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JP2938233B2 - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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Publication number
JP2938233B2
JP2938233B2 JP20731891A JP20731891A JP2938233B2 JP 2938233 B2 JP2938233 B2 JP 2938233B2 JP 20731891 A JP20731891 A JP 20731891A JP 20731891 A JP20731891 A JP 20731891A JP 2938233 B2 JP2938233 B2 JP 2938233B2
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JP
Japan
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layer
magneto
optical recording
metal
recording
Prior art date
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JP20731891A
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Japanese (ja)
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JPH0528560A (en
Inventor
和富 鈴木
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ等の光ビームを
用いて磁気光学効果により情報の記録・再生を行なう光
磁気記録媒体に関し、更に詳しくは光磁気記録層の背後
に金属反射層を設けた光磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium for recording / reproducing information by means of a magneto-optical effect using a light beam such as a laser, and more particularly to a metal reflection layer behind a magneto-optical recording layer. The present invention relates to a provided magneto-optical recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録媒体は高密度・大容量の情報記録
媒体として種々の研究開発が行なわれている。特に情報
の書替えが可能な光磁気記録媒体は、応用分野が広く、
種々の材料・システムが発表されており、注目されてい
る。
2. Description of the Related Art Various researches and developments have been made on optical recording media as high-density, large-capacity information recording media. In particular, magneto-optical recording media capable of rewriting information have a wide range of application fields,
Various materials and systems have been announced and are attracting attention.

【0003】その基本構成は、透明基板上に、膜面に対
し垂直な方向に磁化容易軸を有する、希土類−遷移金属
非晶質合金磁性膜からなる光磁気記録層を設けたもので
ある。
The basic structure is such that a magneto-optical recording layer made of a rare earth-transition metal amorphous alloy magnetic film having an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface is provided on a transparent substrate.

【0004】該非晶質合金磁性膜の光磁気記録層は、単
独では耐久性が悪く、またカー回転角が小さいため、再
生時に満足なC/N(搬送信号/ノイズ)が得られない
などの問題点を有する。そのため、それらの特性を改善
すべく、さまざまな提案が既になされている。
[0004] The magneto-optical recording layer of the amorphous alloy magnetic film alone has poor durability and a small Kerr rotation angle, so that a satisfactory C / N (carrier signal / noise) cannot be obtained during reproduction. Has problems. Therefore, various proposals have been already made to improve those characteristics.

【0005】例えば、基板/第1の金属窒化物透明誘電
体層/記録層/第2の金属窒化物透明誘電体層/金属反
射層の順に積層した4層構成は、カー効果とファラデー
効果の併用と、誘電体によるエンハンス効果で高C/N
値が得られ、さらに誘電体として金属窒化物を用いるこ
とにより、耐久性面でも優れている。なお、金属反射層
を設けたことによりそれが無い場合に比べて記録感度が
低下するが、適当な記録感度を得る方法として、金属反
射層の膜厚調整もしくは、金属反射層に添加物を加える
などして、金属反射層の熱伝導を低くする方法が提案さ
れている。
For example, a four-layer structure in which a substrate / a first metal nitride transparent dielectric layer / a recording layer / a second metal nitride transparent dielectric layer / a metal reflection layer is laminated in this order has a Kerr effect and a Faraday effect. High C / N due to combined use and enhancement effect by dielectric
Value is obtained, and the use of metal nitride as the dielectric is excellent in durability. Although the recording sensitivity is reduced by providing the metal reflection layer as compared with the case without the metal reflection layer, as a method of obtaining appropriate recording sensitivity, adjusting the film thickness of the metal reflection layer or adding an additive to the metal reflection layer For example, a method of reducing the heat conduction of the metal reflection layer has been proposed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら本発明者
らの検討では、前記4層構成で金属反射層の熱伝導を低
くすると、記録感度は良くなるが記録層からの熱の逃げ
が悪くなるため、さまざまな問題が生じる事がわかっ
た。例えば、情報の記録時には、隣接ビット同志が熱的
に影響し合い、ビットの書き込もうとする位置からのず
れが大きくなるという現象が生ずる。この位置のずれ
は、再生信号のピークシフトとして検出することができ
る。ビットのずれが大きいとピークシフトが増大し、再
生時のエラーが増大するという問題が生じる。さらに、
情報の消去時には高パワーのレーザ光が照射されるた
め、熱の逃げの悪い構成では記録層が加熱により劣化す
る恐れがある。実際、発明者らの検討では、高パワーの
レーザ光を連続で照射した場合、C/Nが低下すること
があった。つまり、レーザ光に対する長期安定性に問題
が生じるのである。
However, according to the study of the present inventors, when the heat conduction of the metal reflective layer is reduced in the four-layer structure, the recording sensitivity is improved, but the escape of heat from the recording layer is deteriorated. It turns out that various problems arise. For example, when information is recorded, adjacent bits thermally affect each other, and a phenomenon occurs in which the deviation from the position where the bit is to be written increases. This positional shift can be detected as a peak shift of the reproduced signal. If the bit shift is large, the peak shift increases, causing a problem that errors during reproduction increase. further,
At the time of erasing information, a high-power laser beam is irradiated, so that the recording layer may be deteriorated by heating in a configuration in which heat escapes poorly. In fact, according to the study by the inventors, when continuously irradiating a high-power laser beam, the C / N may decrease. That is, there is a problem in long-term stability to laser light.

