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JP2024158159A - DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - Patent application - Google Patents

DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - Patent application Download PDF

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JP2024158159A
JP2024158159A JP2023073120A JP2023073120A JP2024158159A JP 2024158159 A JP2024158159 A JP 2024158159A JP 2023073120 A JP2023073120 A JP 2023073120A JP 2023073120 A JP2023073120 A JP 2023073120A JP 2024158159 A JP2024158159 A JP 2024158159A
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JP
Japan
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main surface
substrate
extension
protrusion
protruding
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Application number
JP2023073120A
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Japanese (ja)
Inventor
浩 川口
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Sharp Display Technology Corp
Original Assignee
Sharp Display Technology Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Display Technology Corp filed Critical Sharp Display Technology Corp
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

Figure 2024158159000001

【課題】第1基板と第2基板との間の間隔が一定以上にならないよう保つ。
【解決手段】デバイス11は、第1主面11A1を有する第1基板11Aと、第1主面11A1と間隔を空けて対向する第2主面11B2を有する第2基板11Bと、第1基板11Aに設けられて第1主面11A1から第2主面11B2側に向けて突出する第1突出部28と、第1突出部28から第1主面11A1に沿って延出し、第1主面11A1との間に間隔を空けて配される第1延出部29と、第2基板11Bに設けられて第2主面11B2から第1主面11A1側に向けて突出する第2突出部30と、第2突出部30から第2主面11B2に沿って延出し、第2主面11B2との間に第1延出部29を挟むよう配される第2延出部31と、を備える。
【選択図】図5

Figure 2024158159000001

The distance between a first substrate and a second substrate is kept constant.
[Solution] The device 11 comprises a first substrate 11A having a first main surface 11A1, a second substrate 11B having a second main surface 11B2 facing the first main surface 11A1 with a gap therebetween, a first protrusion 28 provided on the first substrate 11A and protruding from the first main surface 11A1 toward the second main surface 11B2, a first extension 29 extending from the first protrusion 28 along the first main surface 11A1 and arranged with a gap between it and the first main surface 11A1, a second protrusion 30 provided on the second substrate 11B and protruding from the second main surface 11B2 toward the first main surface 11A1, and a second extension 31 extending from the second protrusion 30 along the second main surface 11B2 and arranged so as to sandwich the first extension 29 between the second substrate 11B1 and the second main surface 11B2.
[Selected figure] Figure 5

Description

本明細書が開示する技術は、デバイス及びデバイスの製造方法に関する。 The technology disclosed in this specification relates to devices and methods for manufacturing devices.

従来、デバイスの一種である液晶セル(液晶パネル)の一例として下記特許文献1に記載されたものが知られている。特許文献1には、第1基板および第2基板の間に挟持された液晶層と、液晶層の厚みを制御する厚み制御素子と、を備えた液晶セルが記載されている。特許文献1に記載の液晶セルは、上記厚み制御素子が第1基板に形成された第1スペーサーと、第2基板に形成された第2スペーサーを含み、両スペーサーが当接して液晶層の厚みを制御しており、スペーサーがドット間の非表示領域に形成されている。 Conventionally, one example of a liquid crystal cell (liquid crystal panel), which is a type of device, is known, as described in Patent Document 1 below. Patent Document 1 describes a liquid crystal cell that includes a liquid crystal layer sandwiched between a first substrate and a second substrate, and a thickness control element that controls the thickness of the liquid crystal layer. In the liquid crystal cell described in Patent Document 1, the thickness control element includes a first spacer formed on the first substrate and a second spacer formed on the second substrate, and the two spacers abut against each other to control the thickness of the liquid crystal layer, and the spacers are formed in the non-display areas between the dots.

特開2002-162632号公報JP 2002-162632 A

上記した特許文献1に記載された厚み制御素子は、液晶層の厚みが一定以下にならないよう制御するのに機能する。しかしながら、例えば液晶セルを縦置き状態で使用した場合、液晶材料が液晶セルの下部付近に溜まり、液晶セルの下部付近において液晶層の厚みが規定値よりも大きくなる、という問題が生じることが懸念される。このような問題に、特許文献1に記載された厚み制御素子では対処できなかった。 The thickness control element described in Patent Document 1 functions to control the thickness of the liquid crystal layer so that it does not fall below a certain level. However, for example, when the liquid crystal cell is used in a vertical position, there is a concern that the liquid crystal material may accumulate near the bottom of the liquid crystal cell, causing the thickness of the liquid crystal layer near the bottom of the liquid crystal cell to exceed the specified value. The thickness control element described in Patent Document 1 was unable to address such a problem.

本明細書に記載の技術は、上記のような事情に基づいて完成されたものであって、第1基板と第2基板との間の間隔が一定以上にならないよう保つことを目的とする。 The technology described in this specification was developed based on the above circumstances, and aims to keep the gap between the first and second substrates at a constant value.

(1)本明細書に記載の技術に関わるデバイスは、第1主面を有する第1基板と、前記第1主面と間隔を空けて対向する第2主面を有する第2基板と、前記第1基板に設けられて前記第1主面から前記第2主面側に向けて突出する第1突出部と、前記第1突出部から前記第1主面に沿って延出し、前記第1主面との間に間隔を空けて配される第1延出部と、前記第2基板に設けられて前記第2主面から前記第1主面側に向けて突出する第2突出部と、前記第2突出部から前記第2主面に沿って延出し、前記第2主面との間に前記第1延出部を挟むよう配される第2延出部と、を備える。 (1) A device related to the technology described in this specification includes a first substrate having a first main surface, a second substrate having a second main surface facing the first main surface with a gap therebetween, a first protrusion provided on the first substrate and protruding from the first main surface toward the second main surface, a first extension extending from the first protrusion along the first main surface and disposed with a gap between the first main surface and the first extension, a second protrusion provided on the second substrate and protruding from the second main surface toward the first main surface, and a second extension extending from the second protrusion along the second main surface and disposed so as to sandwich the first extension between the second substrate and the second main surface.

(2)また、上記デバイスは、上記(1)に加え、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持されて液晶材料からなる液晶層を備えてもよい。 (2) In addition to (1) above, the device may also include a liquid crystal layer made of a liquid crystal material sandwiched between the first substrate and the second substrate.

(3)また、上記デバイスは、上記(2)に加え、複数の画素と、隣り合う前記画素の間に配されて光を遮る遮光部と、を備えており、前記第1突出部、前記第1延出部、前記第2突出部及び前記第2延出部は、前記遮光部と重畳して配されてもよい。 (3) In addition to the above (2), the device may further include a plurality of pixels and a light-shielding portion disposed between adjacent pixels to block light, and the first protrusion, the first extension, the second protrusion, and the second extension may be disposed to overlap the light-shielding portion.

(4)また、上記デバイスは、上記(2)に加え、前記第1基板と前記第2基板との間に介在し、前記液晶層を取り囲んでいて前記液晶層を封止する封止部を備えており、前記第1突出部、前記第1延出部、前記第2突出部及び前記第2延出部は、前記封止部と重畳して配されてもよい。 (4) In addition to the above (2), the device may further include a sealing portion interposed between the first substrate and the second substrate, surrounding the liquid crystal layer and sealing the liquid crystal layer, and the first protrusion, the first extension, the second protrusion, and the second extension may be arranged to overlap the sealing portion.

(5)また、上記デバイスは、上記(2)から上記(4)のいずれかに加え、前記第1基板には、前記第1主面から前記第2主面側に向けて突出するスペーサが設けられ、前記第2基板には、前記第2主面から前記第1主面側に向けて突出して前記スペーサと対向して配されるバンプが設けられ、前記第1突出部及び前記第1延出部は、前記スペーサと同じ材料からなり、前記第2突出部及び前記第2延出部は、前記バンプと同じ材料からなってもよい。 (5) In addition to any one of (2) to (4), the device may further include a spacer protruding from the first main surface toward the second main surface of the first substrate, a bump protruding from the second main surface toward the first main surface of the second substrate and disposed opposite the spacer, the first protruding portion and the first extending portion being made of the same material as the spacer, and the second protruding portion and the second extending portion being made of the same material as the bump.

(6)本明細書に記載の技術に関わるデバイスの製造方法は、第1基板の第1主面から突出する第1突出部と、前記第1突出部から前記第1主面に沿って延出していて前記第1主面との間に間隔を空けて配される第1延出部と、を設け、第2基板の第2主面から突出する第2突出部と、前記第2突出部から前記第2主面に沿って延出していて前記第2主面との間に間隔を空けて配される第2延出部と、を設け、前記第1主面と前記第2主面とが対向していて、前記第1突出部及び前記第1延出部と前記第2突出部及び前記第2延出部とが非重畳になるよう、前記第1基板と前記第2基板とを配し、前記第1基板と前記第2基板との間の間隔を調整し、前記第1延出部を前記第2主面と前記第2延出部との間に位置させ、前記第1基板と前記第2基板とを前記第1主面及び前記第2主面に沿う方向にスライドさせ、前記第2延出部と前記第2主面との間に前記第1延出部を挟ませる。 (6) A method for manufacturing a device related to the technology described in this specification includes providing a first protruding portion protruding from a first main surface of a first substrate and a first extending portion extending from the first protruding portion along the first main surface and spaced apart from the first main surface, providing a second protruding portion protruding from a second main surface of a second substrate and a second extending portion extending from the second protruding portion along the second main surface and spaced apart from the second main surface, arranging the first substrate and the second substrate such that the first main surface and the second main surface face each other and the first protruding portion and the first extending portion do not overlap with the second protruding portion and the second extending portion, adjusting the distance between the first substrate and the second substrate, positioning the first extending portion between the second main surface and the second extending portion, and sliding the first substrate and the second substrate in a direction along the first main surface and the second main surface to sandwich the first extending portion between the second extending portion and the second main surface.

(7)また、上記デバイスの製造方法は、上記(6)に加え、前記第1基板に前記第1突出部及び前記第1延出部を設けるにあたっては、前記第1基板の前記第1主面上に第1膜を成膜し、前記第1膜をパターニングして第1台座部を設け、前記第1膜の上層側に第2膜を成膜し、前記第2膜をパターニングして前記第1突出部と前記第1台座部の上層側に重なる前記第1延出部とを設け、前記第1台座部をエッチングして除去し、前記第2基板に前記第2突出部及び前記第2延出部を設けるにあたっては、前記第2基板の前記第2主面上に第3膜を成膜し、前記第3膜をパターニングして第2台座部を設け、前記第3膜の上層側に第4膜を成膜し、前記第4膜をパターニングして前記第2突出部と前記第2台座部の上層側に重なる前記第2延出部とを設け、前記第2台座部をエッチングして除去してもよい。 (7) In addition to the above (6), the method for manufacturing the device may further include forming a first film on the first main surface of the first substrate, patterning the first film to provide a first pedestal, forming a second film on the upper side of the first film, patterning the second film to provide the first protrusion and the first extension overlapping the upper side of the first pedestal, and etching and removing the first pedestal, and forming a third film on the second main surface of the second substrate, patterning the third film to provide a second pedestal, forming a fourth film on the upper side of the third film, patterning the fourth film to provide the second protrusion and the second extension overlapping the upper side of the second pedestal, and etching and removing the second pedestal.

本明細書に記載の技術によれば、第1基板と第2基板との間の間隔が一定以上にならないよう保つことができる。 The technology described in this specification makes it possible to maintain a constant distance between the first and second substrates.

