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JP3099235B2 - Wafer inspection equipment - Google Patents

Wafer inspection equipment

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JP3099235B2
JP3099235B2 JP05200795A JP20079593A JP3099235B2 JP 3099235 B2 JP3099235 B2 JP 3099235B2 JP 05200795 A JP05200795 A JP 05200795A JP 20079593 A JP20079593 A JP 20079593A JP 3099235 B2 JP3099235 B2 JP 3099235B2
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JP
Japan
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wafer
tray
inspection
center
gravity
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康行 飯田
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はウエハ搬送方法とその装
置並びにウエハ検査装置に係り、特に半導体ウエハの表
面に多数形成された電気素子回路の電気特性を検査する
ウエハ検査装置と、このウエハ検査装置に適応される検
査対象ウエハの搬送方法とその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for transferring a wafer and a wafer inspection apparatus, and more particularly to a wafer inspection apparatus for inspecting electrical characteristics of a large number of electric element circuits formed on the surface of a semiconductor wafer, and this wafer inspection apparatus. The present invention relates to a method of transporting a wafer to be inspected, which is adapted to the apparatus, and an apparatus therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハは、その表面に同一の電気
素子回路が多数形成されており、この電気素子回路を各
チップとして切断する前に各電気素子回路の形成品質を
検査すべく、ウエハプローバと称されるウエハ検査装置
によって電気素子回路毎にその良・不良が判定される。
2. Description of the Related Art A semiconductor wafer has a large number of identical electric element circuits formed on its surface. Before cutting the electric element circuits into individual chips, a wafer prober is used to inspect the formation quality of each electric element circuit. Is determined for each electric element circuit by a wafer inspection apparatus referred to as "electric circuit".

【0003】前記ウエハ検査装置は、カセットストック
部、ウエハ取出部、ウエハ搬送部、検査用テーブル、及
びウエハ検査部等から構成される。前記カセットスット
ク部には、検査対象のウエハを多数枚収納したカセット
が取り付けられており、このウエハは前記ウエハ取出部
によってカセットから前記ウエハ搬送部に1枚づつ送り
出されたのち、ウエハ搬送部によって前記検査用テーブ
ルまで搬送される。
The wafer inspection apparatus includes a cassette stock unit, a wafer take-out unit, a wafer transfer unit, an inspection table, a wafer inspection unit, and the like. A cassette accommodating a large number of wafers to be inspected is attached to the cassette stock unit. The wafers are sent out from the cassette to the wafer transfer unit one by one by the wafer unloading unit, and then are transferred by the wafer transfer unit. It is transported to the inspection table.

【0004】前記ウエハ搬送部は、コンベア部と吸着搬
送部とから構成され、このコンベア部によってウエハを
前記カセットから前記吸着搬送部の吸着位置まで搬送す
る。そして、吸着位置に位置したウエハの中心を吸着搬
送部で吸着保持したのち、このウエハを前記検査用テー
ブルまで搬送する。検査用テーブルは、吸着搬送部で搬
送された前記ウエハを吸着保持し、素子検査時にその素
子配列に従ったX−Y方向の水平移動と、Z方向の上下
移動を行う。
The wafer transfer section includes a conveyor section and a suction transfer section. The conveyor section transfers wafers from the cassette to a suction position of the suction transfer section. Then, after the center of the wafer located at the suction position is suction-held by the suction transfer unit, the wafer is transferred to the inspection table. The inspection table suction-holds the wafer transferred by the suction transfer unit, and performs horizontal movement in the X-Y direction and vertical movement in the Z direction according to the element arrangement at the time of element inspection.

【0005】前記ウエハ検査部は、プローブステージと
テスタ等から構成される。プローブステージには、検査
対象のウエハに対応したプローブカードが取り付けられ
ており、このプローブカードに設けられたプローブニー
ドルに電気素子回路の各電極パッドを当接させることに
よって、各電気素子回路の形成品質が前記テスタによっ
て順次検査判定される。
[0005] The wafer inspection section comprises a probe stage, a tester and the like. A probe card corresponding to the wafer to be inspected is attached to the probe stage, and each electrode pad of the electric element circuit is brought into contact with a probe needle provided on the probe card to form each electric element circuit. The quality is sequentially inspected and determined by the tester.

【0006】検査終了したウエハは、不良と判断された
電気素子回路にマークが付されたのち、ウエハ搬送部の
前記吸着搬送部、及びコンベア部によって検査用テーブ
ルから前記カセットまでアンロードされてカセットの元
の棚に戻される。
[0006] After the inspection, the wafer is marked with an electrical element circuit determined to be defective, and then unloaded from the inspection table to the cassette by the suction transfer unit and the conveyor unit of the wafer transfer unit, and the cassette is unloaded. Returned to the original shelf.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来のウエハ検査装置
では、検査対象のウエハが定形のものであれば搬送、検
査、及びアンロードを前述したように自動で行うことが
できる。しかし、ウエハが割れウエハであると、コンベ
ア部による搬送中にウエハがバランスを崩してコンベア
部から脱落したり、吸着搬送部による搬送中にウエハが
バランスを崩して吸着搬送部から落下したりするという
虞がある。
In the conventional wafer inspection apparatus, the transfer, inspection, and unloading can be automatically performed as described above if the wafer to be inspected has a fixed shape. However, if the wafer is a broken wafer, the wafer loses its balance and drops off from the conveyor unit during the transfer by the conveyor unit, or the wafer loses its balance and drops from the suction transfer unit during the transfer by the suction transfer unit. There is a fear that.

