JP2803155B2 - Chloroprene block copolymer - Google Patents
Chloroprene block copolymerInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、クロロプレンブロック共重合体に関するも
のである。更に詳しくは、パッキン、接着剤、靴底材、
ホース、チューブ、自動車部品等の材料に用いることの
できる、中間ブロックにクロロプレンを有する、ABA型
トリブロック共重合体に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a chloroprene block copolymer. More specifically, packing, adhesives, shoe soles,
The present invention relates to an ABA-type triblock copolymer having chloroprene in an intermediate block, which can be used for materials such as hoses, tubes, and automobile parts.
[従来の技術] クロロプレンと種々の単量体との共重合体の製造に関
しては、いくつかの報告がある。例えば、イソブチルビ
ニルエーテルとのカチオングラフト共重合[ジャーナル
オブ マクロモレキュラーサイエンス誌(J.Macromo
l.Sci.,)A14巻、5号、729頁、1980年]、アクリロニ
トリルとのイオン交互共重合[ジャーナル オブ マク
ロモレキュラーサイエンス誌(J.Macromol.Sci.,)A6
巻、3号、439頁、1972年]およびビニルピリジンとの
ラジカル共重合[Chung−Kuo K'O Hsueh Yuan Ying Ha
u Hsueh Yen Chiu So Chi K'an.,7巻、26頁、1963年]
等が知られている。[Prior Art] There have been several reports on the production of copolymers of chloroprene and various monomers. For example, cationic graft copolymerization with isobutyl vinyl ether [Journal of Macromolecular Science (J. Macromo
l.Sci.,) A14, Issue 5, p. 729, 1980], Ion alternating copolymerization with acrylonitrile [Journal of Macromolecular Science (J. Macromol. Sci.,) A6
Volume 3, No. 439, 1972] and radical copolymerization with vinylpyridine [Chung-Kuo K'O Hsueh Yuan Ying Ha]
u Hsueh Yen Chiu So Chi K'an., Vol. 7, p. 26, 1963]
Etc. are known.
しかしながら、クロロプレンを中間相にもつABA型ト
リブロック共重合体は知られていない。ABA型ブロック
共重合体は、スチレン−ブタジエン−スチレン(SBS)
ブロック共重合体の製造で代表されるように、リビング
アニオン重合法によって製造されるのが一般的である。
そこで、クロロプレンのイオン重合が従来から検討され
て来た[例えば、ブィソコモレキュラーニエ ソエヂネ
ニア(Vysokomol.Soyed.)6巻、9号、1637頁、1964
年、Vysokomol.Soyed.3巻、5号、798頁、1961年、Vyos
okomol.Soyed.19巻、12号、2793頁、1977年等]。しか
しながら、クロロプレン単量体が有する塩素原子と金属
系触媒との相互作用が非常に大きく、塩素原子の引き抜
き、触媒の失活などが起こり易いため、現在のところイ
オン重合が成功した例はない。However, an ABA-type triblock copolymer having chloroprene as an intermediate phase is not known. ABA type block copolymer is styrene-butadiene-styrene (SBS)
As represented by the production of a block copolymer, it is generally produced by a living anionic polymerization method.
Therefore, ionic polymerization of chloroprene has been studied conventionally [for example, Vysokomol. Soyed., Vol. 6, No. 9, p. 1637, 1964.
Vysokomol.Soyed.3, 5, 798, 1961, Vyos
okomol. Soyed. 19, 12, 2793, 1977, etc.]. However, the interaction between the chlorine atom of the chloroprene monomer and the metal-based catalyst is very large, and the removal of the chlorine atom and the deactivation of the catalyst are likely to occur.
[発明が解決しようとする課題] 本発明は、上記に鑑みなされたもので、中間ブロック
にクロロプレンを有する、ABA型トリブロック共重合体
を提供する。[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in view of the above, and provides an ABA-type triblock copolymer having chloroprene in an intermediate block.