実施形態1に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル、ドライバ及びフレキシブル基板の平面図FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal panel, a driver, and a flexible substrate that constitute a liquid crystal display device according to a first embodiment; 実施形態1に係る液晶パネル、ドライバ及びフレキシブル基板の断面図1 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel, a driver, and a flexible substrate according to a first embodiment; 実施形態1に係る液晶パネルの画素配列に示す平面図FIG. 1 is a plan view showing a pixel array of a liquid crystal panel according to a first embodiment; 実施形態1に係る液晶パネルの表示領域に備わる画素、スペーサ及びバンプ等の構成を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of pixels, spacers, bumps, and the like provided in the display area of the liquid crystal panel according to the first embodiment. 実施形態1に係る液晶パネルの表示領域に備わる第1突出部、第1延出部、第2突出部及び第2延出部等の構成を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of a first protrusion, a first extension, a second protrusion, and a second extension provided in a display area of the liquid crystal panel according to the first embodiment; 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成する対向基板製造工程の第4工程にて、第1金属膜をパターニングして第1台座部が設けられた状態を示す断面図FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state in which a first pedestal portion is provided by patterning a first metal film in a fourth step of a counter substrate manufacturing process constituting a manufacturing method of an array substrate according to the first embodiment; 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成する対向基板製造工程の第4工程にて、第1絶縁膜をパターニングして第1突出部及び第1延出部が設けられた状態を示す断面図FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state in which a first protruding portion and a first extending portion are provided by patterning a first insulating film in a fourth step of a counter substrate manufacturing process constituting a manufacturing method of an array substrate according to the first embodiment. 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成する対向基板製造工程の第4工程にて、第1金属膜をエッチングして第1台座部が除去された状態を示す断面図FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state in which the first metal film is etched and the first pedestal portion is removed in a fourth step of the counter substrate manufacturing process constituting the manufacturing method of the array substrate according to the first embodiment. 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成するアレイ基板製造工程の第10工程にて、第2金属膜をパターニングして第2台座部が設けられた状態を示す断面図FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which a second metal film is patterned to provide a second pedestal portion in a tenth step of the array substrate manufacturing process constituting the manufacturing method of the array substrate according to the first embodiment; 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成するアレイ基板製造工程の第10工程にて、第2絶縁膜をパターニングして第2突出部及び第2延出部が設けられた状態を示す断面図FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which a second protruding portion and a second extending portion are provided by patterning a second insulating film in a tenth step of the array substrate manufacturing process constituting the manufacturing method of the array substrate according to the first embodiment. 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成するアレイ基板製造工程の第10工程にて、第2金属膜をエッチングして第2台座部が除去された状態を示す断面図FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which the second metal film is etched and the second pedestal portion is removed in a tenth step of the array substrate manufacturing method according to the first embodiment; 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成する貼り合わせ工程の第13工程にて、対向基板とアレイ基板とを対向配置した状態を示す断面図FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which the counter substrate and the array substrate are disposed opposite each other in a thirteenth step of a bonding process constituting a manufacturing method of the array substrate according to the first embodiment. 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成する貼り合わせ工程の第13工程にて、対向基板とアレイ基板との間の間隔を調整した状態を示す断面図FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which the gap between the counter substrate and the array substrate is adjusted in a thirteenth bonding step included in the manufacturing method of the array substrate according to the first embodiment; 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成する貼り合わせ工程の第13工程にて、対向基板とアレイ基板とをスライドさせた際のスライド量が不足した場合を示す断面図FIG. 13 is a cross-sectional view showing a case where the sliding amount when sliding the counter substrate and the array substrate is insufficient in a thirteenth step of a bonding process constituting a manufacturing method of the array substrate according to the first embodiment; 実施形態1に係るアレイ基板の製造方法を構成する貼り合わせ工程の第13工程にて、対向基板とアレイ基板とをスライドさせた際のスライド量が過剰だった場合を示す断面図FIG. 13 is a cross-sectional view showing a case where the sliding amount when the counter substrate and the array substrate are slid in a thirteenth step of the bonding process constituting the manufacturing method of the array substrate according to the first embodiment is excessive. 実施形態2に係る液晶パネルの非表示領域に備わる第1突出部、第1延出部、第2突出部及び第2延出部等の構成を示す断面図11 is a cross-sectional view showing the configuration of a first protrusion, a first extension, a second protrusion, and a second extension provided in a non-display area of a liquid crystal panel according to a second embodiment; FIG.

<実施形態1>
実施形態1を図1から図15によって説明する。本実施形態では、液晶表示装置10について例示する。なお、各図面の一部にはX軸、Y軸及びZ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図2,図4,図5,図12から図15の上側を表側とし、同図下側を裏側とする。
<Embodiment 1>
A first embodiment will be described with reference to Figs. 1 to 15. In this embodiment, a liquid crystal display device 10 will be illustrated. Note that an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis are shown in a part of each drawing, and each axis direction is drawn to be the direction shown in each drawing. Also, the upper side of Figs. 2, 4, 5, and 12 to 15 is the front side, and the lower side of the drawings is the back side.

液晶表示装置10は、図1に示すように、縦長の方形状をなしていて画像を表示可能な液晶パネル(デバイス、表示パネル)11と、液晶パネル11に対して表示に利用するための光を照射する外部光源であるバックライト装置(照明装置)と、を少なくとも備える。バックライト装置は、液晶パネル11に対して裏側(背面側)に配置され、白色の光(白色光)を発する光源(例えばLEDなど)や光源からの光に光学作用を付与することで面状の光に変換する光学部材などを有する。液晶パネル11は、画面の中央側部分が、画像が表示される表示領域AAとされる。これに対し、液晶パネル11の画面における表示領域AAを取り囲む額縁状の外周側部分が、画像が表示されない非表示領域NAAとされる。 As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 10 at least comprises a vertically elongated rectangular liquid crystal panel (device, display panel) 11 capable of displaying images, and a backlight device (illumination device) which is an external light source that irradiates the liquid crystal panel 11 with light to be used for display. The backlight device is disposed on the rear side (back side) of the liquid crystal panel 11, and includes a light source (e.g., LED) that emits white light and optical members that convert the light from the light source into planar light by applying an optical effect. The central portion of the screen of the liquid crystal panel 11 is the display area AA where an image is displayed. In contrast, the frame-shaped outer peripheral portion surrounding the display area AA on the screen of the liquid crystal panel 11 is the non-display area NAA where no image is displayed.

液晶パネル11に関して図1に加えて図2を参照して詳しく説明する。液晶パネル11は、図1及び図2に示すように、一対のほぼ透明な(透光性を有する)基板11A,11Bを貼り合わせてなる。一対の基板11A,11Bのうち表側(正面側)が対向基板(第1基板、CF基板)11Aとされ、裏側(背面側)がアレイ基板(第2基板、TFT基板)11Bとされる。対向基板11A及びアレイ基板11Bは、いずれもガラス基板の内面側に各種の膜が積層形成されてなる。互いに貼り合わせられる対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間には、所定の間隔が空けられている。対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間には、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層11Cが挟持される。本実施形態では、液晶層11Cの厚み(セルギャップ)は、例えば3μm程度とされる。一対の基板11A,11Bの外周端部間には、液晶層11Cを封止する封止部(シール部)11Dが介在して設けられている。封止部11Dは、液晶層11Cを取り囲むよう方形の枠状に形成されている。なお、両基板11A,11Bの外面側には、それぞれ偏光板14が貼り付けられている。 The liquid crystal panel 11 will be described in detail with reference to FIG. 1 and FIG. 2. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the liquid crystal panel 11 is formed by bonding a pair of almost transparent (translucent) substrates 11A and 11B. The front side (front side) of the pair of substrates 11A and 11B is the opposing substrate (first substrate, CF substrate) 11A, and the back side (rear side) is the array substrate (second substrate, TFT substrate) 11B. The opposing substrate 11A and the array substrate 11B are both formed by laminating various films on the inner side of a glass substrate. A predetermined gap is provided between the opposing substrate 11A and the array substrate 11B, which are bonded together. A liquid crystal layer 11C containing liquid crystal molecules, which are a substance whose optical properties change with the application of an electric field, is sandwiched between the opposing substrate 11A and the array substrate 11B. In this embodiment, the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer 11C is, for example, about 3 μm. Between the outer peripheral ends of the pair of substrates 11A and 11B, there is a sealing portion (sealing portion) 11D that seals the liquid crystal layer 11C. The sealing portion 11D is formed in a rectangular frame shape so as to surround the liquid crystal layer 11C. A polarizing plate 14 is attached to the outer surface side of each of the substrates 11A and 11B.

アレイ基板11Bは、図1及び図2に示すように、長辺寸法が対向基板11Aの同寸法よりも大きくされており、長辺方向についての一方の端部が、対向基板11Aから側方に突き出す突き出し部11B1となっている。突き出し部11B1は、対向基板11Aにより覆われずに露出している。突き出し部11B1は、全域が非表示領域NAAであり、各種信号を供給するためのドライバ12及びフレキシブル基板13が取り付けられている。 As shown in Figures 1 and 2, the array substrate 11B has a longer side dimension larger than that of the opposing substrate 11A, and one end of the longer side is a protruding portion 11B1 that protrudes laterally from the opposing substrate 11A. The protruding portion 11B1 is exposed and not covered by the opposing substrate 11A. The entire protruding portion 11B1 is a non-display area NAA, and a driver 12 and a flexible substrate 13 for supplying various signals are attached to it.

図3を用いてアレイ基板11Bの表示領域AAにおける画素配列について説明する。アレイ基板11Bの表示領域AAにおける内面側には、図3に示すように、格子状をなす複数本ずつのゲート配線(走査配線)15及びソース配線(画像配線)16が配されている。ゲート配線15及びソース配線16の交差部位付近には、TFT(薄膜トランジスタ)17及び画素電極(電極)18が設けられている。ゲート配線15は、表示領域AAを横断する形で概ねX軸方向に沿って延在し、各TFT17のゲート電極17Aに接続される。ゲート配線15は、複数がY軸方向に間隔を空けて並んで配される。ソース配線16は、表示領域AAを縦断する形で概ねY軸方向に沿って延在し、各TFT17のソース電極17Bに接続される。ソース配線16は、複数がX軸方向に間隔を空けて配される。ゲート配線15及びソース配線16は、互いに交差するものの、間に絶縁膜が介在することで絶縁されている。TFT17及び画素電極18は、複数個ずつX軸方向及びY軸方向に沿って規則的に並んでマトリクス状(行列状)に平面配置されている。画素電極18は、TFT17のドレイン電極17Cに接続されている。画素電極18は、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明電極材料からなる。TFT17は、上記したゲート電極17A、ソース電極17B及びドレイン電極17Cに加えて、半導体部17Dを有する。半導体部17Dは、半導体材料からなり、ソース電極17Bとドレイン電極17Cとに接続される。そして、TFT17は、ゲート配線15に供給される走査信号に基づいて駆動されると、ソース配線16に供給される画像信号(データ信号)に基づいた電位に画素電極18を充電する。 The pixel arrangement in the display area AA of the array substrate 11B will be described with reference to FIG. 3. As shown in FIG. 3, a plurality of gate wirings (scanning wirings) 15 and source wirings (image wirings) 16 are arranged in a grid pattern on the inner surface of the display area AA of the array substrate 11B. A TFT (thin film transistor) 17 and a pixel electrode (electrode) 18 are provided near the intersection of the gate wirings 15 and the source wirings 16. The gate wirings 15 extend generally along the X-axis direction across the display area AA and are connected to the gate electrodes 17A of the TFTs 17. A plurality of gate wirings 15 are arranged side by side with gaps in the Y-axis direction. The source wirings 16 extend generally along the Y-axis direction across the display area AA and are connected to the source electrodes 17B of the TFTs 17. A plurality of source wirings 16 are arranged with gaps in the X-axis direction. The gate wirings 15 and the source wirings 16 cross each other, but are insulated by an insulating film interposed between them. The TFTs 17 and pixel electrodes 18 are arranged regularly along the X-axis and Y-axis directions in a matrix (row and column pattern) on a plane. The pixel electrodes 18 are connected to the drain electrodes 17C of the TFTs 17. The pixel electrodes 18 are made of a transparent electrode material such as ITO (Indium Tin Oxide). In addition to the gate electrodes 17A, source electrodes 17B, and drain electrodes 17C described above, the TFTs 17 have a semiconductor portion 17D. The semiconductor portion 17D is made of a semiconductor material and is connected to the source electrodes 17B and drain electrodes 17C. When the TFTs 17 are driven based on a scanning signal supplied to the gate wiring 15, they charge the pixel electrodes 18 to a potential based on an image signal (data signal) supplied to the source wiring 16.

