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JP4496262B2 - Antistatic composition, molded article, paint, antistatic coating, adhesive, and production method using the same - Google Patents

Antistatic composition, molded article, paint, antistatic coating, adhesive, and production method using the same Download PDF

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JP4496262B2 JP2008269705A JP2008269705A JP4496262B2 JP 4496262 B2 JP4496262 B2 JP 4496262B2 JP 2008269705 A JP2008269705 A JP 2008269705A JP 2008269705 A JP2008269705 A JP 2008269705A JP 4496262 B2 JP4496262 B2 JP 4496262B2
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Description

本発明は、一般に帯電防止性に優れた制電性組成物に関するものであり、より特定的にはブリーディングやブルーミングを起こさないように改良された制電性組成物に関する。この発明はまたそのような制電性組成物の製造方法に関する。この発明はまたさらに、そのような制電性組成物の性質を利用した成形品およびおよび制電性被覆物に関する。この発明はさらに、そのような制電性組成物を含む塗料、制電性被覆物及び粘着剤に関する。   The present invention relates generally to an antistatic composition having excellent antistatic properties, and more specifically to an antistatic composition improved so as not to cause bleeding or blooming. The invention also relates to a method for producing such an antistatic composition. The present invention still further relates to molded articles and antistatic coatings that utilize the properties of such antistatic compositions. The invention further relates to paints, antistatic coatings and adhesives comprising such antistatic compositions.

近年、樹脂に制電性を付与することが重要になってきており、これを達成するために、従来より、界面活性剤等の帯電防止剤を樹脂成形品の表面に塗布したり、帯電防止剤を樹脂中に練り込む方法が知られている。しかしながら、前者の方法では、長時間経過すると制電性が著しく低下するため、持続性を有する高制電性樹脂として、実用化には供し難い。一方、後者の方法では、帯電防止剤と樹脂との相溶性が悪く、帯電防止剤が成形品の表面にブリーディングやブルーミングしてしまい、制電効果が低下するという問題がある。   In recent years, it has become important to impart antistatic properties to resins. To achieve this, antistatic agents such as surfactants have been conventionally applied to the surface of resin molded products, or antistatic properties have been achieved. A method of kneading an agent into a resin is known. However, in the former method, the antistatic property is remarkably lowered after a long time, so that it is difficult to put it into practical use as a highly antistatic resin having durability. On the other hand, the latter method has a problem that the compatibility between the antistatic agent and the resin is poor, and the antistatic agent is bleeding or blooming on the surface of the molded product, thereby reducing the antistatic effect.

また、界面活性剤などの帯電防止剤は、湿度依存性があり、低湿度下では、制電効果が失活する、あるいは、樹脂を成形した後に、帯電防止効果が発現するまでに最低1〜3日掛かり、遅効性であるという問題がある。   Antistatic agents such as surfactants are dependent on humidity, and at low humidity, the antistatic effect is deactivated, or after molding the resin, the antistatic effect is at least 1 to There is a problem that it takes 3 days and is slow-acting.

また、カーボンブラックやカーボンファイバーなどを樹脂に練り込む方法が提案されている。この方法によると、帯電防止性にすぐれ、帯電防止性に持続性がある樹脂組成物が得られる。しかし、この方法では、透明な成形品が得られなかったり、成形品の色の選択が制限されるなどの問題がある。   In addition, a method of kneading carbon black or carbon fiber into a resin has been proposed. According to this method, a resin composition having excellent antistatic properties and durability in antistatic properties can be obtained. However, this method has a problem that a transparent molded product cannot be obtained and selection of the color of the molded product is restricted.

本発明者らは、上記の課題を解決する方法として、アルカリ金属またはアルカリ土類金属であるカチオン、およびイオン解離可能なカチオンによって構成される金属塩類を、−{O(AO)n}−基(Aは炭素数2〜4のアルキレン基、nは1〜7の整数を示す)を有し、且つ全ての分子末端がCH3基および/またはCH2基である脂肪酸エステルに溶解した溶液を、ポリアミド樹脂、ポリエーテルエステルアミド樹脂、脂肪族ポリエステル、ポリ乳酸系樹樹、熱可塑性エラストマーおよびゴムに添加したアルカリ金属またはアルカリ土類金属であるカチオン、およびイオン解離可能なカチオンによって構成される金属塩類の制電性組成物を提案した(たとえば、特許文献1参照)。 As a method for solving the above-described problems, the present inventors have converted a metal salt composed of a cation that is an alkali metal or an alkaline earth metal and a cation capable of ion dissociation into a — {O (AO) n } — group. (A is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 7), and a solution in which all molecular ends are dissolved in a fatty acid ester having a CH 3 group and / or a CH 2 group , Polyamide resins, polyetheresteramide resins, aliphatic polyesters, polylactic acid trees, cations that are alkali metals or alkaline earth metals added to thermoplastic elastomers and rubbers, and metals composed of cations capable of ion dissociation An antistatic composition of salts has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

また、ポリウレタンからなる塩改質静電気散逸型重合体(Salt-modified electrostatic dissipative polymers)の製造方法として、リチウムビス(フルオロアルキルスルホニル)イミドを補助溶剤(co-solvents)に溶解して添加する方法が提案されている(特許文献2参照)。
国際公開WO01/79354 A1公報(特許請求の範囲) 米国特許6、140、405号 (Claim1、14および15)
As a method for producing salt-modified electrostatic dissipative polymers made of polyurethane, lithium bis (fluoroalkylsulfonyl) imide is dissolved in a co-solvent and added. It has been proposed (see Patent Document 2).
International Publication WO01 / 79354 A1 (Claims) US Pat. No. 6,140,405 (Claim 1, 14 and 15)

しかしながら、この制電性組成物に添加する金属塩類の種類によっては、制電性能が十分でない場合があった。また、過塩素酸等の金属塩類を用いると、この制電性組成物から成るフイルムやシ-トを用いて金属類を包装する場合、金属表面を腐食、発錆あるいは汚染するという欠点があった。   However, depending on the type of metal salt added to the antistatic composition, the antistatic performance may not be sufficient. In addition, the use of metal salts such as perchloric acid has the disadvantage that the metal surface is corroded, rusted or contaminated when the metal is packaged using a film or sheet comprising this antistatic composition. It was.

また、特許文献2に記載の方法では、金属塩類を溶解するための補助溶剤(エチレンカーボネート、ジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン、N−メチル−2−ピロリドン等)が制電性組成物の成形品の表面にブリーディングやブルーミングしてしまい、製品を汚染する。また、成形品の表面を払拭することなどにより制電性が低下し、帯電防止性の耐久性が十分でない。特に、高温高湿度の雰囲気下では、ブリーディングやブルーミングが促進されるため、制電性の低下が著しいという問題点がある。   In addition, in the method described in Patent Document 2, an auxiliary solvent (ethylene carbonate, dimethyl sulfoxide, tetramethylene sulfone, N-methyl-2-pyrrolidone, etc.) for dissolving metal salts is used for the molded article of the antistatic composition. Bleeding or blooming on the surface contaminates the product. Further, the antistatic property is lowered by wiping the surface of the molded product, and the durability of the antistatic property is not sufficient. In particular, in a high temperature and high humidity atmosphere, bleeding and blooming are promoted, so that there is a problem that the antistatic property is remarkably lowered.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、熱安定性に優れ、ブリーディング、ブルーミングおよび移行汚染が発生せず、湿度に依存せずに、即効性に優れ、物性の低下を招かず、かつ、優れた制電性が持続する制電性組成物を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, has excellent thermal stability, does not cause bleeding, blooming, and migration contamination, does not depend on humidity, has excellent immediate effect, and causes deterioration in physical properties. It is an object of the present invention to provide an antistatic composition that maintains excellent antistatic properties.

この発明の他の目的は、そのような制電性組成物の製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a method for producing such an antistatic composition.

この発明のさらに他の目的は、そのような制電性組成物を用いた成形品、塗料、制電性被覆物及び粘着剤を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a molded article, a paint, an antistatic coating and an adhesive using such an antistatic composition.

本発明に係る制電性組成物は、重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂を含む組成物中に、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が分散されてなる制電性組成物に係る。上記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、下記一般式(1)で表されるポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物に溶解された状態で分散されており、前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩と前記ポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物とは等モル含まれていることを特徴とする。
(式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基を表し、R2は水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基を表す。nは〜6の整数を表す。)
The antistatic composition according to the present invention is an antistatic composition obtained by dispersing a salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group in a composition containing a polymerizable compound, a resin, an elastomer or an adhesive resin. According to the composition. Salts with anions having the fluoro group and the sulfonyl group is dispersed in a state of being dissolved in the polyalkylene glycol (di or mono) alkyl ether compound represented by the following general formula (1), the fluoro The salt having an anion having a group and a sulfonyl group and the polyalkylene glycol (di or mono) alkyl ether compound are contained in an equimolar amount .
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 is .n represents an alkyl group having 1 to 12 carbon hydrogen or C denotes an integer of 3-6.)