【0008】そこで、従来、前記割れウエハを検査する
場合には、作業者がウエハを1枚づつ検査用テーブル上
に載置し、そして、検査終了したウエハを検査用テーブ
ルから取り出すようにしている。本発明は、このような
事情に鑑みてなされたもので、割れウエハでも搬送、検
査、及びアンロードを自動で行うことができるウエハ搬
送方法とその装置並びにウエハ検査装置を提供すること
を目的とする。
Therefore, conventionally, when inspecting the broken wafer, an operator places the wafers one by one on an inspection table and removes the inspected wafer from the inspection table. . The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a wafer transfer method and apparatus capable of automatically performing transfer, inspection, and unloading of a broken wafer, and an apparatus thereof, and a wafer inspection apparatus. I do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成する為に、ウエハが1枚づつ載置されたトレイが複数
枚収納されたトレイ収納部と、前記トレイ収納部に収納
され前記ウエハを載置した前記トレイを、該トレイ収納
部から1枚づつ取り出すトレイ取出手段と、前記トレイ
取出手段で取り出されたトレイ上のウエハの外形形状を
撮像する撮影手段と、前記撮影手段から出力される前記
ウエハの外形形状を示す映像信号を画像処理して該ウエ
ハの重心を検出すると共に、該ウエハの外形形状信号を
出力する画像処理手段と、前記画像処理手段で検出され
た前記ウエハの重心の部分を吸着保持して該ウエハを前
記トレイから取り出してウエハ検査部に搬送するウエハ
の第1の搬送手段と、前記ウエハ検査部に搬送されたウ
エハを吸着保持する検査用テーブルと、前記検査用テー
ブルに吸着保持されたウエハをアライメントするアライ
メント手段と、前記アライメント手段でアライメントさ
れたウエハを、前記画像処理手段から出力されるウエハ
の外形形状信号に基づいてウエハの外形に沿って検査す
るプローブ手段と、前記プローブ手段で検査終了したウ
エハの重心の部分を吸着搬送して該ウエハを前記トレイ
に戻すウエハの第2の搬送手段と、前記ウエハの第2の
搬送手段によってウエハが載置された前記トレイを前記
トレイ収納部に収納するトレイ収納手段と、を備えたこ
とを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a tray storage section in which a plurality of trays on which wafers are placed one by one are stored, and the tray storage section stores the trays in the tray storage section. A tray taking-out means for taking out the trays on which the wafers are placed one by one from the tray accommodating section, a photographing means for taking an image of the outer shape of the wafer on the tray taken out by the tray taking-out means, Image processing means for performing image processing of a video signal indicating the outer shape of the wafer to detect the center of gravity of the wafer, and outputting an outer shape signal of the wafer; and processing the image signal of the wafer detected by the image processing means. A first transfer unit for transferring the wafer by taking out the wafer from the tray while holding the center of gravity by suction and transferring the wafer to the wafer inspection unit; and holding the wafer carried by the wafer inspection unit by suction. An inspection table, an alignment means for aligning the wafer sucked and held on the inspection table, and a wafer aligned by the alignment means, based on a wafer outer shape signal output from the image processing means. Probe means for inspecting the wafer along the outer shape, second conveying means for transferring the wafer to the tray by sucking and conveying the center of gravity of the wafer which has been inspected by the probe means, and second conveying the wafer Tray storage means for storing the tray on which the wafers are placed by the means in the tray storage section.

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【作用】本発明によれば、撮影手段でウエハの外形形状
を撮像し、この撮影手段から出力されるウエハの外形形
状を示す映像信号を画像処理手段によって画像処理して
ウエハの重心を検出する。そして、この重心の部分をウ
エハ搬送手段で吸着保持してウエハを搬送する。これに
より、割れウエハでも、搬送中にバランスが崩れること
はないので、落下することなく円滑に搬送できる。
According to the present invention, the outer shape of the wafer is imaged by the photographing means, and a video signal indicating the outer shape of the wafer output from the photographing means is image-processed by the image processing means to detect the center of gravity of the wafer. . The center of gravity is suction-held by the wafer transfer means to transfer the wafer. Thus, even if the wafer is broken, the balance is not lost during the transfer, and the wafer can be smoothly transferred without falling.

