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JP3523644B2 - Light emitting element array - Google Patents

Light emitting element array

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JP3523644B2
JP3523644B2 JP20463090A JP20463090A JP3523644B2 JP 3523644 B2 JP3523644 B2 JP 3523644B2 JP 20463090 A JP20463090 A JP 20463090A JP 20463090 A JP20463090 A JP 20463090A JP 3523644 B2 JP3523644 B2 JP 3523644B2
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light emitting
emitting element
light
element array
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幸久 楠田
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光を入射することにより発光素子に書き込
まれた情報を消去することが可能な自己走査機能を有す
る発光素子アレイに係り、特に光コンピューティング等
の光情報処理への応用に適した発光素子アレイに関す
る。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a light emitting element array having a self-scanning function capable of erasing information written in a light emitting element by incident light, and in particular, to a light emitting element array. The present invention relates to a light emitting element array suitable for application to optical information processing such as optical computing.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第6図は従来の発光素子アレイを示す等価回路図であ
る。第6図において、T(0)〜T(5)はそれぞれカソードを
接地された発光サイリスタ(発光素子)である。各々の
発光サイリスタT(0)〜T(5)のゲート(第1の制御電極)
間は結合用ダイオードD0〜D5によって接続されている。
また、発光サイリスタT(0)〜T(5)のゲートはそれぞれゲ
ート負荷抵抗RLによって電源電圧VGK(本従来例では5
〔V〕を想定している。)の直流電源に接続されてい
る。
FIG. 6 is an equivalent circuit diagram showing a conventional light emitting element array. In FIG. 6, T (0) to T (5) are light emitting thyristors (light emitting elements) whose cathodes are grounded. Gate of each light emitting thyristor T (0) to T (5) (first control electrode)
The coupling diodes D 0 to D 5 are connected to each other.
Further, the light-emitting thyristor T (0) at the supply voltage V GK (this prior art by the respective gates gate load resistor R L of the through T (5) 5
[V] is assumed. ) Is connected to the DC power supply.

一方、発光サイリスタT(0)のアノードは、アノード負
荷抵抗RAを介して、スタートパルスφが供給される供
給ラインに接続されている。また、発光サイリスタ
T(1)、T(3)、T(5)の各アノードは、それぞれアノード負
荷抵抗RAを介して、転送クロックφが供給ライン(ク
ロックライン)に接続されている。そして、発光サイリ
スタT(2)、T(4)の各アノードは、それぞれアノード負荷
抵抗RAを介して、転送クロックφが供給される供給ラ
イン(クロックライン)に接続されている。
On the other hand, the anode of the light emitting thyristor T (0) is connected to the supply line to which the start pulse φ S is supplied via the anode load resistor RA . Also a light emitting thyristor
The transfer clock φ 1 is connected to the supply line (clock line) through the anode load resistor RA for each of the anodes of T (1) , T (3) , and T (5) . The respective anodes of the light emitting thyristors T (2) and T (4 ) are connected to the supply line (clock line) to which the transfer clock φ 2 is supplied via the anode load resistance RA .

次に、第6図に示す発光素子アレイの動作を説明す
る。なお、発光サイリスタのターンオン電圧はゲート電
圧VGより拡散電位Vdif(約1〔V〕)分だけ高いことが
知られている。
Next, the operation of the light emitting element array shown in FIG. 6 will be described. It is known that the turn-on voltage of the light emitting thyristor is higher than the gate voltage V G by the diffusion potential V dif (about 1 [V]).

まず、最初に電源電圧VGK(5〔V〕)よりも1
〔V〕以上高い値のスタートパルスφが発光サイリス
タT(0)に印加されたとする。これによって発光サイリス
タT(0)はオン状態(発光状態)になる。この際、発光サ
イリスタT(0)のゲートにゲート負荷抵抗RLを介して電流
が流れ込む。このため、発光サイリスタT(0)のゲート電
圧VGはほぼ零ボルトになる。同時に、結合用ダイオード
D0にも第6図の右側から電流が流れ込み、ダイオードの
順方向電圧VD dif(約1〔V〕)の電位差が結合用ダイ
オードD0の両端に発生する。
First of all, it is 1 more than the power supply voltage V GK (5 [V])
It is assumed that the start pulse φ S having a higher value than [V] is applied to the light emitting thyristor T (0) . As a result, the light emitting thyristor T (0) is turned on (light emitting state). At this time, a current flows into the gate of the light emitting thyristor T (0) via the gate load resistor R L. Therefore, the gate voltage V G of the light emitting thyristor T (0) becomes almost zero volt. At the same time, the coupling diode
A current also flows into D 0 from the right side of FIG. 6, and a potential difference of the diode forward voltage V D dif (about 1 [V]) is generated across the coupling diode D 0 .

従って、発光サイリスタT(1)のゲート電圧は約1
〔V〕になる。このとき、同様に結合用ダイオードD1
両端の電圧差によって、発光サイリスタT(2)のゲート電
圧は約2〔V〕になる。さらに、結合用ダイオードD2
より発光サイリスタT(3)のゲート電圧は約3〔V〕にな
る。つまり、ターンオン電圧は発光サイリスタT(1)、T
(2)、T(3)においてそれぞれ2〔V〕、3〔V〕、4
〔V〕になっている。
Therefore, the gate voltage of the light emitting thyristor T (1) is about 1
It becomes [V]. At this time, similarly, the gate voltage of the light emitting thyristor T (2) becomes about 2 [V] due to the voltage difference across the coupling diode D 1 . Further, the gate voltage of the light emitting thyristor T (3) becomes about 3 [V] by the coupling diode D 2 . That is, the turn-on voltage is the light emitting thyristor T (1) , T
(2) and T (3) are 2 [V], 3 [V] and 4 [V], respectively.
It is [V].

