に凹凸に形成されている。   A pixel electrode 31 is formed on the reflective film 36. The pixel electrode 31 is integrally formed between the reflective display region R and the transmissive display region T (boundary part). Further, the pixel electrode 31 in the reflective display region R is formed to be uneven so as to follow the unevenness of the reflective film 36. In addition, the FFS insulating film 33 formed on the pixel electrode 31 in the reflective display region R and the common electrode 32 formed on the FFS insulating film 33 are also formed to be uneven as in the pixel electrode 31.

一方、反射表示領域Rにおける対向基板20は、透明基板21の内面側(液晶層50側)に、マルチギャップ構造を形成するための液晶層厚調整層37が設けられている。この液晶層厚調整層37は、反射表示領域Rにおける液晶層50の層厚が、透過表示領域Tにおける液晶層50の層厚の半分程度になるように設定されている。これにより、反射表示領域R及び透過表示領域Tにおける液晶層50の位相差が略同一に設定されている。このように、液晶層厚調整層37によりマルチギャップ構造が実現されて、反射表示領域R及び透過表示領域Tにおいて均一な画像表示を得ることができるようになっている。   On the other hand, the counter substrate 20 in the reflective display region R is provided with a liquid crystal layer thickness adjusting layer 37 for forming a multi-gap structure on the inner surface side (liquid crystal layer 50 side) of the transparent substrate 21. The liquid crystal layer thickness adjusting layer 37 is set such that the layer thickness of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R is about half of the layer thickness of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T. Thereby, the phase difference of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R and the transmissive display region T is set to be substantially the same. In this way, a multi-gap structure is realized by the liquid crystal layer thickness adjusting layer 37, and a uniform image display can be obtained in the reflective display region R and the transmissive display region T.

また、反射表示領域Rに隣り合うTFT5の形成位置に対応する領域は、遮光領域Mとなっている。この遮光領域MにおけるTFTアレイ基板10を構成する平坦化膜18には、反射表示領域Rと同様に光散乱用の凹凸42が形成されている。この光散乱用の凹凸42を覆って反射膜36が凹凸に形成されている。   A region corresponding to the formation position of the TFT 5 adjacent to the reflective display region R is a light shielding region M. Similar to the reflective display region R, light scattering irregularities 42 are formed on the planarizing film 18 constituting the TFT array substrate 10 in the light shielding region M. A reflection film 36 is formed so as to cover the light scattering unevenness 42.

また、遮光領域Mにおける平坦化膜18上に形成された反射膜36の凹部41には、柱状スペーサ40が設けられている。すなわち、平坦化膜18の光散乱用の凹凸42の中の一つの凹部が柱状スペーサ40を収容するための凹部41となっている。これにより、平坦化膜18における、反射膜36に凹凸を付与するための光散乱用の凹凸42の形成工程と、柱状スペーサ40を収容するための凹部41の形成工程と、を同一工程で形成することができる。   A columnar spacer 40 is provided in the concave portion 41 of the reflective film 36 formed on the planarizing film 18 in the light shielding region M. That is, one recess in the light scattering unevenness 42 of the planarizing film 18 is a recess 41 for accommodating the columnar spacer 40. Thereby, the formation process of the light scattering unevenness 42 for imparting unevenness to the reflective film 36 and the formation process of the recess 41 for accommodating the columnar spacer 40 in the planarizing film 18 are formed in the same process. can do.

そして、柱状スペーサ40のTFTアレイ基板10側の柱状スペーサ40の先端が、平坦化膜18の上に積層された反射膜36、FFS絶縁膜33及び配向膜34の凹部41の内部に収容されるようになっている。   The tips of the columnar spacers 40 on the TFT array substrate 10 side of the columnar spacers 40 are accommodated in the recesses 41 of the reflective film 36, the FFS insulating film 33, and the alignment film 34 stacked on the planarizing film 18. It is like that.

本実施形態の液晶表示装置1Aによれば、柱状スペーサ40は、反射膜36に凹凸を付与するために平坦化膜18に形成された光散乱用の凹凸42と同一工程で、柱状スペーサ40を収容する凹部41を形成できる。すなわち、柱状スペーサ40の収容のための凹部41を形成するための工程を増やす必要がなく、凹部41は光散乱用の凹凸42と同一工程で形成されるので、特に製造工程を増やすことなく効率良く形成できる。したがって、反射型又は半透過反射型の液晶表示装置1Aにおいて、表示品質及び生産性に優れた液晶表示装置1Aが提供できる。   According to the liquid crystal display device 1 </ b> A of the present embodiment, the columnar spacer 40 is formed in the same process as the light scattering unevenness 42 formed on the planarization film 18 in order to give the reflection film 36 unevenness. The recessed part 41 to accommodate can be formed. That is, there is no need to increase the number of steps for forming the recess 41 for accommodating the columnar spacer 40, and the recess 41 is formed in the same process as the light scattering unevenness 42. Can be formed well. Therefore, in the reflective or transflective liquid crystal display device 1A, the liquid crystal display device 1A having excellent display quality and productivity can be provided.

