JP2024081038A - Production method of stilbene compound and production method of diaryl compound - Google Patents
Production method of stilbene compound and production method of diaryl compound Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024081038A JP2024081038A JP2022194463A JP2022194463A JP2024081038A JP 2024081038 A JP2024081038 A JP 2024081038A JP 2022194463 A JP2022194463 A JP 2022194463A JP 2022194463 A JP2022194463 A JP 2022194463A JP 2024081038 A JP2024081038 A JP 2024081038A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- group
- substituted
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 stilbene compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 113
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 title claims abstract description 63
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 title claims abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 36
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 26
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N trans-Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000006519 Mcmurry reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 16
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 11
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 42
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 claims description 12
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 8
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 6
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 4
- BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L nickel(2+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ni+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L 0.000 claims description 4
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910018597 Ni(BF4)2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910005582 NiC Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021585 Nickel(II) bromide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021587 Nickel(II) fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021588 Nickel(II) iodide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dibromide Chemical compound [Ni+2].[Br-].[Br-] IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- KVRSDIJOUNNFMZ-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Ni+2].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F KVRSDIJOUNNFMZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) fluoride Chemical compound F[Ni]F DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- BFSQJYRFLQUZKX-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) iodide Chemical compound I[Ni]I BFSQJYRFLQUZKX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 12
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 9
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene Chemical compound [Fe+2].C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BMIBJCFFZPYJHF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-5-methyl-3-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)pyridine Chemical compound COC1=NC=C(C)C=C1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 BMIBJCFFZPYJHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFZRZRDOXPRTSC-UHFFFAOYSA-N 3,5-Dimethoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C=O)=C1 VFZRZRDOXPRTSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-QXMHVHEDSA-N cis-stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C\C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-QXMHVHEDSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- LZWQNOHZMQIFBX-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropan-2-olate Chemical compound [Li+].CC(C)(C)[O-] LZWQNOHZMQIFBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 2
- BIYGTLDPTJMNET-CMDGGOBGSA-N (E)-3,5-Dimethoxystilbene Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(\C=C\C=2C=CC=CC=2)=C1 BIYGTLDPTJMNET-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical class [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- 229910018287 SbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007565 Zn—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N acetylacetonate Chemical compound CC(=O)[CH-]C(C)=O CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- BIYGTLDPTJMNET-UHFFFAOYSA-N cis-pinosylvin dimethyl ether Natural products COC1=CC(OC)=CC(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 BIYGTLDPTJMNET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical group C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical class [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004685 tetrahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
本発明は、マクマリー反応によってスチルベン化合物を製造する方法に関する。また、本発明は、当該スチルベン化合物を配位子とした触媒を用いて、不斉合成反応によって四級不斉炭素含有ジアリール化合物を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a stilbene compound by the McMurry reaction. The present invention also relates to a method for producing a quaternary asymmetric carbon-containing diaryl compound by an asymmetric synthesis reaction using a catalyst having the stilbene compound as a ligand.
従来、オレフィン化合物は、例えば、医薬、農薬、電子材料、金属錯体の配位子等の様々な製品に幅広く使用されている化学物質である。例えば、スチルベン化合物は、Ｎｉ系触媒等の配位子として利用されている。そこで、効率的なスチルベン化合物の製造方法が求められている Olefin compounds are chemical substances that have been widely used in various products, such as medicines, agricultural chemicals, electronic materials, and ligands for metal complexes. For example, stilbene compounds are used as ligands for Ni-based catalysts. Therefore, an efficient method for producing stilbene compounds is required.
上記の課題に対して、例えば、特許文献１には、４位及び４’位にスルホ基または置換スルホ基を有する新規なスチルベン化合物を合成する方法が開示されている。また、非特許文献１には、スチルベン化合物のシス体およびトランス体の混合物を合成した後、さらにシス体およびトランス体の混合物に対してヨウ素触媒を用いて、シス体をトランス体に異性化する方法が開示されている。 To address the above-mentioned issues, for example, Patent Document 1 discloses a method for synthesizing a novel stilbene compound having sulfo groups or substituted sulfo groups at the 4-position and 4'-position. In addition, Non-Patent Document 1 discloses a method for synthesizing a mixture of cis and trans isomers of a stilbene compound, and then isomerizing the cis isomer to the trans isomer using an iodine catalyst on the mixture of cis and trans isomers.
