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JP4238967B2 - 光走査装置 - Google Patents

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JP4238967B2
JP4238967B2 JP2002175281A JP2002175281A JP4238967B2 JP 4238967 B2 JP4238967 B2 JP 4238967B2 JP 2002175281 A JP2002175281 A JP 2002175281A JP 2002175281 A JP2002175281 A JP 2002175281A JP 4238967 B2 JP4238967 B2 JP 4238967B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザービームプリンタ等に用いられる光走査装置に係り、特に、回転多面鏡等の偏向反射面に光ビームを順に2度入射させる光走査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、回転軸を中心に回転又は振動する偏向反射面に面して2枚の固定平面鏡を配置し、その2枚の固定平面鏡の稜線が偏向反射面の回転軸に直交する平面内に位置させるようにして、偏向反射面と2枚の固定平面鏡の間から偏向反射面へ向けて光ビームを入射させ、反射された偏向光ビームをその2枚の固定平面鏡を順に反射させて再びその偏向反射面に入射させて反射させ、その反射された偏向光ビームを偏向反射面と2枚の固定平面鏡の間あるいは2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して射出するようにて、走査線の歪みを補正する光偏向光学系が特開昭61−7818号(米国特許第4,796,965号)で提案されている。
【0003】
しかしながら、特開昭61−7818号のものにおいては、偏向反射面を回転多面鏡で構成する場合等において、偏向反射面の回転軸に対する偏心等による各偏向反射面の回転軸からの出入りにより、走査線のピッチが変化してしまう問題は考慮されていない。
【0004】
また、偏向された光ビームが走査線の周辺部でねじれる問題も考慮されていない。
【0005】
さらには、特開昭61−7818号の光偏向光学系においては、この光偏向光学系に入射する光ビームと反射された偏向光ビームとの間に1枚の固定平面鏡が挟まれることになるため、実際上幅の極めて狭い高精度の平面鏡を用いなければならず、加工が困難なため高価にならざるを得ない問題もある。
【0006】
このような背景の下に、本出願人は、特願2001−104668及び特願2002−33500において、回転軸に平行でその回転軸を中心に回転又は振動する偏向反射面に面して2枚の固定平面鏡が配置され、その偏向反射面に入射して反射された光ビームがその2枚の固定平面鏡で順に反射され、その反射された光ビームが再び前記偏向反射面に入射して反射される光偏向光学系において、偏向反射面に最初に入射する光ビームを含みその回転軸に平行な面を入射平面とするとき、2枚の固定平面鏡は入射平面に対して垂直に相互に間隙をおいて配置され、偏向反射面に最初に入射する光ビームが2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して入射され、偏向反射面で2回目に反射された偏向光ビームが2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して射出するように構成されている光偏向光学系を提案している。
【0007】
このような構成により、高精度の平面鏡であって加工が容易で安価なものを用いることができるようになり、また、偏向反射面に出入りがあっても走査線のピッチ変化が起こらず、また、射出光ビームのねじれがない光偏向光学系が可能となる。
【0008】
その光偏向光学系を含む光走査装置の全体構成を示す斜視図である図3を参照にしてその光偏向光学系を説明する。この構成では、光偏向部は多面柱の側面に複数(図の場合は6面)の偏向反射面11を有するポリゴンミラー10で構成され、その回転軸12の周りで偏向反射面11が回転する構成になっている。そして、光偏向に関与する偏向反射面11に面して2枚の固定平面鏡13、14が相互に角度をなして、かつ、間に間隙15を開けて配置されている。
【0009】
