JP4532741B2 - 小型化された部品を熱的に安定して支持する装置 - Google Patents
小型化された部品を熱的に安定して支持する装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4532741B2 JP4532741B2 JP2000581492A JP2000581492A JP4532741B2 JP 4532741 B2 JP4532741 B2 JP 4532741B2 JP 2000581492 A JP2000581492 A JP 2000581492A JP 2000581492 A JP2000581492 A JP 2000581492A JP 4532741 B2 JP4532741 B2 JP 4532741B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- optical
- holding part
- base
- holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 9
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 64
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 43
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 25
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 12
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 3
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/008—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/301—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor by means of a mounting structure
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S248/00—Supports
- Y10S248/901—Support having temperature or pressure responsive feature
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Description
(技術分野)
本発明は、請求項1の前提部分に記載された、小型化された部品、特に電子部品又は光学部品を支持する支持装置に関する。
【0002】
(背景技術)
ドイツ特許DE 195 33 426 A号は、モジュール方式のマイクロ光学素子の機械的な固定システムに関して述べていて、その固定システムは、好適にはハウジングに保持され、基板上の光学的又は光電子的レイアウトの生産のためのものである。保持部が中央プラットホームと共に形成されて、そこにモジュールを搭載する。少なくとも三つの脚が、例えばレーザスポット溶接又はハンダ付けによって基板に固定される。これらは好適には蝶番によってプラットフォームを軸支する。この既知の固定システムは耐ショック及び耐震動の形で光学部品を支持することを可能にする。
【0003】
(発明の開示)
本発明の目的は、部品の位置への温度変化の影響を実質的に可能な限り補償できるような方法で、請求項1の前提部分に記載の部品支持装置を開発することである。
【0004】
この目的は、本発明によれば、請求項1の特徴部分の特色によって達成される。
【0005】
本発明の主題の更なる利点となる開発は、従属項に記載されている。
【0006】
新しい装置及び方法の基本的な概念を以下に説明する。
【0007】
三次元の小型化された光学装置を表面実装する方法で、自動化されたコンベヤベルト組立てに適し、搭載基板上で光学、電子、及び小型機械部品が六自由度を有し、フラックスを用いない精密レーザハンダ付け方法によるものにおいては、この技術によって得られる結果を向上させるために「TRIMO SMD」技術(三次元小型面実装デバイス)のための保持部にいくつかの改良が加えられてきた。
【0008】
本支持装置は、少なくとも二つの部分を有していて、これらは加工精度が低いことに特徴づけられる。これらの二つの部分は、例えば0.1mmの厚さの金属シートの金型加工によって作られる標準的な保持部と、光学素子を支持する光学支持部である。保持部の形状及び寸法はカスタマイズされ、特に様々な光学支持部を保持できるように設計されている。標準的な保持部は、薄いスズの層によって覆われた球殻状の受け部分を持つボールソケット型のベースと、保持部のベースに垂直になるよう構成された二つの金属フラップから形成される。これらのフラップは、保持部と光学支持部との固定を可能にし、更に保持部がロボットによって容易に掴めるという目的にかなうものである。
【0009】
光学素子は通常、光学支持部のおおよそ(±0.2mm)内側に、接着結合又は機械的な力によって配置される。この機械的な力は一般的にはバネによって与えられる。
【0010】
光学支持部は、光学素子、レンズ、光ファイバ、又はレーザダイオードを保持するための特別な作業を受ける。保持される部品の焦点軸とベースの間の距離は、保持部内部で光学支持部の位置を移動させることにより正確に設定できる。これらはレーザスポット溶接、接着結合、又は電気抵抗スポット溶接などの様々な方法で予め組立てることができる。組立てが完了すればすぐに保持部を搭載基板に固定できる。
【0011】