例えば、上記塩として、ビス(フルオロアルキルスルホニル)イミドリチウムLi(CF3SO22Nを用い、これを例えばテトラエチレングリコールジメチルエーテルに溶解した状態というのは、下記式(2)に示すように、極性基であるエーテル基がLi+イオンに配位している状態であり、この状態で組成物中に分散している。Li+イオンはエーテル酸素に取り囲まれ、(CF3SO22N−イオンから離れ、裸の状態になっており、制電性に大きく寄与する。 For example, bis (fluoroalkylsulfonyl) imidolithium Li (CF 3 SO 2 ) 2 N is used as the salt and is dissolved in, for example, tetraethylene glycol dimethyl ether as shown in the following formula (2). In this state, the ether group, which is a polar group, is coordinated to the Li + ion, and is dispersed in the composition in this state. Li + ions are surrounded by ether oxygen, away from (CF 3 SO 2 ) 2 N− ions, and are in a bare state, greatly contributing to antistatic properties.

特に、リチウム塩とポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物との等モル混合物は、ルイス酸・塩基型の錯イオンを形成し、この錯体が一種のイオン液体として振る舞い、特に大きく制電性に寄与する。
In particular, an equimolar mixture of a lithium salt and a polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound forms a complex acid of Lewis acid / base type, and this complex behaves as a kind of ionic liquid. Contribute to.

この発明によれば、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が、組成物中で、樹脂あるいは/およびエラストマーの物性を維持しつつ、制電性を発揮する。さらに、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、組成物を構成する分子と相溶性に優れるので、ブリーディング、ブルーミング、および移行汚染が発生せず、湿度に依存せずに、即効性に優れ、かつ優れた制電性が持続する制電性組成物を得ることができる。   According to this invention, the salt provided with the anion which has a fluoro group and a sulfonyl group exhibits antistaticity, maintaining the physical property of resin or / and an elastomer in a composition. In addition, salts with anions having fluoro and sulfonyl groups are highly compatible with the molecules that make up the composition, so there is no bleeding, blooming, or migration contamination, and no effect on humidity. It is possible to obtain an antistatic composition that has excellent properties and maintains excellent antistatic properties.

本明細書で、「分散」とは、上記塩の溶液が、組成物中に微液滴状になって散在あるいは溶込んでいる状態をいう。   In this specification, “dispersion” refers to a state in which the salt solution is dispersed or dissolved in the form of fine droplets in the composition.

また、上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、上記ポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物に溶解しやすく、濃度を濃くすることができ、これを分散させることにより、フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩を、多量にかつ均一に、上記重合性化合物、樹脂、エラストマーまたは粘着性樹脂中に取り込ませることができる。   In addition, the salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group can be easily dissolved in the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound, and the concentration thereof can be increased. A salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group can be incorporated into the polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin in a large amount and uniformly.

上記樹脂は、ポリオレフィン系重合体、ポリスチレン系重合体、ポリアミド系重合体、塩化ビニル系重合体、ポリアセタ−ル系重合体、ポリエステル系重合体、ポリウレタン系重合体、ポリカーボネート系重合体、アクリレート/メタクリレート系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体、熱可塑性エラストマー系重合体、不飽和ポリエステル系重合体、エポキシ系重合体、フェノール系重合体、ジアリール系重合体、メラミン系重合体、液晶ポリエステル系重合体、フッ素系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリフェニレンエーテル系重合体、ポリイミド系重合体、及びシリコーン系重合体から選択された1種であればよい。この中でも極性基を有するものは特に好ましく用いられる。   The above resins are polyolefin polymer, polystyrene polymer, polyamide polymer, vinyl chloride polymer, polyacetal polymer, polyester polymer, polyurethane polymer, polycarbonate polymer, acrylate / methacrylate. Polymer, polyacrylonitrile polymer, thermoplastic elastomer polymer, unsaturated polyester polymer, epoxy polymer, phenol polymer, diaryl polymer, melamine polymer, liquid crystal polyester polymer, It may be one kind selected from a fluorine-based polymer, a polysulfone-based polymer, a polyphenylene ether-based polymer, a polyimide-based polymer, and a silicone-based polymer. Among these, those having a polar group are particularly preferably used.

上記エラストマーは、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロロヒドリンゴム、塩素化ポリエチレン、シリコ−ンゴム、フッ素ゴム及びウレタンゴムから選択された1種であればよい。   The elastomer is natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, styrene butadiene rubber, butyl rubber, ethylene propylene diene rubber, ethylene propylene rubber, chloroprene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, chlorosulfonated polyethylene, epichlorohydrin rubber, chlorinated polyethylene, Any one selected from silicone rubber, fluororubber and urethane rubber may be used.

上記粘着性樹脂としては、粘着性を有する(メタ)アクリル系重合体を挙げることができる。炭素数が4〜12のアクリル系モノマーを共重合に供することが好ましい。さらに好ましくは、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートである。   As said adhesive resin, the (meth) acrylic-type polymer which has adhesiveness can be mentioned. It is preferable to use an acrylic monomer having 4 to 12 carbon atoms for copolymerization. More preferred are butyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate.

上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンは、ビス(フルオロアルキルスルホニル)イミドイオン、トリス(フルオロアルキルスルホニル)メチドイオン及びフルオロアルキルスルホン酸イオンからなる群から選ばれた陰イオンであるのが好ましい。   The anion having a fluoro group and a sulfonyl group is preferably an anion selected from the group consisting of a bis (fluoroalkylsulfonyl) imide ion, a tris (fluoroalkylsulfonyl) methide ion, and a fluoroalkylsulfonic acid ion.

上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、アルカリ金属、2A族元素、遷移金属、両性金属のいずれかの陽イオンと、上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンとからなる塩であるのが好ましい。   The salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is a salt comprising an anion having an alkali metal, a group 2A element, a transition metal or an amphoteric metal, and the anion having the fluoro group and the sulfonyl group. Is preferred.

上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、特にビス(フルオロアルキルスルホニル)イミドのアルカリ金属塩、トリス(フルオロアルキルスルホニル)メチドのアルカリ金属塩及びトリフルオロアルキルスルホン酸のアルカリ金属塩からなる群から選ばれた塩であるのが好ましい。   The salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group includes, in particular, an alkali metal salt of bis (fluoroalkylsulfonyl) imide, an alkali metal salt of tris (fluoroalkylsulfonyl) methide, and an alkali metal salt of trifluoroalkylsulfonic acid. A salt selected from the group consisting of

本明細書で、重合性化合物とは、重合する官能基を有する化合物をいい、例えばアクリレート基、メタクリレート基、ビニル基などを有する重合性化合物が挙げられる。態様としては、モノマー、オリゴマー、あるいは活性エネルギー線硬化性官能基を分子内に3つ以上有するものが挙げられる。   In the present specification, the polymerizable compound means a compound having a functional group to be polymerized, and examples thereof include a polymerizable compound having an acrylate group, a methacrylate group, a vinyl group, and the like. Examples of the mode include monomers, oligomers, and those having three or more active energy ray-curable functional groups in the molecule.

モノマーとしては、例えば、単官能性のもの:2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン、イソボルニル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル、スチレンなど、二官能性基のもの:ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレンなど、他官能基のもの:トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンの3モルプロピレンオキサイド付加物のトリ(メタ)アクリレート、トリメチルプロパンの6モルエチレンオキサイド付加物のトリ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ジペンタンエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのカプロラクトン付加物のヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the monomer include monofunctional monomers: 2-ethylhexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl. (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, acryloylmorpholine, isobornyl (meth) acrylate, vinyl acetate , Styrene and other bifunctional groups: neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate 1,4-butanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, propylene, etc. Base group: trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane 3 mol propylene oxide adduct tri (meth) acrylate, trimethylpropane 6 mol ethylene oxide adduct tri ( (Meth) acrylate, glycerin propoxytri (meth) acrylate, dipentane erythritol hexa (meth) acrylate, hexapenta (meth) of caprolactone adduct of dipentaerythritol Acrylate and the like.

粘着性を確保するという点では、炭素数が4〜12のアクリルモノマーを共重合することが好ましい。   From the standpoint of securing adhesiveness, it is preferable to copolymerize an acrylic monomer having 4 to 12 carbon atoms.

さらに、活性化エネルギー線硬化性の(メタ)アクリレート系化合物として、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−メチル−2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸5−ビニロキシペンチル、(メタ)アクリル酸6−ビニロキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシメチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸p−ビニロキシメチルフェニルメチル、(メタ)アクリル酸2−(ビニロキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(ビニロキシエトキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(ビニロキシエトキシエトキシエトキシ)エチルなどを挙げることができる。   Furthermore, as the activated energy ray-curable (meth) acrylate-based compound, 2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1-methyl-2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid 2-vinyloxypropyl, (meth) acrylic acid 4-vinyloxybutyl, (meth) acrylic acid 4-vinyloxycyclohexyl, (meth) acrylic acid 5-vinyloxypentyl, (meth) acrylic acid 6-vinyl Loxycyclohexyl, 4-vinyloxymethylcyclohexyl (meth) acrylate, p-vinyloxymethylphenylmethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylic acid 2- ( Vinyloxyethoxyethoxy) ethyl, (meth) acrylic acid 2- , And the like vinyloxyethoxy ethoxyethoxy) ethyl.