この状態で転送クロックφとして2〔V〕以上3
〔V〕未満の電圧パルス(ハイレベル電圧)を供給ライ
ンに加えると、発光サイリスタT(1)のみがオン状態にな
る。その後、スタートパルスφの供給を打ち切ると発
光サイリスタT(0)がオフ状態になり、オン状態が右側の
発光サイリスタT(1)に移動したことになる。以下、同様
に転送クロックφ、φを交互に発光素子に加えて行
くことでオン状態が右側へ移動していく。即ち、この発
光素子アレイは自己走査機能を有している。
In this state, the transfer clock φ 1 is 2 [V] or more 3
When a voltage pulse (high level voltage) of less than [V] is applied to the supply line, only the light emitting thyristor T (1) is turned on. After that, when the supply of the start pulse φ S is stopped, the light emitting thyristor T (0) is turned off, and the on state is moved to the right light emitting thyristor T (1) . Thereafter, similarly, the transfer clocks φ 2 and φ 1 are alternately applied to the light emitting element to shift the ON state to the right. That is, this light emitting element array has a self-scanning function.

なお、ここで注意すべき点は転送クロックφ、φ
のハイレベル電圧を重ねてはならないということであ
る。両者のハイレベル電圧が重なっていると、例えば発
光サイリスタT(1)から発光サイリスタT(2)にオン状態が
移動するや否や、発光サイリスタT(3)のゲート電圧も低
下してしまう。このため、発光サイリスタT(3)もオン状
態になってしまう。つまり、急激にオン状態が第6図の
右側に転送されてしまう。従って、発光素子アレイは正
常に動作することができなくなる。
The points to be noted here are the transfer clocks φ 1 and φ 2
It means that the high level voltage of must not be overlapped. If the high-level voltages of the two overlap, the gate voltage of the light-emitting thyristor T (3) will drop as soon as the ON state moves from the light-emitting thyristor T (1) to the light-emitting thyristor T (2) . Therefore, the light emitting thyristor T (3) is also turned on. That is, the ON state is suddenly transferred to the right side in FIG. Therefore, the light emitting element array cannot operate normally.

このため、転送クロックφ、φのハイレベル電圧
の幅の設定には、微妙な調整が要求される。この微妙な
調整が製造上問題になる場合には、転送クロックの数を
3つに増やして順に発光素子に供給することで解決でき
る。このことにより、前述のような発光状態の急激な転
送は生じなくなる。
Therefore, delicate adjustment is required to set the width of the high-level voltage of the transfer clocks φ 1 and φ 2 . If this delicate adjustment causes a problem in manufacturing, it can be solved by increasing the number of transfer clocks to three and supplying them to the light emitting elements in order. This prevents the abrupt transfer of the light emitting state as described above.

また、発光サイリスタT(2)から発光サイリスタT(3)
オン状態が移動する際には、結合用ダイオードD1が逆バ
イアスになるので、発光サイリスタT(1)のゲート電圧は
電源電圧VGK(5〔V〕)になる。つまり、発光サイリ
スタT(1)のターンオン電圧は6〔V〕になる。従って、
発光サイリスタT(1)はオン状態にはならない。
Further, when the ON state moves from the light emitting thyristor T (2) to the light emitting thyristor T (3) , the coupling diode D 1 is reverse biased, so that the gate voltage of the light emitting thyristor T (1) is the power supply voltage V It becomes GK (5 [V]). That is, the turn-on voltage of the light emitting thyristor T (1) becomes 6 [V]. Therefore,
The light emitting thyristor T (1) does not turn on.

この発光素子アレイに対するオン状態の書き込みは、
スタートパルスφによっても可能であるが、光によっ
ても可能である。この方法は、入射する光によって発光
サイリスタのターンオン電圧が低下するという現象を利
用したもので、1990年度春季応用物理学関係連合講演
会、30P−F−11にて黒田他によって報告されている。
On-state writing to this light emitting element array is
It is possible to use the start pulse φ S , but it is also possible to use light. This method utilizes the phenomenon that the turn-on voltage of the light-emitting thyristor is lowered by the incident light, and was reported by Kuroda et al. In the 30th Spring Applied Physics Association Joint Lecture, 30P-F-11.

〔発明が解決しようとする問題〕[Problems to be solved by the invention]

光コンピューティング等の光情報処理への発光素子ア
レイの応用においては、光によって情報を書き込む機能
と、光によって情報を消去するという機能が重要であ
る。しかしながら、上記従来の発光素子アレイでは光に
よって情報(発光状態)を消去することができなかっ
た。即ち、、オン状態にある特定の発光素子を光によっ
てオフ状態に変化させることができないという問題点を
有していた。
In the application of the light emitting element array to optical information processing such as optical computing, the function of writing information by light and the function of erasing information by light are important. However, in the above-mentioned conventional light emitting element array, information (light emitting state) cannot be erased by light. That is, there is a problem that a specific light emitting element in the on state cannot be changed to the off state by light.

