JP4037815B2 - レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置 - Google Patents
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Description
(1)ヒートシンクとレーザダイオードを接合するソルダー層の変質
(2)レーザダイオードと上部電極の接点の変質
(3)レーザダイオードの反り及び変形
(1)ヒートシンクとレーザダイオードとを接合するソルダー層の変質
接合時に界面の金属とソフトソルダーとの合金化で形成されたグレインが原因で、その後のレーザダイオードの発光中にクラック又はボイドが発生するが、このクラック又はボイドの発生を抑制して、ソフトソルダーの役割であるヒートシンクとレーザダイオードの熱膨張の違いを緩和するための可塑性を維持させ、ソフトソルダー層の高熱抵抗化を抑制する。
(2)レーザダイオードと上部電極の接点の変質
上部電極として接触型のコイル電極を使用することにより、レーザダイオードのサンドイッチ体と電極界面との歪みを緩和する。
(3)レーザダイオードの反り及び変形
レーザダイオードの上下をレーザダイオードと同程度の熱膨張率を持った基板2枚でサンドイッチすることにより、反り及び変形を抑制する。
(1)の課題であるヒートシンクとレーザダイオードを接合するソルダー層の変質を抑制し、熱膨張率差を緩和するための層としての機能を維持するためには、第1に、実装時に接合表面の金属とソフトソルダーが合金化する割合を抑制することである。実装後に合金化していないソフトソルダー部分を長期間残存させることにより、応力緩和層としての機能を維持できる。合金化の割合はレーザダイオードを実装前のヒートシンク上のソフトソルダー層の厚さで制御することが可能である。接触する表面の金属の種類と、実装する温度、融解時間の実装条件を固定し、ソフトソルダー層の実装前の厚さをパラメータとして、図10に示すようにソフトソルダー層の厚さとモジュールの故障確率を調べることで、ソフトソルダーの必要な厚さを規定することができる。
102 発光面
103 発光領域
104 電極面
201 積層体
202 冷却ヒートシンク
203 レーザダイオードバー
204 ラバーシート
205 金属シート
206 ボンディングワイヤー
207 冷却水通路
301 レーザダイオード
302 端子板
303 ハードソルダー
304 端子板
305 ハードソルダー
306 ソフトソルダー・弾性接着剤
307 リード端子
308 ヒートシンク
309 側面
310 鏡面層
311 冷却体
312 冷却媒体案内部
313 端子板下部
314 冷却水
401 レーザダイオードモジュール
402 第一のソルダー
403 吸熱体の内面
404 第2のソルダー
405 蓋の内面
406 吸熱体の底面
407 吸熱体
408 蓋
409 吸熱体の外面
410 蓋の外面
411 放出面
412 反射面
413 吸熱体の頂面
414 蓋の上端
415 レーザダイオード第1面
416 レーザダイオード第2面
417 蓋の下面
501 固定部
502 ベース
503 レーザダイオードスタック
504 バネ
505 絶縁シート
601 レーザダイオード
602 サブマウント基板
603 ハードソルダー層
604 サンドイッチ体
605 ヒートシンク
606 ソフトソルダー層
607 コイル電極
608 押さえ電極
609 絶縁スペーサ
610 止めネジ
611 端子線
802 コイル径
803 塑性変形が開始するときのコイル径
804 可動範囲
901 渡り押さえ電極
902 ヒートシンク
903 コイル電極
904 サブマウント
905 レーザダイオード
906 サンドイッチ体
907 止めネジ
908 固定台
909 端子線
1002 高さ
1405 サブマウント基板上金属
1406 ソフトソルダー層に表面金属が拡散して合金を形成した層
1407 ソフトソルダー層全体に合金化されたグレインが分散された層
1801 レーザダイオードバー
1802 はがれ
1803 ハードソルダー
1804 ヒートシンク
1805 サブマウント基板
1806 ソフトソルダー
1807 ボンディングワイヤー
1901 インジウムソルダー実装部分
1902 クラック
1903 ボイド
1904 はがれ
1905 InAu合金グレイン
2001 ヒートシンク
2002 サンドイッチ体
2003 コイル電極
2004 ホルダー
2005 渡り押さえ電極
2006 渡り電極
2007 電極端子
2008 冷却水導入口
2009 押さえ板
2010 止めネジ
2011 ネジ穴
2201 アレイレーザダイオードモジュール
2202 Nd:YAGレーザロッド
2203 ファイバー
2204 リアミラー
2205 出力光
2301 レーザ装置
2302 レーザ光
2303 ファイバー
2304 対物レンズ
2305 鉄板
2306 界面
Claims (15)
- レーザダイオードと、このレーザダイオードの両電極面に夫々第1のソルダー層を介して接合された第1の基板及び第2の基板と、前記第1の基板に第2のソルダー層を介して接合されたヒートシンクと、このヒートシンクに対して所定間隔に配置された押さえ電極と、前記第2の基板と前記押さえ電極との間にその軸方向を前記第2の基板に平行にして設けられたコイル電極と、を有し、前記押さえ電極及び前記コイル電極により前記コイル電極が前記第2の基板に押圧されることを特徴とするレーザダイオードモジュール。
- 前記押さえ電極は前記ヒートシンクに対し絶縁性スペーサを介して所定の間隔で固定されており、前記コイル電極が弾性的に変形することにより前記コイル電極が前記第2の基板に押圧されることを特徴とする請求項1に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記コイル電極は、コイル素線の周面に、金膜が被覆されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記第1の基板及び第2の基板は、前記レーザダイオードの前記電極面の全域で接合されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の、レーザダイオードモジュール。
- 前記第1のソルダー層は、Au,Ag,Al,Si,Geからなる群から選択された元素を主成分とするハードソルダーを使用したものであり、前記第2のソルダー層は、Pb,Sn,In,Sb,Biからなる群から選択された元素を主成分とするソフトソルダーを使用したものであり、前記ハードソルダーは、前記ソフトソルダーよりも、融点が高いことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記レーザダイオードの前記第1及び第2の基板との間の接合面には金膜が被覆されており、前記第1及び第2の基板の前記レーザダイオードとの間の接合面に金膜が被覆されていて、前記第1のソルダー層は、AuSn合金からなるハードソルダーを使用したものであることを特徴とする請求項5に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面には、夫々第1の金属膜が形成されており、前記第1の金属膜と、前記第2のソルダー層との界面に合金相が形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記第2のソルダー層は、その表面に前記合金相が形成された後に、前記前記第1の基板と前記ヒートシンクとの間の熱膨張の差により生じる歪みを緩和するのに十分な厚さになるように、前記合金相と合金化されずに残存する前記第2のソルダー層との比率が制御されていることを特徴とする請求項7に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面には、夫々金膜が形成されており、前記第2のソルダー層は、Inからなるソフトソルダーを使用したものであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面に形成された金膜と、前記第2のソルダー層のIn層との間で、前記In層に前記金膜の金が拡散して合金相が形成されていることを特徴とする請求項9に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記In層は、その表面に前記合金相が形成された後に、前記第1の基板と前記ヒートシンクとの間の熱膨張の差により生じる歪みを緩和するのに十分な厚さになるように、前記合金相と合金化されずに残存する前記In層との比率が制御されていることを特徴とする請求項10に記載のレーザダイオードモジュール。
