JP4288451B2 - １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬、農薬及び化学薬品の中間体として有用な化合物である1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オール（以下、「ＨＦＩＰ」と略す）を高純度かつ安価に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及びその課題】
ＨＦＩＰは医薬及び農薬の中間体、とりわけ麻酔剤の中間体等に利用されるため、高純度品を安価に製造することが望まれている。
【０００３】
一方、ヘキサフルオロアセトン水和物を液相状態で水素と接触せしめ、水素化を行うことによるＨＦＩＰの製造方法としては、例えば、特公昭61-25694号公報にパラジウム−炭素触媒を用いた還元反応や、特開平1-301631号公報にパラジウム−アルミナ触媒を用いた還元反応などが知られているが、これらの反応によって得られたＨＦＩＰには、特開平6-184026号公報にも記載されているように、ＨＦＩＰと共沸挙動を示す1,1,1-トリフルオロアセトン（以下、「ＴＦＡ」と略す）が含まれており、高純度のＨＦＩＰを得るには蒸留精製による回収率が低く、生産性を低下させる要因になっている。
【０００４】
本発明は、ＨＦＩＰを高純度かつ安価に製造する方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、ヘキサフルオロアセトン水和物を、液相状態で水素と接触せしめる水素化において、分離上問題となるＴＦＡの副生が少ない触媒を鋭意検討した結果、パラジウム黒等の貴金属触媒が優れた選択性を示すことを見出し、本発明に到達した。
【０００６】
すなわち本発明は、ヘキサフルオロアセトン水和物をパラジウム黒の存在下に液相状態で水素と接触せしめ水素化を行うことを特徴とする１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法を提供するものである。
【０００７】
また本発明は、ヘキサフルオロアセトン水和物を貴金属触媒の存在下に液相状態で水素と接触せしめ水素化を行うことを特徴とする、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの選択率が９９．９％以上である１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】
ヘキサフルオロアセトン水和物は、ヘキサフルオロアセトンを水に吸収させることにより容易に得られ、一般式として（ＣＦ3）2Ｃ（ＯＨ）2・ｘＨ2Ｏ（但し、ｘは０以上である）で表されるジオール構造を有し、安定な形としてｘ＝０の１水和物（融点４６℃）、ｘ＝２の三水和物（沸点１０６℃）が知られているが、これら水和物も水と均一に混合し、水溶液の形で存在するため、ヘキサフルオロアセトン水和物はその水溶液を含め、上記一般式で表される。
【０００９】
本反応に用いられるヘキサフルオロアセトン水和物の含水量は特に規定はないが、２〜１０水和物の液体状態で使用すれば十分であり、好ましくは２．５〜４水和物の液体状態である。なお、水溶液は２．５〜４水和物に相当します。
【００１０】
本発明に用いられる貴金属触媒は、分離困難なＴＦＡを実質的に副生しないものであれば特に限定されないが、特にパラジウム黒が好ましい。
【００１１】
本発明に用いられるパラジウム黒等の貴金属触媒の量については特に限定されないが、ヘキサフルオロアセトン水和物の１水和物として計算した量の０．０５〜５重量％で十分であり、好ましくは０．１〜２重量％の範囲である。
【００１２】
本発明の方法における反応温度は特に限定されないが、好ましくは５０〜１５０℃であり、より好ましくは６０〜１００℃である。
【００１３】
本発明の方法に用いられる水素圧は特に限定されないが、好ましくは０．３〜１．５Mpaであり、より好ましくは０．５〜１Mpaである。
【００１４】
本発明において、ＨＦＩＰの選択率は、ガスクロマトグラフィーにより生成物中のＨＦＩＰの割合を測定すれば良く、好ましくは９９．９％以上、より好ましくは９９．９５％以上、さらに好ましくは９９．９９％以上、特に１００％である。
【００１５】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、触媒としてパラジウム黒を触媒として使用すると、分離困難なＴＦＡは実質的に生成しないため、容易に高純度のＨＦＩＰを得ることができる。
【００１６】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を挙げてさらに詳細に本発明を説明するが、これらは本発明を限定するものではない。
（実施例１）
ヘキサフルオロアセトン・３水和物６０ｇを撹拌装置を備えた２００ｍｌオートクレーブに仕込み、パラジウム黒３６０ｍｇ（０．６重量％）を添加した。
【００１７】
容器内を水素で置換し、バンドヒーターにより１００±５℃に加温した。
【００１８】
水素圧力を０．７ＭＰａに保ち、攪拌を開始すると、水素の吸収が始まった。
【００１９】
７時間後に加熱攪拌を停止し、反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は９７％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で９９．９５％であり、副生成物のＴＦＡは０．０５％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．００％であった。
（実施例２）
パラジウム黒の使用量を２４０ｍｇ（０．４重量％）とした以外は実施例１と同様に反応した。
【００２０】
反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は６８％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で１００．００％であり、副生成物のＴＦＡは０．００％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．００％であった。
（実施例３）
パラジウム黒の使用量を６０ｍｇ（０．１重量％）とした以外は実施例１と同様に反応した。
【００２１】