なお、本実施形態では、柱状スペーサ40が設けられる凹部41において、平坦化膜18の上には反射膜36が積層されているが、これに限らず、反射膜36が積層されていなくてもよい。すなわち、柱状スペーサ40の収容のための凹部41を形成するための工程を増やすことなく、凹部41は光散乱用の凹凸42と同一工程で形成されていればよい。   In the present embodiment, the reflective film 36 is laminated on the planarizing film 18 in the recess 41 where the columnar spacer 40 is provided. However, the present invention is not limited to this, and the reflective film 36 may not be laminated. Good. That is, the recess 41 may be formed in the same process as the light scattering unevenness 42 without increasing the number of steps for forming the recess 41 for accommodating the columnar spacer 40.

なお、本実施形態では、柱状スペーサ40は凹部41にのみ設けられているが、これに限らず、凹部41に加えて光散乱用の凹凸42のうちの凹部に設けられていてもよい。すなわち、柱状スペーサ40は少なくとも凹部41に設けられていればよい。   In the present embodiment, the columnar spacers 40 are provided only in the recesses 41. However, the present invention is not limited to this, and the columnar spacers 40 may be provided in the recesses of the light scattering irregularities 42 in addition to the recesses 41. That is, the columnar spacer 40 may be provided at least in the recess 41.

なお、本実施形態の液晶表示装置1Aにおいても、上述した柱状スペーサ40と凹部41の変形例1及び変形例2を適用することができる。   Note that the first and second modifications of the columnar spacer 40 and the recess 41 described above can also be applied to the liquid crystal display device 1A of the present embodiment.

(電子機器)
次に、本実施形態に係る液晶表示装置1を備えた電子機器について説明する。なお、本実施形態では電子機器として携帯電話端末を例示して説明する。
(Electronics)
Next, an electronic apparatus including the liquid crystal display device 1 according to this embodiment will be described. In the present embodiment, a mobile phone terminal will be described as an example of an electronic device.

図9は、本実施形態に係る携帯電話端末500の外観図である。この図9に示すように、本実施形態に係る携帯電話端末500は、折り畳み可能に連結された第1筐体501と第2筐体502とから構成されており、第1筐体501には表示装置として上記の液晶表示装置1及び音声出力用のスピーカ503が設けられており、第2筐体502にはテンキーやファンクションキー、電源キー等の各種キーから成る操作キー504と、音声入力用のマイク505が設けられている。   FIG. 9 is an external view of a mobile phone terminal 500 according to the present embodiment. As shown in FIG. 9, the mobile phone terminal 500 according to the present embodiment includes a first casing 501 and a second casing 502 that are foldably connected, and the first casing 501 includes The liquid crystal display device 1 and the voice output speaker 503 are provided as a display device. The second casing 502 has operation keys 504 including various keys such as a numeric keypad, function keys, and a power key, and voice input. The microphone 505 is provided.

このように表示装置として液晶表示装置1を備える携帯電話端末500によると、荷重をかけた場合に柱状スペーサが画素領域側に侵入することを防ぎ、表示性能に優れ、高開口率のものを得ることができる。   As described above, according to the cellular phone terminal 500 including the liquid crystal display device 1 as a display device, the columnar spacer is prevented from entering the pixel region side when a load is applied, and a display device with excellent display performance and high aperture ratio is obtained. be able to.

なお、本実施形態に係る電子機器として携帯電話端末500を例示したが、本発明はこれに限定されず、PDA(Personal Digital Assistants)やノートパソコン、腕時計等の携帯端末、その他の表示機能を有する各種の電子機器にも適用することができる。例えば、表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイなども含まれる。   In addition, although the mobile phone terminal 500 is illustrated as an electronic apparatus according to the present embodiment, the present invention is not limited to this, and has a PDA (Personal Digital Assistants), a portable terminal such as a notebook computer, a wristwatch, and other display functions. The present invention can also be applied to various electronic devices. For example, a fax machine with a display function, a finder for a digital camera, a portable TV, an electronic notebook, an electric bulletin board, a display for advertisement announcement, and the like are also included.