支持装置を形成する二つの部分は完全に独立しているので、これらの部分は異なる材料から作ることができる。一つの制限は、標準的な保持部をスズによって濡らすことのできる金属から作る必要があることであり、そうでなければ、保持部の球形ベースにスズによって濡らすことのできる層をコーティングする必要がある。この層は、例えばPVD(物理的気相成長)や電気めっきなどの様々な方法で作ることができ、極端に厚くなければ液体のスズに直ちに反応し溶ける。少し時間を置くともはや抵抗力のある適切な、保持部と搭載基板との境界層を構成することが十分に保証できなくなる。スズによって濡らすことのできる層の付加工程は、固定状態を改善せず、また、保持部の費用及び複雑さを改善しない。
【0012】
保持部製作のための材料は、金型加工処理に耐えるために十分な変形性を有する必要があるが、同時に、剛直な固定を保証するために、弱すぎても軟らかすぎてもいけない。通常、保持部は、CuBe(銅−ベリリウム)、ニッケル、インバール又は銅から製作される。
【0013】
光学支持部は通常、1mmの厚さの、CuBe、インバール、ステンレス鋼又はAl2O3のシートを処理し製作される。材料の選択は、二つの部をどのように組立てるかに依存する。
【0014】
保持部は、0.1mmの厚さの金属シートを使い製作されるため、高い熱抵抗特性を有し、これにより光学支持部を断熱することが可能である。これによりレーザ放射の露光時における光学支持部の損傷を防止する。保持部の高い熱抵抗のため、保持部のベースに達する熱流を保持部に沿って運び出すことはかなり困難である。少量の熱のみが光学支持部に達することができ、これにより危険な加熱が発生せず、この少量の加熱は無視できる。
【0015】
レーザから伝播する熱エネルギがハンダ付け処理の間保持部の小部分に制限されるということは、エネルギの浪費を制限でき、より小さな出力のレーザステーションの使用を可能にする。
【0016】
保持部が、熱を発生させる能動素子、例えばレーザダイオードや電気抵抗を支持する場合、保持部の高い熱抵抗は不利な点となる。能動素子によって発生された熱が運び出されなければ連続的な加熱により能動素子は必然的に故障させられる。小さな寸法のため保持部に放熱器(ヒートシンク)を設けることはできない。発生する熱の大半を運び出せる放熱器として搭載基板を使うという解決法は魅力的で可能な一つの解決法である。これは、搭載基板が高い熱伝導率を有する材料から製作される場合のみ、また、熱が搭載基板に流れることができる場合のみに達成できる。後者の視点から必然的に保持部の熱抵抗は低下する。多量の熱を運び出す場合には、サファイア製の搭載基板を使う必要がある(熱伝導率41Wm-1K-1)。他の場合には、パイレックス(登録商標)、Al2O3、ゼロドール、石英、又はフロートガラスなどの、より低い熱伝導率を有する材料から搭載基板を製作する方が有利である。フロートガラスは熱ショックに耐えられないので、ハンダ付け処理の際に壊れる場合があるためこれらの中では最も適していない。
【0017】
サファイア製の搭載基板上で行われるハンダ付け処理は、その高い熱伝導率のため、実際には非常に問題のある処理である。スズ層を溶かすために必要なレーザの照射エネルギ量は、低い熱伝導率を有する搭載基板の場合に必要とされるエネルギよりも非常に大きい。サファイア搭載基板に必要なエネルギ値とその他の搭載基板に必要なエネルギ値の現在の比率は2倍にまで上る場合がある。より出力の大きいレーザハンダ付けステーションの必要性は、結果としてレーザ購入のためにより大きな投資を必要とし、また高い維持費用を必要とする。
【0018】
搭載基板が放熱器として機能する場合、保持部は能動素子によって発生された熱を搭載基板に運び出すことが可能であろう。これは保持部が高い熱抵抗特性を有するときは実際には達成できない。また保持部が低い熱抵抗特性を有するときは、ハンダ付け処理中にレーザによって発生された熱が急速に光学素子に達し、光学素子に損傷を与える。保持部の熱抵抗は、ハンダ付け処理中には高い抵抗であり取付けが終わった後は低い抵抗になるよう、処理中に変化する必要がある。これはボールソケットを適切な熱伝導性材料によって充填することにより達成できる。
【0019】
光学素子のいずれもが超えるべきでない最大温度が50℃であると仮定すると、サファイア製の搭載基板に固定され、ボールソケットが充填されていない保持部によって0.5Wを運び出せる。ボールソケットが適切な熱伝導性材料によって充填された時は、直ちに運び出せるエネルギは0.75Wとなる。
【0020】
Al2O3もまた搭載基板を製作するために使うことができる。Al2O3の薄いシートはハンダ付け処理のためのレーザビームが透過する。Al2O3は良好な機械的な特性を有し、また、熱伝導率はサファイアの熱伝導係数よりは小さいが、搭載基板を製作するために使われる他の材料のそれぞれの熱伝導率よりは大きい(熱伝導率:24Wm-1K-1)。Al2O3製の搭載基板はサファイア製の搭載基板の困難な点を示すことなく放熱器として機能できる。
【0021】
保持部は球形のベースを有するが、これはハンダ付け材の良好な対称性を保証するために最適な形状だからである。機械的なパラメータのバランスのとれた分布は、スズの凝固の際に発生する収縮を回避し、保持部を支持部に対して回転させる。位置決め段階では、保持部がその光学軸に対して回転できるにもかかわらず、保持部のベースと搭載基板との間の界面における制約条件に変化はない。
【0022】
保持部のベースが平坦だとすると、スズの凝固は追加の回転βを発生させ、そのβはY及びハンダ付け材料の性質に依存する。ここでYは位置決め段階において保持部が回転(その光学軸において)させられた角度である。
【0023】
βはYと逆の方向に働く。回転が行われた後の搭載基板に対する座標A及びBの間の垂直方向の距離は、
【数1】
となる。
【0024】
融点が179℃であるスズ合金のハンダが使われた。この合金の熱膨張係数は24・10-6K-1である。この例では周囲の温度は20℃と仮定された。凝固後AとBの間の垂直方向の距離は、
【数2】
である。
【0025】
追加の回転は、
【数3】
に等しい。
【0026】
5°の回転Yのときは、AB=2mmである場合、追加の回転βは19mradに等しい。
【0027】