【0007】本発明は上記課題を解決することにより、
前述の透明誘電体層と金属反射層の特性を生かし、高C
/Nで、記録感度が良く、しかも、レーザ光に対する長
期安定性に優れた光磁気記録媒体を得ることを目的とし
ている。
The present invention solves the above-mentioned problems,
Making use of the characteristics of the transparent dielectric layer and metal reflective layer described above,
The purpose of the present invention is to obtain a magneto-optical recording medium having good recording sensitivity and excellent long-term stability to laser light.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するためになされたもので、基板上に光磁気記録層、金
属反射層が順次積層された光磁気記録媒体において、前
記光磁気記録層と前記金属反射層との間に、Al、Siの少
なくともいずれかよりなる窒化物、酸化物、あるいは窒
酸化物であって、Al−OH、Si−OHの少なくともいず
れかを含有する透明断熱層が設けられており、さらに金
属窒化物からなる透明誘電体層が光磁気記録層と透明断
熱層との間および/または光磁気記録層と基板との間に
設けられており、かつ前記金属反射層は熱伝導率×膜厚
の値が1.3μW/K以上であることを特徴としてい
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a magneto-optical recording medium in which a magneto-optical recording layer and a metal reflective layer are sequentially laminated on a substrate is provided. Between the layer and the metal reflection layer, a transparent heat insulating material containing at least one of Al-OH, Si-OH, which is a nitride, oxide, or nitride oxide composed of at least one of Al and Si. Layers are provided, plus gold
Transparent dielectric layer made of oxynitride separates from magneto-optical recording layer
Between the thermal layer and / or between the magneto-optical recording layer and the substrate
The metal reflection layer is provided, and a value of thermal conductivity × film thickness is 1.3 μW / K or more.

【0009】[0009]

【作用】前述した記録時のビットの位置のずれ、換言す
ればピークシフトの生じる原因の一つには、隣接ビット
間の熱的干渉が考えられる。つまり、光磁気記録層が書
き込みに必要な温度より高温に加熱された場合、その熱
が隣接ビットに影響すると考えられる。さらに、高パワ
ーのレーザ光を連続で照射した場合のC/Nの低下の原
因も、光磁気記録層が消去に必要な温度よりも高温に加
熱されるためと考えられる。
Operation One of the causes of the shift of the bit position during recording, in other words, the peak shift, is considered to be thermal interference between adjacent bits. That is, when the magneto-optical recording layer is heated to a temperature higher than the temperature required for writing, it is considered that the heat affects adjacent bits. Further, it is considered that the cause of the decrease in C / N when continuously irradiated with high-power laser light is that the magneto-optical recording layer is heated to a temperature higher than the temperature required for erasing.

【0010】従って、それらを防止するためには、熱の
逃げを良くする構成が必要である。しかし単に金属反射
層の熱伝導率を高くしたり、膜厚を厚くしただけでは、
記録感度が低下してしまう。よって、記録感度を考慮に
入れれば、ピークシフトが小さく、高パワーのレーザ光
に対する長期安定性に優れた媒体を得るためには、ある
程度の温度(記録温度)までは、温度が上昇し易いが、
それ以上では温度が上昇しにくく、必要以上の高温にな
ることが防止される構成が必要である。
[0010] Therefore, in order to prevent such a problem, it is necessary to provide a structure for improving the escape of heat. However, simply increasing the thermal conductivity of the metal reflective layer or increasing the film thickness will not
Recording sensitivity decreases. Therefore, in consideration of the recording sensitivity, in order to obtain a medium having a small peak shift and excellent long-term stability against a high-power laser beam, the temperature tends to rise up to a certain temperature (recording temperature). ,
Above that, a configuration is required in which the temperature is unlikely to rise and an unnecessarily high temperature is prevented.

【0011】そして、かかる構成を実現するものについ
て鋭意検討した結果、記録感度が低下しないだけ充分に
断熱性のよい透明断熱層を金属反射層の前面に設ける一
方、光磁気記録層の過熱を防止するために熱の逃げの良
い金属反射層を用いる組合せ構成とすれば良いことを見
い出した。
As a result of intensive studies on the realization of such a configuration, a transparent heat-insulating layer having sufficient heat-insulating properties is provided on the front surface of the metal reflection layer, while preventing the magneto-optical recording layer from overheating, so that the recording sensitivity is not reduced. In order to achieve this, it has been found that a combination configuration using a metal reflective layer with good heat dissipation can be used.

【0012】そして、Al、Siの少なくともいずれかより
なる窒化物、酸化物、あるいは窒酸化物であって、Al−
OH、Si−OHの少なくともいずれかを含有する透明断
熱層を、金属反射層と光磁気記録層との間に設けるとと
もに、熱伝導率×膜厚の値が1.3μW/K以上である
金属反射層を用いてその熱伝導性を良くした構成とする
ことにより、高C/Nで記録感度が良く、しかも再生信
号のピークシフトが小さく、高パワーのレーザに対する
長期安定性に優れた光磁気記録媒体が得られることを確
認した。
And a nitride, oxide or oxynitride of at least one of Al and Si,
A transparent heat-insulating layer containing at least one of OH and Si-OH is provided between the metal reflective layer and the magneto-optical recording layer, and a metal having a value of thermal conductivity × thickness of 1.3 μW / K or more. By adopting a configuration in which the thermal conductivity is improved by using a reflective layer, magneto-optics having a high C / N, good recording sensitivity, a small peak shift of a reproduction signal, and excellent long-term stability to a high-power laser. It was confirmed that a recording medium was obtained.

