JP3334569B2 - 照射角度を変えられるプロキシミティ露光装置 - Google Patents
照射角度を変えられるプロキシミティ露光装置Info
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
をワークに照射して露光するプロキシミティ露光装置に
関し、さらに詳細には、ワークに照射する光の角度を変
えることができるプロキシミティ露光装置に関するもの
である。
の基板の上に多種多数の電気素子を製作して一つのモジ
ュールにするマルチチップ・モジュール等、ミクロンサ
イズの加工が必要である様々の電気部品の製作工程に露
光工程が用いられている。上記露光工程における露光方
式の一つにマスクとワークの間にわずかな間隙を設けた
状態で平行光を照射するプロキシミティ露光方式があ
る。プロキシミティ露光方式は、密着露光方式に比べ、
マスクとワークが接触しないためにマスクに汚れが付き
にくく、マスクが長寿命であるという利点を持つ。
を示す図である。同図において、10は光照射装置であ
り、光照射装置10は、紫外線を含む光を放射する超高
圧水銀ランプ等の放電ランプ1と、楕円集光鏡2と、第
1のミラー3と、インテグレータレンズ4とシャッタ5
と、第2のミラー6と、コリメータレンズ7から構成さ
れている。そして、放電ランプ1が放射する紫外光を含
む光は、楕円集光鏡2で集光され、第1のミラー3で反
射し、インテグレータレンズ4に入射する。インテグレ
ータレンズ4から出た光は、シャッタ5を介してさらに
第2のミラー6で反射し、コリメータレンズ7を介して
光照射装置10から出射する。11はマスクステージで
あり、マスクステージ11にはマスクMが載置・固定さ
れる。12はワークステージ、12aはギャップ調整機
構、13はXYZθステージ、Wはワークであり、ワー
クWはワークステージ12上に載置固定される。
メント顕微鏡AMによりマスクMのマスクアライメント
マークMAMと、ワークWのワークアライメントマーク
WAMを観察し、マスクMとワークWのアライメントを
行ったのち、マスクMを介して上記光照射装置から紫外
光を含む光を照射する。XYZθステージ13は、図示
しないステージ駆動機構により駆動され、ワークステー
ジ12をXYZθ(Xは図8の左右方向、Yは同図の前
後方向、Zは同図の上下方向、θはワークステージ面に
垂直な軸を中心とした回転)に移動させる。また、ギャ
ップ調整機構12aはマスクMとワークWを所定の間隙
で平行状態にセットするために設けられたものであり、
本出願人が先に特開平7−74096号公報に開示した
間隙設定機構等を使用して実現することができる。
うに行われる。まず、マスクMをマスクステージ11の
所定の位置にセットし固定する。次に、XYZθステー
ジ13を駆動してワークステージ12を下降させ、ワー
クWをワークステージ12に載置する。ついで、XYZ
θステージ13を駆動してワークステージ12を上昇さ
せ、ワークWをマスクMに接触させたのち、ワークWを
さらに上昇させる。これにより、ギャップ調整機構12
aが変位して、マスクMの全面がワークWと接触し、マ
スクMとワークWの傾きは一致する。
を保持させたままで、XYZθステージ13を駆動して
ワークステージ12を所定量下降させる。これにより、
マスクMとワークWは平行にかつその間隔が一定に設定
される。ワークWとマスクMの間隔が一定値に設定され
ると、アライメント顕微鏡AMによりマスクM上に印さ
れたマスクアライメントマークMAMとワークW上に印
されたアライメントマークWAMを観察し、XYZθス
テージ13を駆動してワークステージ12をXYθ方向
に移動させ、マスクアライメントマークMAMとワーク
アライメントマークWAMの位置を一致させ、光照射部
10より紫外光を含む光をマスクM上に照射しワークW
を露光する。
に示すように、段差部分に配線パターンがあるワークに
紫外線を含む光を照射して露光したり、あるいは、立体
構造のワークに紫外線を含む光を照射して露光すること