図4を用いて液晶パネル11の表示領域AAにおける断面構成について説明する。なお、図4では、上記したゲート配線15、ソース配線16及びTFT17を、「画素回路部(回路部)19」として簡略化して図示している。液晶パネル11を構成する対向基板11Aの表示領域AAには、図4に示すように、アレイ基板11Bに備わる各画素電極18と重畳する位置に多数個のカラーフィルタ20が設けられている。カラーフィルタ20は、赤色(R),緑色(G),青色(B)を呈する3色がX軸方向に沿って繰り返し交互に並ぶ配置とされるとともに、それらがY軸方向に沿って延在することで、全体としてストライプ状に配列されている。カラーフィルタ20は、アレイ基板11B側の画素電極18と対向している。互いに対向するカラーフィルタ20と画素電極18とが、表示単位である画素PXを構成する。対向基板11Aの表示領域AAには、隣り合うカラーフィルタ20間を仕切ることで混色を防ぐなどのために遮光部(ブラックマトリクス)21が設けられている。遮光部21は、非表示領域NAAにも設けられている(実施形態2の図16を参照)。遮光部21は、表示領域AAではゲート配線15及びソース配線16と重畳するよう格子状をなしているものの、非表示領域NAAではベタ状をなしている。カラーフィルタ20及び遮光部21の上層側には、オーバーコート膜22が形成される。オーバーコート膜22は、対向基板11Aにおいてほぼ全域にわたって概ねベタ状に設けられている。オーバーコート膜22は、例えばアクリル樹脂(例えばPMMA等)等の有機材料からなり、自身よりも下層側に生じた段差を平坦化するのに機能する。本実施形態では、オーバーコート膜22の表面を、対向基板11Aの第1主面11A1とする。なお、オーバーコート膜22の上層側(対向基板11Aの最内面)には、液晶層11Cに含まれる液晶を配向させるための配向膜が設けられている。 The cross-sectional structure of the display area AA of the liquid crystal panel 11 will be described with reference to FIG. 4. In FIG. 4, the gate wiring 15, source wiring 16, and TFT 17 are simplified and illustrated as a "pixel circuit section (circuit section) 19". In the display area AA of the counter substrate 11A constituting the liquid crystal panel 11, as shown in FIG. 4, a large number of color filters 20 are provided at positions overlapping with each pixel electrode 18 provided on the array substrate 11B. The color filters 20 are arranged in a striped pattern as a whole, with three colors of red (R), green (G), and blue (B) repeatedly arranged alternately along the X-axis direction, and extending along the Y-axis direction. The color filters 20 face the pixel electrodes 18 on the array substrate 11B side. The color filters 20 and the pixel electrodes 18 facing each other constitute a pixel PX, which is a display unit. In the display area AA of the counter substrate 11A, a light-shielding section (black matrix) 21 is provided to prevent color mixing by partitioning adjacent color filters 20. The light-shielding portion 21 is also provided in the non-display area NAA (see FIG. 16 in the second embodiment). The light-shielding portion 21 is in a lattice shape so as to overlap the gate wiring 15 and the source wiring 16 in the display area AA, but is in a solid shape in the non-display area NAA. An overcoat film 22 is formed on the upper layer side of the color filter 20 and the light-shielding portion 21. The overcoat film 22 is provided in a generally solid shape over almost the entire area of the counter substrate 11A. The overcoat film 22 is made of an organic material such as an acrylic resin (e.g. PMMA, etc.), and functions to flatten steps that occur on the lower layer side than the overcoat film 22. In this embodiment, the surface of the overcoat film 22 is the first main surface 11A1 of the counter substrate 11A. An alignment film for aligning the liquid crystal contained in the liquid crystal layer 11C is provided on the upper layer side of the overcoat film 22 (the innermost surface of the counter substrate 11A).

対向基板11Aの表示領域AAには、図4に示すように、第1主面11A1からアレイ基板11B(第2主面11B1)側に向けて突出するスペーサ23が設けられている。このスペーサ23により一対の基板11A,11Bの間の間隔、つまりセルギャップ(液晶層11Cの厚み)を一定以下にならないよう保つことができる。スペーサ23は、先細りの柱状をなしている。スペーサ23は、例えば、アレイ基板11Bに備わるゲート配線15とソース配線16との交差部位と重畳する位置に複数配されている。スペーサ23には、第1スペーサ(メインスペーサ)23αと、第2スペーサ(サブスペーサ)23βと、が含まれている。第1スペーサ23αは、第1主面11A1からの突出寸法が、第1主面11A1からの第2スペーサ23βの突出寸法よりも大きい。 As shown in FIG. 4, the display area AA of the counter substrate 11A is provided with spacers 23 that protrude from the first main surface 11A1 toward the array substrate 11B (second main surface 11B1). The spacers 23 can maintain the distance between the pair of substrates 11A and 11B, that is, the cell gap (the thickness of the liquid crystal layer 11C), at a constant level or higher. The spacers 23 are tapered and columnar. For example, a plurality of spacers 23 are arranged at positions overlapping the intersections of the gate wiring 15 and the source wiring 16 on the array substrate 11B. The spacers 23 include a first spacer (main spacer) 23α and a second spacer (sub-spacer) 23β. The protruding dimension of the first spacer 23α from the first main surface 11A1 is larger than the protruding dimension of the second spacer 23β from the first main surface 11A1.

液晶パネル11を構成するアレイ基板11Bの表示領域AAには、図4に示すように、下層側から順に、画素回路部19、平坦化膜24、共通電極25、層間絶縁膜26及び画素電極18が設けられている。このうちの共通電極25は、画素電極18と同様に透明電極材料からなる。共通電極25は、全体として表示領域AAと同等の大きさを有する。共通電極25は、層間絶縁膜26を介して全ての画素電極18に対して重畳して配されている。共通電極25には、共通電位(基準電位)が供給されている。従って、共通電極25と画素電極18との間には、画素電極18に充電された電位に基づく電位差が生じ得る。共通電極25と画素電極18との間の電位差に基づいて発生する電界には、アレイ基板11Bの主面(後述する第2主面11B2を含む)に沿う成分に加えて、アレイ基板11Bの主面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界(斜め電界)が含まれる。従って、本実施形態に係る液晶パネル11の表示モードは、フリンジ電界を利用して液晶層11Cに含まれる液晶の配向状態を制御する、いわゆるFFS(Fringe Field Switching)モードとされている。なお、画素電極18の上層側(アレイ基板11Bの最内面)には、液晶層11Cに含まれる液晶を配向させるための配向膜が設けられている。 As shown in FIG. 4, the display area AA of the array substrate 11B constituting the liquid crystal panel 11 is provided with, from the bottom, a pixel circuit section 19, a planarization film 24, a common electrode 25, an interlayer insulating film 26, and a pixel electrode 18. The common electrode 25 is made of a transparent electrode material, like the pixel electrode 18. The common electrode 25 has a size equivalent to the display area AA as a whole. The common electrode 25 is arranged to overlap all the pixel electrodes 18 via the interlayer insulating film 26. A common potential (reference potential) is supplied to the common electrode 25. Therefore, a potential difference based on the potential charged to the pixel electrode 18 can be generated between the common electrode 25 and the pixel electrode 18. The electric field generated based on the potential difference between the common electrode 25 and the pixel electrode 18 includes a fringe electric field (diagonal electric field) including a component along the main surface of the array substrate 11B (including the second main surface 11B2 described later) and a component in the normal direction to the main surface of the array substrate 11B. Therefore, the display mode of the liquid crystal panel 11 according to this embodiment is the so-called FFS (Fringe Field Switching) mode, which uses a fringe electric field to control the alignment state of the liquid crystal contained in the liquid crystal layer 11C. Note that an alignment film for aligning the liquid crystal contained in the liquid crystal layer 11C is provided on the upper layer side of the pixel electrodes 18 (the innermost surface of the array substrate 11B).

層間絶縁膜26は、例えば窒化ケイ素(SiN)、酸化ケイ素(SiO)等の無機材料からなる。平坦化膜24は、例えばアクリル樹脂(例えばPMMA等)等の有機材料からなり、自身よりも下層側に生じた段差を平坦化するのに機能する。平坦化膜24は、図4に示すように、無機材料からなる層間絶縁膜26等よりも大きな膜厚を有する。本実施形態では、平坦化膜24の表面を、アレイ基板11Bの第2主面11B2とする。平坦化膜24のうち、複数の画素電極18と重畳する位置には、複数のコンタクトホール24Aが開口して設けられている。コンタクトホール24Aを通して画素電極18と、画素回路部19に含まれるTFT17のドレイン電極17C(図3を参照)と、が接続される。なお、共通電極25及び層間絶縁膜26のうち、各コンタクトホール24Aと重畳する位置には、それぞれ開口25A,26Aが設けられている。開口25Aによって画素電極18と共通電極25との短絡が防がれている。 The interlayer insulating film 26 is made of an inorganic material such as silicon nitride (SiN x ) or silicon oxide (SiO 2 ). The planarizing film 24 is made of an organic material such as acrylic resin (e.g. PMMA) and functions to planarize steps occurring below the planarizing film 24. As shown in FIG. 4, the planarizing film 24 has a thickness larger than that of the interlayer insulating film 26 made of an inorganic material. In this embodiment, the surface of the planarizing film 24 is the second main surface 11B2 of the array substrate 11B. In the planarizing film 24, a plurality of contact holes 24A are opened and provided at positions overlapping the plurality of pixel electrodes 18. The pixel electrodes 18 are connected to the drain electrodes 17C (see FIG. 3) of the TFTs 17 included in the pixel circuit section 19 through the contact holes 24A. In addition, in the common electrode 25 and the interlayer insulating film 26, openings 25A and 26A are provided at positions overlapping the respective contact holes 24A. The opening 25A prevents a short circuit between the pixel electrode 18 and the common electrode 25.

アレイ基板11Bには、図4に示すように、第2主面11B2から対向基板11A(第1主面11A1)側に向けて突出するバンプ27が設けられている。バンプ27は、対向基板11Aに備わるスペーサ23と重畳する位置に配されている。バンプ27は、例えば、ゲート配線15とソース配線16との交差部位と重畳する位置に複数配されている。バンプ27には、第1スペーサ23αと重畳して配される第1バンプ27αと、第2スペーサ23βと重畳して配される第2バンプ27βと、が含まれる。第1バンプ27αにおける第2主面11B2からの突出寸法と、第2バンプ27βにおける第2主面11B2からの突出寸法と、が等しい。第1バンプ27αは、重畳する第1スペーサ23αに対して常に接する。なお、互いに重畳する第1バンプ27αと第1スペーサ23αとの間には、2枚の配向膜が介在する。第2バンプ27βは、重畳する第2スペーサ23βに対して常に接することがない。しかし、対向基板11Aやアレイ基板11Bに外力が作用して対向基板11Aやアレイ基板11Bに撓みが生じた場合においては、第2スペーサ23βと第2バンプ27βとが接する。これにより、対向基板11Aやアレイ基板11Bがある程度まで撓むことが許容されている。 As shown in FIG. 4, the array substrate 11B is provided with bumps 27 that protrude from the second main surface 11B2 toward the opposing substrate 11A (first main surface 11A1). The bumps 27 are arranged at positions overlapping the spacers 23 provided on the opposing substrate 11A. For example, a plurality of bumps 27 are arranged at positions overlapping the intersections of the gate wiring 15 and the source wiring 16. The bumps 27 include a first bump 27α arranged overlapping the first spacer 23α and a second bump 27β arranged overlapping the second spacer 23β. The protruding dimension of the first bump 27α from the second main surface 11B2 is equal to the protruding dimension of the second bump 27β from the second main surface 11B2. The first bump 27α is always in contact with the overlapping first spacer 23α. Two alignment films are interposed between the overlapping first bump 27α and first spacer 23α. The second bump 27β is not always in contact with the overlapping second spacer 23β. However, when an external force acts on the counter substrate 11A or the array substrate 11B, causing the counter substrate 11A or the array substrate 11B to bend, the second spacer 23β and the second bump 27β come into contact. This allows the counter substrate 11A and the array substrate 11B to bend to a certain extent.