このため、一度書き込んだ情報を消去するためには、
転送クロックを一斉にローレベル電圧にするしかなかっ
た。この場合、全ての情報が消去されてしまうので、光
情報処理を行う際に大きな制約となっていた。
Therefore, in order to erase the information once written,
There was no choice but to set the transfer clocks to a low level voltage all at once. In this case, all the information is erased, which is a great limitation when performing optical information processing.

本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消し、情
報記録状態にある特定の発光素子を光によって消去状態
にすることができる発光素子アレイを提供することであ
る。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and to provide a light emitting element array capable of erasing a specific light emitting element in an information recording state by light.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

上記目的を達成するために、本発明の発光素子アレイ
は、発光動作のためのしきい電圧を制御するための第1
の制御電極をそれぞれ有する複数の発光素子が配列され
ており、各々の前記第1の制御電極が電気的手段または
光学的手段を介して互いに接続され、各々の前記発光素
子に発光状態を制御するための第2の制御電極が設けら
れており、これらの第2の制御電極の各々に外部から電
圧または電流を供給する供給ラインが接続されている発
光素子アレイであって、外部からの光を検知して抵抗値
が減少する複数の光検知素子を有し、これらの光検知素
子の各々と前記発光素子の各々とが並列接続になるよう
に、前記光検知素子が前記第2の制御電極に接続されて
いるように構成する。
In order to achieve the above object, the light emitting device array of the present invention includes a first light emitting device for controlling a threshold voltage for a light emitting operation.
A plurality of light emitting elements each having a control electrode are arranged, and each of the first control electrodes is connected to each other through an electric means or an optical means to control a light emitting state of each of the light emitting elements. A light-emitting element array in which a second control electrode is provided, and a supply line for supplying a voltage or a current from the outside is connected to each of the second control electrodes. A plurality of photodetecting elements whose resistance values are reduced by detection, and the photodetecting elements are connected in parallel to each of the photodetecting elements and each of the light emitting elements. Configured to be connected to.

また好ましくは、本発明の発光素子アレイは、前記電
気的手段が抵抗または電気的に一方向性を有する電気素
子であるように構成する。
Further preferably, the light emitting element array of the present invention is configured such that the electric means is an electric element having resistance or electrical unidirectionality.

さらに好ましくは、前記発光素子は発光動作のための
しきい電圧が前記第1の制御電極に入射する光強度によ
って変化するように構成され、かつ前記光学手段は発光
状態にある前記発光素子から別の前記発光素子の前記第
1の制御電極に光を導くように構成される。
More preferably, the light emitting element is configured such that a threshold voltage for a light emitting operation is changed according to the intensity of light incident on the first control electrode, and the optical means is separated from the light emitting element in a light emitting state. Is configured to direct light to the first control electrode of the light emitting device.

〔作用〕[Action]

電気的手段または光学的手段は、配列されている複数
の発光素子のそれぞれの第1の制御電極を接続している
ので発光素子の発光動作のためのしきい電圧に相互作用
を生じさせ、各々の発光素子に対して自己走査の機能を
与える。また複数の供給ラインは、発光素子の発光状態
を制御するための第2の制御電極に電圧または電流を供
給するので、各々の発光素子のオン状態を適宜生じさ
せ、発光素子への情報の書き込みを可能にする。
The electrical means or the optical means connects the respective first control electrodes of the plurality of light emitting elements which are arranged, so that the threshold voltage for the light emitting operation of the light emitting elements interacts with each other, and The self-scanning function is given to the light emitting element. Further, since the plurality of supply lines supply voltage or current to the second control electrode for controlling the light emitting state of the light emitting element, each light emitting element is appropriately turned on to write information to the light emitting element. To enable.

さらに、発光素子と並列に接続されている光検知素子
は、第2の制御電極に接続されているので、オン状態の
発光素子をオフ状態にするための光を外部から照射され
ると、抵抗が減少して第2の制御電極に供給される電圧
または電流を変化させる。このため、光を照射された光
検知素子に対応する発光素子はオフ状態になるので、特
定の発光素子に書き込まれた情報は消去される。
Further, since the light detecting element connected in parallel with the light emitting element is connected to the second control electrode, when the light for turning the light emitting element in the on state to the off state is externally irradiated, the resistance is reduced. Decrease to change the voltage or current supplied to the second control electrode. Therefore, the light emitting element corresponding to the light detecting element irradiated with light is turned off, and the information written in the specific light emitting element is erased.

従って、光によって所望の情報のみが選択的に消去さ
れるので、この発光素子アレイは光コンピューティング
用のデバイスとして幅広い応用に適合する。
Therefore, since only desired information is selectively erased by light, this light emitting element array is suitable for a wide range of applications as a device for optical computing.

〔実施例〕〔Example〕

<実施例1> 第1図は本発明の発光素子アレイの第1の実施例を示
す等価回路図である。第1図において、第6図と同一物
には同一符号を付している。第1図の構成は第6図に示
す発光素子(発光サイリスタ)アレイとほぼ同じであっ
て、相違点は発光サイリスタT(1)〜T(5)の各々のアノー
ドにそれぞれホトトランジスタP(1)〜P(5)のコレクタが
接続されていることである。
<Embodiment 1> FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing a first embodiment of the light emitting element array of the present invention. In FIG. 1, the same parts as those in FIG. 6 are designated by the same reference numerals. The configuration of FIG. 1 is almost the same as that of the light emitting element (light emitting thyristor) array shown in FIG. 6, except that the phototransistor P (1 ) is provided to each of the anodes of the light emitting thyristors T (1) to T (5). ) ~ P (5) collectors are connected.

