JP4535245B2 - 部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体及びその製造方法並びに該共重合体を含む樹脂組成物 - Google Patents
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- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 38
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims description 17
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 16
- -1 diamine compounds Chemical class 0.000 claims description 53
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 22
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 22
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 11
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 10
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 50
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 43
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 35
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 35
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 27
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 23
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 14
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 11
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 11
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 10
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 10
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 9
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 8
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 7
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminopropyl)piperazin-1-yl]propan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCN(CCCN)CC1 XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000008065 acid anhydrides Chemical group 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- LBPVOEHZEWAJKQ-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 LBPVOEHZEWAJKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ALFOPRUBEYLKCR-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3-methylphenyl]propan-2-yl]-2-methylphenoxy]aniline Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 ALFOPRUBEYLKCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004984 aromatic diamines Chemical group 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical group FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N octafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960004065 perflutren Drugs 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 3
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- JFEXPVDGVLNUSC-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfanylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(SC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 JFEXPVDGVLNUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPVLRBMZSKOQSX-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminophenyl)sulfonylphenyl]sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 RPVLRBMZSKOQSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FALSKAFGDLHVDW-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenyl)sulfonylphenyl]sulfonylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(N)=CC=2)C=C1 FALSKAFGDLHVDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXBIBSRALRGHMT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[1-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dimethylphenyl]ethyl]-2,6-dimethylphenoxy]aniline Chemical compound C=1C(C)=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(C)=CC=1C(C)C(C=C1C)=CC(C)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 XXBIBSRALRGHMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQLELYXGCQQLL-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[1-[4-(4-aminophenoxy)-3-chlorophenyl]ethyl]-2-chlorophenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(Cl)=CC=1C(C)C(C=C1Cl)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 YLQLELYXGCQQLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXKAITTXGPKDDM-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[1-[4-(4-aminophenoxy)-3-methylphenyl]ethyl]-2-methylphenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(C)=CC=1C(C)C(C=C1C)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 AXKAITTXGPKDDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWLWYFNIQHOJMF-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[1-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KWLWYFNIQHOJMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QFKVSICCVWBSGV-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3-chlorophenyl]propan-2-yl]-2-chlorophenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C(C=C1Cl)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 QFKVSICCVWBSGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KODXTKOQSKLENE-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[[4-(4-aminophenoxy)-3-chlorophenyl]methyl]-2-chlorophenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C(=C1)Cl)=CC=C1CC(C=C1Cl)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KODXTKOQSKLENE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJCJZNPUDLWINR-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[[4-(4-aminophenoxy)-3-methylphenyl]methyl]-2-methylphenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(C)=CC=1CC(C=C1C)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 GJCJZNPUDLWINR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PJCCVNKHRXIAHZ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methyl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 PJCCVNKHRXIAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 2
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 2
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O thiamine pyrophosphate Chemical compound CC1=C(CCOP(O)(=O)OP(O)(O)=O)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 2
- QKUSYGZVIAWWPY-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxane;7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1COCOC1.C1CCCC2OC21 QKUSYGZVIAWWPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical group C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- BLBVJHVRECUXKP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethoxy-1,4-dimethylbenzene Chemical group COC1=C(C)C=CC(C)=C1OC BLBVJHVRECUXKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SESYNEDUKZDRJL-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CC1=NC=CN1CCC#N SESYNEDUKZDRJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAUSGUYYKKTJTC-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dimethylphenyl]methyl]-2,6-dimethylphenoxy]aniline Chemical compound C=1C(C)=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(C)=CC=1CC(C=C1C)=CC(C)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 NAUSGUYYKKTJTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAPDPORYXWQVJE-UHFFFAOYSA-N 4-propylaniline Chemical compound CCCC1=CC=C(N)C=C1 OAPDPORYXWQVJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)-2-phenyl-1h-imidazol-5-yl]methanol Chemical compound N1C(CO)=C(CO)N=C1C1=CC=CC=C1 UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010640 amide synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000005998 bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Chemical group 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011353 cycloaliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 125000004427 diamine group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 229920005645 diorganopolysiloxane polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Chemical group CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N phthalic anhydride Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- AUOZNINQGUNWOV-UHFFFAOYSA-N triphenyl borate;triphenylphosphane Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1OB(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AUOZNINQGUNWOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description
なお、本発明における「部分ブロック」とは、ポリイミド−ポリシロキサン共重合体において、下記式(2)及び(8)で示される特定の鎖長(即ち繰り返し数)を有する繰り返し単位構造(ブロック)を必須に含有し、共重合体中における各ブロック同志の配列自体はランダムであってもよいことを意味するものである。また、本発明のポリイミド−ポリシロキサン共重合体中に下記式(2)及び(8)で示される繰り返し単位構造(ブロック)以外の繰り返し単位(例えば、式(2)、(8)において、繰り返し数m、jがそれぞれ2未満である構造など)が含有されていてもよいものである。
y2/(y2+y3)=0.99〜0.01
y3/(y2+y3)=0.01〜0.99
を満足する。mは2〜50の自然数であり、jは2〜50の自然数である。)
[II]下記一般式(10)
で示されるジアミン化合物から選ばれる1種又は2種以上と、下記一般式(7)
で示されるテトラカルボン酸二無水物又はこの前駆体であるテトラカルボン酸もしくはそのエステル誘導体から選ばれる1種又は2種以上とを略等モルで反応させることを特徴とする[I]記載の部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体の製造方法。
[III]上記[I]記載の部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体、分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、及び好ましくは硬化剤を含有する樹脂組成物。
本発明に係る第1の部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体は、下記構造式(1)及び(2)で示される繰り返し単位構造(ブロック)を有する部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体である。
y1/(y1+y2)=0.99〜0.20
y2/(y1+y2)=0.01〜0.80
を満足する。Lは2〜50の自然数であり、mは2〜50の自然数である。)
なお、この第1の部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体の重量平均分子量(例えばGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)分析におけるポリスチレン換算値等として求めることができる。以下、同様)は、通常5,000〜200,000、特に8,000〜150,000程度であることが好ましい。分子量が小さすぎると硬化後の皮膜の強度が低下する場合がある。
で示されるジアミン化合物から選ばれる1種又は2種以上と、下記一般式(6)及び(7)
で示されるテトラカルボン酸二無水物又はこの前駆体であるテトラカルボン酸もしくはそのエステル誘導体から選ばれる1種又は2種以上とを略等モルで反応させる(但し、少なくとも式(4)のジアミン化合物は少なくとも式(7)のテトラカルボン酸二無水物又はこの前駆体であるテトラカルボン酸もしくはそのエステル誘導体とを反応させ、少なくとも式(5)のジアミン化合物は少なくとも式(6)のテトラカルボン酸二無水物又はこの前駆体であるカルボン酸もしくはそのエステル誘導体とを反応させることが必須である。)ことによって合成することができる。
で表されるテトラカルボン酸二無水物と、下記構造式(12)
H2N−Y1−NH2 (12)
(但し、Y1は上記と同様の意味を示す。)
で表されるジアミンとを所定のモル比で有機溶剤中で反応させることによってポリアミック酸樹脂を得た後、常法により脱水、閉環することで得られる。
p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2’−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(p−アミノフェニルスルホニル)ベンゼン、1,4−ビス(m−アミノフェニルスルホニル)ベンゼン、1,4−ビス(p−アミノフェニルチオエーテル)ベンゼン、1,4−ビス(m−アミノフェニルチオエーテル)ベンゼン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[3,5−ジメチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]パーフルオロプロパン等の芳香族環含有ジアミン。好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン等である。
で表されるテトラカルボン酸二無水物と、下記構造式(13)
で表されるシロキサンジアミンとを所定のモル比で有機溶剤中で反応させることによってポリアミック酸樹脂を得た後、常法により脱水、閉環することで得られる。具体的には一般式(5)の末端アミンのオリゴマーについてはモル比で(r)モルのテトラカルボン酸二無水物(11)と(r+1)モルのジアミン(13)を用い、一般式(7)の末端酸無水物のオリゴマーについてはモル比で(s+1)モルのテトラカルボン酸二無水物(11)と(s)モルのジアミン(13)を用いる。ここでrは1以上(例えば1〜49)の自然数、sは2以上(例えば2〜50)の自然数である。
y1/(y1+y2+y3)=0.01〜0.98
y2/(y1+y2+y3)=0.01〜0.80
y3/(y1+y2+y3)=0.01〜0.98
を満足する。)
