Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP4534876B2 - SUBJECT SUPPLY APPARATUS AND SUBJECT SUPPLY METHOD - Google Patents

SUBJECT SUPPLY APPARATUS AND SUBJECT SUPPLY METHOD Download PDF

Info

Publication number
JP4534876B2
JP4534876B2 JP2005172603A JP2005172603A JP4534876B2 JP 4534876 B2 JP4534876 B2 JP 4534876B2 JP 2005172603 A JP2005172603 A JP 2005172603A JP 2005172603 A JP2005172603 A JP 2005172603A JP 4534876 B2 JP4534876 B2 JP 4534876B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
container
mounting table
gas
supply
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2005172603A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006351619A (en
Inventor
光夫 夏目
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sinfonia Technology Co Ltd
Original Assignee
Sinfonia Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sinfonia Technology Co Ltd filed Critical Sinfonia Technology Co Ltd
Priority to JP2005172603A priority Critical patent/JP4534876B2/en
Publication of JP2006351619A publication Critical patent/JP2006351619A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4534876B2 publication Critical patent/JP4534876B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、処理装置内に被処理物を供給する被処理物供給装置および被処理物供給方法に関するものである。   The present invention relates to an object supply apparatus and an object supply method for supplying an object to be processed in a processing apparatus.

一般に被処理物の処理工程においては、被処理物が収納されている収容器は、種々の搬送手段によって搬送され、処理装置に連結される。次いで、収容器と処理装置に設けられた扉が開けられ、処理装置内のアーム機構などによって収容器内の被処理物が処理装置内に供給される。その後、被処理物には種々の処理または加工が施される。   In general, in a processing step of an object to be processed, a container in which the object to be processed is stored is transported by various transport means and connected to a processing apparatus. Next, the doors provided in the container and the processing apparatus are opened, and an object to be processed in the container is supplied into the processing apparatus by an arm mechanism or the like in the processing apparatus. Thereafter, the object to be processed is subjected to various processing or processing.

ところで、処理装置内は被処理物の処理または加工に適した所定の気体雰囲気に予め設定されているが、上述のように、収容器内から処理装置内に被処理物が供給される際には収容器と処理装置とが連結されるため、収容器内の気体が処理装置内に進入して処理装置内の気体雰囲気に影響を与えることが考えられる。このような場合には、処理装置内を所定の気体雰囲気に再び置換する必要が生じるが、処理装置における処理などの効率化の観点において、この作業は好ましくない。
この問題を解決する方法として、収容器と処理装置とを連結する前に、収容器内を処理装置内と同一の気体雰囲気や真空状態にしておく方法がある。このような方法を用いれば、収容器と処理装置を連結した際に、処理装置内の気体雰囲気が汚染される虞はない。
By the way, although the inside of the processing apparatus is set in advance to a predetermined gas atmosphere suitable for processing or processing of the object to be processed, as described above, when the object to be processed is supplied from the container to the processing apparatus. Since the container and the processing apparatus are connected to each other, the gas in the container may enter the processing apparatus and affect the gas atmosphere in the processing apparatus. In such a case, it is necessary to replace the inside of the processing apparatus again with a predetermined gas atmosphere, but this operation is not preferable from the viewpoint of improving the efficiency of the processing in the processing apparatus.
As a method for solving this problem, there is a method in which the inside of the container is kept in the same gas atmosphere or vacuum state as in the processing apparatus before the container and the processing apparatus are connected. If such a method is used, there is no possibility that the gas atmosphere in the processing apparatus is contaminated when the container and the processing apparatus are connected.

しかしながら、上述の方法を用いるためには、次のように多くの工程が必要であった。
(1)気体置換機構を有する専用ステージに収容器を搬送する。
(2)収容器と専用ステージのパージポートを連結する。
(3)収容器内を諸望の気体雰囲気に設定する。
(4)専用ステージから収容器を取り外し、処理装置に隣接された被処理物供給装置に収容器を配置する。
また、これらの工程を実現するためには、収容器を専用ステージへ搬送するための機構や、収容器と専用ステージのパージポートを接続するための自動接続装置などの高価な設備が必要になるという問題があった。
特開平11−145245号公報 特開2001−298068号公報
However, in order to use the above-described method, many steps are necessary as follows.
(1) The container is transported to a dedicated stage having a gas replacement mechanism.
(2) Connect the container and the purge port of the dedicated stage.
(3) The inside of the container is set to a desired gas atmosphere.
(4) The container is removed from the dedicated stage, and the container is disposed in the workpiece supply apparatus adjacent to the processing apparatus.
In order to realize these processes, expensive equipment such as a mechanism for transporting the container to the dedicated stage and an automatic connection device for connecting the container and the purge port of the dedicated stage are required. There was a problem.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-145245 JP 2001-298068 A

上述の気体置換方法においては、被処理物供給装置に収容器が装着されるまでには、二度の接続作業と一度の取り外し作業という3つの作業が必要であった。特に専用ステージや被処理物供給装置の載置台への接続作業には高い取り付け精度が要求されるため、作業に時間を要するものであった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、被処理物が収納されている収容器内を諸望の気体雰囲気に保つことができるとともに、より少ない工程で処理装置内に被処理物を供給することができる被処理物供給装置及び被処理物供給方法を提供することを目的とする。
In the gas replacement method described above, three operations of connecting twice and removing once are required until the container is mounted on the workpiece supply apparatus. In particular, the work for connecting the dedicated stage and the workpiece supply apparatus to the mounting table requires a high mounting accuracy, and therefore requires a long time for the work.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and can maintain the inside of the container in which the object to be processed is stored in a desired gas atmosphere, and can be processed in the processing apparatus with fewer steps. An object of the present invention is to provide an object supply apparatus and an object supply method capable of supplying an object.