なお、各々のホトトランジスタP(1)〜P(5)のエミッタ
は接地されている。即ち、各々のホトトランジスタP(1)
〜P(5)は発光サイリスタT(1)〜T(5)に並列に接続されて
いる。
The emitters of the phototransistors P (1) to P (5) are grounded. That is, each phototransistor P (1)
~ P (5) are connected in parallel to the light emitting thyristors T (1) to T (5) .

次に、第1図に示す発光素子アレイの動作を説明す
る。ただし、第6図と共通する動作については説明を省
略する。
Next, the operation of the light emitting element array shown in FIG. 1 will be described. However, the description of the operation common to FIG. 6 is omitted.

今、発光サイリスタT(3)がオン状態になっているもの
とする。このとき、発光サイリスタT(3)のアノードは約
1〔V〕(アノードオン状態電圧Vh)になっており、ま
たゲートは約0〔V〕になっている。この場合、発光サ
イリスタT(3)のアノードとカソードとの間に流れるアノ
ード電流IAは、印加された転送クロックφのハイレベ
ル電圧をVφh、アノード負荷抵抗RAの抵抗値をRAV
すると、 IA=(Vφh−Vh)/RAV で表わされる。
Now, it is assumed that the light emitting thyristor T (3) is in the ON state. At this time, the anode of the light emitting thyristor T (3) is about 1 [V] (anode on-state voltage V h ) and the gate is about 0 [V]. In this case, the anode current I A flowing between the anode and the cathode of the light emitting thyristor T (3) is V φh which is the high level voltage of the applied transfer clock φ 1 , and the resistance value of the anode load resistor R A is R AV. Then, I A = (V φh −V h ) / R AV

ここで、アノード電流IAは発光サイリスタT(3)のオン
状態を維持するための最低電流(ホールド電流)Ihより
も大きく設定される。本実施例では発光サイリスタT(3)
のホールド電流Ihは約1mAである。
Here, the anode current I A is set to be larger than the minimum current (hold current) I h for maintaining the ON state of the light emitting thyristor T (3) . In this embodiment, the light emitting thyristor T (3)
The hold current I h is about 1 mA.

さて、この状態においてホトトランジスタP(3)のベー
ス(詳細にはベース・エミッタ接合部である。)に外部
から光が照射されると、ホトトランジスタP(3)の内部で
発生した光電流が増幅され、コレクタから電流IPTが引
き込まれる。この電流IPTが十分に大きく、発光サイリ
スタT(3)のアノードに十分なアノード電流IAが流せなく
なると、発光サイリスタT(3)はオフ状態になる。この発
光サイリスタにおける情報(オン状態)の消去の条件
は、 (Vφh−Vh)/RAV−IPT<Ih で表わされる。
In this state, when the base of the phototransistor P (3) (specifically, the base-emitter junction) is irradiated with light from the outside, the photocurrent generated inside the phototransistor P (3) changes. It is amplified and the current I PT is drawn from the collector. The current I PT is sufficiently large, a sufficient anode current I A to the anode of the light-emitting thyristor T (3) is not flowed, the light-emitting thyristor T (3) is turned off. Conditions of erasing of information (on-state) in the light-emitting thyristor is represented by (V φh -V h) / R AV -I PT <I h.

なお、電流IPTはホトトランジスタPに入射する光強
度LinとホトトランジスタPの電流増幅率に依存してお
り、情報の光による消去の感度を上げるためにはホトト
ランジスタPの電流増幅率を大きくする必要がある。
The current I PT depends on the light intensity L in incident on the phototransistor P and the current amplification factor of the phototransistor P. To increase the sensitivity of erasing information by light, the current amplification factor of the phototransistor P is set to Need to be bigger.

以上説明したように、第1図に示す発光素子アレイに
よれば、ホトトランジスタPに光を照射することによっ
て、書き込まれたオン状態(発光状態)をオフ状態にす
ることができる。即ち、光による情報の消去が可能にな
る。なお、第1図に示す第1の実施例では全ての発光サ
イリスタTにホトトランジスタPが接続される場合につ
いて示したが、必要な発光サイリスタTのみにホトトラ
ンジスタPを接続するようにしてもよい。
As described above, according to the light emitting element array shown in FIG. 1, the written on state (light emitting state) can be turned off by irradiating the phototransistor P with light. That is, information can be erased by light. In the first embodiment shown in FIG. 1, the phototransistors P are connected to all the light emitting thyristors T, but the phototransistors P may be connected only to the necessary light emitting thyristors T. .

次に、第2図は第1図に示す発光素子アレイの等価回
路を同一の半導体基板上に集積して形成する場合を説明
するための縦断面図である。なお、この第2図は第1図
の発光サイリスタT(1)、T(2)及びホトトランジスタ
P(1)、P(2)を半導体基板上に形成した場合を示してい
る。
Next, FIG. 2 is a vertical cross-sectional view for explaining a case where equivalent circuits of the light-emitting element array shown in FIG. 1 are integrated and formed on the same semiconductor substrate. This FIG. 2 shows the light emitting thyristors T (1) , T (2) and the phototransistor of FIG.
It shows a case where P (1) and P (2) are formed on a semiconductor substrate.