対向基板11Aには、図5に示すように、第1主面11A1からアレイ基板11B(第2主面11B2)側に向けて突出する第1突出部28が設けられている。第1突出部28は、ブロック状をなしており、第1主面11A1からの突出寸法(Z軸方向についての寸法)が例えば2.5μm程度とされ、Y軸方向についての寸法が例えば9μm程度とされ、X軸方向についての寸法が例えば10μm程度とされる。対向基板11Aには、第1突出部28から第1主面11A1に沿って延出する第1延出部29が設けられている。第1延出部29の延出方向は、図5のY軸方向と一致している。第1延出部29は、第1突出部28における突出先端部を起点として延出していて、第1主面11A1との間に間隔を空けて配されている。第1延出部29は、第1突出部28からの延出寸法(Y軸方向についての寸法)が例えば7.5μm程度とされ、厚さ寸法(Z軸方向についての寸法)が例えば0.8μm程度とされ、X軸方向についての寸法が例えば10μm程度とされる。第1延出部29と第1主面11A1との間に空けられるZ軸方向についての間隔は、例えば1.7μm程度とされる。 5, the counter substrate 11A is provided with a first protruding portion 28 that protrudes from the first main surface 11A1 toward the array substrate 11B (second main surface 11B2). The first protruding portion 28 is block-shaped, and the protruding dimension (dimension in the Z-axis direction) from the first main surface 11A1 is, for example, about 2.5 μm, the dimension in the Y-axis direction is, for example, about 9 μm, and the dimension in the X-axis direction is, for example, about 10 μm. The counter substrate 11A is provided with a first extending portion 29 that extends from the first protruding portion 28 along the first main surface 11A1. The extending direction of the first extending portion 29 coincides with the Y-axis direction in FIG. 5. The first extending portion 29 extends from the protruding tip of the first protruding portion 28 as a starting point, and is arranged with a gap between it and the first main surface 11A1. The first extension portion 29 has an extension dimension (dimension in the Y-axis direction) from the first protrusion portion 28 of, for example, about 7.5 μm, a thickness dimension (dimension in the Z-axis direction) of, for example, about 0.8 μm, and a dimension in the X-axis direction of, for example, about 10 μm. The gap in the Z-axis direction between the first extension portion 29 and the first main surface 11A1 is, for example, about 1.7 μm.

一方、アレイ基板11Bには、図5に示すように、第2主面11B2から対向基板11A(第1主面11A1)側に向けて突出する第2突出部30が設けられている。第2突出部30は、第1突出部28に対してY軸方向について第1延出部29の延出寸法よりも大きい間隔を空けた位置に配されている。第2突出部30は、ブロック状をなしており、第2主面11B2からの突出寸法(Z軸方向についての寸法)が例えば2.5μm程度とされ、Y軸方向についての寸法が例えば9μm程度とされ、X軸方向についての寸法が例えば10μm程度とされる。アレイ基板11Bには、第2突出部30から第2主面11B2に沿って延出する第2延出部31が設けられている。第2延出部31の延出方向は、図5のY軸方向と一致しており、第1延出部29の延出方向に並行している。第2延出部31は、第2突出部30の突出先端部を起点として延出していて、第2主面11B2との間に間隔を空けて配されている。第2延出部31は、第2突出部30の突出先端部のうち、第1突出部28側を向いた面から第1突出部28に向けて近づくよう、延出している。第2延出部31は、第2突出部30からの延出寸法(Y軸方向についての寸法)が例えば7.5μm程度とされ、厚さ寸法(Z軸方向についての寸法)が例えば0.8μm程度とされ、X軸方向についての寸法が例えば10μm程度とされる。第2延出部31と第2主面11B2との間に空けられるZ軸方向についての間隔は、例えば1.7μm程度とされる。このように、第2延出部31と第2主面11B2との間に空けられる間隔は、第1延出部29の厚さ寸法よりも大きい。同様に、第1延出部29と第1主面11A1との間に空けられる間隔は、第2延出部31の厚みよりも大きい。 On the other hand, as shown in FIG. 5, the array substrate 11B is provided with a second protruding portion 30 that protrudes from the second main surface 11B2 toward the opposing substrate 11A (first main surface 11A1). The second protruding portion 30 is arranged at a position with a larger distance from the first protruding portion 28 in the Y-axis direction than the extension dimension of the first extension portion 29. The second protruding portion 30 is block-shaped, and the protruding dimension (dimension in the Z-axis direction) from the second main surface 11B2 is, for example, about 2.5 μm, the dimension in the Y-axis direction is, for example, about 9 μm, and the dimension in the X-axis direction is, for example, about 10 μm. The array substrate 11B is provided with a second extension portion 31 that extends from the second protruding portion 30 along the second main surface 11B2. The extension direction of the second extension portion 31 coincides with the Y-axis direction in FIG. 5 and is parallel to the extension direction of the first extension portion 29. The second extension portion 31 extends from the protruding tip of the second protruding portion 30 as a starting point, and is disposed at a distance from the second main surface 11B2. The second extension portion 31 extends from the surface of the protruding tip of the second protruding portion 30 facing the first protruding portion 28 toward the first protruding portion 28. The second extension portion 31 has an extension dimension (dimension in the Y-axis direction) from the second protruding portion 30 of, for example, about 7.5 μm, a thickness dimension (dimension in the Z-axis direction) of, for example, about 0.8 μm, and a dimension in the X-axis direction of, for example, about 10 μm. The distance in the Z-axis direction between the second extension portion 31 and the second main surface 11B2 is, for example, about 1.7 μm. In this way, the distance between the second extension portion 31 and the second main surface 11B2 is larger than the thickness dimension of the first extension portion 29. Similarly, the distance between the first extension portion 29 and the first main surface 11A1 is greater than the thickness of the second extension portion 31.

そして、第2延出部31と第2主面11B2との間には、図5に示すように、第1延出部29が挟まれるとともに、第1延出部29と第1主面11A1との間には、第2延出部31が挟まれている。ここで、例えば、第1主面11A1及び第2主面11B2が鉛直方向に沿うよう配置されると、液晶層11Cを構成する液晶材料が鉛直方向の下側に溜まるため、対向基板11A及びアレイ基板11Bの下側部分には、互いに離れる向きの応力が作用し得る。その点、上記したように、第2延出部31と第2主面11B2との間に第1延出部29が挟まれるとともに、第1延出部29と第1主面11A1との間には、第2延出部31が挟まれているので、第1延出部29及び第2延出部31が互いに引っ掛かり合うことで、対向基板11Aとアレイ基板11Bとが離れる向きに相対変位し難くなる。これにより、対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間の間隔が一定以上にならないよう保つことができ、液晶層11Cの厚みが局所的に大きくなる事態が生じ難くなる。液晶層11Cの厚みが均一に保たれることで、液晶パネル11に表示される画像に係る表示品位を良好に保つことができる。なお、表示領域AAでの第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31の具体的な配置は、任意に設定することが可能である。例えば、第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31は、表示領域AAのうち、中央付近に配されてもよいが、外周端部付近に配されてもよい。また、第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31は、第1主面11A1及び第2主面11B2が鉛直方向に沿うよう配置された場合に、表示領域AAのうちの鉛直方向についての下側部分に配されてもよいが、鉛直方向についての中央付近や上側部分に配されてもよい。 5, the first extension portion 29 is sandwiched between the second extension portion 31 and the second major surface 11B2, and the second extension portion 31 is sandwiched between the first extension portion 29 and the first major surface 11A1. Here, for example, when the first major surface 11A1 and the second major surface 11B2 are arranged along the vertical direction, the liquid crystal material constituting the liquid crystal layer 11C accumulates on the lower side in the vertical direction, and therefore stress in a direction moving them away from each other may act on the lower portions of the counter substrate 11A and the array substrate 11B. In this respect, as described above, the first extension portion 29 is sandwiched between the second extension portion 31 and the second main surface 11B2, and the second extension portion 31 is sandwiched between the first extension portion 29 and the first main surface 11A1, so that the first extension portion 29 and the second extension portion 31 are caught by each other, and the counter substrate 11A and the array substrate 11B are less likely to be displaced relative to each other in a direction away from each other. This makes it possible to keep the distance between the counter substrate 11A and the array substrate 11B from exceeding a certain value, and makes it difficult for the thickness of the liquid crystal layer 11C to become locally large. By keeping the thickness of the liquid crystal layer 11C uniform, the display quality of the image displayed on the liquid crystal panel 11 can be maintained at a good level. The specific arrangement of the first protrusion 28, the first extension portion 29, the second protrusion 30, and the second extension portion 31 in the display area AA can be set arbitrarily. For example, the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 may be disposed near the center of the display area AA, or may be disposed near the outer peripheral edge. Also, when the first main surface 11A1 and the second main surface 11B2 are disposed along the vertical direction, the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 may be disposed in the lower part of the display area AA in the vertical direction, or may be disposed near the center or upper part in the vertical direction.

第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31は、図5に示すように、液晶パネル11の表示領域AAにおいて遮光部21と重畳して配される。詳しくは、第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31は、表示領域AAにおいて平面に視て格子状をなす遮光部21のうち、Y軸方向に沿って延在する部分に対して重畳して配されている。つまり、第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31は、X軸方向について隣り合う画素PXの間に配されている。このように、第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31が、遮光部21と重畳して配されることで、第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31が外部から視認され難くなる。これにより、表示品位を良好に保つことができる。 5, the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 are arranged so as to overlap with the light-shielding portion 21 in the display area AA of the liquid crystal panel 11. In detail, the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 are arranged so as to overlap with the portion of the light-shielding portion 21 that forms a lattice shape in a plan view in the display area AA and that extends along the Y-axis direction. In other words, the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 are arranged between adjacent pixels PX in the X-axis direction. In this way, the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 are arranged so as to overlap with the light shielding portion 21, so that the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 are difficult to see from the outside. This makes it possible to maintain good display quality.

また、対向基板11Aに設けられた第1突出部28及び第1延出部29は、図4及び図5に示すように、スペーサ23と同じ材料からなる。このように、第1突出部28及び第1延出部29が、スペーサ23と同じ材料からなるので、製造に際して対向基板11Aにスペーサ23を設ける工程において第1突出部28及び第1延出部29を設けることができる。アレイ基板11Bに設けられた第2突出部30及び第2延出部31は、バンプ27と同じ材料からなる。このように、第2突出部30及び第2延出部31が、バンプ27と同じ材料からなるので、製造に際してアレイ基板11Bにバンプ27を設ける工程において第2突出部30及び第2延出部31を設けることができる。 The first protrusion 28 and the first extension 29 provided on the counter substrate 11A are made of the same material as the spacer 23, as shown in Figs. 4 and 5. Since the first protrusion 28 and the first extension 29 are made of the same material as the spacer 23, the first protrusion 28 and the first extension 29 can be provided in the process of providing the spacer 23 on the counter substrate 11A during manufacturing. The second protrusion 30 and the second extension 31 provided on the array substrate 11B are made of the same material as the bump 27. Since the second protrusion 30 and the second extension 31 are made of the same material as the bump 27, the second protrusion 30 and the second extension 31 can be provided in the process of providing the bump 27 on the array substrate 11B during manufacturing.