上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
遮蔽壁を備えた処理装置に隣接して設けられ、搬送されてきた収容器を受け取って前記収容器内に収納されている被処理物を前記処理装置内に供給する被処理物供給装置であって、前記処理装置に取り付け可能で、該処理装置内に臨む開口が形成されている本体部と、
前記本体部に設けられ、該本体部の前記開口と対向する位置で前記収容器を配置可能な第一載置台と、前記本体部に設けられ、該本体部の前記開口からズレた位置で前記収容器を配置可能な第二載置台と、前記第一載置台上に位置決めされた前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換すると共に、前記第二載置台上に位置決めされた前記収容器内を前記所定の気体雰囲気に置換する気体置換機構と、前記収容器の前記第一載置台への位置決めを検知する第一センサと、前記収容器の前記第二載置台への位置決めを検知する第二センサと、を備え、前記収容器には、該収容器内へ気体を取り入れるための取入口と、該収容器内から気体を出すための取出口とが形成され、前記第一載置台及び前記第二載置台には、それぞれ、位置決めされた前記収容器の前記取入口と連通する取入用ポートと、位置決めされた該収容器の前記取出口と連通する取出用ポートとが形成され、前記気体置換機構は、前記第一載置台の前記取入用ポートに接続された第一供給口と、前記第二載置台の前記取入用ポートに接続された第二供給口と、該第一載置台の前記取出用ポートに接続された第一排気口と、該第二載置台の前記取出用ポートに接続された第二排気口と、該第一供給口及び該第二供給口への前記所定の気体の供給、さらに該第一排気口及び該第二排気口からの気体の排気を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記第一センサにより、前記収容器の前記第一載置台への位置決めが検知されると、直ちに、該収容器内を前記所定の気体雰囲気に置換されるよう、前記第一供給口から該収容器内へ送る該気体の供給量及び該収容器内の気体の排出量を調整し、該第一センサにより、位置決めされていた該収容器が該第一載置台から取り除かれたことが検知されると同時に、該収容器内へ送る該気体の供給を停止し、前記第二センサにより、前記収容器の前記第二載置台への位置決めが検知されると、直ちに、該収容器内を前記所定の気体雰囲気に置換されるよう、前記第二供給口から該収容器内へ送る該気体の供給量及び該収容器内の気体の排出量を調整し、該第二センサにより、位置決めされていた該収容器が該第二載置台から取り除かれたことが検知されると、該収容器内へ送る該気体の供給を停止することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.
A processing object supply device that is provided adjacent to a processing apparatus having a shielding wall, receives a transported container, and supplies a processing object stored in the container to the processing apparatus. A body portion that is attachable to the processing apparatus and has an opening facing the processing apparatus ;
A first mounting table provided in the main body portion and capable of arranging the container at a position facing the opening of the main body portion; and provided in the main body portion and in a position shifted from the opening of the main body portion. A second mounting table on which the container can be arranged, and the inside of the container positioned on the first mounting table is replaced with a predetermined gas atmosphere, and the inside of the container positioned on the second mounting table A gas replacement mechanism that replaces the container with the predetermined gas atmosphere, a first sensor that detects the positioning of the container on the first mounting table, and a first sensor that detects the positioning of the container on the second mounting table. An inlet for taking gas into the container and an outlet for taking out gas from the container, the first mounting table and Each of the second mounting tables has the positioned storage. An intake port communicating with the intake port of the container and an extraction port communicating with the outlet port of the positioned container are formed, and the gas replacement mechanism is connected to the intake port of the first mounting table. A first supply port connected to the port, a second supply port connected to the intake port of the second mounting table, and a first exhaust connected to the extraction port of the first mounting table A second exhaust port connected to the outlet port of the second mounting table, the supply of the predetermined gas to the first supply port and the second supply port, and the first exhaust port and A control unit that controls the exhaust of gas from the second exhaust port, and the control unit immediately detects the positioning of the container on the first mounting table by the first sensor. The container from the first supply port so that the inside of the container is replaced with the predetermined gas atmosphere. When the supply amount of the gas to be sent to and the discharge amount of the gas in the container are adjusted, and the first sensor detects that the positioned container has been removed from the first mounting table. At the same time, the supply of the gas to be sent into the container is stopped, and when the positioning of the container on the second mounting table is detected by the second sensor, the inside of the container is immediately discharged into the predetermined container. The supply amount of the gas sent from the second supply port into the container and the discharge amount of the gas in the container are adjusted so as to be replaced by a gas atmosphere, and the positioning was performed by the second sensor. When it is detected that the container has been removed from the second mounting table, the supply of the gas to be sent into the container is stopped .

かかる構成によれば、被処理物が収納されている収容器を被処理物供給装置の載置台に配置したことを検知することによって、気体置換機構が所定の気体を収容器内に流入する。そのため、被処理物供給装置の載置台に収容器を配置することによって、収容器内を所定の気体雰囲気に容易に置換することができる。さらに、載置台の所定位置に収容器が位置決めされたことを検知して、気体置換機構が直ちに作動する。そのため、載置台の所定の位置に収容器が位置決めされたことによって、気体置換機構が収容器内に所定の気体を注入し、収容器内の気体の置換が開始される。また、載置台に収容器が配置されたとしても、その位置が精度よく位置決めされていなければ気体置換機構は作動されないので、気体置換機構の誤作動を防止することができる。 According to this configuration, the gas replacement mechanism flows a predetermined gas into the container by detecting that the container in which the object to be processed is stored is arranged on the mounting table of the object supply device. Therefore, the inside of the container can be easily replaced with a predetermined gas atmosphere by arranging the container on the mounting table of the workpiece supply apparatus. Further, when the container is positioned at a predetermined position on the mounting table, the gas replacement mechanism is immediately activated. Therefore, when the container is positioned at a predetermined position of the mounting table, the gas replacement mechanism injects a predetermined gas into the container, and replacement of the gas in the container is started. Further, even if the container is arranged on the mounting table, the gas replacement mechanism is not operated unless the position thereof is accurately positioned, so that the malfunction of the gas replacement mechanism can be prevented.

本発明の被処理物供給装置は、前記第一載置台及び前記第二載置台には、それぞれ、前記収容器の前記取入口と前記取入用ポートとが連通し、且つ該収容器の前記取出口と前記取出用ポートとが連通する位置に、該収容器を位置決めするための嵌合部が設けられていることを特徴とする。 In the workpiece supply apparatus of the present invention, the intake port and the intake port of the container communicate with the first mounting table and the second mounting table, respectively, and the container A fitting portion for positioning the container is provided at a position where the take-out port and the take-out port communicate with each other.

かかる構成によれば、載置台に収容器を配置すると、載置台に設けられた嵌合部によって収容器と載置台が位置決めされる。また、収容器と載置台が位置決めされることにより、載置台の取出用と取入用のパージポート上に、収容器の取入口と取出口とがそれぞれ配置され、接続される。   According to this configuration, when the container is disposed on the mounting table, the container and the mounting table are positioned by the fitting portion provided on the mounting table. Further, by positioning the container and the mounting table, the inlet and the outlet of the container are respectively arranged and connected on the purge port for taking out and taking in the mounting table.

本発明の被処理物供給装置は、前記収容器と、前記第一載置台及び前記第二載置台のそれぞれとのうち、どちらか一方に凸部が、他方に受け部が形成され、前記凸部の前記受け部に対する嵌合により前記収容器が位置決めされる機構とされ、前記受け部は、前記第一載置台及び前記第二載置台のそれぞれの、又は前記収容器の中心部から放射状位置に複数形成され、前記受け部に前記凸部を案内嵌合する導入斜面が形成されてなることを特徴とする。 In the workpiece supply device of the present invention, a convex portion is formed on one of the container and each of the first mounting table and the second mounting table, and a receiving portion is formed on the other. The container is positioned by fitting the part to the receiving part, and the receiving part is positioned radially from each of the first mounting table and the second mounting table, or from the central part of the container. And a plurality of introductory slopes for guiding and fitting the convex portion to the receiving portion.

かかる構成によれば、載置台に収容器を配置すると、収容器と載置台のどちらか一方に形成された凸部が、他方に形成された受け部に嵌合される。また、受け部に形成された導入斜面に沿って凸部が移動されるので、凸部が受け部の諸望の位置に移動され、嵌合される。そのため、凸部と受け部が高い取り付け精度で容易に嵌合される。また、受け部が収容器または載置台の中心部から放射状位置に複数形成されているので、載置台に配置される収容器は、より高い取り付け精度で嵌合される。   According to this configuration, when the container is disposed on the mounting table, the convex portion formed on one of the container and the mounting table is fitted into the receiving portion formed on the other. Further, since the convex portion is moved along the introduction slope formed in the receiving portion, the convex portion is moved to the desired position of the receiving portion and fitted. Therefore, the convex portion and the receiving portion can be easily fitted with high attachment accuracy. In addition, since a plurality of receiving portions are formed radially from the central portion of the container or the mounting table, the containers placed on the mounting table are fitted with higher mounting accuracy.

本発明の被処理物供給装置は、前記被処理物供給装置側から前記処理装置側へ前記収容器を移動可能な搬送機構が備えられてなることを特徴とする。
かかる構成によれば、載置台に配置された収容器と処理装置とが離間していても、搬送機構によって収容器が処理装置側へ移動される。そのため、被処理物を処理装置内に搬入可能な状態にすることができる。また、使用済みの状態の収容器を処理装置から離間位置に移動することができる。
The workpiece supply device of the present invention is characterized in that a transport mechanism capable of moving the container from the workpiece supply device side to the processing device side is provided.
According to this configuration, even when the container disposed on the mounting table and the processing apparatus are separated from each other, the container is moved to the processing apparatus side by the transport mechanism. Therefore, the workpiece can be brought into a state where it can be carried into the processing apparatus. Further, the used container can be moved away from the processing apparatus.