オリゴマーとしては、例えば、不飽和ポリエステル、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、アクリル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。この中でも、ポリエチレングリコールのモノ又はジ(メタ)アクリレートは好ましく用いられる。その中でもオキシエチレン単位を少なくとも6個有するものが特に好ましく用いられる。ポリエチレングリコールのモノ又はジ(メタ)アクリレートは帯電防止性を有しており、フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩と相乗してその効果を高める。   Examples of the oligomer include unsaturated polyester, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, acrylic (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate. Among these, polyethylene glycol mono- or di (meth) acrylate is preferably used. Among them, those having at least 6 oxyethylene units are particularly preferably used. Polyethylene glycol mono- or di (meth) acrylate has antistatic properties and enhances its effect in synergy with salts with anions having fluoro and sulfonyl groups.

3つ以上官能基を有するオリゴマーとしては、例えば、ジイソシアネート:ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートなどと、水酸基含有(メタ)アクリレート:2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの単官能のもの、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートなどの3官能以上のものとを反応してなるものなどが挙げられる。   Examples of the oligomer having three or more functional groups include diisocyanate: hexamethylene diisocyanate, isophorone dicyanate, tolylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate dicyclohexylmethane diisocyanate, and 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate. , Lysine diisocyanate, norbornane diisocyanate and the like, and hydroxyl group-containing (meth) acrylate: monofunctional ones such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipenta Reacted with tri- or higher functional groups such as erythritol penta (meth) acrylate And the like.

上記ポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物としては、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ヘプタエチレングリコールジメチルエーテル、ヘキサエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、(ドデシルオキシ)トリエチレングリコールモノメチルエーテル及び(ドデシルオキシ)テトラエチレングリコールモノメチルエーテルなどを挙げることができる。 Examples of the polyalkylene glycol ( di or mono ) alkyl ether compound include triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, heptaethylene glycol dimethyl ether, hexaethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether, (dodecyloxy) ) Triethylene glycol monomethyl ether and (dodecyloxy) tetraethylene glycol monomethyl ether.

上記組成物中の全ての重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂100質量部に対して、上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、0.01質量部以上30質量部以下の割合で配合されるのが好ましい。   With respect to 100 parts by mass of all the polymerizable compounds, resins, elastomers or adhesive resins in the composition, the salt provided with the anion having the fluoro group and the sulfonyl group is 0.01 parts by mass or more and 30 parts by mass. It is preferable to mix | blend in the following ratio.

このように規制するのは、上記陰イオンを備えた塩の配合量が、0.01質量部未満であると、制電性が十分発揮されないからである。一方、上記陰イオンを備えた塩の配合量が、30質量部を超えると、制電性付与効果が飽和するので、コスト高を招来するという問題があるからである。   The reason for this restriction is that the antistatic property is not sufficiently exhibited when the amount of the salt having the anion is less than 0.01 parts by mass. On the other hand, if the amount of the salt having an anion exceeds 30 parts by mass, the antistatic effect is saturated, resulting in a problem of high cost.

上記組成物は、さらに重合体型帯電防止剤を含んでもよい。本発明の組成物に重合体型帯電防止剤を含めると、上記陰イオンを備えた塩を安定化することができることが見出された。また、上記陰イオンを備えた塩はポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物に溶解された状態で分散されるので、この塩はポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物と親和性を有する重合体型帯電防止剤の存在する所に、集まり、両者の親和力により安定化したものと考えられる。このような重合体型帯電防止剤としては、ポリエ−テルブロックポリオレフィン共重合体、ポリオキシアルキレン系共重合体又はエチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジル共重合体が挙げられる。   The composition may further contain a polymer type antistatic agent. It has been found that the inclusion of a polymeric antistatic agent in the composition of the present invention can stabilize the salt with the anion. In addition, since the salt having the anion is dispersed in a state dissolved in the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound, the salt has an affinity for the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound. It is considered that the polymer-type antistatic agent has gathered in the presence of the antistatic agent and is stabilized by the affinity between them. Examples of such a polymer type antistatic agent include a polyether block polyolefin copolymer, a polyoxyalkylene copolymer, and an ethylene oxide-propylene oxide-allyl glycidyl copolymer.

上記重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂100質量部に対して、上記重合体型帯電防止剤を、0.1質量部以上65質量部以下の割合で含有していればよい。   What is necessary is just to contain the said polymer type antistatic agent in the ratio of 0.1 to 65 mass parts with respect to 100 mass parts of said polymeric compounds, resin, an elastomer, or adhesive resin.

このように規制するのは、上記重合体型帯電防止剤の配合量が0.1質量部未満であると、制電性が十分発揮されないからである。一方、上記重合体型帯電防止剤の配合量が65質量部を超えると、制電性付与効果が飽和するので、コスト高を招来するという問題があるからである。また、組成物の物性が失われることがあるからである。   The reason for this restriction is that the antistatic property is not sufficiently exhibited when the blending amount of the polymer type antistatic agent is less than 0.1 parts by mass. On the other hand, when the blending amount of the polymer type antistatic agent exceeds 65 parts by mass, the antistatic effect is saturated, resulting in a problem of high cost. Moreover, it is because the physical property of a composition may be lost.

この発明のさらに他の局面に従う製造方法は、重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂を含む組成物中に、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が分散されてなる制電性組成物の製造方法に係る。まず、上記一般式(1)で表されるポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物中に、該化合物と等モルの、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩を、溶解してなる塩溶液を準備する。上記塩溶液と、上記重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂とを一度に配合し、混練し、組成物を形成する。 According to still another aspect of the present invention, there is provided a production method in which a salt containing an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dispersed in a composition containing a polymerizable compound, a resin, an elastomer or an adhesive resin. The present invention relates to a method for producing a composition. First, the polyalkylene glycol in (di or mono) alkyl ether compound represented by the general formula (1), equimolar with said compound, a salt with an anion having a fluoro group and the sulfonyl group, the dissolved Prepare a salt solution. The salt solution and the polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin are blended at a time and kneaded to form a composition.

この方法によると、フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、重合性化合物、樹脂又はエラストマ−に均一に親和することが見出された。ブリーディング、ブルーミング及び移行汚染が発生せず、湿度に依存せずに、即効性に優れ、物性の低下を招かず、かつ優れた制電性が持続する制電性組成物が得られた。   According to this method, it has been found that a salt with an anion having a fluoro group and a sulfonyl group has a uniform affinity for the polymerizable compound, resin or elastomer. An antistatic composition that does not cause bleeding, blooming, and migration contamination, does not depend on humidity, has excellent immediate effect, does not cause deterioration in physical properties, and maintains excellent antistatic properties, was obtained.

この発明のさらに他の局面に従う製造方法は、重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂を含む組成物中に、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が分散されてなる制電性組成物の製造方法に係る。上記一般式(1)で表されるポリアルキレングリコール(ジ又はモノ(以下ジ/モノと略す))アルキルエーテル化合物中に、該化合物と等モルの、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩を、溶解してなる塩溶液を準備する。上記塩溶液(第1成分)と、重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂(第2成分)とを混練し、組成物を形成する。上記組成物を、さらに前記重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂(第2成分)とを混練あるいはブレンドする。

According to still another aspect of the present invention, there is provided a production method in which a salt containing an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dispersed in a composition containing a polymerizable compound, a resin, an elastomer or an adhesive resin. The present invention relates to a method for producing a composition. The polyalkylene glycol ( di or mono (hereinafter abbreviated as di / mono) ) alkyl ether compound represented by the general formula (1) is provided with an anion having a fluoro group and a sulfonyl group in an equimolar amount with the compound. the salt, preparing a salt solution prepared by dissolving. The salt solution (first component) and the polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin (second component) are kneaded to form a composition. The composition is further kneaded or blended with the polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin (second component).

上記第1成分と第2成分の混練によって、上記塩の溶液が、組成物中に微液滴状になって散在あるいは溶け込む。そして、塩が組成物中に溶け込んだ状態で、さらに重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂(第2成分)と混練あるいはブレンドするので、塩は、重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂(第2成分)に、さらに均一に親和した状態に分散される。   By the kneading of the first component and the second component, the salt solution is dispersed or dissolved in the composition in the form of fine droplets. In addition, since the salt is dissolved in the composition, it is further kneaded or blended with the polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin (second component), so that the salt is polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive. The resin (second component) is more uniformly dispersed.

本発明は、上記制電性組成物を含む材料を成形してなる種々の成形品に係る。また、本発明の制電性組成物を用いて、フイルム、塗料、液晶パネル用カラーレジスト組成物等を得ることができる。また、本発明の制電性組成物を成形表面で硬化させて、制電性の被覆物とすることもできる。上記成形品は、液晶パネルのカラーフィルタを含むものとする。   The present invention relates to various molded articles obtained by molding a material containing the antistatic composition. In addition, films, paints, color resist compositions for liquid crystal panels, and the like can be obtained using the antistatic composition of the present invention. Further, the antistatic composition of the present invention can be cured on the molding surface to form an antistatic coating. The molded product includes a color filter of a liquid crystal panel.