2°の回転Yのときは、AB=2mmである場合、追加の回転βは7.6mradに等しい。
【0028】
10°の回転Yのときは、AB=2mmである場合、追加の回転βは37.4mradに等しい。
【0029】
薄いスズの層を保持部のベースに配置するという事実は、ベースが搭載基板と接触しないように光学軸においてその角度位置を調整する可能性に目に見えるような悪影響は与えてはいけない。この目的のために一覧表が提供され、この一覧表には、保持部が搭載基板と接触すること無く受けることのできる、保持部の対応する最大の回転が、保持部ベースと搭載基板との間の各垂直空間に対して示される。
空間 = 0.1 mm、差し支えない角度 = 12.8°
空間 = 0.2 mm、差し支えない角度 = 31.5°。
0.3mmよりも大きい空間の場合、完全な回転が許される。
【0030】
保持部の球形ベースは固定の精度に関して最良の結果を得ることを可能にする。最終的な精度は収縮の繰り返し再現性に直接依存する。固定の良好な精度は収縮が予め補償されている場合のみ達成できる。現在この技術によって、数マイクロメートル単位の垂直方向の収縮繰り返し再現性が計測されており、もし補償を仮定すれば、おおよそ0.5μmの全体としての固定の繰り返し再現性が達成できる。
【0031】
ハンダ付け処理は、ロボット組立てステーションによって実行されるため、固定の精度はロボットに取付けられた把持部に影響される。把持部は保持部を掴み、外部の基準点に対して位置決めし、レーザ放射への露光の間その位置に保持し、固定された後にレリースする必要がある。保持部の小さな寸法のため(2x2x3mm)、いつも同じように保持部を掴むことは難しい。把持部を設計する時には基本的な選択の決定をする必要がある。一つの解決法は、無限に剛直で把持部自体が金属の収縮の力に抵抗するような把持部の設計である。もう一つの可能な解決法は、詳しく限定された弾性を垂直方向に有する把持部の設計である。後者の場合、金属の収縮には邪魔されず、その代わりに空間の一定の方向に沿って許される。これは柔軟な回転固定手段を有するリニアーガイドによって達成できる。
【0032】
以下の理由から、第一の解決法よりも第二の解決法が好適である。
【0033】
スズ金属の収縮によって発生する力に対し変形せずに動作することができる設計は、高精度のロボットステーションに適するためには丈夫過ぎる。金属の収縮は機械的な負荷力を発生させ、この負荷力はハンダ付け材の制限された引張り強さよりも大きい場合もあり、固定部分の故障に繋がる。
【0034】
単純な典型例をここに説明する。薄い層は1mmの厚さであり、熱収縮は4μmに等しい。この値は実験によって得られた値の平均に対応する。把持部が変形しない場合ハンダが反作用を受け、搭載基板を把持部に向かって、ある距離だけ引こうとする応力を発生させる。移動した距離の大きさは、
【数4】
である。
【数5】
【数6】
【0035】
この場合にスズに加えられる負荷力はスズの破壊限界よりも高いので、この結果、欠陥を回避できない。
【0036】
把持部の設計が、放射露光の間保持部を固定位置に保持するために十分に剛直であると仮定すれば、把持部への弾性設計の適用は固定の最終的な精度に悪影響を及ぼさない。機械的な応力は実際には、スズの層が相を変化させ固体状態に戻る時のみ生じる。その時点の後把持部の変形性が関係する。
【0037】
必要な把持部の力は様々な方法で提供することができるが、保持部の小さな寸法のため、十分な注意をはらいつつ力を加えることは難しい。固定に要求される高い精度のため、保持部の位置が悪影響を受けないように把持部によってレリースされる必要がある。発生する掴みの力を機械的な効果によって解決する方法の大半は、レリース段階において固定の精度に悪影響を及ぼすため、考慮に入れることができない。
【0038】
最も適切な解決法は磁石によって力を発生させる把持部であることが実証された。小さな磁石を非磁性材料で製作されたパイプ内部で動かすことができる。小さな軟鉄平円盤を保持部の上部に接着結合する。パイプは垂直に保持され、掴まれるべき保持部はパイプの底部に向かって押される。平円盤の寸法はパイプの外部寸法よりも少し大きい。掴み段階においては磁石がパイプの先端近くに押される。この位置において、磁石は、軟鉄平円盤を連続的にパイプの先端に接触させて保つことを可能とする十分な吸着力を与えることができる。なんらかの位置決めピンを使うことにより把持部の十分な精度が保証できる。固定が完了すると、余分の負荷力なしに保持部をレリースできる。軟鉄平円盤がパイプの先端と接触しつづけたまま、磁石はパイプに沿って上に上げられる。磁石の移動中に磁石によって加えられる力は、平円盤がすでにそのエンドポイントにあるため、平円盤に影響を及ぼさない。磁石を取り去る際には、磁石によって加えられる力は徐々に弱くなり一定時間の後は無視してもよい。この時点で、保持部は完全に自由であり、レリース段階では機械的な負荷力は加えられていない。
【0039】
固定又は保持のための装置は二つの別個の部分から成るため、熱膨張を補償できる。この視点は特に、特定の時間に搭載基板上に温度勾配が存在する場合に便利である。これは支持部が、例えばレーザダイオードなどの熱発生能動素子を保持する時などに発生する場合がある。
【0040】
保持部及び光学支持部は、一対のレーザスポット溶接を使い予め組立てることができ、各溶接点は保持部のフラップの上端部に設けられる。このように光学支持部は上部のみで接続されているので、温度勾配に応じて、保持部に対して下に向かって伸長することができる。同時に光学支持部を有する保持部は、そのベース又は搭載基板に対して上に向かって伸長する。二つの伸長が同じ大きさに達した時には、その全体的な効果は保持部のベースに対してゼロに等しく、すなわち、この点において熱膨張が補償されることを意味する。この補償は、保持部及び光学支持部の製作のための一対の適切な材料を結合することにより、及び光学支持部を保持部に固定させるために使われるレーザ溶接点を正確な位置に配置することにより達成できる。
【0041】