第2図において、発光サイリスタT(1)、T(2)、ホトト
ランジスタP(1)、P(2)、及び結合用ダイオードD1、D2
n形GaAs半導体から成る基板1上に形成されている。そ
して、発光サイリスタT(1)、T(2)はp形GaAs半導体層2
1、n形GaAs半導体層22、p形GaAs半導体層23、n形GaA
s半導体層24から形成されている。
In FIG. 2, light emitting thyristors T (1) and T (2) , phototransistors P (1) and P (2) , and coupling diodes D 1 and D 2 are formed on a substrate 1 made of an n-type GaAs semiconductor. Has been done. The light emitting thyristors T (1) and T (2) are p-type GaAs semiconductor layers 2
1, n-type GaAs semiconductor layer 22, p-type GaAs semiconductor layer 23, n-type GaA
s It is formed from the semiconductor layer 24.

また、ホトトランジスタP(1)、P(2)はn形GaAs半導体
層22、p形GaAs半導体層23、n形GaAs半導体層24から形
成されている。ここで、ホトトランジスタP(1)、P(2)
npnトランジスタになる。さらに、結合用ダイオード
D1、D2はp形GaAs半導体層21、n形GaAs半導体層22から
形成されている。
The phototransistors P (1) and P (2) are composed of an n-type GaAs semiconductor layer 22, a p-type GaAs semiconductor layer 23, and an n-type GaAs semiconductor layer 24. Where the phototransistors P (1) and P (2) are
Become an npn transistor. Furthermore, coupling diodes
D 1 and D 2 are formed of a p-type GaAs semiconductor layer 21 and an n-type GaAs semiconductor layer 22.

次に、第2図に示す構造について製造工程の一例を説
明する。
Next, an example of a manufacturing process for the structure shown in FIG. 2 will be described.

まず、基板1上にMOVPE(有機金属気相結晶成長法)
等によって、順にn形GaAs半導体層24、p形GaAs半導体
層23、n形GaAs半導体層22、p形GaAs半導体層21が形成
される。この後に、第1のホトマスクを用いたホトエッ
チングの手法によって、p形GaAs半導体層21の所望の部
分のみを除去する。そして、第2のホトマスクを用いた
ホトエッチングによって、所望の部分のn形GaAs半導体
層22、p形GaAs半導体層23、n形GaAs半導体層24を除去
する。
First, MOVPE (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) on the substrate 1
As a result, the n-type GaAs semiconductor layer 24, the p-type GaAs semiconductor layer 23, the n-type GaAs semiconductor layer 22, and the p-type GaAs semiconductor layer 21 are sequentially formed. After that, only a desired portion of the p-type GaAs semiconductor layer 21 is removed by a photoetching technique using the first photomask. Then, the n-type GaAs semiconductor layer 22, the p-type GaAs semiconductor layer 23, and the n-type GaAs semiconductor layer 24 in desired portions are removed by photoetching using the second photomask.

次に、ポリイミドと呼ばれる絶縁膜(図示せず)をこ
の表面に形成する。そして、第3のホトマスクを用いた
手法によって、コンタクトホールと呼ばれる電気的接続
のための穴(図示せず)をあける。この際、RIE(リア
クティブイオンエッチング)と呼ばれる手法が使用され
る。
Next, an insulating film (not shown) called polyimide is formed on this surface. Then, a hole called a contact hole (not shown) for electrical connection is formed by a method using a third photomask. At this time, a method called RIE (reactive ion etching) is used.

この後に、抵抗を形成するための材料、配線用金属材
料が真空蒸着法等によって蒸着される。この蒸着された
膜(第2図では等価回路で示す)は第4、第5のホトマ
スクによるホトエッチングによって加工される。この結
果として、第1図に示す等価回路が実現される。
After that, a material for forming a resistor and a metal material for wiring are deposited by a vacuum deposition method or the like. This vapor-deposited film (shown by the equivalent circuit in FIG. 2) is processed by photoetching with the fourth and fifth photomasks. As a result, the equivalent circuit shown in FIG. 1 is realized.

なお、GaAs半導体ではp形とn形とでオーミックコン
タクトが取れる金属材料が異なる場合がある。例えば、
p形GaAs半導体にはAuZn合金、n形GaAs半導体にはAuGe
合金等である。この場合には、上記の製造工程において
配線用金属材料を2種類にして形成する必要がある。
In the case of a GaAs semiconductor, the p-type and n-type may differ in the metal material capable of making ohmic contact. For example,
AuZn alloy for p-type GaAs semiconductor, AuGe for n-type GaAs semiconductor
Alloys and the like. In this case, it is necessary to form two kinds of metal materials for wiring in the above manufacturing process.

なお、本実施例では結合用ダイオードを用いた場合に
ついて述べたが、結合用抵抗を用いることもでき、この
場合には転送クロックは3つにすることが必要である。
Although the case where the coupling diode is used has been described in the present embodiment, the coupling resistor may be used, and in this case, it is necessary to use three transfer clocks.

<実施例2> 第3図は本発明の発光素子アレイの第2の実施例を示
す等価回路図である。第3図において、第1図と同一物
には同一符号を付している。なお、第3図では発光サイ
リスタT(1)とその周辺回路のみを記載している。
<Embodiment 2> FIG. 3 is an equivalent circuit diagram showing a second embodiment of the light emitting element array of the present invention. 3, the same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. In FIG. 3, only the light emitting thyristor T (1) and its peripheral circuits are shown.