また、本発明の制電性粘着剤は、各種ディスプレイ、偏光板等の光学部材の表面保護粘着フィルム用の粘着剤として、好適な透明性にすぐれ、着色もほとんどなく、再剥離性にすぐれ、剥離時の剥離帯電が少ない帯電防止粘着剤を提供する。   In addition, the antistatic adhesive of the present invention is excellent in transparency as a pressure-sensitive adhesive for surface protection adhesive films of optical members such as various displays and polarizing plates, has almost no coloring, and has excellent removability. Provided is an antistatic pressure-sensitive adhesive with little peeling charge at the time of peeling.

本発明では、フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩を、上記一般式(1)で表されるポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物中に溶解し、重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂を含む組成物中に添加・配合する。本発明で用いるフルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂を含む組成物中に、均一に親和する。このような陰イオンを備えた塩は、高い導電率、高い耐熱性、不燃性を有するので、制電性・熱安定性に優れ、金属を腐食せず、湿度などの環境によらない制電性組成物を得ることができる。   In the present invention, a salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dissolved in the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound represented by the above general formula (1) to obtain a polymerizable compound, resin Addition and blending into a composition containing an elastomer or adhesive resin. The salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group used in the present invention has a uniform affinity in a composition containing a polymerizable compound, a resin, an elastomer or an adhesive resin. Such an anion-containing salt has high electrical conductivity, high heat resistance, and nonflammability, so it has excellent antistatic and thermal stability, does not corrode metals, and does not depend on the environment such as humidity. Sex composition can be obtained.

以下、本発明の好ましい実施の形態を説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.

本発明に用いられるフルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、ビス(フルオロアルキルスルホニル)イミドイオン、トリス(フルオロアルキルスルホニル)メチドイオン、フルオロアルキルスルホン酸イオンからなる群の内の少なくとも1つから選ばれた陰イオンと、アルカリ金属、2A族元素、遷移金属、両性金属からなる群の少なくとも1つから選ばれた陽イオンからなる。   The salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group used in the present invention is at least one member selected from the group consisting of a bis (fluoroalkylsulfonyl) imide ion, a tris (fluoroalkylsulfonyl) methide ion, and a fluoroalkylsulfonic acid ion. And an anion selected from the group consisting of an alkali metal, a group 2A element, a transition metal, and an amphoteric metal.

上記陰イオン及び陽イオンによって構成される塩は数多くあるが、中でも、ビス(フルオロアルキルスルホニル)イミドイオン、トリス(フルオロアルキルスルホニル)メチドイオン、フルオロアルキルスルホン酸イオンからなり、具体的には、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウムLi(CF3SO22N、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリカリウムK(CF3SO22N、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドナトリウムNa(CF3SO22N、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチドリチウムLi(CF3SO23C、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチドカリウムK(CF3SO23C、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチドナトリウムNa(CF3SO23C、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムLi(CF3SO3)、トリフルオロメタンスルホン酸カリウムK(CF3SO3)、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウムNa(CF3SO3)が好ましい。中でも、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム、及びトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチドリチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムが挙げられる。特に、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム及びトリフルオロメタンスルホン酸リチウム好ましく、これらを少量添加するだけで、上記効果が一層発揮されることになる。 There are many salts composed of the above anions and cations. Among them, bis (fluoroalkylsulfonyl) imide ion, tris (fluoroalkylsulfonyl) methide ion, and fluoroalkylsulfonic acid ion are used. Lomethanesulfonyl) imidolithium Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, bis (trifluoromethanesulfonyl) imidopotassium K (CF 3 SO 2 ) 2 N, sodium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Na (CF 3 SO 2 ) 2 N, tris (trifluoromethanesulfonyl) Mechidorichiumu Li (CF 3 SO 2) 3 C, tris (trifluoromethanesulfonyl) Mechidokariumu K (CF 3 SO 2) 3 C, tris (trifluoromethanesulfonyl) methide sodium Na (C 3 SO 2) 3 C, lithium trifluoromethanesulfonate Li (CF 3 SO 3), potassium trifluoromethanesulfonate K (CF 3 SO 3), sodium trifluoromethanesulfonate Na (CF 3 SO 3) are preferred. Among them, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium, tris (trifluoromethanesulfonyl) methide lithium, and lithium trifluoromethanesulfonate can be given. In particular, lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium and lithium trifluoromethanesulfonate are preferable, and the above effect can be further exerted only by adding a small amount thereof.

[重合性化合物、樹脂、エラストマーおよび粘着性樹脂]   [Polymerizable compound, resin, elastomer and adhesive resin]

本発明の組成物に用いられる重合性化合物、樹脂、エラストマーおよび粘着性樹脂は、特に制限がなく、公知のものを使用することができる。   The polymerizable compound, resin, elastomer and adhesive resin used in the composition of the present invention are not particularly limited, and known ones can be used.

使用される樹脂としては、例えば、ポリオレフィン系重合体、ポリスチレン系重合体、ポリアミド系重合体、塩化ビニル系重合体、ポリアセタ−ル系重合体、ポリエステル系重合体、ポリウレタン系重合体、ポリカ−ボネ−ト系重合体、アクリレ−ト/メタクリレ−ト系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体、熱可塑性エラストマ−系重合体、不飽和ポリエステル系重合体、エポキシ系重合体、フェノ−ル系重合体、ジアリ−ル系重合体、メラミン系重合体、液晶ポリエステル系重合体、フッ素系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリフェニレンエ−テル系重合体、ポリイミド系重合体、及びシリコ−ン系重合体などが挙げられる。   Examples of the resin to be used include polyolefin polymers, polystyrene polymers, polyamide polymers, vinyl chloride polymers, polyacetal polymers, polyester polymers, polyurethane polymers, polycarbonates. -Polymers, acrylate / methacrylate polymers, polyacrylonitrile polymers, thermoplastic elastomer polymers, unsaturated polyester polymers, epoxy polymers, phenol polymers, Diallyl polymers, melamine polymers, liquid crystal polyester polymers, fluorine polymers, polysulfone polymers, polyphenylene ether polymers, polyimide polymers, silicone polymers, etc. Can be mentioned.

使用されるエラストマ−としては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロロヒドリンゴム、塩素化ポリエチレン、シリコ−ンゴム、フッ素ゴム、及びウレタンゴム等が挙げられる。   Examples of the elastomer used include natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, styrene butadiene rubber, butyl rubber, ethylene propylene diene rubber, ethylene propylene rubber, chloroprene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, chlorosulfonated polyethylene, and epichlorohydride. Rubber, chlorinated polyethylene, silicone rubber, fluororubber, urethane rubber and the like.

使用される重合性化合物としては、例えばアクリレート基、メタクリレート基、ビニル基などを有する重合性化合物が挙げられる。態様としては、モノマー、オリゴマー、あるいは活性エネルギー線硬化性官能基を分子内に3つ以上有するものが挙げられる。   Examples of the polymerizable compound used include polymerizable compounds having an acrylate group, a methacrylate group, a vinyl group, and the like. Examples of the mode include monomers, oligomers, and those having three or more active energy ray-curable functional groups in the molecule.

また、これらの重合性化合物、樹脂、エラストマーおよび粘着性樹脂は、1種類に限定されず、複数の重合性化合物、樹脂及びエラストマーを組合せて使用してもよい。
[配合割合]
Moreover, these polymerizable compounds, resins, elastomers and adhesive resins are not limited to one type, and a plurality of polymerizable compounds, resins and elastomers may be used in combination.
[Combination ratio]

本発明の制電性組成物は、重合性化合物、樹脂又はエラストマー100質量部に対して、上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩を、0.01質量部以上30質量部以下、さらに好ましくは、0.1質量部以上15質量部以下含む。
[重合体型帯電防止剤]
The antistatic composition of the present invention comprises 0.01 parts by mass or more and 30 parts by mass or less of a salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound, resin or elastomer. More preferably, the content is 0.1 parts by mass or more and 15 parts by mass or less.
[Polymer type antistatic agent]

本発明の制電性組成物は、重合性化合物、樹脂又はエラストマーとフルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンの2成分であっても、十分に効果を奏する。しかし、さらに、重合体型帯電防止剤を含めることで、優れた制電性を発揮することが見出された。すなわち、上記陰イオンを備えた塩は、ポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物中に溶解された状態で分散されるので、この溶解した塩は、親和性を有する重合型帯電防止剤の存在するところに集まり、局在化し、2種類の帯電防止剤の相乗効果によって制電性を強く発揮したものと考えられる。   The antistatic composition of the present invention is sufficiently effective even when it is a two-component of a polymerizable compound, resin or elastomer and an anion having a fluoro group and a sulfonyl group. However, it has also been found that excellent antistatic properties are exhibited by including a polymer-type antistatic agent. That is, since the salt having an anion is dispersed in a polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound in a dissolved state, the dissolved salt is a polymerized antistatic agent having an affinity. It is thought that the antistatic property was exerted strongly by the synergistic effect of the two types of antistatic agents that gathered and localized where they existed.

使用できる重合型帯電防止剤としては、ポリエーテルブロックポリオレフィン系共重合体、ポリオキシアルキレン系共重合体、ポリエーテルエステルアミド系重合体またはエチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジル系共重合体が挙げられる。   Examples of the polymerizable antistatic agent that can be used include polyether block polyolefin copolymers, polyoxyalkylene copolymers, polyether ester amide polymers, and ethylene oxide-propylene oxide-allyl glycidyl copolymers. .