【0013】また、本発明のウエハ検査装置によれば、
トレイ収納部に収納されたトレイを、トレイ取出手段に
よってウエハと共にトレイ収納部から1枚づつ取り出
す。次に、取り出されたトレイ上のウエハの外形形状を
撮影手段で撮像し、この撮影手段から出力されるウエハ
の外形形状を示す映像信号を画像処理手段によって画像
処理してウエハの重心を検出する。次いで、この重心の
部分をウエハの第1の搬送手段で吸着保持してウエハを
トレイから取り出してウエハ検査部に搬送し、検査用テ
ーブルで吸着保持する。そして、検査用テーブル上のウ
エハをアライメント手段によってアライメントしたの
ち、前記画像処理手段から出力されるウエハの外形形状
信号に基づいてウエハをウエハの外形に沿って検査す
る。そして、検査終了したウエハの重心の部分を、ウエ
ハの第2の搬送手段によって吸着保持して搬送し前記ト
レイに戻す。そして、ウエハが載置されたトレイを、ト
レイ収納手段によって前記トレイ収納部に収納する。
According to the wafer inspection apparatus of the present invention,
The trays stored in the tray storage section are taken out one by one from the tray storage section together with the wafers by the tray take-out means. Next, the outer shape of the wafer on the taken-out tray is imaged by the photographing means, and a video signal indicating the outer shape of the wafer output from the photographing means is image-processed by the image processing means to detect the center of gravity of the wafer. . Then, the center of gravity is suction-held by the first transfer means for the wafer, the wafer is taken out of the tray, transferred to the wafer inspection unit, and suction-held by the inspection table. Then, after aligning the wafer on the inspection table by the alignment means, the wafer is inspected along the outer shape of the wafer based on the outer shape signal of the wafer output from the image processing means. Then, the portion of the center of gravity of the inspected wafer is suction-held by the second transfer means for the wafer, transferred, and returned to the tray. Then, the tray on which the wafer is placed is stored in the tray storage section by the tray storage means.

【0014】また、前記プローブ手段は、ウエハの重心
を始点として検査する。
Further, the probe means performs inspection with the center of gravity of the wafer as a starting point.

【0015】[0015]

【実施例】以下添付図面に従って本発明に係るウエハ搬
送方法とその装置並びにウエハ検査装置の好ましい実施
例を詳説する。図1は本発明に係るウエハ搬送方法とそ
の装置が適用されたウエハ検査装置10の実施例を示す
斜視図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a wafer transfer method and apparatus and a wafer inspection apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a wafer transfer method according to the present invention and a wafer inspection apparatus 10 to which the apparatus is applied.

【0016】前記ウエハ検査装置10は、カセットスト
ック部12、ロードプッシャー14、搬送ベルト16、
トレイガイド18、トレイ回転用チャック20、形状認
識用カメラ22、プリアライメント用カメラ24、ウエ
ハ吸着コレット26、搬送アーム28、検査用テーブル
30、検査部32、アンロードアーム34、アンロード
チャック36、及びアンロードプッシャー38等から構
成される。
The wafer inspection apparatus 10 includes a cassette stock unit 12, a load pusher 14, a transport belt 16,
Tray guide 18, tray rotation chuck 20, shape recognition camera 22, pre-alignment camera 24, wafer suction collet 26, transfer arm 28, inspection table 30, inspection unit 32, unload arm 34, unload chuck 36, And an unload pusher 38.

【0017】前記カセットストック部12は、図示しな
いエレベータ機構を有し、このエレベータ機構の動作に
より昇降移動するプレート40上にカセット42が載置
されている。前記カセット42には図2に示すように、
割れウエハ46が1枚づつ載置されたトレイ44が複数
枚収納される。この割れウエハ46の表面には、多数の
電気素子回路47、47…が形成されている。
The cassette stock unit 12 has an elevator mechanism (not shown), and a cassette 42 is mounted on a plate 40 which moves up and down by the operation of the elevator mechanism. As shown in FIG.
A plurality of trays 44 on which cracked wafers 46 are placed one by one are stored. A large number of electric element circuits 47 are formed on the surface of the cracked wafer 46.

【0018】前記トレイ44は、円板状に形成されると
共にその周縁に突条部48が形成されて割れウエハ46
がトレイ44から脱落するのを防止している。また、ト
レイ44の表面には、ゴム製のシート材50が敷かれて
割れウエハ46がトレイ44に対して滑るのを防止して
いる。更に、トレイ44の中央部には、後述する開口部
52が形成されている。
The tray 44 is formed in a disk shape and has a ridge 48 formed on the periphery thereof to form a broken wafer 46.
Is prevented from dropping from the tray 44. Further, a rubber sheet material 50 is spread on the surface of the tray 44 to prevent the broken wafer 46 from slipping on the tray 44. Further, an opening 52 to be described later is formed in the center of the tray 44.