反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は１４％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で１００．００％であり、副生成物のＴＦＡは０．００％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．００％であった。
（比較例１）
ヘキサフルオロアセトン・３水和物６０ｇを撹拌装置を備えた２００ｍｌオートクレーブに仕込み、５％パラジウム−炭素３ｇ（５重量％）を添加した。
【００２２】
容器内を水素で置換し、バンドヒーターにより７０±５℃に加温した。
【００２３】
水素圧力を０．７ＭＰａに保ち、攪拌を開始すると、水素の吸収が始まった。
【００２４】
５時間後に加熱攪拌を停止し、反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は９８％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で９８．７４％であり、副生成物のＴＦＡは０．６６％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．６０％であった。
（比較例２）
ヘキサフルオロアセトン・３水和物６０ｇを撹拌装置を備えた２００ｍｌオートクレーブに仕込み、５％パラジウム−アルミナ３ｇ（５重量％）を添加した。
【００２５】
容器内を水素で置換し、バンドヒーターにより７０±５℃に加温した。
【００２６】
水素圧力を０．７ＭＰａに保ち、攪拌を開始すると、水素の吸収が始まった。
【００２７】
６時間後に加熱攪拌を停止し、反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は８７％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で９９．２２％であり、副生成物のＴＦＡは０．７８％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．００％であった。
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬、農薬及び化学薬品の中間体として有用な化合物である1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オール（以下、「ＨＦＩＰ」と略す）を高純度かつ安価に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及びその課題】
ＨＦＩＰは医薬及び農薬の中間体、とりわけ麻酔剤の中間体等に利用されるため、高純度品を安価に製造することが望まれている。
【０００３】
一方、ヘキサフルオロアセトン水和物を液相状態で水素と接触せしめ、水素化を行うことによるＨＦＩＰの製造方法としては、例えば、特公昭61-25694号公報にパラジウム−炭素触媒を用いた還元反応や、特開平1-301631号公報にパラジウム−アルミナ触媒を用いた還元反応などが知られているが、これらの反応によって得られたＨＦＩＰには、特開平6-184026号公報にも記載されているように、ＨＦＩＰと共沸挙動を示す1,1,1-トリフルオロアセトン（以下、「ＴＦＡ」と略す）が含まれており、高純度のＨＦＩＰを得るには蒸留精製による回収率が低く、生産性を低下させる要因になっている。
【０００４】
本発明は、ＨＦＩＰを高純度かつ安価に製造する方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、ヘキサフルオロアセトン水和物を、液相状態で水素と接触せしめる水素化において、分離上問題となるＴＦＡの副生が少ない触媒を鋭意検討した結果、パラジウム黒等の貴金属触媒が優れた選択性を示すことを見出し、本発明に到達した。
【０００６】
すなわち本発明は、ヘキサフルオロアセトン水和物をパラジウム黒の存在下に液相状態で水素と接触せしめ水素化を行うことを特徴とする１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法を提供するものである。
【０００７】
また本発明は、ヘキサフルオロアセトン水和物を貴金属触媒の存在下に液相状態で水素と接触せしめ水素化を行うことを特徴とする、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの選択率が９９．９％以上である１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】
ヘキサフルオロアセトン水和物は、ヘキサフルオロアセトンを水に吸収させることにより容易に得られ、一般式として（ＣＦ3）2Ｃ（ＯＨ）2・ｘＨ2Ｏ（但し、ｘは０以上である）で表されるジオール構造を有し、安定な形としてｘ＝０の１水和物（融点４６℃）、ｘ＝２の三水和物（沸点１０６℃）が知られているが、これら水和物も水と均一に混合し、水溶液の形で存在するため、ヘキサフルオロアセトン水和物はその水溶液を含め、上記一般式で表される。
【０００９】
本反応に用いられるヘキサフルオロアセトン水和物の含水量は特に規定はないが、２〜１０水和物の液体状態で使用すれば十分であり、好ましくは２．５〜４水和物の液体状態である。なお、水溶液は２．５〜４水和物に相当します。
【００１０】
本発明に用いられる貴金属触媒は、分離困難なＴＦＡを実質的に副生しないものであれば特に限定されないが、特にパラジウム黒が好ましい。
【００１１】
本発明に用いられるパラジウム黒等の貴金属触媒の量については特に限定されないが、ヘキサフルオロアセトン水和物の１水和物として計算した量の０．０５〜５重量％で十分であり、好ましくは０．１〜２重量％の範囲である。
【００１２】
本発明の方法における反応温度は特に限定されないが、好ましくは５０〜１５０℃であり、より好ましくは６０〜１００℃である。
【００１３】
本発明の方法に用いられる水素圧は特に限定されないが、好ましくは０．３〜１．５Mpaであり、より好ましくは０．５〜１Mpaである。
【００１４】
本発明において、ＨＦＩＰの選択率は、ガスクロマトグラフィーにより生成物中のＨＦＩＰの割合を測定すれば良く、好ましくは９９．９％以上、より好ましくは９９．９５％以上、さらに好ましくは９９．９９％以上、特に１００％である。
