JP3800051B2

JP3800051B2 - ジフルオロプロピレンオキシ基を結合基とする液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子

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Publication number: JP3800051B2
Application number: JP2001243568A
Authority: JP
Inventors: 秋一松井; 康幸笹田; 和利宮沢; 弘行竹内; 勝行河野; 恭宏久保; 悦男中川; 真由美古谷
Original assignee: Chisso Petrochemical Corp; Chisso Corp
Current assignee: JNC Corp; JNC Petrochemical Corp
Priority date: 2000-08-10
Filing date: 2001-08-10
Publication date: 2006-07-19
Anticipated expiration: 2021-08-10
Also published as: JP2003002858A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶性化合物および液晶組成物に関し、さらに詳しくは液晶組成物、特に、ＴＮモード用、ＳＴＮモード用、ＴＦＴモード用、ＯＣＢモード用液晶組成物の成分として好適な液晶物性を示すジフルオロプロピレンオキシ基を結合基とする液晶性化合物、これを含む液晶組成物およびこの液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子に関する。なお、本発明において液晶性化合物という用語は、液晶相を有する化合物および液晶相を示さないが液晶組成物の構成成分として有用な化合物の総称として用いる。
【０００２】
【背景技術】
液晶表示素子は液晶物質がもつ光学異方性および誘電率異方性を利用したものであるが、その表示方式によってねじれネマチック（ＴＮ）モード、動的散乱（ＤＳ）モード、ゲストホスト（ＧＨ）モード、配向相変（ＤＡＰ）モード、超ねじれネマチック（ＳＴＮ）モード、電圧制御複屈折（ＶＣＢ、ＥＣＢまたはＴＢ）モード、垂直配向（ＶＡ）モード、マルチドメイン垂直配向（ＭＶＡ）モード、ＯＣＢモードなどの各種方式に分けられ、それぞれの方式に適する液晶物質の性質は異なる。
どの方式で用いられるかを問わず、いずれの液晶物質にも共通の性質として以下の特性が必要である。
【０００３】
１）水分、空気、熱、光等の外的環境因子に対して安定であること。
２）室温を中心とした広い温度範囲で液晶相を示すこと。
３）低粘度であること。
４）表示素子を駆動させた場合にその駆動電圧を低くなし得ること。
５）最適な誘電率異方性（△ε）を有すること。
６）最適な屈折率異方性（△ｎ）を有すること。
【０００４】
しかし、現在のところ単一化合物では上記の特性を全て満たす物質はなく、数種〜二十数種の液晶性化合物を混合した液晶組成物として、この混合物である液晶組成物を液晶表示素子に使用しているのが現状である。
その為、組成物成分として用いられる液晶性化合物は相互に良好な相溶性を示すことが必要である。最近は様々な環境下でも使用できることが要求されていることから特に極低温においても良好な相溶性を示すことが望まれている。
【０００５】
近年は例えばコントラスト、表示容量、応答時間等、表示性能のより高い液晶表示素子が要求されており、その要求に応えるため、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）方式に代表されるアクティブマトリックス方式の表示素子に対する需要が主にテレビジョンやビューファインダー等の分野で高まっている。
ＳＴＮ方式の表示素子についても、大きい表示容量を持ちながら製造工程が簡単で低コストであることから携帯電話、パーソナルコンピューター等のディスプレイ分野に多用されている。
これらの分野における近年の開発傾向は、小型かつ軽量化により携帯可能としたテレビやノート型パーソナルコンピューターに見られるごとく液晶表示素子の小型化や携帯化を中心に進められている。これに伴って使用される液晶材料には駆動電圧の低いもの、すなわちしきい値電圧の低下を可能とする液晶性化合物およびこれを含むしきい値電圧の低い液晶組成物が要求されている。
【０００６】
しきい値電圧（Ｖｔｈ）は、良く知られているように、下式により示される（H.J.Deuling, et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst., 27(1975)81）。
Ｖｔｈ＝π（Ｋ／ε0△ε）^1/2
上式においてＫは液晶材料の弾性定数、ε0は真空中の誘電率である。
該式から判るように、Ｖｔｈを低下させるには、△εを大きくするかまたはＫを小さくするかの二通りの方法が考えられる。しかし、現在の技術では未だ実際に液晶材料の弾性定数Ｋをコントロールすることは困難であり、通常は△εの大きな液晶材料を用いて要求に対処している。この様な事情から△εの大きな液晶性化合物の開発が盛んに行われてきた。
【０００７】
液晶性化合物において、△εを増大させる方法として、シアノ基やトリフルオロメチル基といった大きなダイポールモーメントを有する置換基を分子末端基として保有させる方法がよく知られている。また、ダイポールモーメントの向きが末端置換基のダイポールモーメントの向きと同じく分子長軸方向となるように、化合物を構成する１,４−フェニレン基にフッ素を置換する方法も効果的である。しかし一般に１,４−フェニレン基に置換したフッ素の数と粘度とは比例的な関係があること、および置換したフッ素の数が増えれば化合物の透明点が低下することから、粘度の上昇と透明点の低下を共に抑制しながら△εのみを向上させることは困難と考えられてきた。
【０００８】
近年情報端末、携帯ゲーム機等としての用途に液晶表示素子が普及している。これら表示素子は電池で駆動されるため、しきい値電圧が低いこと、かつ長時間の使用の追求から消費電力が低いことが要求される。特に素子自身の消費電力を低くするために、最近ではバックライトを必要としない反射型の表示素子の開発が盛んであり、今後携帯電話等への利用が増加するものと予想される。これら反射型の表示素子に使用される液晶組成物にはしきい値電圧が低いことの他に、その屈折率異方性値（△ｎ）が小さなものが要求される。この為組成物を構成する液晶材料としても誘電率異方性値が大きくかつ屈折率異方性値が小さな液晶性化合物の開発がこの分野の鍵と成っている。ＴＦＴ方式の液晶表示素子に使用する低電圧駆動用の液晶材料の代表として下記の化合物（１３）および（１４）（特開平２−２３３６２６号公報）を示すことができる。
【０００９】
【化７】

（式中Ｒはアルキル基を表す。）
【００１０】
化合物（１３）および（１４）は何れも分子の末端に３,４,５−トリフルオロフェニル基を有し、低電圧駆動用の液晶材料として期待されているものである。しかし、上述の反射型表示素子用途としては化合物（１３）は誘電率異方性値（△ε＝〜１０）が小さく、また化合物（１４）は誘電率異方性値（△ε＝〜１２）では満足できるものの、屈折率異方性値が約０.１２と大きく、これら化合物の使用では上述の要求を十分満足できる液晶組成物の調製は困難と考えられる。
【００１１】
また近年液晶表示素子の最大の問題点である視野角の狭さを克服する方式としてインプレーン・スイッチング（ＩＰＳ）モード、垂直配向（ＶＡ）モード、マルチドメイン垂直配向（ＭＶＡ）モード、ＯＣＢモード等の新規な方式が発表されている。これらのモードのうち、特にＶＡモードおよびＭＶＡモードは視野角の広さに加え、応答性にも優れており、さらには高コントラストであることから各ディスプレイメーカーでの開発が盛んである。これらの方式の液晶表示素子に使用される液晶組成物の特徴は比較的小さな屈折率異方性であり、かつ誘電率異方性が負の液晶組成物である点にある。大きな負の誘電率異方性を示す化合物として、例えば下記の化合物（１５）が報告されている（V. Reiffenrath et al., Liq. Cryst., 5(1), 159(1989)）。
【００１２】
【化８】

【００１３】
該文献から上記化合物（１５）は誘電率異方性値が△ε＝−４.１と負に大きな値を示すことが判るものの、その屈折率異方性値は△ｎ＝０.１８と大きく前記のＶＡモードあるいはＭＶＡモードの要求を満たすことは困難と予想される。
【００１４】
以上の説明のように正および負に大きな誘電率異方性であり、かつ比較的小さな屈折率異方性を示す液晶性化合物が待望されている。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記の従来技術の欠点を解消し、誘電率異方性の絶対値（｜Δε｜）が大きく、かつ比較的小さな屈折率異方性値を示す液晶性化合物を提供すること、この化合物を含有することにより種々の表示方式において低電圧駆動を可能とする液晶組成物を提供すること、およびこの液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記目的を達成するために鋭意検討した結果、ジフルオロプロピレンオキシ基を結合基とする式（１）で表される化合物が、誘電率異方性の絶対値（｜Δε｜）が大きく、かつ比較的小さな屈折率異方性値を示すことを見いだした。またこれらの化合物を用いた液晶組成物が、様々な液晶表示素子を低電圧で駆動するのに最適な材料であることを見いだし、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明の構成は以下の通りである。
【００１７】
本発明の第１は、
［１］式（１）
【化９】

（式中、Ｒ¹およびＲ²は各々独立して水素、ハロゲン、シアノ基または炭素数１〜２０のアルキル基であり、該アルキル基中の１つ以上の−ＣＨ₂−は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−または−Ｓ−で置換されていても良いが−Ｏ−が連続することはなく、また該基中の１つ以上の水素はハロゲンで置換されていても良く；
環Ａ¹〜環Ａ⁵は各々独立して、隣り合わない１つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−または−Ｓ−で置換されていても良い１,４−シクロヘキシレン基、１,４−シクロヘキセニレン基、あるいは１つ以上の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置換されていても良く、また環上の水素がハロゲンで置換されていても良い１,４−フェニレン基であり；
Ｚ¹〜Ｚ⁴は各々独立して単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ₂Ｏ−、または−ＯＣＦ₂−であり；
Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴は各々独立して水素またはフッ素であり；
ｋ、ｌ、ｍおよびｎは各々独立して０または１である）で表される液晶性化合物である。
【００１８】
本発明の第１の態様は以下の［２］ないし［１０］項に記される。
［２］式（１−１）〜（１−６）
【化１０】

（式中Ｒ¹、Ｒ²、環Ａ¹〜Ａ⁵、Ｚ¹〜Ｚ⁴、およびＹ¹〜Ｙ⁴は前記と同一の意味を表す）で表される液晶性化合物。
【００１９】
［３］式（１）において環Ａ³が１,４−シクロヘキシレン基である液晶性化合物。
【００２０】
［４］式（１）においてＹ¹とＹ³が共にフッ素、Ｙ²とＹ⁴が共に水素である液晶性化合物。
【００２１】
［５］式（１）においてＹ¹とＹ²が共に水素である液晶性化合物。
【００２２】
［６］式（１−１）において環Ａ³が１,４−シクロヘキシレン基、Ｙ¹とＹ³が共にフッ素、Ｙ²とＹ⁴が共に水素である液晶性化合物。
【００２３】
［７］式（１−１）において環Ａ³が１,４−シクロヘキシレン基、Ｙ¹とＹ²が共に水素である液晶性化合物。
【００２４】
［８］式（１−２）において環Ａ²および環Ａ³が共に１,４−シクロヘキシレン基、Ｙ¹とＹ³が共にフッ素、Ｙ²とＹ⁴が共に水素である液晶性化合物。
【００２５】
［９］式（１−２）において環Ａ²および環Ａ³が共に１,４−シクロヘキシレン基、Ｙ¹とＹ²が共に水素である液晶性化合物。
【００２６】
［１０］式（１−３）において環Ａ³が２,３−ジフルオロ−１,４−フェニレン基である液晶性化合物。
【００２７】
本発明の第２は、
［１１］第［１］〜［１０］項のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有する液晶組成物であり、その態様は以下の第［１２］〜［１８］項に記載される。
【００２８】
［１２］第［１１］項において、第二成分として、式（２）、（３）および（４）
【化１１】