そして、光源21からの光がレンズ系22により平行光ビームa0に変換され(面倒れ補正を行う場合は、回転軸12に直交する方向には平行光になり、回転軸12に平行な方向には偏向反射面11近傍に集光するように変換され)、その光ビームa0は固定平面鏡13と14の間隙15を通って回転軸12に沿った図の場合は斜め下方から偏向反射面11に入射する。その偏向反射面11で1回目の反射を行った光ビームa1は斜め上方へ進み、一方の固定平面鏡13に入射し、そこで反射された光ビームa2は下方へ進み、今度は他方の固定平面鏡14に入射し、そこで反射された光ビームa3は再度偏向反射面11に入射し、その偏向反射面11で2回目の反射を行った光ビームa4は、固定平面鏡13と14の間隙15を通って斜め上方へ進み、走査光学系23を経て集束光ビームに変換され、被走査面24に入射して集束する。偏向反射面11は回転軸12の周りで回転するので、その集束光ビームは偏向反射面11の回転速度の略4倍の回転速度で回転して被走査面24上に走査線bを描く。ポリゴンミラー10の回転に伴って入射光ビームa0の入射位置に隣接する偏向反射面11が順次入っては出るので、ポリゴンミラー10の回転に伴って被走査面24上の同じ位置に走査線bが一端から他端へ順次描かれる。この方向の走査が主走査になる。被走査面24上の被走査体を走査線bと直交する方向へ一定速度で副走査することにより、被走査体上には走査線bが一定ピッチで並ぶラスター走査が行われることになる。
【0010】
ここで、入射光ビームa0の中心光線を含み、回転軸12に平行な平面を入射平面と定義すると、2枚の固定平面鏡13、14は入射平面に対して垂直に配置されている。
【0011】
そして、図4に示すように、偏向反射面11が入射平面に垂直で正面を向いているときには、光ビームa0〜a4は全て紙面の入射平面内にあり、このときの入射光ビームa0の偏向反射面11に対する入射角をθ1、射出光ビームa4の射出角をθ2とすると、
0.92≦(θ2/θ1)≦1.25 ・・・(1)
の関係を満たす場合に、射出光ビームa4のねじれが良く補正されることになり、特に、θ1=θ2のとき、射出光ビームa4のねじれは略キャンセルされてゼロとなるものである。また、θ1=θ2のとき、偏向反射面11の回転軸12からの出入りによる走査線変位を完全になくすことができるものである。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
このような構成の光偏向光学系において、図5に示すように、固定平面鏡13と14の間隙15を通って偏向反射面11へ最初に入射する光ビームa0には、それと略平行に存在する浮遊光ビームa0’が伴っている場合がある。この浮遊光ビームa0’は主光ビームa0と共に偏向反射面11に入射して1回目の反射を行い、主光ビームa0は、一方の固定平面鏡13に入射して反射され別の固定平面鏡14を経て再び偏向反射面11に入射して2回目の反射を行って走査光ビームa4となるが、浮遊光ビームa0’は、主光ビームa0から分離されて一方の固定平面鏡13に入射せずに、走査光ビームa4に沿った方向に浮遊射出光ビームaxとして射出してしまう。特に、上記のθ1≒θ2の配置においては、浮遊射出光ビームaxは主光ビームa0と略平行に射出される。
【0013】
偏向反射面11に最初に入射する光ビームa0にこのような浮遊光ビームa0’が伴う理由を説明すると、図6に光源21から偏向反射面11の位置Pに至る照明光学系の副走査方向(ポリゴンミラー10の回転軸12に平行で光軸を含む平面の方向)の断面図を示すように、偏向反射面11に入射する光ビームa0を形成する照明光学系においては、前記のように光源21からの光は、レンズ系22により平行な光ビームa0、又は、回転軸12に直交する方向(主走査方向)には平行光で、回転軸12に平行な方向(副走査方向)には偏向反射面11近傍に集光する光ビームa0に変換される(図6の場合は後者)。このような変換を行うレンズ系22は、図の例の場合、コリメータレンズ221と副走査断面内のみで正の屈折力を有するシリンドリカルレンズ222とからなり、その間にビーム径を制限する絞り223が配置される。副走査方向でも平行な光に変換する場合は、シリンドリカルレンズ222は省かれる。何れにしても、光源21から偏向反射面11へ入射する光ビームa0を形成する光路中に絞り223が配置されているので、そのエッジで光ビームa0の周囲に回折光Rが発生し、固定平面鏡13と14の間隙15の位置では、その回折光Rの一部が上記のような浮遊光ビームa0’となる(図6の場合、回折光Rの下側成分が浮遊光ビームa0’となる。)。
【0014】
