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JP2600859B2 - セメント瓦の端面仕上げ方法 - Google Patents

セメント瓦の端面仕上げ方法

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JP2600859B2
JP2600859B2 JP27180988A JP27180988A JP2600859B2 JP 2600859 B2 JP2600859 B2 JP 2600859B2 JP 27180988 A JP27180988 A JP 27180988A JP 27180988 A JP27180988 A JP 27180988A JP 2600859 B2 JP2600859 B2 JP 2600859B2
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JP
Japan
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cement
face
finishing
cement tile
tile
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JP27180988A
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English (en)
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JPH02116518A (ja
Inventor
由幸 藤原
清 間所
章彦 田中
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はセメント瓦の端面仕上げ方法に関するもので
あり、更に詳しくは略矩形状で一辺のみ点対称な波形を
有するセメント瓦を2枚、波形部分を互いに嵌合して一
対のセメント板を形成したのち、該セメント板の四周を
仕上げ加工することを特徴とするセメント瓦の端面仕上
げ方法であり、主としてセメント瓦の製造事業分野で汎
く活用されているものである。
〔従来の技術〕
従来、この種のセメント瓦の端面仕上げ方法として
は、第3図に示すように、例えばまず辺(イ)と辺
(イ)とをバフ仕上げを行うとともに、回転テーブル
(図示せず)上で90゜回転せしめ、次いで辺(ロ)をバ
フ仕上げしたのち、同様の工程を踏んで辺(イ)、
(イ)、(ロ)に塗装仕上げを行うのが汎く行なわれて
いた技術であった。尚図中(ハ)はバフ加工機である。
〔発明が解決しようとする課題〕 従来の技術は上記した通りではあるが、セメント瓦
(ニ)の方向転換を幾度も行なわねばらないし、又、そ
の結果端面に多くの傷が、付き易いという問題点を有し
ていた。そこでかかる従来技術における欠点を悉く解消
する目的で、本発明を成し遂げた研究開発者等は日夜の
困難な研究の末に、極めて新規性に溢れているととも
に、有用性に富んだセメント瓦の端面仕上げ方法を完成
し、ここに汎く社会に提供することによって、斯界の益
々の隆盛進展に寄与せんとするものである。
〔課題を解決する為の手段〕
本発明は特許請求の範囲にも記載した通り、略矩形状
で一辺のみ点対称な波形を有するセメント瓦を2枚、波
形部分を相互に嵌合して1対のセメント板を形成したの
ち、該セメント板の四周を仕上げ加工することを特徴と
するセメント瓦の端面仕上げ方法であり、仕上げ加工と
してはバフ仕上げ、塗装仕上げ、又はバフ仕上げと塗装
仕上げを組み合せたものがある。
〔実施例〕
以下、本発明を第1図及び第2図の実施例に基づいて
詳細に説明する。
本発明は一辺が30cm乃至1mの全体が略矩形状となって
いるとともに一辺のみが、点対称な波形をした、厚み5m
/m乃至10m/mのセメント瓦(1)を2枚、波形の辺を相
互に嵌合して1対のセメント板(2)を形成したのち、
該セメント瓦(2)の四周をまずバフ仕上げし、次いで
同様にセメント板(2)の四周の塗装仕上げを行なった
のち、嵌合をはずして2枚のセメント瓦(1)(1)と
するセメント瓦の端面仕上げ方法である。図中(3)は
バフ加工機である。
本発明においてセメント板(2)の相対応せる2辺の
仕上げ加工を行なったのち、囲転テーブル(図示せず)
上で90度回転せしめ、残りの相対応せる2辺の仕上げ加
工を行えば、四周の仕上げ加工は簡便に行うことが出来
る。
又、本発明においては多数枚のセメント板(2)
(2)…を重ね合せて、端面の仕上げ加工を行なって
も、本発明の権利範囲に入ることは云うまでもない。
〔発明の効果〕
本発明のセメント瓦の端面仕上げ方法は上記の如く構
成されているので、セメント瓦の動作回数が少なくなる
のでセメント瓦の損壊が少なく、又設備も簡便なものを
となり、設備故障も少くなり、更にバフ仕上げ、塗装仕
上げも確実に行え、端面が美麗に仕上がるという効果を
有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る2枚のセメント瓦を波形部分で嵌
合せしめた様子を示す平面図、第2図は同上のセメント
瓦の端面仕上げを示す概略工程模式図、第3図は従来技
術の概略工程模式図である。 1……セメント瓦、2……セメント板、3……バフ加工
機。

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】略矩形状で一辺のみ点対称な波形を有する
    セメント瓦を2枚、波形部分を互いに嵌合して一対のセ
    メント板を形成したのち、該セメント板の四周を仕上げ
    加工することを特徴とするセメント瓦の端面仕上げ方
    法。
  2. 【請求項2】バフ仕上げとする請求項(1)記載のセメ
    ント瓦の端面仕上げ方法。
  3. 【請求項3】塗装仕上げとする請求項(1)記載のセメ
    ント瓦の端面仕上げ方法。
  4. 【請求項4】バフ仕上げしたのち、塗装仕上げを行うと
    する請求項(1)記載のセメント瓦の端面仕上げ方法。
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