JP4320636B2 - 改質木材及びその製造方法 - Google Patents
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Description
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。]
[式中、Rは上記と同じ、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又はヒドロキシル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。YはX又は−[O−Si(X) 2 ] c −Xで示される同一又は異種の基、aは0〜1,000の数、bは0〜1,000の数、cは1〜1,000の正数であり、分子中に必ずH−Si基は2個以上含有する。]
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。]
[式中、Rは上記と同じ、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又はヒドロキシル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。YはX又は−[O−Si(X)2]c−Xで示される同一又は異種の基、aは0〜1,000の数、bは0〜1,000の数、cは1〜1,000の正数であり、分子中に必ずH−Si基は2個以上含有する。]
これら試験片を用いて下記の吸水試験を実施した。処理量及びその結果を表1に示す。
得られた試験片を水中に全面浸漬し、24時間後に取り出して下記計算式で吸水率を測定し、3つの試験片の平均値をもって吸水率とした。
吸水率(%)=[(W−Wo)/Wo]×100
Wo:水浸漬前の試験片の質量(g)
W :水浸漬完了直後の試験片の質量(g)
実施例1と同様に各種H−Si基含有化合物(II)〜(V)を使用して同様に吸水試験を行った。処理量及びその結果を表1に示す。
<使用化合物>
実施例2:
実施例3:
実施例4:
実施例5:
実施例1と同様、同寸法の無処理の杉辺材3個を使用して吸水率試験を行った。処理量及びその結果を表1に示す。
メチルトリメトキシシラン75g、テトラエトキシシラン20g、ジメチルジメトキシシラン5g、イソプロパノール100g及びジルコノセンジクロリド0.05gの混合液に、撹拌しながら0.1N塩酸2g及び水35gを加え、3時間撹拌後8時間放置した液をシラン処理剤1として実施例1と同じ方法で試験片を作製して吸水率試験を行った。処理量及びその結果を表1に示す。
室温での粘度が50,000mPa・sのα,ω−ジヒドロキシポリ(ジメチルシロキサン)100gに、等容量のキシレンを加えて十分に溶解し、次いでメチルトリアセトキシシランの部分加水分解縮合反応物4g及びジブチルスズジラウレート0.01gを追加して、湿気を遮断した状態で十分混合した液をシラン処理剤2として実施例1と同じ方法で試験片を作製して吸水率試験を行った。処理量及びその結果を表1に示す。
トリエトキシシラン(HSi(OCH2CH3)3)を用いて実施例1と同様に吸水試験を行った。処理量及びその結果を表1に示す。
実施例1のH−Si含有化合物(I)をエタノールにより有効成分20%に希釈したものを処理剤とした。
これら試験片を下記に示すJIS K1571と同様な溶脱試験を実施した。溶脱試験後の試験片中のB量を下記の方法で測定し、ホウ酸塩の残存量を測定した。処理量及びその結果を表2に示す。
各試験片9個を1組として、500mlビーカーに入れ、試験体容積の10倍量の脱イオン水を加え、試験体を水面下に沈めた。マグネチックスターラーを用い、温度25℃で回転子を毎分400〜450回転させ、8時間撹拌し、溶脱した後、直ちに軽く試験体表面の水切りを行った。続いて温度60℃の循環式乾燥器中に16時間静置し、揮発分を揮発させた。以上の操作を交互に10回繰り返した。
木材試験片をテフロン(登録商標)ビーカーに入れ、3%硝酸水を50ml加えてホットプレート(200℃)で2時間加熱した。冷却後、水を加えて50mlに定容した。この操作を5回繰り返し、それぞれのB量をICP分析装置により測定し、その合計量を木材中のホウ酸塩残存量とした。残存量はサンプル9個の平均値をもって残存量とした。
実施例7と同様に実施例2〜4で使用したH−Si含有化合物(II)〜(IV)を使用して同様に溶脱試験及びホウ酸塩残存量の測定を行った。処理量及びその結果を表2に示す。
実施例1のH−Si含有化合物(I)を処理剤とし、デシケーター中に仕込んだ。そこに、木口面20mm×20mm、高さ10mm寸法の二方まさの杉辺材にNa2B8O13・4H2Oで示されるホウ酸塩を5kg/m3の量で注入したホウ酸塩注入試験片9個を、処理液に直接触れないように設置し、25℃/減圧(1.3kPa)下/3日間処理剤の蒸気処理による含漬処理を行った。その後デシケーターから取り出し、25℃で5日間乾燥させ、更に60℃で24時間、105℃で24時間乾燥させ、改質木材を得た。
これら試験片について実施例7と同様の溶脱試験を実施した。溶脱試験後の試験片中のB量を上記の方法で測定し、ホウ酸塩の残存量を測定した。処理量及びその結果を表2に示す。
実施例7と同様に、無処理のホウ酸塩注入木材及び各種シラン処理剤1,2及びトリエトキシシランを使用して同様に溶脱試験及びホウ酸塩残存量の測定を行った。処理量及びその結果を表2に示す。
Claims (6)
- 下記一般式(1)又は(2)
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。]
[式中、Rは上記と同じ、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又はヒドロキシル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。YはX又は−[O−Si(X) 2 ] c −Xで示される同一又は異種の基、aは0〜1,000の数、bは0〜1,000の数、cは1〜1,000の正数であり、分子中に必ずH−Si基は2個以上含有する。]
で示されるH−Si基を2個以上含有する有機ケイ素化合物により塗布及び/又は含浸処理された木材からなることを特徴とする改質木材。 - 上記式(1)又は(2)で示されるH−Si基を2個以上含有する有機ケイ素化合物により塗布及び/又は含浸され、更に加熱処理された木材からなることを特徴とする請求項1記載の改質木材。
- 木材が、予めホウ素化合物又はリン化合物が注入されたものであることを特徴とする請求項1又は2記載の改質木材。
- 木材を下記一般式(1)又は(2)
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。]
[式中、Rは上記と同じ、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又はヒドロキシル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。YはX又は−[O−Si(X) 2 ] c −Xで示される同一又は異種の基、aは0〜1,000の数、bは0〜1,000の数、cは1〜1,000の正数であり、分子中に必ずH−Si基は2個以上含有する。]
で示されるH−Si基を2個以上含有する有機ケイ素化合物により塗布及び/又は含浸処理することを特徴とする改質木材の製造方法。 - 上記塗布及び/又は含浸処理後、加熱処理を行うことを特徴とする請求項4記載の製造方法。
- 木材が、予めホウ素化合物又はリン化合物が注入されたものであることを特徴とする請求項4又は5記載の製造方法。
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2005
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