主走査方向(図5と垂直方向)において、正規の射出光ビームa4と浮遊射出光ビームaxとの走査速度が同じであるなら、走査光学系23を経て被走査面24に達する位置は略同じになるので、この浮遊射出光ビームaxによる問題は余り大きいとは必ずしも言えないかもしれないが、射出光ビームa4は偏向反射面11の回転速度の略4倍の回転速度、浮遊射出光ビームaxはその2倍の回転速度で偏向されるため、射出光ビームa4は浮遊射出光ビームaxの2倍の速度で被走査面24を移動されるため、次のようなゴースト光として大きな問題を起こす。
【0015】
すなわち、浮遊射出光ビームaxは主射出光ビームa4の2分の1の速度で移動するため、主射出光ビームa4による露光に対して2倍のエネルギーで露光されることになる。
【0016】
そして、図3のような光走査装置では、図7に主走査断面を示すように、各走査線のデータの書き出し位置を検出するために、光ビームa4が被走査面24を走査する手前の位置に例えば微小ミラー25を配置して、その微小ミラー25による反射方向であって被走査面24と共役な位置に水平同期検出器26を配置する。この水平同期検出器26で光ビームa4の到達を検知するために、走査毎に毎回この水平同期検出器26を走査するタイミングに対応して光源21を点灯させる。このとき、浮遊射出光ビームaxは、水平同期検出器26に対応する被走査面24の光軸からの位置の1/2の位置に入射するので、水平同期検出位置の1/2幅に相当する位置にゴースト像が必ず生ずる。このような光走査装置を例えば画像形成装置の光書込装置として用いる場合には、そのゴースト像部分の画像の濃度が他の部分に比べて変化してしまう。特に、中間調(ハーフトーン)の画像においてはこの現象が顕著になってしまう。
【0017】
本発明は上記のような先願の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、偏向反射面に面して配置された2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して光ビームを入射出させ、2回反射により偏向反射面の略4倍の回転速度で光ビームを回転走査させる光走査装置において発生するゴーストを防止するようにすることである。
【0018】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の光走査装置は、光源と、前記光源から射出される光ビームを偏向する回転反射面を有する偏向器と、前記回転反射面で偏向された光ビームを折り返すように前記回転反射面に対向して配置された2枚の固定平面鏡と、前記回転反射面で偏向された偏向光ビームを被走査面上に結像させる走査光学系とを備え、前記光源から射出されて前記回転反射面に入射した入射光ビームが、前記2枚の固定平面鏡で順次反射されて、前記回転反射面に再度入射するように構成された光走査装置において、
前記光源から前記回転反射面に至る光路中の、前記固定平面鏡の前記回転反射面とは反対側に、前記入射光ビームのフレア光を遮光する遮光板が配置されていることを特徴とするものである。
【0019】
この場合に、回転反射面に最初に入射する入射光ビームが2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して入射され、回転反射面で2回目に反射された偏向光ビームが2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して射出するように構成されていることが望ましい。
【0020】
また、入射光ビームを含み回転反射面の回転軸に平行な平面を入射平面とするとき、入射平面内に偏向光ビームが含まれる位置での入射光ビームの回転反射面に対する入射角をθ1、回転反射面で2回目に反射された偏向光ビームの射出角をθ2とすると、
0.92≦(θ2/θ1)≦1.25 ・・・(1)
の関係を満足するように構成されていることが望ましい。
【0021】
また、遮光板は入射光ビームの偏向光ビームから離れる側を遮るように配置されていることが望ましい。
【0022】
また、遮光板は入射ビームの光路中において固定平面鏡の直前に配置されていることが望ましい。
【0023】
また、入射光ビームを含み回転反射面の回転軸に平行な平面を入射平面とするとき、入射平面内において、遮光板は回転反射面とは平行とは異なる角度で配置されていることが望ましい。
【0024】
また、遮光板は回転反射面の回転軸に平行な方向に位置調節可能に配置されていることが望ましい。
【0025】
本発明のもう1つの光走査装置は、光源と、前記光源から射出される光ビームを偏向する回転反射面を有する偏向器と、前記回転反射面で偏向された光ビームを折り返すように前記回転反射面に対向して配置された2枚の固定平面鏡と、前記回転反射面で偏向された偏向光ビームを被走査面上に結像させる走査光学系とを備え、前記光源から射出されて前記回転反射面に入射した入射光ビームが、前記2枚の固定平面鏡で順次反射されて、前記回転反射面に再度入射するように構成された光走査装置において、