本発明の被処理物供給方法は、遮蔽壁を備えた処理装置に収容器内の被処理物を供給する被処理物供給方法であって、前記処理装置に隣接し且つ処理装置内に臨む開口からズレた位置で、前記被処理物が収納されている収容器を支持する第二載置台に、該収容器を配置する工程と、前記第二載置台に前記収容器が位置決めされたことを検知して、直ちに、前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換されるよう、該収容器内へ送る該気体の供給量及び該収容器内の気体の排出量を調整する工程と、位置決めされた前記収容器が前記第二載置台から取り除かれたことが検知されると、該収容器内へ送る前記気体の供給を停止する工程と、前記処理装置に隣接し且つ処理装置内に臨む開口に対向する位置で、前記収容器を支持する第一載置台に、該収容器を配置する工程と、前記第一載置台に前記収容器が位置決めされたことを検知して、直ちに、前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換されるよう、該収容器内へ送る該気体の供給量及び該収容器内の気体の排出量を調整する工程と、前記第一載置台に位置決めされた前記収容器の一面に設けられた開閉扉を開放する工程と、処理装置内に設けられたアーム機構によって、前記第一載置台に位置決めされた前記収容器内の前記被処理物を前記処理装置内へ搬送する工程と、が備えられたことを特徴とする。 The processing object supply method of the present invention is a processing object supply method for supplying a processing object in a container to a processing apparatus having a shielding wall, and is an opening adjacent to the processing apparatus and facing the processing apparatus. A step of disposing the container on the second mounting table that supports the container in which the object to be processed is stored at a position deviated from the position, and that the container is positioned on the second mounting table. detects immediately to be replaced within said container to a predetermined gaseous atmosphere, and adjusting the discharge amount of the gas supply amount and該収vessel the gas sent to該収container is positioned When it is detected that the container has been removed from the second mounting table, a step of stopping the supply of the gas to be sent into the container, and an opening adjacent to the processing apparatus and facing the processing apparatus in a position facing the, the first table for supporting the container, the yield Placing the vessel, by detecting that the container on the first mounting base is positioned immediately to be replaced within said container to a predetermined gaseous atmosphere, sent to該収vessel Adjusting the gas supply amount and the gas discharge amount in the container ; opening the open / close door provided on one surface of the container positioned on the first mounting table; And a step of transporting the object to be processed in the container positioned on the first mounting table into the processing apparatus by an arm mechanism provided on the first mounting table .

かかる方法によれば、被処理物を収納した収容器が載置台に配置されることによって、収容器内が所定の気体雰囲気に置換され、収容器内の被処理物が処理装置内に搬送可能な状態とされる。その後、収容器の開閉扉が開放され、処理装置内に設けられたアーム機構を作動することによって、処理装置内に被処理物が搬送される。この際、収容器は処理装置に密着されているとともに、その内部は所定の気体雰囲気に置換された状態が維持されているので、被処理物の搬送によって処理装置内の気体雰囲気が汚染されることはなく、処理装置内の気体雰囲気を維持することができる。   According to such a method, the container containing the object to be processed is arranged on the mounting table, whereby the inside of the container is replaced with a predetermined gas atmosphere, and the object to be processed in the container can be conveyed into the processing apparatus. State. Thereafter, the opening / closing door of the container is opened, and an arm mechanism provided in the processing apparatus is operated, whereby the object to be processed is conveyed into the processing apparatus. At this time, since the container is in close contact with the processing apparatus and the inside thereof is maintained in a state where the container is replaced with a predetermined gas atmosphere, the gas atmosphere in the processing apparatus is contaminated by the conveyance of the object to be processed. There is nothing, and the gas atmosphere in the processing apparatus can be maintained.

本発明の被処理物供給方法は、前記第一載置台及び前記第二載置台に前記収容器を配置する工程が、前記第一載置台及び前記第二載置台のそれぞれと前記収容器のどちらか一方に設けられた凸部と他方に設けられた受け部とを嵌合する工程と、前記受け部に形成された導入斜面に沿って前記凸部を案内する工程と、からなることを特徴とする。 In the workpiece supply method of the present invention, the step of disposing the container on the first mounting table and the second mounting table may be performed by either the first mounting table, the second mounting table , or the container. And a step of fitting a convex portion provided on one side with a receiving portion provided on the other side, and a step of guiding the convex portion along an introduction slope formed on the receiving portion. And

かかる方法によれば、載置台に収容器を配置する際に、凸部が受け部に嵌合される。その後、受け部に設けられた導入斜面に沿って凸部が所定の位置に案内され、嵌合される。そのため、凸部と受け部が高い取り付け精度で容易に嵌合される。   According to this method, the convex portion is fitted to the receiving portion when the container is arranged on the mounting table. Thereafter, the convex portion is guided to a predetermined position along the introduction slope provided in the receiving portion, and fitted. Therefore, the convex portion and the receiving portion can be easily fitted with high attachment accuracy.

以上説明したように、本発明の被処理物供給装置によれば、載置台に収容器を配置すると、収容器と載置台のどちらか一方に形成された凸部が、他方に形成された受け部に嵌合されるとともに、受け部に形成された導入斜面に沿って凸部が案内嵌合されるので、凸部が受け部の諸望の位置に移動され、嵌合される。そのため、載置台に収容器を配置することのみによって、載置台と収容器を高い取り付け精度で容易に嵌合することができる。また、収容器と載置台が位置決めされることにより、載置台の取出用と取入用のパージポート上に、収容器の取入口と取出口とがそれぞれ配置され、接続されるので、確実に収容器内を所定の気体雰囲気に置換することができる。
本発明の被処理物供給方法によれば、収容器と載置台のどちらか一方に形成された凸部が、他方に形成された受け部に嵌合されるとともに、受け部に形成された導入斜面に沿って凸部が案内嵌合されるので、凸部が受け部の諸望の位置に移動され、嵌合される。そのため、載置台に収容器を配置することのみによって、載置台と収容器を高い取り付け精度で容易に嵌合することができる。
As described above, according to the workpiece supply device of the present invention, when the container is arranged on the mounting table, the convex portion formed on one of the container and the mounting table is formed on the other. Since the convex part is guided and fitted along the introduction slope formed in the receiving part, the convex part is moved to the desired position of the receiving part and fitted. Therefore, the mounting table and the container can be easily fitted with high mounting accuracy only by arranging the container on the mounting table. In addition, since the container and the mounting table are positioned, the container inlet and outlet are respectively arranged and connected on the purge port for removing and loading the mounting table. The inside of the container can be replaced with a predetermined gas atmosphere.
According to the workpiece supply method of the present invention, the convex portion formed on one of the container and the mounting table is fitted to the receiving portion formed on the other and the introduction formed on the receiving portion. Since the convex portion is guided and fitted along the slope, the convex portion is moved to the desired position of the receiving portion and fitted. Therefore, the mounting table and the container can be easily fitted with high mounting accuracy only by arranging the container on the mounting table.