（式中、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキル基であり、この基中の相隣接しない任意の−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置換されてもよく；Ｘ¹はフッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＦ₂Ｈ、−ＣＦ₃、−ＣＦ₂Ｈ、−ＣＦＨ₂、−ＯＣＦ₂ＣＦ₂Ｈまたは−ＯＣＦ₂ＣＦＨＣＦ₃であり；Ｌ¹およびＬ²は各々独立して水素またはフッ素であり；Ｚ⁵およびＺ⁶は各々独立して−(ＣＨ₂)₂−、−(ＣＨ₂)₄−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合であり；環Ａおよび環Ｂはそれぞれ独立して１,４−シクロヘキシレン、１,３−ジオキサン−２,５−ジイル、または水素がフッ素で置換されていても良い１,４−フェニレンであり、環Ｃは１,４−シクロヘキシレンまたは水素がフッ素で置換されてもよい１,４−フェニレンである）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
【００２９】
［１３］第［１１］項において、第二成分として、式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
【００３０】
【化１２】

（式中、Ｒ⁴およびＲ⁵は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基であり、この基中の相隣接しない任意の−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置換されてもよく；Ｘ²は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｄは１,４−シクロヘキシレン、１,４−フェニレン、１,３−ジオキサン−２,５−ジイルまたはピリミジン−２,５−ジイルであり；環Ｅは１,４−シクロヘキシレン、水素がフッ素で置換されてもよい１,４−フェニレン、またはピリミジン−２,５−ジイルであり；環Ｆは１,４−シクロヘキシレンまたは１,４−フェニレンであり；Ｚ⁷は−(ＣＨ₂)₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−または単結合であり；Ｌ³、Ｌ⁴およびＬ⁵は各々独立して水素またはフッ素であり；ｂ、ｃおよびｄは各々独立して０または１である。）
【００３１】
［１４］第［１１］項において、第二成分として、式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
【００３２】
【化１３】

（式中、Ｒ⁶およびＲ⁷は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基であり、この基中の相隣接しない任意の−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置換されてもよく；環Ｇおよび環Ｉは各々独立して、１,４−シクロヘキシレンまたは１,４−フェニレンであり；Ｌ⁶およびＬ⁷は各々独立して水素またはフッ素であるがＬ⁶およびＬ⁷が同時に水素であることはなく；Ｚ⁸およびＺ⁹は各々独立して−(ＣＨ₂)₂−、−ＣＯＯ−または単結合である。）
【００３３】
［１５］第［１１］項において、第二成分として、前記式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
【００３４】
【化１４】

（式中、Ｒ⁸およびＲ⁹は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基であり、この基中の相隣接しない任意の−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置換されてもよく；環Ｊ、環Ｋおよび環Ｍは各々独立して、１,４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイル、または水素がフッ素で置換されてもよい１,４−フェニレンであり；Ｚ¹⁰およびＺ¹¹は各々独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−(ＣＨ₂)₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合である。）
【００３５】
［１６］第［１１］項において、第二成分として、前記式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
【００３６】
［１７］第［１１］項において、第二成分として、前記式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物少なくとも１種含有する液晶組成物。
【００３７】
［１８］第［１１］項において、第二成分として、前記式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第四成分として、前記式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
【００３８】
本発明の第３は、
［１９］第［１１］〜［１８］項のいずれか１項に記載の液晶組成物に、さらに１種以上の光学活性化合物を含有する液晶組成物である。
【００３９】
本発明の第４は、
［２０］前記の第［１１］〜［１９］項のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子である。
【００４０】
【発明の実施の形態】
式（１）で表される本発明の化合物は、ジフルオロプロピレンオキシ基中の−Ｏ−が、フッ素が置換していても良い１,４−フェニレン基に直結した部分構造を有することを特徴とする。式（１）の化合物において環Ａ³が１,４−シクロヘキシレン基である化合物は高い透明点を有し、また、環Ａ³が１,４−フェニレン基である化合物は誘電率異方性の絶対値が大きい。また、式（１）の化合物においてＹ¹およびＹ²が共に水素である化合物はニュートラルまたは正の誘電率異方性を示す。中でもＹ³およびＹ⁴の何れか少なくとも一つがフッ素である化合物は正に大きな誘電率異方性を示す。例えば後述の実施例で示す本願化合物（化合物Ｎｏ.４０）ではその誘電率異方性が△ε＝１３.７であり、ジフルオロプロピレンオキシ基に対応する結合基が単結合である化合物（（１３−１）：△ε＝９.７）と比較し、遥かに大きな値を示す。
【００４１】
【化１５】

【００４２】
一方、式（１）の化合物においてＹ¹およびＹ³が共にフッ素であり、Ｙ²およびＹ⁴が共に水素である化合物は負に大きな誘電率異方性を示す。さらに式（１）の化合物は例えば本発明の特徴であるジフルオロプロピレンオキシ基が単結合である化合物と比較し、高い透明点を有しながら、ほぼ同等の屈折率異方性を示す。これらのことから式（１）の化合物は、背景技術の項で説明した反射型の液晶表示素子をはじめとし、ＶＡ、ＭＶＡ方式用の液晶組成物を構成する液晶性化合物として好適な特徴を有することが分る。
【００４３】
ジフルオロプロピレンオキシ基を結合基とする一部の化合物についてはＷＯ９７／３７９５９号に本発明と類似する化合物の一般式での記述はあるものの、具体的化合物の構造式ならびに物性値の開示はなく、上記の本発明化合物の優れた特性については本発明者等が初めて見出したものである。
【００４４】
式（１）で表される液晶性化合物は、式中のｋ、ｌ、ｍおよびｎを適宜選択することにより次の式（１−１）〜（１−６）で表される化合物の群に展開される。
【００４５】
【化１６】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、環Ａ¹〜Ａ⁵、Ｚ¹〜Ｚ⁴およびＹ¹〜Ｙ⁴は前記と同一の意味を表す。）
【００４６】
これら下位概念の式の化合物中、式（１−１）である二環系の化合物は、△εの絶対値が比較的大きく、比較的小さな△ｎであり、また、低粘度であると共に低温における相溶性も良好である。この化合物を液晶組成物の成分として使用する場合、組成物の△εの絶対値を維持しながらその粘度を低下させることができるので、高速応答用の液晶組成物を与えることもできる。
【００４７】
また式（１−２）もしくは式（１−３）で表される三環系の化合物は△εの絶対値が大きく、比較的小さな△ｎであり、また液晶相を示す温度範囲が比較的広い。この化合物を液晶組成物の成分として使用する場合、組成物の透明点を低下させずに△εの絶対値を大きくすることができるので、低電圧駆動用の液晶組成物を与えることができる。
【００４８】
式（１−４）〜（１−６）で表される四環系の化合物は△εの絶対値が大きく、比較的小さな△ｎを示す。また液晶相を示す温度範囲は高温側で広い。そのため、これらの化合物を液晶組成物の成分として使用する場合、組成物の△εの絶対値を大きくし、かつ液晶組成物が示す液晶相温度範囲を高温側に拡大することができる。
さらにこれらの式においてＹ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴のいずれか少なくとも１つがフッ素である化合物は低温相溶性に優れた特徴を有する。
【００４９】
本発明の式（１）で表される化合物において、Ｒ¹およびＲ²は各々独立して水素、ハロゲン、シアノ基、または基中の−ＣＨ₂−が−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−または−Ｓ−で置換されていても良いが、−Ｏ−が連続することはなく、また該基中の１つ以上の水素がハロゲンで置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基であり；環Ａ¹〜環Ａ⁵は各々独立して、隣り合わない１つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−または−Ｓ−で置換されていても良い１,４−シクロヘキシレン基、１,４−シクロヘキセニレン基、あるいは１つ以上の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置換されていても良く、また環上の水素がハロゲンで置換されていても良い１,４−フェニレン基であり；Ｚ¹〜Ｚ⁴は各々独立して単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ₂Ｏ−、または−ＯＣＦ₂−であり；Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴は各々独立して水素またはフッ素であり；ｋ、ｌ、ｍおよびｎは各々独立して０または１である。
【００５０】
上記においてＲ¹およびＲ²は具体的には水素、ハロゲン、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、アルキニル基、フッ素置換アルキル基、フッ素置換アルコキシ基、フッ素置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルオキシ基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルキニル基等を示す。
【００５１】
より具体的にはフッ素、塩素、臭素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、メチルチオプロピル基、エチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、３−ブテニル基、３−ペンテニル基、エチニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、３−ペンチニル基、アリルオキシ基、トリフルオロメチル基、フルオロメチル基、２−フルオロエチル基、ジフルオロメチル基、２,２,２−トリフルオロエチル基、１,１,２,２−テトラフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基、フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、１,１,２,２−テトラフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、１,１,２,３,３,３−ヘキサフルオロプロポキシ基、トリフルオロメトキシメチル基、２−フルオロエテニル基、２,２−ジフルオロエテニル基、１,２,２−トリフルオロエテニル基、３−フルオロ−１−ブテニル基、４−フルオロ−１−ブテニル基、トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、１,１,２,２−テトラフルオロエチルチオ基、２,２,２−トリフルオロエチルチオ基等を示す。
【００５２】
上記において環Ａ¹〜環Ａ⁵については具体的には（ｒ−１）〜（ｒ−２４）で示される環構造のものが好適である。
【００５３】
【表１】

【００５４】
本発明により提供される液晶組成物は、式（１）の液晶性化合物を少なくとも１種類含む第一成分のみでもよいが、これに加え、第二成分として既述参照の式（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物（以下第二Ａ成分と称する）および／または式（５）および（６）からなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物（以下第二Ｂ成分と称する）を含有したものが好ましく、さらに、しきい値電圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性値、誘電率異方性値および粘度等を調整する目的で、式（７）、（８）および（９）からなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物を第三成分として含有することもできる。また、本発明に使用される液晶組成物の各成分は物性に大きな差異が無いことから、各元素の同位体からなる類縁体でも差し支えない。
【００５５】
上記第二Ａ成分のうち、式（２）に含まれる化合物の好適例として次の（２−１）〜（２−９）、式（３）に含まれる化合物の好適例として（３−１）〜（３−９７）、式（４）に含まれる化合物の好適例として（４−１）〜（４−３３）をそれぞれ挙げることができる。
【００５６】
【化１７】

【００５７】
【化１８】

【００５８】
【化１９】

【００５９】
【化２０】

【００６０】
【化２１】

【００６１】
【化２２】

【００６２】
【化２３】

【００６３】
【化２４】

【００６４】
【化２５】

【００６５】
【化２６】

【００６６】
【化２７】

【００６７】
【化２８】

【００６８】
【化２９】

（式中、Ｒ³、Ｘ¹は前記と同じ意味を表す。）
【００６９】
これらの式（２）〜（４）で示される化合物は、誘電率異方性値が正であり、熱安定性や化学的安定性が非常に優れているので、主としてＴＦＴ用の液晶組成物に用いられる。ＴＦＴ用の液晶組成物を調製する場合、該化合物の使用量は、液晶組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲であることが好ましい。より好ましくは１０〜９７重量％、さらに好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。また式（１０）〜（１２）で表される化合物を粘度調整の目的でさらに含有していても良い。
【００７０】
次に、前記第二Ｂ成分のうち、式（５）および（６）に含まれる化合物の好適例として、それぞれ（５−１）〜（５−５８）および（６−１）〜（６−３）を挙げることができる。
【００７１】
【化３０】