このような重合体型帯電防止剤は、上記重合性化合物、樹脂又はエラストマー100質量部に対して、0.05質量部以上65質量部以下、好ましくは、0.1質量部以上50質量部以下の割合で含有させればよい。   Such a polymer-type antistatic agent is 0.05 to 65 parts by mass, preferably 0.1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound, resin or elastomer. What is necessary is just to contain by a ratio.

[他の添加剤]   [Other additives]

本発明の制電性組成物には、さらに酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、着色剤、顔料、抗菌・抗カビ剤、耐光剤、可塑剤、粘着付与剤、分散剤、消泡剤、硬化触媒、硬化剤、レベリング剤、撥水剤、カップリング剤、フィラー、加硫剤、キレート剤、加硫促進剤などの公知の添加剤を必要に応じて添加することができる。   The antistatic composition of the present invention further includes an antioxidant, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, a flame retardant, a flame retardant aid, a colorant, a pigment, an antibacterial / antifungal agent, a light resistant agent, a plasticizer, and an adhesive. As necessary, known additives such as an imparting agent, a dispersing agent, an antifoaming agent, a curing catalyst, a curing agent, a leveling agent, a water repellent, a coupling agent, a filler, a vulcanizing agent, a chelating agent, and a vulcanization accelerator. Can be added.

[製造方法]   [Production method]

本発明の組成物及び成形品は、例えば、以下のようにして製造される。   The composition and molded article of the present invention are produced, for example, as follows.

先ず、下記一般式(1)で表されるポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物中に、フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩を溶解させる。フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、ポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物100質量部に対して、0.1質量部以上200質量部の割合になるように溶解する。
(式中、R1は炭素数1〜12の有機残基を表し、R2は水素原子又は炭素数1〜12の有機残基を表す。nは2〜6の整数を表す。)
First, a salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dissolved in a polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound represented by the following general formula (1). The salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dissolved in a proportion of 0.1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound. .
(In the formula, R 1 represents an organic residue having 1 to 12 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6).

樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂に、上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオン を備えた塩を溶解させたポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物を添加して、制電性組成物を製造するためには、両成分の所定の量を公知の方法を用いて混合すればよい。例えば、ヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、スーパーミキサー、タンブラーなどでドライブレンドを行うこともできる。また、単軸または二軸押出機、バンバリーミキサー、プラストミル、コニーダー、ロールなどで溶融混合をおこなってもよい。必要に応じて、窒素などの不活性ガス雰囲気下で行うこともできる。   An antistatic composition is produced by adding a polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound in which a salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dissolved to a resin, elastomer or adhesive resin. In order to achieve this, a predetermined amount of both components may be mixed using a known method. For example, dry blending can be performed with a Henschel mixer, a ribbon blender, a super mixer, a tumbler, or the like. Further, melt mixing may be performed with a single or twin screw extruder, a Banbury mixer, a plast mill, a kneader, a roll, or the like. As needed, it can also carry out in inert gas atmosphere, such as nitrogen.

上記製法によって得られたポリマー及び/又は樹脂またはゴム配合物は、圧縮成形、トランスファー成形、押出成形、吹込成形、カレンダー加工、注形、ペースト加工、粉末化、反応成形、熱成形、ブロー成形、回転成形、真空成形、キャスト成形、ガスアシスト成形などの成形に用いられる公知の方法によって成形することができる。また、本発明の制電性組成物を、制電性塗料、制電性粘着剤としても用いることができる。   The polymer and / or resin or rubber compound obtained by the above production method is compression molding, transfer molding, extrusion molding, blow molding, calendering, casting, paste processing, powdering, reaction molding, thermoforming, blow molding, It can shape | mold by the well-known method used for shaping | molding, such as rotational molding, vacuum forming, cast molding, and gas assist molding. Further, the antistatic composition of the present invention can also be used as an antistatic paint or an antistatic adhesive.

本発明の成形品は、家電機器部品、電子機器部品、電子材料製造機器、情報事務機器部品、通信機器、ハウジング部品、光学機械部材、自動車用部品、工業用部材、家庭用雑貨品、包装流通部材など、長期間保持して高い制電性を必要とする製品、その他の各種パーツ、パッケイジ、チューブ、被覆、容器関係などの静電気対策関係に好適に使用することができる。   The molded product of the present invention includes home appliance parts, electronic equipment parts, electronic material manufacturing equipment, information office equipment parts, communication equipment, housing parts, optical machine parts, automotive parts, industrial parts, household goods, packaging distribution It can be suitably used for static electricity countermeasures such as products such as members that need to be held for a long period of time and require high antistatic properties, other various parts, package, tube, coating, and container.

以下に実施例に基づいて、本発明の内容を具体的に説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるものではない。   The contents of the present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited to the examples.

以下の実施例、比較例において、表面抵抗率及び体積抵抗率の測定は、URSプローブ(三菱油化(株)社製、ハイレスタUP(登録商標))を用いて、JIS K 9611に準じて行い、印加電圧は、100ボルト、500ボルトで測定した。   In the following examples and comparative examples, surface resistivity and volume resistivity are measured according to JIS K 9611 using a URS probe (manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd., Hiresta UP (registered trademark)). The applied voltage was measured at 100 volts and 500 volts.

また、環境依存性は、次式(1)に従って算出した。   The environment dependency was calculated according to the following equation (1).

ΔLog10ρv= Log10ρv(10℃、 相対湿度15%)−Log10ρv(32.5℃、相対湿度90%)・・・・(1) ΔLog 10 ρv = Log 10 ρv (10 ° C., relative humidity 15%) − Log 10 ρv (32.5 ° C., relative humidity 90%) (1)

ここで、ρvは、体積抵抗率を表す。   Here, ρv represents volume resistivity.

ブリ−ドの評価は、次の方法により行なった。   The evaluation of the blade was performed by the following method.

幅 6cm×長さ 6cm×厚さ0.3cmのフイルムゲート式の試験片を作成し、温度40℃、相対湿度90%の雰囲気下で7日間放置し、7日間経過後の試験片の状態を下記の標準により、目視評価した。以下に示す表で、◎はブリード性が全く認められない場合を示す。   A film gate type test piece of width 6 cm x length 6 cm x thickness 0.3 cm is prepared and left for 7 days in an atmosphere at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%, and the state of the test piece after 7 days has passed. Visual evaluation was performed according to the following standards. In the table shown below, ◎ indicates a case where no bleeding property is observed.

(実施例1〜5)   (Examples 1-5)

ポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物100質量部に、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム Li(CF3SO22Nまたはトリフルオロメタンスルホン酸リチウムLi(CF3SO3)を所定量添加してかき混ぜて溶解させ、単一相の溶液を得た。次いで、表1に示すように、樹脂及び/またはエラストマーを100質量部に対して高分子型帯電防止剤を所定の質量部を加え、さらに上記ポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物中を所定量配合した。次に、樹脂及び/またはエラストマーの加工温度に設定したニーダーを用いて、混練した後、射出成形して、幅6cm×長さ6cm×厚さ0.3cmの実施例1〜5の試験片を作成した。 A predetermined amount of bis (trifluoromethanesulfonyl) imidolithium Li (CF 3 SO 2 ) 2 N or lithium trifluoromethanesulfonate Li (CF 3 SO 3 ) is added to 100 parts by mass of the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound. The solution was stirred and dissolved to obtain a single-phase solution. Next, as shown in Table 1, a predetermined part by mass of a polymer type antistatic agent is added to 100 parts by mass of the resin and / or elastomer, and further in the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound. A predetermined amount was blended. Next, after kneading using a kneader set at the processing temperature of the resin and / or elastomer, injection molding was performed, and the test pieces of Examples 1 to 5 having a width of 6 cm, a length of 6 cm, and a thickness of 0.3 cm were obtained. Created.

(比較例1〜5)   (Comparative Examples 1-5)

上記実施例において、上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩のポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物溶液を添加しなかった以外は、実施例1〜5と同様にして、比較例1〜5の試験片を作成した。   In the above Example, except that the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound solution of the salt provided with the anion having the fluoro group and the sulfonyl group was not added, the same as in Examples 1 to 5, Test pieces of Comparative Examples 1 to 5 were prepared.

(実験1)   (Experiment 1)

実施例1〜5の試験片と比較例1〜5の試験片とを用いて、JIS K 6911に準じて、表面抵抗率(Ω/sq)を測定した。結果を表1に示す。
The surface resistivity (Ω / sq) was measured according to JIS K 6911 using the test pieces of Examples 1 to 5 and the test pieces of Comparative Examples 1 to 5. The results are shown in Table 1.

表1中の略語は次の通りである。   Abbreviations in Table 1 are as follows.

ABS:アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン 3元系共重合体(東レ(株)社製 トヨラック(登録商標)600 )   ABS: acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer (Toyolac (registered trademark) 600 manufactured by Toray Industries, Inc.)

PP : ポリプロピレン ( 日本ポリケム (株 )社製 ノバテック(登録商標)PP BC6 )   PP: Polypropylene (Novatec (registered trademark) PP BC6, manufactured by Nippon Polychem Co., Ltd.)