【0013】上述の構成では、透明断熱層の熱伝導率が
著しく低いため、その断熱効果により、光磁気記録層の
温度が上昇し易くなる。しかも、金属反射層の熱伝導性
をかなり良くしても、高感度が保たれる。さらにその一
方で、金属反射層により余分な熱が逃がされることか
ら、過度の加熱が防止される。以上が、本発明により高
C/N、高感度、低ピークシフト、高パワーのレーザ光
に対する長期安定性が実現される理由と考えられる。
In the above configuration, the thermal conductivity of the transparent heat-insulating layer is extremely low, so that the temperature of the magneto-optical recording layer tends to increase due to its heat-insulating effect. Moreover, high sensitivity can be maintained even if the thermal conductivity of the metal reflection layer is considerably improved. On the other hand, excessive heat is released by the metal reflection layer, so that excessive heating is prevented. The above is considered to be the reason why the present invention achieves high C / N, high sensitivity, low peak shift, and long-term stability against high-power laser light.

【0014】なお、光磁気記録層と透明断熱層、とりわ
け酸化物層が直接接した場合、作製方法によっては光磁
気記録層が酸化を受ける(例えば、プレスパッタ等の影
響)恐れがあり、それを防止する意味で、光磁気記録層
と透明断熱層の間に、金属窒化物からなる透明誘電体層
を設けることがさらに望ましい。そしてかかる窒化物透
明誘電体層としては、公知のSiN、AlN、およびそれら
の金属複合窒化物等が好ましい。しかし、透明性の良い
金属窒化物であれば、これに限定されるのではない。ま
たさらにその膜厚は、厚い方が保護性は良くなるが、フ
ァラデー効果のエンハンスメントを考えると、5〜30
nmが好ましい。そして以上の窒化物透明誘電体層は、
常法により形成される。それは例えば公知の真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンビームスパッタリング
法、CVD法等がある。
When the magneto-optical recording layer is in direct contact with the transparent heat-insulating layer, especially the oxide layer, the magneto-optical recording layer may be oxidized (for example, by the influence of pre-sputtering) depending on the manufacturing method. It is more desirable to provide a transparent dielectric layer made of a metal nitride between the magneto-optical recording layer and the transparent heat-insulating layer in order to prevent the above. As such a nitride transparent dielectric layer, known SiN, AlN, and their metal composite nitrides are preferable. However, the present invention is not limited to this as long as the metal nitride has good transparency. Further, the thicker the film, the better the protection is. However, considering the enhancement of the Faraday effect, it is 5-30.
nm is preferred. And the above nitride transparent dielectric layer,
It is formed by an ordinary method. Examples of the method include a known vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion beam sputtering method, and a CVD method.

【0015】本発明における透明断熱層は、Al、Siの少
なくともいずれかよりなる窒化物、酸化物、あるいは窒
酸化物であって、Al−OH、Si−OHの少なくともいず
れかを含有する。ここでAl、Siはそれぞれ単独であって
も、両者の混合物でもよい。酸化物、窒化物、窒酸化物
は、透明性、耐候性、製膜のしやすさによつて適宜選択
される。
The transparent heat-insulating layer in the present invention is a nitride, oxide or nitride oxide composed of at least one of Al and Si, and contains at least one of Al-OH and Si-OH. Here, Al and Si may be each alone or a mixture of both. Oxides, nitrides, and nitrides are appropriately selected depending on transparency, weather resistance, and ease of film formation.

【0016】本発明の大きな特徴はこの透明断熱層の中
に、−OH基を含有することである。金属−OH基結合
が生じることにより、三次元構造の内部で結合が切断さ
れ、そこで格子振動による熱伝達がなくなるため、熱伝
導率が低下するものと考えられる。−OH基含有量が大
きくなりすぎると、膜の機械的強度、水分などの透湿性
が低下するため、耐候性に問題が生じる。そこで−OH
基の含有量は0.5〜30atom%、好ましくは1〜15
atom%の範囲が好適である。
A major feature of the present invention is that the transparent heat-insulating layer contains -OH groups. It is considered that when the metal-OH group bond is generated, the bond is broken inside the three-dimensional structure, and there is no heat transfer due to lattice vibration, so that the thermal conductivity is reduced. If the content of -OH groups is too large, the mechanical strength of the film and the moisture permeability of water and the like are reduced, so that a problem occurs in the weather resistance. So -OH
The content of the group is 0.5 to 30 atom%, preferably 1 to 15 atom%.
An atom% range is preferred.

【0017】これら透明断熱層の形成法としてはいくつ
かの方法があるが、その金属元素、もしくは酸化物、窒
化物ターゲットを用いて、Arガスの他にN2 、O2 、H
2 を混入させる反応性スパッタリング法が好適に用いら
れる。
There are several methods for forming these transparent heat-insulating layers. Using a metal element, an oxide, or a nitride target, N 2 , O 2 , and H are used in addition to Ar gas.
The reactive sputtering method of mixing 2 is preferably used.

【0018】なお、透明断熱層の膜厚は、厚い方が断熱
性が良くなるが、この層によるファラデー効果のエンハ
ンスメントも考えると、5〜50nmが好ましい。
The thickness of the transparent heat insulating layer increases as the thickness increases, but the thickness is preferably 5 to 50 nm in consideration of the enhancement of the Faraday effect by this layer.