前記回転反射面から前記被走査面に至る光路中の、前記固定平面鏡の前記回転反射面とは反対側に、前記偏向光ビームのフレア光を遮光する遮光板が配置されていることを特徴とするものである。
【0026】
これらの本発明の光走査装置は、例えば画像形成装置の画像書き込み露光用に用いられる。
【0027】
本発明においては、光源から回転反射面に至る光路中の、固定平面鏡の回転反射面とは反対側に、入射光ビームのフレア光を遮光する遮光板が配置されているので、照明光学系中の絞り等で回折された回折光等からなる入射光ビームに伴う浮遊光ビームが一方の固定平面鏡から外れて走査光学系に入射して被走査面上でフレアになるのを防止することができる。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づき本発明の光走査装置の実施例について説明する。
【0029】
図1は、本発明の光偏向光学系を含む光走査装置の全体構成を示す斜視図であり、図2は、その主要部の光偏向光学系を示す副走査方向の断面図である。
【0030】
この光偏向光学系は、基本的に図3の本出願人の特願2001−104668及び特願2002−33500において提案した光偏向光学系と同じであり、前記したように、この例では、光偏向部は多面柱の側面に複数(図の場合は6面)の偏向反射面11を有するポリゴンミラー10で構成され、その回転軸12の周りで偏向反射面11が回転する構成になっている。そして、光偏向に関与する偏向反射面11に面して2枚の固定平面鏡13、14が相互に角度をなして、かつ、間に間隙15を開けて配置されている。
【0031】
そして、光源21からの光がレンズ系22により平行光ビームa0に変換され(面倒れ補正を行う場合は、回転軸12に直交する方向には平行光になり、回転軸12に平行な方向には偏向反射面11近傍に集光するように変換され)、その光ビームa0は固定平面鏡13と14の間隙15を通って回転軸12に沿った図の場合は斜め下方から偏向反射面11に入射する。その偏向反射面11で1回目の反射を行った光ビームa1は斜め上方へ進み、一方の固定平面鏡13に入射し、そこで反射された光ビームa2は下方へ進み、今度は他方の固定平面鏡14に入射し、そこで反射された光ビームa3は再度偏向反射面11に入射し、その偏向反射面11で2回目の反射を行った光ビームa4は、固定平面鏡13と14の間隙15を通って斜め上方へ進み、走査光学系23を経て集束光ビームに変換され、被走査面24に入射して集束する。偏向反射面11は回転軸12の周りで回転するので、その集束光ビームは偏向反射面11の回転速度の略4倍の回転速度で回転して被走査面24上に走査線bを描く。ポリゴンミラー10の回転に伴って入射光ビームa0の入射位置に隣接する偏向反射面11が順次入っては出るので、ポリゴンミラー10の回転に伴って被走査面24上の同じ位置に走査線bが一端から他端へ順次描かれる。この方向の走査が主走査になる。被走査面24上の被走査体を走査線bと直交する方向へ一定速度で副走査することにより、被走査体上には走査線bが一定ピッチで並ぶラスター走査が行われることになる。
【0032】
ここで、入射光ビームa0の中心光線を含み、回転軸12に平行な平面を入射平面と定義すると、2枚の固定平面鏡13、14は入射平面に対して垂直に配置されている。
【0033】
そして、図4に示すように、偏向反射面11が入射平面に垂直で正面を向いているときには、光ビームa0〜a4は全て紙面の入射平面内にあり、このときの入射光ビームa0の偏向反射面11に対する入射角をθ1、射出光ビームa4の射出角をθ2とすると、
0.92≦(θ2/θ1)≦1.25 ・・・(1)
の関係を満たす場合に、射出光ビームa4のねじれが良く補正されることになり、特に、θ1=θ2のとき、射出光ビームa4のねじれは略キャンセルされてゼロとなるものである。また、θ1=θ2のとき、偏向反射面11の回転軸12からの出入りによる走査線変位を完全になくすことができるものである。
【0034】
このような構成において、本発明に基づき、図1、図2に示すように、偏向反射面11に入射する光ビームa0が固定平面鏡13と14の間隙15に入射する手前の位置で、正規の光ビームa0の射出光ビームa4から離れる側(図2の下側)を遮るように、すなわち浮遊光ビームa0’を遮光するように遮光板30を配置する。なお、正規の光ビームa0の射出光ビームa4により近い側(図2の上側)の回折成分(図6)は、偏向反射面11で反射さた後固定平面鏡13から外れる部分はほとんどないので、特に遮光する必要はない。なお、遮光板30により遮光される成分a0’は、本来の光ビームa0以外であり、その光量に比べて僅かな光量しかないので、この遮光によって正規の光ビームa0の光量が不足することはない。