【００７２】
【化３１】

【００７３】
【化３２】

【００７４】
【化３３】

【００７５】
【化３４】

【００７６】
【化３５】

（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＸ²は前記と同じ意味を表す。）
【００７７】
これらの式（５）および（６）で示される化合物は、誘電率異方性値が正でその値が非常に大きいので主としてＳＴＮ、ＴＮ用の液晶組成物に用いられる。これらの化合物は組成物成分として特にしきい値電圧を小さくする目的で使用される。また、粘度の調整、屈折率異方性値の調整および液晶相温度範囲を広げる等の目的や、さらに急峻性を改良する目的にも使用される。ＳＴＮまたはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合には式（５）および（６）で表される化合物の使用量は０.１〜９９.９重量％の範囲であることが好ましい。より好ましくは１０〜９７重量％、さらに好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。また、しきい値電圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性値、誘電率異方性値及び粘度等を調整する目的で後述の第三成分を含有することもできる。
【００７８】
垂直配向モード（ＶＡモード）等に用いられる、誘電率異方性が負の液晶組成物を調製する場合には、本発明の液晶組成物としては、式（７）〜（９）からなる群から選ばれる少なくとも一種類の化合物（以下第二Ｃ成分）を含有した物が好ましい。第二Ｃ成分の式（７）〜（９）に含まれる化合物の好適例として、それぞれ（７−１）〜（７−３）、（８−１）〜（８−５）および（９−１）〜（９−３）を挙げることができる。
【００７９】
【化３６】

（式中、Ｒ⁶、Ｒ⁷は前記と同じ意味を表す。）
【００８０】
式（７）〜（９）で表される化合物は、誘電率異方性値が負の化合物である。式（７）で表される化合物は２環化合物であるので、主としてしきい値電圧の調整、粘度調整または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。式（８）で表される化合物はネマチックレンジを広げる目的の他、しきい値電圧を低くする目的および屈折率異方性値を大きくする目的で使用される。
【００８１】
式（７）〜（９）で表される化合物は主として誘電率異方性の値が負であるＶＡモード用の液晶組成物に使用される。その使用量を増加させると組成物のしきい値電圧は低くなるが、粘度は高くなる。従って、しきい値電圧の要求値を満足している限り、使用量を少なくすることが好ましい。しかしながら、誘電率異方性値の絶対値が５以下であるので、式（７）〜（９）で表される化合物が４０重量％より少なくなると液晶組成物は駆動ができなくなる場合がある。そのためＶＡモード用の組成物を調製する場合には、式（７）〜（９）で表される化合物の使用量は、４０重量％以上であることが好ましい。より好ましくは５０〜９５重量％の範囲である。
【００８２】
また弾性定数をコントロールし、組成物の電圧透過率曲線を制御する目的で、式（７）〜（９）で表される化合物を誘電率異方性値が正である組成物に含有させる場合もある。この場合の式（７）〜（９）で表される化合物の使用量は３０重量％以下であることが好ましい。
【００８３】
本発明の液晶組成物の第三成分のうち、式（１０）〜（１２）に含まれる化合物の好適例として、それぞれ（１０−１）〜（１０−１１）、（１１−１）〜（１１−１２）および（１２−１）〜（１２−６）を挙げることができる。
【００８４】
【化３７】

【００８５】
【化３８】

【００８６】
【化３９】

（式中、Ｒ⁸およびＲ⁹は前記と同じ意味を表す。）
【００８７】
式（１０）〜（１２）で表される化合物は、誘電率異方性値の絶対値が小さく、中性に近い化合物である。式（１０）で表される化合物は主として粘度調整または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。また式（１１）および（１２）で表される化合物は透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。
【００８８】
式（１０）〜（１２）で表される化合物の使用量を増加させると液晶組成物のしきい値電圧が高くなり、粘度が低くなる。従って、低電圧駆動を可能にするためには、液晶組成物のしきい値電圧要求値を満足している限り、式（１０）〜（１２）で表される化合物を多量に使用することが望ましい。ＴＦＴ用の液晶組成物を調整する場合に、式（１０）〜（１２）で表される化合物の使用量は、好ましくは４０重量％以下、より好ましくは３５重量％以下である。また、ＳＴＮまたはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合には、式（１０）〜（１２）で表される化合物の使用量は、好ましくは７０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。
【００８９】
本発明に従い提供される液晶組成物は、式（１）で示される液晶性化合物の少なくとも１種類を０.１〜９９重量％の割合で含有することが、低電圧駆動可能性を発現せしめるために好ましい。
【００９０】
該液晶組成物は公知の方法、例えば種々の成分を高温度下で相互に溶解させる方法により一般に調製される。また必要により、キラルドープ剤を加えることによって、用途に応じた改良をし最適化することができる。キラルドープ剤は、液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれを防ぐ効果を有するキラルドープ剤であればよい。例えば、キラルドープ剤として以下の光学活性化合物を挙げることができる。
【００９１】
【化４０】

【００９２】
本発明の液晶組成物は、通常、これらの光学活性化合物を添加して、ねじれのピッチを調整する。ねじれのピッチはＴＦＴ用およびＴＮ用の液晶組成物であれば４０〜２００μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＳＴＮ用の液晶組成物であれば６〜２０μｍの範囲に調整するのが好ましい。また、双安定ＴＮ（ＢｉｓｔａｂｌｅＴＮ）モード用の場合は、１.５〜４μｍの範囲に調整するのが好ましい。また、ピッチの温度依存性を調整する目的で２種以上の光学活性化合物を添加しても良い。
【００９３】
また、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系およびテトラジン系等の二色性色素を添加すれば、ＧＨ型用の液晶組成物として使用することもできる。本発明に係る組成物は、ネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰや、液晶中に三次元網目状高分子を形成して作製したポリマー分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）、例えばポリマーネットワーク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）用、複屈折制御（ＥＣＢ）型やＤＳ型用の液晶組成物としても使用できる。
【００９４】
本発明の式（１）で表される化合物は、例えば第４版実験化学講座（丸善）、Organic Synthesis（John Wiley & Sons, Inc）またはOrganic Reactions（John Wiley & Sons, Inc）等有機合成の成書または公知文献等に記載されている方法を適宜選択、組み合わせることにより製造することができる。
【００９５】
例えば、式（１）で表される化合物は次の方法で製造することができる。まず、特開昭５９−７６０２７号、特開昭６０−１９７６３７号あるいは特開昭６０−２０４７４３号記載の方法で得られるプロピオン酸エステル誘導体（１６）を特開平１０−２０４０１６号に開示されている方法に準じ、ローソン試薬（Fieser13, 38）にてチオエステル誘導体（１７）に変換する。さらに（１７）を特開平５−２５５１６５号開示の方法に準じ、Ｎ−ブロモスクシンイミド（以下ＮＢＳと省略する）等酸化剤の存在下、ＨＦ−ピリジンを作用してフッ素化して式（１）の化合物を得る。
【００９６】
【化４１】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、環Ａ¹〜Ａ⁵、Ｚ¹〜Ｚ⁴、Ｙ¹〜Ｙ⁴、ｋ、ｌ、ｍおよびｎは前記と同一の意味を表す。）
【００９７】
また、式（１）で表される化合物は以下の方法にても好適に製造できる。すなわち特開平１０−１７５４４号記載の方法に準じ、ハロベンゼン誘導体（１８）からGrignard試薬を調製後、二硫化炭素を作用してジチオカルボン酸誘導体（１９）を製造する。次いで（１９）をフェノール誘導体（２０）との共在下に水素化ナトリウムを作用、さらにヨウ素にて酸化することによりチオエステル誘導体（１７）が製造できる。この様にして得られる（１７）にＮＢＳ等酸化剤の存在下、ＨＦ−ピリジンを作用してフッ素化することにより目的とする化合物（１）が製造できる。
【００９８】
【化４２】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、環Ａ¹〜Ａ⁵、Ｚ¹〜Ｚ⁴、Ｙ¹〜Ｙ⁴、ｋ、ｌ、ｍおよびｎは前記と同一の意味を表し、ベンゼン環の水素はフッ素で置換されていても良い。またＸは塩素または臭素を表す。)
【００９９】
また、前記で使用するフェノール誘導体（２０）については例えばR. L. Kidwell等の方法（Org. Synth., V, 918(1973)）に従い、ベンゼン誘導体（２１）から調製したGrignard試薬にホウ酸トリアルキルを作用させてボロン酸エステル誘導体を調製し、これを過酸化水素、過酢酸等の過酸化物で酸化することにより製造することができる。
【０１００】
【化４３】