以下、本発明の被処理物供給装置の実施形態について、図面を用いて説明する。
図1に、本実施形態の被処理物供給装置20の側面図を示す。
本実施形態の被処理物供給装置20は、収容器40内を所定の気体雰囲気に置換するとともに、収容器40内に収納されている図示略の被処理物を処理装置10内に供給するためのものである。被処理物供給装置20は、処理装置10の遮蔽壁11の外側面に密着されている本体部21と、本体部21に取り付けられた搬送機構25および支持台28と、搬送機構25および支持台28にそれぞれ取り付けられた第1載置台30および第2載置台31と、気体置換機構60とから概略構成されている。
Hereinafter, an embodiment of a workpiece supply apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.
In FIG. 1, the side view of the to-be-processed object supply apparatus 20 of this embodiment is shown.
The object supply device 20 of the present embodiment replaces the inside of the container 40 with a predetermined gas atmosphere, and supplies an object (not shown) stored in the container 40 into the processing apparatus 10. belongs to. The workpiece supply apparatus 20 includes a main body 21 that is in close contact with the outer surface of the shielding wall 11 of the processing apparatus 10, a transport mechanism 25 and a support base 28 that are attached to the main body section 21, and a transport mechanism 25 and a support base. 28, the first mounting table 30 and the second mounting table 31, respectively, and a gas replacement mechanism 60.

本体部21は平板状に形成され、その一部には本体部21を貫通する開口部21aが形成されている。また、その開口部21aを覆うように本体部21の一方の面には枠体22が設けられており、枠体22の一端側には当接部23が形成されている。一方、本体部21の他方の面の略中央には、第1載置台30を支持および搬送可能な搬送機構25が延在して設けられ、搬送機構25と離間した位置には第2載置台31を支持する支持台28が設けられ、端部には気体置換機構60が設けられている。さらに、本体部21の所定位置には、本体部21を処理装置10に取り付け可能な固定具24が備えられている。   The main body 21 is formed in a flat plate shape, and an opening 21 a penetrating the main body 21 is formed in a part of the main body 21. A frame 22 is provided on one surface of the main body 21 so as to cover the opening 21 a, and a contact portion 23 is formed on one end side of the frame 22. On the other hand, a transport mechanism 25 capable of supporting and transporting the first mounting table 30 is extended and provided substantially at the center of the other surface of the main body 21, and the second mounting table is located away from the transport mechanism 25. A support base 28 for supporting 31 is provided, and a gas replacement mechanism 60 is provided at the end. Furthermore, a fixture 24 that can attach the main body 21 to the processing apparatus 10 is provided at a predetermined position of the main body 21.

搬送機構25は筐体部26を有し、筐体部26の一面が本体部21に固定されており、筐体部26内には図示略のピストン機構が設けられている。ピストン機構には複数の支持板27が取り付けられており、筐体部26内から突出した支持板27の一端に第1載置台30の底部が取り付けられている。
ピストン機構は、被処理物供給装置20側と処理装置10側に支持板27を往復自在に移動するためのものである。筐体部26内に設けられた図示略の制御部によって、第1載置台30上に載置された収容器40を処理装置10に連結した状態(装着状態:図5参照)および収容器40が処理装置10から離間した状態(待機状態:図1参照)になるように、ピストン機構が制御される。
支持台28は平板状に形成されており、被処理物供給装置20の本体部21にその一端が取り付けられている。支持台28の上面には、図示略の固定部材によって第2載置台31が固定されている。
The transport mechanism 25 has a housing portion 26, one surface of the housing portion 26 is fixed to the main body portion 21, and a piston mechanism (not shown) is provided in the housing portion 26. A plurality of support plates 27 are attached to the piston mechanism, and the bottom portion of the first mounting table 30 is attached to one end of the support plate 27 protruding from the inside of the housing portion 26.
The piston mechanism is for reciprocally moving the support plate 27 to the workpiece supply device 20 side and the processing device 10 side. A state in which the container 40 mounted on the first mounting table 30 is connected to the processing apparatus 10 by the control unit (not shown) provided in the housing unit 26 (mounted state: see FIG. 5) and the container 40. Is separated from the processing apparatus 10 (standby state: see FIG. 1), the piston mechanism is controlled.
The support base 28 is formed in a flat plate shape, and one end thereof is attached to the main body 21 of the workpiece supply apparatus 20. A second mounting table 31 is fixed to the upper surface of the support table 28 by a fixing member (not shown).

図2に示すように、第1載置台30は、略長方形状の平板の1部を切り欠いた略L字形状の載置板32と、載置板32に設けられた取入用パージポート34と取出用パージポート35と、嵌合部33となる複数の凸部36と、複数の加圧センサ47とから構成されている。載置板32の一辺の両端には、先端部に図示略のパッキンを有する取入用パージポート34と取出用パージポート35が対向した状態で配置されている。3つの凸部36は載置版32の仮想中心C1から等距離の位置に放射状に配置されている。載置板32の他辺の両端には、加圧センサ47が対向した状態で配置されている。載置板32の底部は上述のピストン機構の支持板27に連結されており、ピストンの可動に伴って、第1載置台30は被処理物供給装置20側と処理装置10側との間においてレール29,29上を往復可能になっている。
第2載置台31は、レール29,29を除いた構成については、第1載置台30と同様の構成を有するように形成されており、その底部は上述の支持台28に固定されている。
As shown in FIG. 2, the first mounting table 30 includes a substantially L-shaped mounting plate 32 in which a part of a substantially rectangular flat plate is cut out, and an intake purge port provided on the mounting plate 32. 34, an extraction purge port 35, a plurality of convex portions 36 serving as fitting portions 33, and a plurality of pressure sensors 47. At both ends of one side of the mounting plate 32, an intake purge port 34 having an unillustrated packing at the front end portion and an extraction purge port 35 are arranged facing each other. The three convex portions 36 are radially arranged at positions equidistant from the virtual center C <b> 1 of the loading plate 32. A pressure sensor 47 is disposed at both ends of the other side of the mounting plate 32 so as to face each other. The bottom of the mounting plate 32 is connected to the support plate 27 of the piston mechanism described above, and the first mounting table 30 is moved between the workpiece supply device 20 side and the processing device 10 side as the piston moves. The rails 29 and 29 can be reciprocated.
The second mounting table 31 is configured to have the same configuration as that of the first mounting table 30 except for the rails 29 and 29, and the bottom thereof is fixed to the support table 28 described above.

次に、図3に収容器40の側面図を示し、図4に収容器40の底面図を示す。
収容器40は、被処理物を収容するとともに、被処理物供給装置20側から処理装置10側に被処理物を搬送するためのものである。収容器40は、一面に開放面を有する略立方体状に形成されており、開放面には枠体49と、枠体49から取り外し可能な開閉扉48が設けられている。収容器40の底部51には、取入口43と取出口44が下壁を貫通するように設けられている。底部51には、その仮想中心C2から放射状の位置に3つの略楕円形の嵌合部42が形成されている。図5に示すように、この嵌合部42の長辺方向の中心位置には溝部52が形成されている。嵌合部42の受け部45から溝部52に向かう壁部は導入斜面46とされていて、導入斜面46,46の傾斜によって溝部52が底すぼまり状(溝の底が狭く)になっている。また、この嵌合部42の受け部45の長辺上には、1つまたは2つの突出部50が形成されている。
Next, FIG. 3 shows a side view of the container 40, and FIG. 4 shows a bottom view of the container 40.
The container 40 is for accommodating a workpiece and conveying the workpiece from the workpiece supply apparatus 20 side to the treatment apparatus 10 side. The container 40 is formed in a substantially cubic shape having an open surface on one side, and a frame 49 and an open / close door 48 that can be detached from the frame 49 are provided on the open surface. An inlet 43 and an outlet 44 are provided at the bottom 51 of the container 40 so as to penetrate the lower wall. Three substantially elliptical fitting portions 42 are formed in the bottom portion 51 at radial positions from the virtual center C2. As shown in FIG. 5, a groove portion 52 is formed at the center position of the fitting portion 42 in the long side direction. The wall portion from the receiving portion 45 of the fitting portion 42 toward the groove portion 52 is an introduction slope 46, and the groove portion 52 is formed in a bottomed shape (the bottom of the groove is narrow) due to the inclination of the introduction slopes 46, 46. Yes. Further, one or two projecting portions 50 are formed on the long side of the receiving portion 45 of the fitting portion 42.