本実施形態は以上のような構造であり、続いて液晶パネル11の製造方法を説明する。液晶パネル11の製造方法には、対向基板11Aを製造する対向基板製造工程(第1基板製造工程)と、アレイ基板11Bを製造するアレイ基板製造工程(第2基板製造工程)と、製造された対向基板11Aとアレイ基板11Bとを貼り合わせる貼り合わせ工程と、が含まれている。 The present embodiment has the above-described structure, and the manufacturing method of the liquid crystal panel 11 will now be described. The manufacturing method of the liquid crystal panel 11 includes a counter substrate manufacturing process (first substrate manufacturing process) for manufacturing the counter substrate 11A, an array substrate manufacturing process (second substrate manufacturing process) for manufacturing the array substrate 11B, and a bonding process for bonding the manufactured counter substrate 11A and array substrate 11B together.

対向基板製造工程には、遮光部21を形成する第1工程と、カラーフィルタ20を形成する第2工程と、オーバーコート膜22を形成する第3工程と、スペーサ23、第1突出部28及び第1延出部29を形成する第4工程と、が少なくとも含まれる。このうちの第4工程に関して図6から図8を用いて説明する。 The counter substrate manufacturing process includes at least a first step of forming the light-shielding portion 21, a second step of forming the color filter 20, a third step of forming the overcoat film 22, and a fourth step of forming the spacer 23, the first protrusion 28, and the first extension 29. The fourth step will be described with reference to Figures 6 to 8.

第4工程では、まず、図6の二点鎖線に示すように、対向基板11Aにおけるオーバーコート膜22の上層側に金属材料(例えば銅等)からなる第1金属膜(第1膜)F1を成膜する。成膜した第1金属膜F1を既知のフォトリソグラフィ法によってパターニングする。具体的には、第1金属膜F1の上層側にフォトレジスト膜を成膜し、所定の開口パターンを有するフォトマスクを介してフォトレジスト膜を露光する。露光されたフォトレジスト膜を現像したら、現像されたフォトレジスト膜をマスクとして用いて第1金属膜F1をエッチング(例えばウェットエッチング)する。すると、第1金属膜F1がパターニングされ、図6に示すように、第1台座部32が設けられる。第1台座部32は、ブロック状をなしており、X軸方向及びY軸方向についての各寸法が、第1延出部29におけるX軸方向及びY軸方向についての各寸法よりもそれぞれやや大きい。 In the fourth step, first, as shown by the two-dot chain line in FIG. 6, a first metal film (first film) F1 made of a metal material (e.g., copper, etc.) is formed on the upper layer side of the overcoat film 22 on the opposing substrate 11A. The formed first metal film F1 is patterned by a known photolithography method. Specifically, a photoresist film is formed on the upper layer side of the first metal film F1, and the photoresist film is exposed through a photomask having a predetermined opening pattern. After the exposed photoresist film is developed, the first metal film F1 is etched (e.g., wet-etched) using the developed photoresist film as a mask. Then, the first metal film F1 is patterned, and a first pedestal portion 32 is provided as shown in FIG. 6. The first pedestal portion 32 is block-shaped, and each dimension in the X-axis direction and the Y-axis direction is slightly larger than each dimension in the X-axis direction and the Y-axis direction of the first extension portion 29.

続いて、図7の二点鎖線に示すように、第1金属膜F1の上層側に第1絶縁膜(第2膜)F2を成膜する。第1絶縁膜F2は、感光性を有する有機材料(例えばアクリル樹脂材料等)からなるので、所定の開口パターンを有するフォトマスクを介して第1絶縁膜F2を直接露光することができる。露光された第1絶縁膜F2を現像すると、第1絶縁膜F2がパターニングされ、図7に示すように、第1突出部28及び第1延出部29が設けられる。設けられた第1延出部29は、第1台座部32の上層側に重なる配置とされる。この第1絶縁膜F2のパターニングに伴って、スペーサ23も設けられる(図4を参照)。その後、第1金属膜F1をエッチング(例えば、ウェットエッチング)することで、図8に示すように、第1台座部32が除去される。この状態では、第1延出部29は、オーバーコート膜22の表面、つまり第1主面11A1に対して第1台座部32の厚み分の間隔を空けた位置にて対向配置される。 Next, as shown by the two-dot chain line in FIG. 7, a first insulating film (second film) F2 is formed on the upper layer side of the first metal film F1. Since the first insulating film F2 is made of a photosensitive organic material (e.g., an acrylic resin material, etc.), the first insulating film F2 can be directly exposed through a photomask having a predetermined opening pattern. When the exposed first insulating film F2 is developed, the first insulating film F2 is patterned, and the first protrusion 28 and the first extension 29 are provided as shown in FIG. 7. The provided first extension 29 is arranged to overlap the upper layer side of the first pedestal 32. Along with the patterning of the first insulating film F2, the spacer 23 is also provided (see FIG. 4). Thereafter, the first metal film F1 is etched (e.g., wet etching) to remove the first pedestal 32 as shown in FIG. 8. In this state, the first extension 29 is positioned opposite the surface of the overcoat film 22, i.e., the first main surface 11A1, at a distance equal to the thickness of the first pedestal 32.

アレイ基板製造工程には、画素回路部19を形成する第5工程と、平坦化膜24を形成する第6工程と、共通電極25を形成する第7工程と、層間絶縁膜26を形成する第8工程と、画素電極18を形成する第9工程と、バンプ27、第2突出部30及び第2延出部31を形成する第10工程と、が少なくとも含まれる。このうちの第10工程に関して図9から図11を用いて説明する。 The array substrate manufacturing process includes at least a fifth step of forming the pixel circuit section 19, a sixth step of forming the planarization film 24, a seventh step of forming the common electrode 25, an eighth step of forming the interlayer insulating film 26, a ninth step of forming the pixel electrode 18, and a tenth step of forming the bump 27, the second protrusion 30, and the second extension 31. The tenth step will be described with reference to Figures 9 to 11.

第10工程では、まず、図9の二点鎖線に示すように、アレイ基板11Bにおける平坦化膜24の上層側に金属材料(例えば銅等)からなる第2金属膜(第3膜)F3を成膜する。成膜した第2金属膜F3を既知のフォトリソグラフィ法によってパターニングする。具体的には、第2金属膜F3の上層側にフォトレジスト膜を成膜し、所定の開口パターンを有するフォトマスクを介してフォトレジスト膜を露光する。露光されたフォトレジスト膜を現像したら、現像されたフォトレジスト膜をマスクとして用いて第2金属膜F3をエッチング(例えばウェットエッチング)する。すると、第2金属膜F3がパターニングされ、図9に示すように、第2台座部33が設けられる。第2台座部33は、ブロック状をなしており、X軸方向及びY軸方向についての各寸法が、第2延出部31におけるX軸方向及びY軸方向についての各寸法よりもそれぞれやや大きい。 In the tenth step, first, as shown by the two-dot chain line in FIG. 9, a second metal film (third film) F3 made of a metal material (e.g., copper, etc.) is formed on the upper layer side of the planarization film 24 in the array substrate 11B. The formed second metal film F3 is patterned by a known photolithography method. Specifically, a photoresist film is formed on the upper layer side of the second metal film F3, and the photoresist film is exposed through a photomask having a predetermined opening pattern. After the exposed photoresist film is developed, the second metal film F3 is etched (e.g., wet-etched) using the developed photoresist film as a mask. Then, the second metal film F3 is patterned, and a second pedestal portion 33 is provided as shown in FIG. 9. The second pedestal portion 33 is block-shaped, and each dimension in the X-axis direction and the Y-axis direction is slightly larger than each dimension in the X-axis direction and the Y-axis direction of the second extension portion 31.

続いて、図10の二点鎖線に示すように、第2金属膜F3の上層側に第2絶縁膜(第4膜)F4を成膜する。第2絶縁膜F4は、感光性を有する有機材料(例えばアクリル樹脂材料等)からなるので、所定の開口パターンを有するフォトマスクを介して第2絶縁膜F4を直接露光することができる。露光された第2絶縁膜F4を現像すると、第2絶縁膜F4がパターニングされ、図10に示すように、第2突出部30及び第2延出部31が設けられる。設けられた第2延出部31は、第2台座部33の上層側に重なる配置とされる。この第2絶縁膜F4のパターニングに伴って、バンプ27も設けられる(図4を参照)。その後、第2金属膜F3をエッチング(例えば、ウェットエッチング)することで、図11に示すように、第2台座部33が除去される。この状態では、第2延出部31は、平坦化膜24の表面、つまり第2主面11B2に対して第2台座部33の厚み分の間隔を空けた位置にて対向配置される。 Next, as shown by the two-dot chain line in FIG. 10, a second insulating film (fourth film) F4 is formed on the upper layer side of the second metal film F3. Since the second insulating film F4 is made of a photosensitive organic material (e.g., an acrylic resin material, etc.), the second insulating film F4 can be directly exposed through a photomask having a predetermined opening pattern. When the exposed second insulating film F4 is developed, the second insulating film F4 is patterned, and the second protrusion 30 and the second extension portion 31 are provided as shown in FIG. 10. The provided second extension portion 31 is arranged to overlap the upper layer side of the second pedestal portion 33. Along with the patterning of the second insulating film F4, the bump 27 is also provided (see FIG. 4). Thereafter, the second metal film F3 is etched (e.g., wet etching) to remove the second pedestal portion 33 as shown in FIG. 11. In this state, the second extension portion 31 is positioned opposite the surface of the planarization film 24, i.e., the second main surface 11B2, at a distance equal to the thickness of the second pedestal portion 33.

貼り合わせ工程には、対向基板11Aまたはアレイ基板11Bの外周端部に封止部11Dを塗布する第11工程と、対向基板11Aまたはアレイ基板11B上に液晶材料を滴下する第12工程と、両基板11A,11Bを貼り合わせる第13工程と、封止部11Dを硬化させる第14工程と、が少なくとも含まれる。このうちの第13工程に関して図12から図15を用いて説明する。 The bonding process includes at least an 11th process of applying a sealing portion 11D to the outer peripheral edge of the counter substrate 11A or the array substrate 11B, a 12th process of dropping a liquid crystal material onto the counter substrate 11A or the array substrate 11B, a 13th process of bonding the two substrates 11A and 11B together, and a 14th process of hardening the sealing portion 11D. The 13th process will be described with reference to Figures 12 to 15.

第13工程では、まず、図12に示すように、第1主面11A1と第2主面11B2とが、液晶層11Cの厚みよりも大きい間隔を空けて対向するよう、対向基板11Aとアレイ基板11Bとを配置する。このとき、第1突出部28及び第1延出部29と第2突出部30及び第2延出部31とが互いに非重畳となるよう配置する。本実施形態では、第1延出部29と第2延出部31とが、第1主面11A1及び第2主面11B2に沿う方向であるY軸方向について所定の間隔を空けて隣り合う配置とする。対向基板11Aとアレイ基板11BとをZ軸方向(各主面11A1,11B2の法線方向)について近づくよう相対変位させることで、対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間の間隔を調整し、図13に示すように、第1延出部29を第2主面11B2と第2延出部31との間に位置させるとともに、第2延出部31を第1主面11A1と第1延出部29との間に位置させる。 12, the counter substrate 11A and the array substrate 11B are arranged so that the first main surface 11A1 and the second main surface 11B2 face each other with a gap larger than the thickness of the liquid crystal layer 11C. At this time, the first protrusion 28 and the first extension 29, and the second protrusion 30 and the second extension 31 are arranged so as not to overlap each other. In this embodiment, the first extension 29 and the second extension 31 are arranged adjacent to each other with a predetermined gap in the Y-axis direction, which is the direction along the first main surface 11A1 and the second main surface 11B2. By relatively displacing the counter substrate 11A and the array substrate 11B so that they approach each other in the Z-axis direction (the normal direction of each of the main surfaces 11A1 and 11B2), the distance between the counter substrate 11A and the array substrate 11B is adjusted, and as shown in FIG. 13, the first extension portion 29 is positioned between the second main surface 11B2 and the second extension portion 31, and the second extension portion 31 is positioned between the first main surface 11A1 and the first extension portion 29.