第3図に示す構成は、第1図に示す発光素子アレイの
構成とほぼ同じであって、相違点は発光サイリスタTの
各々のアノードにそれぞれホトダイオードPDのカソード
が(ホトトランジスタP(1)〜P(5)のコレクタの代わり
に)接続されていることである。なお、各々のホトダイ
オードPDのアノードは、図中のホトダイオードPD(1)
代表されるように接地されている。即ち、各々のホトダ
イオードPDは発光サイリスタTに並列に接続されてい
る。
The structure shown in FIG. 3 is almost the same as the structure of the light emitting element array shown in FIG. 1, except that the cathodes of the photodiodes PD (phototransistors P (1) to Be connected ( instead of the collector of P (5)) . The anode of each photodiode PD is grounded as represented by the photodiode PD (1) in the figure. That is, each photodiode PD is connected in parallel to the light emitting thyristor T.

次に、第3図に示す発光素子アレイの動作を説明す
る。ただし、第1図と共通する動作については説明を省
略する。
Next, the operation of the light emitting element array shown in FIG. 3 will be described. However, the description of the operation common to FIG. 1 is omitted.

情報を消去するための消去光を照射しない場合には、
ホトダイオードPD(1)は逆バイアスされているのでカソ
ード・アノード間に電流は流れない。従って、本実施例
の発光素子アレイにおける本来の転送動作はホトダイオ
ードPD(1)に影響されない。一方、消去光がホトダイオ
ードPD(1)に照射されると、消去光の光量に応じた電流
がホトダイオードPD(1)の内部に流れる。
When not erasing light for erasing information,
Since the photodiode PD (1) is reverse-biased, no current flows between the cathode and anode. Therefore, the original transfer operation in the light emitting element array of this embodiment is not affected by the photodiode PD (1) . On the other hand, when the erasing light is applied to the photodiode PD (1) , a current according to the light amount of the erasing light flows inside the photodiode PD (1) .

このため、発光サイリスタT(1)に流れていたアノード
電流IAの少なくとも一部がホトダイオードPD(1)の方に
流れる。この電流が十分に大きければ、発光サイリスタ
T(1)はオン状態からオフ状態になる。従って、本実施例
の発光素子アレイは第1図に示した第1の実施例の場合
と全く同様に動作する。
Therefore, at least a part of the anode current I A flowing through the light emitting thyristor T (1) flows toward the photodiode PD (1) . If this current is large enough, the light emitting thyristor
T (1) goes from on to off. Therefore, the light emitting element array of this embodiment operates exactly as in the case of the first embodiment shown in FIG.

<実施例3> 第4図は本発明の発光素子アレイの第3の実施例を示
す等価回路図である。第4図において、第1図と同一物
には同一符号を付している。なお、第4図では発光サイ
リスタT(1)とその周辺回路のみを記載している。
<Embodiment 3> FIG. 4 is an equivalent circuit diagram showing a third embodiment of the light emitting element array of the present invention. 4, the same components as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. In FIG. 4, only the light emitting thyristor T (1) and its peripheral circuits are shown.

第4図に示す構成は、第1図に示す発光素子アレイの
構成とほぼ同じであって、相違点は発光サイリスタTの
各々のアノードにそれぞれ光によって抵抗率の変化する
CdSなどの光導電形抵抗PRの一端が(ホトトランジスタP
(1)〜P(5)のコレクタの代わりに)接続されていること
である。
The structure shown in FIG. 4 is almost the same as the structure of the light emitting element array shown in FIG. 1, and the difference is that the resistivity of each anode of the light emitting thyristor T is changed by light.
One end of the photoconductive resistance PR such as CdS is (phototransistor P
(1) to P (5) instead of collectors ) .

なお、各々の光導電形抵抗PRの他端は図示のように接
地されている。即ち、各々の光導電形抵抗PRは発光サイ
リスタTに並列に接続されている。
The other end of each photoconductive resistor PR is grounded as shown. That is, each photoconductive resistor PR is connected in parallel to the light emitting thyristor T.

次に、第4図に示す発光素子アレイの動作を説明す
る。ただし、第1図と共通する動作については説明を省
略する。
Next, the operation of the light emitting element array shown in FIG. 4 will be described. However, the description of the operation common to FIG. 1 is omitted.

情報を消去するための消去光を照射しない場合には、
光導電形抵抗PR(1)の抵抗値は十分に高い。このため、
光導電形抵抗PR(1)に流れる電流は十分に小さい。従っ
て、本実施例の発光素子アレイにおける本来の転送動作
は光導電形抵抗PR(1)に影響されない。一方、消去光が
光導電形抵抗PR(1)に照射されると、消去光の光量に応
じて光導電形抵抗PR(1)の抵抗値が小さくなる。
When not erasing light for erasing information,
The resistance value of the photoconductive resistance PR (1) is sufficiently high. For this reason,
The current flowing through the photoconductive resistor PR (1) is sufficiently small. Therefore, the original transfer operation in the light emitting element array of this embodiment is not affected by the photoconductive resistance PR (1) . On the other hand, if the erasing light is irradiated on the optical conductivity type resistor PR (1), the resistance value of the optical conductivity type resistor PR (1) is reduced according to the amount of erasing light.

このため、発光サイリスタT(1)に流れていたアノード
電流IAの少なくとも一部が光導電形抵抗PR(1)の方に流
れる。この電流が十分に大きければ、発光サイリスタT
(1)はオン状態からオフ状態になる。従って、本実施例
の発光素子アレイは第1図に示した第1の実施例(ひい
ては第3図に示した第2の実施例)の場合と全く同様に
動作する。
Therefore, at least part of the anode current I A flowing through the light emitting thyristor T (1) flows toward the photoconductive resistance PR (1) . If this current is large enough, the light emitting thyristor T
(1) changes from the on state to the off state. Therefore, the light-emitting element array of this embodiment operates exactly as in the case of the first embodiment shown in FIG. 1 (and thus the second embodiment shown in FIG. 3).