[課題を解決するための手段] 即ち、本発明は、クロロプレン単量体残基(M1)から
なるクロロプレンポリマーブロックと、下記の一般式
(1) (式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2は水素
原子またはた炭素数1〜18のアルキル基、アリル基また
はアルコキシ基を表す。)で表される単量体残基(M2)
からなるアクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル
酸およびメタクリル酸エステルの少なくとも一種よりな
るポリマーブロックで構成され、下記の一般式(2)で
表されるクロロプレンブロック共重合体 (式中、M1はクロロプレン単量体残基を、M2は前記のア
クリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸およびメ
タクリル酸エステル単量体残基を表し、R3、R4は炭素数
1〜4のアルキル基を表す。R3、R4は同一であっても、
異なってもかまわない。ここで、n、mはいづれも20〜
5000の自然数である。)に関するものである。[Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides a chloroprene polymer block composed of a chloroprene monomer residue (M 1 ) and a chloroprene polymer block represented by the following general formula (1): (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an allyl group or an alkoxy group.) M 2)
Chloroprene block copolymer composed of a polymer block composed of at least one of acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid and methacrylic acid ester, which is represented by the following general formula (2): (Wherein, M 1 represents a chloroprene monomer residue, M 2 represents the above-mentioned acrylic acid, acrylate, methacrylic acid, and methacrylic acid ester monomer residue, and R 3 and R 4 each have 1 carbon atom. Represents an alkyl group of 4 to 4. Even if R 3 and R 4 are the same,
It can be different. Here, n and m are both 20 to
This is a natural number of 5000. ).
本発明のブロック共重合体は、下記一般式(3) (式中、R3、R4は炭素数1〜4のアルキル基を表す。
R2、R4は同一であっても、異なってもかまわない。)で
表される、複数個のジチオカーバメイト基を有する開始
剤を用いて合成される。この開始剤を用いたABA型ブロ
ック共重合体の製造法自体は公知である[例えば、高分
子論文集、40巻、583頁、1983年]。The block copolymer of the present invention has the following general formula (3) (Wherein, R 3 and R 4 represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms).
R 2 and R 4 may be the same or different. ) And is synthesized using an initiator having a plurality of dithiocarbamate groups. A method for producing an ABA-type block copolymer using this initiator is known per se (for example, Jpn. Polymer, Vol. 40, p. 583, 1983).
本発明のABA型ブロック共重合体は、この反応を利用
して以下の2段階の反応により合成される。The ABA type block copolymer of the present invention is synthesized by the following two-step reaction utilizing this reaction.
先ず、一般式(3)で表されるジチオカーバメイト化
合物を用いてクロロプレンを光重合させ、一般式(4) (式中、R3、R4は前記の通りである。M1はクロロプレン
単量体残基を表す。nは20〜5000の自然数である。)で
表される両末端ジチオカーバメイト化クロロプレンを得
る。First, chloroprene is photopolymerized using a dithiocarbamate compound represented by the general formula (3), (Wherein, R 3 and R 4 are as described above; M 1 represents a chloroprene monomer residue; n is a natural number of 20 to 5000). obtain.
次にこれを開始剤として、一般式(2)中M2で表され
るアクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メ
タクリル酸エステル単量体の少なくとも一種を光重合さ
せることにより所望のABA型トリブロック共重合体が得
られる。Next, using this as an initiator, at least one of acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid, and methacrylic acid ester monomer represented by M 2 in the general formula (2) is photopolymerized to obtain a desired ABA-type A block copolymer is obtained.
本発明で用いられるメタクリル酸エステル単量体とし
ては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタク
リル酸等が例示され、アクリル酸エステルモノマーとし
ては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ヘキ
シル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸2−エチル
ヘキシル、アクリル酸イソノニル、アクリル酸デシル、
アクリル酸ステアリル、アクリル酸ヒドロキシエチル、
アクリル酸2−メトキシエチル、アクリル酸2−エトキ
シエチル、アクリル酸2−ブトキシエチル、アクリル酸
等が例示される。Examples of the methacrylate monomer used in the present invention include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, and methacrylic acid.Examples of the acrylate monomer include methyl acrylate, Ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, hexyl acrylate, isooctyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isononyl acrylate, decyl acrylate,
Stearyl acrylate, hydroxyethyl acrylate,
Examples thereof include 2-methoxyethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-butoxyethyl acrylate, and acrylic acid.