で示されるジアミン化合物から選ばれる1種又は2種以上と、上記一般式(6)及び(7)で示されるテトラカルボン酸二無水物又はこの前駆体であるテトラカルボン酸もしくはそのエステル誘導体から選ばれる1種又は2種以上とを略等モルで反応させることによって合成することができる。但し、少なくとも式(4)のジアミン化合物と式(10)のジアミン化合物との混合物は少なくとも式(7)のテトラカルボン酸二無水物又はこの前駆体であるテトラカルボン酸もしくはそのエステル誘導体とを反応させ、少なくとも式(5)のジアミン化合物と式(10)のジアミン化合物との混合物は少なくとも式(6)のテトラカルボン酸二無水物又はこの前駆体であるカルボン酸もしくはそのエステル誘導体とを反応させることが必須である。
で表されるテトラカルボン酸二無水物と、下記構造式(14)
で表される芳香族ジアミンとを所定のモル比で有機溶剤中で反応させることによってポリアミック酸樹脂を得た後、常法により脱水、閉環することで得られる。具体的にはモル比で(t)モルのテトラカルボン酸二無水物(11)と(t+1)モルのジアミン(14)を用いる。ここで、tは1以上(例えば1〜49)の自然数である。
y2/(y2+y3)=0.99〜0.01
y3/(y2+y3)=0.01〜0.99
を満足する。mは2〜50の自然数であり、jは2〜50の自然数である。)
で示されるジアミン化合物から選ばれる1種又は2種以上と、上述した一般式(7)
で示されるテトラカルボン酸二無水物又はこの前駆体であるテトラカルボン酸もしくはそのエステル誘導体から選ばれる1種又は2種以上とを略等モル(例えば、前者1モルに対し後者0.95〜1.1モル)で上記第1、第2の共重合体の製造法で説明したと同様の方法で反応させることによって得ることができる。
BPDA:3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
BTDA:3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
DPE:4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
BAPP:2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン
6FDA:2,2−ビス(3,4−ベンゼンジカルボン酸アンヒドリド)パーフルオロプロパン
測定装置:TM−7000(アルバック理工(株)製)
測定モード:引張りモード
試験片形状:15mm×5mm×50μm
測定温度:室温〜300℃(昇温5℃/分)
ヤング率
測定装置:固体粘弾性測定装置((株)ヨシミズ製)
試験片形状:20mm×5mm×50μm
測定温度:室温〜300℃(昇温5℃/分)
GPC
測定装置:HLC−8120GPC(東ソー(株)製)
カラム温度:40℃
溶離液:THF、流速:0.6ml/min
試料濃度:1.0質量%
分子量換算:標準ポリスチレン
環流冷却器を連結したDean−Stark装置、温度計、撹拌器を備えた1Lのセパラブルフラスコに、酸二無水物成分として6FDA53.31質量部とシクロヘキサノン418質量部を仕込み、50℃で撹拌し、酸二無水物を分散させた。これにジアミン成分としてジアミノシロキサンKF−8010[両末端γ−アミノプロピルジメチルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(重量平均分子量860),信越化学工業(株)製]86.00質量部を滴下した後、室温で12時間撹拌反応させてポリアミック酸オリゴマー溶液−1を合成した。更に脱水溶剤としてトルエン40mlを添加した後、約160℃で8時間加熱脱水を行い、約3.6mlの水分を留去した。これにより、酸無水物末端のポリイミドオリゴマー溶液−1を合成した。
まず、有機性セパレータや金属箔等の支持体を準備し、得られた部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体のシクロヘキサノン溶液を乾燥後の膜厚が約50μmになるように、上記支持体の上にキャスティング法等により塗布した。これを80℃で30分間乾燥した後、得られた接着フィルムを有機性セパレータや金属箔等の支持体上から剥がして、ステンレス枠に固定し、200℃で2時間熱処理し、乾燥硬化させた。このようにして目的とする表面平滑な測定用樹脂皮膜を得た。
得られた樹脂皮膜の熱機械試験によるガラス転移温度は190℃、25℃におけるヤング率は500MPaであった。
環流冷却器を連結したDean−Stark装置、温度計、撹拌器を備えた1Lのセパラブルフラスコに、酸二無水物成分としてBTDA45.11質量部とシクロヘキサノン445質量部を仕込み、50℃で撹拌し、酸二無水物を分散させた。これにジアミン成分としてジアミノシロキサンKF−8010(信越化学工業(株)製)103.20質量部を滴下した後、室温で12時間撹拌反応させてポリアミック酸オリゴマー溶液−3を合成した。更に脱水溶剤としてトルエン40mlを添加した後、約160℃で8時間加熱脱水を行い、約4.3mlの水分を留去した。これにより、酸無水物末端のポリイミドオリゴマー溶液−3を合成した。
得られた樹脂皮膜の熱機械試験によるガラス転移温度は195℃、25℃におけるヤング率は550MPaであった。
環流冷却器を連結したDean−Stark装置、温度計、撹拌器を備えた1Lのセパラブルフラスコに、ジアミン成分として下記に示すフェノール性水酸基を有する芳香族ジアミン(ジアミン−1)
得られた樹脂皮膜の熱機械試験によるガラス転移温度は190℃、25℃におけるヤング率は450MPaであった。
得られた樹脂皮膜の熱機械試験によるガラス転移温度は190℃、25℃におけるヤング率は750MPaであった。
環流冷却器を連結したDean−Stark装置、温度計、撹拌器を備えた1Lのセパラブルフラスコに、酸二無水物成分として6FDA88.85質量部とシクロヘキサノン553質量部を仕込み、50℃で撹拌し、酸二無水物を分散させた。これにジアミン成分としてジアミノシロキサンKF−8010(信越化学工業(株)製)86.00質量部を滴下した後、室温で12時間撹拌反応させた。続いてジアミン成分としてDPE8.01質量部とBAPP24.63質量部をシクロヘキサノン70質量部に溶解した溶液を滴下し、室温で12時間撹拌反応させてポリアミック酸溶液−1を合成した。更に脱水溶剤としてトルエン60mlを添加した後、約160℃で8時間加熱脱水を行い、約7.2mlの水分を留去した。これにより、ポリイミドシロキサン溶液−1を合成した。得られた溶液の溶媒を留去後、減圧乾燥することで単離した樹脂の赤外吸光スペクトルを測定したところ、未反応の官能基があることを示すポリアミック酸に基づく吸収は現れず、1770cm-1及び1720cm-1にイミド基に基づく吸収を確認した。更にGPCによる重量平均分子量(ポリスチレン換算)を測定したところ、約95,000であった。
得られた樹脂皮膜の熱機械試験によるガラス転移温度は125℃、25℃におけるヤング率は1,000MPaであった。
環流冷却器を連結したDean−Stark装置、温度計、撹拌器を備えた1Lのセパラブルフラスコに、酸二無水物成分としてBTDA32.22質量部とシクロヘキサノン350質量部を仕込み、50℃で撹拌し、酸二無水物を分散させた。これにジアミン成分としてジアミノシロキサンKF−8010(信越化学工業(株)製)84.28質量部を滴下した後、室温で12時間撹拌反応させてポリアミック酸オリゴマー溶液−6を合成した。更に脱水溶剤としてトルエン40mlを添加した後、約160℃で8時間加熱脱水を行い、約3.5mlの水分を留去した。これにより、酸無水物末端のポリイミドオリゴマー溶液−6を合成した。