しかし、特許文献１では、反応生成物であるスチルベン化合物のシス・トランスの選択性の制御は行われていない。また、非特許文献１では、スチルベン化合物のシス体およびトランス体の混合物に対して異性化処理を行っており、トランス体のスチルベン化合物を効率的かつ選択的に合成できていない。 However, in Patent Document 1, the cis/trans selectivity of the reaction product, the stilbene compound, is not controlled. In addition, in Non-Patent Document 1, an isomerization treatment is performed on a mixture of cis and trans stilbene compounds, and the trans stilbene compound cannot be efficiently and selectively synthesized.
したがって、本発明の目的は、効率的であり、かつ、シス・トランスの選択性に優れたスチルベン化合物の製造方法を提供することである。 Therefore, the object of the present invention is to provide a method for producing stilbene compounds that is efficient and has excellent cis/trans selectivity.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、マクマリー反応を用いて特定の原料化合物からトランス体のスチルベン化合物を選択的かつ効率的に合成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive research conducted by the present inventors to solve the above problems, they discovered that trans-stilbene compounds can be selectively and efficiently synthesized from specific raw material compounds using the McMurry reaction, and thus completed the present invention.
また、本発明者は、得られたスチルベン化合物を配位子とした触媒を用いて、不斉合成反応によって四級不斉炭素含有ジアリール化合物を選択的かつ効率的に合成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The inventors also discovered that a quaternary asymmetric carbon-containing diaryl compound can be selectively and efficiently synthesized by an asymmetric synthesis reaction using a catalyst with the obtained stilbene compound as a ligand, thereby completing the present invention.
すなわち、本発明によれば、以下の発明が提供される。
［１］ 下記式（１）：
で表される第１の原料化合物を、ルイス酸および還元剤の存在下で、マクマリー反応によって、
下記式（２）：
で表されるトランス－スチルベン化合物を合成する反応工程を含む、スチルベン化合物の製造方法。
［２］ 前記マクマリー反応が、－３０℃以上８０℃以下の温度下で行われる、［１］に記載のスチルベン化合物の製造方法。
［３］ 前記ルイス酸が、金属ハロゲン化物である、［１］または［２］に記載のスチルベン化合物の製造方法。
［４］ 前記還元剤が、亜鉛、亜鉛含有化合物、および亜鉛合金からなる群から選択される少なくとも１種である、［１］～［３］のいずれかに記載のスチルベン化合物の製造方法。
［５］ 下記式（３）：
Ｒ４は、ヒドロキシ基の保護基を示し、
Ｒ５は、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～６のアルキル基で置換されたアミノ基を示し、ｍは０～５の整数である。但し、ｎが０の場合、フェニル基の水素原子は置換されていないことを示す。また、ｍ＝２以上の場合、いずれか２つのＲ５が環式構造を形成してもよい。）
で表される第２の原料化合物と、
下記式（４）：
Ｒ７は、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～６のアルキル基で置換されたアミノ基を示し、ｐは０～５の整数である。但し、ｎが０の場合、フェニル基の水素原子は置換されていないことを示す。また、ｐ＝２以上の場合、いずれか２つのＲ７が環式構造を形成してもよい。）
で表される第３の原料化合物とを、ニッケル（ＩＩ）化合物あるいはパラジウム（ＩＩ）化合物、および［１］～［４］のいずれかに記載の製造方法により得られた上記式（２）で表されるトランス－スチルベン化合物の存在下で、不斉合成反応によって、
下記式（５）：
で表される四級不斉炭素含有ジアリール化合物を合成する反応工程を含む、ジアリール化合物の製造方法。
［６］ 前記トランス－スチルベン化合物が、下記式：
で表される少なくとも１種の化合物である、［５］に記載のジアリール化合物の製造方法。
［７］ 前記ニッケル（ＩＩ）化合物および前記トランス－スチルベン化合物が、錯体を形成している、［５］または［６］に記載のジアリール化合物の製造方法。
［８］ 前記ニッケル（ＩＩ）化合物が、Ｎｉ（ａｃａｃ）２、Ｎｉ（Ａｃ）２、ＮｉＦ２、ＮｉＣ 、ＮｉＢｒ２、ＮｉＩ２、Ｎｉ（ＯＴｆ）２、Ｎｉ（ＢＦ４）２、Ｎｉ（ＯＴｓ）２、Ｎｉ（グリム）Ｃｌ２、Ｎｉ（グリム）Ｂｒ２、Ｎｉ（ジグリム）Ｃｌ２、Ｎｉ（ジグリム）Ｂｒ２、Ｎｉ（ＮＯ３）２、およびＮｉ（ＯＲ７）２（式中、Ｒ７は、－Ｃ（Ｏ）－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、Ｃ１～Ｃ６アルキルはハロゲン原子で置換されてもよい）からなる群から選択される、［５］～［７］のいずれかに記載のジアリール化合物の製造方法。
［９］ 前記四級不斉炭素含有ジアリール化合物の光学純度が、９５％ｅｅ以上である、［５］～［８］のいずれかに記載のジアリール化合物の記載の製造方法。
That is, according to the present invention, the following inventions are provided.