1段目、2段目いずれの光重合反応においても、該ジ
チオカルバメートの分解、ラジカル発生に必要な波長、
例えば300〜500nmの紫外線が用いられる。In any of the first-stage and second-stage photopolymerization reactions, the wavelength required for decomposition of the dithiocarbamate and generation of radicals,
For example, ultraviolet rays of 300 to 500 nm are used.
1段目、2段目の重合反応は、塊状、懸濁状、分散
状、スラリー状、エマルジョン状のいずれの状態で行な
っても問題はない。There is no problem if the first-stage and second-stage polymerization reactions are carried out in any state of lump, suspension, dispersion, slurry, and emulsion.
溶液重合に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族系炭化水素
溶媒、酢酸エチルなど300〜500nmの紫外線に特性吸収を
持たず、連鎖移動定数の小さいものが好ましい。重合
は、脱酸素下または窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下
で行う。重合温度は、−80〜100℃の範囲であれば問題
ないが、0〜50℃が最も好ましい。As a solvent used for the solution polymerization, an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene, and a solvent such as ethyl acetate which does not have characteristic absorption to ultraviolet rays of 300 to 500 nm and has a small chain transfer constant are preferable. The polymerization is carried out under deoxygenation or under an inert atmosphere such as nitrogen or argon. There is no problem if the polymerization temperature is in the range of -80 to 100C, but 0 to 50C is most preferable.
本発明によれば、耐薬品性、耐候性、染色性に優れる
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリル
酸、及びメタクリル酸単量体残基を末端ブロックとし、
化学的安定性、耐油性に優れるクロロプレンゴムを中間
ブロックとするABA型ブロック共重合体が得られる。According to the present invention, chemical resistance, weather resistance, acrylic acid ester excellent in dyeability, methacrylic acid ester, acrylic acid, and a methacrylic acid monomer residue as a terminal block,
An ABA type block copolymer having chloroprene rubber as an intermediate block having excellent chemical stability and oil resistance can be obtained.
[実施例] 以下、実施例により本発明を説明するが、これは何等
本発明を限定するものではない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
尚、本発明の共重合体の同定および定性に用いた分析
方法及び条件を以下に記す。The analysis method and conditions used for identification and qualification of the copolymer of the present invention are described below.
(1)赤外吸収スペクトル(IR) 機種 日本分光IR−810型赤外分光光度計 測定方法 NaC1基上キャスト法 (2)プロトン核磁気共鳴スペクトル(H−NMR) 機種 Varian EM360A NMR Spectrometer (3)ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC) 機種 TOSOH HLC−802ACP−8III(データ処理装
置) 充填カラム スチレン−ジビニルベンゼン共重合
体ゲル TSKgel G7000H6/G6000H6/G3000H8系 測定条件 カラム温度 38℃ 流速 1.8ml/min ピーク検出 示差屈折計 溶離液 テトラヒドロフラン 実施例1 理工科学産業株式会社製の光化学反応装置 (100W水銀灯UVL−100HA内臓)を用いて、以下の手順
により重合を行なった。尚、単量体、溶媒および開始剤
は、常法により十分乾燥ならびに脱気を行った後重合に
用いた。(1) Infrared absorption spectrum (IR) Model JASCO IR-810 infrared spectrophotometer Measurement method Casting method on NaC1 base (2) Proton nuclear magnetic resonance spectrum (H-NMR) Model Varian EM360A NMR Spectrometer (3) Gel permeation chromatography (GPC) Model TOSOH HLC-802ACP-8III (Data processing unit) Packed column Styrene-divinylbenzene copolymer gel TSKgel G7000H6 / G6000H6 / G3000H8 system Measurement conditions Column temperature 38 ° C Flow rate 1.8ml / min Peak detection Differential Refractometer Eluent Tetrahydrofuran Example 1 Polymerization was carried out by the following procedure using a photochemical reactor (100 W mercury lamp UVL-100HA built-in) manufactured by Riko Kagaku Sangyo Co., Ltd. The monomers, the solvent and the initiator were used for polymerization after sufficiently drying and degassing by a conventional method.
