JP3284182B2 - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＡＶ（オーディオ
ビデュアル）機器やＯＡ（オフィスオートメーション）
機器等に使用できる液晶表示装置およびその製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶テレビ、ラップトップパソコン、ノ
ート型パソコン等のディスプレイに用いられるカラー液
晶表示装置には、絶縁性基板上に着色層を平面的に分離
配置して形成したカラーフィルタが使用されている。

【０００３】このカラー液晶表示装置としては、従来、
図１３に示す構成のものが知られている。図１３に示す
カラー液晶表示装置は、対向基板２１と駆動用基板２３
の間に液晶２４を封入し、封止材２５で封止することに
より構成される。対向基板２１は、ガラス基板２０上に
三原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の着色層２６をそれぞれ形成する
とともに、各着色層間に洩れ光によるコントラストや色
純度の低下を防止する役割を果たすブラックマトリクス
２７を設け、これをトップコート材２８で平滑化し、そ
の上面に透明電極２９を設けたものである。一方、駆動
用基板２３は、ガラス基板２０上に駆動用透明電極２２
を形成したものである。

【０００４】このようなカラー液晶表示装置において
は、駆動用基板２３と対向基板２１の貼り合わせを行っ
た後に検査を行って、例えば駆動用基板２３の不良が判
明すれば、そのカラー液晶表示装置が不良となり使い物
にならない。従って、駆動用基板２３の状態で検査を行
い不良によっては修正を行いこれを良品とすることが考
えられている。

【０００５】例えば、特開平７−３１８９８０号公報は
駆動用基板における画像表示領域の外部に信号入力用の
検査パッドを設けている。信号線に信号を入力し、この
検査パッドにプローブを置いて信号を検出することによ
り信号線の断線及び短絡不良の検査を行っている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
７−３１８９８０号公報で示されている方法では、全て
の信号線に対応した検査パッドにプローブを配置する手
間が煩雑であるとともに細かいピッチの信号線において
は検査パッドにプローブを配置するのが困難である。さ
らには、プローブを検査パッドに短絡させた際に静電気
が発生し、画像表示領域のアクティブ素子がダメージを
受けやすい。

【０００７】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、プローブを置く必要が無く簡単に駆
動用基板の検査が行える液晶表示装置およびその製造方
法を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、一方の絶縁性
基板上にアクティブ素子と、ゲートバス配線と、ソース
バス配線と、補助容量配線と、前記アクティブ素子に導
通された電極とを有し、前記電極がマトリクス状に配列
されて画像表示領域を構成する液晶表示装置において、
前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記
検査用電極は、ゲートバス配線、ソースバス配線それぞ
れの配線端部に形成されており、絶縁性基板上における
ゲートバス配線、ソースバス配線において検査用電極が
形成されている側と反対側にドライバが形成されている
ことを特徴とし、それによって上記目的が達成される。

【０００９】

【００１０】

【００１１】また、本発明は、一方の絶縁性基板上にア
クティブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線
と、補助容量配線と、前記アクティブ素子に導通された
電極とを有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画
像表示領域を構成する液晶表示装置において、前記画像
表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記検査用電
極の一部は、透明導電膜によって形成されることを特徴
とする。

【００１２】前記検査用電極は、前記配線と重ならない
領域にも形成されることが好ましい。

【００１３】前記電極上に電極を利用して形成した着色
層を有することが好ましい。

【００１４】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
前記欠陥検査を行う工程は、絶縁性基板上に形成された
ドライバを動作させることにより行われることを特徴と
し、それによって上記目的が達成される。

【００１５】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
画像表示領域外に着色する検査用電極によって前記配線
または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程は、ソ
ースバス配線に電圧を印加し他の配線に接続された検査
用電極を観察することによって行われることを特徴と
し、それによって上記目的が達成される。

【００１６】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
前記電極上部に電極を利用して形成した着色層を形成す
る工程を有することを特徴とし、それによって上記目的
が達成される。

【００１７】

【００１８】以下、上記構成による作用を説明する。

【００１９】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置において、前記画像表示領域
外に着色する検査用電極を設け、前記検査用電極は、ゲ
ートバス配線、ソースバス配線それぞれの配線端部に形
成されており、絶縁性基板上におけるゲートバス配線、
ソースバス配線において検査用電極が形成されている側
と反対側にドライバが形成されていることを特徴として
いるので、プローブを使用することなく検査用電極の着
色によって目視によっても液晶表示装置の検査が可能と
なる。

【００２０】前記検査用電極は、ゲートバス配線、ソー
スバス配線、それぞれの配線端部に形成されているの
で、それぞれの配線の断線及びそれぞれの配線同士の短
絡を検査することが出来る。

【００２１】絶縁性基板上におけるゲートバス配線、ソ
ースバス配線において検査用電極が形成されている側と
反対側にドライバが形成されているので、このドライバ
を動作させて基板の検査を行うことが出来、さらにこの
ドライバの検査も同時に行うことが出来る。

【００２２】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置において、前記画像表示領域
外に着色する検査用電極を設け、前記検査用電極の一部
は、透明導電膜によって形成されるので、検査用電極の
色の変化が認識しやすくなる。

【００２３】前記検査用電極は、前記配線と重ならない
領域にも形成されるので、検査用電極の色の変化がさら
に認識しやすくなる。

【００２４】前記電極上に電極を利用して形成した着色
層を有するので、この着色層は画素電極に対応している
ため、対向基板側に形成した場合のように開口率の低下
は起こらない。また、電極上に着色層を形成する際に検
査用電極への着色層の付加を検査することによって信号
線の検査を同時に行うことが出来る。

【００２５】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
前記欠陥検査を行う工程は、絶縁性基板上に形成された
ドライバを動作させることにより行われるので、プロー
ブを使用することなく検査用電極の着色によって目視に
よっても液晶表示装置の検査が可能となるとともに、欠
陥検査用の信号入力を必要とせずに欠陥検査を行うこと
が出来る。さらには、このドライバの検査を同時に行う
ことが出来る。

【００２６】

【００２７】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
画像表示領域外に着色する検査用電極によって前記配線
または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程は、ソ
ースバス配線に電圧を印加し他の配線に接続された検査
用電極を観察することによって行われるので、プローブ
を使用することなく検査用電極の着色によって目視によ
っても液晶表示装置の検査が可能となるとともに、ソー
スバス配線の断線検査並びにソースバス配線とこれに交
差しているゲートバス配線及び補助容量配線との短絡検
査を容易に行うことが出来る。

【００２８】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
前記電極上部に電極を利用して形成した着色層を形成す
る工程を有するので、プローブを使用することなく検査
用電極の着色によって目視によっても液晶表示装置の検
査が可能となるとともに、電極上に着色層を形成する際
に検査用電極への着色層の付加を検査することによって
信号線の検査を同時に行うことが出来る。

【００２９】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。

【００３０】（実施の形態１）本発明の液晶表示装置の
第１の実施形態を図１を用いて説明する。図１において
絶縁性基板１上にゲートバス配線１５、ソースバス配線
１６、補助容量配線３０が配設されている。また、ゲー
トバス配線１５とソースバス配線１６の交点にはアクテ
ィブ素子３が形成されている。それぞれのアクティブ素
子３に対応して表示を行うための液晶駆動電極１２が形
成され、この液晶駆動電極１２がマトリクス状に形成さ
れて画像表示領域４０を構成している。本実施形態にお
いては、それぞれの配線の端部に検査用電極３５ａ、３
５ｂ、３５ｃが設けられており、それぞれの検査用電極
上には電圧が加わると変色する材料が配設されている。
この材料として例えば液晶フィルムを使用すればよい。

【００３１】以下、本実施形態における配線の検査方法
について説明する。

【００３２】まず、ソースバス配線１６において検査用
電極３５ｂが設けられている側の他端側から検査用信号
を順次もしくは一斉に入力する。そして検査用電極３５
ｂを観察するが、もしソースバス配線１６に断線があれ
ば検査用電極３５ｂに電圧が印加されず検査用電極３５
ｂが変色しないので断線の有無がわかる。このような断
線はソースバス配線１６に予備配線を形成しておけば断
線部において予備配線と接続することによって欠陥を救
済することも出来る。

【００３３】また、このソースバス配線１６とソースバ
ス配線１６に交差しているゲートバス配線１５及び補助
容量配線３０との間で短絡欠陥があると検査用電極３５
ａ及び３５ｃが変色するので短絡欠陥も検査することが
出来る。このような短絡欠陥もレーザーを用いて短絡を
解除し欠陥を救済することが出来る。

【００３４】次に、ゲートバス配線１５に順次電圧を印
加し、ゲートバス配線１５に接続している検査用電極３
５ａを観察し、ゲートバス配線１５の断線の有無を検査
する。ここで、ゲートバス配線１５と補助容量配線３０
との短絡があれば補助容量配線３０に接続している検査
用電極３５ｃの変色の程度でこれらの配線同士のリーク
の程度がわかる。

【００３５】このように検査用電極を観察することによ
って簡単に、バス配線の断線及び短絡欠陥の検査を行う
ことが出来る。

【００３６】（実施の形態２）本発明の液晶表示装置の
第２の実施形態を図２を用いて説明する。図２は絶縁性
基板１上にゲートドライバ４１及びソースドライバ４２
が同一基板上に形成されたものである。その他の構成は
図１と同様である。図２において絶縁性基板１上にゲー
トバス配線１５、ソースバス配線１６、補助容量配線３
０が配設されている。また、ゲートバス配線１５とソー
スバス配線１６の交点にはアクティブ素子３が形成され
ている。それぞれのアクティブ素子３に対応して表示を
行うための液晶駆動電極１２が形成され、この液晶駆動
電極１２がマトリクス状に形成されて画像表示領域４０
を構成している。本実施形態においては、それぞれの配
線の端部に検査用電極３５ａ、３５ｂ、３５ｃが設けら
れており、それぞれの検査用電極上には電圧が加わると
変色する材料が配設されている。この材料として例えば
液晶フィルムを使用すればよい。

【００３７】以下、本実施形態における配線の検査方法
について説明する。

【００３８】まず、ソースバス配線１６において検査用
電極３５ｂが設けられている側の他端側からソースドラ
イバ４２を動作させて検査用信号を順次入力する。そし
て検査用電極３５ｂを観察するが、もしソースバス配線
１６に断線があれば検査用電極３５ｂに電圧が印加され
ず検査用電極３５ｂが変色しないので断線の有無がわか
る。このような断線はソースバス配線１６に予備配線を
形成しておけば断線部において予備配線と接続すること
によって欠陥を救済することも出来る。また、ソースド
ライバ４２が中途から動作せずに不良となっていれば動
作していない部分に対応する検査用電極３５ｂが着色し
ないのでソースドライバ４２の不良部分がわかる。

【００３９】また、このソースバス配線１６とソースバ
ス配線１６に交差しているゲートバス配線１５及び補助
容量配線３０との間で短絡欠陥があると検査用電極３５
ａ及び３５ｃが変色するので短絡欠陥も検査することが
出来る。このような短絡欠陥もレーザーを用いて短絡を
解除し欠陥を救済することが出来る。

【００４０】次に、ゲートドライバ４１を動作させてゲ
ートバス配線１５に順次電圧を印加し、ゲートバス配線
１５に接続している検査用電極３５ａを観察し、ゲート
バス配線１５の断線の有無を検査する。また、ゲートド
ライバ４１が中途から動作せずに不良となっていれば動
作していない部分に対応する検査用電極３５ａが着色し
ないのでゲートドライバ４１の不良部分がわかる。

【００４１】ここで、ゲートバス配線１５と補助容量配
線３０との短絡があれば補助容量配線３０に接続してい
る検査用電極３５ｃの変色の程度でこれらの配線同士の
リークの程度がわかる。

【００４２】このように検査用電極を観察することによ
って簡単に、バス配線の断線及び短絡欠陥の検査、さら
にはゲートドライバ及びソースドライバの検査を行うこ
とが出来る。

【００４３】（実施の形態３）本発明の液晶表示装置の
第３の実施の形態を図３、図４、図５、図６、図７、図
８および図９を参照しながら説明する。図３は本実施形
態であるアクティブマトリクス基板の簡略化した平面図
であり、図４は図３のＡ−Ａ線断面図であり、図５は図
３のＢ−Ｂ線断面図であり、図６は基板端部の平面図で
あり、図７は図６のＡ−Ａ線断面図であり、図８は図６
のＢ−Ｂ線断面図であり、図９は図６のＣ−Ｃ線断面図
であり、アクティブマトリクス基板は、主に絶縁性基板
１上にマトリクス配列したＴＦＴ３とそれらのＴＦＴの
オン・オフによって作動するカラーフィルタ形成用電極
（画素電極）１２ｂで構成されている。

【００４４】ガラス基板等から成る絶縁性基板１上に、
タンタル（Ｔａ）等から成るゲート電極５、ゲートバス
配線１５、画像表示部外のゲートバス配線１５′、補助
容量配線３０、画像表示部外の補助容量配線３０′が形
成され、このゲート電極５、ゲートバス配線１５、補助
容量配線３０を覆って窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜等か
ら成るゲート絶縁膜６が形成されている。

【００４５】ゲート電極５の上方のゲート絶縁膜６上に
は、ノンドープのアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）層
から成る半導体層７が形成されている。さらに、この半
導体層７上には絶縁層１０が形成され、この絶縁層１０
の一部を覆って、さらに半導体層７の両端部には、例え
ばリン（Ｐ）ドープのアモルファスシリコン（ｎ⁺型ａ
−Ｓｉ）８ａ、８ｂが形成され、このｎ⁺型ａ−Ｓｉ層
８ａ、８ｂ上にはチタン（Ｔｉ）等から成るソース電極
９ａおよびドレイン電極９ｂが形成されている。

【００４６】以上により、スイッチング素子であるＴＦ
Ｔ３が構成される。ここで、ゲート電極５はゲートバス
配線１５に接続し、ソース電極９ａはＴｉよりなるソー
スバス配線１６に接続されている。このゲートバス配線
１５、補助容量配線３０とソースバス配線１６とは絶縁
膜を介して相互に絶縁されマトリクス状に形成されてい
る。これらの配線は画像表示部外の１５′、１６′、３
０′まで存在している。

【００４７】さらに、有機樹脂保護膜１１がコンタクト
ホール１１ａ、１１ｂ、１１ｄおよび画像表示部外の配
線１５′、１６′、３０′以外のＴＦＴ３上、画素領域
上、ソースバス配線１６上及びゲートバス配線１５上の
全面にアクリル系樹脂で形成される。

【００４８】有機樹脂保護膜１１の上部にゲートバス配
線１５とソースバス配線１６に囲まれた表示領域にＩＴ
Ｏ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）からなるカラ
ーフィルタ形成用電極（画素電極）１２ｂを、コンタク
トホール１１ｂを介してドレイン電極９ｂに電気的に接
続している。カラーフィルタ形成用電極（画素電極）上
には、カラーフィルタ１３を電気化学的手法で赤、緑、
青が順次所定のパターンで形成されている。ＴＦＴ３の
上方にはＩＴＯ等からなる遮光層形成用電極１２ａが有
機樹脂保護膜１１上に形成され、コンタクトホール１１
ａを介してソース電極９ａに電気的に接続している。遮
光層形成用電極１２ａ上には、ＴＦＴのＣｒ等からなる
遮光層１８ａが、電気化学的手法により形成されてい
る。

【００４９】さらに、有機樹脂保護膜１１、遮光層１８
ａおよびカラーフィルタ１３の上にポリイミド等からな
る配向膜１４を形成し、この配向膜１４上には液晶を並
べるためにラビング等による配向処理が施されている。

【００５０】一方、対向基板は、絶縁性基板２上に、例
えばＩＴＯから成る対向電極１７が形成され、その対向
電極上に例えばポリイミドから成る配向膜１４が形成さ
れ、液晶を並ばせるために配向膜表面に配向処理が施さ
れている。

【００５１】以上のようにして作製したアクティブマト
リクス基板および対向基板を、基板間の間隙を一定に保
つために、プラスチックビーズ等を散布工程により散在
させたスペーサを介して封止剤で貼り合わせ、シールの
一部に設けられた注入口から液晶４を注入して、液晶４
の注入完了後に注入口を封止することによって、液晶表
示素子が構成される。

【００５２】この液晶表示素子に後方から光を照射し
て、透過光の制御をすることにより、透過型液晶表示装
置として機能させることができる。

【００５３】次に、本発明のアクティブマトリクス基板
を用いた液晶表示装置の製造方法について説明する。図
１０は本発明の液晶表示装置の製造方法を示す工程図で
ある。

【００５４】まず、図１０（ａ）に示すように、絶縁性
基板１上にＴＦＴ３、このＴＦＴ３に電気的に接続され
たゲートバス配線１５（図示せず）およびソースバス配
線１６、補助容量配線３０（図示せず）及び図６に示す
画像表示部外のゲートバス配線１５′（図示せず）、補
助容量配線３０′（図示せず）を形成する。

【００５５】例えば、ガラス等からなる絶縁性基板１上
にタンタル金属層を０．５μｍで堆積した。次いでフォ
トリソグラフィ法およびエッチング法によりこの金属層
をパターニングし、図３に示すように、互いに平行する
複数のゲートバス配線１５、補助容量配線３０を形成す
る。このゲートバス配線１５の分岐されている部分が後
に形成されるＴＦＴ３のゲート電極５として機能する。

【００５６】次にゲートバス配線１５、ゲート電極５、
補助容量配線３０を覆って全面にＳｉＮｘから成るゲー
ト絶縁膜６を０．５μｍ厚で堆積する。ゲートバス配線
１５から分岐したゲート電極５上に形成されたゲート絶
縁膜６の上に後に半導体層７となるノンドープのアモル
ファスシリコン（以下ではａ−Ｓｉと略称する）層を
０．０３μｍの厚みで、また後に絶縁層１０と成るＳｉ
Ｎｘ層を０．０２μｍの厚みで、それぞれ連続して堆積
させる。ＳｉＮｘ層を所定の形状にパターニングし、ゲ
ート電極５の上方のみを残して絶縁層１０を形成する。

【００５７】次いで絶縁層１０を覆って全面に、後にコ
ンタクト層８ａ、８ｂとなるリン（Ｐ）をドープしたア
モルファスシリコン（以下ではｎ⁺型ａ−Ｓｉと略称す
る）層を、プラズマＣＶＤ法により、０．０４５μｍの
厚みで堆積する。次にこのｎ⁺型ａ−Ｓｉ層および前記
ａ−Ｓｉ層を所定の形状にパターニングし、半導体層７
およびコンタクト層８ａ、８ｂを形成する。コンタクト
層８ａ、８ｂは半導体層７と、後に形成されるソース電
極９ａおよびドレイン電極９ｂとの間のオーミックコン
タクトのために設けられる。この時点ではコンタクト層
８ａ、８ｂは絶縁層１０上で繋がっている。

【００５８】この基板の全面にスパッタリング法によ
り、Ｔｉ金属層を０．２μｍの厚みで堆積し、このＴｉ
金属層をエッチングによりパターニングして、ソース電
極９ａおよびドレイン電極９ｂを形成する。この時、絶
縁層１０上のコンタクト層８ａ、８ｂも同時にエッチン
グ除去し、ソース電極９ａの下方部とドレイン電極９ｂ
の下方部とに分割する。以上のようにしてＴＦＴ３を形
成する。

【００５９】なお、図３、図６のソースバス配線１６、
画像表示部外のソースバス配線はソース電極９ａおよび
ドレイン電極９ｂと同時に形成され、ゲートバス配線１
５、補助容量配線３０と直交して配置される。

【００６０】次に、図１０（ｂ）に示すように、アクリ
ル系樹脂からなる感光性の有機樹脂保護膜１１をＴＦＴ
３、ソースバス配線１６及びゲートバス配線１５（図示
せず）を覆うように絶縁性基板１全面に、スピナーで
４．０μｍの厚みで塗布する。

【００６１】次に、図１０（ｃ）に示すように、フォト
リソグラフィ法により、遮光マスクを介して、絶縁性基
板１上に塗布した有機樹脂保護膜１１に紫外線を照射し
て感光させる。

【００６２】続いて、図１０（ｄ）に示すように、有機
樹脂保護膜１１をエッチングすることにより、コンタク
トホール１１ａ、１１ｂ、１１ｄ（図示せず）を設け
る。このコンタクトホール１１ａはＴＦＴ３上のソース
電極９ａと、コンタクトホール１１ｂはドレイン電極９
ｂと、電気的に接続できるように設けており、コンタク
トホール１１ｄは補助容量配線３０上の絶縁膜６と接続
できるように設けている。

【００６３】次に、図１０（ｅ）に示すように、有機樹
脂保護膜１１にコンタクトホール１１ａ、１１ｂ、１１
ｄを設けた絶縁性基板１上の全面に、スパッタリング法
により、ＩＴＯ膜を０．０８μｍの厚みで堆積する。こ
のＩＴＯ膜を所定の形状にパターニングを行い、マトリ
クス状に配列された表示部となるカラーフィルタ形成用
電極（画素電極）１２ｂとＴＦＴ３上の遮光部となる遮
光層形成用電極１２ａをそれぞれ電気的に独立するよう
に形成する。

【００６４】なお、カラーフィルタ形成用電極（画素電
極）１２ｂとＴＦＴ３のドレイン電極９ｂとは電気的に
接続される。また、遮光層形成用電極１２ａとＴＦＴ３
のソース電極９ａとは電気的に接続される。このよう
に、有機樹脂保護膜１１をカラーフィルタ形成用電極
（画素電極）１２ｂより先に形成することで、カラーフ
ィルタ形成用電極（画素電極）１２ｂはソースバス配線
１６、ゲートバス配線１５およびＴＦＴ３といった通常
では形成できない領域まで覆うことができるため、液晶
表示装置の高開口率化を行うことができる。

【００６５】次に、図１０（ｆ）に示すように、ゲート
バス配線１５、補助容量配線３０を接地し、ソースバス
配線１６のみに直流（ＤＣ）電圧を印加し、表１に示す
クロムメッキ浴中にＴＦＴ３等が形成された絶縁性基板
１を浸漬し、アノードには不溶性電極として鉛（Ｐｂ）
を用いて、ソースバス配線１６にカソード電流密度３０
Ａ・ｄｍ^-2で１３．３秒間電流を流して、遮光層形成用
電極１２ａ上にクロムからなる遮光層１８ａを０．５μ
ｍ厚に形成した。

【００６６】

【表１】

【００６７】このとき、ソースバス配線１６に断線があ
ると、断線部以降は遮光層形成用電極１２ａ上およびソ
ースバス配線検査用電極１６′上にクロムからなる遮光
層１８ａ、１８ｂが形成されないので、容易に断線の検
査を行うことができる。また、ソースバス配線１６とゲ
ートバス配線１５にリークがある場合には、リークが存
在する画像表示部外のゲートバス配線１５′（検査用電
極）上にクロムからなる遮光層１８ｃが０．５μｍ厚未
満で形成される。ソースバス配線１６と補助容量配線３
０にリークがある場合には、リークが存在する画像表示
部外の補助容量配線３０′（検査用電極）上にクロムか
らなる遮光層１８ｄが０．５μｍ厚未満で形成されるた
め、リーク部の検出も容易に行うことができる。このよ
うに、電着法によって遮光層を形成し、この遮光層の材
料の検査用電極への付着を調べることによって断線及び
リーク検査を容易に行うことが出来る。

【００６８】また、遮光層形成用電極１２ａ上にクロム
からなる遮光層１８ａを電着法により形成したが、電気
化学的方法であればいずれでもよく、例えばミセル電解
法により形成してもよい。

【００６９】次に、図１０（ｇ）に示すように、カラー
フィルタ形成用電極（画素電極）１２ｂ上に、ミセル電
解法で３色のカラーフィルタ１３を以下に説明するよう
にして形成する。

【００７０】まず、化学式１で表される化合物（ＦＰＥ
Ｇ）の２ｍＭ水溶液に、赤色顔料（Ｌｉｔｈｏｌ Ｓｃ
ａｒｌｅｔ Ｋ３７００：ＢＡＳＦ製）を１〜２ｇ加え
て分散させ、さらに臭化リチウム（支持塩）０．１Ｍを
加え、超音波ホモジナイザで３０分間分散させ、さらに
スターラで３日間撹拌して、赤色の着色分散液を調整す
る。

【００７１】同様にして、化学式１で表される化合物
（ＦＰＥＧ）の２ｍＭ水溶液に、緑色顔料（Ｍｅｌｉｏ
ｇｅｎ Ｇｒｅｅｎ Ｌ９３６１：ＢＡＳＦ製）を１〜
２ｇ加えて分散させ、さらに臭化リチウム（支持塩）
０．１Ｍを加え、超音波ホモジナイザで３０分間分散さ
せ、さらにスターラで３日間撹拌して、緑色の着色分散
液を調製する。

【００７２】

【化１】

【００７３】同様にして、化学式１で表される化合物
（ＦＰＥＧ）の２ｍＭ水溶液に、青色顔料（Ｍｅｌｉｏ
ｇｅｎ Ｂｌｕｅ Ｂ７０８０：ＢＡＳＦ製）を１〜２
ｇ加えて分散させ、さらに臭化リチウム（支持塩）０．
１Ｍを加え、超音波ホモジナイザで３０分間分散させ、
さらにスターラで３日間撹拌して、青色の着色分散液を
調製する。このようにして、赤色、青色、緑色の着色分
散液をそれぞれ別々に作製した。

【００７４】次いで、赤色顔料分散液中に前工程で得ら
れた基板を浸漬し、赤色の着色層用電極線の電極取り出
し窓口帯を用い、赤色の画素に対応する信号ラインを電
気的に選択し、参照電極として飽和甘コウ電極および陰
極としてアルミニウム板を利用し、ミセル電解を０．５
Ｖの電圧、２５℃の温度で３０分間の条件にして行っ
た。ミセル電解の処理終了後、純水で洗浄し、１８０℃
で１時間のベーキング処理を行い、カラーフィルタ形成
用電極（画素電極）１２ｂ上に赤色のカラーフィルタ１
３を形成した。一旦ミセル電解により形成された膜は、
ベーキング処理を行うことにより、導電性を失う。

【００７５】さらに、同様にして、緑色顔料分散液中に
前工程で得られた基板を浸漬し、緑色の画素に対応する
信号ラインを電気的に選択し、緑色のカラーフィルタ１
３を形成する。この時、先に形成した赤色のカラーフィ
ルタはベーキング処理により導電性を失っているので、
緑色のカラーフィルタが重なって付着することはない。
さらに同様にして、青色のカラーフィルタ１３を対応す
る画素に形成した。

【００７６】この様にして、絶縁性基板１上にマトリク
ス配列したＴＦＴ３とそれらのＴＦＴのオン・オフによ
って作動するカラーフィルタ形成用電極（画素電極）１
２ｂ上に形成されたカラーフィルタ１３を作製すること
ができる。

【００７７】ここで、各カラーフィルタ１３の平均膜厚
は、それぞれ赤色のカラーフィルタが０．５μｍ、緑色
のカラーフィルタが０．４μｍおよび青色のカラーフィ
ルタが０．６μｍであった。

【００７８】また、カラーフィルタ形成用電極（画素電
極）１２ｂ上にカラーフィルタ１３をミセル電解法によ
り形成したが、電気化学的方法であればいずれでもよ
く、例えば電着法により形成してもよい。

【００７９】さらに、ＴＦＴ３とカラーフィルタ１３が
形成された絶縁性基板１上に、ポリイミドからなる配向
膜１４をオフセット印刷法を利用して、０．０８μｍの
厚みで形成し、液晶を並ばせるために、配向膜１４の表
面をラビング等により配向処理を行った。

【００８０】次に、ＴＦＴ３とカラーフィルタ１３が形
成された絶縁性基板１に対向する絶縁性基板２には、全
面にＩＴＯからなる対向電極１７を形成し、さらにその
上に配向膜１４を形成し、液晶を並ばせるために、配向
膜１４の表面をラビング等により配向処理を行う。

【００８１】この様にして作製された絶縁性基板２と絶
縁性基板１との間に、基板間の間隙を一定に保つプラス
チックビーズ等を散布工程により基板間に散在させたス
ペーサを介してシール剤で貼り合わせ、基板間に液晶４
を注入して、封止することによりアクティブマトリクス
型液晶表示装置を作製した。

【００８２】（実施の形態４）本発明による液晶表示装
置の第４の実施の形態を図１１、図１２を参照しながら
説明する。図１１は基板端部の平面図であり、図１２は
図１１のＡ−Ａ線断面図である。尚アクティブ素子部分
は第３の実施の形態と同様である。本実施の形態はソー
スバス配線検査用電極１６′、ゲートバス配線検査用電
極１５′、補助容量配線検査用電極３０′上に配線と重
ならない領域を持つ透明導電膜からなるＩＴＯ１２ｄ、
１２ｅ、１２ｆが存在する点で前記実施形態と異なる。
これらのＩＴＯ１２ｄ、１２ｅ、１２ｆは遮光層形成用
電極１２ａ、カラーフィルタ形成用電極１２ｂのＩＴＯ
と同時に形成される。このように遮光性のある金属配線
と重ならない領域に検査用電極として透明導電膜を形成
することで透明導電膜上の着色が容易に確認できるので
配線の検査が容易に行える。

【００８３】

【発明の効果】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクテ
ィブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補
助容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極と
を有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示
領域を構成する液晶表示装置において、前記画像表示領
域外に着色する検査用電極を設けたことを特徴としてい
るので、プローブを使用することなく検査用電極の着色
によって目視によっても液晶表示装置の検査が可能とな
る。

【００８４】前記検査用電極は、ゲートバス配線、ソー
スバス配線、それぞれの配線端部に形成されているの
で、それぞれの配線の断線及びそれぞれの配線同士の短
絡を検査することが出来る。

【００８５】絶縁性基板上におけるゲートバス配線、ソ
ースバス配線において検査用電極が形成されている側と
反対側にドライバが形成されているので、このドライバ
を動作させて基板の検査を行うことが出来、さらにこの
ドライバの検査も同時に行うことが出来る。

【００８６】前記検査用電極は、透明導電膜によって形
成されるので、検査用電極の色の変化が認識しやすくな
る。

【００８７】前記検査用電極は、前記配線と重ならない
領域にも形成されるので、検査用電極の色の変化がさら
に認識しやすくなる。

【００８８】前記電極上に電極を利用して形成した着色
層を有するので、この着色層は画素電極に対応している
ため、対向基板側に形成した場合のように開口率の低下
は起こらない。また、電極上に着色層を形成する際に検
査用電極への着色層の付加を検査することによって信号
線の検査を同時に行うことが出来る。

【００８９】本発明は、一方の絶縁性基板上にアクティ
ブ素子と、前記アクティブ素子に信号を供給する配線
と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、前
記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構成
する液晶表示装置の製造方法において、前記画像表示領
域外に着色する検査用電極によって前記配線または前記
アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有するので、プ
ローブを使用することなく検査用電極の着色によって目
視によっても液晶表示装置の検査が可能となる。

【００９０】前記欠陥検査を行う工程は、絶縁性基板上
に形成されたドライバを動作させることにより行われる
ので、欠陥検査用の信号入力を必要とせずに欠陥検査を
行うことが出来る。さらには、このドライバの検査を同
時に行うことが出来る。

【００９１】画像表示領域外に着色する検査用電極を設
け、前記配線または前記アクティブ素子の欠陥検査を行
う工程は、ソースバス配線に電圧を印加し他の配線に接
続された検査用電極を観察することによって行われるの
で、ソースバス配線の断線検査とソースバス配線とソー
スバス配線と交差しているゲートバス配線及び補助容量
配線との短絡検査を容易に行うことが出来る。

【００９２】前記電極上部に着色層を形成する工程を有
するので、電極上に着色層を形成する際に検査用電極へ
の着色層の付加を検査することによって信号線の検査を
同時に行うことが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態の液晶表示装置の平面
図である。

【図２】本発明の第２の実施形態の液晶表示装置の平面
図である。

【図３】本発明の第３の実施形態の液晶表示装置の平面
図である。

【図４】図３のＡ−Ａ線断面図である。

【図５】図３のＢ−Ｂ線断面図である。

【図６】本発明の液晶表示装置の基板端部の平面図であ
る。

【図７】図６のＡ−Ａ線断面図である。

【図８】図６のＢ−Ｂ線断面図である。

【図９】図６のＣ−Ｃ線断面図である。

【図１０】本発明の液晶表示装置の製造方法を示す工程
図である。

【図１１】本発明の液晶表示装置の基板端部の平面図で
ある。

【図１２】図１１のＡ−Ａ線断面図である。

【図１３】従来の液晶表示装置である。

【符号の説明】

１、２ 絶縁性基板 ３ ＴＦＴ ４ 液晶 ５ ゲート電極 ６ ゲート絶縁膜 ７ 半導体層 ８ コンタクト層 ９ａ ソース電極 ９ｂ ドレイン電極 １０ 絶縁層 １１ 有機樹脂保護膜 １１ａ コンタクトホール １１ｂ コンタクトホール １１ｃ コンタクトホール １２ａ 遮光層形成用電極 １２ｂ カラーフィルタ形成用電極 １２ｃ 画像表示部外の遮光層形成用電極 １２ｄ 画像表示部外のソースバス配線上遮光層形
成用電極 １２ｅ 画像表示部外のゲートバス配線上遮光層形
成用電極 １２ｆ 画像表示部外の補助容量配線上遮光層形成
用電極 １３ カラーフィルタ １４ 配向膜 １５ ゲートバス配線 １５′ 画像表示部外のゲートバス配線 １６ ソースバス配線 １６′ 画像表示部外のソースバス配線 １７ 対向電極 １８ａ ＴＦＴ上の遮光層 １８ｂ 画像表示部外のソースバス配線上遮光層 １８ｃ 画像表示部外のゲートバス配線上遮光層 １８ｄ 画像表示部外の補助容量配線上遮光層 １８ｅ 画像表示部外の遮光層 １９ 染色レジストによる遮光層 ２０ ガラス基板 ２１ 対向基板 ２２ 駆動用透明電極 ２３ 駆動用基板 ２４ 液晶 ２５ 封止材 ２６ 着色層 ２７ ブラックマトリクス ２８ トップコート材 ２９ 透明電極 ３０ 補助容量配線 ３０′ 画像表示部外の補助容量配線 ３１ シール剤 ３５ 検査用電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02F 1/136 G02F 1/1343

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
   と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
   線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
   前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
   成する液晶表示装置において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、 前記検査用電極は、ゲートバス配線、ソースバス配線そ
   れぞれの配線端部に形成されており、 絶縁性基板上におけるゲートバス配線、ソースバス配線
   において検査用電極が形成されている側と反対側にドラ
   イバが形成されている ことを特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
   と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
   線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
   前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
   成する液晶表示装置において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、 前記検査用電極の一部は、透明導電膜によって形成され
   ることを特徴とする液晶表示装置。
3. 【請求項３】 前記検査用電極は、前記配線と重ならな
   い領域にも形成されることを特徴とする請求項２記載の
   液晶表示装置。
4. 【請求項４】 前記電極上には電極を利用して形成した
   着色層を有することを特徴とする請求項１または請求項
   ２記載の液晶表示装置。
5. 【請求項５】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
   と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
   線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
   前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
   成する液晶表示装置の製造方法において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記
   配線または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を
   有し、 前記欠陥検査を行う工程は、絶縁性基板上に形成された
   ドライバを動作させる ことにより行われることを特徴と
   する液晶表示装置の製造方法。
6. 【請求項６】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
   と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
   線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
   前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
   成する液晶表示装置の製造方法において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記
   配線または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を
   有し、 画像表示領域外に着色する検査用電極によって前記配線
   または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程は、ソ
   ースバス配線に電圧を印加し他の配線に接続された検査
   用電極を観察することによって行われることを特徴とす
   る液晶表示装置の製造方法。
7. 【請求項７】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
   と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
   線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
   前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
   成する液晶表示装置の製造方法において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記
   配線または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を
   有し、 前記電極上部に電極を利用して形成した着色層を形成す
   る工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方
   法。