<実施例4> 第5図は本発明の発光素子アレイの第4の実施例を示
す等価回路図である。第5図において、第1図と同一物
には同一符号を付している。第5図に示す構成は第1図
に示す発光素子アレイの構成とほぼ同じであって、相違
点は結合用ダイオードD1〜D4を用いた方式から発光サイ
リスタT(1)〜T(5)間の光結合を用いた方式に変更されて
いることである。
<Embodiment 4> FIG. 5 is an equivalent circuit diagram showing a fourth embodiment of the light emitting element array of the present invention. 5, the same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. The configuration shown in FIG. 5 is almost the same as the configuration of the light emitting element array shown in FIG. 1, except that the configuration using the coupling diodes D 1 to D 4 is different from that of the light emitting thyristors T (1) to T (5 That is, the method has been changed to a method using optical coupling between the two ) .

このために、第5図では第1図における結合用ダイオ
ードD1〜D4、ゲート負荷抵抗RL及び電源電圧VGKの直流
電源が設けられておらず、転送クロックφが供給され
る供給ライン(クロックライン)が新たに設けられてい
る。そして、各々の発光サイリスタT(1)〜T(5)のアノー
ドは、アノード負荷抵抗RAを介して、第5図の左側から
順に転送クロックφ、φ、φの各供給ラインに接
続されている。
For this reason, in FIG. 5, the coupling diodes D 1 to D 4 , the gate load resistance R L and the DC power supply of the power supply voltage V GK in FIG. 1 are not provided, and the transfer clock φ 3 is supplied. A line (clock line) is newly provided. Then, the anodes of the respective light emitting thyristors T (1) to T (5) are sequentially connected to the supply lines of the transfer clocks φ 1 , φ 2 , and φ 3 via the anode load resistor RA from the left side of FIG. It is connected.

この光結合を用いた方式では、例えば発光サイリスタ
T(3)がオン状態(発光状態)の場合に、その発光した光
が隣接する発光サイリスタT(2)、T(4)に入射するように
構成されている。そして、この入射した光によって発光
サイリスタT(2)、T(4)のターンオン電圧が低下するよう
に構成されている。
In the method using this optical coupling, for example, a light emitting thyristor is used.
When T (3) is in the ON state (light emitting state), the emitted light is configured to enter the adjacent light emitting thyristors T (2) and T (4) . Then, the incident light reduces the turn-on voltage of the light emitting thyristors T (2) and T (4) .

このため、転送クロックφ、φ、φに順次ハイ
レベル電圧が印加されると、発光サイリスタTの光結合
によって、オン状態が転送される。
Therefore, when the high level voltage is sequentially applied to the transfer clocks φ 1 , φ 2 , and φ 3 , the ON state is transferred by the optical coupling of the light emitting thyristor T.

次に、第5図に示す発光素子アレイの動作を説明す
る。ただし、第1図と共通する動作については説明を省
略する。
Next, the operation of the light emitting element array shown in FIG. 5 will be described. However, the description of the operation common to FIG. 1 is omitted.

発光サイリスタT(3)がオン状態である場合に、ホトト
ランジスタP(3)のベース(ベース・エミッタ接合部)に
外部から光が照射されると、ホトトランジスタP(3)のコ
レクタから電流IPTが引き込まれる。この電流IPTが十分
に大きいと、発光サイリスタT(3)はオフ状態になる。
When the light-emitting thyristor T (3) is in the ON state and the base (base-emitter junction ) of the phototransistor P (3) is irradiated with light from the outside, a current I from the collector of the phototransistor P (3) is generated. PT is pulled in. When this current I PT is sufficiently large, the light emitting thyristor T (3) is turned off.

なお、本実施例では発光サイリスタ(発光素子)Tに
並列にホトトランジスタPが接続される場合について述
べたが、第3図に示したようにホトダイオードPDが接続
される場合や、第4図に示したように光導電形抵抗PRが
接続される場合にも同様の動作が行なわれる。
In this embodiment, the case where the phototransistor P is connected in parallel to the light emitting thyristor (light emitting element) T has been described, but the case where the photodiode PD is connected as shown in FIG. 3 and the case shown in FIG. Similar operation is performed when the photoconductive resistor PR is connected as shown.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明は、以上説明したように構成されているので、
例えば外部からの入射光によってオン状態にある特定の
発光素子をオフ状態に変化させることができる。即ち、
外部からの入射光によって情報を消去することができ
る。
Since the present invention is configured as described above,
For example, a specific light emitting element in the on state can be changed to the off state by incident light from the outside. That is,
Information can be erased by incident light from the outside.