【0019】本発明での金属反射層は、熱の放散を行な
うという重要な役割を有し、金属反射層の熱伝導性が良
い程、本発明の効果は大きくなる。金属反射層の熱伝導
性は、その熱伝導率が高く、また膜厚が厚い程良くな
る。本発明者らの検討では、光磁気記録媒体での金属薄
膜の熱伝導性は、ほぼ熱伝導率×膜厚の値に対応し、そ
の値で熱伝導性の比較を行う事ができる事がわかった。
そしてこの方法で、熱伝導性を定義した場合、本発明の
目的を達する金属反射層としては、熱伝導率×膜厚の値
が1.3μW/K以上である事が必要で、さらに好まし
くは2.0μW/K以上が必要である。
The metal reflection layer in the present invention has an important role of dissipating heat, and the better the thermal conductivity of the metal reflection layer, the greater the effect of the present invention. The thermal conductivity of the metal reflective layer improves as the thermal conductivity increases and the film thickness increases. According to the study of the present inventors, the thermal conductivity of a metal thin film in a magneto-optical recording medium substantially corresponds to a value of thermal conductivity × film thickness, and it is possible to compare the thermal conductivity with the value. all right.
When the thermal conductivity is defined by this method, it is necessary for the metal reflective layer that achieves the object of the present invention to have a value of thermal conductivity × thickness of 1.3 μW / K or more, more preferably 2.0 μW / K or more is required.

【0020】なお、ここでいう熱伝導率は以下のように
してもとめた値である。図1に示すように、金属薄膜2
はガラス基板1上に作製した。ただし、金属薄膜2の幅
aは10mm、膜厚dは100nmとした。次に金属薄
膜2上に図1のように4本のAu電極3〜6を等間隔に蒸
着より形成した。Au電極3〜6の間隔bは、4mmとし
た。以上のようなサンプルで、金属薄膜2の電気抵抗R
を4端子法により測定し、電気伝導率σ、熱伝導率λを
下式により求めた。ただし、Lはローレンツ数(Lorenz
number )、Tは測定温度であり、L=24.5nWΩ
/K2 、T=300Kとした。 σ=b/(a・d・R) λ=L・T・σ
The thermal conductivity mentioned here is a value determined in the following manner. As shown in FIG.
Was prepared on a glass substrate 1. However, the width a of the metal thin film 2 was 10 mm, and the thickness d was 100 nm. Next, four Au electrodes 3 to 6 were formed on the metal thin film 2 by vapor deposition at equal intervals as shown in FIG. The distance b between the Au electrodes 3 to 6 was 4 mm. In the above sample, the electric resistance R of the metal thin film 2
Was measured by a four-terminal method, and the electrical conductivity σ and the thermal conductivity λ were determined by the following equations. Where L is the Lorentz number (Lorenz
number), T is the measurement temperature, L = 24.5 nWΩ
/ K 2 , T = 300K. σ = b / (adR) λ = LTTσ

【0021】Al膜の電気伝導率は1.6×107 Ω-1
-1、熱伝導率は1.2×102 W・m-1・K-1であ
り、Al92.7Au4.8 Ti2.5 合金膜の電気伝導率は1.8×
106 Ω-1・m-1、熱伝導率は1.3×10W・m-1
-1であった(添数字はatom%を示す)。
The electric conductivity of the Al film is 1.6 × 10 7 Ω -1 ·
m -1 , the thermal conductivity was 1.2 × 10 2 W · m −1 · K −1 , and the electrical conductivity of the Al 92.7 Au 4.8 Ti 2.5 alloy film was 1.8 ×
10 6 Ω -1 · m -1 , thermal conductivity 1.3 × 10 W · m -1 ·
K -1 (subscripts indicate atom%).

【0022】前述した理由から、金属反射層の材料とし
ては熱伝導性の良い金属が好ましく、Ag、Au、Al、Cu又
はこれを主体とした合金が好適に用いられる。これらの
金属では光の反射率も高いため、高いC/Nが得られる
という利点も有する。中でもAgAu合金、AlAu合金は反射
率、熱伝導率、耐久性といった観点から優れており、特
に更にTiを添加した反射層はこの点で更に好ましい。こ
の金属反射層の膜厚は、熱の放散を適当な範囲に制御す
るということから決定される。金属の熱伝導率が低い場
合には厚い膜厚を要するし、逆に高い場合には薄くて良
い。ただし、製造の能率やコストの面からは、膜厚が5
〜500nmであることが好ましい。これら金属反射層
は公知の真空蒸着法、スパッタリング法によって形成さ
れる。
For the above-mentioned reasons, the material of the metal reflection layer is preferably a metal having good heat conductivity, and Ag, Au, Al, Cu or an alloy mainly containing these is suitably used. These metals also have an advantage that a high C / N can be obtained because of high light reflectance. Among them, AgAu alloys and AlAu alloys are excellent from the viewpoints of reflectivity, thermal conductivity, and durability, and a reflective layer further added with Ti is more preferable in this respect. The thickness of the metal reflective layer is determined by controlling heat dissipation to an appropriate range. When the thermal conductivity of the metal is low, a thick film is required, and when it is high, the metal may be thin. However, in terms of manufacturing efficiency and cost, the film thickness is 5
It is preferably from 500 to 500 nm. These metal reflective layers are formed by a known vacuum evaporation method or sputtering method.