気体置換機構60は、不活性ガスを充填した図示略のガス供給装置を有しており、第1載置台30および第2載置台31に配置された収容器40内に不活性ガスを供給するためのものである。図1に示すように、気体置換機構60には、複数のガス供給口62とガス排気口63とが設けられており、ガス供給口62は第1載置台30および第2載置台31の取入用パージポート34に接続されており、ガス排出口63は、第1載置台30および第2載置台31の取出用パージポート35に接続されている。気体置換機構60に設けられた図示略の制御部は、第1載置台30または第2載置台31に収容器40が配置されたことを検出して、配置された収容器40内を所定の条件(気体の濃度や圧力など)に保つように、ガス供給量および排出量を調整する。   The gas replacement mechanism 60 has a gas supply device (not shown) filled with an inert gas, and supplies the inert gas into the container 40 disposed on the first mounting table 30 and the second mounting table 31. Is for. As shown in FIG. 1, the gas replacement mechanism 60 is provided with a plurality of gas supply ports 62 and gas exhaust ports 63, and the gas supply ports 62 are connected to the first mounting table 30 and the second mounting table 31. The gas discharge port 63 is connected to the inlet purge port 34, and the gas discharge port 63 is connected to the extraction purge port 35 of the first mounting table 30 and the second mounting table 31. A control unit (not shown) provided in the gas replacement mechanism 60 detects that the container 40 is disposed on the first mounting table 30 or the second mounting table 31, and performs a predetermined inside of the disposed container 40. Adjust the gas supply and discharge to maintain the conditions (gas concentration, pressure, etc.).

処理装置10は、収容器40によって搬送されてきた被処理物に種々の処理または加工を施すためのものである。処理装置10内には、収容器40内の被処理物を処理装置10内に搬送するロボットアームからなるアーム機構12(図5、6参照)が設けられている。
尚、処理装置10としては、半導体処理装置や各種製膜装置、エッチング装置などが挙げられるが、基板などの被処理物を処理または加工する装置であれば如何なる装置であってもよい。
被処理物としては、半導体基板などの各種の基板が挙げられるが、これらに限定されず、処理装置10内で処理または加工されるものであれば、如何なるものであってもよい。
The processing apparatus 10 is for performing various processes or processing to the to-be-processed object conveyed by the container 40. FIG. In the processing apparatus 10, an arm mechanism 12 (see FIGS. 5 and 6) including a robot arm that transports an object to be processed in the container 40 into the processing apparatus 10 is provided.
Examples of the processing apparatus 10 include a semiconductor processing apparatus, various film forming apparatuses, and an etching apparatus, but any apparatus may be used as long as it can process or process an object to be processed such as a substrate.
Examples of the object to be processed include various substrates such as a semiconductor substrate, but are not limited thereto, and any substrate may be used as long as it is processed or processed in the processing apparatus 10.

次に、この被処理物供給装置20を用いて処理装置10内に被処理物を供給する方法について説明する。なお、図5は、収容器40を処理装置10の遮蔽壁11まで搬送した状態の側面図、図6は、収容器40の開閉扉48を開いた状態の側面図である。
内部に複数の被処理物が収納された収容器40を図示略の搬送装置によって被処理物供給装置20まで搬送し、第1載置台30上に配置する。このとき、収容器40の底部51に設けられた嵌合部42の受け部45に第1載置台30に設けられた嵌合部33となる凸部36を当接し、受け部45の導入斜面46に沿って凸部36を移動することによって、嵌合部42の嵌合位置に凸部36を正確に位置決めする。これにより、収容器40の底部51に設けられた取入口43と取出口44は、第1載置台30の取入用パージポート34と取出用パージポート35にそれぞれ連結された状態となる。このとき、取入用パージポート34と取出用パージポート35の先端部に設けられた図示略のパッキンによって、取入口43と取出口44との接続部が密閉状態になる。
Next, a method for supplying an object to be processed into the processing apparatus 10 using the object supply apparatus 20 will be described. 5 is a side view of the container 40 conveyed to the shielding wall 11 of the processing apparatus 10, and FIG. 6 is a side view of the container 40 with the open / close door 48 opened.
The container 40 in which a plurality of objects to be processed are stored is transported to the object supply device 20 by a transport device (not shown) and placed on the first mounting table 30. At this time, the convex portion 36 serving as the fitting portion 33 provided on the first mounting table 30 is brought into contact with the receiving portion 45 of the fitting portion 42 provided on the bottom portion 51 of the container 40, so that the introduction slope of the receiving portion 45 is provided. By moving the convex portion 36 along 46, the convex portion 36 is accurately positioned at the fitting position of the fitting portion 42. As a result, the inlet 43 and the outlet 44 provided in the bottom 51 of the container 40 are connected to the intake purge port 34 and the extraction purge port 35 of the first mounting table 30, respectively. At this time, the connection portion between the inlet 43 and the outlet 44 is hermetically sealed by packing (not shown) provided at the leading ends of the inlet purge port 34 and the outlet purge port 35.

また、収容器40の底部51の嵌合部42に設けられた突出部50が第1載置台30の上部に設けられた加圧センサ47の押圧部47aを押圧したことを検出すると、気体置換機構60の制御部からの信号によって、ガス供給口62からガスチューブ61および第1載置台30の取入用パージポート34を介して、収容器40の取入口43に不活性ガスを供給し、収容器40内を不活性ガスによって充填する。   Further, when it is detected that the protruding portion 50 provided in the fitting portion 42 of the bottom portion 51 of the container 40 presses the pressing portion 47a of the pressure sensor 47 provided on the upper portion of the first mounting table 30, gas replacement is performed. In response to a signal from the control unit of the mechanism 60, an inert gas is supplied from the gas supply port 62 to the intake port 43 of the container 40 through the gas tube 61 and the intake purge port 34 of the first mounting table 30. The container 40 is filled with an inert gas.

この際、収容器40内に充満していた空気などの気体は、収容器40の取出口44から第1載置台30の取出用パージポート35およびガスチューブ61を介して、気体置換機構60のガス排気口63から排出される。その後、気体置換機構60の制御部によって、収容器40内を不活性ガスで充填された状態に維持し続ける。また、同様に、被処理物が収納されている他の収容器40を第2載置台31に載置し、収容器40内を不活性ガスで充填された状態に保つ。   At this time, the gas such as the air filled in the container 40 is discharged from the outlet 44 of the container 40 through the purge port 35 for extraction of the first mounting table 30 and the gas tube 61 to the gas replacement mechanism 60. It is discharged from the gas exhaust port 63. Thereafter, the inside of the container 40 is maintained in a state filled with an inert gas by the control unit of the gas replacement mechanism 60. Similarly, another container 40 in which the object to be processed is stored is placed on the second mounting table 31, and the inside of the container 40 is kept filled with an inert gas.