しかしながら、搭載基板に対する完全な熱膨張補償は、スズのハンダ付けの熱膨張を補償することも必要とするため完全な熱膨張補償は達成できない。システムの形状及び材料の物理的な性質によってスズ層の補償ができ得るとしても、完全な補償は達成できない。保持部のベースと搭載基板との間に存在する空間は予め定義できない。実際にはこの空間は位置決め段階においてのみ定義され、各素子についてその値が変化する。光学支持部及び保持部は、保持部が搭載基板の固定される前に予め組立てられる。よって、値が不明な量に対して予め補償することは不可能である。光学支持部と搭載基板との間の熱膨張は完全には補償できないが、その影響を制限することはできる。たいていの場合搭載基板はどの場合でも同じ熱勾配に全部がさらされる。素子は同じ大きさで膨張し、膨張したにも関わらずそのままとどまる。
【0042】
この原理の可能性について、いくつかの例が提供される。成分が62Sn36Pb2Agであり、熱膨張係数が24・10-6K-1である合金を含むハンダ付け材の使用を仮定する。
【0043】
保持部は0.1mmの厚さのインバールのシートを金型加工することにより製作でき、インバールは熱膨張係数が2・10-6K-1である。光学支持部は19・10-6K-1の熱膨張係数を有する銀から製作される。ハンダ付け材は固定のために0.2mmの空間を充填する必要があると仮定された。保持部の組立て及び光学支持部の組立ては、熱膨張の完全な補償が達成できるように実施された。50℃の作業温度勾配が仮定された。全体的な膨張は、上向きの膨張と下向きの膨張との差の結果生じる。上向きの膨張は保持部の膨張とハンダ付け材の膨張との和に等しく、下向きの膨張は光学支持部の膨張のみによって生み出される。全体的な膨張は以下の数式で表すことができ、この式ではXは全体的な膨張をゼロとするためにレーザスポットと支持される光学部品の光学軸との間に残す必要間隔である。
【0044】
この特殊なケースでは、レーザ溶接点は熱膨張を相殺するために光学軸の0.4mm上に配置される。光学支持部の下向きの膨張は保持部全体の上向きの膨張とハンダ付け材の膨張との和に等しい。この例は原理的には効果的にシステムの完全な補償を実行できることを示す。ただ一つの問題として、保持部のベースと搭載基板との間の空間の値が、この場合は0.2mmに等しいが、前もって決めることができないことである。
【0045】
通常組立て段階では、ハンダ付け材の膨張は無視できるか又は平均値が考慮される。ハンダ付け材の膨張が無視されるいくつかの例を以下に示す。
【0046】
保持部が2・10-6K-1の熱膨張係数を有するインバールから製作され、光学支持部が9・10-6K-1の熱膨張係数を有する銅ベリリウムから製作された例を考える。この場合装置の垂直方向の膨張は以下の数式で表される。
【数11】
【数12】
【数13】
【数14】
【0047】
保持部の熱膨張の補償は、レーザスポット溶接の対を素子の光学軸の0.51mm上に配置することを必要とする。
【0048】
他のケースでは、保持部が銅ベリリウムから製作され、光学支持部が17・10-6K-1の熱膨張係数を有する銅から製作された。保持部の膨張は、
【数15】
3・50・9・10-6=0.00135mm
光学支持部の膨張は、X・50・17・10-6である。この結果、
【数16】
X=0.00135/0.00085=1.59mm
となる。
【0049】
この特殊なケースでは、光学支持部の形状の制限があって、熱膨張を完全に補償することはできない。
【0050】
光学軸とレーザ溶接点との間に許される最大の距離は、1mmを超えられない。光学支持部は2mmの高さを有するため、レーザ溶接点を、光学支持部の水平中央線から1mm以上離すことはできないからである。
【0051】
この場合、完全な補償を達成することはできないが、固定の精度を向上させるため、部分的な補償を実行することができる。補償無しでは保持部の熱収縮は0.00135mmである。これに対し最大限の補償が実行された場合、結果は、保持部の膨張 − 光学支持部の膨張 = 0.00135 - 0.00085 = 0.0005 mm
にまで低減できる。
【0052】
今日までに提案された解決法は完全に固定されたものではなく、異なる応用例の条件に技術を適応させるためにさまざまな変更を加えて実施できる。例えば、使用される搭載基板はシリコン基板を用いることができる。これによりシリコンを使って製作される超小型電子技術モジュールと製造の互換性を持たせ、そして光学設計を直接集積化できる。シリコンは、約1.4μmと15μmの間の波長を持つレーザ光に対して良好な透過性を有するので、固定作業にCO2レーザビームを使用できる。
【0053】
同じハイブリッドシリコンモジュールに、「TRIMO」(三次元小型化光学系)技術を使ってなされた光学設計と、「SMD」(表面実装デバイス)電子モジュールとを含むこともできる。この解決法は熱膨張の不整合による問題の制限がある。
【0054】
いくつかの特別のケースでは、レーザハンダ付け処理を実行する代わりに、保持部をUV光に露光し、搭載基板と保持部ベースとの間の接着剤を硬化させることにより固定を実行することができる。保持部の位置決めは正しい位置に達するまで行なうことができ、その後接着剤は、搭載基板の下部からUV光ビームに露光され、この結果、接着剤が重合し固定が果たされる。接着剤は、UV光ビームへの露光前は流動体であるので、保持部に応力を導入すること無く保持部を接着剤に接触させることができる。この解決法は、クリープ効果又はエージングによって接着剤の特性が劣化していない場合のみに、必要とされる剛性及び信頼性を達成する結合を得ることを可能にする。
【0055】