続いて、対向基板11Aとアレイ基板11BとをY軸方向にスライドさせ、第2延出部31と第2主面11B2との間に第1延出部29を挟ませるとともに、第1延出部29と第1主面11A1との間に第2延出部31を挟ませる(図5を参照)。このようにして製造された液晶パネル11によれば、仮に対向基板11Aとアレイ基板11Bとが離れる向きに相対変位させられようとした場合でも、第1延出部29及び第2延出部31が互いに引っ掛かり合うことで、対向基板11Aとアレイ基板11Bとが離れる向きに相対変位し難くなる。これにより、対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間の間隔が一定以上にならないよう保つ上で好適となる。上記したスライド作業を行う際には、第1延出部29と第2延出部31とが干渉するおそれがある。その点、上記した第10工程において、第1台座部32及び第2台座部33を用いて第1延出部29及び第2延出部31が設けられることで(図8及び図11を参照)、第1主面11A1と第1延出部29との間の間隔と、第2延出部31と第2主面11B2との間の間隔と、の各寸法精度が十分に高くされているので、スライド時に第1延出部29と第2延出部31とが干渉する事態が生じ難くなっている。 Next, the counter substrate 11A and the array substrate 11B are slid in the Y-axis direction, and the first extension portion 29 is sandwiched between the second extension portion 31 and the second main surface 11B2, and the second extension portion 31 is sandwiched between the first extension portion 29 and the first main surface 11A1 (see FIG. 5). According to the liquid crystal panel 11 manufactured in this way, even if the counter substrate 11A and the array substrate 11B are to be displaced relatively in a direction away from each other, the first extension portion 29 and the second extension portion 31 are caught on each other, so that the counter substrate 11A and the array substrate 11B are unlikely to be displaced relatively in a direction away from each other. This is preferable in keeping the distance between the counter substrate 11A and the array substrate 11B from being greater than a certain value. When performing the above-mentioned sliding operation, there is a risk that the first extension portion 29 and the second extension portion 31 will interfere with each other. In this regard, in the above-mentioned 10th step, the first extension portion 29 and the second extension portion 31 are provided using the first base portion 32 and the second base portion 33 (see Figures 8 and 11), and the dimensional precision of the distance between the first main surface 11A1 and the first extension portion 29 and the distance between the second extension portion 31 and the second main surface 11B2 is sufficiently high, so that the first extension portion 29 and the second extension portion 31 are less likely to interfere with each other when sliding.

また、スライド作業を行う際には、スライド量にばらつきが生じるおそれがある。その点、互いに重畳する関係の第1延出部29と第2延出部31とにおけるY軸方向についての重なり量は、図5に示すように、スライド量にばらつきよりも大きくなるよう設定されている。具体的には、スライド量にばらつきは、±3μm程度とされるのに対し、第1延出部29と第2延出部31とにおけるY軸方向についての重なり量は、例えば4μm程度とされている。従って、例えばスライド量が3μm不足した場合は、図14に示すように、第1延出部29と第2延出部31とにおけるY軸方向についての重なり量が1μm程度確保される。一方、例えばスライド量が3μm過剰だった場合は、図15に示すように、第1延出部29と第2延出部31とにおけるY軸方向についての重なり量が7μm程度確保されるとともに、第1延出部29が第2突出部30に干渉したり、第2延出部31が第1突出部28に干渉したりする事態を回避することができる。 In addition, when performing the sliding operation, there is a risk of variation in the amount of sliding. In this regard, the overlap amount in the Y-axis direction between the first extension portion 29 and the second extension portion 31, which overlap each other, is set to be larger than the variation in the amount of sliding, as shown in FIG. 5. Specifically, the variation in the amount of sliding is set to about ±3 μm, while the overlap amount in the Y-axis direction between the first extension portion 29 and the second extension portion 31 is set to, for example, about 4 μm. Therefore, for example, if the amount of sliding is insufficient by 3 μm, the overlap amount in the Y-axis direction between the first extension portion 29 and the second extension portion 31 is secured to be about 1 μm, as shown in FIG. On the other hand, if the sliding amount is, for example, 3 μm excessive, as shown in FIG. 15, the overlap amount in the Y-axis direction between the first extension portion 29 and the second extension portion 31 is secured to be about 7 μm, and it is possible to prevent the first extension portion 29 from interfering with the second protrusion portion 30, or the second extension portion 31 from interfering with the first protrusion portion 28.

以上説明したように本実施形態の液晶パネル(デバイス)11は、第1主面11A1を有する対向基板(第1基板)11Aと、第1主面11A1と間隔を空けて対向する第2主面11B2を有するアレイ基板(第2基板)11Bと、対向基板11Aに設けられて第1主面11A1から第2主面11B2側に向けて突出する第1突出部28と、第1突出部28から第1主面11A1に沿って延出し、第1主面11A1との間に間隔を空けて配される第1延出部29と、アレイ基板11Bに設けられて第2主面11B2から第1主面11A1側に向けて突出する第2突出部30と、第2突出部30から第2主面11B2に沿って延出し、第2主面11B2との間に第1延出部29を挟むよう配される第2延出部31と、を備える。 As described above, the liquid crystal panel (device) 11 of this embodiment includes an opposing substrate (first substrate) 11A having a first main surface 11A1, an array substrate (second substrate) 11B having a second main surface 11B2 facing the first main surface 11A1 with a gap therebetween, a first protrusion 28 provided on the opposing substrate 11A and protruding from the first main surface 11A1 toward the second main surface 11B2, a first extension 29 extending from the first protrusion 28 along the first main surface 11A1 and disposed at a gap between the first main surface 11A1, a second protrusion 30 provided on the array substrate 11B and protruding from the second main surface 11B2 toward the first main surface 11A1, and a second extension 31 extending from the second protrusion 30 along the second main surface 11B2 and disposed so as to sandwich the first extension 29 between the second main surface 11B2 and the second main surface 11B2.

第2突出部30からアレイ基板11Bの第2主面11B2に沿って延出する第2延出部31は、第2主面11B2との間に、第1突出部28から対向基板11Aの第1主面11A1に沿って延出する第1延出部29を挟むよう配される。このようにすれば、仮に対向基板11Aとアレイ基板11Bとが離れる向きに相対変位させられようとした場合でも、第1延出部29及び第2延出部31が互いに引っ掛かり合うことで、対向基板11Aとアレイ基板11Bとが離れる向きに相対変位し難くなる。これにより、対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間の間隔が一定以上にならないよう保つ上で好適となる。 The second extension portion 31 extending from the second protrusion 30 along the second main surface 11B2 of the array substrate 11B is arranged to sandwich the first extension portion 29 extending from the first protrusion 28 along the first main surface 11A1 of the counter substrate 11A between the second protrusion 30 and the second main surface 11B2. In this way, even if the counter substrate 11A and the array substrate 11B are to be displaced relatively in a direction away from each other, the first extension portion 29 and the second extension portion 31 hook together, making it difficult for the counter substrate 11A and the array substrate 11B to be displaced relatively in a direction away from each other. This is advantageous in keeping the distance between the counter substrate 11A and the array substrate 11B from exceeding a certain value.

また、対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間に挟持されて液晶材料からなる液晶層11Cを備える。例えば、第1主面11A1及び第2主面11B2が鉛直方向に沿うよう配置されると、液晶層11Cを構成する液晶材料が鉛直方向の下側に溜まるため、対向基板11A及びアレイ基板11Bには、互いに離れる向きの応力が作用し得る。その点、第1延出部29及び第2延出部31が互いに引っ掛かり合うことで、対向基板11Aとアレイ基板11Bとが離れる向きに相対変位し難くなっているので、液晶層11Cの厚みが局所的に大きくなる事態が生じ難くなる。 The liquid crystal layer 11C is sandwiched between the counter substrate 11A and the array substrate 11B and is made of a liquid crystal material. For example, when the first main surface 11A1 and the second main surface 11B2 are arranged along the vertical direction, the liquid crystal material that constitutes the liquid crystal layer 11C accumulates on the lower side in the vertical direction, and stress in a direction that moves the counter substrate 11A and the array substrate 11B away from each other may act on them. In this regard, the first extension portion 29 and the second extension portion 31 hook together, making it difficult for the counter substrate 11A and the array substrate 11B to be displaced relative to each other in a direction that moves them away from each other, and therefore it is difficult for the thickness of the liquid crystal layer 11C to become locally large.

また、複数の画素PXと、隣り合う画素PXの間に配されて光を遮る遮光部21と、を備えており、第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31は、遮光部21と重畳して配される。隣り合う画素PXの間を行き交おうとする光が遮光部21によって遮られることで、画素PX間に混色が生じ難くなる。第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31が、遮光部21と重畳して配されることで、第1突出部28、第1延出部29、第2突出部30及び第2延出部31が外部から視認され難くなる。これにより、表示品位を良好に保つことができる。 The display device also includes a plurality of pixels PX and a light shielding portion 21 arranged between adjacent pixels PX to block light, and the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 are arranged to overlap with the light shielding portion 21. The light that passes between adjacent pixels PX is blocked by the light shielding portion 21, making it difficult for color mixing to occur between the pixels PX. The first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 are arranged to overlap with the light shielding portion 21, making it difficult for the first protrusion 28, the first extension 29, the second protrusion 30, and the second extension 31 to be visible from the outside. This makes it possible to maintain good display quality.

また、対向基板11Aには、第1主面11A1から第2主面11B2側に向けて突出するスペーサ23が設けられ、アレイ基板11Bには、第2主面11B2から第1主面11A1側に向けて突出してスペーサ23と対向して配されるバンプ27が設けられ、第1突出部28及び第1延出部29は、スペーサ23と同じ材料からなり、第2突出部30及び第2延出部31は、バンプ27と同じ材料からなる。互いに対向して配されるスペーサ23及びバンプ27によって対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間の間隔が一定以下にならないよう保つことができる。第1突出部28及び第1延出部29が、スペーサ23と同じ材料からなるので、製造に際して対向基板11Aにスペーサ23を設ける工程において第1突出部28及び第1延出部29を設けることができる。第2突出部30及び第2延出部31が、バンプ27と同じ材料からなるので、製造に際してアレイ基板11Bにバンプ27を設ける工程において第2突出部30及び第2延出部31を設けることができる。 In addition, the opposing substrate 11A is provided with a spacer 23 protruding from the first main surface 11A1 toward the second main surface 11B2, and the array substrate 11B is provided with a bump 27 protruding from the second main surface 11B2 toward the first main surface 11A1 and arranged opposite the spacer 23, the first protruding portion 28 and the first extending portion 29 being made of the same material as the spacer 23, and the second protruding portion 30 and the second extending portion 31 being made of the same material as the bump 27. The spacer 23 and the bump 27 arranged opposite each other can keep the distance between the opposing substrate 11A and the array substrate 11B from being smaller than a certain value. Since the first protruding portion 28 and the first extending portion 29 are made of the same material as the spacer 23, the first protruding portion 28 and the first extending portion 29 can be provided in the process of providing the spacer 23 on the opposing substrate 11A during manufacturing. Since the second protrusion 30 and the second extension 31 are made of the same material as the bump 27, the second protrusion 30 and the second extension 31 can be provided during the manufacturing process of providing the bump 27 on the array substrate 11B.