TPU:熱可塑性ポリウレタンエラストマー(大日本インキ 化学工業( 株 )製 パンデックス(登録商標)T−1190 )   TPU: Thermoplastic polyurethane elastomer (Pandex (registered trademark) T-1190, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)

NBR : アクリロニトリル−ブタジエン ゴム( ジェイエスア−ル( 株 )製、 N520)   NBR: Acrylonitrile-butadiene rubber (manufactured by GSall Corporation, N520)

PMMA: ポリメチルメタクリレ−ト ( 三菱レイヨン( 株 )製、 IRK 304 )   PMMA: Polymethyl methacrylate (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., IRK 304)

G3:トリエチレングリコールジメチルエーテル   G3: Triethylene glycol dimethyl ether

G4:テトラエチレングリコールジメチルエーテル   G4: Tetraethylene glycol dimethyl ether

G5:へプタエチレングリコールジメチルエーテル   G5: Heptaethylene glycol dimethyl ether

G4M:テトラエチレングリコールモノメチルエーテル   G4M: Tetraethylene glycol monomethyl ether

DG4M:(ドデシルオキシ)テトラエチレングリコールモノメチルエーテル   DG4M: (dodecyloxy) tetraethylene glycol monomethyl ether

R : ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム Li(CF3SO22N (森田化学工業( 株 )製、LiTFSI ) R: bis (trifluoromethanesulfonyl) imidolithium Li (CF 3 SO 2 ) 2 N (manufactured by Morita Chemical Co., Ltd., LiTFSI)

T : トリフルオロメタンスルホン酸リチウム Li(CF3SO3)(森田化学工業( 株 )製、 LiTFS ) T: Lithium trifluoromethanesulfonate Li (CF 3 SO 3 ) (Morita Chemical Co., Ltd., LiTFS)

M : トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチドリチウム Li(CF3SO23C (米国特許第5554664 号公報に準じて合成) M: Tris (trifluoromethanesulfonyl) methidolithium Li (CF 3 SO 2 ) 3 C (synthesized according to US Pat. No. 5,554,664)

A : ポリエ−テルエステルアミド ( 三洋化成工業 ( 株 )製 ペレスタット(登録商標)6321)   A: Polyester ester amide (Pelestat (registered trademark) 6321 manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.)

B : ポリエ−テルポリオレフィンブロックポリマ− ( 三洋化成工業( 株 )製 ペレスタット(登録商標)230 )   B: Polyether polyolefin block polymer (Pelestat (registered trademark) 230 manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.)

C : エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエ−テル 共重合体(日本ゼオン(株) 製、ゼオスパン(登録商標)8030 )   C: ethylene oxide-propylene oxide-allyl glycidyl ether copolymer (manufactured by ZEON Corporation, Zeospan (registered trademark) 8030)

(実施例6)   (Example 6)

水素添加スチレン系熱可塑性エラストマー(クラレ(株)社製、セプトン(登録商標)2104)20部、ポリプロピレン(日本ポリケム(株)社製、ノバテック(登録商標)PPBC6)15部、オイル35部を含む混合液中に、ゴム分が65部である油展EPDMを含む組成物を動的架橋により分散させた。その後、この混合液に、重合型帯電防止剤(三洋化成(株)社製、ペレスタット(登録商標)300)に、予めテトラエチレングリコールジメチルエーテル(G4)100質量部に対してビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム(森田化学工業(株)製、LiTFSI)を90質量部溶解した。G4溶液10部を混練したものを10部添加し、再度混練機で5分間混練した。これをさらに、樹脂押出機にて加熱しながら、ローラ状に成形した。得られた試料の体積抵抗率は、5×107Ω・cmであった。上記(1)式を用いて、環境依存性を算出したところ、環境依存性は、0.6であった。この成形品の表面には、ブリード物の存在は認められなかった。ローラ状の成形物に、1KVの定電圧を連続して100時間印加した後の体積抵抗率は、8×107Ω・cmであった。 Includes 20 parts of hydrogenated styrene-based thermoplastic elastomer (Kuraray Co., Ltd., Septon (registered trademark) 2104), polypropylene (Nippon Polychem Co., Ltd., Novatec (registered trademark) PPBC6), 35 parts of oil. In the mixed solution, a composition containing oil-extended EPDM having a rubber content of 65 parts was dispersed by dynamic crosslinking. Thereafter, this mixed liquid was mixed with a polymerization type antistatic agent (Pelestat (registered trademark) 300 manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.) in advance with bis (trifluoromethanesulfonyl) with respect to 100 parts by mass of tetraethylene glycol dimethyl ether (G4). 90 parts by mass of imidolithium (manufactured by Morita Chemical Co., Ltd., LiTFSI) was dissolved. 10 parts of 10 parts of the G4 solution were kneaded and again kneaded with a kneader for 5 minutes. This was further formed into a roller shape while being heated by a resin extruder. The volume resistivity of the obtained sample was 5 × 10 7 Ω · cm. When the environment dependency was calculated using the above equation (1), the environment dependency was 0.6. The presence of a bleed product was not observed on the surface of this molded product. The volume resistivity after continuously applying a constant voltage of 1 KV to the roller-shaped molded article for 100 hours was 8 × 10 7 Ω · cm.

(比較例6)   (Comparative Example 6)

実施例6において、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウムの代わりに、過塩素酸リチウムを5質量部、直接、添加、混錬した以外は、実施例6と同様にして比較例6のローラ状の成形体を得た。環境依存性は、2.0であった。得られた試料の体積抵抗は、5×1010Ω・cmであった。ローラ状の成形物に、1KVの定電圧を連続して100時間印加した後の体積抵抗率は、9×1011Ω・cmであった。 In Example 6, instead of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium, 5 parts by mass of lithium perchlorate was directly added and kneaded in the same manner as in Example 6 except that the roller shape of Comparative Example 6 was used. A molded body was obtained. The environmental dependency was 2.0. The volume resistance of the obtained sample was 5 × 10 10 Ω · cm. The volume resistivity after applying a constant voltage of 1 KV to the roller-shaped molded article for 100 hours was 9 × 10 11 Ω · cm.

(実施例7)   (Example 7)

エポキシアクリレート5部、トリメチロールプロパントリアクリレート25部、ネオペンチルグリコールジアクリレート20部、ポリエチレングリコールジアクリレート(オキシエチレン単位14)50部の混合物に、予めトリエチレングリコールジメチルエーテル100質量部に対しビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム(LiTFSI)を56質量部溶解した溶液1部を添加し、さらに2−メチルー2−ヒドロキシプロピルフェノン4部を添加したものを、ディスク基板上にスピンナによって塗布した。次いで、紫外線硬化させて、塗料用制電性樹脂被覆体を得た。この被覆体の印加電圧8kVのときの帯電減衰を測定した。帯電圧400Vで半減期は、0.3秒以下であった。   A mixture of 5 parts of epoxy acrylate, 25 parts of trimethylolpropane triacrylate, 20 parts of neopentyl glycol diacrylate and 50 parts of polyethylene glycol diacrylate (oxyethylene unit 14) is preliminarily mixed with 100 parts by weight of triethylene glycol dimethyl ether with bis (trifluoromethane). One part of a solution in which 56 parts by mass of (romethanesulfonyl) imidolithium (LiTFSI) was added and further 4 parts of 2-methyl-2-hydroxypropylphenone was added onto the disk substrate with a spinner. Next, the coating was cured with ultraviolet rays to obtain an antistatic resin coating for paint. The charge decay of the coated body when the applied voltage was 8 kV was measured. The half life was 0.3 seconds or less at a charged voltage of 400V.

(比較例7)   (Comparative Example 7)

実施例7において、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム0.5質量部を直接添加した以外は、実施例7と同様にして比較例7の塗料用制電性樹脂被覆体を得た。この被覆体の印加電圧8kVのときの、帯電圧減衰を測定した。帯電圧3000Vで半減期は、10秒以上であった。   In Example 7, the antistatic resin coating for paint of Comparative Example 7 was obtained in the same manner as in Example 7 except that 0.5 parts by mass of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium was directly added. The voltage decay of the coated body when the applied voltage was 8 kV was measured. The half-life was 10 seconds or more at a charged voltage of 3000V.