多くの場合、使用される光学素子は非常に高価であり、また組立てに相当の作業が必要とされる。この理由から交換素子を提供できないので、通常の固定処理に失敗したいずれの場合にも、搭載基板に素子を固定することを可能にする代替解決法を開発する必要がある。これはスズハンダ付けペーストの一定量を、素子を固定する搭載基板上の領域にコーティングすることにより達成される。光学素子は、その下部がスズハンダ付けペースト中で移動されて、外部の基準点に対して位置決めされる。スズハンダ付けペーストが特に柔らかいという事実は、機械的な応力が発生しない、又は機械的な応力を危惧する必要がないことを意味する。光学素子がレーザビームに対して十分に位置決めされ、搭載基板の下から露光されたとき、スズハンダ付けペーストが溶解され、これによりスズハンダ付けペーストが搭載基板及び保持部にしっかりと接着し、同時に必要な固定が行なわれる。
【0056】
レーザ放射の露光がハンダ付け材を溶解させるために最も適切な方法でないときは、他の解決法を考慮できる。実際に必要な熱は電気抵抗ハンダ付け又は磁力誘導ハンダ付けのいずれかにより導入することができる。
【0057】
(発明を実施するための最良の形態)
本発明の主題は、添付する図面を参照し実施形態を基に、以下により詳しく説明する。
【0058】
図1は、本発明による支持装置を例示する概断面図であり、支持装置は全体として符号1で示される。
【0059】
第一の部分としての保持部3が搭載基板2に固定されている。保持部3は金属薄板を「U」の形状に曲げることにより形成される。保持部3は二つの「U」の側片4及び4'を有し、これらの「U」側片は、曲線状のベース部6と結ばれている。「U」側片4'が「U」側片4よりも長く、自動組立ての際には、ロボットの把持部によってその伸張部分を掴むことができる。搭載基板2の表面にはハンダ接合8に適応した表面領域7を備える。保持部3の「U」形のベース部6において、保持部3は搭載基板2の表面領域7にハンダ付けされる。金属薄板を直接ハンダ付けできない場合金属薄板は予め適当にコーティングされる。
【0060】
第二の部分であり、矩形板の形で示されている光学支持部12は、保持部3の「U」側片4及び4'の間に配置される。光学支持部12は保持部3に固定される。保持部3への固定は、図左側の「U」側片4の端部領域の固定位置13と、右「U」側片4'の、同じ高さの固定位置13'とによって果たされる。プレート状の光学支持部12において、左及び右の側辺15及び15'にそれぞれ、ベース部6から遠く離れた端縁16の近くに固定位置14及び14'を有している。したがって、プレート状の光学支持部12は、単に片側で、あるいは片持ちのようにその端縁16の領域で固定される。この保持部3と光学支持部12との固定の他には、両者の間に剛直な接続は存在しない。保持部3と光学支持部12との接続は、例えばスポット溶接によってなすことができる。
【0061】
光学支持部12は中央開口部17と共に形成され、この中央開口部17において、部品(図示せず)が支持される。
【0062】
図示する支持装置が、例えば温度の増加などの温度変化を受けたとき、搭載基板2にベース部6によって接続されている、二つの「U」側片4及び4'が膨張する。ここでは部品の位置に重要な「U」側片の長手方向の膨張のみを考えた。熱膨張の結果、一端の「U」側片4及び4'上のそれぞれの固定位置13及び13'と、他端のベース部6との間の距離が増加する(上向きの矢印5を参照)。同時に光学支持部12もまた膨張するがそれはベース部6に向けた方向である(下向きの矢印9を参照)。それはプレート状の光学支持部12がその上部においてU側片4及び4'に前記固定位置14及び14'でしっかりと接続されているためである。
【0063】
前記固定位置13及び13'とベース部6との間の「U」側片4及び4'の長さの変化が、固定位置14及び14'と開口部17の中心との間のプレート状の支持部12の長さの変化と同じ大きさになるようにされた場合、温度変化に依存せず、開口部の中心とベース部6との間の距離は一定に保たれる。
【0064】
図2から4に、本発明による支持装置の他の実施形態の組立ての段階を示す。
【0065】
図2は、保持部20がボールソケット型のベース部21から製作され、周辺領域23で囲まれたベース部21の開口部22を有するものを示す。周辺領域23の外形は例えば正方形である。二つの薄板状の垂直のフラップ24及び24'が周辺領域23の二つの対向する辺に設けられる。図1の右「U」側片の場合と同様に、右フラップ24'は、左フラップ24よりも少し長い。保持部20は好適には一体化ユニット21、23、24、及び24'として形成される。
【0066】
図3は、中央貫通開口部27を有する平行六面体形状の支持部26を示す。概略的に示す光学素子28は、前記貫通開口部27に配置される。図から支持部26を二つのフラップ24及び24'の間に挿入できるように支持部26が形成されていることがわかる。
【0067】
図4は、保持部20によって保持された光学支持部26を示す。前記光学支持部26は互いに対向する二つのスポット溶接によって保持部20に接続される。一つのスポット溶接29のみが図示されている。温度変化の場合、二つの薄板状のフラップ24及び24'が、ベース部21に対して膨張又は収縮できる。同様のことが光学支持部26にも起こるが、長さの変化はフラップ24及び24'の長さの変化と反対方向である。熱膨張係数を考慮した、両部分の対応する寸法及び材料の選択により、広い範囲で貫通開口部27の中央とベース部21との間の距離を温度と独立して一定に保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による支持装置の一つの実施形態における温度補償の原理を示す概略図である。
【図2】 本発明による支持装置の一つの実施形態における保持部を示す図である。
【図3】 図2の保持部と部品の支持部とを示す図であり、支持部は保持部と整合される。
【図4】 支持部が固定された保持部を示す図である。
【符号の説明】