（式中、Ｒ²、環Ａ⁴、Ａ⁵、Ｚ³、Ｚ⁴、Ｙ¹〜Ｙ⁴、ｍおよびｎは前記と同一の意味を表し、Ｒ¹⁰はアルキル基、Ｘ′は塩素原子または臭素原子を表す。）
【０１０１】
また、式（１）で表される化合物は以下の方法にても好適に製造できる。すなわち、まずカルボン酸誘導体（２２）にトルエンに代表される好適な溶媒中プロパンジチオールとトリフルオロ酢酸等の強酸を作用させることにより、ジチアニウム塩（２３）を製造する。この際の反応は室温から溶媒の沸点程度の温度を目安として行われるが、１００℃以上で水を除去しながら行うのが塩が安定に単離される点で好ましい。なお（２３）はジチアニウムトリフルオロメタンスルホン酸塩以外にもテトラフルオロホウ酸塩、過塩素酸塩などでも良い。次いで（２３）を塩化メチレン等の好適な溶媒中フェノール誘導体（２０）との共存下にトリエチルアミン等の塩基を作用することでジチオオルトエステル誘導体（２４）へと導き、この系中にトリエチルアミン−３ＨＦ等のフッ素化剤を作用、さらにＮＢＳ、臭素などの酸化剤を作用させることによって酸化的フッ素化を行うことで目的とする化合物（１）が製造できる。この際の反応はできるだけ低温で行い、実用的には−５０℃〜−１００℃程度が望ましい。
【０１０２】
【化４４】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、環Ａ¹〜Ａ⁵、Ｚ¹〜Ｚ⁴、Ｙ¹〜Ｙ⁴、ｋ、ｌ、ｍおよびｎは前記と同一の意味を表し、ベンゼン環の水素はフッ素で置換されていても良い。）
【０１０３】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。
なお、各実施例中において、Ｃｒは結晶、Ｎはネマチック相、Ｉｓｏは等方性液体相を示す。
【０１０４】
実施例１
１−（３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−３,４,５−トリフルオロベンゼン（式（１）においてｌ＝１、ｋ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ¹がｎ−ペンチル基、環Ａ²および環Ａ³が共にトランス−１,４−シクロヘキシレン基、Ｚ²が単結合、Ｙ¹およびＹ²が共に水素原子、Ｙ³、Ｙ⁴およびＲ²が共にフッ素原子である化合物（化合物Ｎｏ.４０））の製造
【０１０５】
第１工程
撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた１Ｌ三口フラスコ中、窒素雰囲気下、ジエチルホスフィノ酢酸エチル27.6ｇ（122.9mmol）をテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと省略する）350mlに溶解し、攪拌しながら−５℃まで冷却して、ここにカリウム−ｔ−ブトキシド15.2ｇ（135.2mmol）を添加し、室温にて２時間攪拌した。再度０℃まで冷却し、トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルバルデヒド25.0ｇ（94.5mmol）をＴＨＦ100mlに溶かした溶液を滴下した。さらに室温にて１４時間攪拌後、反応混合物に水200ml、トルエン400mlを加えて攪拌した。分離したトルエン層を水200mlで２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、トルエンを減圧留去した。残査をトルエンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロペン酸エチル（黄色油状物）12.8ｇを得た。
【０１０６】
第２工程
100mlフラスコ中、上記で得た３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロペン酸エチル12.8ｇ（38.3mmol）をトルエン／エタノール（50ml／30ml）の混合液に溶解し、５％パラジウム−炭素触媒2.0ｇを添加し、水素圧0.1MPaにて、室温で８時間攪拌した。触媒を濾取分別後、濾液を濃縮し、黄色油状物13.5ｇを得た。次いでこの油状物をエタノール150mlに溶解し、２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液50ml（100mmol）を加え、３時間加熱還流した。水300mlを加え、析出した不溶物を濾取し、トルエンから再結晶して３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオン酸を微黄色の結晶として4.9ｇ得た。
【０１０７】
第３工程
撹拌機、温度計および冷却管を備えた100ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、上記で得た３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオン酸4.9ｇ（16.0mmol）、３,４,５−トリフルオロフェノール2.9ｇ（19.2mmol）、２−クロロ−１−メチルピリジニウムヨージド（Kazuhiko Saigo, Teruaki Mukaiyama et al., Bull. Chem. Soc. Jpn., 50(7), 1863(1977)）4.9ｇ（19.2mmol）およびトリエチルアミン3.9ｇ（38.4mmol）をトルエン50mlに溶解し、攪拌しながら３時間加熱還流した。反応混合物に６Ｍ塩酸50ml、トルエン100mlを加え攪拌した。トルエン層を水洗（150ml×３）し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、トルエンを減圧留去した。残査をヘプタン／トルエン（７５／２５）の混合液を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３,４,５−トリフルオロフェニル＝３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオネートを無色結晶物として6.4ｇ得た。
【０１０８】
第４工程
撹拌機、温度計および冷却管を備えた300ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、上記で得た３,４,５−トリフルオロフェニル＝３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオネート6.4ｇ（14.5mmol）、Lawesson's試薬11.7ｇ（29.0mmol）およびメシチレン85mlを攪拌しながら８時間加熱還流した。室温まで冷却後、不溶物を除き、濾液をトルエンで抽出した。トルエン層を順次、水200ml、飽和炭酸ナトリウム水溶液150mlおよび水200mlで２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、トルエンを減圧下留去した。残査をヘプタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３,４,５−トリフルオロフェニル＝３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）チオン−Ｏ−プロピオネートを微黄色結晶物として0.9ｇ得た。
【０１０９】
第５工程
撹拌機、温度計および滴下ロートを備えたテフロン^(R)製200mlの三口フラスコ中、ＮＢＳ1.1ｇ（5.8mmol）をジクロロメタン15mlに溶解し、攪拌しながら−60℃以下で70％ＨＦ−ピリジン１mlを加え、さらに30分間攪拌した。次いで前工程で得た３,４,５−トリフルオロフェニル＝３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）チオン−Ｏ−プロピオネート0.9ｇ（2.0mmol）をジクロロメタン20mlに溶解した溶液を滴下し、滴下後−10〜０℃にて２時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸ナトリウム水溶液中100ml中に投じた後、ジクロロメタン層を分離し、水150mlにて３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、残査をヘプタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、ヘプタン／エタノールの等量混合液から再結晶し、目的とする１−（３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−３,４,５−トリフルオロベンゼン（（無色結晶物）を0.7ｇ得た。このものは液晶相であり、その転移点を以下に示す。
Ｃｒ６５.５（Ｓｍ５０.７６）；Ｎ１１６.９Ｉｓｏ
【０１１０】
尚、各種スペクトルデータの測定結果はその構造を強く支持した。
¹H-NMR(δppm、CDCl₃)：0.8-2.2(m, 35H), 6.85-6.88(m, 2H)
¹⁹F-NMR(δppm)：-79.26(t, 2F, -CF ₂O-), -133.53--133.65(m, 2F), -165.00--165.06(m, 1F)
GC-MS(EI)：460(M⁺, 12.5％), 148(92.4), 97(93.6), 83(100), 81(55.0), 69(54.9), 55(76.4), 41(30.7)
【０１１１】
実施例２
１−（３−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシベンゼン（式（１）においてｌ＝１、ｋ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ¹がｎ−ペンチル基、環Ａ²が１,４−フェニレン基、環Ａ³が３,５−ジフルオロ−１,４−フェニレン基、Ｚ²が単結合、Ｙ¹、Ｙ²およびＹ⁴が共に水素原子、Ｙ³がフッ素原子、Ｒ²がトリフルオロメトキシ基である化合物（化合物Ｎｏ.６６））の製造
【０１１２】
第１工程
撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた500ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）ベンゼン15.0ｇ(57.6mmol）をＴＨＦ 100mlに溶解し、攪拌しながら−65℃以下で n-BuLi（1.6Ｍシクロヘキサン溶液）43ml(69.1mmol）を滴下し、さらに１時間攪拌した。次いでホルミルピペリジン7.2ｇ(63.4mmol）を−65℃以下にて滴下し、さらに２時間攪拌した。反応混合物に水200mlを加え、トルエン400mlにて抽出を行い、トルエン層を水200mlで２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。トルエンを減圧留去し、残査をトルエンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することにより２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）ベンズアルデヒド13.1ｇを得た。
【０１１３】
第２工程
撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた500ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド21.1ｇ(54.6mmol）をＴＨＦ80mlに懸濁させ、攪拌しながら−30℃以下でカリウム−ｔ−ブトキシド6.4ｇ（57.3mmol）を加え、その後０℃にて２時間攪拌した。これを再度−30℃以下まで冷却し、前工程で得た２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）ベンズアルデヒド13.1ｇ（45.5mmol）のＴＨＦ溶液100mlを滴下した後、室温にて６時間攪拌した。反応混合物に水150mlおよびヘプタン200mlを加え、不溶物を除いた後、分離したヘプタン層を水150mlにて２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ヘプタンを減圧留去して得た濃縮残査をＴＨＦ 150mlと６Ｍ塩酸30mlの混合液に溶解し、窒素雰囲気下、室温にて８時間攪拌した。ＴＨＦを減圧留去して得た濃縮物にトルエン200mlおよび水150mlを加え、分離したトルエン層を水150mlにて２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残査をトルエンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することにより２−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）アセトアルデヒド9.5ｇを得た。
【０１１４】
第３工程
撹拌機、温度計および冷却管を備えた100ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、前工程で得た２−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）アセトアルデヒド9.5ｇ(31.4mmol）をメタノール150mlに溶解し、５℃で攪拌しながら水素化ホウ素ナトリウム1.8ｇ（47.1mmol）を加え、さらに２時間攪拌した。反応混合物に６Ｍ塩酸50mlとトルエン150mlを加え、分離したトルエン層を水150mlで３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。トルエンを減圧留去して２−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）エタノール9.5ｇを得た。
【０１１５】
第４工程
撹拌機、冷却管およびディーンスタークの脱水管を備えた300ml三口フラスコ中、前工程の２−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）エタノール9.5ｇ(31.2mmol）をトルエン100mlに溶解し、４７％−臭化水素酸13.4ｇ（78.0mmol）を加えて４時間加熱還流した。室温まで冷却後、水100mlおよびトルエン100mlを加え、分離したトルエン層を飽和炭酸ナトリウム水溶液100ml、水150mlにて順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。トルエンを減圧留去し、残査をヘプタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、２−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）ブロモエタン6.5ｇを得た。
【０１１６】
第５工程
撹拌機、温度計および滴下ロートを備えた200ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、削り状マグネシウム0.5ｇ(19.6mmol）をＴＨＦ 10mlに懸濁させ、攪拌しながら前工程の２−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）ブロモエタン6.5ｇ(17.8mmol）を60℃以下にて滴下し、Grignard試薬を調製した。次いでこのGrignard試薬を５℃まで冷却し、二硫化炭素3.4ｇ(44.5mmol）を滴下した後室温にて２時間攪拌した。反応混合物に６Ｍ塩酸50mlとジエチルエーテル150mlを加え、分離したエーテル層を水100mlで２回洗浄した後無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、残査をヘプタンから再結晶することにより３−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）ジチオプロピオン酸4.8ｇを得た。
【０１１７】
第６工程
撹拌機、温度計および滴下ロートを備えた300ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（60％油性）0.7ｇ(27.7mmol）をＴＨＦ 10mlに懸濁させ、これを攪拌しながら３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェノール2.6ｇ(13.2mmol）のＴＨＦ溶液10mlを滴下し、室温にて30分間攪拌した。そこへ前工程の３−（４−（４−ペンチルフェニル）−２,６−ジフルオロフェニル）ジチオプロピオン酸4.8ｇ（13.2mmol）のＴＨＦ溶液20mlを滴下し、60℃にて１時間攪拌後、ヨウ素4.0ｇ（15.8mmol）のＴＨＦ溶液25mlを60℃にて滴下し、さらに２時間攪拌した。反応混合物に水100mlとトルエン150mlを加え、分離したトルエン層を順次10％亜硫酸水素ナトリウム水溶液50mlおよび水100mlで２回洗浄した後無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。トルエンを減圧留去し、残査をヘプタン／トルエン（９５／５）混合溶媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル＝３−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）チオン−Ｏ−プロピオネート4.4ｇを得た。
【０１１８】
第７工程
撹拌機、温度計および滴下ロートを備えたテフロン^(R)製の200ml三口フラスコ中、ＮＢＳ4.6ｇ(25.3mmol）をジクロロメタン50mlに溶解し、攪拌しながら−60℃以下にて70％ＨＦ−ピリジン５mlを加えてさらに30分間攪拌した。次いで前工程の３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル＝３−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）チオン−Ｏ−プロピオネート4.4ｇ（8.4mmol）のジクロロメタン溶液40mlを滴下し、その後−10〜０℃にて２時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸ナトリウム水溶液200ml中に投じた後、分離したジクロロメタン層を水150mlにて３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、残査をヘプタン／トルエン（９５／５）混合溶媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィ−にて精製し、ヘプタン／エタノールの等量混合液から再結晶することにより、目的とする１−（３−（２,６−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）フェニル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシベンゼン2.1ｇを得た。
【０１１９】
実施例３
１−（３−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−３,４,５−トリフルオロベンゼン（式（１）においてｌ＝１、ｋ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ¹がｎ−プロピル基、環Ａ²および環Ａ³がともにトランス−１,４−シクロヘキシレン基、Ｚ²が単結合、Ｙ¹およびＹ²がともに水素原子、Ｙ³、Ｙ⁴およびＲ²がともにフッ素原子である化合物（化合物Ｎｏ.３９））の製造
【０１２０】
第１工程
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えたフラスコ中、窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（3.36ｇ）をテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと省略する、50ml）に溶解し、撹拌しながら−５℃まで冷却して、ここにジエチルホスフィノ酢酸エチル（18.8ｇ）のＴＨＦ（30ml）溶液を滴下した。反応液をさらに２時間撹拌し、水素ガスの発生を確認して、トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボアルデヒド（16.5ｇ）のＴＨＦ（50ml）溶液を滴下した。反応液を室温まで昇温して３時間撹拌した。撹拌終了後、反応液に水を加え、トルエン（50ml×３）で抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロペン酸エチル（10.0ｇ）を得た。
【０１２１】
第２工程
上記で得た３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロペン酸エチル（10.0ｇ）をトルエン：エタノール混合溶媒（１：１、80ml）中に溶解し、５％パラジウム−炭素（1.8ｇ）を添加して水素雰囲気下に８時間撹拌した。撹拌終了後触媒を濾過により除去し、濾液を減圧下に濃縮し、得られた黄色油状物をエタノール（80ml）に溶解し２Ｎ水酸化ナトリウム溶液（30ml）を加えて室温下に８時間撹拌した、撹拌終了後反応液に水を加え、２Ｎ塩酸を用いてＰＨ４とし、析出した結晶を濾過した。得られた結晶をＴＨＦ−エーテル（１：８、50ml）から再結晶して３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオン酸（4.0ｇ）を白色結晶として得た。
【０１２２】
第３工程
上記で得た３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオン酸（5.0ｇ）をトルエンに懸濁させ、１,３−プロパンジチオール（2.5ｇ）を加えて50℃に加熱撹拌した。懸濁液にトリフルオロメタンスルホン酸（3.5ｇ）を30分かけて滴下し、滴下終了後、ディーン・スタークの装置をつけて４時間加熱還流し、留出した水を除去した。反応液を減圧下に濃縮した後、ジエチルエーテルを加えて析出した結晶を濾取し、２−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−１,３−ジチアニリウムトリフラート（4.0ｇ）を得た。
【０１２３】
第４工程
３,４,５−トリフルオロフェノール（1.27ｇ）およびトリエチルアミン（870mg）を塩化メチレン（10ml）に溶解し、−78℃にて撹拌し、上記で得た２−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）―１,３−ジチアニリウムトリフラート（3.8ｇ）の塩化メチレン（５ml）溶液を滴下した。滴下終了後、溶液をさらに１時間撹拌し、Ｅｔ₃Ｎ・３ＨＦ（6.24ml）を加え、さらに臭素（6.24ｇ）の塩化メチレン溶液を滴下した。反応液を−70℃で１時間撹拌した後、徐々に昇温し、０℃で冷３Ｎ水酸化ナトリウム溶液（100ml）に投じて塩化メチレン（30ml×３）で抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた黄色油状物をヘプタンを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて単離精製し、１−（３−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−３,４,５−トリフルオロベンゼン（1.0ｇ）を無色結晶として得た。このものの転移点を以下に示す。
Ｃｒ６８.６Ｎ１１３.１６Ｉ(℃)
【０１２４】
尚、各種スペクトルデータの測定結果はその構造を強く支持した。
¹H−NMR（δppm、CDCl₃）：0.8-2.2(31H,m)、6.85-6.88(2H,m)
¹⁹F−NMR（δppm、CDCl₃）：-79.26(2F, t)、-133.53--133.65(2F, m)、-165.00--165.06(1F, m,)
GC-MS(EI)：432(M+,18.5％), 69(100), 148(80.1), 83(75.5), 81(47.5), 95(42.7), 82(42.8), 55(39.0),
【０１２５】
実施例４
１−（３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−２,３−ジフルオロ−４−エトキシベンゼン（式（１）においてｌ＝１、ｋ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ¹がｎ−プロピル基、環Ａ²および環Ａ³が共にトランス−１,４−シクロヘキシレン基、Ｚ²が単結合、Ｙ²およびＹ⁴が共に水素原子、Ｙ¹およびＹ³が共にフッ素原子、Ｒ²がエトキシ基である化合物（化合物Ｎｏ.４６））の製造
【０１２６】
第１工程
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えた３Ｌ三口フラスコ中、窒素雰囲気下、３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオン酸32.0ｇ（114.9mmol）および２,３−ジフルオロ−４−エトキシフェノール20.0ｇ（114.９mmol）を室温下ジクロロメタン1000mlに溶解し、攪拌しながら４−ジメチルアミノピリジン15.4ｇ（126.4mmol）を添加した。添加後30分間攪拌し、次いでジクロロメタン400mlに溶解したジシクロヘキシルカルボジイミド26.1ｇ（126.4mmol）の溶液を室温下にて滴下し、滴下後室温にて14時間攪拌した。反応液に水500mlを添加し、不溶物を濾取後、濾液を３Ｍ塩酸300ml、水300ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液300mlおよび水600mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。反応液は減圧下にて溶媒を留去し、濃縮物56.4ｇを得た。次いで濃縮物はヘプタン／酢酸エチル（７／３）の混合液を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶物として２,３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル＝３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオネート51.4ｇを得た。
【０１２７】
第２工程
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えた２Ｌ三口フラスコ中、窒素雰囲気下上記で得た２,３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル＝３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）プロピオネート51.4ｇ（118.0mmol）、Laweeson's試薬95.5ｇ（236.0mmol）およびメシチレン470mlを混合し、攪拌しながら４時間加熱還流した。室温まで冷却後、不溶物を濾取後、濾液に水500mlを添加し、トルエン400mlにて抽出した。抽出層は水500ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液300mlおよび水1000mlで順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。反応液は減圧下にて溶媒を留去し、濃縮物を得た。次いで濃縮物はトルエン／ヘプタン（１／１）の混合液を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、黄色結晶物として２,３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル＝３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）チオン−Ｏ−プロピオネート14.2ｇを得た。
【０１２８】
第３工程
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えたテフロン^(R)製500mlの三口フラスコ中、窒素雰囲気下ＮＢＳ5.5ｇ（31.0mmol）をジクロロメタン130mlに溶解し、攪拌しながら−60℃以下で70％ＨＦ−ピリジン14mlを添加し、さらに30分間攪拌した。次いで前工程で得た２,３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル＝３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）チオン−Ｏ−プロピオネート7.00ｇ（15.5mmol）をジクロロメタン65mlに溶解した溶液を滴下し、滴下後−10℃にて３時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸ナトリウム水溶液500ml中に投じた後、ジクロロメタン層を分離し、水200mlにて３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、残査をトルエン／ヘプタン（３／７）の混合液を展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、さらにヘプタン／エタノールの等量混合液から再結晶し、目的とする１−（３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−２,３−ジフルオロ−４−エトキシベンゼン2.7ｇを得た。このものは液晶相を有し、その転移点を以下に示す。
Ｃｒ４７.４Ｃｒ５１.９Ｓ_A ９９.５Ｎ１６４.０Ｉｓｏ
【０１２９】
尚、各種スペクトルデータの測定結果はその構造を強く支持した。
¹H-NMR(δppm、CDCl₃）：0.82-1.12(m, 13H)，1.12-1.34(m，5H), 1.45(t，3H)，1.50-1.55(m，3H)，1.68-1.80(m，8H)，2.12-2.20(m，2H)，4.10(q，2H)，6.63-6.67(m，1H)，6.94-6.97(m，1H)
¹⁹F-NMR(δppm）：-72.0--72.1(t，2F)，-150.8--150.9(m，1F)，-156.5--156.6(m，1F)
【０１３０】
実施例１〜４および発明の詳細な説明における記述を基に、下記化合物Ｎｏ.１〜Ｎｏ.２０４を製造することができる。なお下記には実施例１〜４で得られる化合物についても再掲した。
【０１３１】
【化４５】