が要求されるようになってきた。上記ワークに紫外線を
含む光を照射して露光する場合、マスクに対して垂直に
光を照射しても段差部分を充分に露光することができな
い。すなわち、図10(a)(b)に示すように段差部
分があるワークを露光する場合には、光を斜めから照射
しないと段差部分あるいは垂直面を充分に露光すること
はできない。
おいては、光照射装置10がマスクステージ11および
XYZθステージ13の上方に固定的に設置されてお
り、紫外線を含む光をマスクMおよびワークW面に斜め
から照射することはできず、上記した要求に応えること
ができなかった。本発明は上記した事情を考慮してなさ
れたものであり、本発明の第1の目的は、ワークへの光
の照射角度を変えることができるプロキシミティ露光装
置を提供することである。本発明の第2の目的は、放電
ランプを備えた光源部を垂直状態に保持したまま、ワー
クに対する照射角度を任意に設定・位置決めすることが
可能であり、外力が加わっても設定した照射角度からず
れることがないプロキシミティ露光装置を提供すること
である。
ては、次のように解決する。 (1)紫外線を含む光を放出する光出射部と、放電ラン
プから放出される紫外光を含む光を上記光出射部に供給
する光源部と、マスクと、該マスクを保持するマスクス
テージと、ワークと、該ワークを保持するワークステー
ジとを備えたプロキシミティ露光装置において、上記光
出射部からの光がワークに対して斜め方向から照射され
るように、上記光源部を垂直に保持したまま、光出射部
を傾ける機構を設ける。上記のように光出射部を傾ける
機構を設け、放電ランプを備えた光源部を垂直状態に保
持したまま、光をワークの斜め方向から照射できるよう
にすることにより、前記したワークの段差部分等に斜め
方向から光を照射することができ、段差のあるワークや
その他斜め方向から光を照射するワークに効果的に光を
照射することができる。 (2)光出射部を固定する傾斜台と、傾斜台を回動案内
を介して回動可能に保持するベースと、上記傾斜台に回
転軸受けを介して回転可能に接続され、放電ランプから
放出される紫外光を含む光を上記光出射部に供給する光
源部と、上記光源部の駆動方向を水平方向に規制する水
平方向案内手段と、光源部を上記水平方向案内手段に沿
って水平方向に駆動する駆動手段と、上記水平方向案内
手段を保持する保持手段と、上記保持手段を、直動案内
手段を介して上下方向に移動可能に支持する支持手段と
を設ける。そして、上記駆動手段を駆動することによ
り、光源部を垂直に保持したまま、上記光出射部を傾
け、該光出射部からの光をワークに対して斜め方向から
照射する。上記構成とすることにより、放電ランプを備
えた光源部を垂直状態に保持したまま、ワークに対する
照射角度を任意に設定・位置決めすることができる。ま
た、光源部に外力が加わった場合でも、光源部を垂直に
維持することができ、ランプハウスに対して外力が加わ
った場合でも、設定した照射角度からずれることがな
い。
ロキシミティ露光装置の全体構成を示す図である。同図
において、10aは光源部、10bは出射部であり、光
源部10a、出射部10bで光照射装置10を構成して
いる。光源部10aおよび出射部10bには、前記図8
と同様、紫外線を含む光を放射する超高圧水銀ランプ等
の放電ランプ1と、楕円集光鏡2と、第1のミラー3
と、インテグレータレンズ4とシャッタ5と、第2のミ
ラー6と、コリメータレンズ7が設けられている。そし
て、放電ランプ1が放射する紫外光を含む光は、楕円集
光鏡2で集光され、第1のミラー3で反射し、インテグ
レータレンズ4に入射する。インテグレータレンズ4か
ら出た光は、シャッタ5を介してさらに第2のミラー6
で反射し、コリメータレンズ7を介して光照射装置10
から出射する。
ージ、12aはギャップ調整機構、13はXYZθステ
ージ、Mはマスク、Wはワークであり、マスクMはマス
クステージ11上に載置固定され、ワークWはワークス
テージ12上に載置固定される。AMはアライメント顕