1 支持装置、2 基板、3,20 保持部(「第一の部分」)、4 「U」側片、4' (長い)「U」側片、5 上向きの矢印、6 (曲線状の)ベース部、7 (8)に適した(2)の表面領域、8 ハンダ接合、9 下向きの矢印、12 支持部(「第二の部分」)、13 (4)上の固定位置、13' (4')上の固定位置、14,14' (15,15')上の固定位置、15,15' (12)の側辺、16 (12)の端辺、17 (12)の中央開口部、21 ベース部(ボールソケット型)、22 (21)の開口部、23 (21)の周辺領域、24 薄板状の垂直フラップ、24' 薄板状の(長い)垂直フラップ、26 平行六面体形状の支持部(「第二の部分」)、27 中央貫通開口部、28 部品、光学素子、29 スポット溶接(「固定位置」)。
Claims (5)
- 小型化された部品を支持する支持装置であって、第一の部分と第二の部分とを有し、前記第二の部分は固定位置において前記第一の部分に固定されていて、前記第二の部分は前記部品を支持する支持装置において、
前記第一の部分(20)が、凸状の表面を有してボールソケット型の形状を備えるベース部(21)上に二つのフラップ(24,24')を備えて、前記二つのフラップの間に前記第二の部分(26)が配置され、前記二つのフラップは前記固定位置(29)において前記第二の部分の異なる側面上の二個の位置で固定され、
温度変化があるときに、前記第二の部分(26)上の前記部品(28)を支持する支持領域(27)の位置は、前記固定位置(29)から前記ベース部(21)上の基準点に向かう一方方向に伸長し、前記固定位置は、前記ベース部(21)上の基準点から前記一方方向とは逆方向に伸長するように配置され、
前記第二の部分(26)上の前記部品(28)を支持する支持領域(27)の位置は、ベース部(21)上の基準点に対する部品(28)の支持領域(27)の位置に対する前記第一及び第二の部分(それぞれ、20及び26)の熱膨張の影響が少なくとも部分的に相殺されるように、前記第一の部分(20)の材料が有する熱膨張係数α1と、前記第二の部分(26)の材料が有する熱膨張係数α2とに基いて設定されることを特徴とする支持装置。 - 請求項1に記載の小型化された部品の支持装置において、
前記二つのフラップ(24,24')のうち一方のフラップの長さが他方のフラップの長さより長く形成され、前記長さの長いフラップを用いて運搬及び位置決め手段によって、前記第一の部分(20)を保持し、移動させ、位置決めを行なうことができることを特徴とする支持装置。 - 請求項1または2に記載の支持装置において、前記第一の部分(20)が、一体化されたユニットの形を有することを特徴とする支持装置。
- 請求項1から3のいずれか1に記載の支持装置において、前記第一又は第二の部分(20又は26)の少なくとも一方が、金属、セラミック材料、又は金属合金から製作されることを特徴とする支持装置。
- 請求項4に記載の支持装置において、前記金属又はセラミック材料又は金属合金が、Al2O3、又はCu、又はCuBe合金、又はインバールの中から選択されることを特徴とする支持装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19850888.3 | 1998-11-05 | ||
DE19850888A DE19850888A1 (de) | 1998-11-05 | 1998-11-05 | Einrichtung zur Halterung eines miniaturisierten Bauteils |
PCT/EP1999/008207 WO2000028367A1 (de) | 1998-11-05 | 1999-10-29 | Einrichtung zur thermisch stabilen halterung eines miniaturisierten bauteils |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002529789A JP2002529789A (ja) | 2002-09-10 |
JP2002529789A5 JP2002529789A5 (ja) | 2006-12-14 |
JP4532741B2 true JP4532741B2 (ja) | 2010-08-25 |
Family
ID=7886707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000581492A Expired - Lifetime JP4532741B2 (ja) | 1998-11-05 | 1999-10-29 | 小型化された部品を熱的に安定して支持する装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6554244B1 (ja) |
EP (1) | EP1127287B1 (ja) |
JP (1) | JP4532741B2 (ja) |
DE (2) | DE19850888A1 (ja) |
WO (1) | WO2000028367A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6903884B2 (en) * | 2002-11-15 | 2005-06-07 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical device and fixing member used in the device |
EP1424156A1 (en) | 2002-11-29 | 2004-06-02 | Leica Geosystems AG | Process for soldering miniaturized components onto a base plate |
EP1424884A1 (de) * | 2002-11-29 | 2004-06-02 | Leica Geosystems AG | Verfahren zur Montage miniaturisierter Bauteile auf einer Trägerplatte |
DE10335111B4 (de) * | 2003-07-31 | 2006-12-28 | Infineon Technologies Ag | Montageverfahren für ein Halbleiterbauteil |