【０１３２】
【化４６】

【０１３３】
【化４７】

【０１３４】
【化４８】

【０１３５】
【化４９】

【０１３６】
【化５０】

【０１３７】
【化５１】

【０１３８】
【化５２】

【０１３９】
【化５３】

【０１４０】
【化５４】

【０１４１】
【化５５】

【０１４２】
【化５６】

【０１４３】
【化５７】

【０１４４】
【化５８】

【０１４５】
【化５９】

【０１４６】
【化６０】

【０１４７】
【化６１】

【０１４８】
【化６２】

【０１４９】
【化６３】

【０１５０】
【化６４】

【０１５１】
【化６５】

【０１５２】
【化６６】

【０１５３】
【化６７】

【０１５４】
【化６８】

【０１５５】
【化６９】

【０１５６】
【化７０】

【０１５７】
実施例５
シアノフェニルシクロヘキサン系液晶化合物を含有するネマチック液晶組成物（以下、液晶組成物Ａと称する）：

は以下の特性を有する。
【０１５８】
透明点（ＴＮＩ）：７１.７℃、セル厚８.８μｍでのしきい値電圧（Ｖｔｈ）：１.７８Ｖ、Δε：１１.０、Δｎ：０.１３７、２０℃における粘度（η）：２６.３ｍＰａ・ｓ。
この液晶組成物Ａ８５重量％と実施例１で得られた１−（３−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−３,４,５−トリフルオロベンゼン（化合物Ｎｏ.４０）１５重量％とからなる液晶組成物を調製した。その特性は以下の通りであった。
透明点（ＴＮＩ）：７５.８℃、セル厚８.９μｍでのしきい値電圧（Ｖｔｈ）：１.７０Ｖ、Δε：１１.４、Δｎ：０.１２８、２０℃における粘度（η）：２８.４ｍＰａ・ｓ。
【０１５９】
なお、上記各液晶組成物の物性値と化合物の混合比から、外挿法により算出した上記化合物Ｎｏ.４０の物性値は以下の通りであった。
透明点（ＴＮＩ）：９９.０℃、Δε：１３.７、Δｎ：０.０７７、２０℃における粘度（η）：３１.８ｍＰａ・ｓ。
【０１６０】
実施例６
実施例４に示した液晶組成物Ａの８５重量％と１−（３−（４′−プロピル−３,５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−３,４,５−トリフルオロベンゼン（化合物Ｎｏ.６３）１５重量％とからなる液晶組成物を調製した。その特性は以下の通りであった。
透明点（ＴＮＩ）：６１.４℃、セル厚８.９μｍでのしきい値電圧（Ｖｔｈ）：１.５０Ｖ、Δε：１３.５、Δｎ：０.１３３、２０℃における粘度（η）：３０.０ｍＰａ・ｓ。
尚、上記各液晶組成物の物性値と化合物の混合比から外挿法により算出した上記化合物の物性値は以下の通りであった。
透明点（ＴＮＩ）：４.４℃、Δε：２４.３、Δｎ：０.１１０、２０℃における粘度（η）：４５.３ｍＰａ・ｓ。
【０１６１】
実施例７
ネマチック液晶組成物（以下、液晶組成物Ｂと称する）：

は以下の特性を有する。
【０１６２】
透明点（Ｔ_NI）：７４.０℃、Δε：−１.３、Δｎ：０.０８７、２０℃における粘度（η２０）：１８.９ｍＰａ・ｓ。
この液晶組成物Ｂ８５重量％と実施例３で得られた１−（３−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−２,３−ジフルオロ−４−エトキシベンゼン（化合物Ｎｏ.４６）１５重量％とからなる液晶組成物を調製した。その特性は以下の通りであった。
透明点（Ｔ_NI）：８４.９℃、Δε：−１.７２、Δｎ：０.０８９、２０℃における粘度（η２０）：２４.３ｍＰａ・ｓ。
なお、上記各液晶組成物の物性値と化合物の混合比から、外挿法により算出した化合物Ｎｏ.４６の物性値は以下の通りであった。
透明点（Ｔ_NI）：１４３.３℃、Δε：−３.７０、Δｎ：０.１００、２０℃における粘度（η２０）：４８.１ｍＰａ・ｓ。
【０１６３】
実施例８
実施例７に準じ、液晶組成物Ｂ８５重量％と本願化合物１−（３−（２,３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）−１,１−ジフルオロプロピレンオキシ）−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼン（化合物Ｎｏ.２０１）１５重量％とからなる液晶組成物を調製した。その特性は以下の通りであった。
透明点（Ｔ_NI）：７７.９℃、Δε：−１.８８、Δｎ：０.０９２、２０℃における粘度（η２０）：２４.２ｍＰａ・ｓ。
なお、上記各液晶組成物の物性値と化合物の混合比から、外挿法により算出した化合物Ｎｏ.２０１の物性値は以下の通りであった。
透明点（Ｔ_NI）：９６.６℃、Δε：−４.８８、Δｎ：０.１２０、２０℃における粘度（η２０）：４８.０ｍＰａ・ｓ。
【０１６４】
上記の方法に基づいて合成した式（１）の化合物を第一成分とする本発明のネマチック液晶組成物の組成および物性を以下の実施例９〜５４として示す。
なお、組成物中の各化合物は下記表２に示す取り決めに従い、左末端基、結合基、環構造および右末端基の各欄に示された基をそれぞれの記号に対応させることにより表示した。
【０１６５】
【表２】