第1載置台30上の収容器40内を不活性ガスで充填した後、処理装置10内における処理または加工の準備を完了すると、搬送機構25の筐体部26内に設けられたピストン機構を動作し、第1載置台30上の収容器40を処理装置10側に移動する。このとき、第1載置台30の一端部が本体部21に設けられた当接部23に当接される位置まで第1載置台30を移動する(図5参照)。この状態で、処理装置10に設けられている図示略の吸引ポンプを作動して、図示略の吸着パッドの吸引力により収容器40の開閉扉48と処理装置10のポートドア13とを接触させる。このとき、レジスタピン14を収容器40の開閉扉48の穴部48aに挿入するとともに、ポートドア13の表面の図示略の爪部を開閉扉48の穴部48aに挿入し、開閉扉48をポートドア13に対して位置ずれが発生しないように固定する。開閉扉48をポートドア13に吸着した後、アーム機構12のアームを縮め、両者を一体にして収容器40から開閉扉48を取り外し、処理装置10内の所定の位置に移動する(図6参照)。   After filling the container 40 on the first mounting table 30 with an inert gas, when the processing or processing preparation in the processing apparatus 10 is completed, the piston mechanism provided in the housing portion 26 of the transport mechanism 25 is moved. It operates and moves the container 40 on the first mounting table 30 to the processing apparatus 10 side. At this time, the first mounting table 30 is moved to a position where one end of the first mounting table 30 is in contact with the contact portion 23 provided in the main body 21 (see FIG. 5). In this state, a suction pump (not shown) provided in the processing apparatus 10 is operated to bring the opening / closing door 48 of the container 40 into contact with the port door 13 of the processing apparatus 10 by the suction force of the suction pad (not shown). . At this time, the register pin 14 is inserted into the hole 48 a of the opening / closing door 48 of the container 40, and a not-shown claw portion on the surface of the port door 13 is inserted into the hole 48 a of the opening / closing door 48. It fixes so that position shift may not occur with respect to the port door 13. After the opening / closing door 48 is adsorbed to the port door 13, the arm of the arm mechanism 12 is shrunk, and the opening / closing door 48 is removed from the container 40 together with the both, and moved to a predetermined position in the processing apparatus 10 (see FIG. 6). ).

その後、収容器40内に収納されている被処理物を処理装置10内のロボットアームにより取り出し、処理装置10において必要な処理または加工を施す。このとき、収容器40の枠体49は処理装置10の遮蔽壁11の壁部に密着されているので、収容器40内および処理装置10内に外気が進入することはない。収容器40から諸望の数量の被処理物を取り出し、処理装置10内での処理または加工の終了後、アーム機構12を駆動して処理装置10の遮蔽壁11にポートドア13を連結し、収容器40の開閉扉48を収容器40の枠体49に嵌合する。   Thereafter, the object to be processed stored in the container 40 is taken out by the robot arm in the processing apparatus 10 and necessary processing or processing is performed in the processing apparatus 10. At this time, since the frame 49 of the container 40 is in close contact with the wall portion of the shielding wall 11 of the processing apparatus 10, the outside air does not enter the container 40 and the processing apparatus 10. A desired amount of workpieces are taken out from the container 40, and after the processing or processing in the processing apparatus 10 is completed, the arm mechanism 12 is driven to connect the port door 13 to the shielding wall 11 of the processing apparatus 10, The opening / closing door 48 of the container 40 is fitted into the frame 49 of the container 40.

その後、吸引ポンプによる吸引作業を停止し、収容器40の開閉扉48とポートドア13を引き離す。そして、搬送機構25により収容器40を元の位置(待機状態の位置)に戻す。元の位置に戻された収容器40を、図示略の搬送装置によって、第1載置台30上から取り除く。第1載置台30から収容器40が取り除かれたことを第1載置台30の加圧センサ47が検知すると同時に、気体置換機構60からの不活性ガスの供給を停止する。更に処理装置10内に被処理物を供給する場合には、別途用意してある収容器40を第1載置台30上に配置すればよい。また、第2載置台31に配置され、内部が不活性ガスで充満されている収容器40を第1載置台30に搬送してもよい。   Thereafter, the suction operation by the suction pump is stopped, and the opening / closing door 48 and the port door 13 of the container 40 are separated. Then, the container 40 is returned to the original position (position in the standby state) by the transport mechanism 25. The container 40 returned to the original position is removed from the first mounting table 30 by a transport device (not shown). At the same time that the pressurization sensor 47 of the first mounting table 30 detects that the container 40 has been removed from the first mounting table 30, the supply of the inert gas from the gas replacement mechanism 60 is stopped. Furthermore, when supplying an object to be processed into the processing apparatus 10, a separately prepared container 40 may be disposed on the first mounting table 30. Further, the container 40 arranged on the second mounting table 31 and filled with an inert gas may be transported to the first mounting table 30.

この場合、第2載置台31から収容器40を取り外すことによって、第2載置台31の取入用パージポート34への不活性ガスの供給は停止する。また、気体置換機構60によって不活性ガスを第1載置台30の取入用パージポート34を介して収容器40の取入口43に供給し、新たに第1載置台30に配置された収容器40内の不活性ガスの調整を行う。
尚、第2載置台31に載置しておいた収容器40は、第2載置台31上において十分に不活性ガスで充満されているので、第1載置台30上に配置後、処理装置10に連結することによって、直ちに処理装置10内に被処理物を供給できる状態にある。以下、上述と同様に、収容器40内の被処理物を処理装置10内に供給し、種々の処理または加工を行なう。
In this case, the supply of the inert gas to the intake purge port 34 of the second mounting table 31 is stopped by removing the container 40 from the second mounting table 31. Further, the inert gas is supplied to the intake port 43 of the container 40 through the purge port 34 for intake of the first mounting table 30 by the gas replacement mechanism 60, and the container newly disposed on the first mounting table 30. Adjustment of the inert gas in 40 is performed.
The container 40 placed on the second mounting table 31 is sufficiently filled with an inert gas on the second mounting table 31, so that the processing device is disposed after being placed on the first mounting table 30. By connecting to 10, the object to be processed can be immediately supplied into the processing apparatus 10. Thereafter, in the same manner as described above, the object to be processed in the container 40 is supplied into the processing apparatus 10 to perform various processing or processing.

なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、本実施形態においては、収容器の底部に受け部を有する嵌合部を形成し、第1載置台に凸部からなる嵌合部を形成したが、これとは反対に、収容器の底部に嵌合部となる凸部を形成し、第1載置台に受け部を有する嵌合部を形成してもよい。
また、気体置換機構は、不活性ガスを供給するものに限られず、例えば真空装置などであってもよい。
The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, in the present embodiment, a fitting portion having a receiving portion is formed at the bottom of the container, and a fitting portion including a convex portion is formed on the first mounting table. A convex portion serving as a fitting portion may be formed on the bottom portion, and a fitting portion having a receiving portion may be formed on the first mounting table.
Further, the gas replacement mechanism is not limited to the one supplying the inert gas, and may be a vacuum device, for example.

本発明の被処理物供給装置を示す側面図である。It is a side view which shows the to-be-processed object supply apparatus of this invention. 本発明の第1載置台を示す正面図である。It is a front view which shows the 1st mounting base of this invention. 本発明の収容器を示す側面図である。It is a side view which shows the container of this invention. 本発明の収容器を示す底面図である。It is a bottom view which shows the container of this invention. 本発明の収容器を処理装置に装着した状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state which mounted | wore the processing apparatus with the container of this invention. 本発明の収容器から開閉扉を取り外した状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state which removed the opening / closing door from the container of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・処理装置、11・・・遮蔽壁、12・・・アーム機構、13・・・ポートドア、20・・・被処理物供給装置、21・・・本体部、21a・・・開口部、22・・・枠体、25・・・搬送機構、30・・・第1載置台、31・・・第2載置台、33・・・嵌合部、34・・・取入用パージポート、35・・・取出用パージポート、36・・・凸部、40・・・収容器、42・・・嵌合部、43・・・取入口、44・・・取出口、45・・・受け部、46・・・導入斜面、47・・・センサ、48・・・開閉扉、50・・・突出部、52・・・溝部、60・・・気体置換機構、C1,C2・・・仮想中心

DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Processing apparatus, 11 ... Shielding wall, 12 ... Arm mechanism, 13 ... Port door, 20 ... To-be-processed object supply apparatus, 21 ... Main-body part, 21a ... Opening Part, 22 ... frame, 25 ... transport mechanism, 30 ... first mounting table, 31 ... second mounting table, 33 ... fitting part, 34 ... purge for intake Port, 35 ... Purge port for extraction, 36 ... Convex part, 40 ... Container, 42 ... Fitting part, 43 ... Inlet, 44 ... Inlet, 45 ... · Receiving portion, 46 ··· introduction slope, 47 ··· sensor, 48 ··· open / close door, 50 ··· projection, 52 ··· groove portion, 60 · · · gas replacement mechanism, C1, C2, ···・ Virtual center

Claims (6)

遮蔽壁を備えた処理装置に隣接して設けられ、搬送されてきた収容器を受け取って前記収容器内に収納されている被処理物を前記処理装置内に供給する被処理物供給装置であって、
前記処理装置に取り付け可能で、該処理装置内に臨む開口が形成されている本体部と、
前記本体部に設けられ、該本体部の前記開口と対向する位置で前記収容器を配置可能な第一載置台と、
前記本体部に設けられ、該本体部の前記開口からズレた位置で前記収容器を配置可能な第二載置台と、
前記第一載置台上に位置決めされた前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換すると共に、前記第二載置台上に位置決めされた前記収容器内を前記所定の気体雰囲気に置換する気体置換機構と、
前記収容器の前記第一載置台への位置決めを検知する第一センサと、
前記収容器の前記第二載置台への位置決めを検知する第二センサと、
を備え、
前記収容器には、該収容器内へ気体を取り入れるための取入口と、該収容器内から気体を出すための取出口とが形成され、
前記第一載置台及び前記第二載置台には、それぞれ、位置決めされた前記収容器の前記取入口と連通する取入用ポートと、位置決めされた該収容器の前記取出口と連通する取出用ポートとが形成され、
前記気体置換機構は、前記第一載置台の前記取入用ポートに接続された第一供給口と、前記第二載置台の前記取入用ポートに接続された第二供給口と、該第一載置台の前記取出用ポートに接続された第一排気口と、該第二載置台の前記取出用ポートに接続された第二排気口と、該第一供給口及び該第二供給口への前記所定の気体の供給、さらに該第一排気口及び該第二排気口からの気体の排気を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記第一センサにより、前記収容器の前記第一載置台への位置決めが検知されると、直ちに、該収容器内を前記所定の気体雰囲気に置換されるよう、前記第一供給口から該収容器内へ送る該気体の供給量及び該収容器内の気体の排出量を調整し、該第一センサにより、位置決めされていた該収容器が該第一載置台から取り除かれたことが検知されると同時に、該収容器内へ送る該気体の供給を停止し、前記第二センサにより、前記収容器の前記第二載置台への位置決めが検知されると、直ちに、該収容器内を前記所定の気体雰囲気に置換されるよう、前記第二供給口から該収容器内へ送る該気体の供給量及び該収容器内の気体の排出量を調整し、該第二センサにより、位置決めされていた該収容器が該第二載置台から取り除かれたことが検知されると、該収容器内へ送る該気体の供給を停止する、ことを特徴とする被処理物供給装置。
A processing object supply device that is provided adjacent to a processing apparatus having a shielding wall, receives a transported container, and supplies a processing object stored in the container to the processing apparatus. And
A main body that is attachable to the processing apparatus and has an opening facing the processing apparatus ;
A first mounting table provided in the main body portion and capable of arranging the container at a position facing the opening of the main body portion;
A second mounting table provided in the main body portion and capable of arranging the container at a position shifted from the opening of the main body portion;
A gas replacement mechanism that replaces the inside of the container positioned on the first mounting table with a predetermined gas atmosphere, and replaces the inside of the container positioned on the second mounting table with the predetermined gas atmosphere. When,
A first sensor for detecting positioning of the container on the first mounting table;
A second sensor for detecting positioning of the container on the second mounting table;
With
The container is formed with an inlet for taking gas into the container and an outlet for taking gas out of the container,
The first mounting table and the second mounting table each have an intake port communicating with the intake port of the positioned container, and an extraction port communicating with the outlet port of the positioned container. Port and formed,
The gas replacement mechanism includes a first supply port connected to the intake port of the first mounting table, a second supply port connected to the intake port of the second mounting table, To the first exhaust port connected to the take-out port of the mounting table, to the second exhaust port connected to the take-out port of the second mount table, to the first supply port and to the second supply port A control unit for controlling the supply of the predetermined gas and the exhaust of the gas from the first exhaust port and the second exhaust port,
When the first sensor detects the positioning of the container on the first mounting table, the control unit immediately replaces the inside of the container with the predetermined gas atmosphere. The supply amount of the gas sent from the supply port into the container and the discharge amount of the gas in the container are adjusted, and the container positioned by the first sensor is removed from the first mounting table. At the same time, the supply of the gas to be sent into the container is stopped, and when the second sensor detects the positioning of the container on the second mounting table, Adjusting the supply amount of the gas sent from the second supply port into the container and the discharge amount of the gas in the container so that the inside of the container is replaced with the predetermined gas atmosphere, and the second sensor By this, the container that has been positioned is removed from the second mounting table. When it is detected were to stop the supply of the gas to be sent to該収vessel treatment object supply device, characterized in that.
前記第一載置台及び前記第二載置台には、それぞれ、前記収容器の前記取入口と前記取入用ポートとが連通し、且つ該収容器の前記取出口と前記取出用ポートとが連通する位置に、該収容器を位置決めするための嵌合部が設けられている、ことを特徴とする請求項1に記載の被処理物供給装置。 The first mounting table and the second mounting table communicate with the intake port of the container and the intake port, respectively, and the outlet port of the container and the extraction port communicate with each other. The workpiece supply device according to claim 1, wherein a fitting portion for positioning the container is provided at a position where the container is placed . 前記収容器と、前記第一載置台及び前記第二載置台のそれぞれとのうち、どちらか一方に凸部が、他方に受け部が形成され、前記凸部の前記受け部に対する嵌合により前記収容器が位置決めされる機構とされ、
前記受け部は、前記第一載置台及び前記第二載置台のそれぞれの、又は前記収容器の中心部から放射状位置に複数形成され、前記受け部に前記凸部を案内嵌合する導入斜面が形成されてなることを特徴とする請求項1または2に記載の被処理物供給装置。
A convex portion is formed on one of the container and each of the first mounting table and the second mounting table, and a receiving portion is formed on the other. It is a mechanism for positioning the container,
The receiving portion is formed in a plurality of radial positions from the center portion of each of the first mounting table and the second mounting table or from the container, and an introduction slope for guiding and fitting the convex portion to the receiving portion. It forms, The to-be-processed object supply apparatus of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
前記被処理物供給装置側から前記処理装置側へ、前記第一載置台に位置決めされた前記収容器を移動可能な搬送機構が備えられてなることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の被処理物供給装置。 4. The transfer mechanism according to claim 1 , further comprising a transfer mechanism capable of moving the container positioned on the first mounting table from the workpiece supply apparatus side to the processing apparatus side. The workpiece supply apparatus according to one item. 遮蔽壁を備えた処理装置に収容器内の被処理物を供給する被処理物供給方法であって、
前記処理装置に隣接し且つ処理装置内に臨む開口からズレた位置で、前記被処理物が収納されている収容器を支持する第二載置台に、該収容器を配置する工程と、
前記第二載置台に前記収容器が位置決めされたことを検知して、直ちに、前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換されるよう、該収容器内へ送る該気体の供給量及び該収容器内の気体の排出量を調整する工程と、
位置決めされた前記収容器が前記第二載置台から取り除かれたことが検知されると、該収容器内へ送る前記気体の供給を停止する工程と
前記処理装置に隣接し且つ処理装置内に臨む開口に対向する位置で、前記収容器を支持する第一載置台に、該収容器を配置する工程と、
前記第一載置台に前記収容器が位置決めされたことを検知して、直ちに、前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換されるよう、該収容器内へ送る該気体の供給量及び該収容器内の気体の排出量を調整する工程と、
前記第一載置台に位置決めされた前記収容器の一面に設けられた開閉扉を開放する工程と、
処理装置内に設けられたアーム機構によって、前記第一載置台に位置決めされた前記収容器内の前記被処理物を前記処理装置内へ搬送する工程と、が備えられたことを特徴とする被処理物供給方法。
A processing object supply method for supplying a processing object in a container to a processing apparatus having a shielding wall,
Disposing the container on a second mounting table that supports the container in which the object to be processed is stored at a position adjacent to the processing apparatus and shifted from an opening facing the processing apparatus;
Upon detecting that the container has been positioned on the second mounting table, the supply amount of the gas to be sent into the container and the container so that the container is immediately replaced with a predetermined gas atmosphere. Adjusting the amount of gas discharged in the vessel ;
When it is detected that the positioned container has been removed from the second mounting table, stopping the supply of the gas to be sent into the container ;
In a position facing the opening facing into the adjacent and processing apparatus to the processing apparatus, the first mounting base for supporting the container, placing the container,
Upon detecting that the container has been positioned on the first mounting table, the supply amount of the gas sent into the container so that the inside of the container is immediately replaced with a predetermined gas atmosphere, and the and adjusting the discharge amount of the gas in the container,
Opening an open / close door provided on one surface of the container positioned on the first mounting table ;
And a step of transporting the object to be processed in the container positioned on the first mounting table into the processing apparatus by an arm mechanism provided in the processing apparatus. Processed product supply method.
前記第一載置台及び前記第二載置台に前記収容器を配置する工程が、前記第一載置台及び前記第二載置台のそれぞれと前記収容器のどちらか一方に設けられた凸部と他方に設けられた受け部とを嵌合する工程と、前記受け部に形成された導入斜面に沿って前記凸部を案内する工程と、からなることを特徴とする請求項5に記載の被処理物供給方法。 The step of disposing the container on the first mounting table and the second mounting table includes a projecting portion provided on one of the first mounting table and the second mounting table and one of the containers and the other. The process target according to claim 5, comprising: a step of fitting a receiving portion provided on the receiving portion; and a step of guiding the convex portion along an introduction slope formed in the receiving portion. Supply method.
JP2005172603A 2005-06-13 2005-06-13 SUBJECT SUPPLY APPARATUS AND SUBJECT SUPPLY METHOD Active JP4534876B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005172603A JP4534876B2 (en) 2005-06-13 2005-06-13 SUBJECT SUPPLY APPARATUS AND SUBJECT SUPPLY METHOD