環流冷却器を連結したDean−Stark装置、温度計、撹拌器を備えた1Lのセパラブルフラスコに、酸二無水物成分としてBTDA45.11質量部と6FDA44.42質量部及びシクロヘキサノン636質量部を仕込み、50℃で撹拌し、酸二無水物を分散させた。これにジアミン成分としてジアミノシロキサンKF−8010(信越化学工業(株)製)103.20質量部を滴下した後、室温で12時間撹拌反応させて、酸無水物過剰のポリアミック酸溶液−2を合成した。別に用意した環流冷却器を連結したDean−Stark装置、温度計、撹拌器を備えた1Lのセパラブルフラスコに、ジアミン成分として実施例3で使用したジアミン−1を59.36質量部及びシクロヘキサノン120質量部を仕込み、50℃で撹拌溶解させた。これに予め調製したポリアミック酸溶液−2を滴下し、室温で12時間撹拌反応させてポリアミック酸溶液−3を合成した。更に脱水溶剤としてトルエン60mlを添加した後、約160℃で8時間加熱脱水を行い、約8.6mlの水分を留去した。これにより、ポリイミドシロキサン溶液−3を合成した。
得られた樹脂皮膜の熱機械試験によるガラス転移温度は130℃、25℃におけるヤング率は1,100MPaであった。
得られた樹脂皮膜の熱機械試験によるガラス転移温度は150℃、25℃におけるヤング率は1,600MPaであった。
Claims (3)
- 下記構造式(2)及び(8)で示される繰り返し単位構造を有する部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体。
y2/(y2+y3)=0.99〜0.01
y3/(y2+y3)=0.01〜0.99
を満足する。mは2〜50の自然数であり、jは2〜50の自然数である。)
- 請求項1記載の部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体、及び分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含有する樹脂組成物。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004151486A JP4535245B2 (ja) | 2004-05-21 | 2004-05-21 | 部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体及びその製造方法並びに該共重合体を含む樹脂組成物 |
US11/131,197 US7683152B2 (en) | 2004-05-21 | 2005-05-18 | Partial block polyimide-polysiloxane copolymer, making method, and resin composition comprising the copolymer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004151486A JP4535245B2 (ja) | 2004-05-21 | 2004-05-21 | 部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体及びその製造方法並びに該共重合体を含む樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005330421A JP2005330421A (ja) | 2005-12-02 |
JP4535245B2 true JP4535245B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=35376075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004151486A Expired - Fee Related JP4535245B2 (ja) | 2004-05-21 | 2004-05-21 | 部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体及びその製造方法並びに該共重合体を含む樹脂組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7683152B2 (ja) |
JP (1) | JP4535245B2 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8168726B2 (en) * | 2006-06-22 | 2012-05-01 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Process for making polysiloxane/polymide copolymer blends |
US8071693B2 (en) * | 2006-06-22 | 2011-12-06 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polysiloxane/polyimide copolymers and blends thereof |
JP5040336B2 (ja) * | 2007-01-31 | 2012-10-03 | 宇部興産株式会社 | アミック酸構造の繰返単位の一部がイミド構造になっている共重合体、およびその製造方法 |
JP4918875B2 (ja) * | 2007-03-15 | 2012-04-18 | 宇部興産株式会社 | アミック酸構造の繰返単位の一部がイミド構造になっている共重合体、およびその製造方法 |
US20080236864A1 (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-02 | General Electric Company | Cross linked polysiloxane/polyimide copolymers, methods of making, blends thereof, and articles derived therefrom |
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JP3344315B2 (ja) * | 1998-04-28 | 2002-11-11 | 宇部興産株式会社 | 一色塗りポリイミドシロキサン系コ−ト材および硬化膜 |
US6872457B2 (en) * | 2001-07-31 | 2005-03-29 | Ube Industries, Ltd. | Atomic oxygen-resistant film |
-
2004
- 2004-05-21 JP JP2004151486A patent/JP4535245B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-05-18 US US11/131,197 patent/US7683152B2/en active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004051794A (ja) * | 2002-07-19 | 2004-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フェノール性水酸基を有するポリイミド樹脂、その製造方法、及びポリイミド樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005330421A (ja) | 2005-12-02 |
US20050261456A1 (en) | 2005-11-24 |
US7683152B2 (en) | 2010-03-23 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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