【0019】前記ロードプッシャー14は図1中矢印方
向に往復移動可能に設けられ、前記カセット42に向け
て駆動された際に、カセット42の所定の棚に収納され
たトレイ44をウエハ46と共にカセット42から前記
搬送ベルト16、16上に向けて押し出すことができ
る。前記搬送ベルト16、16は図3に示すように、ト
レイ44が搬送中にベルト16から脱落しない間隔で配
設され、図3中矢印で示す搬送方向に駆動されることに
よりトレイ44を前記トレイガイド18に向けて搬送す
ることができる。また、搬送ベルト16、16は、先に
説明した搬送方向とは逆方向に、即ちアンロード方向に
駆動されることによりトレイ44を前記カセット42に
向けてアンロードすることができる。
The load pusher 14 is provided so as to be reciprocally movable in the direction of the arrow in FIG. 1, and when driven toward the cassette 42, the loader pushes the tray 44 stored on a predetermined shelf of the cassette 42 together with the wafer 46 into the cassette. It can be extruded from 42 onto the conveyor belts 16, 16. As shown in FIG. 3, the transport belts 16 are arranged at intervals such that the tray 44 does not fall off the belt 16 during transport, and are driven in the transport direction indicated by the arrow in FIG. It can be transported toward the guide 18. The transport belts 16, 16 can be unloaded from the tray 44 toward the cassette 42 by being driven in the direction opposite to the transport direction described above, that is, in the unload direction.

【0020】前記トレイガイド18には、トレイ44の
搬送方向に対向して弓状のガイド部54が形成される。
このガイド部54は、その曲率が前記トレイ44の外周
曲率と等しく形成されると共に、その曲率中心が前記搬
送ベルト16、16の搬送中心線56上に位置するよう
に配置されている。前記トレイ回転用チャック20は、
前記トレイガイド18に当接されたトレイ44の下方空
間において昇降移動可能に設けられる。また、トレイ回
転用チャック20は、上昇された際に前記トレイ44の
下面を吸着保持してトレイ44を図3中矢印A、Bで示
す方向に回動させることができる。
The tray guide 18 is formed with an arcuate guide portion 54 facing the direction in which the tray 44 is conveyed.
The guide portion 54 is formed such that its curvature is equal to the outer peripheral curvature of the tray 44 and the center of curvature is located on the transport center line 56 of the transport belts 16, 16. The tray rotation chuck 20 includes:
It is provided so as to be able to move up and down in a space below the tray 44 in contact with the tray guide 18. Further, the tray rotating chuck 20 can rotate the tray 44 in the directions indicated by arrows A and B in FIG.

【0021】前記形状認識用カメラ22は図1に示すよ
うに、前記トレイガイド18に当接されたトレイ44と
割れウエハ46の全体像を撮像することができる。ま
た、形状認識用カメラ22は、ウエハ検査装置10に内
設された画像処理装置(図示せず)に接続されている。
この画像処理装置は、形状認識用カメラ22から出力さ
れるトレイ44と割れウエハ46の映像信号を2値化処
理して割れウエハ46のみの外形形状を検出すると共
に、割れウエハ46の面積を算出することができる。そ
して、画像処理装置は、前記割れウエハ46の面積に基
づいて割れウエハ46の重心58を検出し、この重心5
8が図4に示すように前記搬送中心線56上に位置する
ように、前記トレイ回転チャック20を回動するモータ
に駆動信号を出力する。また、画像処理装置は、前記割
れウエハ46の外形形状信号を後述する検査部32に出
力する。
As shown in FIG. 1, the shape recognizing camera 22 can take an entire image of the tray 44 and the broken wafer 46 which are in contact with the tray guide 18. Further, the shape recognition camera 22 is connected to an image processing device (not shown) provided in the wafer inspection device 10.
This image processing apparatus binarizes the video signals of the tray 44 and the cracked wafer 46 output from the shape recognition camera 22 to detect the outer shape of only the cracked wafer 46 and calculates the area of the cracked wafer 46. can do. Then, the image processing apparatus detects the center of gravity 58 of the cracked wafer 46 based on the area of the cracked wafer 46, and
A drive signal is output to a motor that rotates the tray rotation chuck 20 so that 8 is positioned on the transport center line 56 as shown in FIG. Further, the image processing apparatus outputs an external shape signal of the broken wafer 46 to an inspection unit 32 described later.

【0022】前記プリアライメント用カメラ24は、重
心58が搬送中心線56上に位置された割れウエハ46
の電気素子回路47、47…のうち1つの電気素子回路
47を高倍率で撮像し、プリアライメントを行う。前記
ウエハ吸着コレット26は図1に示すように、前記搬送
アーム28の先端部に上下移動可能に設けられている。
このウエハ吸着コレット26は、搬送アーム28によっ
て前記割れウエハ46の上方に移動されたのち、下降さ
れて前記重心58の部分を吸着保持することができる。
また、前記搬送アーム28は、重心58の部分を吸着保
持した前記ウエハ吸着コレット26を図5に示すように
検査用テーブル30上に移動することができる。
The pre-alignment camera 24 includes a broken wafer 46 whose center of gravity 58 is located on the transfer center line 56.
, One of the electric element circuits 47, 47... Is imaged at a high magnification and pre-alignment is performed. As shown in FIG. 1, the wafer suction collet 26 is provided at the tip of the transfer arm 28 so as to be vertically movable.
After being moved above the broken wafer 46 by the transfer arm 28, the wafer suction collet 26 can be lowered to hold the center of gravity 58 by suction.
Further, the transfer arm 28 can move the wafer suction collet 26 holding the center of gravity 58 by suction onto the inspection table 30 as shown in FIG.