微鏡であり、アライメント顕微鏡AMによりマスクMの
マスクアライメントマークMAMと、ワークWのワーク
アライメントマークWAMを観察し、マスクMとワーク
Wのアライメントを行ったのち、マスクMを介して上記
光照射装置10から紫外光を含む光を照射する。XYZ
θステージ13は、前記したように、図示しないステー
ジ駆動機構により駆動されワークステージ12をXYZ
θ方向に移動させる。また、ギャップ調整機構12aは
前記したようにマスクMとワークWを所定の間隙で平行
状態にセットするために使用される。
り、基台21の左右両側の突起部21aは、図示しない
支持部材に固定された円弧状アーム22,23に設けら
れたガイドに係合しており、基台21は円弧状アーム2
2,23のガイドに沿って手前側に回動する。また、基
台21には軸受支持体24,25が取り付けられてお
り、軸受支持体24,25には、第1、第2の軸受2
6,27が取り付けられている。第1の軸受26は、光
源部10aの第1の円筒状突起部26aを回転可能に支
持しており、また、第2の軸受27は光源部10aの第
2の円筒状突起部27aを回転可能に支持している。こ
のため、光源部10aは上記第1、第2の円筒状突起部
26a,27aの中心を結ぶ線を軸として回転できる。
第2の軸受け27、第2の円筒状突起部27aは中空で
あり、内部を同図に示すようにインテグレータレンズ4
から出射した光が通過する。
分解図、図4は光照射部を図1のA方向から見た図であ
り、同図は円弧状アーム22,23に沿って基台21が
略45°回動した状態を示している。次に図2,図3,
図4により本実施例の光照射部の構成についてさらに詳
細に説明する。
には突起部21aが設けられており、前記したように、
突起部21aは円弧状アーム22,23に形成された円
弧状のガイド22a,23aに係合している。このため
基台21は上記円弧状のガイド22a,23aに沿って
回動する。基台21には、図3に示すように第1の開口
部21b,第2の開口部21cが設けられている。出射
部10bは基台21に取り付けられ、出射部10bの光
出射口部30が上記第1の開口部21bに嵌合する。ま
た、基台21には軸受支持体24,25が取り付けられ
ており、光源部10aの前記した円筒状突起部26a,
27aを軸支する第1、第2の軸受26,27が上記軸
受支持体24,25に取り付けられる。出射部10bに
は穴32が設けられており、穴32に上記第2の軸受2
7が嵌合する。
は、基台21の突起部21aを円弧状アーム22,23
のガイド22a,23aに係合させて、基台21を円弧
状アーム22,23に取り付けるとともに、図3に示す
ように、基台21の開口部21bに出射部10bの光出
射口30を嵌合して、出射部10bを基台21に固定す
る。ついで、光源部10aに取り付けられた第2の軸受
27を上記出射部10bの穴32に嵌合し、第1、第2
の軸受26,27を軸受支持体24、25に固定する。
これにより、図2に示す本実施例の光照射部が組み立て
られる。本実施例の光照射部は、上記のように光源部1
0aが第1、第2の軸受26,27により基台21に対
して回転可能に取り付けられているので、基台21が円
弧状アーム22,23に沿って回動したとき、光源部1
0aの放電ランプ1を垂直に保持することができる。
状態を示す図であり、同図に示すように、基台21を傾
けるとそれに応じて出射部10bも、傾き被照射体に斜
めから光を照射することができる。このとき、光源部1
0aは同図に示すように垂直に保持される。点灯時、放
電ランプが垂直状態に保持されていれば、アークは図5
(a)に示すように電極間で正常な形状に維持される
が、放電ランプが傾くと図5(b)に示すようにアーク
の形状が変形する。このようにアークの形状が変形する
と、ランプの管壁の温度が上昇し、放電ランプが破裂す
る可能性がある。このため、点灯時、放電ランプを垂直
に維持する必要があるが、上記のような構造とすること
により、放電ランプを垂直に保持することができ、放電
