JP3105438B2 - フォトレジスト組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板を
製造する際に使用される、光硬化可能なプロペニルエー
テル末端基化合物を含むフォトレジスト組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント配線板の製造、金属の精
密加工等の分野において、エッチング、めっき等に用い
られるレジスト材料として、感光性樹脂組成物およびこ
れらを用いて得られる感光性フィルムが広く用いられて
いる。この感光性フィルムは、光透過性支持体フィル
ム、感光性樹脂、保護フィルムの三層構造よりなり、こ
れを用いて画像形成するには、まず保護フィルムを剥離
した後、該フォトレジストフィルムを銅張積層板に加熱
ロールにより圧着し、光透過性支持体フィルム上にポジ
パターンマスクを密着する。そして、ＵＶ等の活性エネ
ルギー線を照射し支持体フィルムを剥離後、アルカリ水
溶液または有機溶剤を噴霧または浸漬してレジストパタ
ーンを形成しさらに露呈した銅箔部分に金属めっきを施
した後、アリカリ水溶液または有機溶剤で硬化レジスト
部分を剥離し、最後に塩化鉄、塩化銅、過酸化水素／硫
酸、アルカリ性アンモニア等の溶液で露呈している銅箔
部分を除去する方法、またはネガパターンにて現像液に
エッチングおよびレジスト剥離する方法が取られてき
た。しかし、従来のフォトレジストフィルムに使用され
る感光性樹脂はアクリル系光ラジカルＵＶ硬化樹脂であ
り、該樹脂の場合、粘着ローラー時に感光性樹脂層と支
持体フィルム間に剥離現象が見られ、該層間に空気が入
り込んで酸素阻害による表面硬化性の低下がおこり、さ
らに光硬化時の体積収縮が大きく、基板との密着性が低
下することにより現像性、感度が低下するという問題が
ある。これらの問題点を克服する組成物としてエポキシ
系光カチオンＵＶ硬化樹脂があるが、光反応性が低いた
め、硬化時に大きなＵＶエネルギーを必要とする。その
ため、高ＵＶエネルギー照射装置を必要としたり、照射
時間が長くかかるという欠点があった。このような、カ
チオン系ＵＶ硬化樹脂の反応性の低さを向上させるため
の方法として、脂環式エポキシ化合物をベースレジンま
たは、希釈剤として用いる方法が知られている（特開平
１−２０９４４２号公報など）。しかし、このものはラ
ジカル系ＵＶ硬化性樹脂の反応速度に比べると遅く、工
業的に入手できる脂環式エポキシの種類は限られてお
り、実用性能を満足できるものを得るのは困難であっ
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
の前述した問題点を解決し、ＵＶ等の活性エネルギー線
を照射することにより、高速に硬化し、表面硬化性に優
れ、光硬化時の体積収縮が小さく、基板との密着性に優
れることによる高現像性、高感度のフォトレジスト組成
物を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するため、鋭意検討した結果、本発明に到達した。す
なわち本発明は一般式（１）で表されるプロペニルエー
テル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマー、一般
式（２）、一般式（３）または一般式（４）で表される
プロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴ
マー、一般式（５）で表されるプロペニルエーテル末端
基を有するウレタンオリゴマーおよび一般式（６）また
は（７）で表されるプロペニルエーテル末端基を有する
モノマーの群から選ばれる少なくとも２個のプロペニル
エーテル末端基を有する化合物（Ａ）（数平均分子量が
５００以上であるプロペニルエーテル基含有化合物を除
く。）の１種以上、ベースポリマー（Ｂ）および光重合
開始剤（Ｃ）からなるプリント配線板製造用フォトレジ
スト組成物である。

【化８】 ｛式中、ｎは３〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜
２００の整数であり、ｍの少なくとも１個は１以上であ
る。ｎ個のＲ ¹ の少なくとも２個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリー
レン、アルアルキレンまたはシクロアルキレン基であ
り、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていても良
く、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加で
も良い。Ｘ ¹ は多価アルコール残基である。｝

【化９】 ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは３〜２００の整数
であり、Ｘ ² 、Ｘ ³ はそれぞれＨＯＸ ² ＯＨ、ＨＯＸ ³ ＯＨ
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオ ール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Ｙ ¹ は多価カルボン酸残基であり、Ｙ ² は２価カル
ボン酸残基である。ｎ個のＲ ¹ の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。｝

【化１０】 ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数
であり、Ｘ ² はアルキレンまたはアリーレン基であり、
Ｘ ¹ は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ ¹ の少なくと
も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。｝

【化１１】 ｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
り、Ｘ ² 、Ｘ ³ はそれぞれ、ＨＯＸ ² ＯＨ、ＨＯＸ ³ ＯＨで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Ｘ ¹ は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ ¹ の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝

【化１２】 ｛式中、ｍは０〜２００、ｎは３〜２００の整数であ
り、Ｑ ¹ は−ＯＸ ² Ｏ−または−Ｎ（Ｒ ² ）−Ｘ ⁴ −Ｎ（Ｒ
² ）−で表される基であり、Ｑ ² は−ＯＸ ² Ｏ−で表され
る基である。Ｘ ² は、ＨＯＸ ² ＯＨで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リエステルジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ ² ）−Ｘ ⁴ −
Ｎ（Ｒ ² ）−はＨＮ（Ｒ ² ）−Ｘ ⁴ −Ｎ（Ｒ ² ）Ｈで表され
るジアミン残基であり、Ｘ ⁴ は炭素数２〜１２のアルキ
レン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレ
ン基であり、Ｒ ² は炭素数２〜１２のアルキル、アリー
ル、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ ¹ は
多価イソシアネート残基であり、Ｚ ² は２価イソシアネ
ート残基である。ｎ個のＲ ¹ の少なくとも２個はプロペ
ニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまた
はアリール基でもよい。｝

【化１３】 ｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ ¹ は脂肪族多
価アルコール残基である。ｎ個のＲ ¹ の少なくとも２個
はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、ア
シルまたはアリール基でもよい。｝

【化１４】 ｛式中、ｎは２〜２００、Ｘ ² は、ＨＯＸ ² ＯＨで表され
るアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエー
テルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボ
ネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ
¹ は脂肪族多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ ¹ の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明の（Ａ）としては次のもの
があげられる。すなわち、プロペニルエーテル末端基を
有する（ポリ）エーテルオリゴマー、プロペニルエーテ
ル末端基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニル
エーテル末端基を有するウレタンオリゴマーおよびプロ
ペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選ばれ
る１種以上のものであり、好ましくはプロペニルエーテ
ル末端基を有するウレタンオリゴマーである。

【０００６】本発明の（Ａ）におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマーは下記一
般式（１）で表される化合物である。 Ｘ¹［−Ｏ−（ＡＯ）m−Ｒ¹］n （１） ｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜
２００の整数でありｍの少なくとも１個は１以上であ
る。ｎ個のＲ¹の少なくとも２個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリー
レン、アルアルキレンまたはシクロアルキレン基であ
り、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていても良
く、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加で
も良い。Ｘ¹は多価アルコール残基である。｝

【０００７】一般式（１）において、Ａはアルキレン、
アリーレン、アルアルキレンおよびシクロアルキレン基
よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるア
ルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、
オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデ
シレン等があげられる。アリーレン基の例にはフェニレ
ン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が
あげられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１
−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロ
ピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピ
レンなどがあげられる。シクロアルキレン基の例には、
シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレ
ン、シクロオクチレン等があげられる。これらのうち好
ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アル
キレン基が長くなると開始剤の溶解性が悪くなる。

【０００８】Ｘ¹は多価アルコール残基であり、多価ア
ルコールとしては以下のものがあげられる。例えば、グ
リセリン、ポリグリセリン（グリセリンの２〜１８量
体、例えばジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリ
セリン等）、グリシドールの開環重合物（重合度が２〜
５０００である化合物）、トリメチロールアルカン（ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールブタン等）および、これらの２〜３量体、モノ
ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、１，
３，５−ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビ
タンソルビタングリセリン縮合物等があげられるが、こ
れらのうち特にグリセリンやポリグリセリンの残基なら
びにトリメチロールアルカンおよびその２〜３量体の残
基等が好ましい。

【０００９】ｎ個のｍは通常０〜２００の整数でありｍ
の少なくとも１個は１以上であり、好ましくは１〜８
０、特に好ましくは１〜５の整数である。ｍが２００を
超えると通常は粘度が高くなり開始剤の溶解が困難にな
る。

【００１０】ｎは２〜２００、好ましくは３〜１００、
特に好ましくは３〜５の整数である。ｎが２００を超え
ると、通常は粘度が高くなり開始剤の溶解が困難にな
る。ｎ個のＲ¹の少なくとも２個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。

【００１１】本発明におけるプロペニルエーテル末端基
を有するポリエステルオリゴマーは下記一般式（２）、
（３）または（４）で表される化合物があげられる。

【００１２】 ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数
であり、Ｘ²、Ｘ³はそれぞれＨＯＸ²ＯＨ、ＨＯＸ³ＯＨ
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Ｙ¹は多価カルボン酸残基であり、Ｙ²は２価カル
ボン酸残基である。ｎ個のＲ¹の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。｝

【００１３】一般式（２）におけるＸ²は、ＨＯＸ²ＯＨ
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
ある。

【００１４】ＨＯＸ²ＯＨで表されるアルキレンジオー
ルの例としては、エチレングリコール、プロピレングリ
コール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、１．４−シクロヘキサ
ンジオールなどがあげらる。これらのうち好ましくは、
エチレングリコール、およびプロピレングリコールであ
る。

【００１５】ＨＯＸ²ＯＨで表されるアリーレンジオー
ルの例としては、カテコール、ビス（２−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビスフェノールＡなどがあげられる。これらのうち
好ましくは、ビスフェノールＡである。

【００１６】ＨＯＸ²ＯＨで表されるポリエーテルジオ
ールの例としては、ポリ（オキシエチレン）ジオール、
ポリ（オキシプロピレン）ジオール、ポリ（オキシテト
ラメチレン）ジオール、ビスフェノールＡのエチレンオ
キサイド付加物、およびビスフェノールＡのプロピレン
オキサイド付加物などがあげられる。これらのうち好ま
しくは、ポリ（オキシエチレン）ジオールおよびポリ
（オキシプロピレン）ジオールである。

【００１７】上記ポリエーテルジオールの重合度は通常
１〜２００、好ましくは２〜１００、特に好ましくは３
〜２０である。

【００１８】ＨＯＸ²ＯＨで表されるポリウレタンジオ
ールの例としては下記の（ｉ）と（ｉｉ）との反応生成
物があげられる。 （ｉ） Ｈ（ＯＸ⁵）ｍ−ＯＨで表される化合物 （ｍは０〜２００の整数、Ｘ⁵は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアル
キレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である） （ｉｉ） ＯＣＮ−Ｚ³−ＮＣＯ （式中、Ｚ³はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基からなる群から選ばれる２
価の基である）

【００１９】上記（ｉ）のポリエーテルジオールにおい
てｍは通常０〜２００、好ましくは、３〜２０の整数で
ある。

【００２０】上記（ｉ）のポリエーテルジオールにおい
てＸ⁵は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、ア
ラルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群か
ら選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の
例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、
ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノ
ニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等があげ
られる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレ
ン、アントリレン、フェナントリレン等があげられる。
アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレ
ン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−
フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどがあ
げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチ
レン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオ
クチレン等があげられる。これらのうち好ましくは、エ
チレン、プロピレン基である。アルキレン基が長くなる
と開始剤の溶解性が悪くなる。

【００２１】上記（ｉｉ）のジイソシアネートの例とし
ては、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ｐ−およ
び、ｍ−フェニレンジイソシアネート、１，４−テトラ
メチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジ
イソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレ
ンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシ
アネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート（デスモジュールＷ）、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、３，３’−ジメチ
ル−４、４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、
１，５−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナ
フタリン−１，５’−ジイソシアネート、ビス（２−メ
チル−３−イソシアネートフェニル）メタン、４，４’
−ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチル
キシレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、イソホロン
ジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などがあげられる。これ
らのうち好ましくは、トルエンジイソシアネート（ＴＤ
Ｉ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート
（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤ
Ｉ）、テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸ
ＤＩ）、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート（デスモジュールＷ）、１，６−ヘキサメチレン
ジイソシアネートである。

【００２２】ＨＯＸ²ＯＨで表されるポリカーボネート
ジオールの例としては下記の一般式であげられる化合物
があげられる。 （ｍは１〜２００の整数であり、Ｘ⁶は炭素数２〜１２
のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシク
ロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であ
る）

【００２３】上記一般式においてｍは通常１〜２００の
整数、好ましくは３〜２０の整数である。

【００２４】上記のポリカーボネートジオールにおいて
Ｘ⁶は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラ
ルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群から
選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例
には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペ
ンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニ
レン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等があげら
れる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、
アントリレン、フェナントリレン等があげられる。アル
アルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、
２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェ
ニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどがあげら
れる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレ
ン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオク
チレン等があげられる。これらのうち好ましくは、エチ
レン、およびプロピレン基である。アルキレン基が長く
なると開始剤の溶解性が悪くなる。

【００２５】一般式（２）におけるＸ³は、上記のＸ²で
示されるものと同一のものがあげられ、Ｘ²とＸ³は同一
でも、異なっていてもよい。

【００２６】一般式（２）におけるＹ¹は多価カルボン
酸残基であり、Ｙ²は２価カルボン酸残基である。２価
カルボン酸の例としては、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸等があげられ、３価以上のものとしたは
トリメリット酸、ピリメリット酸、その他のポリカルボ
ン酸等があげられる。これらのうちＹ¹、Ｙ²ともにイソ
フタル酸、テレフタル酸、およびアジピン酸が好まし
い。

【００２７】一般式（２）において、ｍは通常１〜２０
０、好ましくは１〜８０、特に好ましくは１〜２０の整
数である。ｍが２００をこえると粘度が高くなり開始剤
の溶解が困難になる。

【００２８】一般式（２）おいて、ｎは通常２〜２０
０、好ましくは３〜１００、特に好ましくは３〜２０の
整数である。ｎが２００より大きくなると、粘度が高く
なり開始剤の溶解が困難になる。ｎ個のＲ¹の少なくと
も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシル又はアリール基でもよい。

【００２９】一般式（３）は、 ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数
であり、Ｘ²はアルキレンまたはアリーレン基であり、
Ｘ¹は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ¹の少なくと
も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。｝で表される。

【００３０】一般式（３）におけるＸ¹は一般式（１）
で示されたものと同一のものがあげられ、Ｘ²、ｍおよ
びｎは、それぞれ一般式（２）で示されたものと同一の
ものがあげられる。

【００３１】一般式（４）は、 ｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
り、Ｘ²、Ｘ³はそれぞれ、ＨＯＸ²ＯＨ、ＨＯＸ³ＯＨで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Ｘ¹は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ¹の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝表される。

【００３２】一般式（４）におけるＸ¹は一般式（１）
で示されたものと同一のものがあげられ、Ｘ²、Ｘ³、ｍ
およびｎは、それぞれ一般式（２）で示されたものと同
一のものがあげられ、Ｘ²とＸ³は同一でも、異なってい
てもよい。

【００３３】本発明の（Ａ）におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有するウレタンオリゴマーは下記一般式
（５）で表される。 ｛式中、ｍは０〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
り、Ｑ¹は−ＯＸ²Ｏ−または−Ｎ（Ｒ²）−Ｘ⁴−Ｎ（Ｒ
²）−で表される基であり、Ｑ²は−ＯＸ²Ｏ−で表され
る基である。Ｘ²は、ＨＯＸ²ＯＨで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリ エーテルジオール、
ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオール
のいずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ²）−Ｘ⁴
−Ｎ（Ｒ²）−はＨＮ（Ｒ²）−Ｘ⁴−Ｎ（Ｒ²）Ｈで表さ
れるジアミン残基であり、Ｘ⁴は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキ
レン基であり、Ｒ²は炭素数２〜１２のアルキル、アリ
ール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ¹
は多価イソシアネート残基であり、Ｚ²は２価イソシア
ネート残基である。ｎ個のＲ¹の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。｝

【００３４】一般式（５）において、Ｚ²における２価
イソシアネートとしては前記式（ｉｉ）であげられたも
のと同一のものがあげられる。Ｚ¹における多価イソシ
アネートとしてはリジンエステルトリイソシアネート、
ヘキサメチレントリイソシアネートおよびポリフェニル
ポリイソシアネート等があげられる。

【００３５】一般式（５）において、Ｑ¹は−ＯＸ²Ｏ−
または−Ｎ（Ｒ²）−Ｘ⁴−Ｎ（Ｒ²）−で表される基で
あり、Ｑ²は−ＯＸ²Ｏ−で表される基である。Ｘ²はＨ
ＯＸ²ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリ−レン
ジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオー
ルまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオー
ルの残基であり、Ｘ²は一般（２）におけるＸ²と同一の
ものがあげられる。

【００３６】上記ＨＯＸ²ＯＨがポリエステルジオール
の場合、下記の（ｉｉｉ）と（ｉｖ）との反応生成物が
あげられる。 （ｉｉｉ） Ｈ（ＯＸ⁷）ｍ−ＯＨ （ｍは０〜２００の整数、Ｘ⁷は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアル
キレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である） （ｉｖ） ＨＯＯＣ−Ｙ³−ＣＯＯＨ （式中、Ｙ³はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２
価の基である）

【００３７】上記（ｉｉｉ）のポリエーテルジオールに
おいてｍは通常０〜２００、好ましくは、３〜２０の整
数である。

【００３８】上記（ｉｉｉ）のポリエーテルジオールに
おいてＸ⁷は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレ
ン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる
群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン
基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレ
ン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等
があげられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフ
チレン、アントリレン、フェナントリレン等があげられ
る。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニ
チレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、
２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなど
があげられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペ
ンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シク
ロオクチレン等があげられる。これらのうち好ましく
は、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン
基が長くなると開始剤の溶解性が悪くなる。

【００３９】上記（ｉｖ）のジカルボン酸の例として
は、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ポ
リカルボン酸等があげられる。これらのうち好ましく
は、イソフタル酸、テレフタル酸、およびアジピン酸で
ある。Ｘ⁴は、一般式（２）におけるＸ²と同一のものが
あげられ、Ｒ²は一般式（１）中のＡで示されたものと
同一のものがあげられ、ｍおよびｎは一般式（２）で示
したものと同一のものがあげられる。

【００４０】本発明の（Ａ）におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有するモノマーは下記一般式（６）または一
般式（７）で表される。 Ｘ¹［−Ｏ−Ｒ¹］n （６） （式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ¹は脂肪族多
価アルコール残基である。ｎ個のＲ¹の少なくとも２個
はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、ア
シルまたはアリール基でもよい。）

【００４１】一般式（６）において、ｎは通常２〜２０
０、好ましくは２〜６の整数である。ｎが２００を超え
ると粘度が高くハンドリングが悪くなる。Ｘ¹は一般式
（１）で示したものから芳香族系のものを除いたものが
あげられる。

【００４２】 ｛式中、ｎは２−２００、Ｘ²は、ＨＯＸ²ＯＨで表され
るアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエー
テルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボ
ネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ
¹は脂肪族多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ¹の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝ 一般式（７）において、ｎは通常２〜２００、好ましく
は２〜６の整数である。ｎが２００を超えると粘度が高
くハンドリングが悪くなる。Ｙ¹は一般式（２）であげ
られたものから芳香族系のものを除いたものがあげら
れ、Ｘ²は一般式（２）であげられたものと同一のもの
があげられる。

【００４３】本発明において使用されるベースポリマー
（Ｂ）としては特に制限はなく、各種のものを用いるこ
とができるが、アルカリ水溶液で現像可能なベースポリ
マーであることが好ましい。例えば、分子量が１０００
以上でカルボキシル基を含有する重合体であり、ビニル
（共）重合体、ポリエステル樹脂等があげられ、単独ま
たは２種以上を混合して用いられる。ビニル（共）重合
体に用いられる単量体としては、（メタ）アクリル酸、
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチ
ル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸
ブチル、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
（メタ）アクリル酸メトキシエチル、スチレン、（メ
タ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール等があげられる。ポリエステ
ル樹脂は無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
テロラヒドル無水フタル酸、（無水）マレイン酸、フマ
ール酸、アジピン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメ
リト酸等の２価以上のカルボン酸とエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、
ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、水素化
ビスフェノールＡ。グリセリン、トリメチロールプロパ
ン等の２価以上のアルコールとのエステル化反応により
得られるものがあげられる。該重合体はいずれも分子量
が通常、１０００以上、好ましくは１０００〜２０万で
ある。

【００４４】本発明において使用される光重合開始剤
（Ｃ）としては、公知の光カチオン重合開始剤が使用で
きる。例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェ
ート、Ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｐ−（フェニル
チオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニル
ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、ビス［４−ジフェニルスルフォニオ）フェニル］ス
ルフィドビスヘキサフルオロフォスフェート、ビス［４
−ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビス
ヘキサフルオロアンチモネート、（２、４−シクロペン
タジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼ
ン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等を挙げるこ
とができる。これらは市場より容易に入手することがで
きる。例えば、旭電化（株）製、ＳＰ−１５０、ＳＰ−
１７０、チバ・ガイギー社製、イルガキュアー２６１、
ユニオンカーバイド社製、ＵＶＲ−６９７４、ＵＶＲ−
６９９０等を挙げることができる。

【００４５】本発明において樹脂組成物の粘度を調節す
る目的で必要に応じて反応性希釈剤（Ｄ）を使用でき
る。

【００４６】該（Ｄ）は下記一般式（８）であらわされ
る化合物があげられる。 ＣＨ₃−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ²−Ｏ−Ｒ³ （８） ｛式中、Ｘ²は、ＨＯＸ²ＯＨで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、Ｒ³は炭素数が２〜
１２のアルキル、シクロアルキル基または水素原子であ
る。｝

【００４７】上記一般式においてＸ²は一般式（２）で
示されたものと同一のものがあげられ、Ｒ³は炭素数が
２〜１２のアルキル、シクロアルキル基または水素原子
である。

【００４８】本発明において（Ａ）、（Ｂ）および
（Ｃ）の各含量は（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の合計重
量に対して通常（Ａ）１０〜６０量％、（Ｂ）３０〜８
０重量％、（Ｃ）０．００４〜５重量％であり、好まし
くは（Ａ）３０〜５０重量％、（Ｂ）５０〜７０重量
％、（Ｃ）１〜４重量％である。

【００４９】本発明において（Ａ）、（Ｂ）および
（Ｃ）の合計重量に対して（Ｄ）を通常０〜４０重量
％、好ましくは１０〜３０重量％含有させることができ
る。（Ｄ）が４０重量％をこえると、硬化速度が大幅に
低下する。

【００５０】本発明の組成物には必要により（Ａ）とと
もに公知の光ラジカル重合性組成物（Ｅ）を併用するこ
とができる。含有する（Ｅ）の量としては、通常（Ａ）
成分１００重量部に対し０〜１００重量部を使用し、好
ましくは１０〜４０重量部である。

【００５１】本発明の組成物には、更に必要に応じて、
密着向上剤、熱重合防止剤、塗料、顔料、可塑剤、難燃
剤、微粒状充填剤、塗工性向上剤、その他各種添加剤等
を含有させることができる。

【００５２】本発明に使用される支持体としては、重合
体フィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リプロピレン、ポリエチレン等からなるフィルムが用い
られ、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。

【００５３】感光性フィルムを製造するに際しては、ま
ず、（Ａ）〜（Ｃ）成分を含むレジスト組成物を溶剤に
均一に溶解する。溶剤はレジスト組成物を溶解する溶剤
であればよく、例えば、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等の
エーテル系溶剤、ジクロルメタン、クロロホルム等の塩
素化炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール等のアル
コール系溶剤などが用いられる。これらの溶剤は単独ま
たは２種以上を組み合わせて用いられる。

【００５４】次いで、溶液状となったレジスト組成物を
前記支持体フィルム層としての重合体フィルム上に均一
に塗布した後、加熱および／または熱風吹き付けにより
溶剤を除去し、乾燥皮膜とする。乾燥皮膜の厚さには特
に制限は無く、通常１０〜１００μｍとされる。このよ
うにして得られる感光層と重合体フィルムとの２層から
なる本発明の感光性フィルムは、そのまま、または感光
層の他の面に保護フィルムをさらに積層してロール状に
巻き取って貯蔵される。

【００５５】本発明の感光性フィルムを用いてフォトレ
ジスト画像を製造するに際しては、前期保護フィルムが
存在している場合には、保護フィルムを除去後、感光層
を加熱しながら基板に圧着させることにより積層する。
積層される表面は、通常、金属面であるが、特に制限は
ない。感光層の加熱、圧着は、通常、９０〜１３０℃、
圧着圧力３ｋｇｆ／ｃｍ²でおこなわれるが、これらの
条件に制限はない。

【００５６】このようにして積層が完了した感光層は、
次いで、ネガフィルム、またはポジフィルムを用いて活
性光に画像的に露光される。次いで、露光後、感光層上
に重合体フィルムが存在している場合には、これを除去
した後、アルカリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、
揺動浸漬等の公知の方法で未露光部を除去して現像す
る。アリカリ水溶液の塩基としては、通常、リチウム、
ナトリウム、あるいはカリウムの水酸化物の水酸化アル
カリ、リチウム、ナトリウム、あるいはカリウムの炭酸
塩または重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸カリウム、
リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩、ピロリン
酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピ
ロリン酸塩などが用いられ、好ましくは炭酸ナトリウム
の水溶液である。溶液のｐＨは、好ましくは９〜１１で
あり、また、その温度は感光層の現像性にあわせて調節
される。

【００５７】プリント配線板を製造するに際しては、現
像されたフォトレジスト画像をマスクとして露出してい
る基板の表面をエッチング、めっき等の公知の方法で処
理する。次いで、フォトレジスト画像は、通常、現像に
用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカリ性の水溶液
で剥離される。例えば、１〜５重量％の水酸化ナトリウ
ム水溶液が用いられる。

【００５８】

【実施例】以下、実施例を以て本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。

【００５９】実施例１〜５、比較例１〜３ 表１に示した処方で調整した配合物を用い、下記評価方
法、および評価基準にしたがい、光硬化性、現像性、お
よび銅密着性の評価をおこなった。得られた結果を表２
に示す。光硬化性の評価法：それぞれのテストピースに
紫外線を所定量照射し、次いで希アルカリ水溶液を現像
液としてスプレーで１分間現像せしめたのちの塗膜の状
態を目視判定した。 現像性の評価法：それぞれのテストピースを希アルカリ
水溶液を現像液としてスプレーで現像を行ったときの各
時間ごとの現像性を顕微鏡にて目視判定した。 現像性の評価基準： ◎ 細かいところまで現像できた ○ 基板表面に薄く現像できない部分が残るもの △ 現像できないものがかなり残るもの × ほとんど現像されていないもの 銅密着性の評価方法：ＪＩＳ Ｄ−０２０２の試験法に
従って、それぞれのテストピースに碁盤目状にクロスカ
ットをいれ、次いでセロテープによるビーリング試験後
の剥がれの状態を目視により判定した。 銅密着性の評価基準： ◎ 100/100で全く変化が認められないもの ○ 100/100で線の際が僅かに剥がれたもの △ 50/100〜90/100 × 0/100〜50/100

【００６０】（感光性フィルムの作製）ＪＩＳＫ ６９
１１に準じて測定したポリエステルフィルム（商品名
「ルミラー２２ＡＱ４５」、融点２６０℃、東レ株式会
社製）を支持体フィルムとし、該フィルムの上に表１に
示した処方で調製した配合物を塗布、８０℃で１０分乾
燥し、膜厚４０μｍでピンホールがなく、粘着性を有し
ない塗膜を得た。次いで、この塗膜上に膜厚４０μｍの
ポリエチレンフィルムを保護フィルムとして積層して感
光性フィルムを作成した。

【００６１】（プリント配線基板の製造）前記で得た感
光性フィルムの保護フィルムを剥離し、６０〜７０℃に
加熱された銅厚３５μｍの銅張積層板（２５．４ｍｍ×
１００ｍｍ×１．６ｍｍ）上に、レジスト組成物が銅部
に接するように１１０℃でロール圧着し、銅張積層板と
同じ大きさに圧着された感光性フィルムを２ｃｍ幅に切
断し、テストピースとした。また、２枚の基板を積層市
折り畳んだが、ＰＥＴのは剥がれは観察されなかった。
次いで、１００μｍの直線状ラインのネガを使用して３
ｋＷの高圧水銀灯により照度が１０ｍＷ／ｃｍ²で露光
を行った。

【００６２】現像は、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを除去した後、３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液
をスプレーすることにより行った。

【００６３】

【表１】

【００６４】表１に示した化合物は以下の通りである。
なお、ＣＨ₃−ＣＨ＝ＣＨ−基（プロペニル基）はＰｒ
と略す。 プロペニルエーテル末端基化合物（１）： Ｐｒ−Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₂−Ｐｒ プロペニルエーテル末端基化合物（２）： プロペニルエーテル末端基化合物（３）： Ｐｒ−Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₆−ＸＯ−（ＣＨ₂ＣＨ
₂Ｏ）₆−Ｐｒ Ｘ：ビスフェノールＡ残基 プロペニルエーテル末端基化合物（４）： プロペニルエーテル末端基化合物（５）： Ｘ：トリエチレングリコール残基 Ｚ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート残
基、 プロペニルエーテル末端基化合物（６）： Ｒ［Ｏ−Ｐｒ］₃ Ｒ：トリメチロールプロパン残基 アクリレート末端基化合物（７）： アクリレート末端基化合物（８）： Ｒ：トリメチロールプロパン残基 エポキシ末端基化合物（９）：ＥＰ−８２８（油化シェ
ル社製ビスフェノール型エポキシ樹脂 脂環式エポキシ末端基化合物（１０）：ＥＲＬ−４２２
１（ＵＣＣ製脂環式エポキシ樹脂） 光重合触媒（１１）：ＵＶＲ−６９７４（Ｐ−（フェニ
ルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルフォニ
オ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモ
ネート混合物の５０％希釈品） 光重合触媒（１２）：イルガキュアー１８４（チバ・ガ
イギー社製） バインダーポエイマー（１３）：メタクリル酸／メタア
クリル酸メチル／アクリル酸ｎ−ブチル＝２３／５７／
２０重量比の共重合体（重量平均分子量約８０、００
０）の４０％メチルセルソルブ溶液

【００６５】

【表２】

【００６６】

【発明の効果】以上、説明したように、プロペニルエー
テル末端基を有する化合物を含むフォトレジスト組成物
は、ラジカル重合型のアクリレート系樹脂よりも、高速
に硬化し、表面硬化性に優れ、光硬化時の体積収縮が小
さく、基板との密着性に優れるという特徴を有する。ま
た、エポキシ系紫外線硬化樹脂よりも、高速硬化性であ
る。これらのことから、本発明のフォトレジスト組成物
を用いた感光性フィルムは高解像性、高感度のレジスト
パターンを形成することが可能となり、プリント配線板
の製造にとって極めて有用なのもである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ 3/18 3/18 Ｄ (56)参考文献 特開 平７−128850（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−149870（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−258159（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−7754（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−125010（ＪＰ，Ａ) 特表 平３−502923（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 7/027 511 C08F 2/44 C08F 2/48 C08F 299/02 H05K 3/00 H05K 3/06 H05K 3/18