【0023】前記検査用テーブル30は、X−Y−Z移
動機構60上に設けられ、このX−Y−Z移動機構60
によってX−Y方向に水平移動されると共に、Z方向に
上下移動される。また、検査用テーブル30の中央部に
は、ウエハ46を真空吸着する吸引口62が開口される
と共に、この吸引口62内には真空吸着されたウエハ4
6を検査用テーブル30から押し上げるためのロッド6
4が昇降自在に設けられている。
The inspection table 30 is provided on an XYZ moving mechanism 60, and the XYZ moving mechanism 60
, And is moved up and down in the Z direction. In addition, a suction port 62 for vacuum-sucking the wafer 46 is opened at the center of the inspection table 30, and the wafer 4 vacuum-sucked in the suction port 62.
Rod 6 for pushing up 6 from inspection table 30
4 is provided to be able to move up and down.

【0024】前記ウエハ検査部32は図1に示すように
顕微鏡66を有し、この顕微鏡66の下方にはプローブ
ステージ68が形成される。プローブステージ68に
は、前記割れウエハ46に対応した図示しないプローブ
カードが取り付けられる。前記アンロードアーム34の
先端には、ウエハ吸着コレット70が設けられている。
このウエハ吸着コレット70は、アンロードアーム34
によって前記検査用テーブル30に吸着された割れウエ
ハ46の上方に移動されたのち、重心58の部分を吸着
保持することができる。また、前記アンロードアーム3
4は、重心58の部分を吸着保持した前記ウエハ吸着コ
レット70を図9に示すようにアンロードチャック36
の上方に移動することができる。
The wafer inspection section 32 has a microscope 66 as shown in FIG. 1, and a probe stage 68 is formed below the microscope 66. A probe card (not shown) corresponding to the cracked wafer 46 is attached to the probe stage 68. At the end of the unload arm 34, a wafer suction collet 70 is provided.
The wafer suction collet 70 is mounted on the unload arm 34.
After being moved above the cracked wafer 46 sucked by the inspection table 30, the portion of the center of gravity 58 can be sucked and held. In addition, the unload arm 3
4, the unload chuck 36 holds the wafer suction collet 70 holding the center of gravity 58 by suction, as shown in FIG.
Can move upwards.

【0025】前記アンロードチャック36には、中空の
吸引ロッド72が伸縮自在に設けられる。このロッド7
2は、上昇された際に前記トレイ44の開口部52を介
して前記ウエハ吸着コレット70に吸着されている割れ
ウエハ46の下面を吸着保持することができる。前記ア
ンロードプッシャー38は図1に示すように、搬送ベル
ト16、16によってアンロードチャック36の位置か
らアンロードされたトレイ44を前記カセット42の元
の棚に押し込むことができる。
The unload chuck 36 is provided with a hollow suction rod 72 so as to be extendable and contractible. This rod 7
2 can suck and hold the lower surface of the broken wafer 46 sucked by the wafer suction collet 70 through the opening 52 of the tray 44 when raised. As shown in FIG. 1, the unload pusher 38 can push the tray 44 unloaded from the position of the unload chuck 36 into the original shelf of the cassette 42 by the conveyor belts 16.

【0026】次に、前記の如く構成されたウエハ検査装
置10の作用について説明する。先ず、図1に示したロ
ードプッシャー14をカセット42に向けて駆動して、
カセット42の所定の棚に収納されたトレイ44を割れ
ウエハ46と共にカセット42から搬送ベルト16、1
6上に押し出す。次に、搬送ベルト16、16でトレイ
44をトレイガイド18に向けて搬送する。この時、割
れウエハ46は、トレイ44上に載置されているので、
搬送中にバランスが崩れて搬送ベルト16、16から脱
落することはない。トレイガイド18のガイド部54に
トレイ44が押圧当接されると、このトレイ44は、前
記ガイド部54によってトレイ44の中心44Aが搬送
ベルト16、16の搬送中心線56上に位置するように
芯出しされる(図3参照)。
Next, the operation of the wafer inspection apparatus 10 configured as described above will be described. First, the load pusher 14 shown in FIG.
The tray 44 stored on a predetermined shelf of the cassette 42 is moved from the cassette 42 together with the broken
Extrude on 6. Next, the tray 44 is transported toward the tray guide 18 by the transport belts 16, 16. At this time, since the cracked wafer 46 is placed on the tray 44,
During transport, the balance is not lost and does not fall off from the transport belts 16, 16. When the tray 44 is pressed against the guide portion 54 of the tray guide 18, the tray 44 is moved so that the center 44 A of the tray 44 is positioned on the transport center line 56 of the transport belts 16, 16 by the guide portion 54. It is centered (see FIG. 3).