反応器を充分窒素置換した後、下記の構造式 で表されるパラキシリレンビスN,Nジエチルジチオカー
バメイト(以下XDCと略称する。)0.6g、ベンゼン200
g、クロロプレン単量体56gを仕込み、窒素雰囲気下十分
撹拌しながら10℃で約20時間紫外線照射を行なった。After sufficiently replacing the reactor with nitrogen, the following structural formula 0.6 g of paraxylylenebis N, N diethyldithiocarbamate (hereinafter abbreviated as XDC) represented by
g and 56 g of a chloroprene monomer were charged and irradiated with ultraviolet light at 10 ° C. for about 20 hours with sufficient stirring under a nitrogen atmosphere.
重合終了後、反応溶液を多量のメタノールを用いて再
沈精製し、真空乾燥することにより、74%の収率でクロ
ロプレンポリマーが得られた。また、液体クロマトグラ
フィーより、生成ポリマー中には未反応のXDCが含まれ
ないことを確認した。よってXDCは全てクロロプレンポ
リマーに付加したものと考えられる。After the completion of the polymerization, the reaction solution was purified by reprecipitation using a large amount of methanol, and dried under vacuum to obtain a chloroprene polymer in a yield of 74%. In addition, liquid chromatography confirmed that unreacted XDC was not contained in the produced polymer. Therefore, it is considered that XDC was all added to the chloroprene polymer.
精製ポリマーのゲル浸透クロマトグラフィーによる分
子量測定を行ったところ、ポリスチレン換算で数平均分
子量(Mn)が70000であり、重量平均分子量(Mw)は192
000であった。When the molecular weight of the purified polymer was measured by gel permeation chromatography, the number average molecular weight (Mn) was 70,000 in terms of polystyrene, and the weight average molecular weight (Mw) was 192.
000.
次に、該ポリマー6.75gおよびベンゼン100gを前記の
反応器に入れ、ポリマーを完全に溶解した。続いて、メ
タクリル酸メチル16.20gを加えよく混合した後、撹拌下
30℃で20時間紫外線照射して重合を行った。Next, 6.75 g of the polymer and 100 g of benzene were charged into the reactor, and the polymer was completely dissolved. Subsequently, 16.20 g of methyl methacrylate was added and mixed well, followed by stirring.
Ultraviolet irradiation was performed at 30 ° C. for 20 hours to perform polymerization.
反応終了後、内容物を多量のメタノールに投入し沈澱
させ、18.01gのポリマーが得られた。生成ポリマーは全
てアセトンに可溶であった。更に、生成ポリマーのアセ
トン溶液にメタノールを添加して行くことによって分別
沈澱を行った。アセトンの1.2倍量(体積比)のメタノ
ールを加えたところでポリマーの沈澱が起こり、沈澱物
(a)と溶解物(b)とを分別した。収量は各々16.85g
及び0.97gであった。After the completion of the reaction, the content was poured into a large amount of methanol to precipitate, and 18.01 g of a polymer was obtained. All of the resulting polymers were soluble in acetone. Further, fractional precipitation was performed by adding methanol to an acetone solution of the produced polymer. When methanol was added in an amount 1.2 times the volume of acetone (volume ratio), precipitation of the polymer occurred, and the precipitate (a) and the dissolved substance (b) were separated. Yield 16.85g each
And 0.97 g.
分別物(a)、(b)について、IR、H−NMR測定を
行った結果、第1図及び第2図に示すように、ポリマー
(a)は、クロロプレンとメタクリル酸メチルの両者を
含有し、その単量体残基のモル比が、クロロプレン/メ
タクリル酸メチル=0.625であった。一方、ポリマー
(b)はメタクリル酸メチルのホモポリマーであった。The fractions (a) and (b) were subjected to IR and H-NMR measurements. As a result, as shown in FIGS. 1 and 2, the polymer (a) contained both chloroprene and methyl methacrylate. The molar ratio of the monomer residues was chloroprene / methyl methacrylate = 0.625. On the other hand, the polymer (b) was a homopolymer of methyl methacrylate.