本発明の液晶表示装置の概略構成を示した平面図である。It is the top view which showed schematic structure of the liquid crystal display device of this invention. 第1実施形態の液晶表示装置の画素領域を拡大して示した部分平面図である。It is the fragmentary top view which expanded and showed the pixel area | region of the liquid crystal display device of 1st Embodiment. 液晶表示装置の表示不良の発生のメカニズムを示した模式断面図である。It is the schematic cross section which showed the mechanism of generation | occurrence | production of the display defect of a liquid crystal display device. 図2のA−A線に沿う液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device which follows the AA line of FIG. 柱状スペーサと凹部の変形例1を示す平面図である。It is a top view which shows the modification 1 of a columnar spacer and a recessed part. 柱状スペーサの凹部の変形例2を示す平面図である。It is a top view which shows the modification 2 of the recessed part of a columnar spacer. 第2実施形態の液晶表示装置の画素領域を拡大して示した部分平面図である。It is the fragmentary top view which expanded and showed the pixel area | region of the liquid crystal display device of 2nd Embodiment. 図7のB−B線に沿う液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device which follows the BB line of FIG. 電子機器の一例である携帯電話端末の概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the mobile telephone terminal which is an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

1,1A…液晶表示装置、5…TFT(スイッチング素子)、10…TFTアレイ基板(一方の基板)、12a…走査線、15a…データ線、18…平坦化膜、20…対向基板(他方の基板)、31…画素電極(第1電極)、32…共通電極(第2電極)、36…反射膜、40…柱状スペーサ、41…凹部、42…光散乱用の凹凸、50…液晶層、500…携帯電話端末(電子機器)、G…画素、L…画素領域、M…遮光領域、R…反射表示領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A ... Liquid crystal display device, 5 ... TFT (switching element), 10 ... TFT array substrate (one board | substrate), 12a ... Scanning line, 15a ... Data line, 18 ... Planarization film | membrane, 20 ... Opposite board | substrate (the other board | substrate) Substrate), 31 ... pixel electrode (first electrode), 32 ... common electrode (second electrode), 36 ... reflective film, 40 ... columnar spacer, 41 ... recess, 42 ... unevenness for light scattering, 50 ... liquid crystal layer, 500: mobile phone terminal (electronic device), G: pixel, L: pixel area, M: light shielding area, R: reflection display area

Claims (6)

対向配置された一対の基板間に液晶層が挟持され、前記一対の基板のうちの一方の基板に、互いに交差する複数のデータ線及び複数の走査線と、前記データ線及び前記走査線に電気的に接続された複数のスイッチング素子と、が設けられた液晶表示装置であって、
前記一方の基板に、前記データ線と前記走査線と前記スイッチング素子とを少なくとも覆う平坦化膜と、前記平坦化膜上に形成された第1電極と、前記第1電極を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記第1電極との間に生じる電界によって前記液晶層を構成する液晶分子を駆動する第2電極と、が設けられ、
前記一対の基板のうちの他方の基板には、前記データ線、前記走査線、前記スイッチング素子の少なくともいずれか一つと平面的に重なる位置に、前記一対の基板間の間隔を保持する柱状スペーサが設けられ、
前記一方の基板の表面に、前記平坦化膜を窪ませて形成された凹部が設けられ、前記柱状スペーサの一部が前記凹部の内部に収容されていることを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal layer is sandwiched between a pair of opposed substrates, and one of the pair of substrates has a plurality of data lines and a plurality of scanning lines intersecting each other, and the data lines and the scanning lines are electrically connected. A plurality of switching elements connected to each other, and a liquid crystal display device comprising:
A planarization film covering at least the data line, the scanning line, and the switching element on the one substrate; a first electrode formed on the planarization film; and an insulating film covering the first electrode; A second electrode that is formed on the insulating film and that drives liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer by an electric field generated between the first electrode and the first electrode;
A columnar spacer that holds a distance between the pair of substrates is disposed on the other substrate of the pair of substrates at a position that overlaps at least one of the data line, the scanning line, and the switching element. Provided,
A liquid crystal display device, wherein a recess formed by recessing the planarizing film is provided on a surface of the one substrate, and a part of the columnar spacer is accommodated in the recess.
前記データ線と前記走査線とによって囲まれた画素領域内に少なくとも反射表示領域を有し、前記反射表示領域における前記平坦化膜上に反射膜が形成され、前記反射膜の下層側にあたる前記平坦化膜の表面に、光散乱用の凹凸が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The flat region corresponding to the lower layer side of the reflective film is provided with at least a reflective display region in a pixel region surrounded by the data lines and the scanning lines, and a reflective film is formed on the planarizing film in the reflective display region. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein unevenness for light scattering is formed on the surface of the conversion film. 前記柱状スペーサが、前記データ線もしくは前記走査線と平面的に重なる位置に設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the columnar spacer is provided at a position overlapping the data line or the scanning line in a plane. 前記凹部が、前記データ線もしくは前記走査線に沿う方向に長手方向を有することを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the concave portion has a longitudinal direction in a direction along the data line or the scanning line. 前記柱状スペーサが、前記スイッチング素子と平面的に重なる位置に設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the columnar spacer is provided at a position overlapping the switching element in a planar manner. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の液晶表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal display device according to claim 1.
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