【0027】次いで、図1に示したトレイ回転用チャッ
ク20を上昇させてトレイ44の下面を吸着保持したの
ち、トレイ44上の割れウエハ46を形状認識用カメラ
22によって撮像する。そして、割れウエハ46の外形
形状を示す映像信号を画像処理装置によって画像処理し
て割れウエハ46の重心58を検出し、この重心58が
前記搬送中心線56上に位置するように前記トレイ回転
チャック20を回動させる(図4参照)。
Next, after raising the tray rotating chuck 20 shown in FIG. 1 to hold the lower surface of the tray 44 by suction, the broken wafer 46 on the tray 44 is imaged by the shape recognition camera 22. A video signal indicating the outer shape of the broken wafer 46 is image-processed by an image processing device to detect a center of gravity 58 of the broken wafer 46, and the tray rotation chuck is positioned so that the center of gravity 58 is located on the transport center line 56. 20 is rotated (see FIG. 4).

【0028】そして、プリアライメント用カメラ24に
よって割れウエハ46の電気素子回路47を高倍率で撮
像し、1画面プリアライメントを行う。そして、ウエハ
吸着コレット26を搬送アーム28によって前記割れウ
エハ46の上方に移動させたのち、下降させて前記重心
58の部分を吸着保持する。そして、重心58の部分を
吸着保持したウエハ吸着コレット26を搬送アーム28
によって移動して割れウエハ46を検査用テーブル30
上に搬送する(図5参照)。搬送中の割れウエハ46
は、重心58の部分が吸着保持されているので、バラン
スが崩れてウエハ吸着コレット26から落下することは
ない。また、割れウエハ46の反りが原因で割れウエハ
46が検査用テーブル30に吸着されていないことが図
示しないバキュームセンサで検出されると、検査用テー
ブル30は、X−Y−Z移動機構60によって上昇され
る。これによって、前記割れウエハ46は、ウエハ吸着
コレット26と検査用テーブル30とに挟まれて検査用
テーブル30上に確実に吸着される(図6参照)。
Then, the electric element circuit 47 of the broken wafer 46 is imaged at a high magnification by the pre-alignment camera 24 to perform one-screen pre-alignment. Then, after the wafer suction collet 26 is moved above the broken wafer 46 by the transfer arm 28, it is lowered to suction-hold the portion of the center of gravity 58. Then, the wafer suction collet 26 holding the center of gravity 58 by suction is transferred to the transfer arm 28.
To move the cracked wafer 46 into the inspection table 30
It is transported upward (see FIG. 5). Cracked wafer 46 during transport
Since the center of gravity 58 is held by suction, the balance is not lost and does not drop from the wafer suction collet 26. When a vacuum sensor (not shown) detects that the cracked wafer 46 is not attracted to the inspection table 30 due to the warpage of the cracked wafer 46, the inspection table 30 is moved by the XYZ moving mechanism 60. Be raised. As a result, the cracked wafer 46 is reliably sucked onto the inspection table 30 by being sandwiched between the wafer suction collet 26 and the inspection table 30 (see FIG. 6).

【0029】次に、検査用テーブル30を、X−Y−Z
移動機構60によって検査部32の下方に移動させ、図
示しない容量センサで割れウエハ44の厚さを1点測定
したのち、形状認識用カメラ22によって撮像された形
状認識のデータを基にファインアライメントを行う。そ
して、検査用テーブル30をX−Y−Z移動機構60で
移動させることによって、割れウエハ46の電気素子回
路47、47…を順次検査する。
Next, the inspection table 30 is stored in the XYZ
After being moved below the inspection section 32 by the moving mechanism 60 and measuring the thickness of the cracked wafer 44 at one point by a capacitance sensor (not shown), fine alignment is performed based on the shape recognition data captured by the shape recognition camera 22. Do. Then, by moving the inspection table 30 by the XYZ moving mechanism 60, the electric element circuits 47 of the broken wafer 46 are sequentially inspected.

【0030】この検査方向は図8に示すように、前記画
像処理装置から出力される割れウエハ46の外形形状信
号に基づいて割れウエハ46の外形に沿って、割れウエ
ハ46の重心58位置を始点とし図中下半分を矢印A方
向に、上半分を矢印B方向にそれぞれ検査する。また、
エッジセンサによって割れウエハ44のエッジを検出し
ながら検査しても良い。これにより、割れウエハ46の
電気素子回路47、47…を効率良く検査できる。
As shown in FIG. 8, the inspection direction starts at the position of the center of gravity 58 of the cracked wafer 46 along the contour of the cracked wafer 46 based on the contour shape signal of the cracked wafer 46 output from the image processing apparatus. In the figure, the lower half is inspected in the direction of arrow A, and the upper half is inspected in the direction of arrow B. Also,
The inspection may be performed while detecting the edge of the cracked wafer 44 by the edge sensor. Thus, the electric element circuits 47, 47,... Of the cracked wafer 46 can be inspected efficiently.