- 前記レーザダイオードはGaAs基板上に形成されており、前記第1及び第2の基板は銅タングステン合金により形成されていることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュール。
- 請求項1乃至12のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュールが2個以上横方向に並んでいるアレイ状のレーザダイオードモジュールであって、前記押さえ電極の前記コイル電極上の部分ではない部分が、隣接するレーザダイオードモジュールのヒートシンクに接続されていることを特徴とするアレイ状のレーザダイオードモジュール。
- 請求項1乃至13のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュールを固体レーザ結晶の励起光源に使用することを特徴とするレーザ装置。
- 請求項1乃至13のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュールを内蔵したレーザ装置と、このレーザ装置から発生する光を誘導するための光ファイバーと、光ファイバーから出力する光を集光するためのレンズと、所定の位置に集光されたレーザ光を照射する照射系とを有することを特徴とするレーザ加工装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003336594A JP4037815B2 (ja) | 2003-09-29 | 2003-09-29 | レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置 |
US10/942,809 US7154926B2 (en) | 2003-09-29 | 2004-09-17 | Laser diode module, laser apparatus and laser processing apparatus |
EP04022431A EP1519458B1 (en) | 2003-09-29 | 2004-09-21 | Laser diode module, laser apparatus and laser processing apparatus |
DE602004003196T DE602004003196T2 (de) | 2003-09-29 | 2004-09-21 | Laserdiodenmodul, Laservorrichtung und Laserbearbeitungsvorrichtung |
KR1020040077104A KR20050031428A (ko) | 2003-09-29 | 2004-09-24 | 레이저 다이오드 모듈, 레이저 장치 및 레이저 가공장치 |
TW093129282A TW200515666A (en) | 2003-09-29 | 2004-09-27 | Laser diode module, laser apparatus and laser processing apparatus |
CNA200410083217XA CN1604410A (zh) | 2003-09-29 | 2004-09-29 | 激光二级管模块、激光器设备和激光加工设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003336594A JP4037815B2 (ja) | 2003-09-29 | 2003-09-29 | レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005108907A JP2005108907A (ja) | 2005-04-21 |
JP4037815B2 true JP4037815B2 (ja) | 2008-01-23 |
Family
ID=34191541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003336594A Expired - Fee Related JP4037815B2 (ja) | 2003-09-29 | 2003-09-29 | レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7154926B2 (ja) |
EP (1) | EP1519458B1 (ja) |
JP (1) | JP4037815B2 (ja) |
KR (1) | KR20050031428A (ja) |
CN (1) | CN1604410A (ja) |
DE (1) | DE602004003196T2 (ja) |
TW (1) | TW200515666A (ja) |
Families Citing this family (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4600733B2 (ja) * | 2004-07-12 | 2010-12-15 | ソニー株式会社 | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
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-
2003
- 2003-09-29 JP JP2003336594A patent/JP4037815B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-09-17 US US10/942,809 patent/US7154926B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-21 DE DE602004003196T patent/DE602004003196T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-21 EP EP04022431A patent/EP1519458B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-09-24 KR KR1020040077104A patent/KR20050031428A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-09-27 TW TW093129282A patent/TW200515666A/zh unknown
- 2004-09-29 CN CNA200410083217XA patent/CN1604410A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005108907A (ja) | 2005-04-21 |
EP1519458B1 (en) | 2006-11-15 |
EP1519458A3 (en) | 2005-06-22 |
US7154926B2 (en) | 2006-12-26 |
KR20050031428A (ko) | 2005-04-06 |
US20050069266A1 (en) | 2005-03-31 |
TW200515666A (en) | 2005-05-01 |
EP1519458A2 (en) | 2005-03-30 |
CN1604410A (zh) | 2005-04-06 |
DE602004003196D1 (de) | 2006-12-28 |
DE602004003196T2 (de) | 2007-09-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071010 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071023 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071101 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111109 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121109 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |