JP3159767B2 - 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 - Google Patents
新規な含硫黄化合物及びその製造方法Info
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- JP3159767B2 JP3159767B2 JP07915892A JP7915892A JP3159767B2 JP 3159767 B2 JP3159767 B2 JP 3159767B2 JP 07915892 A JP07915892 A JP 07915892A JP 7915892 A JP7915892 A JP 7915892A JP 3159767 B2 JP3159767 B2 JP 3159767B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な含硫黄化合物及
びその製造方法に関する。更に詳しくは光照射によりラ
ジカルを発生する能力を有する含硫黄光ラジカル開始剤
及びその製造方法に関する。（トリハロゲノメチル）フ
ェニルスルホン類は、光照射によりラジカルを生じるた
めに重合反応の開始剤として有用であり、さらに微生物
等に対する抗菌剤としても重要な化合物である。
びその製造方法に関する。更に詳しくは光照射によりラ
ジカルを発生する能力を有する含硫黄光ラジカル開始剤
及びその製造方法に関する。（トリハロゲノメチル）フ
ェニルスルホン類は、光照射によりラジカルを生じるた
めに重合反応の開始剤として有用であり、さらに微生物
等に対する抗菌剤としても重要な化合物である。
【０００２】本発明により製造される新規な４−（フェ
ニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホ
ン（式（１）で表される化合物）は、光ラジカル開始剤
としての用途が期待される。
ニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホ
ン（式（１）で表される化合物）は、光ラジカル開始剤
としての用途が期待される。
【０００３】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】光重合開
始剤としては、分子内にハロゲンを有する化合物、たと
えば四塩化炭素、四臭化炭素、ヘキサクロロエタン、
α，α，α−トリクロロトルエン、ｏ−ニトロ−α，
α，α−トリブロモアセトフェノン、ｏ−ニトロベンゼ
ンスルフェニルクロライド、ヘキサブロモジメチルスル
ホキシド、トリクロロメチルフェニルスルホン、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリブロモメチル−ｐ−
ニトロフェニルスルホン、テトラブロモジメチルスルホ
ンなどが用いられてきた。しかしながら、これらの化合
物においては水銀灯のスペクトル範囲に有効吸収が無い
ため光重合開始剤として用いる場合、増感剤とあわせて
用いる必要があったり、また光は吸収するがラジカルの
発生効率が悪かったりする等の問題点を有している。
始剤としては、分子内にハロゲンを有する化合物、たと
えば四塩化炭素、四臭化炭素、ヘキサクロロエタン、
α，α，α−トリクロロトルエン、ｏ−ニトロ−α，
α，α−トリブロモアセトフェノン、ｏ−ニトロベンゼ
ンスルフェニルクロライド、ヘキサブロモジメチルスル
ホキシド、トリクロロメチルフェニルスルホン、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリブロモメチル−ｐ−
ニトロフェニルスルホン、テトラブロモジメチルスルホ
ンなどが用いられてきた。しかしながら、これらの化合
物においては水銀灯のスペクトル範囲に有効吸収が無い
ため光重合開始剤として用いる場合、増感剤とあわせて
用いる必要があったり、また光は吸収するがラジカルの
発生効率が悪かったりする等の問題点を有している。
【０００４】従って、本発明の目的は、水銀灯のスペク
トルを有効に利用しラジカル発生効率のよい光重合開始
剤として有用な新規な含硫黄化合物及びその製造方法を
提供することにある。
トルを有効に利用しラジカル発生効率のよい光重合開始
剤として有用な新規な含硫黄化合物及びその製造方法を
提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは水銀灯のス
ペクトルを有効に利用できる化合物を開発すべくトリハ
ロゲノ基を有する光ラジカル開始剤に注目し、ベンゼン
環、ナフタレン環やビナフチルのように複数の環より構
成された芳香環、ピリジンやチオフェンのような複素環
化合物等を基本骨格とする種々のトリハロゲノ化合物を
合成した。そして得られた化合物の紫外線吸収を調べた
結果、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンが上記の目的に合った優れた化合物
であること、すなわち、４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホンの紫外部吸収極大
は２４８ｎｍにあり、水銀灯の２５４ｎｍの光を有効に
利用することができることを見い出し、本発明を完成す
るに到った。
ペクトルを有効に利用できる化合物を開発すべくトリハ
ロゲノ基を有する光ラジカル開始剤に注目し、ベンゼン
環、ナフタレン環やビナフチルのように複数の環より構
成された芳香環、ピリジンやチオフェンのような複素環
化合物等を基本骨格とする種々のトリハロゲノ化合物を
合成した。そして得られた化合物の紫外線吸収を調べた
結果、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンが上記の目的に合った優れた化合物
であること、すなわち、４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホンの紫外部吸収極大
は２４８ｎｍにあり、水銀灯の２５４ｎｍの光を有効に
利用することができることを見い出し、本発明を完成す
るに到った。
【０００６】本発明は上記した知見をもとになされたも
のであり、その要旨は （１）式（１）で表される４−（フェニルスルホニル）
フェニル（トリブロモメチル）スルホン、
のであり、その要旨は （１）式（１）で表される４−（フェニルスルホニル）
フェニル（トリブロモメチル）スルホン、
【０００７】
【化６】 （２）式（２）で表される［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸またはその塩を酸化および臭素化するこ
とを特徴とする式（１）で表される４−（フェニルスル
ホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンの製造
方法、並びに
ニルチオ］酢酸またはその塩を酸化および臭素化するこ
とを特徴とする式（１）で表される４−（フェニルスル
ホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンの製造
方法、並びに
【０００８】
【化７】
【０００９】（３）式（３）で表される［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解し、
次いで酸化および臭素化することを特徴とする式（１）
で表される４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリ
ブロモメチル）スルホンの製造方法に関する。
ルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解し、
次いで酸化および臭素化することを特徴とする式（１）
で表される４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリ
ブロモメチル）スルホンの製造方法に関する。
【００１０】
【化８】
【００１１】すなわち、本発明は、新規な含硫黄化合物
であり、光重合開始剤として有用な式（１）で表される
４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホン、および該目的化合物を合成するための製
造方法に関するものである。前記製造方法に用いられる
中間体としては、［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸またはその塩、そのエステル、あるいは［４−
（フェニルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸が使
用される。
であり、光重合開始剤として有用な式（１）で表される
４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホン、および該目的化合物を合成するための製
造方法に関するものである。前記製造方法に用いられる
中間体としては、［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸またはその塩、そのエステル、あるいは［４−
（フェニルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸が使
用される。
【００１２】ここで塩としては、アルカリ金属塩が挙げ
られ、例えばナトリウム塩やカリウム塩が用いられる。
またエステル種としては特に限定されないが、炭素数１
〜６の脂肪族基が好ましく用いられる。具体的にはメチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、種々のペンチル基、種々のヘキシル基及びシクロヘ
キシル基等であり、例えば［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸のメチルエステル、エチルエステル等が
好適な例として挙げられる。
られ、例えばナトリウム塩やカリウム塩が用いられる。
またエステル種としては特に限定されないが、炭素数１
〜６の脂肪族基が好ましく用いられる。具体的にはメチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、種々のペンチル基、種々のヘキシル基及びシクロヘ
キシル基等であり、例えば［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸のメチルエステル、エチルエステル等が
好適な例として挙げられる。
【００１３】本発明の目的化合物である４−（フェニル
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン
（式（１）で表される化合物）の製造方法には種々の方
法が考えられるが、その一つとして本発明者らは前記の
ような中間体である［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸、その塩またはそのエステルを原料とする方法
について検討を加えた。これらの原料は４−フェニルチ
オベンゼンチオールとクロロ酢酸、ブロモ酢酸あるいは
それらのエステルとの反応により容易に合成することが
できる。４−フェニルチオベンゼンチオールは特願平３
−８６１６４で示したごとく、ジフェニルスルフィドと
一塩化硫黄を反応後還元処理すると容易に得られる。
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン
（式（１）で表される化合物）の製造方法には種々の方
法が考えられるが、その一つとして本発明者らは前記の
ような中間体である［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸、その塩またはそのエステルを原料とする方法
について検討を加えた。これらの原料は４−フェニルチ
オベンゼンチオールとクロロ酢酸、ブロモ酢酸あるいは
それらのエステルとの反応により容易に合成することが
できる。４−フェニルチオベンゼンチオールは特願平３
−８６１６４で示したごとく、ジフェニルスルフィドと
一塩化硫黄を反応後還元処理すると容易に得られる。
【００１４】４−フェニルチオベンゼンチオールとクロ
ロ酢酸、ブロモ酢酸あるいはそれらのエステルを反応さ
せて、中間体である［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸あるいはそれらのエステルを得る反応は、水あ
るいは水−有機溶媒系中で４−フェニルチオベンゼンチ
オールをアルカリ塩となし、そこにクロロ酢酸、ブロモ
酢酸あるいはそれらのエステルを加えて反応を行うこと
により得ることができる。
ロ酢酸、ブロモ酢酸あるいはそれらのエステルを反応さ
せて、中間体である［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸あるいはそれらのエステルを得る反応は、水あ
るいは水−有機溶媒系中で４−フェニルチオベンゼンチ
オールをアルカリ塩となし、そこにクロロ酢酸、ブロモ
酢酸あるいはそれらのエステルを加えて反応を行うこと
により得ることができる。
【００１５】その際に用いる有機溶媒としては、４−フ
ェニルチオベンゼンチオールの溶解能を有する化合物が
好ましく、その一例としてアルコール類、エーテル類等
を挙げることができる。前記クロロ酢酸またはブロモ酢
酸のエステルにおけるエステル種は、特に限定されない
が、炭素数１〜６の脂肪族基が好ましく用いられる。具
体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、種々のペンチル基、種々のヘキシル
基及びシクロヘキシル基等である。また加えるアルカリ
種については４−フェニルチオベンゼンチオールのチオ
ール基をアニオンとなし、求核性を強めさえすれば如何
なるアルカリ種でも用いることができるが、一般に水酸
化ナトリウム又は水酸化カリウムが好適に用いられる。
反応温度は特に制限はないが、クロロ酢酸あるいはその
エステルでは一般的に５０℃〜還流温度、ブロモ酢酸あ
るいはそのエステルでは３０℃〜還流温度が推奨され
る。
ェニルチオベンゼンチオールの溶解能を有する化合物が
好ましく、その一例としてアルコール類、エーテル類等
を挙げることができる。前記クロロ酢酸またはブロモ酢
酸のエステルにおけるエステル種は、特に限定されない
が、炭素数１〜６の脂肪族基が好ましく用いられる。具
体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、種々のペンチル基、種々のヘキシル
基及びシクロヘキシル基等である。また加えるアルカリ
種については４−フェニルチオベンゼンチオールのチオ
ール基をアニオンとなし、求核性を強めさえすれば如何
なるアルカリ種でも用いることができるが、一般に水酸
化ナトリウム又は水酸化カリウムが好適に用いられる。
反応温度は特に制限はないが、クロロ酢酸あるいはその
エステルでは一般的に５０℃〜還流温度、ブロモ酢酸あ
るいはそのエステルでは３０℃〜還流温度が推奨され
る。
【００１６】この反応は容易に進む反応であり、副反応
を伴わないので高収率で生成物を得ることができる。反
応終了後、中間体の反応液からの単離は有機溶媒を用い
る抽出等により容易に行うことができる。また、［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸の塩は、４−フェ
ニルチオベンゼンチオールのアルカリ塩とクロロ酢酸又
はブロモ酢酸との反応生成物である［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸をアルカリで中和するか、４−
フェニルチオベンゼンチオールのアルカリ塩とクロロ酢
酸エステル又はブロモ酢酸エステルとの反応生成物であ
る［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸エステル
をアルカリ性下で加水分解することにより得られる。
を伴わないので高収率で生成物を得ることができる。反
応終了後、中間体の反応液からの単離は有機溶媒を用い
る抽出等により容易に行うことができる。また、［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸の塩は、４−フェ
ニルチオベンゼンチオールのアルカリ塩とクロロ酢酸又
はブロモ酢酸との反応生成物である［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸をアルカリで中和するか、４−
フェニルチオベンゼンチオールのアルカリ塩とクロロ酢
酸エステル又はブロモ酢酸エステルとの反応生成物であ
る［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸エステル
をアルカリ性下で加水分解することにより得られる。
【００１７】このようにして得られる中間体である、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸、その塩ま
たはそのエステルを原料とし、目的化合物である式
（１）で表される４−（フェニルスルホニル）フェニル
（トリブロモメチル）スルホンを製造する方法として、
次の（イ）〜（ハ）の方法が挙げられる。
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸、その塩ま
たはそのエステルを原料とし、目的化合物である式
（１）で表される４−（フェニルスルホニル）フェニル
（トリブロモメチル）スルホンを製造する方法として、
次の（イ）〜（ハ）の方法が挙げられる。
【００１８】（イ）［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸またはその塩を酸化し、次いで臭素化すること
による方法、例えば［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸を過酸化水素により酸化し、［４−（フェニル
スルホニル）フェニルスルホニル］酢酸となし、次いで
次亜臭素酸塩で処理して４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホンを得ることができ
る。
オ］酢酸またはその塩を酸化し、次いで臭素化すること
による方法、例えば［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸を過酸化水素により酸化し、［４−（フェニル
スルホニル）フェニルスルホニル］酢酸となし、次いで
次亜臭素酸塩で処理して４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホンを得ることができ
る。
【００１９】（ロ）［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸のエステルを加水分解し、次いで酸化および臭
素化することによる方法、例えば［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解後、得ら
れた［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を前記
（イ）と同様にして過酸化水素により酸化し、次いで次
亜臭素酸塩で処理するか、あるいは後記（ハ）と同様に
得られた［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を
次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法が挙げられる。
オ］酢酸のエステルを加水分解し、次いで酸化および臭
素化することによる方法、例えば［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解後、得ら
れた［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を前記
（イ）と同様にして過酸化水素により酸化し、次いで次
亜臭素酸塩で処理するか、あるいは後記（ハ）と同様に
得られた［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を
次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法が挙げられる。
【００２０】（ハ）［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸またはその塩を、次亜臭素酸塩を用いて酸化お
よび臭素化を同時に行うことによる方法、例えば［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を次亜臭素酸塩で
処理する方法が挙げられる。
オ］酢酸またはその塩を、次亜臭素酸塩を用いて酸化お
よび臭素化を同時に行うことによる方法、例えば［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を次亜臭素酸塩で
処理する方法が挙げられる。
【００２１】前記（イ）において、［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸を過酸化水素で酸化するには、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸と水あるい
は水−有機溶媒混合溶媒よりなる混合物をほぼ理論量の
過酸化水素で処理すると［４−（フェニルスルホニル）
フェニルスルホニル］酢酸となる。過酸化水素の使用量
は［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸に対して
通常４．０〜４．４倍モルが好ましい。このときタング
ステン酸ナトリウム等を触媒として用いると反応が円滑
に進行する。タングステン酸ナトリウムを触媒とすると
きのｐＨは約１〜５が好ましい。反応温度は約４０℃〜
還流温度であればよく、反応時間は約１０分〜３時間で
ある。
オ）フェニルチオ］酢酸を過酸化水素で酸化するには、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸と水あるい
は水−有機溶媒混合溶媒よりなる混合物をほぼ理論量の
過酸化水素で処理すると［４−（フェニルスルホニル）
フェニルスルホニル］酢酸となる。過酸化水素の使用量
は［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸に対して
通常４．０〜４．４倍モルが好ましい。このときタング
ステン酸ナトリウム等を触媒として用いると反応が円滑
に進行する。タングステン酸ナトリウムを触媒とすると
きのｐＨは約１〜５が好ましい。反応温度は約４０℃〜
還流温度であればよく、反応時間は約１０分〜３時間で
ある。
【００２２】次いで反応系にアルカリを加えて塩基性と
なし、次亜臭素酸塩を添加し、反応を行うことにより４
−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンを得ることができる。本発明で用いる次亜
臭素酸塩としては、次亜臭素酸ナトリウム、次亜臭素酸
カリウム等が挙げられるが、なかでも次亜臭素酸ナトリ
ウムが好適に用いられる。その濃度は任意の濃度のもの
が使用可能であり、実用的な見地からは１０〜３０％が
好適に用いられる。反応に用いる次亜臭素酸塩の使用量
は、最初に用いた［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸に対して通常３〜８倍モル量、好ましくは３．
１〜４．０倍モル量程度が好ましい。３倍モル量より少
ないと反応が完結せず、８倍モル量より多くを用いても
それに見合う効果がなく、経済的に不利である。反応が
進むと本発明の目的化合物である４−（フェニルスルホ
ニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンが反応液
から固体で析出してくる。
なし、次亜臭素酸塩を添加し、反応を行うことにより４
−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンを得ることができる。本発明で用いる次亜
臭素酸塩としては、次亜臭素酸ナトリウム、次亜臭素酸
カリウム等が挙げられるが、なかでも次亜臭素酸ナトリ
ウムが好適に用いられる。その濃度は任意の濃度のもの
が使用可能であり、実用的な見地からは１０〜３０％が
好適に用いられる。反応に用いる次亜臭素酸塩の使用量
は、最初に用いた［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸に対して通常３〜８倍モル量、好ましくは３．
１〜４．０倍モル量程度が好ましい。３倍モル量より少
ないと反応が完結せず、８倍モル量より多くを用いても
それに見合う効果がなく、経済的に不利である。反応が
進むと本発明の目的化合物である４−（フェニルスルホ
ニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンが反応液
から固体で析出してくる。
【００２３】前記（ロ）において、［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルは、簡単に加水分解
することができる。加水分解は酸性条件、塩基性条件の
いずれでも起こるが、塩基性条件下に行うのが一般的で
ある。アルカリ種は特に限定されないが、水酸化ナトリ
ウム又は水酸化カリウムにより反応液をアルカリ性にす
れば加水分解が進む。アルカリ量は基質である［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステルの当量
以上であれば問題はない。例えば、［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを含有する反応液に
水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを加える方法も有
効である。この加水分解は室温付近でも進むが、反応速
度を速める目的で加熱するのも有効である。加水分解後
又は加水分解を行いながらエステルの加水分解により生
じたアルコールを反応系外に追い出すと平衡がずれて加
水分解が進むので、酸性条件下でのエステルの加水分解
も可能である。酸性化には塩酸や硫酸が好適に用いられ
る。
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルは、簡単に加水分解
することができる。加水分解は酸性条件、塩基性条件の
いずれでも起こるが、塩基性条件下に行うのが一般的で
ある。アルカリ種は特に限定されないが、水酸化ナトリ
ウム又は水酸化カリウムにより反応液をアルカリ性にす
れば加水分解が進む。アルカリ量は基質である［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステルの当量
以上であれば問題はない。例えば、［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを含有する反応液に
水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを加える方法も有
効である。この加水分解は室温付近でも進むが、反応速
度を速める目的で加熱するのも有効である。加水分解後
又は加水分解を行いながらエステルの加水分解により生
じたアルコールを反応系外に追い出すと平衡がずれて加
水分解が進むので、酸性条件下でのエステルの加水分解
も可能である。酸性化には塩酸や硫酸が好適に用いられ
る。
【００２４】前記（ロ）において加水分解後は、得られ
た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を前記
（イ）と同様にして過酸化水素により酸化し、次いで次
亜臭素酸塩で処理してもよく、あるいは（ハ）と同様に
次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法でもよい。
た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を前記
（イ）と同様にして過酸化水素により酸化し、次いで次
亜臭素酸塩で処理してもよく、あるいは（ハ）と同様に
次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法でもよい。
【００２５】前記（ロ）あるいは前記（ハ）おいて、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を次亜臭素
酸塩で処理することにより、酸化および臭素化を同時に
行い、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンとすることができる。反応は水中、
又は水−有機溶媒混合溶液中等で行うことができる。有
機溶媒としては水と混和し得る溶媒であれば問題はな
く、ジオキサン等のエーテル系溶媒が好適である。例え
ば［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸と水又は
水−有機溶媒混合溶媒の混合物にアルカリを加え、つい
で次亜臭素酸塩を加えて反応を行う。反応に用いるアル
カリ種としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ金属の水酸化物が挙げられ、その量は［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸に対して０．１〜
５倍モルで十分である。
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を次亜臭素
酸塩で処理することにより、酸化および臭素化を同時に
行い、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンとすることができる。反応は水中、
又は水−有機溶媒混合溶液中等で行うことができる。有
機溶媒としては水と混和し得る溶媒であれば問題はな
く、ジオキサン等のエーテル系溶媒が好適である。例え
ば［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸と水又は
水−有機溶媒混合溶媒の混合物にアルカリを加え、つい
で次亜臭素酸塩を加えて反応を行う。反応に用いるアル
カリ種としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ金属の水酸化物が挙げられ、その量は［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸に対して０．１〜
５倍モルで十分である。
【００２６】ここで用いられる次亜臭素酸塩としても、
前記（イ）の場合と同様に次亜臭素酸ナトリウム、次亜
臭素酸カリウム等が挙げられるが、なかでも次亜臭素酸
ナトリウムが好適に用いられる。その濃度は任意の濃度
のものが使用可能であり、実用的な見地からは１０〜３
０％が好適に用いられる。用いる量は［４−（フェニル
チオ）フェニルチオ］酢酸に対して通常７〜１２倍モル
量、好ましくは７．１〜１０倍モル量程度である。７倍
モル量より少ないと反応が完結せず、１２倍モル量より
多くを用いてもそれに見合う効果がなく、経済的に不利
である。また、反応温度は３０〜１００℃が好ましく、
反応時間は通常１〜３時間である。
前記（イ）の場合と同様に次亜臭素酸ナトリウム、次亜
臭素酸カリウム等が挙げられるが、なかでも次亜臭素酸
ナトリウムが好適に用いられる。その濃度は任意の濃度
のものが使用可能であり、実用的な見地からは１０〜３
０％が好適に用いられる。用いる量は［４−（フェニル
チオ）フェニルチオ］酢酸に対して通常７〜１２倍モル
量、好ましくは７．１〜１０倍モル量程度である。７倍
モル量より少ないと反応が完結せず、１２倍モル量より
多くを用いてもそれに見合う効果がなく、経済的に不利
である。また、反応温度は３０〜１００℃が好ましく、
反応時間は通常１〜３時間である。
【００２７】本発明の目的化合物である４−（フェニル
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン
は、前記（イ）〜（ハ）のいずれの場合においても有機
溶媒で抽出するか、析出する結晶を濾過することにより
反応液から容易に取得することができる。
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン
は、前記（イ）〜（ハ）のいずれの場合においても有機
溶媒で抽出するか、析出する結晶を濾過することにより
反応液から容易に取得することができる。
【００２８】
【実施例】以下に参考例および実施例により本発明を具
体的に説明するが、本発明は本実施例により何等限定さ
れるものではない。
体的に説明するが、本発明は本実施例により何等限定さ
れるものではない。
【００２９】参考例１ ［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸の合成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール２．１９グラム
（０．０１０モル）、水酸化ナトリウム０．５２グラム
（０．０１３モル）、水４グラムよりなる混合物を８０
℃で３０分間加熱した。続いて、その反応液に同温度で
モノクロロ酢酸ナトリウム１．１２グラム（０．０１２
モル）及び水酸化ナトリウム０．５グラム（０．０１２
モル）を水４ｍｌに溶解させた液を滴下した。反応液を
１００℃に昇温し、同温度で３０分間加熱した。この反
応液を液体クロマトグラフィーで分析したところ、原料
の４−（フェニルチオ）ベンゼンチオールは消失してい
た。反応液を冷却、酸性化した後にイソプロパノール−
水より再結晶することにより白色結晶の［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸２．１グラム（０．００８
モル）を取得した。収率７６％、融点９６．０〜９７．
５℃、 1Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ3 ）７．２５〜７．３
５（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、３．６４（ｓ，２Ｈ，ＣＨ
2 ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢｒ）３０８０−３０００、１
７１０、１５９０、１４９０、１４４０、１４００、９
３０、ＭＳ ｍ／ｅ ２７６（Ｍ+）、２３１、２１
７、１８５、１０９、７７
（０．０１０モル）、水酸化ナトリウム０．５２グラム
（０．０１３モル）、水４グラムよりなる混合物を８０
℃で３０分間加熱した。続いて、その反応液に同温度で
モノクロロ酢酸ナトリウム１．１２グラム（０．０１２
モル）及び水酸化ナトリウム０．５グラム（０．０１２
モル）を水４ｍｌに溶解させた液を滴下した。反応液を
１００℃に昇温し、同温度で３０分間加熱した。この反
応液を液体クロマトグラフィーで分析したところ、原料
の４−（フェニルチオ）ベンゼンチオールは消失してい
た。反応液を冷却、酸性化した後にイソプロパノール−
水より再結晶することにより白色結晶の［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸２．１グラム（０．００８
モル）を取得した。収率７６％、融点９６．０〜９７．
５℃、 1Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ3 ）７．２５〜７．３
５（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、３．６４（ｓ，２Ｈ，ＣＨ
2 ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢｒ）３０８０−３０００、１
７１０、１５９０、１４９０、１４４０、１４００、９
３０、ＭＳ ｍ／ｅ ２７６（Ｍ+）、２３１、２１
７、１８５、１０９、７７
【００３０】参考例２ ［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸メチルの合
成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール１０．９グラム
（０．０５０モル）、水酸化ナトリウム２．０グラム
（０．０５モル）、水５０グラム及びメタノール３０グ
ラムよりなる混合物にブロモ酢酸メチル７．７グラム
（０．０５０モル）を滴下し、その反応液を還流下に３
０分間加熱した。この反応液よりメタノールを留去後、
残留水層を塩化メチレン５０グラムで抽出した。この抽
出液を水５０グラムで洗浄後、塩化メチレンを留去し、
さらに減圧蒸留して液状の［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸メチル１２．３グラム（０．０４２モ
ル）を取得した。収率８４％、沸点２５０℃／５Ｔｏｒ
ｒ、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ3 ）７．２〜７．４
（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、３．７１（ｓ，３Ｈ，Ｃ
Ｈ3 ）、、３．６２（ｓ，２Ｈ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢ
ｒ）３０７０、１７４５、１５９２、１４８８、１４５
０、１４００、１２９５、１１６０、１０２０、８２
０、７４５、７００、ＭＳ ｍ／ｅ ２９０（Ｍ+ ）、
２３０、２１７、１８４、１５３、１０９、５９
成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール１０．９グラム
（０．０５０モル）、水酸化ナトリウム２．０グラム
（０．０５モル）、水５０グラム及びメタノール３０グ
ラムよりなる混合物にブロモ酢酸メチル７．７グラム
（０．０５０モル）を滴下し、その反応液を還流下に３
０分間加熱した。この反応液よりメタノールを留去後、
残留水層を塩化メチレン５０グラムで抽出した。この抽
出液を水５０グラムで洗浄後、塩化メチレンを留去し、
さらに減圧蒸留して液状の［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸メチル１２．３グラム（０．０４２モ
ル）を取得した。収率８４％、沸点２５０℃／５Ｔｏｒ
ｒ、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ3 ）７．２〜７．４
（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、３．７１（ｓ，３Ｈ，Ｃ
Ｈ3 ）、、３．６２（ｓ，２Ｈ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢ
ｒ）３０７０、１７４５、１５９２、１４８８、１４５
０、１４００、１２９５、１１６０、１０２０、８２
０、７４５、７００、ＭＳ ｍ／ｅ ２９０（Ｍ+ ）、
２３０、２１７、１８４、１５３、１０９、５９
【００３１】参考例３ ［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸エチルの合
成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール１０．９グラム
（０．０５０モル）、水酸化ナトリウム２．０グラム
（０．０５モル）、水４０グラム及びメタノール３０グ
ラムよりなる混合物にブロモ酢酸エチル８．４グラム
（０．０５０モル）を滴下し、その反応液を還流下に３
０分間加熱した。この反応液よりメタノールを留去後、
残留水層を塩化メチレン５０グラムで抽出した。この抽
出液を水５０グラムで洗浄後、塩化メチレンを留去し、
さらに減圧蒸留して液状の［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸エチル１２．９グラム（０．０４２モ
ル）を取得した。収率８４％、沸点２５０℃／２Ｔｏｒ
ｒ、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ3 ）７．１〜７．４
（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、４．１６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ）、３．６０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2 ）、１．２
２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢ
ｒ）３０６４、２９８８、１７３８、１５８２、１４８
０、１４４４、１４１２、１３９２、１３６８、１２７
２、１１３２、１１０４、１０２４、８１２、７３８、
６９０、ＭＳ ｍ／ｅ ３０４（Ｍ+ ）、２３０、２１
７、１８４、１５３、１０９、７７、２９
成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール１０．９グラム
（０．０５０モル）、水酸化ナトリウム２．０グラム
（０．０５モル）、水４０グラム及びメタノール３０グ
ラムよりなる混合物にブロモ酢酸エチル８．４グラム
（０．０５０モル）を滴下し、その反応液を還流下に３
０分間加熱した。この反応液よりメタノールを留去後、
残留水層を塩化メチレン５０グラムで抽出した。この抽
出液を水５０グラムで洗浄後、塩化メチレンを留去し、
さらに減圧蒸留して液状の［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸エチル１２．９グラム（０．０４２モ
ル）を取得した。収率８４％、沸点２５０℃／２Ｔｏｒ
ｒ、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ3 ）７．１〜７．４
（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、４．１６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ）、３．６０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2 ）、１．２
２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢ
ｒ）３０６４、２９８８、１７３８、１５８２、１４８
０、１４４４、１４１２、１３９２、１３６８、１２７
２、１１３２、１１０４、１０２４、８１２、７３８、
６９０、ＭＳ ｍ／ｅ ３０４（Ｍ+ ）、２３０、２１
７、１８４、１５３、１０９、７７、２９
【００３２】参考例４ ［４−（フェニルスルホニル）フェニルスルホニル］酢
酸の合成 参考例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）を水
３０グラム及びジオキサン２０グラムよりなる混合溶媒
に溶解し、硫酸でｐＨ２とした。ここにタングステン酸
ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１００℃に昇
温した後に３５％過酸化水素４．０グラム（０．０４１
モル）を滴下した。反応液よりジオキサンを留去し、残
った水層をトルエンで抽出した。抽出トルエンは無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濃縮乾固すると［４−（フェニ
ルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸が３．３グラ
ム（０．００９７モル）得られた。収率９７％、融点１
８９〜１９０℃
酸の合成 参考例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）を水
３０グラム及びジオキサン２０グラムよりなる混合溶媒
に溶解し、硫酸でｐＨ２とした。ここにタングステン酸
ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１００℃に昇
温した後に３５％過酸化水素４．０グラム（０．０４１
モル）を滴下した。反応液よりジオキサンを留去し、残
った水層をトルエンで抽出した。抽出トルエンは無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濃縮乾固すると［４−（フェニ
ルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸が３．３グラ
ム（０．００９７モル）得られた。収率９７％、融点１
８９〜１９０℃
【００３３】実施例１ ４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンの合成参考 例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）に１
５％水酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モ
ル）、水２０グラムを添加した。氷冷下、１５％水酸化
ナトリウム６６．７グラム（０．２５モル）と臭素１
６．０グラム（０．１０モル）とにより調合した次亜臭
素酸ナトリウム溶液を１０分間で滴下し、反応液を６０
℃に昇温し、同温度で２時間加熱した。４−（フェニル
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンの
収量は４．９７ｇ（０．００９３モル）であった。収率
９３％、融点２１７〜２１８℃、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（Ｃ
ＤＣｌ3 ）８．５〜７．６（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、Ｉ
Ｒ ｃｍ-1（ＫＢｒ）１３４５、１１６０、７３０、６
７５、６２０、ＭＳ ｍ／ｅ ５３６、５３４、５３
２、５２０、４５５、４５３、４５１、２８１、２５
５、２５３、２５１、２４９、２１７、１４１、７７、
紫外部吸収極大２４９ｎｍ
ル）スルホンの合成参考 例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）に１
５％水酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モ
ル）、水２０グラムを添加した。氷冷下、１５％水酸化
ナトリウム６６．７グラム（０．２５モル）と臭素１
６．０グラム（０．１０モル）とにより調合した次亜臭
素酸ナトリウム溶液を１０分間で滴下し、反応液を６０
℃に昇温し、同温度で２時間加熱した。４−（フェニル
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンの
収量は４．９７ｇ（０．００９３モル）であった。収率
９３％、融点２１７〜２１８℃、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（Ｃ
ＤＣｌ3 ）８．５〜７．６（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、Ｉ
Ｒ ｃｍ-1（ＫＢｒ）１３４５、１１６０、７３０、６
７５、６２０、ＭＳ ｍ／ｅ ５３６、５３４、５３
２、５２０、４５５、４５３、４５１、２８１、２５
５、２５３、２５１、２４９、２１７、１４１、７７、
紫外部吸収極大２４９ｎｍ
【００３４】実施例２ ４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンの合成参考 例２で得た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸メチル２．９０グラム（０．０１０モル）に１５％
水酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モル）、水
２０グラムを添加し、８０℃で１時間加熱した。つい
で、この液を氷冷下、１５％水酸化ナトリウム６６．７
グラム（０．２５モル）と臭素１６．０グラム（０．１
０モル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリウム溶液を
１０分間で滴下した。反応液を６０℃に昇温し、同温度
で２時間加熱した。反応液を冷却した後析出した結晶を
濾過することにより、４−（フェニルスルホニル）フェ
ニル（トリブロモメチル）スルホンを４．５５ｇ（０．
００８５モル）取得した。収率８５％、融点２１７〜２
１８℃
ル）スルホンの合成参考 例２で得た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸メチル２．９０グラム（０．０１０モル）に１５％
水酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モル）、水
２０グラムを添加し、８０℃で１時間加熱した。つい
で、この液を氷冷下、１５％水酸化ナトリウム６６．７
グラム（０．２５モル）と臭素１６．０グラム（０．１
０モル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリウム溶液を
１０分間で滴下した。反応液を６０℃に昇温し、同温度
で２時間加熱した。反応液を冷却した後析出した結晶を
濾過することにより、４−（フェニルスルホニル）フェ
ニル（トリブロモメチル）スルホンを４．５５ｇ（０．
００８５モル）取得した。収率８５％、融点２１７〜２
１８℃
【００３５】実施例３ ４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンの合成参考 例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）を水
３０グラム及びジオキサン２０グラムよりなる混合溶媒
に溶解し、硫酸でｐＨ２とした。ここにタングステン酸
ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１００℃に昇
温した後に３５％過酸化水素４．０グラム（０．０４１
モル）を滴下した。この反応液に１５％水酸化ナトリウ
ム４．０グラム（０．０１５モル）、水２０グラムを添
加し、氷冷下、１５％水酸化ナトリウム２２．０グラム
（０．０８３モル）と臭素５．３グラム（０．０３３モ
ル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリウム溶液を１０
分間で滴下し、反応液を６０℃に昇温し、同温度で２時
間加熱した。反応液を冷却した後析出した結晶を濾過
し、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモ
メチル）スルホン４．７０グラム（０．００８８モル）
を取得した。収率８８％、融点２１７〜２１８℃
ル）スルホンの合成参考 例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）を水
３０グラム及びジオキサン２０グラムよりなる混合溶媒
に溶解し、硫酸でｐＨ２とした。ここにタングステン酸
ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１００℃に昇
温した後に３５％過酸化水素４．０グラム（０．０４１
モル）を滴下した。この反応液に１５％水酸化ナトリウ
ム４．０グラム（０．０１５モル）、水２０グラムを添
加し、氷冷下、１５％水酸化ナトリウム２２．０グラム
（０．０８３モル）と臭素５．３グラム（０．０３３モ
ル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリウム溶液を１０
分間で滴下し、反応液を６０℃に昇温し、同温度で２時
間加熱した。反応液を冷却した後析出した結晶を濾過
し、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモ
メチル）スルホン４．７０グラム（０．００８８モル）
を取得した。収率８８％、融点２１７〜２１８℃
【００３６】実施例４ ４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンの合成参考 例３で得た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸エチル３．０４グラム（０．０１０モル）に水２０
グラムを添加し、硫酸でｐＨを１とした。１００℃で加
熱し、途中生じたエタノールは留去した。ついで、この
液に水１０ｍｌおよびジオキサン３０ｍｌを加え、水酸
化ナトリウムで反応液のｐＨを２とした。ここにタング
ステン酸ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１０
０℃に昇温した後に３５％過酸化水素４．０グラム
（０．０４１モル）を滴下した。この反応液に１５％水
酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モル）、水２
０グラムを添加し、氷冷下、１５％水酸化ナトリウム２
２．０グラム（０．０８３モル）と臭素５．３グラム
（０．０３３モル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリ
ウム溶液を１０分間で滴下し、反応液を６０℃に昇温
し、同温度で２時間加熱した。反応液を冷却した後析出
した結晶を濾過し、４−（フェニルスルホニル）フェニ
ル（トリブロモメチル）スルホン４．７７グラム（０．
００８９モル）を取得した。収率８９％、融点２１７〜
２１９℃
ル）スルホンの合成参考 例３で得た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸エチル３．０４グラム（０．０１０モル）に水２０
グラムを添加し、硫酸でｐＨを１とした。１００℃で加
熱し、途中生じたエタノールは留去した。ついで、この
液に水１０ｍｌおよびジオキサン３０ｍｌを加え、水酸
化ナトリウムで反応液のｐＨを２とした。ここにタング
ステン酸ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１０
０℃に昇温した後に３５％過酸化水素４．０グラム
（０．０４１モル）を滴下した。この反応液に１５％水
酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モル）、水２
０グラムを添加し、氷冷下、１５％水酸化ナトリウム２
２．０グラム（０．０８３モル）と臭素５．３グラム
（０．０３３モル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリ
ウム溶液を１０分間で滴下し、反応液を６０℃に昇温
し、同温度で２時間加熱した。反応液を冷却した後析出
した結晶を濾過し、４−（フェニルスルホニル）フェニ
ル（トリブロモメチル）スルホン４．７７グラム（０．
００８９モル）を取得した。収率８９％、融点２１７〜
２１９℃
【００３７】
【発明の効果】従来、光照射によりラジカルを生じる化
合物は一般に紫外部吸収極大が２３０ｎｍよりも小さい
ために水銀灯の光を利用するために増感剤と一緒に用い
る必要があった。しかし、本発明の化合物、４−（フェ
ニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホ
ンは、紫外部極大吸収を２４９ｎｍに有するため、紫外
線の有効波長２５４ｎｍを増感剤を用いなくても直接利
用できる可能性があり、その意義は大きい。
合物は一般に紫外部吸収極大が２３０ｎｍよりも小さい
ために水銀灯の光を利用するために増感剤と一緒に用い
る必要があった。しかし、本発明の化合物、４−（フェ
ニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホ
ンは、紫外部極大吸収を２４９ｎｍに有するため、紫外
線の有効波長２５４ｎｍを増感剤を用いなくても直接利
用できる可能性があり、その意義は大きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林坂 徳之 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１ 住友精化株式会社第１研究所内 (56)参考文献 特開 昭49−54525（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−211454（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 317/00 C07C 315/00 C07C 323/00 A01N 41/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (6)
- 【請求項１】 式（１）で表される４−（フェニルスル
ホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン。 【化１】 - 【請求項２】 式（２）で表される［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸またはその塩を酸化および臭素
化することを特徴とする式（１）で表される４−（フェ
ニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホ
ンの製造方法。 【化２】 【化３】 - 【請求項３】 式（３）で表される［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解し、次い
で酸化および臭素化することを特徴とする式（１）で表
される４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンの製造方法。 【化４】 【化５】 - 【請求項４】 酸化を、過酸化水素を用いて行う請求項
２または３記載の製造方法。 - 【請求項５】 臭素化を、次亜臭素酸塩を用いて行う請
求項２または３記載の製造方法。 - 【請求項６】 酸化および臭素化を次亜臭素酸を用いて
同時に行う請求項２または３記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07915892A JP3159767B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07915892A JP3159767B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH05239015A JPH05239015A (ja) | 1993-09-17 |
| JP3159767B2 true JP3159767B2 (ja) | 2001-04-23 |
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Family Applications (1)
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| JP07915892A Expired - Fee Related JP3159767B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 |
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| JP5913938B2 (ja) | 2011-11-30 | 2016-05-11 | 富士フイルム株式会社 | 光拡散性転写材料、光拡散層の形成方法、及び有機電界発光装置の製造方法 |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP07915892A patent/JP3159767B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH05239015A (ja) | 1993-09-17 |
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