【0023】また本発明の光磁気記録層としては、光熱
磁気効果により記録・再生・消去できるもの、具体的に
は膜面に垂直な方向に磁化容易方向を有し、任意の反転
磁区を作ることにより光熱磁気効果に基いて情報の記録
・再生・消去が可能な磁性金属薄膜であればよく、例え
ばTbFe、TbFeCo、GdTbFe、GdFeCo、NdDyFeCo、NdDyTbFe
Co、NdFe、PrFe、CeFe等の希土類元素と遷移金属元素と
の非晶質合金膜、交換結合を利用したそれらの二層膜、
Co/Pt、Co/Pd等の人工格子多層膜等が使用できる。
The magneto-optical recording layer of the present invention can be recorded / reproduced / erased by the photo-thermomagnetic effect, more specifically, has an easy magnetization direction perpendicular to the film surface and forms an arbitrary reversed magnetic domain. Any magnetic metal thin film capable of recording, reproducing, and erasing information based on the photothermal magnetic effect can be used.For example, TbFe, TbFeCo, GdTbFe, GdFeCo, NdDyFeCo, NdDyTbFe
Amorphous alloy films of rare earth elements such as Co, NdFe, PrFe and CeFe and transition metal elements, their two-layer films utilizing exchange coupling,
An artificial lattice multilayer film of Co / Pt, Co / Pd, or the like can be used.

【0024】基板の材料としては、ポリカーボネート樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、4−メチル−ペンテ
ン樹脂などまたそれらの共重合体等の高分子樹脂、アモ
ルファスポリオレフィンもしくはガラスなどが適用でき
る。中でも機械強度、耐候性、耐熱性、透湿性の点でポ
リカーボネート樹脂が好ましい。
As a material of the substrate, a polycarbonate resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a 4-methyl-pentene resin, a polymer resin such as a copolymer thereof, an amorphous polyolefin, a glass, or the like can be used. Among them, polycarbonate resin is preferable in terms of mechanical strength, weather resistance, heat resistance, and moisture permeability.

【0025】以上本発明の基本構成を説明したが、本発
明の光磁気記録媒体の構成は、前述のものに限定されな
い。特に公知の基板と光磁気記録層の間にカー効果のエ
ンハンスメントを目的とした第2の透明誘電体層を有す
る構成が好ましい。かかる透明誘電体層は、高温高湿下
における耐久性が良好である事から、シリコン窒化物ま
たは、アルミニウム・シリコン窒化物である事が好まし
い。そしてその膜厚は、光磁気記録層と金属反射層との
間の誘電体層の膜厚とも関係するので、一義的に決める
ことはできないが、光磁気記録層と金属反射層との間の
誘電体層の膜厚が3〜60nm程度であり、基板と光磁
気記録層との間の第2の透明誘電体層の膜厚は30〜1
60nm程度であることが好ましい。
Although the basic configuration of the present invention has been described above, the configuration of the magneto-optical recording medium of the present invention is not limited to the above. In particular, a configuration having a second transparent dielectric layer for enhancing the Kerr effect between a known substrate and a magneto-optical recording layer is preferable. Such a transparent dielectric layer is preferably made of silicon nitride or aluminum / silicon nitride because of its good durability under high temperature and high humidity. The thickness of the dielectric layer between the magneto-optical recording layer and the metal reflective layer is also related to the thickness of the dielectric layer between the magneto-optical recording layer and the metal reflective layer. The thickness of the dielectric layer is about 3 to 60 nm, and the thickness of the second transparent dielectric layer between the substrate and the magneto-optical recording layer is 30 to 1
It is preferably about 60 nm.

【0026】さらに、通常は金属反射層上に、前述の誘
電体等からなる無機保護層を介して又は直接に機械的保
護、更なる耐久性の向上等の目的で有機の光及び熱硬化
型樹脂あるいは熱可塑性樹脂からなる有機保護層を設け
るのが一般である。
Further, usually, an organic light and heat curable organic light-curing type is provided on the metal reflection layer via the inorganic protective layer made of the above-mentioned dielectric or the like for the purpose of mechanical protection and further improvement of durability. In general, an organic protective layer made of a resin or a thermoplastic resin is provided.

【0027】以上の構成の光磁気記録媒体は、公知の通
り上記構成のままで、更に保護平板、保護フイルム等必
要な保護を付加して片面記録媒体として、あるいはその
2枚を金属反射層側で貼り合わせた両面記録媒体として
使用される。
The magneto-optical recording medium having the above-described structure may be used as a single-sided recording medium by adding necessary protection such as a protective flat plate and a protective film, or may be used as a single-sided recording medium. It is used as a double-sided recording medium bonded by the above.

【0028】以上の通り、本発明は透明断熱層と熱伝導
の良い金属反射層との組み合わせにより、ビットエラー
レイトに関係するピークシフトと記録感度の相反する両
特性を向上せしめ、且つ高C/Nで、レーザ光に対する
長期安定性にも優れた光磁気記録媒体を実現したもので
ある。
As described above, according to the present invention, by combining the transparent heat-insulating layer and the metal reflective layer having good heat conductivity, both the peak shift related to the bit error rate and the contradictory characteristics of the recording sensitivity are improved, and a high C / C ratio is obtained. N realizes a magneto-optical recording medium having excellent long-term stability against laser light.

【0029】以下、本発明の実施例を比較例と対比して
説明する。以下の通り、光磁気ディスクを作成し、その
最適記録レーザパワー、C/N及びピークシフトを評価
した。
Hereinafter, examples of the present invention will be described in comparison with comparative examples. A magneto-optical disk was prepared as described below, and its optimum recording laser power, C / N, and peak shift were evaluated.