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005172603A JP4534876B2 (en) 2005-06-13 2005-06-13 SUBJECT SUPPLY APPARATUS AND SUBJECT SUPPLY METHOD

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006351619A JP2006351619A (en) 2006-12-28
JP4534876B2 true JP4534876B2 (en) 2010-09-01

Family

ID=37647189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005172603A Active JP4534876B2 (en) 2005-06-13 2005-06-13 SUBJECT SUPPLY APPARATUS AND SUBJECT SUPPLY METHOD

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4534876B2 (en)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9105673B2 (en) 2007-05-09 2015-08-11 Brooks Automation, Inc. Side opening unified pod
KR101932265B1 (en) * 2007-05-17 2018-12-24 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 Side opening substrate carrier and load port
JP5381054B2 (en) * 2008-12-02 2014-01-08 シンフォニアテクノロジー株式会社 Load port
JP5433290B2 (en) 2009-04-20 2014-03-05 東京エレクトロン株式会社 Substrate storage method and control device
JP2011187539A (en) * 2010-03-05 2011-09-22 Sinfonia Technology Co Ltd Gas charging apparatus, gas discharging apparatus, gas charging method, and gas discharging method
JP5887719B2 (en) 2011-05-31 2016-03-16 シンフォニアテクノロジー株式会社 Purge device, load port, bottom purge nozzle body, bottom purge unit
US10403532B2 (en) * 2012-09-20 2019-09-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Semiconductor apparatus with inner wafer carrier buffer and method
JP6099945B2 (en) * 2012-11-22 2017-03-22 東京エレクトロン株式会社 Lid opening / closing mechanism, shielding mechanism and internal purging method of container
JP6106501B2 (en) * 2013-04-12 2017-04-05 東京エレクトロン株式会社 How to manage the atmosphere in the storage container
KR101593386B1 (en) * 2014-09-01 2016-02-15 로체 시스템즈(주) Purge module and load port having the same
JP2015035612A (en) * 2014-09-24 2015-02-19 シンフォニアテクノロジー株式会社 Nozzle driving unit and gas injection device
JP6311579B2 (en) * 2014-11-12 2018-04-18 株式会社ダイフク Goods transport equipment
KR101852323B1 (en) * 2016-07-05 2018-04-26 로체 시스템즈(주) Jig for purge module and purge module including the same
JP6614278B2 (en) * 2018-05-24 2019-12-04 シンフォニアテクノロジー株式会社 Container purge device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11274267A (en) * 1998-03-23 1999-10-08 Tokyo Electron Ltd Method and device for treatment
JP2003017553A (en) * 2001-06-29 2003-01-17 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc Substrate container, substrate conveying system and gas replacement method
JP2004345715A (en) * 2003-05-26 2004-12-09 Tdk Corp Purge system for product storing container

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11274267A (en) * 1998-03-23 1999-10-08 Tokyo Electron Ltd Method and device for treatment
JP2003017553A (en) * 2001-06-29 2003-01-17 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc Substrate container, substrate conveying system and gas replacement method
JP2004345715A (en) * 2003-05-26 2004-12-09 Tdk Corp Purge system for product storing container

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006351619A (en) 2006-12-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4534876B2 (en) SUBJECT SUPPLY APPARATUS AND SUBJECT SUPPLY METHOD
US7987888B2 (en) Releasing method and releasing apparatus of work having adhesive tape
JP3460177B2 (en) Substrate transport method and apparatus
KR101302812B1 (en) Processing apparatus and processing method
KR100627782B1 (en) Treatment subject receiving vessel body, and treating system
JP2008283215A (en) Substrate processing device
JP2008028208A (en) Substrate adhering device
KR20120075313A (en) Vacuum processing apparatus
KR101409752B1 (en) Multi Chamber Substrate Processing Apparatus using Robot for Transferring Substrate
JP2022002255A (en) Storage module, substrate processing system, and method for conveying consumable member
JP4268318B2 (en) Substrate transport apparatus and substrate transport method
JP5263587B2 (en) Closed container lid opening and closing system and lid opening and closing method
CN114496694A (en) Processing system and conveying method
JP2002264065A (en) Wafer conveying robot
WO2003088351A1 (en) Port structure in semiconductor processing device
JP5554671B2 (en) Die bonding apparatus and bonding method
JPH02140948A (en) Vacuum processor
JP2020004839A (en) Semiconductor workpiece transfer device
JP2008226976A (en) Device and method for treating substrate or the like
JP3654205B2 (en) Vacuum processing apparatus and substrate transfer method in vacuum processing apparatus
JP2004071784A (en) Clean transport device for substrate, and method for loading substrate thereon
KR20170028846A (en) Feeding apparatus and feeding method
JP2552197B2 (en) Automatic exposure device and loading stage
JP3654114B2 (en) Work receiving device and method
JP5973813B2 (en) Sheet sticking device and sheet sticking method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080611

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100223

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100302

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100506

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100525

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4534876

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100607

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250