【0031】検査終了後、検査用テーブル30を前記X
−Y−Z移動機構60によって別エリアマーカー部74
まで移動して、不良と判断された電気素子回路47をマ
ーキングする。マーキング工程が終了すると、検査用テ
ーブル30に設けたロッド64を図9に示すように上昇
させて割れウエハ46を検査用テーブル30から押し上
げると共に、ウエハ吸着コレット70で割れウエハ46
の重心58の部分を吸着保持し、アンロードアーム34
によって割れウエハ46を前記アンロードチャック36
の上方にアンロードする。
After the inspection is completed, the inspection table 30 is
-Another area marker unit 74 by the YZ moving mechanism 60
Then, the electric element circuit 47 determined to be defective is marked. When the marking process is completed, the rod 64 provided on the inspection table 30 is raised as shown in FIG. 9 to push up the cracked wafer 46 from the inspection table 30, and the wafer suction collet 70
Of the center of gravity 58 of the unload arm 34
The cracked wafer 46 is moved by the unload chuck 36
Unload above.

【0032】アンロードチャック36の上方には、トレ
イガイド18によって芯出しされたトイレ44がトレイ
ガイド18の位置から予め搬送されている。そして、ア
ンロードチャック36のロッド72をトレイ44の開口
部52を介して伸長させてウエハ46の下面を吸着保持
する。そして、ロッド72を収縮させて割れウエハ46
をトレイ44上に載置する。これによって、割れウエハ
46の大きさに関係無く割れウエハ46をトレイ44上
に確実に載置することができる。
Above the unload chuck 36, a toilet 44 centered by the tray guide 18 is transported in advance from the position of the tray guide 18. Then, the rod 72 of the unload chuck 36 is extended through the opening 52 of the tray 44 to hold the lower surface of the wafer 46 by suction. Then, the rod 72 is shrunk to break the broken wafer 46.
Is placed on the tray 44. Thus, the broken wafer 46 can be reliably placed on the tray 44 regardless of the size of the broken wafer 46.

【0033】そして、前記トレイ44をアンロードチャ
ック36の位置からアンロードプッシャー38の位置に
アンロードさせたのち、アンロードプッシャー38を駆
動してトレイ44を前記カセット42の元の棚に押し込
む。これにより、割れウエハ46の搬送、検査、及びア
ンロードが終了する。そして、別の割れウエハ46の検
査を行う場合には、前述した工程を続けて行えば良い。
Then, after unloading the tray 44 from the position of the unload chuck 36 to the position of the unload pusher 38, the unload pusher 38 is driven to push the tray 44 into the original shelf of the cassette 42. Thus, the transport, inspection, and unloading of the broken wafer 46 are completed. When another cracked wafer 46 is to be inspected, the above-described steps may be continued.

【0034】従って、本実施例では、割れウエハ46の
重心58を検出し、この重心58の部分を吸着保持して
搬送、検査、及びアンロードさせたので、定形のウエハ
に限らず、割れウエハ46でもフルオートで搬送、検
査、及びアンロードすることができる。
Therefore, in the present embodiment, the center of gravity 58 of the cracked wafer 46 is detected, and the portion of the center of gravity 58 is suctioned and held, transported, inspected, and unloaded. Also in the case of 46, it is possible to carry, inspect, and unload fully automatically.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウエハ
搬送方法とその装置によれば、ウエハの外形形状を撮像
し、該ウエハの外形形状を示す映像信号を画像処理して
ウエハの重心を検出し、この重心の部分をウエハ吸着搬
送手段で吸着保持してウエハを搬送するようにしたの
で、割れウエハでも、搬送中にバランスが崩れることは
ない。これにより、割れウエハでも円滑に搬送できる。
As described above, according to the wafer transfer method and apparatus according to the present invention, the outer shape of a wafer is imaged, and a video signal indicating the outer shape of the wafer is subjected to image processing to determine the center of gravity of the wafer. Since the wafer is conveyed while the center of gravity is detected and held by the wafer adsorbing / conveying means, the balance is not lost during the conveyance of a broken wafer. Thus, even a broken wafer can be smoothly transferred.

【0036】また、本発明に係るウエハ検査装置によれ
ば、ウエハの外形形状を撮影手段によって撮像し、該ウ
エハの外形形状を示す映像信号を画像処理手段によって
画像処理してウエハの重心を検出し、この重心の部分を
吸着保持して検査部に搬送し、そして、検査終了したウ
エハの重心の部分を吸着保持してアンロードしたので、
割れウエハでも搬送、検査、及びアンロードを自動で行
うことができる。また、割れウエハをトレイ上に載置す
るので、該ウエハの大きさに関係無くウエハをトレイ上
に確実に載置することができる。
According to the wafer inspection apparatus of the present invention, the outer shape of the wafer is imaged by the photographing means, and a video signal indicating the outer shape of the wafer is processed by the image processing means to detect the center of gravity of the wafer. Then, the center of gravity was suction-held and transported to the inspection section, and the center of gravity of the inspected wafer was suction-held and unloaded.
Transfer, inspection, and unloading of broken wafers can be performed automatically. Further, since the broken wafer is placed on the tray, the wafer can be reliably placed on the tray regardless of the size of the wafer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るウエハ検査装置の実施例を示す斜
視図
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a wafer inspection apparatus according to the present invention.

【図2】割れウエハが載置されたトレイの斜視図FIG. 2 is a perspective view of a tray on which cracked wafers are placed.