【0030】さらに、レーザ光に対する長期安定性は、
ディスクの回転数を低くして、レーザ光を連続照射した
後C/Nのを測定し、初期値から2dBC/Nが低下する
までに、レーザ光を照射したディスク回転数により評価
した。
Further, the long-term stability to laser light is as follows:
The C / N was measured after continuously irradiating the laser beam at a low rotation speed of the disk, and evaluated by the rotation speed of the disk irradiated with the laser beam until 2 dBC / N was reduced from the initial value.

【0031】[0031]

【実施例】基板上に、第1の窒化物透明誘電体層、光磁
気記録層、第2の窒化物透明誘電体層、透明断熱層、金
属反射層を順次積層し、更に有機保護層を積層した構成
の光磁気ディスクを以下のように作製した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS On a substrate, a first nitride transparent dielectric layer, a magneto-optical recording layer, a second nitride transparent dielectric layer, a transparent heat insulating layer, and a metal reflection layer are sequentially laminated, and further, an organic protective layer is formed. A magneto-optical disk having a stacked configuration was manufactured as follows.

【0032】直径130mm、厚さ1.2mmの円盤で
1.6μmピッチのグループを有するポリカーボネート
樹脂製のディスク基板(PC基板)を、3ターゲット設
置可能なマグネトロンスパッタ装置の真空槽内に配置
し、0.4μTorrになるまで排気した。
A disc substrate (PC substrate) made of a polycarbonate resin having a group of 1.6 mm pitch with a disk having a diameter of 130 mm and a thickness of 1.2 mm is arranged in a vacuum chamber of a magnetron sputtering apparatus capable of setting three targets. Evacuation was performed until 0.4 μTorr.

【0033】次にAr、N2 の混合ガス(Ar:N2 =7
0:30 vol%)を真空槽内に導入し、圧力10mTorr
になるように調整した。ターゲットとしては直径100
mm、厚さ5mmのAl30Si70の焼結体からなる円盤を用
い、放電電力500W、放電周波数13.56MHzで高
周波スパッタリングを行ない、PC基板を回転(自転)
させながら、第1の窒化物透明誘電体層としてAlSiN膜
を膜厚112.5nm堆積した。
Next, a mixed gas of Ar and N 2 (Ar: N 2 = 7)
0:30 vol%) into the vacuum chamber at a pressure of 10 mTorr.
It was adjusted to become. 100 diameter as target
Using a disk made of a sintered body of Al 30 Si 70 mm and a thickness of 5 mm, high-frequency sputtering is performed at a discharge power of 500 W and a discharge frequency of 13.56 MHz, and the PC substrate is rotated (rotated).
While doing so, an AlSiN film having a thickness of 112.5 nm was deposited as a first nitride transparent dielectric layer.

【0034】形成したAlSiN膜の組成は、オージェ電子
分光装置(PHI社、SAM610)を用いて分析したところ
Al19Si3942であった。
The composition of the formed AlSiN film was analyzed using an Auger electron spectrometer (PHI, SAM610).
Al 19 Si 39 N 42 .

【0035】続いて、直径100mm、厚さ4.5mm
のTb19Fe72.5Co8.5 合金ターゲットを用い、Arガス圧4
mTorr、放電電力150Wの条件でDCスパッタリング
を行ない、光磁気記録層としてTb20.5Fe70.9Co8.6 非晶
質合金膜を膜厚22.5nm堆積した。
Subsequently, a diameter of 100 mm and a thickness of 4.5 mm
Ar gas pressure of 4 using Tb 19 Fe 72.5 Co 8.5 alloy target
DC sputtering was performed under the conditions of mTorr and a discharge power of 150 W, and a 22.5 nm-thick Tb 20.5 Fe 70.9 Co 8.6 amorphous alloy film was deposited as a magneto-optical recording layer.

【0036】さらに引続いて第2の窒化物透明誘電体層
として、第1の窒化物透明誘電体層と同様の条件で、Al
SiN膜を膜厚5nm堆積した。
Subsequently, a second nitride transparent dielectric layer was formed under the same conditions as those of the first nitride transparent dielectric layer.
A 5 nm-thick SiN film was deposited.

【0037】次に、同じAl30Si70からなるターゲットを
用い、Ar、N2 、O2 、H2 (Ar:N2 :O2 :H2
70:15:5:10)の混合ガス10mmTorr雰囲気
で高周波スパッタリングを行ない、透明断熱層としてAl
SiONH膜を膜厚30nm堆積した。
Next, using the same target made of Al 30 Si 70 , Ar, N 2 , O 2 , H 2 (Ar: N 2 : O 2 : H 2 =
70: 15: 5: 10), high frequency sputtering was performed in a 10 mmTorr atmosphere of a mixed gas, and Al was used as a transparent heat insulating layer.
A 30 nm thick SiONH film was deposited.

【0038】さらに、直径100mm、厚さ5mmのAl
92.5Au4.5 Ti3.0 合金ターゲットを用い、Arガス圧1.
5mTorr、放電電力125WでDCスパッタリングを行
ない、金属反射層としてAl92.7Au4.8 Ti2.5 合金膜を膜
厚120nm堆積した。
Further, Al having a diameter of 100 mm and a thickness of 5 mm
Ar gas pressure 1. Using 92.5 Au 4.5 Ti 3.0 alloy target.
DC sputtering was performed at 5 mTorr and a discharge power of 125 W, and an Al 92.7 Au 4.8 Ti 2.5 alloy film having a thickness of 120 nm was deposited as a metal reflection layer.

【0039】これら各層の形成時において、PC基板は
20rpm で回転させた。
During the formation of each of these layers, the PC substrate was rotated at 20 rpm.