【００１５】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、触媒としてパラジウム黒を触媒として使用すると、分離困難なＴＦＡは実質的に生成しないため、容易に高純度のＨＦＩＰを得ることができる。
【００１６】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を挙げてさらに詳細に本発明を説明するが、これらは本発明を限定するものではない。
（実施例１）
ヘキサフルオロアセトン・３水和物６０ｇを撹拌装置を備えた２００ｍｌオートクレーブに仕込み、パラジウム黒３６０ｍｇ（０．６重量％）を添加した。
【００１７】
容器内を水素で置換し、バンドヒーターにより１００±５℃に加温した。
【００１８】
水素圧力を０．７ＭＰａに保ち、攪拌を開始すると、水素の吸収が始まった。
【００１９】
７時間後に加熱攪拌を停止し、反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は９７％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で９９．９５％であり、副生成物のＴＦＡは０．０５％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．００％であった。
（実施例２）
パラジウム黒の使用量を２４０ｍｇ（０．４重量％）とした以外は実施例１と同様に反応した。
【００２０】
反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は６８％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で１００．００％であり、副生成物のＴＦＡは０．００％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．００％であった。
（実施例３）
パラジウム黒の使用量を６０ｍｇ（０．１重量％）とした以外は実施例１と同様に反応した。
【００２１】
反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は１４％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で１００．００％であり、副生成物のＴＦＡは０．００％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．００％であった。
（比較例１）
ヘキサフルオロアセトン・３水和物６０ｇを撹拌装置を備えた２００ｍｌオートクレーブに仕込み、５％パラジウム−炭素３ｇ（５重量％）を添加した。
【００２２】
容器内を水素で置換し、バンドヒーターにより７０±５℃に加温した。
【００２３】
水素圧力を０．７ＭＰａに保ち、攪拌を開始すると、水素の吸収が始まった。
【００２４】
５時間後に加熱攪拌を停止し、反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は９８％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で９８．７４％であり、副生成物のＴＦＡは０．６６％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．６０％であった。
（比較例２）
ヘキサフルオロアセトン・３水和物６０ｇを撹拌装置を備えた２００ｍｌオートクレーブに仕込み、５％パラジウム−アルミナ３ｇ（５重量％）を添加した。
【００２５】
容器内を水素で置換し、バンドヒーターにより７０±５℃に加温した。
【００２６】
水素圧力を０．７ＭＰａに保ち、攪拌を開始すると、水素の吸収が始まった。
【００２７】
６時間後に加熱攪拌を停止し、反応液をＧＣ及びＮＭＲ分析した結果、ヘキサフルオロアセトン・３水和物の反応率は８７％、ＨＦＩＰの選択率はＧＣ分析で９９．２２％であり、副生成物のＴＦＡは０．７８％、1,1,1-トリフルオロイソプロパノールは０．００％であった。
Claims (1)
- ヘキサフルオロアセトン水和物をパラジウム黒の存在下に液相状態で水素と接触せしめ水素化を行うことを特徴とする１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001084401A JP4288451B2 (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001084401A JP4288451B2 (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002275107A JP2002275107A (ja) | 2002-09-25 |
| JP4288451B2 true JP4288451B2 (ja) | 2009-07-01 |
Family
ID=18940079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001084401A Expired - Lifetime JP4288451B2 (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4288451B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7524995B1 (en) | 2008-06-12 | 2009-04-28 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Continuous process to produce hexafluoroisopropanol |
| JP6237862B1 (ja) * | 2016-11-16 | 2017-11-29 | セントラル硝子株式会社 | ヘキサフルオロイソプロパノール及び、フルオロメチル ヘキサフルオロイソプロピルエーテル（セボフルラン）の製造方法 |
-
2001
- 2001-03-23 JP JP2001084401A patent/JP4288451B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002275107A (ja) | 2002-09-25 |
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