DE10347450B4 (de) * | 2003-10-13 | 2006-05-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Keramiksubstrate mit integrierten mechanischen Strukturen zum direkten Fassen von optischen Bauelementen |
GB0401998D0 (en) * | 2004-01-30 | 2004-03-03 | Tyco Electronics Raychem Nv | Optical device |
US7064908B2 (en) * | 2004-04-21 | 2006-06-20 | The Boeing Company | Laser beam jitter reduction device on a laser optical bench |
US20060082771A1 (en) * | 2004-10-14 | 2006-04-20 | Agilent Technologies, Inc. | Mount of optical components |
US8651677B2 (en) * | 2010-06-28 | 2014-02-18 | Lexmark International, Inc. | Mounting mechanism for a component of an imaging apparatus, and methods of making and using same |
US8607513B2 (en) * | 2011-12-30 | 2013-12-17 | Panelclaw, Inc. | Thermal growth compensators, systems, and methods |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4116537A (en) * | 1975-10-08 | 1978-09-26 | Honeywell Inc. | Thermal compensation apparatus |
US4268123A (en) * | 1979-02-26 | 1981-05-19 | Hughes Aircraft Company | Kinematic mount |
JPS56113109A (en) | 1980-02-14 | 1981-09-05 | Fujitsu Ltd | Optical system supporting structure |
FR2534663A1 (fr) | 1982-10-15 | 1984-04-20 | Matra | Structure de fixation d'une piece a un support |
DE3634196A1 (de) * | 1986-10-08 | 1988-04-21 | Zeiss Carl Fa | Einrichtung zur verbindung zweier koerper mit unterschiedlichen thermischen ausdehnungskoeffizienten |
JPS647670A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Nec Corp | Air-cooled argon laser oscillator |
SE458072B (sv) | 1987-07-03 | 1989-02-20 | Ericsson Telefon Ab L M | Anordning foer att vid varierande temperatur haalla en optisk lins i oenskat laege i en linsfattning |
JPH03209411A (ja) * | 1989-09-19 | 1991-09-12 | Asahi Optical Co Ltd | 光学部品の保持構造 |
JPH03179416A (ja) * | 1989-12-08 | 1991-08-05 | Toshiba Corp | 光学装置 |
US5493452A (en) * | 1990-10-31 | 1996-02-20 | Olympus Optical Company Limited | Lens retaining barrel |
JP2725493B2 (ja) * | 1991-08-27 | 1998-03-11 | 日本電気株式会社 | 空冷式アルゴンイオンレーザ管 |
JP3493682B2 (ja) | 1993-04-14 | 2004-02-03 | 株式会社ニコン | 鏡筒支持装置及び露光装置 |
DE19533426A1 (de) | 1994-11-15 | 1996-05-23 | Leica Ag | Mechanisches Befestigungssystem für ein modular gefaßtes mikrooptisches Element |
JPH08220409A (ja) * | 1995-02-13 | 1996-08-30 | Nikon Corp | 光学機器 |
DE29603024U1 (de) * | 1996-02-21 | 1996-04-18 | Fa. Carl Zeiss, 89518 Heidenheim | Spannungsfreie Lagerung |
-
1998