【0035】
遮光板30は、絞り223(図6)からポリゴンミラー10の偏向反射面11に至る照明光路中のどの位置に配置してもよいが、本来の光ビームa0に対してフレア光がなるべく広がっている方が遮光が容易なので、絞り223から遠い位置、すなわち、固定平面鏡13と14の間隙15の直前の位置で遮光することが望ましい。
【0036】
また、遮光板30の形状としては、光源21側から見たときに、間隙15の正規の光ビームa0が通る位置より下側で固定平面鏡14の上端以上の範囲を遮光する形状であればよく、遮光板30が固定平面鏡14の裏面と合わせて浮遊光ビームa0’を遮光するようになっていればよい。
【0037】
なお、ポリゴンミラー10の偏向反射面11に入射する光ビームa0の位置は、様々な要因により入射平面内においてポリゴンミラー10の回転軸12に沿う方向でばらつくので、入射光ビームa0の位置に合わせて遮光板30のエッジ31を上下(回転軸12に平行な方向)に調整可能とする位置調節機構を設けるようにすることが望ましい。
【0038】
また、遮光板30の浮遊光ビームa0’が入射する側の面の反射防止機能が不十分な場合においては、遮光板30がポリゴンミラー10の偏向反射面11に平行に配置されていると、遮光板30の表面で反射された浮遊光ビームa0’が副走査断面に投影された場合に射出光ビームa4と平行に走査光学系23に入射してしまう(特にθ1≒θ2の場合)。このような不要反射成分はポリゴンミラー10で全く偏向されず、被走査面24上では移動しないので、遮光板30で反射される不要反射成分が僅かな光量でも問題となってしまう。これを避けるために、遮光板30の浮遊光ビームa0’が入射する側の面の反射防止を十分に行うようにするか、遮光板30の設置角度として、遮光板30で反射された不要反射成分が走査光学系23に入射しない角度、例えば偏向反射面11とは平行とならない角度にすることによって、遮光板30で反射された浮遊光ビームa0’が走査光学系23を経て被走査面24に入射することがないようにできる。
【0039】
なお、光源21から射出される光ビームa0は、図6に示すように、入射平面内において収束ビームに変換されるものを考えていたが、前記のように主走査方向、副走査方向何れにおいても平行なビームの場合にも、浮遊光ビームa0’を遮光する上記のような遮光板30を照明光路中の何れかの位置に配置することは、同様にゴースト防止の上で有効である。
【0040】
なお、入射光ビームa0に伴う浮遊光ビームa0’を射出光ビームa4から離れる側(図2の下側)で遮光するようにすることで、その浮遊光ビームa0’が固定平面鏡13から外れて走査光学系23に入射することが防止できるが、偏向反射面11で反射され、固定平面鏡13で反射されずに射出してきた浮遊射出光ビームaxを、例えば射出光ビームa4の入射光ビームa0から離れる側(図5の上側)に配置した遮光板30(図5)で遮光するようにすることもできる。しかしながら、偏向移動する浮遊射出光ビームaxを遮光するためには、その移動軌跡に沿った長い形状の遮光板30として構成配置する必要がある。したがって、図1、図2のように入射光ビームa0に伴う浮遊光ビームa0’を遮光するようにした方が構造が簡単になりより望ましい。
【0041】
以上、本発明の光走査装置をその原理と実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれらに限定されず、種々の変形が可能である。
【0042】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の光走査装置によれば、光源から回転反射面に至る光路中の、固定平面鏡の回転反射面とは反対側に、入射光ビームのフレア光を遮光する遮光板が配置されているので、照明光学系中の絞り等で回折された回折光等からなる入射光ビームに伴う浮遊光ビームが一方の固定平面鏡から外れて走査光学系に入射して被走査面上でフレアになるのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光偏向光学系を含む光走査装置の1実施例の全体構成を示す斜視図である。
【図2】図1の主要部の光偏向光学系を示す副走査方向の断面図である。
【図3】本発明の先願の光走査装置の全体構成を示す斜視図である。
【図4】図3の主要部の光偏向光学系を示す副走査方向の断面図である。