[1] The following formula (1):
A first raw material compound represented by the following formula (1) is reacted with a Lewis acid and a reducing agent in the presence of the McMurry reaction to give
The following formula (2):
The present invention relates to a method for producing a stilbene compound, the method comprising the step of synthesizing a trans-stilbene compound represented by the formula:
[2] The method for producing a stilbene compound according to [1], wherein the McMurry reaction is carried out at a temperature of −30° C. or higher and 80° C. or lower.
[3] The method for producing a stilbene compound according to [1] or [2], wherein the Lewis acid is a metal halide.
[4] The method for producing a stilbene compound according to any one of [1] to [3], wherein the reducing agent is at least one selected from the group consisting of zinc, a zinc-containing compound, and a zinc alloy.
[5] The following formula (3):
R4 represents a protecting group for a hydroxy group;
R5 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m is an integer from 0 to 5. However, when n is 0, this indicates that the hydrogen atom of the phenyl group is not substituted. In addition, when m is 2 or more, any two of R5 may form a cyclic structure.
A second raw material compound represented by the formula:
The following formula (4):
R7 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and p is an integer from 0 to 5. However, when n is 0, this indicates that the hydrogen atom of the phenyl group is not substituted. In addition, when p is 2 or more, any two of R7 may form a cyclic structure.
and a third raw material compound represented by the formula (3) are reacted by asymmetric synthesis in the presence of a nickel (II) compound or a palladium (II) compound, and a trans-stilbene compound represented by the formula (2) obtained by the production method according to any one of [1] to [4],
The following formula (5):
A method for producing a diaryl compound, comprising a reaction step of synthesizing a diaryl compound containing a quaternary asymmetric carbon represented by the following formula:
[6] The trans-stilbene compound is represented by the following formula:
The method for producing the diaryl compound according to [5], wherein the diaryl compound is at least one compound represented by the formula:
[7] The method for producing a diaryl compound according to [5] or [6], wherein the nickel(II) compound and the trans-stilbene compound form a complex.
[8] The method for producing a diaryl compound according to any one of [5 ] to [ 7] , wherein the nickel ( II ) compound is selected from the group consisting of Ni(acac) 2 , Ni( Ac ) 2 , NiF2 , NiC, NiBr2, NiI2, Ni(OTf)2, Ni(BF4)2 , Ni ( OTs ) 2 , Ni(glyme ) Cl2 , Ni(glyme)Br2, Ni( diglyme )Cl2, Ni(diglyme)Br2, Ni( NO3 ) 2 , and Ni( OR7 )2 (wherein R7 is -C(O) -C1 - C6 alkyl, which may be substituted with a halogen atom).
[9] The method for producing the diaryl compound according to any one of [5] to [8], wherein the optical purity of the diaryl compound containing a quaternary asymmetric carbon is 95% ee or more.
本発明によれば、製造コストを低減できるスチルベン化合物の製造方法を提供することができる。さらに、本発明によれば、当該スチルベン化合物を用いて、効率的から選択的に四級不斉炭素含有ジアリール化合物を製造することができる。 According to the present invention, a method for producing a stilbene compound can be provided that can reduce production costs. Furthermore, according to the present invention, a diaryl compound containing a quaternary asymmetric carbon can be efficiently and selectively produced using the stilbene compound.
［スチルベン化合物の製造方法］
本発明によるスチルベン化合物の製造方法は、マクマリー反応によってトランス－スチルベン化合物を合成する反応工程を含む。また、スチルベン化合物の製造方法は、反応工程の後に精製工程をさらに含んでもよい。以下、各工程について詳述する。
[Method of producing stilbene compound]
The method for producing a stilbene compound according to the present invention includes a reaction step of synthesizing a trans-stilbene compound by the McMurry reaction. The method for producing a stilbene compound may further include a purification step after the reaction step. Each step will be described in detail below.