- 1998-11-05 DE DE19850888A patent/DE19850888A1/de not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-10-29 JP JP2000581492A patent/JP4532741B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-29 US US09/830,827 patent/US6554244B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-29 DE DE59902079T patent/DE59902079D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-29 EP EP99953953A patent/EP1127287B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-29 WO PCT/EP1999/008207 patent/WO2000028367A1/de active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19850888A1 (de) | 2000-05-11 |
WO2000028367A1 (de) | 2000-05-18 |
EP1127287B1 (de) | 2002-07-17 |
JP2002529789A (ja) | 2002-09-10 |
EP1127287A1 (de) | 2001-08-29 |
US6554244B1 (en) | 2003-04-29 |
DE59902079D1 (de) | 2002-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS61277908A (ja) | 固体の調節固定方法と装置及びそれを用いて製造したデバイス | |
JP4532741B2 (ja) | 小型化された部品を熱的に安定して支持する装置 | |
US6511236B1 (en) | Optoelectronic assembly and method for fabricating the same | |
US7369334B2 (en) | Optical device with alignment compensation | |
JPH09159880A (ja) | 光集束レンズを含むレーザモジュール及び光集束レンズ固定方法 | |
US6546172B2 (en) | Optical device | |
EP1424156A1 (en) | Process for soldering miniaturized components onto a base plate | |
US6546173B2 (en) | Optical module | |
US6443631B1 (en) | Optical module with solder bond | |
JPS59109017A (ja) | エレクトロオプチカルデバイスの調心的配置法 | |
US7759604B2 (en) | Method for high-precision fixing of a miniaturized component on a support plate | |
US20040178462A1 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
US7263260B2 (en) | Low cost, high precision multi-point optical component attachment | |
US11510351B2 (en) | Systems and methods for precision placement of components | |
JPH085876A (ja) | 光伝送用モジュール及びそれに用いられるレンズホルダ部材 | |
EP1259844B1 (en) | Production line for mounting and alignment of an optical component | |
US6603093B2 (en) | Method for alignment of optical components using laser welding | |
JP4436915B2 (ja) | 精密なファイバ・アタッチメント | |
US20040264870A1 (en) | Optical alignment mount with height adjustment | |
WO2002067033A2 (en) | Optical module | |
US20020154870A1 (en) | Optical module with heat dissipation | |
Beckert et al. | Solder Bumping—A Flexible Joining Approach for the Precision Assembly of Optoelectronical Systems | |
JPH06201921A (ja) | 光学部品およびその固定方法 | |
US20020181897A1 (en) | Optical module with electrical signal routing | |
JPH11195842A (ja) | 基板への光学部品の半田付け |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061026 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100420 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100518 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100611 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4532741 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |