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JP3266358B2 - アルキルスルホナート誘導体の製造方法 - Google Patents

アルキルスルホナート誘導体の製造方法

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JP3266358B2
JP3266358B2 JP05147793A JP5147793A JP3266358B2 JP 3266358 B2 JP3266358 B2 JP 3266358B2 JP 05147793 A JP05147793 A JP 05147793A JP 5147793 A JP5147793 A JP 5147793A JP 3266358 B2 JP3266358 B2 JP 3266358B2
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alkyl
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憲 河田
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Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルキルスルホナート
誘導体の新規な製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、写真感光材料の増感色素として、
シアニン系色素の母核の側鎖としてスルホアルキル基を
有する化合物が知られている。そしてスルホアルキル基
が、シアニン系色素の母核を構成する窒素含有複素環の
四級窒素原子に結合している化合物が多く使用されてい
る。
【0003】スルホアルキル基が四級窒素原子に結合し
ているシアニン系色素を製造するための前駆体として、
下記一般式(3):
【0004】
【化7】
【0005】[式中、Xは、−O−、−S−、−NR1
−、−Se−、−Te−又は−CR23 −(但し、R1
、R2 及びR3 はそれぞれ独立に、水素原子又は置換
基を有していてもよい低級アルキル基を表わし、R2
びR3 は連結して環を形成してもよい)を表わし、Aは
水素原子又はアルキル基を表わし、そして、R4
5、R6 、R7 及びR8 は水素原子又は置換基を表わ
す。]で表わされるアルキルスルホナート誘導体を使用
することができることが知られている(特開平3−10
5339号公報)。
【0006】上記一般式(3)で表わされる化合物の合
成方法としては、下記一般式(1):
【0007】
【化8】
【0008】[式中、A、R4 、R5 、R6 、R7 、R
8 及びXは上記の通りである]で表わされる含窒素複素
環化合物と、ハロゲン原子やスルホニルオキシ基などに
より活性化された鎖状アルキルスルホン酸塩とを反応さ
せて、上記含窒素複素環化合物の窒素原子にスルホアル
キル基を結合させる方法が考えられる。
【0009】この活性化された鎖状アルキルスルホン酸
塩は、スルホアルキル化される化合物の求核性が高く、
比較的穏やかな条件下にスルホアルキル化反応が進行す
るようなものである場合には、構造的自由度の点で有利
なスルホアルキル化試薬である。しかしながら、上記一
般式(1)で表わされる含窒素複素環化合物に活性化さ
れた鎖状アルキルスルホン酸塩を反応させて窒素原子を
四級化する際には、その活性化された鎖状アルキルスル
ホン酸塩の活性部位が熱的に脱離する副反応が多くな
り、目的とするアルキルスルホナート化合物が得られな
いという問題点がある。
【0010】また、活性水素を有する化合物のスルホア
ルキル化試薬として脂肪族サルトンが知られている(特
開平1−187543号公報)。脂肪族サルトンはアミ
ン化合物とは無触媒で反応してスルホン基が導入される
と言われており、脂肪族サルトンを上記一般式(1)で
表わされる含窒素複素環化合物の窒素原子に結合させる
ことができれば、その構造上活性化された鎖状アルキル
スルホン酸塩を使用する場合に生じる副反応は殆ど生じ
ない筈である。ところが、脂肪族サルトンを上記一般式
(1)で表わされる含窒素複素環化合物と加熱下に作用
させても、上記一般式(3)で表わされる化合物は全く
生成しないか、生成したとしても収率は極めて低いもの
であった。その理由は、一般式(1)で表わされる含窒
素複素環化合物のナフタレン核の8−位の炭素原子に結
合している水素原子又はその他の置換基による立体障害
のために、脂肪族サルトン分子が上記含窒素複素環化合
物の窒素原子へ近付くことが妨害されるためであろうと
考えられる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】一般式(1)で表わさ
れる含窒素複素環化合物と脂肪族サルトンとから、高収
率で一般式(3)で表わされるアルキルスルホナート誘
導体を製造する方法を提供する。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
(1):
【0013】[式中、Xは、−O−、−S−、−NR1
−、−Se−、−Te−又は−CR23 −(但し、R1
、R2 及びR3 はそれぞれ独立に、水素原子又は置換
基を有していてもよい低級アルキル基を表わし、R2
びR3 は連結して環を形成してもよい)を表わし、Aは
水素原子、メルカプト基、アリールチオ基、アラルキル
基、スルホ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよ
いアルキル基、置換基を有していても良いアルキルチオ
基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を
有していてもよいアルキルスルホニルオキシ基又は置換
基を有していてもよいアリールスルホニルオキシ基を表
わし、そしてR4 、R5 、R6 、R7 及びR8 は、水素
原子、アルキル基、アリール基、置換基を有していても
よいアルコキシ基、アリールオキシ基、ハロアルキル
基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボ
キシル基、スルホ基又はスルホン酸基を表わす。] で表わされる含窒素複素環化合物と、下記一般式
(2):
【0014】
【化10】 [式中、Zは、置換基を有していてもよいアルキレン基
を表わす]で表わされる脂肪族サルトンとを、ルイス酸
の存在下で反応させて、下記一般式(3):
【0015】
【化11】 [式中、A、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、X及びZ
は上記の通りである]で表わされるアルキルスルホナー
ト誘導体を生成することを特徴とするアルキルスルホナ
ート誘導体の製造方法にある。
【0016】上記本発明の好適な態様は下記の通りであ
る。
【0017】(1)上記一般式(1)中のR4 、R5
6 、R7 及びR8 の少なくとも一つが、アルキル基、
アリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、
アリールオキシ基、ハロアルキル基、アルキルチオ基、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基又
はスルホン酸基を表わす上記のアルキルスルホナート誘
導体の製造方法。
【0018】(2)R4 、R5 、R6 、R7 及びR8
少なくとも一つが、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭
素原子数6〜14のアリール基、スルホネート基で置換
されていてもよい炭素原子数1〜25のアルコキシ基、
アリールオキシ基、炭素原子数1〜3のハロアルキル
基、炭素原子数1〜3のアルキルチオ基、ハロゲン原
子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基又はスルホン
酸基を表わすことを特徴とする上記のアルキルスルホナ
ート誘導体の製造方法。
【0019】(3)Xが、−O−、−S−、−NR1
または−CR23 −である上記のアルキルスルホナー
ト誘導体の製造方法。
【0020】(4)Aが炭素数1〜5のアルキル基、メ
ルカプト基、アリールチオ基、アルキルチオ基またはス
ルホ基である上記のアルキルスルホナート誘導体の製造
方法。
【0021】(5)Zが置換基を有しない炭素数3又は
4の直鎖アルキレン基であることを特徴とする、上記の
アルキルスルホナート誘導体の製造方法。
【0022】(6)Zが炭素数1〜10のアルキル基、
炭素数1〜6のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる
群から選択された置換基を有する炭素数3又は4の直鎖
アルキレン基である上記のアルキルスルホナート誘導体
の製造方法。
【0023】(7)上記ルイス酸が、三フッ化ホウ素エ
ーテル錯体であることを特徴とする、上記のアルキルス
ルホナート誘導体の製造方法。
【0024】また、本発明は、上記一般式(1): [式中、Xは、−O−、−S−、−NR1 −、−Se
−、−Te−又は−CR23 −(但し、R1 、R2
びR3 はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有して
いてもよい低級アルキル基を表わし、R2 及びR3 は連
結して環を形成してもよい)を表わし、Aは水素原子、
メルカプト基、アリールチオ基、アラルキル基、スルホ
基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していても良いアルキルチオ基、置換基
を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していて
もよいアルキルスルホニルオキシ基又は置換基を有して
いてもよいアリールスルホニルオキシ基を表わし、R4
とR5 、R5 とR6 、R6 とR7 及びR7 とR8 の少な
くとも一つの組み合わせが、互いに連結して、それぞれ
が結合するナフタレン環の二価の炭化水素基と共に芳香
族環又はシクロアルケン環を形成しており、そして上記
4 、R5 、R6 、R7 及びR8 の内、環の形成を行な
わなかったものは、水素原子、アルキル基、アリール
基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アリール
オキシ基、ハロアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン
原子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基又はスルホ
ン酸基を表わす。] で表わされる含窒素複素環化合物と、上記一般式
(2): [式中、Zは、置換基を有していてもよいアルキレン基
を表わす] で表わされる脂肪族サルトンとを、ルイス酸の存在下で
反応させて、上記一般式(3): [式中、A、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、X及びZ
は上記の通りである] で表わされるアルキルスルホナート誘導体を生成するこ
とを特徴とするアルキルスルホナート誘導体の製造方法
にもある。
【0025】上記本発明の好適な態様は下記の通りであ
る。
【0026】(1)R4 とR5 、R5 とR6 、R6 とR
7 及びR7 とR8 の少なくとも一つの組み合わせが、互
いに連結して、それぞれが結合するナフタレン環の二価
の炭化水素基と共にベンゼン環又はシクロヘキセン環を
形成していることを特徴とする上記のアルキルスルホナ
ート誘導体の製造方法。
【0027】(2)Xが、−O−、−S−、−NR1
または−CR23 −である上記のアルキルスルホナー
ト誘導体の製造方法。
【0028】(3)Aが炭素数1〜5のアルキル基、メ
ルカプト基、アリールチオ基、アルキルチオ基又はスル
ホ基である上記のアルキルスルホナート誘導体の製造方
法。
【0029】(4)Zが置換基を有しない炭素数3又は
4の直鎖アルキレン基であることを特徴とする、上記の
アルキルスルホナート誘導体の製造方法。
【0030】(5)Zが炭素数1〜10のアルキル基、
炭素数1〜6のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる
群から選択された置換基を有する炭素数3又は4の直鎖
アルキレン基である上記のアルキルスルホナート誘導体
の製造方法。
【0031】(7)上記ルイス酸が、三フッ化ホウ素エ
ーテル錯体であることを特徴とする、上記のアルキルス
ルホナート誘導体の製造方法。
【0032】本発明の原料の一つである含窒素複素環化
合物は、上記一般式(1)で表わされる化合物である。
上記一般式(1)において、Xは−O−、−S−、−S
e−、−NR1 −又は−CR23 −(但し、R2 及び
3 は前記の通り)であることが一般的であり、−S
−、−O−、−NR1 −又は−CR23 −であること
が好ましく、特に−S−、−O−または−NR1 −であ
ることが好ましい。また、R1 、R2 及びR3 は、水素
原子又は炭素数1〜4のアルキル基、例えば、メチル、
エチル、プロピル、ブチル等であることが好ましく、特
に水素原子、メチル又はエチルであることが好ましい。
1 、R2 及びR3 が有していてもよい置換基は、ハロ
ゲン原子(例えば、塩素原子)、炭素原子数1〜4のア
ルコキシ基、アミノ基(例えばメチルアミノ基)又はヒ
ドロキシ基であることが好ましい。R2 及びR3 は連結
して、ピロール環の炭素原子と共に、酸素又は窒素を含
む環(好ましくは6員環)を形成していても良い(例、
ペンタメチレンオキシド環、N−メチル−ピペラジン
環)。
【0033】また、Aは水素原子、アルキル基、アラー
ルキル基、メルカプト基、アリールチオ基、置換基を有
していても良いアルキルチオ基又はスルホ基が一般的で
ある。アルキルチオ基はスルホン酸基、炭素原子数1〜
6のアルコキシ基又は炭素原子数1〜6のアルコキシア
ルコキシアルコキシ基で置換されていても良い。Aは、
水素原子、炭素原子数1〜4のアルキルチオ基、ベンジ
ル基、上記置換基を有する炭素原子数1〜4のアルキル
チオ基、フェニルチオ基又は炭素原子数1〜5のアルキ
ル基(例えば、メチル、エチルであることが好ましい)
が好ましく、特に水素原子又はメチルであることが好ま
しい。
【0034】また、R4 、R5 、R6 、R7 及びR8
少なくとも一つは、一般に、アルキル基、アリール基、
置換基を有していてもよいアルコキシ基、アリールオキ
シ基、ハロアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原
子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基又はスルホン
酸基を表わし、さらに炭素原子数1〜3のアルキル基、
炭素原子数6〜14のアリール基(例、フェニル、ナフ
チル、アントラニル)、スルホネート基で置換されてい
てもよい炭素原子数1〜25のアルコキシ基、アリール
オキシ基(例、フェノキシ)、炭素原子数1〜3のハロ
アルキル基、炭素原子数1〜3のアルキルチオ基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基又はス
ルホン酸基を表わすことが好ましい。特に、炭素原子数
1〜3のアルキル基、スルホネート基で置換されていて
もよい炭素原子数1〜25のアルコキシ基、フェノキシ
基、炭素原子数1〜3のアルキルチオ基、ハロゲン原
子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基又はスルホン
酸基を表わす。
【0035】更に、本発明の上記一般式(1)で表わさ
れる化合物で、上記の化合物と別の態様の化合物は、X
及びAについては上記と同じ定義であるが、縮合環を有
する化合物である。即ち、R4 とR5 、R5 とR6 、R
6 とR7 及びR7 とR8 の少なくとも一つの組み合わせ
が、互いに連結して、それぞれが結合するナフタレン環
の二価の炭化水素基と共に芳香族環又はシクロアルケン
環を形成している。但し、R4 、R5 、R6 、R7 及び
8 の内環の形成を行なわなかった残りは、水素原子、
アルキル基、アリール基、置換基を有していてもよいア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ハロアルキル基、アル
キルチオ基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル
基、スルホ基又はスルホン酸基を表わす。上記芳香族環
としては、ベンゼン環及びナフタレン環が好ましく、更
にベンゼン環が好ましい。また、上記芳香族環は、R4
とR5 あるいはR5 とR6 により形成されることが好ま
しく、更にR5 とR6 により形成されることが好まし
い。シクロアルケン環は、シクロヘキセン環であること
が好ましい。また、上記シクロアルケン環は、R6 とR
7 により形成されることが好ましい。上記芳香族環又は
シクロアルケン環は更に置換基を有していても良い。
【0036】上記一般式(1)で表わされる含窒素複素
環化合物は、本発明により製造される上記一般式(3)
で表わされる公知のアルキルスルホナート誘導体が、主
としてシアニン系色素の中間体としての用途を有するこ
とから、中間体として求められるアルキルスルホナート
誘導体の構造に対応して、上記含窒素複素環化合物を選
択すればよい。
【0037】上記一般式(1)で表わされる含窒素複素
環化合物の好ましい具体例としては、下記に例示する一
般式(3)で表わされるアルキルスルホナート誘導体を
合成できる化合物であり、例えば、ナフチル基に置換基
を有していてもよい、2−メチルナフト[1,2−d]
チアゾール、2−メチルナフト[1,2−d]オキサゾ
ール、2−メチルナフト[1,2−d]セレナゾールな
どを挙げることができる。
【0038】本発明の他の原料である脂肪族サルトン
は、上記一般式(2)で表わされる化合物である。上記
一般式(2)において、Zは、置換基を有しない炭素数
3又は4の直鎖アルキレン基(例えば、プロピレン基、
ブチレン基)、及び炭素数1〜4のアルキル基(例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチル)、炭素数1〜
3のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ)及びハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素)か
らなる群から選択された置換基を有する炭素数3又は4
の直鎖アルキレン基(例えば、プロピレン基、ブチレン
基)であることが好ましい。
【0039】上記脂肪族サルトンの好ましい具体例とし
ては、1,3−プロパンサルトン、1−メチル−1,3
−プロパンサルトン、1,4−ブタンサルトン、2−メ
チル−1,4−ブタンサルトンなどを挙げることができ
る。
【0040】本発明において使用される上記ルイス酸と
しては、公知のルイス酸のどのようなものであってもよ
い。アルキルスルホナート誘導体の収率が高いこと、反
応混合物の後処理が容易であることなどの点から、上記
ルイス酸は、三フッ化ホウ素エーテル錯体、塩化亜鉛、
塩化アルミニウム、塩化第二錫、塩化第二鉄などである
ことが好ましく、特に三フッ化ホウ素エーテル錯体であ
ることが好ましい。
【0041】上記一般式(3)で表わされるアルキルス
ルホナート誘導体の代表的化合物としては、下記に示す
ような化合物を挙げることができる。
【0042】
【化12】
【0043】
【化13】
【0044】
【化14】
【0045】
【化15】
【0046】
【化16】
【0047】
【化17】
【0048】
【化18】
【0049】
【化19】
【0050】
【化20】
【0051】
【化21】
【0052】
【化22】
【0053】
【化23】
【0054】
【化24】
【0055】
【化25】
【0056】
【化26】
【0057】
【化27】
【0058】
【化28】
【0059】
【化29】
【0060】
【化30】
【0061】
【化31】
【0062】
【化32】
【0063】本発明の方法は、上記の含窒素複素環化合
物、脂肪族サルトン及びルイス酸の混合物を、所定の反
応温度に加熱して反応させることによって行なうことが
できる。反応操作方法としては、特に限定されないが、
上記の含窒素複素環化合物と脂肪族サルトンとの混合物
を反応温度に加熱し、次いでこの混合物に、撹拌下にル
イス酸を、好ましくは徐々に添加する方法が好ましい。
【0064】本発明の方法において、含窒素複素環化合
物と脂肪族サルトンとの使用量割合は、一般に含窒素複
素環化合物:脂肪族サルトン=1:1〜5のモル比、特
に1:1.5〜2のモル比であることが好ましい。ま
た、ルイス酸の使用量は、含窒素複素環化合物、脂肪族
サルトン及びルイス酸の種類によって異なるが、含窒素
複素環化合物に対して一般に1:1〜3のモル比、特に
1:1〜1.5のモル比であることが好ましい。
【0065】反応温度は、一般に120〜250℃、特
に160〜190℃であることが好ましい。反応温度が
上記範囲よりも低いとアルキルスルホナート誘導体の収
率が低下し、また、反応温度が上記範囲よりも高いと、
アルキルスルホナート誘導体の収率のより一層の増大は
殆どなく、原料や生成物が分解する恐れがあり、熱エネ
ルギーの損失にもなる。
【0066】上記の反応において、特に他の不活性溶剤
を使用する必要はない。勿論、必要に応じて、上記反応
に関与しない不活性溶剤(例えば、スルホランなど)を
添加してもよい。反応圧力は、反応混合物を上記の反応
温度で液状に維持し得るような圧力である。上記の反応
は、反応原料、反応温度などにより異なるが、一般に1
0分間〜3時間でほぼ最高収率に到達する。
【0067】上記の反応において、脂肪族サルトンが含
窒素複素環化合物と反応することなく加水分解されて酸
が生じることがあり、この場合にはこの酸を中和するた
めに、反応混合物に、アルキルスルホナート誘導体と反
応しない塩基性物質(例えば、酢酸ナトリウム、2,6
−ルチジンなど)を添加することが好ましい。
【0068】反応が終了した後、生成混合物からアルキ
ルスルホナート誘導体を常法により分離し、必要に応じ
て精製してアルキルスルホナート誘導体を取得する。ア
ルキルスルホナート誘導体の分離、精製方法としては、
反応生成混合物を貧溶媒、例えば、酢酸エチルエステル
中に注ぎ、結晶化後濾別し、アルコール性溶媒、例え
ば、メタノール、エタノール、プロパノールなどから再
結晶するなどの方法を採用することができる。
【0069】本発明の方法により、上記含窒素複素環化
合物基準で40%以上(一般に50%以上)の収率でア
ルキルスルホナート誘導体を得ることができる。
【0070】
【実施例】次に、実施例及び比較例により本発明を更に
詳細に説明する。
【0071】[実施例1] 2−メチルナフト[1,2−d]チアゾリウム 3−ブ
タンスルホナート[前記(C−1)の化合物]の合成
【0072】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチルナフト[1,2−d]チアゾール
14g(0.07モル)及び1,4−ブタンサルトン1
4g(0.10モル)を入れ、このフラスコを油浴中に
漬け内容物を160℃に加熱した。フラスコ内容物を撹
拌しながら、これに三フッ化ホウ素エーテル錯体14m
l(0.11モル)を徐々に(約10分を要して)添加
し、フラスコ内容物を160℃に維持して1時間反応を
行なった。
【0073】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、12.0g(標題の化合物として
収率51%)の白色結晶を得た。
【0074】この白色結晶は、NMR及びFABマスス
ペクトルにより、標題の化合物であることが確認され
た。
【0075】 [NMR] δ:2.15(q,2H) 2.40(m,2H) 2.95(t,2H) 3.30(s,3H) 5.70(t,2H) 7.8〜8.9(m,6H)
【0076】 [FABマススペクトル] m/e:336
【0077】[比較例1]三フッ化ホウ素エーテル錯体
を使用しないで、反応温度を220℃にし、加熱時間を
6時間にした他は、実施例1におけると同様にして、2
−メチルナフト[1,2−d]チアゾール及び1,4−
ブタンサルトンの混合物の加熱、及び後処理を行なっ
た。しかし目的化合物である2−メチルナフト[1,2
−d]チアゾリウム 3−ブタンスルホナートは痕跡量
しか得られなかった。
【0078】[実施例2] 2−メチル−6−メトキシナフト[1,2−d]チアゾ
リウム 3−ブタンスルホナート[前記(C−6)の化
合物]の合成
【0079】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチル−6−メトキシナフト[1,2−
d]チアゾール16g(0.07モル)及び1,4−ブ
タンサルトン14g(0.10モル)を入れ、このフラ
スコを油浴中に漬け内容物を160℃に加熱した。フラ
スコ内容物を撹拌しながら、これに三フッ化ホウ素エー
テル錯体14ml(0.11モル)を徐々に(約10分
を要して)添加し、フラスコ内容物を160℃に維持し
て1時間反応を行なった。
【0080】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として1
4.2g得た。
【0081】[実施例3] 2−メチルナフト[1,2−d]オキサゾリウム 3−
ブタンスルホナート[前記(C−13)の化合物]の合
【0082】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチルナフト[1,2−d]オキサゾー
ル12.8g(0.07モル)及び1,4−ブタンサル
トン14g(0.10モル)を入れ、このフラスコを油
浴中に漬け内容物を160℃に加熱した。フラスコ内容
物を撹拌しながら、これに三フッ化ホウ素エーテル錯体
14ml(0.11モル)を徐々に(約10分を要し
て)添加し、フラスコ内容物を160℃に維持して1時
間反応を行なった。
【0083】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として1
5.6g(収率70%)得た。
【0084】[実施例4] 2−メチルフェナントロ[1,2−d]チアゾリウム
3−ブタンスルホナート[前記(C−21)の化合物]
の合成
【0085】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチルフェナントロ[1,2−d]チア
ゾール17.4g(0.07モル)及び1,4−ブタン
サルトン14g(0.10モル)を入れ、このフラスコ
を油浴中に漬け内容物を160℃に加熱した。フラスコ
内容物を撹拌しながら、これに三フッ化ホウ素エーテル
錯体14ml(0.11モル)を徐々に(約10分を要
して)添加し、フラスコ内容物を160℃に維持して1
時間反応を行なった。
【0086】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として1
8.2g(収率70%)得た。
【0087】[実施例5] 2−メチル−5−フェノキシナフト[1,2−d]チア
ゾリウム 3−ブタンスルホナート[前記(C−23)
の化合物]の合成
【0088】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチル−5−フェノキシナフト[1,2
−d]チアゾール20.4g(0.07モル)及び1,
4−ブタンサルトン14g(0.10モル)を入れ、こ
のフラスコを油浴中に漬け内容物を160℃に加熱し
た。フラスコ内容物を撹拌しながら、これに三フッ化ホ
ウ素エーテル錯体28ml(0.22モル)を徐々に
(約10分を要して)添加し、フラスコ内容物を160
℃に維持して1時間反応を行なった。
【0089】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として1
5.0g(収率50%)得た。
【0090】[実施例6] 2−メチル−6−スルホナフト[1,2−d]チアゾリ
ウム 3−ブタンスルホナート[前記(C−26)の化
合物]の合成
【0091】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチル−6−スルホナフト[1,2−
d]チアゾール21.1g(0.07モル)及び1,4
−ブタンサルトン14g(0.10モル)を入れ、この
フラスコを油浴中に漬け内容物を160℃に加熱した。
フラスコ内容物を撹拌しながら、これに三フッ化ホウ素
エーテル錯体14ml(0.11モル)を徐々に(約1
0分を要して)添加し、フラスコ内容物を160℃に維
持して1時間反応を行なった。
【0092】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として1
9.3g(収率63%)得た。
【0093】[実施例7] 2−メチルナフト[1,2−d]セレナゾリウム 3−
ブタンスルホナート[前記(C−15)の化合物]の合
【0094】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチルナフト[1,2−d]セレナゾー
ル17.2g(0.07モル)及び1,4−ブタンサル
トン14g(0.10モル)を入れ、このフラスコを油
浴中に漬け内容物を160℃に加熱した。フラスコ内容
物を撹拌しながら、これに三フッ化ホウ素エーテル錯体
14ml(0.11モル)を徐々に(約10分を要し
て)添加し、フラスコ内容物を160℃に維持して1時
間反応を行なった。
【0095】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として1
4.7g(収率55%)得た。
【0096】[実施例8] 1,2−ジメチルナフト[1,2−d]イミダゾリウム
3−ブタンスルホナート[前記(C−37)の化合
物]の合成
【0097】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、1,2−ジメチルナフト[1,2−d]イミ
ダゾール13.7g(0.07モル)及び1,4−ブタ
ンサルトン14g(0.10モル)を入れ、このフラス
コを油浴中に漬け内容物を160℃に加熱した。フラス
コ内容物を撹拌しながら、これに三フッ化ホウ素エーテ
ル錯体28ml(0.22モル)を徐々に(約10分を
要して)添加し、フラスコ内容物を160℃に維持して
1時間反応を行なった。
【0098】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として9.
73g(収率42%)得た。
【0099】[実施例9] 2−メチルアントロ[1,2−d]チアゾリウム 3−
ブタンスルホナート[前記(C−58)の化合物]の合
【0100】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチルアントロ[1,2−d]チアゾー
ル17.4g(0.07モル)及び1,4−ブタンサル
トン14g(0.10モル)を入れ、このフラスコを油
浴中に漬け内容物を160℃に加熱した。フラスコ内容
物を撹拌しながら、これに三フッ化ホウ素エーテル錯体
14ml(0.11モル)を徐々に(約10分を要し
て)添加し、フラスコ内容物を160℃に維持して1時
間反応を行なった。
【0101】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として1
5.6g(収率60%)得た。
【0102】[実施例10] 2−メチルチオナフト[1,2−d]チアゾリウム 3
−ブタンスルホナート[前記(C−60)の化合物]の
合成
【0103】撹拌機及び還流冷却器を取り付けた丸底フ
ラスコに、2−メチルチオナフト[1,2−d]チアゾ
ール16.2g(0.07モル)及び1,4−ブタンサ
ルトン14g(0.10モル)を入れ、このフラスコを
油浴中に漬け内容物を160℃に加熱した。フラスコ内
容物を撹拌しながら、これに三フッ化ホウ素エーテル錯
体14ml(0.11モル)を徐々に(約10分を要し
て)添加し、フラスコ内容物を160℃に維持して1時
間反応を行なった。
【0104】反応終了後、反応生成混合物を室温にまで
冷却し、フラスコに酢酸エチル280mlを添加し撹拌
すると、白色結晶が析出した。この結晶を濾別し、50
℃で1時間乾燥して、標題化合物を白色結晶として1
0.8g(収率58%)得た。
【0105】[比較例2]三フッ化ホウ素エーテル錯体
を使用しないで、反応温度を220℃にし、加熱時間を
6時間にした他は、実施例3におけると同様にして、2
−メチルナフト[1,2−d]オキサゾール及び1,4
−ブタンサルトンの混合物の加熱、及び後処理を行なっ
た。しかし目的化合物である2−メチルナフト[1,2
−d]オキサゾリウム 3−ブタンスルホナートは3.
3g(収率15%)しか得られなかった。
【0106】
【発明の効果】本発明のアルキルスルホナート誘導体の
製造方法は、一般式(1)で表わされる含窒素複素環化
合物と脂肪族サルトンとから、一般式(3)で表わされ
るアルキルスルホナート誘導体を、高収率で製造するこ
とができるという顕著に優れた効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07D 293/12 C07D 293/12 471/10 471/10 491/107 491/107 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 277/84 C07D 209/60 C07D 235/02 C07D 263/60 C07D 293/10 C07D 293/12 C07D 471/10 C07D 491/107 CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1): 【化1】 [式中、Xは、−O−、−S−、−NR1 −、−Se
    −、−Te−又は−CR23 −(但し、R1 、R2
    びR3 はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有して
    いてもよい低級アルキル基を表わし、R2 及びR3 は連
    結して環を形成してもよい)を表わし、 Aは水素原子、メルカプト基、アリールチオ基、アラル
    キル基、スルホ基、ハロゲン原子、置換基を有していて
    もよいアルキル基、置換基を有していても良いアルキル
    チオ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換
    基を有していてもよいアルキルスルホニルオキシ基又は
    置換基を有していてもよいアリールスルホニルオキシ基
    を表わし、そしてR4 、R5 、R6 、R7 及びR8 は、
    水素原子、アルキル基、アリール基、置換基を有してい
    てもよいアルコキシ基、アリールオキシ基、ハロアルキ
    ル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、シアノ基、カル
    ボキシル基、スルホ基又はスルホン酸基を表わす。] で表わされる含窒素複素環化合物と、下記一般式
    (2): 【化2】 [式中、Zは、置換基を有していてもよいアルキレン基
    を表わす] で表わされる脂肪族サルトンとを、ルイス酸の存在下で
    反応させて、下記一般式(3): 【化3】 [式中、A、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、X及びZ
    は上記の通りである]で表わされるアルキルスルホナー
    ト誘導体を生成させることを特徴とするアルキルスルホ
    ナート誘導体の製造方法。
  2. 【請求項2】 上記一般式(1)中のR4 、R5 、R
    6 、R7 及びR8 の少なくとも一つが、アルキル基、ア
    リール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ア
    リールオキシ基、ハロアルキル基、アルキルチオ基、ハ
    ロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基又は
    スルホン酸基を表わす請求項1に記載のアルキルスルホ
    ナート誘導体の製造方法。
  3. 【請求項3】 下記一般式(1): 【化4】 [式中、Xは、−O−、−S−、−NR1 −、−Se
    −、−Te−又は−CR23 −(但し、R1 、R2
    びR3 はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有して
    いてもよい低級アルキル基を表わし、R2 及びR3 は連
    結して環を形成してもよい)を表わし、 Aは水素原子、メルカプト基、アリールチオ基、アラル
    キル基、スルホ基、ハロゲン原子、置換基を有していて
    もよいアルキル基、置換基を有していても良いアルキル
    チオ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換
    基を有していてもよいアルキルスルホニルオキシ基又は
    置換基を有していてもよいアリールスルホニルオキシ基
    を表わし、 R4 とR5 、R5 とR6 、R6 とR7 及びR7 とR8
    少なくとも一つの組み合わせが、互いに連結して、それ
    ぞれが結合するナフタレン環の二価の炭化水素基と共に
    芳香族環又はシクロアルケン環を形成しており、そして
    上記R4 、R5 、R6 、R7 及びR8 の内、環の形成を
    行なわなかったものは、水素原子、アルキル基、アリー
    ル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アリー
    ルオキシ基、ハロアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲ
    ン原子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基又はスル
    ホン酸基を表わす。] で表わされる含窒素複素環化合物と、下記一般式
    (2): 【化5】 [式中、Zは、置換基を有していてもよいアルキレン基
    を表わす] で表わされる脂肪族サルトンとを、ルイス酸の存在下で
    反応させて、下記一般式(3): 【化6】 [式中、A、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、X及びZ
    は上記の通りである] で表わされるアルキルスルホナート誘導体を生成させ
    ことを特徴とするアルキルスルホナート誘導体の製造方
    法。
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