【０１６６】
組成物中の化合物に付したＮｏ.は前述の実施例中に示されるそれと同一であり、化合物の含有量は特に規定のない限り重量％を意味する。
また組成物例の特性データは、ＮＩ（ネマチック−等方性液体転移温度または透明点）、η（粘度：測定温度２０.０℃）、Δｎ（屈折率異方性値：測定温度２５.０℃）、Δε（誘電率異方性値：測定温度２５.０℃）およびＶｔｈ（しきい値電圧：測定温度２５.０℃）により示した。
【０１６７】
実施例９
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）８.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１１）７.０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ５.０％
３−ＨＢ−Ｃ１０.０％
１−ＢＴＢ−３５.０％
２−ＢＴＢ−１１０.０％
３−ＨＨ−４１１.０％
３−ＨＨＢ−１１１.０％
３−ＨＨＢ−３９.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２６.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３６.０％
ＮＩ＝９２.４（℃）
η＝１６.６（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１５４
Δε＝８.５
Ｖｔｈ＝１.９９（Ｖ）
上記組成物１００部にＣＭ３３を０.８部添加したときのピッチは１０.７μｍであった。
【０１６８】
実施例１０
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）５.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）５.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）７.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）６.０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５.０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ１５.０％
４Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ８.０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ８.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ９.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ８.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２４.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３４.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−４４.０％
３−ＨＨＢ−１８.０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４.０％
ＮＩ＝８７.６（℃）
η＝７９.０（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１４１
Δε＝２９.９
Ｖｔｈ＝０.８９（Ｖ）
【０１６９】
実施例１１
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.５）２.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.７）２.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１１）２.０％
５−ＰｙＢ−Ｆ２.０％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ２.０％
２−ＢＢ−Ｃ３.０％
４−ＢＢ−Ｃ３.０％
５−ＢＢ−Ｃ３.０％
２−ＰｙＢ−２２.０％
３−ＰｙＢ−２２.０％
４−ＰｙＢ−２２.０％
６−ＰｙＢ−Ｏ５３.０％
６−ＰｙＢ−Ｏ６３.０％
６−ＰｙＢ−Ｏ７３.０％
６−ＰｙＢ−Ｏ８３.０％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ６.０％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ６.０％
５−ＰｙＢＢ−Ｆ６.０％
３−ＨＨＢ−１６.０％
３−ＨＨＢ−３８.０％
２−Ｈ２ＢＴＢ−２４.０％
２−Ｈ２ＢＴＢ−３４.０％
２−Ｈ２ＢＴＢ−４５.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２５.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３５.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４５.０％
ＮＩ＝９３.５（℃）
η＝３５.６（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１９３
Δε＝６.６
Ｖｔｈ＝２.２６（Ｖ）
【０１７０】
実施例１２
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.６）４.０％
３−ＧＢ−Ｃ６.０％
４−ＧＢ−Ｃ６.０％
２−ＢＥＢ−Ｃ１２.０％
３−ＢＥＢ−Ｃ４.０％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４８.０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２６.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１６.０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２５.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２４.０％
５−ＨＥＢ−５５.０％
４−ＨＥＢ−５５.０％
１Ｏ−ＢＥＢ−２４.０％
３−ＨＨＢ−１６.０％
３−ＨＨＥＢＢ−Ｃ３.０％
３−ＨＢＥＢＢ−Ｃ３.０％
５−ＨＢＥＢＢ−Ｃ３.０％
ＮＩ＝６８.７（℃）
η＝３６.７（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１１２
Δε＝１０.８
Ｖｔｈ＝１.３４（Ｖ）
【０１７１】
実施例１３
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.５）４.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.６）９.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）３.０％
３−ＨＢ−Ｃ８.０％
７−ＨＢ−Ｃ３.０％
１Ｏ１−ＨＢ−Ｃ５.０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ５.０％
２−ＰｙＢ−２２.０％
３−ＰｙＢ−２２.０％
４−ＰｙＢ−２２.０％
１Ｏ１−ＨＨ−３７.０％
２−ＢＴＢ−Ｏ１７.０％
３−ＨＨＢ−１７.０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４.０％
３−ＨＨＢ−３８.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２３.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３３.０％
２−ＰｙＢＨ−３４.０％
３−ＰｙＢＨ−３３.０％
３−ＰｙＢＢ−２３.０％
ＮＩ＝７９.５（℃）
η＝１６.４（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１２６
Δε＝７.７
Ｖｔｈ＝１.８０（Ｖ）
【０１７２】
実施例１４
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）６.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）９.０％
２−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５.０％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ４.０％
４−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ４.０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ６.０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ１０.０％
３−ＨＢ−Ｏ２１８.０％
７−ＨＥＢ−Ｆ２.０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ２.０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ２.０％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ４.０％
２Ｏ１−ＨＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ２.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ（Ｆ）−Ｃ２.０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ２.０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４.０％
３−ＨＨＢ−３７.０％
３−ＨＥＢＥＢ−Ｆ２.０％
３−ＨＥＢＥＢ−１２.０％
ＮＩ＝７８.２（℃）
η＝３３.６（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１０９
Δε＝２３.７
Ｖｔｈ＝０.９０（Ｖ）
【０１７３】
実施例１５
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）９.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１１）８.０％
２−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５.０％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ４.０％
４−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ４.０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ７.０％
３−ＨＢ−Ｏ２１０.０％
３−ＨＨ−４３.０％
３−ＨＨＢ−Ｆ３.０％
３−ＨＨＢ−１８.０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４.０％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ４.０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ７.０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ７.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２５.０％
ＮＩ＝８７.５（℃）
η＝３５.８（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１３１
Δε＝２４.９
Ｖｔｈ＝１.１５（Ｖ）
【０１７４】
実施例１６
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.５）３.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）７.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）７.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）４.０％
２−ＢＥＢ−Ｃ４.０％
３−ＢＥＢ−Ｃ３.０％
４−ＢＥＢ−Ｃ３.０％
３−ＨＢ−Ｃ５.０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４１２.０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２８.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１８.０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２６.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２５.０％
３−ＨＨＢ−１７.０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４.０％
ＮＩ＝６３.４（℃）
η＝２９.９（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０９２
Δε＝１０.２
Ｖｔｈ＝１.３４（Ｖ）
【０１７５】
実施例１７
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）５.０％
５−Ｈ２ＺＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−２（Ｎo.１８２）６.０％
５−Ｈ２ＺＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−Ｆ（Ｎo.１８４）６.０％
２−ＢＥＢ−Ｃ１０.０％
５−ＢＢ−Ｃ７.０％
７−ＢＢ−Ｃ７.０％
１−ＢＴＢ−３７.０％
２−ＢＴＢ−１１０.０％
１Ｏ−ＢＥＢ−２７.０％
１Ｏ−ＢＥＢ−５９.０％
２−ＨＨＢ−１４.０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−１７.０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４.０％
３−ＨＨＢ−３７.０％
【０１７６】
実施例１８
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）３.０％
２−ＨＢ−Ｃ５.０％
３−ＨＢ−Ｃ１２.０％
３−ＨＢ−Ｏ２１５.０％
２−ＢＴＢ−１３.０％
３−ＨＨＢ−１８.０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１５.０％
３−ＨＨＢ−３１４.０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ４.０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ４.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ５.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
ＮＩ＝１０１.３（℃）
η＝１８.３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１００
Δε＝５.１
Ｖｔｈ＝２.４９（Ｖ）
【０１７７】
実施例１９
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）２.０％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ４.０％
３−ＨＢ−Ｃ４.０％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ８.０％
１Ｖ−ＨＢ−Ｃ８.０％
３−ＨＢ−Ｏ２３.０％
３−ＨＨ−２Ｖ１４.０％
３−ＨＨ−２Ｖ１７.０％
Ｖ２−ＨＨＢ−１１５.０％
３−ＨＨＢ−１５.０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ７.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２６.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３６.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４５.０％
ＮＩ＝９８.８（℃）
η＝１７.３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１２９
Δε＝８.０
Ｖｔｈ＝２.２４（Ｖ）
【０１７８】
実施例２０
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）７.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）７.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）６.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１１）５.０％
Ｖ２−ＨＢ−Ｃ６.０％
１Ｖ２−ＨＢ−Ｃ６.０％
３−ＨＢ−Ｃ５.０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ５.０％
２−ＢＴＢ−１２.０％
３−ＨＨ−４８.０％
３−ＨＨ−ＶＦＦ６.０％
２−ＨＨＢ−Ｃ３.０％
３−ＨＨＢ−Ｃ６.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２８.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２５.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３５.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４.０％
ＮＩ＝８７.８（℃）
η＝２１.４（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１３７
Δε＝１１.６
Ｖｔｈ＝１.７３（Ｖ）
【０１７９】
実施例２１
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）３.０％
５−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５.０％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ５.０％
５−ＰｙＢ−Ｃ６.０％
４−ＢＢ−３１１.０％
３−ＨＨ−２Ｖ１０.０％
５−ＨＨ−Ｖ１１.０％
Ｖ−ＨＨＢ−１７.０％
Ｖ２−ＨＨＢ−１１５.０％
３−ＨＨＢ−１９.０％
１Ｖ２−ＨＢＢ−２１０.０％
３−ＨＨＥＢＨ−３５.０％
ＮＩ＝９２.９（℃）
η＝１６.１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１１２
Δε＝５.５
Ｖｔｈ＝２.２８（Ｖ）
【０１８０】
実施例２２
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.５）２.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.６）３.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）７.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）３.０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ３.０％
３−ＨＢ−Ｃ７.０％
Ｖ２Ｖ−ＨＢ−Ｃ７.０％
Ｖ２Ｖ−ＨＨ−３１９.０％
３−ＨＢ−Ｏ２４.０％
３−ＨＨＢ−１１０.０％
３−ＨＨＢ−３１５.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２４.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４.０％
ＮＩ＝１０１.３（℃）
η＝１５.２（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１１７
Δε＝５.６
Ｖｔｈ＝２.３０（Ｖ）
【０１８１】
実施例２３
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）４.０％
Ｖ２−ＨＢ−ＴＣ１０.０％
３−ＨＢ−ＴＣ１０.０％
３−ＨＢ−Ｃ３.０％
５−ＨＢ−Ｃ３.０％
５−ＢＢ−Ｃ３.０％
２−ＢＴＢ−１１０.０％
２−ＢＴＢ−Ｏ１５.０％
３−ＨＨ−４５.０％
３−ＨＨＢ−１１０.０％
３−ＨＨＢ−３１１.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２３.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３３.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２３.０％
５−ＢＴＢ（Ｆ）ＴＢ−３１０.０％
ＮＩ＝１０１.２（℃）
η＝１６.７（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.２０２
Δε＝７.５
Ｖｔｈ＝２.１５（Ｖ）
【０１８２】
実施例２４
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）８.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１１）８.０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ３.０％
３−ＨＢ−Ｃ５.０％
２−ＢＴＢ−１１０.０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ３０.０％
１−ＢＨＨ−ＶＦＦ８.０％
１−ＢＨＨ−２ＶＦＦ１１.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２５.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４.０％
３−ＨＨＢ−１４.０％
ＮＩ＝７４.８（℃）
η＝１３.５（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１２０
Δε＝８.１
Ｖｔｈ＝１.７５（Ｖ）
【０１８３】
実施例２５
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）８.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１１）７.０％
５−ＨＢＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ３.０％
３−ＨＢ（Ｆ,Ｆ）ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ３.０％
３−ＨＢ−Ｃ３.０％
２−ＢＴＢ−１１０.０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ３０.０％
１−ＢＨＨ−ＶＦＦ８.０％
１−ＢＨＨ−２ＶＦＦ１１.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２５.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３４.０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４.０％
３−ＨＨＢ−１４.０％
ＮＩ＝７６.６（℃）
η＝１４.５（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１２０
Δε＝７.５
Ｖｔｈ＝１.８１（Ｖ）
【０１８４】
実施例２６
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）４.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）５.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１４.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１６.０％
２−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ５.０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０.０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ１３.０％
ＮＩ＝９７.９（℃）
η＝２７.３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０９６
Δε＝６.４
Ｖｔｈ＝２.０１（Ｖ）
上記組成物１００部にＣＮを０.３部添加したときのピッチは７７.５μｍであった。
【０１８５】
実施例２７
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）７.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）６.０％
５−Ｈ２ＺＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−２（Ｎo.１８２）５.０％
５−Ｈ２ＺＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−Ｆ（Ｎo.１８４）４.０％
７−ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＢ−Ｏ２７.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ８.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ８.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ８.０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
２−ＨＢＢ−Ｆ４.０％
３−ＨＢＢ−Ｆ４.０％
５−ＨＢＢ−Ｆ３.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
【０１８６】
実施例２８
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.６）３.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）４.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）３.０％
５−ＨＢ−ＣＬ４.０％
３−ＨＨ−４１２.０％
３−ＨＨ−５４.０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−ＣＬ３.０％
４−ＨＨＢ−ＣＬ４.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ４.０％
５−ＨＢＢＨ−１Ｏ１３.０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ２.０％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
ＮＩ＝１１５.８（℃）
η＝２３.０（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０８７
Δε＝５.５
Ｖｔｈ＝２.４２（Ｖ）
【０１８７】
実施例２９
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.５）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.７）３.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）６.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）６.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）４.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ９.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ２.０％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
４−ＨＢＢＨ−１Ｏ１４.０％
５−ＨＢＢＨ−１Ｏ１４.０％
ＮＩ＝９７.６（℃）
η ＝３４.２（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１０６
Δε＝１０.９
Ｖｔｈ＝１.５６（Ｖ）
【０１８８】
実施例３０
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）３.０％
５−ＨＢ−Ｆ１２.０％
６−ＨＢ−Ｆ９.０％
７−ＨＢ−Ｆ７.０％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３７.０％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３７.０％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３７.０％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３５.０％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３４.０％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３４.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−ＯＣＦ３５.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３３.０％
５−ＨＢＢＨ−３３.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ４.０％
ＮＩ＝８４.６（℃）
η＝１５.５（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０８９
Δε＝５.０
Ｖｔｈ＝２.３０（Ｖ）
【０１８９】
実施例３１
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）６.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）６.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）８.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）８.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ３.０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
４−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ２.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
４−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＢ−Ｆ３.０％
ＮＩ＝９６.０（℃）
η＝３７.８（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１２７
Δε＝１０.２
Ｖｔｈ＝１.５８（Ｖ）
【０１９０】
実施例３２
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）５.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）５.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）５.０％
５−ＨＢ−ＣＬ３.０％