【図3】トレイがトレイガイドに当接されて芯出しされ
た状態を示す平面図
FIG. 3 is a plan view showing a state where the tray is in contact with a tray guide and is centered;

【図4】トレイが回動されて割れウエハの重心が位置決
めされた状態を示す平面図
FIG. 4 is a plan view showing a state in which the tray is rotated and the center of gravity of the broken wafer is positioned.

【図5】割れウエハが検査用テーブル上に載置された状
態を示す断面図
FIG. 5 is a sectional view showing a state in which a cracked wafer is placed on an inspection table.

【図6】検査用テーブルの上昇により割れウエハが吸着
された状態を示す断面図
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state where a cracked wafer is sucked by raising the inspection table.

【図7】検査終了の割れウエハをトレイに載置する状態
を示す断面図
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state where a cracked wafer after inspection has been placed on a tray.

【図8】割れウエハの電気素子回路の検査方向を示す説
明図
FIG. 8 is an explanatory view showing an inspection direction of an electric element circuit of a cracked wafer.

【図9】検査用テーブル上のウエハをピンで押し上げた
状態を示す断面図
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state where a wafer on an inspection table is pushed up by pins.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ウエハ検査装置 12…カセットストック部 14…ロードプッシャー 16…搬送ベルト 18…トレイガイド 20…トレイ回転用チャック 22…形状認識用カメラ 24…プリアライメント用カメラ 26…ウエハ吸着コレット 28…搬送アーム 30…検査用テーブル 32…検査部 34…アンロードアーム 36…アンロードチャック 38…アンロードプッシャー 44…トレイ 46…割れウエハ 58…割れウエハの重心 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Wafer inspection apparatus 12 ... Cassette stock part 14 ... Load pusher 16 ... Transport belt 18 ... Tray guide 20 ... Tray rotation chuck 22 ... Shape recognition camera 24 ... Pre-alignment camera 26 ... Wafer suction collet 28 ... Transport arm 30 ... Inspection table 32 ... Inspection unit 34 ... Unload arm 36 ... Unload chuck 38 ... Unload pusher 44 ... Tray 46 ... Cracked wafer 58 ... Central center of cracked wafer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66 G01B 11/00 G01R 31/28 H01L 21/68 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/66 G01B 11/00 G01R 31/28 H01L 21/68

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ウエハが1枚づつ載置されたトレイが複
数枚収納されたトレイ収納部と、 前記トレイ収納部に収納され前記ウエハを載置した前記
トレイを、該トレイ収納部から1枚づつ取り出すトレイ
取出手段と、 前記トレイ取出手段で取り出されたトレイ上のウエハの
外形形状を撮像する撮影手段と、 前記撮影手段から出力される前記ウエハの外形形状を示
す映像信号を画像処理して該ウエハの重心を検出すると
共に、該ウエハの外形形状信号を出力する画像処理手段
と、 前記画像処理手段で検出された前記ウエハの重心の部分
を吸着保持して該ウエハを前記トレイから取り出してウ
エハ検査部に搬送するウエハの第1の搬送手段と、 前記ウエハ検査部に搬送されたウエハを吸着保持する検
査用テーブルと、 前記検査用テーブルに吸着保持されたウエハをアライメ
ントするアライメント手段と、 前記アライメント手段でアライメントされたウエハを、
前記画像処理手段から出力されるウエハの外形形状信号
に基づいてウエハの外形に沿って検査するプローブ手段
と、 前記プローブ手段で検査終了したウエハの重心の部分を
吸着搬送して該ウエハを前記トレイに戻すウエハの第2
の搬送手段と、 前記ウエハの第2の搬送手段によってウエハが載置され
た前記トレイを前記トレイ収納部に収納するトレイ収納
手段と、 を備えたことを特徴とするウエハ検査装置。
1. A tray storage unit in which a plurality of trays on which wafers are loaded one by one are stored, and one tray stored in the tray storage unit on which the wafers are mounted is one from the tray storage unit. Tray taking out means for taking out each one; photographing means for taking an image of the outer shape of the wafer on the tray taken out by the tray taking out means; and image processing of a video signal indicating the outer shape of the wafer outputted from the photographing means. Image processing means for detecting the center of gravity of the wafer and outputting an external shape signal of the wafer; and picking up and holding the center of gravity of the wafer detected by the image processing means to take out the wafer from the tray. A first transfer unit for transferring a wafer transferred to the wafer inspection unit, an inspection table for holding the wafer transferred to the wafer inspection unit by suction; An alignment unit for aligning the held wafer; and a wafer aligned by the alignment unit,
A probe means for inspecting the contour of the wafer based on a contour signal of the wafer output from the image processing means; and Of the wafer to be returned to the second
And a tray storage unit for storing the tray on which the wafer is placed by the second transfer unit for the wafer in the tray storage unit.
【請求項2】 前記プローブ手段は、前記ウエハの重心
を始点として検査することを特徴とする請求項1記載の
ウエハ検査装置。
2. The wafer inspection apparatus according to claim 1, wherein said probe means performs inspection using a center of gravity of said wafer as a starting point.
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