(実施例8)   (Example 8)

ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウムを98質量部を溶解したテトラエチレングリコールジメチルエーテル1質量部と、アクリル酸2−(ビニロキシエトキシ)エチル99質量部と、Megafac(登録商標)178RM(大日本インキ化学工業(株)社製、撥水剤)3質量部を混合し、次いで、ベンゾフェノンとメチルフェニルグリオキシレートとをそれぞれ4質量部を添加した液状組成物を得た。この液状組成物をポリカーボネート樹脂の射出成形板(50mm×50mm×3mm)にスプレー塗布した後、熱風乾燥機(60℃)で3分間乾燥した。この成形板に、高圧水銀灯を用いて積算光量1.5J/cm2(照射時間10秒)で、空気中で紫外線を照射した。硬化被膜7μmの厚さを有する透明なポリカーボネート樹脂板を得た。この樹脂板の表面抵抗率は、5×1010Ω/sqであった。この樹脂板を湿度70%、温度80℃の条件下に1時間放置した後、表面抵抗率を測定した結果、7×1010Ω/sqであった。 1 part by mass of tetraethylene glycol dimethyl ether in which 98 parts by mass of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium is dissolved, 99 parts by mass of 2- (vinyloxyethoxy) ethyl acrylate, Megafac (registered trademark) 178RM (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 3 parts by mass of a water repellent (manufactured by Kogyo Co., Ltd.) was mixed, and then a liquid composition in which 4 parts by mass of benzophenone and methylphenylglyoxylate were added was obtained. This liquid composition was spray-coated on an injection-molded plate (50 mm × 50 mm × 3 mm) of polycarbonate resin, and then dried for 3 minutes with a hot air dryer (60 ° C.). This molded plate was irradiated with ultraviolet rays in air using a high-pressure mercury lamp at an integrated light amount of 1.5 J / cm 2 (irradiation time: 10 seconds). A transparent polycarbonate resin plate having a thickness of 7 μm was obtained. The surface resistivity of this resin plate was 5 × 10 10 Ω / sq. The resin plate was allowed to stand for 1 hour under conditions of 70% humidity and 80 ° C., and then the surface resistivity was measured. As a result, it was 7 × 10 10 Ω / sq.

(比較例8)   (Comparative Example 8)

実施例8において、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウムの代わりに過塩素酸バリウム20質量部を溶解した以外は、実施例8と同様にして硬化被膜8μmの透明なポリカーボネート樹脂板を得た。この樹脂板の表面抵抗率は、2×1011Ω/sqであった。この樹脂板を湿度70%、温度80℃の条件下に1時間放置した後、表面抵抗率を測定した結果、1×1013Ω/sq以上であった。 In Example 8, a transparent polycarbonate resin plate having a cured coating thickness of 8 μm was obtained in the same manner as in Example 8 except that 20 parts by mass of barium perchlorate was dissolved instead of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium. The surface resistivity of this resin plate was 2 × 10 11 Ω / sq. This resin plate was left for 1 hour under the conditions of 70% humidity and 80 ° C., and then the surface resistivity was measured. As a result, it was 1 × 10 13 Ω / sq or more.

(実施例9)   Example 9

(アクリル系共重合体の製造)   (Manufacture of acrylic copolymer)

窒素ガスが還流され、温度調節が容易なように冷却装置を取り付けた反応器(1L)
にn−ブチルアクリレート88.0質量部、エチルアクリレート10.0質量部及びヒドロキシエチルメタアクリレート2.0質量部からなっている単量体混合物を投入した後、溶剤にエチルアセテート100質量部を投入した。その後、酸素を除去するために窒素ガスを一時パージした後、62℃に保持した。上記混合物を均一にした後、反応開始剤としてエチルアセテートに50%濃度で希釈させたアゾビスイソブチロニトニル0.03質量部を投入し、9時間反応させてアクリル系共重合体を製造した。
Reactor (1L) equipped with a cooling device so that nitrogen gas is refluxed and temperature control is easy
Was charged with a monomer mixture consisting of 88.0 parts by mass of n-butyl acrylate, 10.0 parts by mass of ethyl acrylate and 2.0 parts by mass of hydroxyethyl methacrylate, and then 100 parts by mass of ethyl acetate was added to the solvent. did. Thereafter, nitrogen gas was temporarily purged to remove oxygen, and then maintained at 62 ° C. After homogenizing the above mixture, 0.03 parts by mass of azobisisobutyronitrile was diluted with ethyl acetate as a reaction initiator at a concentration of 50% and reacted for 9 hours to produce an acrylic copolymer. .

(配合及びコーティング過程)   (Formulation and coating process)

上記製造したアクリル系共重合体100質量部、架橋剤としてイソシアネート系トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物0.6質量部、可塑剤としてテトラエチレングリコールジベンゾネート7質量部とポリエチレングリコールジー2−エチルヘキソネート0.1質量部、及びビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウムを61.7質量部(等モル混合物)を溶解したトリエチレングリコールジメチルエーテル1質量部を投入し、適切の濃度で希釈し、均一に混合した後、剥離紙にコーティングして乾燥した後、25μmの均一な粘着層を製造した。上記製造した粘着層を185μmの膜厚のヨード系偏光板に粘着加工した。作成した粘着シートの剥離帯電圧(剥離角度150度、剥離速度10m/min,春日電機社製KSD−0103使用)を測定した結果、0.0kVであった。180°ピール粘着力は、3.2N/25mmであった。   100 parts by mass of the acrylic copolymer produced above, 0.6 parts by mass of tolylene diisocyanate adduct of isocyanate-based trimethylolpropane as a crosslinking agent, 7 parts by mass of tetraethylene glycol dibenzoate and polyethylene glycol di-2-ethyl as a plasticizer 1 part by mass of triethylene glycol dimethyl ether in which 0.1 part by mass of hexonate and 61.7 parts by mass (equal molar mixture) of bis (trifluoromethanesulfonyl) imidolithium were added, and diluted at an appropriate concentration, After uniform mixing, the release paper was coated and dried, and then a 25 μm uniform adhesive layer was produced. The produced pressure-sensitive adhesive layer was subjected to pressure-sensitive adhesive processing on an iodine polarizing plate having a film thickness of 185 μm. It was 0.0 kV as a result of measuring the peeling voltage (peeling angle 150 degree | times, peeling rate 10 m / min, KSD-0103 use made by Kasuga Denki Co., Ltd.) of the produced adhesive sheet. The 180 ° peel adhesive strength was 3.2 N / 25 mm.

なお、上記実施例ではポリアルキレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物として一般式(1)で表されるポリエチレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物を例示したが、ポリプロピレングリコール(ジ/モノ)アルキルエーテル化合物であっても、相当の効果を奏する。   In the above examples, the polyethylene glycol (di / mono) alkyl ether compound represented by the general formula (1) is exemplified as the polyalkylene glycol (di / mono) alkyl ether compound. Even an ether compound has a considerable effect.

今回開示された実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   It should be understood that the embodiments disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明によれば、熱安定性に優れ、ブリーディング、ブルーミングおよび移行汚染が発生せず、湿度に依存せずに、即効性に優れ、物性の低下を招かず、かつ、優れた制電性が持続する制電性組成物が得られる。   According to the present invention, heat stability is excellent, bleeding, blooming and migration contamination do not occur, it does not depend on humidity, it has excellent immediate effect, physical properties are not deteriorated, and excellent antistatic properties are obtained. A sustained antistatic composition is obtained.

Claims (17)