また、本実施形態に係る液晶パネル11の製造方法は、対向基板11Aの第1主面11A1から突出する第1突出部28と、第1突出部28から第1主面11A1に沿って延出していて第1主面11A1との間に間隔を空けて配される第1延出部29と、を設け、アレイ基板11Bの第2主面11B2から突出する第2突出部30と、第2突出部30から第2主面11B2に沿って延出していて第2主面11B2との間に間隔を空けて配される第2延出部31と、を設け、第1主面11A1と第2主面11B2とが対向していて、第1突出部28及び第1延出部29と第2突出部30及び第2延出部31とが非重畳になるよう、対向基板11Aとアレイ基板11Bとを配し、対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間の間隔を調整し、第1延出部29を第2主面11B2と第2延出部31との間に位置させ、対向基板11Aとアレイ基板11Bとを第1主面11A1及び第2主面11B2に沿う方向にスライドさせ、第2延出部31と第2主面11B2との間に第1延出部29を挟ませる。第1突出部28及び第1延出部29が設けられた対向基板11Aと、第2突出部30及び第2延出部31が設けられたアレイ基板11Bと、を貼り合わせる際には、まず、第1主面11A1と第2主面11B2とを対向させるとともに、第1突出部28及び第1延出部29と第2突出部30及び第2延出部31とを非重畳になるよう、対向基板11Aとアレイ基板11Bとを配する。対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間の間隔を調整することで、第1延出部29を第2主面11B2と第2延出部31との間に位置させる。それから、対向基板11Aとアレイ基板11Bとを第1主面11A1及び第2主面11B2に沿う方向にスライドさせることで、第2延出部31と第2主面11B2との間に第1延出部29を挟ませる。このようにして製造された液晶パネル11によれば、仮に対向基板11Aとアレイ基板11Bとが離れる向きに相対変位させられようとした場合でも、第1延出部29及び第2延出部31が互いに引っ掛かり合うことで、対向基板11Aとアレイ基板11Bとが離れる向きに相対変位し難くなる。これにより、対向基板11Aとアレイ基板11Bとの間の間隔が一定以上にならないよう保つ上で好適となる。 In addition, the manufacturing method of the liquid crystal panel 11 according to this embodiment includes providing a first protruding portion 28 protruding from the first main surface 11A1 of the counter substrate 11A, and a first extending portion 29 extending from the first protruding portion 28 along the first main surface 11A1 and disposed at a distance from the first main surface 11A1, and providing a second protruding portion 30 protruding from the second main surface 11B2 of the array substrate 11B, and a second extending portion 31 extending from the second protruding portion 30 along the second main surface 11B2 and disposed at a distance from the second main surface 11B2, and The opposing substrate 11A and the array substrate 11B are arranged so that the two main surfaces 11B2 face each other and the first protrusion 28 and first extension portion 29 do not overlap with the second protrusion 30 and second extension portion 31, the distance between the opposing substrate 11A and the array substrate 11B is adjusted, the first extension portion 29 is positioned between the second main surface 11B2 and the second extension portion 31, and the opposing substrate 11A and the array substrate 11B are slid in a direction along the first main surface 11A1 and the second main surface 11B2, and the first extension portion 29 is sandwiched between the second extension portion 31 and the second main surface 11B2. When bonding the counter substrate 11A provided with the first protrusion 28 and the first extension 29 and the array substrate 11B provided with the second protrusion 30 and the second extension 31, first, the first main surface 11A1 and the second main surface 11B2 are opposed to each other, and the counter substrate 11A and the array substrate 11B are arranged so that the first protrusion 28 and the first extension 29 do not overlap with the second protrusion 30 and the second extension 31. The distance between the counter substrate 11A and the array substrate 11B is adjusted to position the first extension 29 between the second main surface 11B2 and the second extension 31. Then, the counter substrate 11A and the array substrate 11B are slid in a direction along the first main surface 11A1 and the second main surface 11B2 to sandwich the first extension 29 between the second extension 31 and the second main surface 11B2. With the liquid crystal panel 11 manufactured in this way, even if the opposing substrate 11A and the array substrate 11B are displaced relative to each other in a direction that separates them, the first extension portion 29 and the second extension portion 31 hook together, making it difficult for the opposing substrate 11A and the array substrate 11B to displace relative to each other in a direction that separates them. This is advantageous in keeping the distance between the opposing substrate 11A and the array substrate 11B from exceeding a certain value.

また、対向基板11Aに第1突出部28及び第1延出部29を設けるにあたっては、対向基板11Aの第1主面11A1上に第1金属膜(第1膜)F1を成膜し、第1金属膜F1をパターニングして第1台座部32を設け、第1金属膜F1の上層側に第1絶縁膜(第2膜)F2を成膜し、第1絶縁膜F2をパターニングして第1突出部28と第1台座部32の上層側に重なる第1延出部29とを設け、第1台座部32をエッチングして除去し、アレイ基板11Bに第2突出部30及び第2延出部31を設けるにあたっては、アレイ基板11Bの第2主面11B2上に第2金属膜(第3膜)F3を成膜し、第2金属膜F3をパターニングして第2台座部33を設け、第2金属膜F3の上層側に第2絶縁膜(第4膜)F4を成膜し、第2絶縁膜F4をパターニングして第2突出部30と第2台座部33の上層側に重なる第2延出部31とを設け、第2台座部33をエッチングして除去する。対向基板11Aの第1主面11A1上に成膜された第1金属膜F1をパターニングすると、第1台座部32が設けられる。第1金属膜F1の上層側に成膜された第1絶縁膜F2をパターニングすると、第1突出部28及び第1延出部29が設けられる。第1延出部29は、第1台座部32の上層側に重なっている。第1台座部32をエッチングして除去すると、第1主面11A1と第1延出部29とが互いに対向するとともに、第1主面11A1と第1延出部29との間に第1台座部32の分の間隔が空けられる。アレイ基板11Bの第2主面11B2上に成膜された第2金属膜F3をパターニングすると、第2台座部33が設けられる。第2金属膜F3の上層側に成膜された第2絶縁膜F4をパターニングすると、第2突出部30及び第2延出部31が設けられる。第2延出部31は、第2台座部33の上層側に重なっている。第2台座部33をエッチングして除去すると、第2主面11B2と第2延出部31とが互いに対向するとともに第2主面11B2と第2延出部31との間に第2台座部33の分の間隔が空けられる。このようにして第1延出部29及び第2延出部31を設けることで、第1主面11A1と第1延出部29との間の間隔と、第2主面11B2と第2延出部31との間の間隔と、の各寸法精度を向上させることができる。 In addition, when providing the first protrusion 28 and the first extension 29 on the opposing substrate 11A, a first metal film (first film) F1 is formed on the first main surface 11A1 of the opposing substrate 11A, the first metal film F1 is patterned to provide the first pedestal 32, a first insulating film (second film) F2 is formed on the upper layer side of the first metal film F1, the first insulating film F2 is patterned to provide the first protrusion 28 and the first extension 29 overlapping the upper layer side of the first pedestal 32, and the first pedestal 32 is etched and removed, When providing the second protruding portion 30 and the second extending portion 31 on the array substrate 11B, a second metal film (third film) F3 is formed on the second main surface 11B2 of the array substrate 11B, the second metal film F3 is patterned to provide the second pedestal portion 33, a second insulating film (fourth film) F4 is formed on the upper layer side of the second metal film F3, the second insulating film F4 is patterned to provide the second protruding portion 30 and the second extending portion 31 overlapping the upper layer side of the second pedestal portion 33, and the second pedestal portion 33 is etched and removed. When the first metal film F1 formed on the first main surface 11A1 of the counter substrate 11A is patterned, the first pedestal portion 32 is provided. When the first insulating film F2 formed on the upper layer side of the first metal film F1 is patterned, the first protruding portion 28 and the first extending portion 29 are provided. The first extension 29 overlaps the upper layer side of the first pedestal 32. When the first pedestal 32 is etched and removed, the first main surface 11A1 and the first extension 29 face each other, and a gap for the first pedestal 32 is provided between the first main surface 11A1 and the first extension 29. When the second metal film F3 formed on the second main surface 11B2 of the array substrate 11B is patterned, the second pedestal 33 is provided. When the second insulating film F4 formed on the upper layer side of the second metal film F3 is patterned, the second protrusion 30 and the second extension 31 are provided. The second extension 31 overlaps the upper layer side of the second pedestal 33. When the second pedestal portion 33 is removed by etching, the second main surface 11B2 and the second extension portion 31 face each other, and a gap is provided between the second main surface 11B2 and the second extension portion 31 by the size of the second pedestal portion 33. By providing the first extension portion 29 and the second extension portion 31 in this manner, it is possible to improve the dimensional accuracy of the gap between the first main surface 11A1 and the first extension portion 29, and the gap between the second main surface 11B2 and the second extension portion 31.

<実施形態2>
実施形態2を図16によって説明する。この実施形態2では、第1突出部128、第1延出部129、第2突出部130及び第2延出部131の配置を変更した場合を示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
<Embodiment 2>
A second embodiment will be described with reference to Fig. 16. In this second embodiment, the arrangement of the first protruding portion 128, the first extending portion 129, the second protruding portion 130, and the second extending portion 131 is changed. Note that a duplicated description of the structure, action, and effect similar to those of the first embodiment will be omitted.

本実施形態に係る第1突出部128、第1延出部129、第2突出部130及び第2延出部131は、図16に示すように、非表示領域NAAにおいて封止部111Dと重畳して配される。具体的には、第1突出部128、第1延出部129、第2突出部130及び第2延出部131は、平面形状が枠状とされる封止部111Dのうち、X軸方向に沿って延在する部分と、Y軸方向に沿って延在する部分と、にそれぞれ重畳するよう複数ずつ設けられている。このように、第1突出部128、第1延出部129、第2突出部130及び第2延出部131が、封止部111Dと重畳して配されることで、対向基板111A及びアレイ基板111Bに対する封止部111Dの接着強度を向上させることができる。 As shown in FIG. 16, the first protrusion 128, the first extension 129, the second protrusion 130, and the second extension 131 according to this embodiment are arranged so as to overlap with the sealing portion 111D in the non-display area NAA. Specifically, the first protrusion 128, the first extension 129, the second protrusion 130, and the second extension 131 are provided in multiples so as to overlap with the portion extending along the X-axis direction and the portion extending along the Y-axis direction of the sealing portion 111D, which has a frame-shaped planar shape. In this way, the first protrusion 128, the first extension 129, the second protrusion 130, and the second extension 131 are arranged so as to overlap with the sealing portion 111D, thereby improving the adhesive strength of the sealing portion 111D to the counter substrate 111A and the array substrate 111B.

以上説明したように本実施形態によれば、対向基板111Aとアレイ基板111Bとの間に介在し、液晶層11Cを取り囲んでいて液晶層11Cを封止する封止部111Dを備えており、第1突出部128、第1延出部129、第2突出部130及び第2延出部131は、封止部111Dと重畳して配される。封止部111Dによって液晶層11Cが封止されることで、液晶材料の漏れ出しが防がれる。第1突出部128、第1延出部129、第2突出部130及び第2延出部131が、封止部111Dと重畳して配されることで、対向基板111A及びアレイ基板111Bに対する封止部111Dの接着強度を向上させることができる。 As described above, according to this embodiment, the sealing portion 111D is provided between the counter substrate 111A and the array substrate 111B, surrounds the liquid crystal layer 11C, and seals the liquid crystal layer 11C. The first protrusion 128, the first extension 129, the second protrusion 130, and the second extension 131 are arranged to overlap with the sealing portion 111D. The liquid crystal layer 11C is sealed by the sealing portion 111D, thereby preventing leakage of the liquid crystal material. The first protrusion 128, the first extension 129, the second protrusion 130, and the second extension 131 are arranged to overlap with the sealing portion 111D, thereby improving the adhesive strength of the sealing portion 111D to the counter substrate 111A and the array substrate 111B.

<他の実施形態>
本明細書が開示する技術は、上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されず、例えば次のような実施形態も技術的範囲に含まれる。
<Other embodiments>
The technology disclosed in this specification is not limited to the embodiments described above and illustrated in the drawings, and the following embodiments, for example, are also included in the technical scope.

(1)液晶パネル11の製造方法に含まれる第13工程では、第1延出部29,129と第2延出部31,131とが、第1主面11A1及び第2主面11B2に沿う方向であって第1延出部29,129及び第2延出部31,131の延出方向と直交する方向であるX軸方向について所定の間隔を空けて隣り合う配置とし、対向基板11A,111Aとアレイ基板11B,111BとをX軸方向にスライドさせてもよい。 (1) In step 13 included in the manufacturing method of the liquid crystal panel 11, the first extension portions 29, 129 and the second extension portions 31, 131 are arranged adjacent to each other with a predetermined gap in the X-axis direction, which is a direction along the first main surface 11A1 and the second main surface 11B2 and perpendicular to the extension direction of the first extension portions 29, 129 and the second extension portions 31, 131, and the counter substrates 11A, 111A and the array substrates 11B, 111B may be slid in the X-axis direction.