３−ＨＨ−４８.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１５.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ８.０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
３−ＨＨＢ−１５.０％
ＮＩ＝７８.５（℃）
η＝２６.６（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１０２
Δε＝１０.２
Ｖｔｈ＝１.４２（Ｖ）
【０１９１】
実施例３３
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）５.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）５.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）５.０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
５−Ｈ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ６.０％
３−ＨＢ−Ｏ２４.０％
３−ＨＨ−４１２.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ６.０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ２.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ２.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ４.０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−１７.０％
３−ＨＨＢ−３４.０％
ＮＩ＝１００.５（℃）
η＝２０.４（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０８７
Δε＝５.７
Ｖｔｈ＝２.１２（Ｖ）
【０１９２】
実施例３４
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）６.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）６.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）６.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）６.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）１３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）１２.０％
３−ＨＨ−４４.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１３.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１２.０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
ＮＩ＝６４.２（℃）
η＝３３.９（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１０３
Δε＝１２.２
Ｖｔｈ＝１.３４（Ｖ）
【０１９３】
実施例３５
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.６）２.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）５.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）５.０％
７−ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１２.０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
４−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＧＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
ＮＩ＝７７.５（℃）
η＝３４.８（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０８６
Δε＝１３.４
Ｖｔｈ＝１.３６（Ｖ）
【０１９４】
実施例３６
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）４.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）４.０％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ７.０％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３１５.０％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−ＣＦ３８.０％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−ＣＦ３１０.０％
３−ＨＢ−ＣＬ６.０％
５−ＨＢ−ＣＬ４.０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ５.０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ５.０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３５.０％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３５.０％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ４.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
ＮＩ＝７０.５（℃）
η＝２５.４（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０９４
Δε＝８.９
Ｖｔｈ＝１.６４（Ｖ）
【０１９５】
実施例３７
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）５.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）６.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１１）６.０％
５−ＨＢ−ＣＬ５.０％
７−ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＨ−４１０.０％
３−ＨＨ−５５.０％
３−ＨＢ−Ｏ２１５.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ４.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−１８.０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１５.０％
ＮＩ＝７１.６（℃）
η＝１９.３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０７４
Δε＝６.７
Ｖｔｈ＝１.７５（Ｖ）
【０１９６】
実施例３８
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.５）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.７）４.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）３.０％
５−ＨＢ−ＣＬ４.０％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ９.０％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ９.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ８.０％
４−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１２.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１３.０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
３−ＧＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
４−ＧＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
５−ＧＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
ＮＩ＝７９.９（℃）
η＝２６.６（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０８２
Δε＝８.０
Ｖｔｈ＝１.６５（Ｖ）
【０１９７】
実施例３９
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）５.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｃ（Ｎo.１０）５.０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ８.０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ７.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ８.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１１.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ２.０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＧＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
４−ＧＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
５−ＧＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
ＮＩ＝７９.４（℃）
η＝３５.５（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０８９
Δε＝１１.８
Ｖｔｈ＝１.４０（Ｖ）
【０１９８】
実施例４０
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.６）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）４.０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ３.０％
５−ＨＢ−ＣＬ３.０％
３−ＨＨ−４９.０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ２３.０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ８.０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ８.０％
４−ＨＧＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−ＨＧＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
２−Ｈ２ＧＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
３−Ｈ２ＧＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−ＧＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
ＮＩ＝７９.１（℃）
η＝１９.５（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０６５
Δε＝５.８
Ｖｔｈ＝１.７９（Ｖ）
【０１９９】
実施例４１
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）５.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）７.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）８.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ２０.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１６.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２１０.０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３１０.０％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−Ｂ２Ｂ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ５.０％
ＮＩ＝１００.８（℃）
η＝５３.６（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１４９
Δε＝１１.８
Ｖｔｈ＝１.５０（Ｖ）
【０２００】
実施例４２
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４）４.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.６）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.７）３.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）３.０％
３−ＨＢ（Ｆ,Ｆ）ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−ＨＢ（Ｆ,Ｆ）ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ５.０％
５−ＨＢ−ＣＬ３.０％
３−ＨＨ−４１４.０％
２−ＨＨ−５４.０％
３−ＨＨＢ−１４.０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ６.０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ６.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
４−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ２.０％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
ＮＩ＝７９.０（℃）
η＝１８.６（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０７２
Δε＝７.６
Ｖｔｈ＝１.６９（Ｖ）
【０２０１】
実施例４３
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.３９）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４０）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.４）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.５）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.６）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.７）３.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３６）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３（Ｎo.３７）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.９９）３.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１００）２.０％
３−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０１）４.０％
５−Ｈ２ＺＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ（Ｎo.１０２）３.０％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）ＺＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ１０.０％
３−ＨＨ−４８.０％
３−ＨＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ９.０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ６.０％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ３.０％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ４.０％
３−ＨＨＢ−１６.０％
５−ＨＢＢＨ−１Ｏ１７.０％
ＮＩ＝８３.２（℃）
η＝２４.１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０９５
Δε＝９.３
Ｖｔｈ＝１.５９（Ｖ）
【０２０２】
実施例４４
５−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１４）１１.０％
３−Ｈ２ＺＢ(２Ｆ,３Ｆ)Ｂ(２Ｆ,３Ｆ)−Ｏ２（Ｎo.１０６）１１.０％
５−Ｈ２ＺＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−２（Ｎo.１８２）６.０％
５−Ｈ２ＺＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−Ｆ（Ｎo.１８４）６.０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４１７.０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２１５.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１１４.０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２１２.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２８.０％
【０２０３】
実施例４５
３−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１３）７.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４６）６.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４７）７.０％
３−Ｈ２ＺＢ(２Ｆ,３Ｆ)Ｂ(２Ｆ,３Ｆ)−Ｏ２（Ｎo.１０６）１０.０％
３−ＨＨ−２５.０％
３−ＨＨ−４６.０％
３−ＨＨ−Ｏ１４.０％
３−ＨＨ−Ｏ３５.０％
５−ＨＨ−Ｏ１４.０％
３−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２８.０％
５−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２８.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２８.０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２８.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−２１４.０％
ＮＩ＝８９.２（℃）
Δｎ＝０.０８５
Δε＝−３.７
【０２０４】
実施例４６
５−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１４）５.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４６）６.０％
３−ＨＨ−５５.０％
３−ＨＨ−４５.０％
３−ＨＨ−Ｏ１６.０％
３−ＨＨ−Ｏ３６.０％
３−ＨＢ−Ｏ１５.０％
３−ＨＢ−Ｏ２５.０％
３−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２８.０％
５−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２７.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２９.０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１０.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−２４.０％
２−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−１４.０％
３−ＨＨＥＨ−３５.０％
３−ＨＨＥＨ−５５.０％
４−ＨＨＥＨ−３５.０％
ＮＩ＝８７.４（℃）
Δｎ＝０.０７８
Δε＝−３.１
【０２０５】
実施例４７
５−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１４）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４７）６.０％
３−ＢＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２９.０％
３−ＢＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ４１０.０％
５−ＢＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ４１０.０％
２−ＢＢ（２Ｆ,３Ｆ）Ｂ−３１９.０％
３−ＢＢ（２Ｆ,３Ｆ）Ｂ−５１３.０％
５−ＢＢ（２Ｆ,３Ｆ）Ｂ−５１４.０％
５−ＢＢ（２Ｆ,３Ｆ）Ｂ−７１６.０％
ＮＩ＝７８.９（℃）
Δｎ＝０.１９５
Δε＝−３.５
【０２０６】
実施例４８
３−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１３）３.０％
３−Ｈ２ＺＢ(２Ｆ,３Ｆ)Ｂ(２Ｆ,３Ｆ)−Ｏ２（Ｎo.１０６）４.０％
３−ＨＢ−Ｏ１１５.０％
３−ＨＢ−Ｏ２６.０％
３−ＨＥＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２８.０％
４−ＨＥＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２８.０％
５−ＨＥＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２８.０％
２−ＢＢ２Ｂ−Ｏ２６.０％
３−ＢＢ２Ｂ−Ｏ２６.０％
５−ＢＢ２Ｂ−Ｏ１６.０％
５−ＢＢ２Ｂ−Ｏ２６.０％
１−Ｂ２ＢＢ（２Ｆ）−５７.０％
３−Ｂ２ＢＢ（２Ｆ）−５７.０％
５−Ｂ（Ｆ）ＢＢ−Ｏ２７.０％
３−ＢＢ（２Ｆ,３Ｆ）Ｂ−３３.０％
ＮＩ＝７９.３（℃）
η＝２３.４（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.１６１
【０２０７】
実施例４９
３−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１３）１１.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４７）６.０％
３−Ｈ２ＺＢ(２Ｆ,３Ｆ)Ｂ(２Ｆ,３Ｆ)−Ｏ２（Ｎo.１０６）３.０％
３−ＨＨ−Ｏ１８.０％
５−ＨＨ−Ｏ１４.０％
３−ＨＨ−４５.０％
３−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１０.０％
５−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１６.０％
２−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−１４.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−１５.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−０２１４.０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１４.０％
ＮＩ＝６５.０（℃）
η＝２４.９（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０７９
Δε＝−３.９
【０２０８】
実施例５０
３−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４６）９.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４７）９.０％
３−Ｈ２ＺＢ(２Ｆ,３Ｆ)Ｂ(２Ｆ,３Ｆ)−Ｏ２（Ｎo.１０６）１４.０％
３−ＨＢ−Ｏ１１５.０％
３−ＨＨ−４５.０％
３−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１２.０％
５−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１２.０％
２−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−１５.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−１５.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２４.０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２４.０％
３−ＨＨＢ−１６.０％
ＮＩ＝８７.５（℃）
η＝４１.７（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０９５
Δε＝−３.２
【０２０９】
実施例５１
３−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１３）６.０％
５−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１４）６.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４６）７.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４７）７.０％
３−Ｈ２ＺＢ(２Ｆ,３Ｆ)Ｂ(２Ｆ,３Ｆ)−Ｏ２（Ｎo.１０６）１０.０％
３−ＨＢ−Ｏ１１５.０％
３−ＨＨ−４５.０％
３−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２６.０％
５−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２６.０％
２−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−１７.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−１７.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２６.０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２６.０％
６−ＨＥＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２６.０％
ＮＩ＝８５.９（℃）
η＝３９.３（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０９
Δε＝−３.３
【０２１０】
実施例５２
３−Ｈ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.１３）５.０％
３−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４６）３.０％
５−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎo.４７）３.０％
３−ＨＢ−Ｏ２２０.０％
１Ｏ１−ＨＨ−３６.０％
１Ｏ１−ＨＨ−５５.０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ７.０％
４−ＨＥＢ−Ｏ１９.０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２７.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１８.０％
３−ＨＨＢ−１３.０％
３−ＨＨＢ−３３.０％
４−ＨＥＢ（２ＣＮ,３ＣＮ）−Ｏ４３.０％
６−ＨＥＢ（２ＣＮ,３ＣＮ）−Ｏ４３.０％
３−ＨＥＢ（２ＣＮ,３ＣＮ）−Ｏ５４.０％
４−ＨＥＢ（２ＣＮ,３ＣＮ）−Ｏ５３.０％
５−ＨＥＢ（２ＣＮ,３ＣＮ）−Ｏ５２.０％
２−ＨＢＥＢ（２ＣＮ,３ＣＮ）−Ｏ２２.０％
４−ＨＢＥＢ（２ＣＮ,３ＣＮ）−Ｏ４４.０％
ＮＩ＝６２.３（℃）
η＝４１.１（ｍＰａ・s）
Δｎ＝０.０７６
Δε＝−６.０
【０２１１】
実施例５３
３−ＨＨ２ＺＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ.４６）４.０％
２Ｏ−Ｂ（２Ｆ,３Ｆ）２ＺＢＨ−３（Ｎｏ.２０１）４.０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４２８.０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２２０.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１２０.０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２１８.０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２１０.０％
ＮＩ＝７６.２（℃）
η＝２２.０（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０.０８９
【０２１２】
実施例５４
２Ｏ−Ｂ（２Ｆ,３Ｆ）２ＺＢＨ−３（Ｎｏ.２０１）１４.０％
３−ＨＨ−２５.０％
３−ＨＨ−４６.０％
３−ＨＨ−Ｏ１４.０％
３−ＨＨ−Ｏ３５.０％
５−ＨＨ−Ｏ１４.０％
３−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１２.０％
５−ＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１１.０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−Ｏ２１５.０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ,３Ｆ）−２２４.０％
ＮＩ＝７８.６（℃）
Δｎ＝０.０８０
Δε＝−３.９
【０２１３】
【発明の効果】
本発明は他の液晶性化合物との相溶性に優れ、低粘度でかつ低いしきい値電圧を有する液晶性化合物を提供する。
また、本発明は、この液晶性化合物を成分として、その化合物を構成する環、置換基、結合基などを適当に選択することにより、所望の物性を有する上記実施例の特徴を備えた新たな液晶組成物を提供し、さらにこの液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。