生成ポリマーの分子量は、 ポリマー(a) Mn=197000 Mw=416000 ポリマー(b) Mn= 65000 Mw=110000 であった。 The molecular weight of the produced polymer was as follows: polymer (a) Mn = 197,000 Mw = 416000 polymer (b) Mn = 65,000 Mw = 110,000
開始剤が2官能であること、および以上の結果より、
ポリマー(a)はメタクリル酸メチルポリマーブロック
AおよびクロロプレンポリマーブロックBからなるABA
型ブロック共重合体であることが結論づけられる。From the fact that the initiator is bifunctional and the above results,
The polymer (a) is an ABA comprising a methyl methacrylate polymer block A and a chloroprene polymer block B.
It is concluded that this is a type block copolymer.
実施例2 実施例1で用いたメタクリル酸メチル 16.20gの代わりに、アクリル酸メチルを使用し、その
他は実施例1と同条件でブロック共重合体を合成した。
生成ポリマーは、アセトン/メタノール混合溶媒を用い
た分別沈澱により精製し、真空乾燥した。その結果アク
リル酸メチルホモポリマー1.10gと、構成単量体残基の
モル比がクロロプレン/アクリル酸メチル=0.526なる
ポリマー19.10gが得られた。後者共重合体の分子量は、
Mn=200000、Mw=453000であった。用いた開始剤が2官
能であること、および分子量変化から、このポリマーが
アクリル酸メチルポリマーブロックAおよびポリクロロ
プレンブロックBからなるABA型ブロック共重合体であ
ると結論づけられる。Example 2 A block copolymer was synthesized under the same conditions as in Example 1 except that methyl acrylate was used instead of 16.20 g of methyl methacrylate used in Example 1.
The resulting polymer was purified by fractional precipitation using an acetone / methanol mixed solvent, and dried under vacuum. As a result, 1.10 g of a methyl acrylate homopolymer and 19.10 g of a polymer having a molar ratio of constituent monomer residues of chloroprene / methyl acrylate = 0.526 were obtained. The molecular weight of the latter copolymer is
Mn = 200000 and Mw = 453000. From the fact that the initiator used was bifunctional and the molecular weight changed, it was concluded that this polymer was an ABA-type block copolymer consisting of a methyl acrylate polymer block A and a polychloroprene block B.
第1図および第2図は、それぞれ本発明の実施例1で得
られたポリマー(a)のプロトン核磁気共鳴スペクト
ル、赤外吸収スペクトルを示す。1 and 2 show a proton nuclear magnetic resonance spectrum and an infrared absorption spectrum of the polymer (a) obtained in Example 1 of the present invention, respectively.
Claims (1)
ロロプレンポリマーブロックと、下記の一般式(1) (式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2は水素
原子、炭素数1〜18のアルキル基、または若しくはアル
コキシ基若しくは水酸基で置換された炭素数1〜18のア
ルキル基を表す。) で表される単量体残基(M2)からなるアクリル酸、アク
リル酸エステル、メタクリル酸及びメタクリル酸エステ
ルの少なくとも一種よりなるポリマーブロックで構成さ
れ、下記の一般式(2)で表されるクロロプレンブロッ
ク共重合体。 (式中、M1はクロロプレン単量体残基を、M2は前記のア
クリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸およびメ
タクリル酸エステル単量体残基の少なくとも一種を表
し、R3、R4は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R3、R4
は同一であっても、異なってもかまわない。ここで、
n、mはいづれも20から5000の自然数である。)1. A chloroprene polymer block comprising a chloroprene monomer residue (M 1 ) and a compound represented by the following general formula (1): (Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms substituted with an alkoxy group or a hydroxyl group. .) Is a polymer block composed of at least one of acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid and methacrylic acid ester comprising a monomer residue (M 2 ) represented by the following general formula (2). Chloroprene block copolymer. (Wherein, M 1 represents a chloroprene monomer residue, M 2 represents at least one of the above-mentioned acrylic acid, acrylic ester, methacrylic acid and methacrylic ester monomer residues, and R 3 and R 4 represent Represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 3 and R 4
May be the same or different. here,
Both n and m are natural numbers from 20 to 5000. )
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