ランプの破裂を避けることができる。なお、光源部10
aを常に垂直状態に保持するには、例えば、光源部10
aの下部に重り等を取り付ければよい。また、円弧状ア
ーム22,23の円弧の中心部Oは、光照射面の中心部
と略一致するように設定されている。よって、出射部1
0bから出射される光の光軸が、基台21を回動させて
も常に光照射面の略中心部を通るので、以下に示す露光
が確実に行えることになる。
よる露光処理について説明する。図1に戻り、まず、マ
スクMをマスクステージ11の所定の位置にセットし固
定する。次に、XYZθステージ13を駆動してワーク
ステージ12を下降させ、例えば、前記図10(a)に
示すような段差部分のあるワークWをワークステージ1
2に載置する。ついで、前記した手順で、マスクMとワ
ークWを平行にかつその間隔が一定になるようにセット
し、マスクM上に印されたマスクアライメントマークM
AMとワークW上に印されたワークアライメントマーク
WAMの位置を一致させる。
スクMを介してワークWに垂直方向から光を1ショット
照射する。ついで、基台21を前記した円弧状アーム2
2,23のガイドに沿って回動させて前記図4に示した
ように出射部10bを傾け、ワークWの段差部分に光が
当たるように、斜めから光を1ショット照射する。これ
によりワークWの段差部分を露光することができる。な
お、上記説明では、段差のあるワークに対して斜めから
光を照射して露光する場合について説明したが、例え
ば、液晶基板に斜めから光を照射し、配向膜の光配向処
理等を行うこともできる。また、上記実施例では、マス
クを水平に保持して露光する場合について説明したが、
マスクステージを傾ける機構を設け、前記図10(a)
(b)に示す形状のワークを露光する際、ワークに対し
てマスクを傾けて露光してもよい。
ティ露光装置の構成を示す図であり、本実施例は、モー
タ等から構成される駆動機構を用い、光源部を垂直に保
持しながら出射部を傾ける機構を備えた実施例を示して
いる。図6において、41はベースであり、ベース41
のA部分は開口しており、ベース41の両側にはRガイ
ド支持部41a,41bが設けられている。また、Rガ
イド支持部41a,41bには、円弧状のRガイド42
が取り付けられており、Rガイド42には、Rガイド4
2に沿って移動可能なRガイドベアリングサポータ43
a,43bが取り付けられている(同図ではRガイドが
一つしか示されていないが、Rガイド支持部41a,4
1bのそれぞれにRガイドが設けられている)。
bには、傾斜台40が取り付けられており、Rガイドベ
アリングサポータ43a,43bがRガイド42に沿っ
て移動すると傾斜台40は傾斜する。また、Rガイドベ
アリングサポータ43bには、傾斜角度指示指針44が
取り付けられ、またRガイド支持部41bには角度表示
目盛り45が記されている。傾斜台40上には、出射部
10bと、軸受け支持体24,25が取り付けられてお
り、軸受け支持体24,25には第1、第2の軸受2
6,27が取り付けられ、第1、第2の軸受26,27
により光源部載置台46が回転可能に支持されている。
すなわち、光源部載置台46は第1、第2の軸受26,
27の中心を結ぶ軸を中心として回転する。
光源部10aが載置され、傾斜台40の光源部載置台4
6の下側は開口している。なお、光源部10aと出射部
10bには、前記図1に示したように、紫外光を含む光
を放射する放電ランプと楕円集光鏡と、第1のミラー
と、インテグレータレンズとシャッタと、第2のミラー
と、コリメータレンズが設けられている。また、出射部
10bの下側には、前記図1に示したように、マスクス
テージ11とワークステージ12が配置されており、出
射部10bから放射される光がマスクステージ11に載
置されたマスクMを介してワークW上に照射される。ま
た、ベース41には移動板支持体47が取り付けられて
おり、移動板支持体47には、直線ガイド48を介して
移動板49が取り付けられている。このため、移動板4
9は、上記直線カイド48に沿って上下方向に移動可能
である。
支持体47の裏面側には重りが上下方向に移動可能に設
けられており、移動板49と上記重りはワイヤ等で連結
され、ワイヤは移動板支持体47の上に取り付けられた
滑車により支持されている(上記重り、滑車、ワイヤに
ついては、図7で後述する)。移動板49には、ボール
ねじ50とボールスプライン51が取り付けられてお
り、ボールねじ50は移動板49とともに移動するモー
タ52により回転駆動される。モータ52はブレーキ付
きモータであり、カップリングを介してボールねじ50
に連結されている。
部53が係合しており、ボールねじベアリング部53に
光源部載置台46が取り付けられている。また、ボール
スプライン51には、光源部載置台46がボールスプラ
イン51の軸方向に移動可能に取り付けられている。し
たがって、モータ52を駆動すると、光源部載置台46
は垂直状態を保持したままボールスプライン51の軸方
向に移動し、また、傾斜台40および出射部10bはR
ガイド42に沿って移動し傾斜する。
射部10bを傾けたときの状態を説明する図である。同
図(a)は傾きが0°の状態、同図(b)は傾きが45
°の場合を示しており、図6に示したものと同一のもの
には同一の符号が付されており、同図では、モータ52
は省略されている。同図に示すように、移動板支持体4
7の移動板49の裏面側には重り54が設けられてお
り、移動板支持体47の上部には滑車55が取り付けら
れている。そして、滑車55にワイヤ56が掛けられて
おり、ワイヤ56の両端に移動板49と重り54が取り
付けられている。重り54の重さは、〔移動板49+モ
ータ52+ボールねじ50+ボールスプライン51〕と
略等しくされ、重り54により、移動板49等の重量を
相殺することができる。このため、傾斜台が傾いたとき
でも、ボールねじ50とボールスプライン51には移動
板49とモータ52の重さがかからず、ボールねじ50
とボールスプライン51にまげ力が働くことを防ぐこと
ができる。
駆動すると、ボールねじ50が回転しボールねじベアリ
ング部53が同図の右方向に移動し、これに固定された
光源部載置台46も移動する。光源部載置台46はボー
ルスプライン51により姿勢が規制されているので、ボ
ールスプライン51に平行に移動する。一方、傾斜台4
0は光源部載置台46と2個の軸受26,27によって
連結されているので、光源部載置台46が水平方向に移
動するに従って、傾斜台40はRガイド42に沿って傾
斜する。また、上記のように傾斜台40が傾斜すると、
光源部載置台46を下方に移動させる力が働き、ボール
ねじ50、ボールスプライン51が取り付けられた移動
板49が下降する。
ルねじ50を回転させることにより、図7(b)に示す
ように傾斜台40に固定された出射部10bは、2個の
軸受26,27の中心軸を中心に回転移動し、光源部1
0aは光源部載置台46に固定されて垂直状態を維持し
たまま下方に移動する。傾斜台40が傾くとそれととも
に傾斜角度指示針44が移動し、Rガイド支持部41b
に記された角度表示目盛45により傾斜角度が表示され
る。上記角度表示目盛45により傾斜角度を確認し、設
定した傾斜角度まで出射部10bが傾いたときモータ5
2を停止する。これによりモータ52にブレーキがかか
り、出射部10bは所定の角度で固定される。
部10aがボールスプライン51により保持された光源
部載置台46に載置されているので、光源部10aに外
力が加わった場合でも、光源部10aを垂直に維持する
ことができ光源部10aが傾くことがない。ボールねじ
50をモータ52により駆動・停止させることで、ワー
クに対する照射角度を任意に設定・位置決めすることが
でき、ランプハウスに対して外力が加わった場合でも、
設定した照射角度からずれることがない。
移動するので、垂直照射時と斜め照射時のいずれにおい
ても、光源部10aからの照射中心は変化せず、ワーク
をワークステージの所定の位置で精度よく露光すること
ができる。本実施例のプロキシミティ露光装置による露