Claims

式（１）

（式中、Ｒ¹およびＲ²は各々独立して水素、ハロゲン、シアノ基または炭素数１〜２０のアルキル基であり、該アルキル基中の１つ以上の−ＣＨ₂−は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−または−Ｓ−で置換されていても良いが−Ｏ−が連続することはなく、また該基中の１つ以上の水素はハロゲンで置換されていても良く；
環Ａ¹〜環Ａ⁵は各々独立して、隣り合わない１つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−または−Ｓ−で置換されていても良い１,４−シクロヘキシレン基、１,４−シクロヘキセニレン基、あるいは１つ以上の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置換されていても良く、また環上の水素がハロゲンで置換されていても良い１,４−フェニレン基であり；
Ｚ¹〜Ｚ⁴は各々独立して単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ₂Ｏ−、または−ＯＣＦ₂−であり；
Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴は各々独立して水素またはフッ素であり；
ｋ、ｌ、ｍおよびｎは各々独立して０または１である）で表される液晶性化合物。
式（１−１）〜（１−６）

（式中Ｒ¹、Ｒ²、環Ａ¹〜Ａ⁵、Ｚ¹〜Ｚ⁴およびＹ¹〜Ｙ⁴は前記と同一の意味を表す）で表される請求項１記載の液晶性化合物。
式（１）において環Ａ³が１,４−シクロヘキシレン基である請求項１記載の液晶性化合物。
式（１）においてＹ¹とＹ³が共にフッ素、Ｙ²とＹ⁴が共に水素原子である請求項１記載の液晶性化合物。
式（１）においてＹ¹とＹ²が共に水素である請求項１記載の液晶性化合物。
式（１−１）において環Ａ³が１,４−シクロヘキシレン基、Ｙ¹とＹ³が共にフッ素、Ｙ²とＹ⁴が共に水素である請求項２記載の液晶性化合物。
式（１−１）において環Ａ³が１,４−シクロヘキシレン基、Ｙ¹とＹ²が共に水素である請求項２記載の液晶性化合物。
式（１−２）において環Ａ²および環Ａ³が共に１,４−シクロヘキシレン基、Ｙ¹とＹ³が共にフッ素、Ｙ²とＹ⁴が共に水素である請求項２記載の液晶性化合物。
式（１−２）において環Ａ²および環Ａ³が共に１,４−シクロヘキシレン基、Ｙ¹とＹ²が共に水素である請求項２記載の液晶性化合物。
式（１−３）において環Ａ³が２,３−ジフルオロ−１,４−フェニレン基である請求項２記載の液晶性化合物。
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１種類含有する液晶組成物。
第一成分として、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、式（２）、（３）および（４）

（式中、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキル基であり、この基中の相隣接しない任意の−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置換されてもよく；Ｘ¹はフッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＦ₂Ｈ、−ＣＦ₃、−ＣＦ₂Ｈ、−ＣＦＨ₂、−ＯＣＦ₂ＣＦ₂Ｈまたは−ＯＣＦ₂ＣＦＨＣＦ₃であり；Ｌ¹およびＬ²は各々独立して水素またはフッ素であり；Ｚ⁵およびＺ⁶は各々独立して−(ＣＨ₂)₂−、−(ＣＨ₂)₄−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂-、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合であり；環Ａおよび環Ｂはそれぞれ独立して１,４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または水素がフッ素で置換されていても良い１,４−フェニレンであり、環Ｃは１,４−シクロヘキシレンまたは水素がフッ素で置換されてもよい１,４−フェニレンである）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
第一成分として、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。

（式中、Ｒ⁴およびＲ⁵は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基であり、この基中の相隣接しない任意の−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置換されてもよく；Ｘ²は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｄは１,４−シクロヘキシレン、１,４−フェニレン、１,３−ジオキサン−２,５−ジイルまたはピリミジン−２,５−ジイルであり；環Ｅは１,４−シクロヘキシレン、水素がフッ素で置換されてもよい１,４−フェニレン、またはピリミジン−２,５−ジイルであり；環Ｆは１,４−シクロヘキシレンまたは１,４−フェニレンであり；Ｚ⁷は−(ＣＨ₂)₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−または単結合であり；Ｌ³、Ｌ⁴およびＬ⁵は各々独立して水素またはフッ素であり；ｂ、ｃおよびｄは各々独立して０または１である）
第一成分として、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。

（式中、Ｒ⁶およびＲ⁷は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基であり、この基中の相隣接しない任意の−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置換されてもよく；環Ｇおよび環Ｉは各々独立して、１,４−シクロヘキシレンまたは１,４−フェニレンであり；Ｌ⁶およびＬ⁷は各々独立して水素またはフッ素であるがＬ⁶およびＬ⁷が同時に水素であることはなく；Ｚ⁸およびＺ⁹は各々独立して−(ＣＨ₂)₂−、−ＣＯＯ−または単結合である。）
第一成分として、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、前記式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。

（式中、Ｒ⁸およびＲ⁹は各々独立して炭素数１〜１０のアルキル基であり、この基中の相隣接しない任意の−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよく、また、この基中の任意の水素はフッ素で置換されてもよく；環Ｊ、環Ｋおよび環Ｍは各々独立して、１,４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイル、または水素がフッ素で置換されてもよい１,４−フェニレンであり；Ｚ¹⁰およびＺ¹¹は各々独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−(ＣＨ₂)₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合である。）
第一成分として、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、前記式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
第一成分として、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、前記式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物少なくとも１種含有する液晶組成物。
第一成分として、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１種含有し、第二成分として、前記式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第三成分として、前記式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有し、第四成分として、前記式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種含有する液晶組成物。
請求項１１〜１８のいずれか１項に記載の液晶組成物に、さらに１種以上の光学活性化合物を含有する液晶組成物。
請求項１１〜１９のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。
請求項１に記載の化合物の合成中間体である下記式で表される化合物。