重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂を含む組成物中に、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が分散されてなる制電性組成物において、
前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、下記一般式(1)で表されるポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物に溶解された状態で分散されており、
前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩と前記ポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物とは等モル含まれていることを特徴とする制電性組成物。
(式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基を表し、R2は水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基を表す。nは〜6の整数を表す。)
In the antistatic composition in which a salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dispersed in a composition containing a polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin,
The salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dispersed in a dissolved state in a polyalkylene glycol ( di or mono ) alkyl ether compound represented by the following general formula (1) :
An antistatic composition, wherein an equimolar amount of the salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group and the polyalkylene glycol (di or mono) alkyl ether compound are contained .
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 is .n represents an alkyl group having 1 to 12 carbon hydrogen or C denotes an integer of 3-6.)
前記一般式(1)において、前記整数nは3である請求項1に記載の制電性組成物。  The antistatic composition according to claim 1, wherein the integer n is 3 in the general formula (1). 前記重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂100質量部に対して、前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、0.01質量部以上30質量部以下含まれる請求項1または2に記載の制電性組成物。   The salt provided with the anion which has the said fluoro group and a sulfonyl group with respect to 100 mass parts of said polymeric compounds, resin, an elastomer, or adhesive resin is 0.01 mass part or more and 30 mass parts or less. Or the antistatic composition according to 2. 前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンは、ビス(フルオロアルキルスルホニル)イミドイオン、トリス(フルオロアルキルスルホニル)メチドイオンおよびフルオロアルキルスルホン酸イオンからなる群から選ばれた陰イオンである請求項1から3のいずれか1項に記載の制電性組成物。   The anion having the fluoro group and the sulfonyl group is an anion selected from the group consisting of a bis (fluoroalkylsulfonyl) imide ion, a tris (fluoroalkylsulfonyl) methide ion, and a fluoroalkylsulfonic acid ion. The antistatic composition according to any one of the above. 前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、アルカリ金属、2A族元素、遷移金属、両性金属のいずれかの陽イオンと、前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンとからなる塩である請求項1から4のいずれか1項に記載の制電性組成物。   The salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is a salt comprising an anion having an alkali metal, a group 2A element, a transition metal or an amphoteric metal and an anion having the fluoro group and a sulfonyl group. The antistatic composition according to any one of claims 1 to 4, wherein: 前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が、ビス(フルオロアルキルスルホニル)イミドのアルカリ金属塩、トリス(フルオロアルキルスルホニル)メチドのアルカリ金属塩およびトリフルオロアルキルスルホン酸のアルカリ金属塩からなる群から選ばれた塩である請求項1から5のいずれか1項に記載の制電性組成物。   The salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is an alkali metal salt of bis (fluoroalkylsulfonyl) imide, an alkali metal salt of tris (fluoroalkylsulfonyl) methide, and an alkali metal salt of trifluoroalkylsulfonic acid. The antistatic composition according to any one of claims 1 to 5, which is a salt selected from the group consisting of: 前記ポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物は、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ヘプタエチレングリコールジメチルエーテル、ヘキサエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、(ドデシルオキシ)トリエチレングリコールモノメチルエーテル及び(ドデシルオキシ)テトラエチレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選ばれる、請求項1に記載の制電性組成物。 The polyalkylene glycol ( di or mono ) alkyl ether compound is triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, hepta ethylene glycol dimethyl ether, hexaethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether, (dodecyloxy) The antistatic composition according to claim 1, which is selected from the group consisting of triethylene glycol monomethyl ether and (dodecyloxy) tetraethylene glycol monomethyl ether. 重合体型帯電防止剤がさらに配合されている請求項1から7のいずれか1項に記載の制電性組成物。   The antistatic composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising a polymer-type antistatic agent. 前記重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂100質量部に対して、前記重合体型帯電防止剤が0.05質量部以上65質量部以下配合されていることを特徴とする請求項に記載の制電性組成物。 The polymerizable compound, the resin, the elastomer or adhesive resin 100 parts by weight of claim 8, wherein the polymeric-type antistatic agent is characterized in that it is formulated below 65 parts by mass or more 0.05 weight parts Antistatic composition. 重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂を含む組成物中に、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が分散されてなる制電性組成物の製造方法であって、
下記一般式(1)で表されるポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物中に、該化合物と等モルの、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩を、溶解してなる塩溶液を準備する工程と、
前記塩溶液と、前記重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂とを一度に配合し、混練し、組成物を形成する工程とを備えたことを特徴とする制電性組成物の製造方法。
(式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基を表し、R2は水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基を表す。nは〜6の整数を表す。)
A method for producing an antistatic composition in which a salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dispersed in a composition containing a polymerizable compound, a resin, an elastomer or an adhesive resin,
Following general formula polyalkylene glycol (di or mono) alkyl ether compound represented by Formula (1), equimolar with said compound, a salt with an anion having a fluoro group and the sulfonyl group, formed by dissolving Preparing a salt solution;
A method for producing an antistatic composition comprising the step of blending the salt solution and the polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin at a time, and kneading to form a composition. .
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 is .n represents an alkyl group having 1 to 12 carbon hydrogen or C denotes an integer of 3-6.)
重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂を含む組成物中に、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が分散されてなる制電性組成物の製造方法であって、
下記一般式(1)で表されるポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物中に、該化合物と等モルの、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩を、溶解してなる塩溶液を準備する工程と、
前記塩溶液(第1成分)と、重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂(第2成分)とを混練し、組成物を形成する工程と、
前記組成物を、さらに前記重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂(第2成分)とを混練あるいはブレンドする工程とを備えた制電性組成物の製造方法。
(式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基を表し、R2は水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基を表す。nは〜6の整数を表す。)
A method for producing an antistatic composition in which a salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is dispersed in a composition containing a polymerizable compound, a resin, an elastomer or an adhesive resin,
Following general formula polyalkylene glycol (di or mono) alkyl ether compound represented by Formula (1), equimolar with said compound, a salt with an anion having a fluoro group and the sulfonyl group, formed by dissolving Preparing a salt solution;
Kneading the salt solution (first component) and a polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin (second component) to form a composition;
A method for producing an antistatic composition, further comprising the step of kneading or blending the composition with the polymerizable compound, resin, elastomer or adhesive resin (second component).
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 is .n represents an alkyl group having 1 to 12 carbon hydrogen or C denotes an integer of 3-6.)
請求項1から9のいずれかに記載の制電性組成物を含む材料を成型してなる成形品。   A molded article formed by molding a material containing the antistatic composition according to claim 1. 請求項1から9のいずれかに記載の制電性組成物を含む塗料。   A paint comprising the antistatic composition according to claim 1. 請求項1から9のいずれかに記載の制電性組成物を成形品表面で硬化させた制電性被覆物。   An antistatic coating obtained by curing the antistatic composition according to any one of claims 1 to 9 on the surface of a molded article. 請求項1から9のいずれかに記載の制電性組成物を含む粘着剤。   A pressure-sensitive adhesive comprising the antistatic composition according to claim 1. 前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム又はトリフルオロメタンスルホン酸リチウムである、請求項7に記載の制電性組成物。The antistatic composition according to claim 7, wherein the salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group is trifluoromethanesulfonyl) imidolithium or lithium trifluoromethanesulfonate. 前記ポリアルキレングリコール(ジ又はモノ)アルキルエーテル化合物は、テトラエチレングリコールジメチルエーテルを含み、前記フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウムを含み、これらは下記式(2)に示すルイス酸・塩基型の錯イオンを形成して、当該制電性組成物中に分散している、請求項に記載の制電性組成物。
The polyalkylene glycol ( di or mono ) alkyl ether compound includes tetraethylene glycol dimethyl ether , and the salt having an anion having a fluoro group and a sulfonyl group includes bis (trifluoromethanesulfonyl) imidolithium, formula to form a complex ion of the Lewis acid-base type shown in (2), are dispersed in the antistatic composition, antistatic composition according to claim 1.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5129212B2 (en) * 2008-11-14 2013-01-30 三光化学工業株式会社 Resin composition for antistatic coating, production method thereof and molded product
JP5624751B2 (en) * 2009-11-16 2014-11-12 リンテック株式会社 Adhesive composition, adhesive and optical film
JP5616652B2 (en) * 2010-02-24 2014-10-29 リンテック株式会社 Adhesive composition and adhesive sheet
JP5527886B2 (en) * 2010-02-24 2014-06-25 リンテック株式会社 Adhesive composition, adhesive and adhesive sheet
JP5552338B2 (en) * 2010-03-12 2014-07-16 リンテック株式会社 Adhesive composition, adhesive and adhesive sheet
KR101301089B1 (en) * 2013-01-08 2013-08-27 동우 화인켐 주식회사 Adhesive composition
WO2014115965A1 (en) 2013-01-22 2014-07-31 (주)비에스써포트 Plastic molded product comprising copper-based compound microparticles and preparation method therefor
JP2018115251A (en) * 2017-01-17 2018-07-26 リンテック株式会社 Adhesive body
JP7427235B2 (en) * 2020-02-18 2024-02-05 ビッグテクノス株式会社 Electrically removable adhesive composition, electrically removable adhesive product and method for peeling the same

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001079354A1 (en) * 2000-04-12 2001-10-25 Sanko Chemical Industry Co., Ltd. Antistatic composition
JP2003041194A (en) * 2001-07-30 2003-02-13 Sanko Kagaku Kogyo Kk Resin composition for antistatic paint, method of producing the same, molded product using the same
JP2004182940A (en) * 2002-12-06 2004-07-02 Riken Technos Corp Antistatic resin composition
JP2006036885A (en) * 2004-07-26 2006-02-09 Sanko Kagaku Kogyo Kk Antistatic polyurethane composition, method for producing the same and molded product using the same
JP2006070062A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Kimoto & Co Ltd Antistatic hard coat coating, antistatic hard coat film using the same and molding
JP2006111856A (en) * 2004-09-16 2006-04-27 Nitto Denko Corp Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive sheets and surface protecting film
JP2007536427A (en) * 2004-08-24 2007-12-13 エルジー・ケム・リミテッド Acrylic pressure-sensitive adhesive composition having antistatic performance
JP2008506833A (en) * 2004-10-21 2008-03-06 エルジー・ケム・リミテッド Acrylic adhesive composition with excellent antistatic performance
JP2009530657A (en) * 2006-03-14 2009-08-27 スー・クワンスック Antistatic coating composition for polarizing film and antistatic polarizing film using the same

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001079354A1 (en) * 2000-04-12 2001-10-25 Sanko Chemical Industry Co., Ltd. Antistatic composition
JP2003041194A (en) * 2001-07-30 2003-02-13 Sanko Kagaku Kogyo Kk Resin composition for antistatic paint, method of producing the same, molded product using the same
JP2004182940A (en) * 2002-12-06 2004-07-02 Riken Technos Corp Antistatic resin composition
JP2006036885A (en) * 2004-07-26 2006-02-09 Sanko Kagaku Kogyo Kk Antistatic polyurethane composition, method for producing the same and molded product using the same
JP2007536427A (en) * 2004-08-24 2007-12-13 エルジー・ケム・リミテッド Acrylic pressure-sensitive adhesive composition having antistatic performance
JP2006070062A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Kimoto & Co Ltd Antistatic hard coat coating, antistatic hard coat film using the same and molding
JP2006111856A (en) * 2004-09-16 2006-04-27 Nitto Denko Corp Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive sheets and surface protecting film
JP2008506833A (en) * 2004-10-21 2008-03-06 エルジー・ケム・リミテッド Acrylic adhesive composition with excellent antistatic performance
JP2009530657A (en) * 2006-03-14 2009-08-27 スー・クワンスック Antistatic coating composition for polarizing film and antistatic polarizing film using the same

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