【図5】図3の光走査装置で入射光ビームに浮遊光ビームが伴っている場合に浮遊射出光ビームが出ることを説明するための図である。
【図6】入射光ビームに浮遊光ビームが伴う理由を説明するための照明光学系の副走査方向の断面図である。
【図7】浮遊射出光ビームがある場合にゴースト像が発生する理由を説明するための図である。
【符号の説明】
a0…入射光ビーム
a0’…浮遊入射光ビーム
a1〜a3…光ビーム
a4…射出光ビーム
ax…浮遊射出光ビーム
b…走査線
R…回折光
P…偏向反射面の位置
10…ポリゴンミラー(回転多面鏡)
11…偏向反射面
12…回転軸
13、14…固定平面鏡
15…間隙
21…光源
22…レンズ系
23…走査光学系
24…被走査面
25…微小ミラー
26…水平同期検出器
30…遮光板
31…遮光板のエッジ
221…コリメータレンズ
222…シリンドリカルレンズ
223…絞り

Claims (8)

  1. 光源と、前記光源から射出される光ビームを偏向する回転反射面を有する偏向器と、前記回転反射面で偏向された光ビームを折り返すように前記回転反射面に対向して配置された2枚の固定平面鏡と、前記回転反射面で偏向された偏向光ビームを被走査面上に結像させる走査光学系とを備え、前記光源から射出されて前記回転反射面に入射した入射光ビームが、前記2枚の固定平面鏡で順次反射されて、前記回転反射面に再度入射するように構成され、かつ、前記回転反射面に最初に入射する前記入射光ビームが前記2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して入射され、前記回転反射面で2回目に反射された前記偏向光ビームが前記2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して射出するように構成された光走査装置において、
    前記光源から前記回転反射面に至る光路中の、前記固定平面鏡の前記回転反射面とは反対側に、前記入射光ビームのフレア光を遮光する遮光板が配置されていることを特徴とする光走査装置。
  2. 前記入射光ビームを含み前記回転反射面の回転軸に平行な平面を入射平面とするとき、前記入射平面内に前記偏向光ビームが含まれる位置での前記入射光ビームの前記回転反射面に対する入射角をθ1、前記回転反射面で2回目に反射された前記偏向光ビームの射出角をθ2とすると、
    0.92≦(θ2/θ1)≦1.25 ・・・(1)
    の関係を満足するように構成されていることを特徴とする請求項1記載の光走査装置。
  3. 前記遮光板は前記入射光ビームの前記偏向光ビームとは反対側を遮るように配置されていることを特徴とする請求項1又は2記載の光走査装置。
  4. 前記遮光板は前記入射ビームの光路中において前記固定平面鏡の直前に配置されていることを特徴とする請求項1からの何れか1項記載の光走査装置。
  5. 前記入射光ビームを含み前記回転反射面の回転軸に平行な平面を入射平面とするとき、前記入射平面内において、前記遮光板は前記回転反射面とは平行とは異なる角度で配置されていることを特徴とする請求項1から4の何れか1項記載の光走査装置。
  6. 前記遮光板は前記回転反射面の回転軸に平行な方向に位置調節可能に配置されていることを特徴とする請求項1から5の何れか1項記載の光走査装置。
  7. 光源と、前記光源から射出される光ビームを偏向する回転反射面を有する偏向器と、前記回転反射面で偏向された光ビームを折り返すように前記回転反射面に対向して配置された2枚の固定平面鏡と、前記回転反射面で偏向された偏向光ビームを被走査面上に結像させる走査光学系とを備え、前記光源から射出されて前記回転反射面に入射した入射光ビームが、前記2枚の固定平面鏡で順次反射されて、前記回転反射面に再度入射するように構成され、かつ、前記回転反射面に最初に入射する前記入射光ビームが前記2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して入射され、前記回転反射面で2回目に反射された前記偏向光ビームが前記2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して射出するように構成された光走査装置において、
    前記回転反射面から前記被走査面に至る光路中の、前記固定平面鏡の前記回転反射面とは反対側に、前記偏向光ビームのフレア光を遮光する遮光板が配置されていることを特徴とする光走査装置。
  8. 請求項1からの何れか1項記載の光走査装置を画像書き込み露光用に用いていることを特徴とする画像形成装置。
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