光処理は、前記第1の実施例で説明したのと同様であ
り、斜め方向から光を照射して露光する場合には、モー
タ52を駆動して、出射部10bをワークに対して所望
の角度に傾け、段差のあるワークの段差部分、あるい
は、液晶基板等を露光する。
以下の効果を得ることができる。 (1)光出射部を傾ける機構を設け、光をワークの斜め
方向から照射できるようにしたので、前記したワークの
段差部分等に効果的に光を照射することができる。ま
た、液晶基板の配向膜の光配向等に利用することもでき
る。 (2)水平方向案内手段に沿って光源部を水平方向に駆
動する駆動手段を設けたので、該駆動手段を駆動・停止
させることで、ワークに対する照射角度を任意に設定・
位置決めすることができる。また、ランプハウスに対し
て外力が加わった場合でも、設定した照射角度からずれ
ることがない。
方向に移動が規制された光源部載置台に載置しているの
で、光源部に外力が加わった場合でも、光源部を垂直に
維持することができる。 (4)傾斜台を回動案内に沿って移動させることによ
り、垂直照射時と斜め照射時のいずれにおいても、光源
部からの照射中心は変化せず、ワークをワークステージ
の所定の位置で精度よく露光することができる。
体構成を示す図である。
図である。
ある。
である。
す図である。
の照射方向を説明する図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 紫外線を含む光を放出する光出射部と、放電ランプから放出される紫外光を含む光を上記光出射
部に供給する光源部と、 マスクと、該マスクを保持するマスクステージと、 ワークと、該ワークを保持するワークステージとを備え
たプロキシミティ露光装置において、 上記光出射部からの光がワークに対して斜め方向から照
射されるように、上記光源部を垂直に保持したまま、光
出射部を傾ける機構を設けたことを特徴とするプロキシ
ミティ露光装置。 - 【請求項2】 紫外線を含む光を放出する光出射部と、 マスクと、該マスクを保持するマスクステージと、 ワークと、該ワークを保持するワークステージとを備え
たプロキシミティ露光装置において、 上記光出射部を固定する傾斜台と、 傾斜台を回動案内を介して回動可能に保持するベース
と、 上記傾斜台に回転軸受けを介して回転可能に接続され、
放電ランプから放出される紫外光を含む光を上記光出射
部に供給する光源部と、 上記光源部の駆動方向を水平方向に規制する水平方向案
内手段と、光源部を上記水平方向案内手段に沿って水平
方向に駆動する駆動手段と、 上記水平方向案内手段を保持する保持手段と、 上記保持手段を、直動案内手段を介して上下方向に移動
可能に支持する支持手段とを備え、 上記駆動手段を駆動することにより、光源部を垂直に保
持したまま、上記光出射部を傾け、該光出射部からの光
がワークに対して斜め方向から照射されるようにしたこ
とを特徴とするプロキシミティ露光装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21326697A JP3334569B2 (ja) | 1996-09-27 | 1997-08-07 | 照射角度を変えられるプロキシミティ露光装置 |
TW086118522A TW358977B (en) | 1996-09-27 | 1997-12-09 | Adjacent exposure device of variable lighting angles |
US09/025,732 US6046793A (en) | 1996-09-27 | 1998-02-18 | Proximity printing device with variable irradiation angle |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8-255846 | 1996-09-27 | ||
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