従って、本発明によれば、光コンピューティング等の
光情報処理において重要である情報の書き込み、情報の
移動(転送)、光による情報の消去という3つの機能を
備えた発光素子アレイを提供することができる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a light emitting element array having three functions which are important in optical information processing such as optical computing: writing information, moving (transferring) information, and erasing information by light. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の発光素子アレイにおける第1の実施例
を示す等価回路図、第2図は第1図に示す等価回路を同
一の半導体基板上に集積して形成する場合を説明するた
めの縦断面図、第3図は本発明の発光素子アレイにおけ
る第2の実施例を示す等価回路図、第4図は本発明の発
光素子アレイにおける第3の実施例を示す等価回路図、
第5図は本発明の発光素子アレイにおける第4の実施例
を示す等価回路図、第6図は従来の発光素子アレイを示
す等価回路図である。 なお、図面に用いた符号において、 1……基板 21……p形GaAs半導体層 22……n形GaAs半導体層 23……p形GaAs半導体層 24……n形GaAs半導体層 T(0)〜T(5)……発光サイリスタ D0〜D5……結合用ダイオード(電気的手段) φ〜φ……転送クロック P(1)〜P(5)……ホトトランジスタ(光検知素子) PD(1)……ホトダイオード(光検知素子) PR(1)……光導電形抵抗(光検知素子) である。
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing a first embodiment of a light emitting device array of the present invention, and FIG. 2 is a diagram for explaining a case where the equivalent circuit shown in FIG. 1 is integrated and formed on the same semiconductor substrate. FIG. 3 is an equivalent circuit diagram showing a second embodiment of the light emitting element array of the present invention, and FIG. 4 is an equivalent circuit diagram showing a third embodiment of the light emitting element array of the present invention.
FIG. 5 is an equivalent circuit diagram showing a fourth embodiment of the light emitting device array of the present invention, and FIG. 6 is an equivalent circuit diagram showing a conventional light emitting device array. In the reference numerals used in the drawings, 1 ... Substrate 21 ... P-type GaAs semiconductor layer 22 ... N-type GaAs semiconductor layer 23 ... P-type GaAs semiconductor layer 24 ... N-type GaAs semiconductor layer T (0) . T (5) ...... Light emitting thyristor D 0 to D 5 …… Coupling diode (electrical means) φ 1 to φ 3 …… Transfer clock P (1) to P (5) …… Phototransistor (light detection element) PD (1) …… Photodiode ( photodetector) PR (1) …… Photoconductive resistance (photodetector).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−14584(JP,A) 特開 昭52−31648(JP,A) 特開 昭63−238717(JP,A) 特開 平2−13010(JP,A) 特開 昭60−115263(JP,A) 特開 昭58−21867(JP,A) 特開 平1−143365(JP,A) 特開 平4−1996(JP,A) 特開 昭48−83742(JP,A) 実開 昭56−108378(JP,U) 井村輝夫 他,サイリスタ・エレクト ロニクス2 サイリスタ回路,日本,丸 善株式会社,1974年 1月30日,P.38 −53 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06E 3/00 G11C 11/42 G11C 13/08 G11C 19/30 H01L 27/10 H01L 33/00 H03K 17/725 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-2-14584 (JP, A) JP-A-52-31648 (JP, A) JP-A-63-238717 (JP, A) JP-A-2- 13010 (JP, A) JP 60-115263 (JP, A) JP 58-21867 (JP, A) JP 1-143365 (JP, A) JP 4-1996 (JP, A) JP-A-48-83742 (JP, A) Actually-developed Sho-56-108378 (JP, U) Teruo Imura et al., Thyristor electronics 2 thyristor circuit, Japan, Maruzen Co., Ltd., January 30, 1974, p. 38-53 (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G06E 3/00 G11C 11/42 G11C 13/08 G11C 19/30 H01L 27/10 H01L 33/00 H03K 17/725

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】発光動作のためのしきい電圧を制御するた
めの第1の制御電極をそれぞれ有する複数の発光素子が
配列されており、各々の前記第1の制御電極が電気的手
段または光学的手段を介して互いに接続され、各々の前
記発光素子に発光状態を制御するための第2の制御電極
が設けられており、これらの第2の制御電極の各々に外
部から電圧または電流を供給する供給ラインが接続され
ている発光素子アレイであって、 外部からの光を検知して抵抗値が減少する複数の光検知
素子を有し、これらの光検知素子の各々と前記発光素子
の各々とが並列接続になるように、前記光検知素子が前
記第2の制御電極に接続されていることを特徴とする発
光素子アレイ。
1. A plurality of light emitting elements each having a first control electrode for controlling a threshold voltage for a light emitting operation are arranged, each of the first control electrodes being an electric means or an optical means. Second control electrodes for controlling the light emitting state are provided to each of the light emitting elements, and a voltage or current is externally supplied to each of the second control electrodes. A light emitting element array to which a supply line is connected, the light emitting element array having a plurality of light detecting elements for detecting light from the outside and having a resistance value reduced, and each of the light detecting elements and each of the light emitting elements. The light emitting element array, wherein the light detecting element is connected to the second control electrode so that and are connected in parallel.
【請求項2】請求項1に記載の発光素子アレイにおい
て、前記電気的手段は抵抗または電気的に一方向性を有
する電気素子であることを特徴とする発光素子アレイ。
2. The light emitting element array according to claim 1, wherein the electrical means is a resistance or an electrical element having electrical unidirectionality.
【請求項3】請求項1に記載の発光素子アレイにおい
て、前記発光素子は発光動作のためのしきい電圧が前記
第1の制御電極に入射する光強度によって変化するよう
に構成され、 前記光学的手段は発光状態にある前記発光素子から別の
前記発光素子の前記第1の制御電極に光を導くように構
成されていることを特徴とする発光素子アレイ。
3. The light emitting element array according to claim 1, wherein the light emitting element is configured such that a threshold voltage for a light emitting operation is changed according to an intensity of light incident on the first control electrode. The light emitting element array, wherein the target means is configured to guide light from the light emitting element in a light emitting state to the first control electrode of another light emitting element.
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