【0040】続いて、金属反射層上に、スピンコーター
で紫外線硬化型のフェノールノボラックエポキシアクリ
レート樹脂を塗布し、その後紫外線照射により硬化させ
た、約10μmの有機保護層を設けた。
Subsequently, an ultraviolet-curable phenol novolak epoxy acrylate resin was applied on the metal reflective layer with a spin coater, and then an organic protective layer having a thickness of about 10 μm was cured by irradiation with ultraviolet light.

【0041】[0041]

【比較例1】透明断熱層として、実施例におけるAlSiO
NH膜のかわりにAlSiN膜を、実施例の窒化物透明誘電
体層と同様の条件で膜厚30nm堆積し、また金属反射
層として、実施例のAl92.7Au4.8 Ti2.5 合金膜の膜厚を
60nmとした以外は、実施例と同様の方法で光磁気デ
ィスクを作製した。
[Comparative Example 1] As the transparent heat insulating layer,
Instead of the NH film, an AlSiN film was deposited to a thickness of 30 nm under the same conditions as the nitride transparent dielectric layer of the example, and the thickness of the Al 92.7 Au 4.8 Ti 2.5 alloy film of the example was used as a metal reflective layer. A magneto-optical disk was manufactured in the same manner as in the example except that the thickness was 60 nm.

【0042】[0042]

【比較例2】金属反射層として、比較例1のAl92.7Au
4.8 Ti2.5 合金膜の膜厚を120nmとした以外は、比
較例1と同様の方法で光磁気ディスクを作製した。
Comparative Example 2 Al 92.7 Au of Comparative Example 1 was used as a metal reflecting layer.
A magneto-optical disk was manufactured in the same manner as in Comparative Example 1, except that the thickness of the 4.8 Ti 2.5 alloy film was changed to 120 nm.

【0043】次に実施例、比較例1及び比較例2で得ら
れた光磁気ディスクを光磁気記録再生装置(パルステッ
ク工業製、DDU-1000型)を用い、下記条件でC/Nと最
適記録レーザパワーを評価した。書込み時の半導体レー
ザパワーを変化させ、再生信号の二次高調波が最小とな
る時が最適記録レーザパワーとした。
Next, the magneto-optical disks obtained in Examples and Comparative Examples 1 and 2 were optimized for C / N under the following conditions using a magneto-optical recording and reproducing apparatus (DDU-1000, manufactured by Pulstec Industrial). The recording laser power was evaluated. The semiconductor laser power at the time of writing was changed, and the time when the second harmonic of the reproduction signal became minimum was determined as the optimum recording laser power.

【0044】[記録条件] ディスク回転速度=180
0rpm 、記録トラック位置=半径30mm位置、記録周
波数=3.7MHz、記録時の印加磁界=250Oe、記録
パルス幅=90nsec 。
[Recording conditions] Disk rotation speed = 180
0 rpm, recording track position = radius 30 mm position, recording frequency = 3.7 MHz, applied magnetic field during recording = 250 Oe, recording pulse width = 90 nsec.

【0045】[再生条件] ディスク回転速度=180
0rpm 、読出レーザパワー=1.5mW。
[Reproduction conditions] Disk rotation speed = 180
0 rpm, reading laser power = 1.5 mW.

【0046】さらに、ピークシフトを測定した。ここで
いうピークシフトは、図2に示す信号を記録、再生した
時に、記録しようとした信号のパルス間の時間T2 と、
実際に再生された信号のピーク間の時間T2 ′の平均値
<T2 ′>との差の絶対値とした。従って、ピークシフ
ト=|T2 −<T2 ′>|である。記録再生には、前記
光磁気再生装置を用いた。記録再生条件は下記する。再
生信号のピーク間の時間T2 ′は、ヒューレット パッ
カード(HEWLETT PACKARD )製、フリクエンシー アン
ド インターバル アナライザー(FREQUENCY AND INTE
RVAL ANALYZER )を用いて測定した。
Further, the peak shift was measured. The peak shift referred to here is the time T2 between the pulses of the signal to be recorded when the signal shown in FIG.
The absolute value of the difference from the average value <T2 '> of the time T2' between the peaks of the actually reproduced signal was used. Therefore, peak shift = | T2-<T2 '> |. For recording and reproduction, the magneto-optical reproducing device was used. The recording and reproduction conditions are described below. The time T2 'between the peaks of the reproduced signal is determined by a frequency and interval analyzer (FREQUENCY AND INTE) manufactured by Hewlett Packard.
RVAL ANALYZER).

【0047】[記録条件] ディスク回転速度=180
0rpm 、記録トラック位置=半径30mm位置、記録レ
ーザパワー=6mW、記録時の印加磁界=250Oe、記
録パルス幅=90nsec 。
[Recording conditions] Disk rotation speed = 180
0 rpm, recording track position = radius 30 mm position, recording laser power = 6 mW, applied magnetic field during recording = 250 Oe, recording pulse width = 90 nsec.

【0048】[再生条件] ディスク回転速度=180
0rpm 、読出レーザパワー=1.5mW。
[Reproduction conditions] Disk rotation speed = 180
0 rpm, reading laser power = 1.5 mW.