(2)第1延出部29,129及び第2延出部31,131は、X軸方向に沿って延出するよう設けられてもよい。 (2) The first extension portion 29, 129 and the second extension portion 31, 131 may be arranged to extend along the X-axis direction.

(3)第1突出部28,128、第1延出部29,129、第2突出部30,130及び第2延出部31,131は、表示領域AAにおいて平面に視て格子状をなす遮光部21のうち、X軸方向に沿って延在する部分に対して重畳して配されてもよい。この場合、第1突出部28,128、第1延出部29,129、第2突出部30,130及び第2延出部31,131は、Y軸方向について隣り合う画素PXの間に配されている。 (3) The first protrusions 28, 128, the first extensions 29, 129, the second protrusions 30, 130, and the second extensions 31, 131 may be arranged to overlap with the portions of the light-shielding section 21 that form a lattice shape in a plan view in the display area AA and that extend along the X-axis direction. In this case, the first protrusions 28, 128, the first extensions 29, 129, the second protrusions 30, 130, and the second extensions 31, 131 are arranged between adjacent pixels PX in the Y-axis direction.

(4)実施形態1に記載された液晶パネル11に、実施形態2に記載された構成(封止部111Dに対して重畳配置された第1突出部128、第1延出部129、第2突出部130及び第2延出部131)を組み合わせてもよい。 (4) The liquid crystal panel 11 described in embodiment 1 may be combined with the configuration described in embodiment 2 (first protrusion 128, first extension 129, second protrusion 130, and second extension 131 superimposed on sealing portion 111D).

(5)表示領域AAにおいて遮光部21は、Y軸方向に沿って延在するストライプ状をなしていてもよい。 (5) In the display area AA, the light-shielding portion 21 may be in the form of stripes extending along the Y-axis direction.

(6)第1突出部28,128、第1延出部29,129、第2突出部30,130及び第2延出部31,131の各寸法に係る具体的な数値は、適宜に変更可能である。また、液晶層11Cの厚みに関する具体的な数値等も適宜に変更可能である。 (6) The specific values of the dimensions of the first protrusions 28, 128, the first extensions 29, 129, the second protrusions 30, 130, and the second extensions 31, 131 can be changed as appropriate. In addition, the specific values of the thickness of the liquid crystal layer 11C can also be changed as appropriate.

(7)画素電極18が層間絶縁膜26に対して下層側に位置し、共通電極25が層間絶縁膜26に対して上層側に位置してもよい。その場合、共通電極25に配向制御のためのスリットを形成するのが好ましい。 (7) The pixel electrode 18 may be located on the lower layer side of the interlayer insulating film 26, and the common electrode 25 may be located on the upper layer side of the interlayer insulating film 26. In that case, it is preferable to form a slit in the common electrode 25 for alignment control.

(8)液晶パネル11の平面形状は、横長の長方形、正方形、円形、半円形、長円形、楕円形、台形などであってもよい。 (8) The planar shape of the liquid crystal panel 11 may be a horizontally long rectangle, a square, a circle, a semicircle, an oval, an ellipse, a trapezoid, etc.

(9)液晶パネル11は、透過型以外にも半透過型や反射型であってもよい。 (9) The liquid crystal panel 11 may be a semi-transmissive or reflective type in addition to a transmissive type.

(10)液晶パネル11の表示モードは、FFSモード以外にもVAモード、IPSモード等でもよい。 (10) The display mode of the liquid crystal panel 11 may be VA mode, IPS mode, etc., in addition to FFS mode.

(11)液晶パネル11以外のデバイスでもよい。液晶パネル11以外のデバイスとしては、例えば屋内光発電デバイスが挙げられる。屋内光発電デバイスは、互いに対向する第1基板と第2基板との間に、色素と電解液を挟持させて封止部によって封止した構成とされる。屋内光発電デバイスは、色素増感太陽電池を有する。 (11) A device other than the liquid crystal panel 11 may be used. An example of a device other than the liquid crystal panel 11 is an indoor photovoltaic device. The indoor photovoltaic device is configured such that a dye and an electrolyte are sandwiched between a first substrate and a second substrate facing each other and sealed with a sealing portion. The indoor photovoltaic device has a dye-sensitized solar cell.

11…液晶パネル(デバイス)、11A,111A…対向基板(第1基板)、11A1…第1主面、11B,111B…アレイ基板(第2基板)、11B2…第2主面、11C…液晶層、11D,111D…封止部、21…遮光部、23…スペーサ、27…バンプ、28,128…第1突出部、29,129…第1延出部、30,130…第2突出部、31,131…第2延出部、32…第1台座部、33…第2台座部、F1…第1金属膜(第1膜)、F2…第1絶縁膜(第2膜)、F3…第2金属膜(第3膜)、F4…第2絶縁膜(第4膜)、PX…画素 11...liquid crystal panel (device), 11A, 111A...opposing substrate (first substrate), 11A1...first main surface, 11B, 111B...array substrate (second substrate), 11B2...second main surface, 11C...liquid crystal layer, 11D, 111D...sealing portion, 21...light shielding portion, 23...spacer, 27...bump, 28, 128...first protrusion, 29, 129...first extension, 30, 130...second protrusion, 31, 131...second extension, 32...first base, 33...second base, F1...first metal film (first film), F2...first insulating film (second film), F3...second metal film (third film), F4...second insulating film (fourth film), PX...pixel

Claims (7)

第1主面を有する第1基板と、
前記第1主面と間隔を空けて対向する第2主面を有する第2基板と、
前記第1基板に設けられて前記第1主面から前記第2主面側に向けて突出する第1突出部と、
前記第1突出部から前記第1主面に沿って延出し、前記第1主面との間に間隔を空けて配される第1延出部と、
前記第2基板に設けられて前記第2主面から前記第1主面側に向けて突出する第2突出部と、
前記第2突出部から前記第2主面に沿って延出し、前記第2主面との間に前記第1延出部を挟むよう配される第2延出部と、を備えるデバイス。
a first substrate having a first major surface;
a second substrate having a second main surface facing the first main surface with a gap therebetween;
a first protrusion provided on the first substrate and protruding from the first main surface toward the second main surface;
a first extension portion extending from the first protruding portion along the first main surface and disposed at a distance from the first main surface;
a second protruding portion provided on the second substrate and protruding from the second main surface toward the first main surface;
A device comprising: a second extension portion extending from the second protrusion portion along the second main surface and arranged to sandwich the first extension portion between the second protrusion portion and the second main surface.
前記第1基板と前記第2基板との間に挟持されて液晶材料からなる液晶層を備える請求項1記載のデバイス。 The device of claim 1, further comprising a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate and made of a liquid crystal material. 複数の画素と、
隣り合う前記画素の間に配されて光を遮る遮光部と、を備えており、
前記第1突出部、前記第1延出部、前記第2突出部及び前記第2延出部は、前記遮光部と重畳して配される請求項2記載のデバイス。
A plurality of pixels;
a light shielding portion disposed between adjacent pixels to block light,
The device according to claim 2 , wherein the first protrusion, the first extension, the second protrusion, and the second extension are arranged to overlap the light blocking portion.
前記第1基板と前記第2基板との間に介在し、前記液晶層を取り囲んでいて前記液晶層を封止する封止部を備えており、
前記第1突出部、前記第1延出部、前記第2突出部及び前記第2延出部は、前記封止部と重畳して配される請求項2記載のデバイス。
a sealing portion interposed between the first substrate and the second substrate, surrounding the liquid crystal layer and sealing the liquid crystal layer;
The device according to claim 2 , wherein the first protrusion, the first extension, the second protrusion, and the second extension are arranged to overlap the sealing portion.
前記第1基板には、前記第1主面から前記第2主面側に向けて突出するスペーサが設けられ、
前記第2基板には、前記第2主面から前記第1主面側に向けて突出して前記スペーサと対向して配されるバンプが設けられ、
前記第1突出部及び前記第1延出部は、前記スペーサと同じ材料からなり、
前記第2突出部及び前記第2延出部は、前記バンプと同じ材料からなる請求項2から請求項4のいずれか1項に記載のデバイス。
the first substrate is provided with a spacer protruding from the first main surface toward the second main surface;
The second substrate is provided with a bump protruding from the second main surface toward the first main surface and disposed opposite the spacer,
the first protruding portion and the first extending portion are made of the same material as the spacer,
The device according to claim 2 , wherein the second protruding portion and the second extending portion are made of the same material as the bump.
第1基板の第1主面から突出する第1突出部と、前記第1突出部から前記第1主面に沿って延出していて前記第1主面との間に間隔を空けて配される第1延出部と、を設け、
第2基板の第2主面から突出する第2突出部と、前記第2突出部から前記第2主面に沿って延出していて前記第2主面との間に間隔を空けて配される第2延出部と、を設け、
前記第1主面と前記第2主面とが対向していて、前記第1突出部及び前記第1延出部と前記第2突出部及び前記第2延出部とが非重畳になるよう、前記第1基板と前記第2基板とを配し、
前記第1基板と前記第2基板との間の間隔を調整し、前記第1延出部を前記第2主面と前記第2延出部との間に位置させ、
前記第1基板と前記第2基板とを前記第1主面及び前記第2主面に沿う方向にスライドさせ、前記第2延出部と前記第2主面との間に前記第1延出部を挟ませるデバイスの製造方法。
a first protruding portion protruding from a first main surface of a first substrate; and a first extending portion extending from the first protruding portion along the first main surface and disposed at a distance from the first main surface;
a second protruding portion protruding from a second main surface of the second substrate; and a second extending portion extending from the second protruding portion along the second main surface and disposed at a distance from the second main surface;
The first substrate and the second substrate are arranged such that the first main surface and the second main surface face each other, and the first protruding portion and the first extending portion do not overlap with the second protruding portion and the second extending portion;
adjusting a distance between the first substrate and the second substrate, and positioning the first extension portion between the second main surface and the second extension portion;
A method for manufacturing a device, comprising sliding the first substrate and the second substrate in a direction along the first main surface and the second main surface, and sandwiching the first extension portion between the second extension portion and the second main surface.
前記第1基板に前記第1突出部及び前記第1延出部を設けるにあたっては、前記第1基板の前記第1主面上に第1膜を成膜し、前記第1膜をパターニングして第1台座部を設け、前記第1膜の上層側に第2膜を成膜し、前記第2膜をパターニングして前記第1突出部と前記第1台座部の上層側に重なる前記第1延出部とを設け、前記第1台座部をエッチングして除去し、
前記第2基板に前記第2突出部及び前記第2延出部を設けるにあたっては、前記第2基板の前記第2主面上に第3膜を成膜し、前記第3膜をパターニングして第2台座部を設け、前記第3膜の上層側に第4膜を成膜し、前記第4膜をパターニングして前記第2突出部と前記第2台座部の上層側に重なる前記第2延出部とを設け、前記第2台座部をエッチングして除去する請求項6記載のデバイスの製造方法。
When providing the first protruding portion and the first extending portion on the first substrate, a first film is formed on the first main surface of the first substrate, the first film is patterned to provide a first pedestal portion, a second film is formed on an upper layer side of the first film, the second film is patterned to provide the first protruding portion and the first extending portion overlapping the upper layer side of the first pedestal portion, and the first pedestal portion is etched and removed.
7. The device manufacturing method of claim 6, wherein when providing the second protrusion and the second extension on the second substrate, a third film is formed on the second main surface of the second substrate, the third film is patterned to provide a second pedestal, a fourth film is formed on the upper side of the third film, the fourth film is patterned to provide the second protrusion and the second extension overlapping the upper side of the second pedestal, and the second pedestal is etched away.
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