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）で表されるプロペニルエー
   テル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマー、一般
   式（２）、一般式（３）または一般式（４）で表される
   プロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴ
   マー、一般式（５）で表されるプロペニルエーテル末端
   基を有するウレタンオリゴマーおよび一般式（６）また
   は（７）で表されるプロペニルエーテル末端基を有する
   モノマーの群から選ばれる少なくとも２個のプロペニル
   エーテル末端基を有する化合物（Ａ）（数平均分子量が
   ５００以上であるプロペニルエーテル基含有化合物を除
   く。）の１種以上、ベースポリマー（Ｂ）および光重合
   開始剤（Ｃ）からなるプリント配線板製造用フォトレジ
   スト組成物。 【化１】 ｛式中、ｎは３〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜
   ２００の整数であり、ｍの少なくとも１個は１以上であ
   る。ｎ個のＲ ¹ の少なくとも２個はプロペニル基であ
   り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
   基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリー
   レン、アルアルキレンまたはシクロアルキレン基であ
   り、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていても良
   く、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加で
   も良い。Ｘ ¹ は多価アルコール残基である。｝ 【化２】 ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは３〜２００の整数
   であり、Ｘ ² 、Ｘ ³ はそれぞれＨＯＸ ² ＯＨ、ＨＯＸ ³ ＯＨ
   で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
   ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
   リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
   あり、Ｙ ¹ は多価カルボン酸残基であり、Ｙ ² は２価カル
   ボン酸残基である。ｎ個のＲ ¹ の少なくとも２個はプロ
   ペニル基で あり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
   はアリール基でもよい。｝ 【化３】 ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数
   であり、Ｘ ² はアルキレンまたはアリーレン基であり、
   Ｘ ¹ は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ ¹ の少なくと
   も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
   ル、アシルまたはアリール基でもよい。｝ 【化４】 ｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
   り、Ｘ ² 、Ｘ ³ はそれぞれ、ＨＯＸ ² ＯＨ、ＨＯＸ ³ ＯＨで
   表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
   リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
   カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
   り、Ｘ ¹ は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ ¹ の少な
   くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
   ルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝ 【化５】 ｛式中、ｍは０〜２００、ｎは３〜２００の整数であ
   り、Ｑ ¹ は−ＯＸ ² Ｏ−または−Ｎ（Ｒ ² ）−Ｘ ⁴ −Ｎ（Ｒ
   ² ）−で表される基であり、Ｑ ² は−ＯＸ ² Ｏ−で表され
   る基である。Ｘ ² は、ＨＯＸ ² ＯＨで表されるアルキルジ
   オール、アリールジ オール、ポリエーテルジオール、ポ
   リエステルジオールまたはポリカーボネートジオールの
   いずれかのジオールの残基である。 −Ｎ（Ｒ ² ）−Ｘ ⁴ −Ｎ（Ｒ ² ）−はＨＮ（Ｒ ² ）−Ｘ ⁴ −
   Ｎ（Ｒ ² ）Ｈで表されるジアミン残基であり、Ｘ ⁴ は炭素
   数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンま
   たはシクロアルキレン基であり、Ｒ ² は炭素数２〜１２
   のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキ
   ル基である。Ｚ ¹ は多価イソシアネート残基であり、Ｚ ²
   は２価イソシアネート残基である。ｎ個のＲ ¹ の少なく
   とも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アル
   キル、アシルまたはアリール基でもよい。｝ 【化６】 ｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ ¹ は脂肪族多
   価アルコール残基である。ｎ個のＲ ¹ の少なくとも２個
   はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、ア
   シルまたはアリール基でもよい。｝ 【化７】 ｛式中、ｎは２〜２００、Ｘ ² は、ＨＯＸ ² ＯＨで表され
   るアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエー
   テルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボ
   ネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ
   ¹ は脂肪族多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ ¹ の少な
   くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
   ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
2. 【請求項２】 さらに反応性希釈剤（Ｄ）が配合されて
   なり、（Ｄ）の含量が、（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の
   総量に対して、５〜４０％である請求項１記載の組成
   物。
3. 【請求項３】 （Ｄ）が下記一般式（８）で表される反
   応性希釈剤である請求項２記載の組成物。 ＣＨ₃−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ²−Ｏ−Ｒ³ （８） ｛式中、Ｘ²は、ＨＯＸ²ＯＨで表されるアルキレンジオ
   ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
   リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
   いずれかのジオールの残基であり、Ｒ³は炭素数が２〜
   １２のアルキル、シクロアルキル基または水素原子であ
   る。｝
4. 【請求項４】 請求項１〜３いずれか記載の組成物を支
   持体上に積層してなる感光性フィルム。
5. 【請求項５】 請求項１〜３いずれか記載の組成物を用
   いるプリント配線板の製造方法。