【0049】さらに、レーザ光に対する長期安定性を測
定した。判断基準は、回転させたディスクの半径30m
m位置の特定トラックにレーザを連続照射しながらディ
スクを適当な回転数だけ回転させた後C/Nを測定し、
初期値からのC/Nが2dB低下する回転数を求め、その
回数が多いもの程安定であると考えた。レーザの連続照
射時のディスクの回転速度は、光磁気記録層の温度上昇
を加速する意味で300rpm とし、連続照射するレーザ
パワーは6mWとした。C/N測定の方法及び記録・再
生条件は前述した通りである。
Further, the long-term stability to laser light was measured. The criterion is a radius 30m of the rotated disk.
The C / N is measured after rotating the disk by an appropriate number of rotations while continuously irradiating a specific track at the m position with the laser,
The number of rotations at which the C / N from the initial value was reduced by 2 dB was determined, and it was considered that the larger the number of rotations, the more stable. The rotation speed of the disk during continuous laser irradiation was 300 rpm in order to accelerate the temperature rise of the magneto-optical recording layer, and the laser power for continuous irradiation was 6 mW. The C / N measurement method and the recording / reproducing conditions are as described above.

【0050】最適記録レーザパワー、C/N、ピークシ
フト、C/Nが2dB低下するレーザ照射回数の各測定結
果は次の通りである。
The measurement results of the optimum recording laser power, C / N, peak shift, and the number of laser irradiations at which the C / N is reduced by 2 dB are as follows.

【0051】実施例では、最適記録レーザパワー=4.
5mW、C/N最大値=48.7dB、ピークシフト=
9.2nsec 、C/N2dB低下のレーザ照射回数=3.
8×103 回。
In the embodiment, the optimum recording laser power = 4.
5 mW, C / N maximum value = 48.7 dB, peak shift =
9.2 ns, the number of laser irradiations with C / N 2 dB reduction = 3.
8 × 10 3 times.

【0052】比較例1では、最適記録レーザパワー=
4.5mW、C/N最大値=48.4dB、ピークシフト
=12.8nsec 、C/N2dB低下のレーザ照射回数=
2.0×10回。
In Comparative Example 1, the optimum recording laser power =
4.5 mW, C / N maximum value = 48.4 dB, peak shift = 12.8 nsec, number of laser irradiations with C / N 2 dB reduction =
2.0 × 10 times.

【0053】比較例2では、最適記録レーザパワー=
5.7mW、C/N最大値=48.3dB、ピークシフト
=10.8nsec 、C/N2dB低下のレーザ照射回数=
6.5×102 回。
In Comparative Example 2, the optimum recording laser power =
5.7 mW, C / N maximum value = 48.3 dB, peak shift = 10.8 nsec, number of times of laser irradiation with C / N 2 dB decrease =
6.5 × 10 2 times.

【0054】AlSiONH膜を用いた実施例ではいずれの
特性とも良好であったが、比較例1ではピークシフト値
及びレーザ光に対する安定性が悪い。また金属反射層の
膜厚を厚くすると、ピークシフト及びレーザ光に対する
安定性が若干向上するが、最適記録パワーが増加し、記
録感度が低下する。
In the example using the AlSiONH film, all the characteristics were good, but in Comparative Example 1, the peak shift value and the stability to the laser beam were poor. Increasing the thickness of the metal reflective layer slightly improves peak shift and stability against laser light, but increases the optimum recording power and lowers the recording sensitivity.

【0055】また実施例の光磁気ディスクを、80℃/
85%相対湿度下で2000時間放置したが特性の低下
は全くみられなかった。
Further, the magneto-optical disk of the embodiment was set at 80 ° C. /
After leaving for 2,000 hours at 85% relative humidity, no deterioration in characteristics was observed.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明は以上詳述したごとく、透明誘電
体層と金属反射層の特性を生かし、高C/Nで、記録感
度が良く、しかも、レーザ光に対する長期安定性に優れ
た光磁気記録媒体を得られる。
As described in detail above, the present invention makes use of the characteristics of the transparent dielectric layer and the metal reflective layer to achieve high C / N, good recording sensitivity, and excellent long-term stability to laser light. A magnetic recording medium can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】熱伝導率測定配置図FIG. 1 is a layout diagram of the thermal conductivity measurement.

【図2】ピークシフト説明図FIG. 2 is an explanatory diagram of a peak shift.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 金属薄膜(サンプル) 3〜6 Au電極 1 Glass substrate 2 Metal thin film (sample) 3-6 Au electrode

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板上に光磁気記録層、金属反射層が順次
積層された光磁気記録媒体において、前記光磁気記録層
と前記金属反射層との間に、Al、Siの少なくともいずれ
かよりなる窒化物、酸化物、あるいは窒酸化物であっ
て、Al−OH、Si−OHの少なくともいずれかを含有す
る透明断熱層が設けられており、さらに金属窒化物から
なる透明誘電体層が光磁気記録層と透明断熱層との間お
よび/または光磁気記録層と基板との間に設けられてお
り、かつ前記金属反射層は熱伝導率×膜厚の値が1.3
μW/K以上であることを特徴とする光磁気記録媒体。
In a magneto-optical recording medium in which a magneto-optical recording layer and a metal reflective layer are sequentially laminated on a substrate, at least one of Al and Si is provided between the magneto-optical recording layer and the metal reflective layer. nitrides comprising an oxide or a nitride oxide, Al-OH, and the transparent heat insulating layer is provided that contains at least one of Si-OH, from further metal nitride
Transparent dielectric layer between the magneto-optical recording layer and the transparent heat insulating layer.
And / or provided between the magneto-optical recording layer and the substrate.
And the metal reflective layer has a value of thermal conductivity × thickness of 1.3.
A magneto-optical recording medium characterized by being at least μW / K.
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