（反応工程）
反応工程では、下記式（１）：
で表される第１の原料化合物を、ルイス酸および還元剤の存在下で、マクマリー反応によって、トランス－スチルベン化合物を合成する。
(Reaction step)
In the reaction step, the following formula (1):
A trans-stilbene compound is synthesized by subjecting a first raw material compound represented by the following formula (1) to the McMurry reaction in the presence of a Lewis acid and a reducing agent.
上記式（１）中、Ｒ１は、好ましくは炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～４のアルキル基で置換されたアミノ基を示す。ｎは、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数である。 In the above formula (1), R 1 preferably represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. n is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably an integer of 0 to 2.
上記式（１）で表される第１の原料化合物の好ましい実施形態としては、以下の化合物が挙げられる。下記式中、ｔＢｕはターシャリーブチル基を示し、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示す。第１の原料化合物は、１種単独でも用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
Preferred embodiments of the first raw material compound represented by the above formula (1) include the following compounds. In the following formula, tBu represents a tertiary butyl group, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group. The first raw material compound may be used alone or in combination of two or more kinds.
（ルイス酸）
ルイス酸としては、マクマリー反応に用いられる従来公知のルイス酸が使用可能である。ルイス酸としては、金属ルイス酸を用いることが好ましい。金属ルイス酸としては、ＴｉＣｌ４、ＴｉＢｒ４、ＢＣｌ３、ＢＦ３、ＢＦ３・ＯＥｔ２、ＳｎＣｌ２、ＳｎＣｌ４、ＳｂＣｌ５、ＳｂＦ５、ＷＣｌ６、ＴａＣｌ５、ＶＣｌ５、ＦｅＣｌ３、ＺｎＢｒ２、ＡｌＣｌ３、ＡｌＢｒ３等の金属ハロゲン化物が挙げられる。これらの中でもハロゲン化チタン（ＴｉＣｌ４、ＴｉＢｒ４）を用いることが好ましい。これらのルイス酸は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。なお、ルイス酸の添加量は、適宜、調節することができる。
(Lewis acid)
As the Lewis acid, a conventionally known Lewis acid used in the McMurry reaction can be used. As the Lewis acid, it is preferable to use a metal Lewis acid. As the metal Lewis acid, TiCl 4 , TiBr 4 , BCl 3 , BF 3 , BF 3.OEt 2 , SnCl 2 , SnCl 4 , SbCl 5 , SbF 5 , WCl 6 , TaCl 5 , VCl 5 , FeCl 3 , ZnBr 2 , AlCl 3 , AlBr 3 and other metal halides can be mentioned. Among these, it is preferable to use titanium halides (TiCl 4 , TiBr 4 ). These Lewis acids may be used alone or in combination of two or more. The amount of Lewis acid added can be appropriately adjusted.
（還元剤）
還元剤としては、マクマリー反応に用いられる従来公知の還元剤が使用可能である。還元剤としては、例えば、亜鉛、亜鉛含有化合物、および亜鉛合金（Ｚｎ－Ｃｕ等）等が挙げられる。これらの還元剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。なお、還元剤の添加量は、適宜、調節することができる。
(Reducing Agent)
The reducing agent may be any of the known reducing agents used in the McMurry reaction. Examples of the reducing agent include zinc, zinc-containing compounds, and zinc alloys (Zn-Cu, etc.). These reducing agents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the reducing agent added may be adjusted as appropriate.
（溶媒）
マクマリー反応は、反応に不活性な溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、特に制限されず、慣用の有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、ｏ－，ｍ－，ｐ－キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、グライム、ジグライム等のエーテル系溶媒；ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ｐ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、α，α，α－トリフルオロメチルベンゼン、ジクロロペンタフルオロプロパン等の含フッ素有機溶媒等を用いることができる。これらの中でも、ベンゼン、トルエン、ｏ－，ｍ－，ｐ－キシレン、メシチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ジエチルエーテル、ジオキサン、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ｐ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、α，α，α－トリフルオロメチルベンゼン等、及びこれらの混合物が好ましい。
(solvent)
The McMurry reaction may be carried out in the presence of a solvent inert to the reaction. The solvent is not particularly limited, and a conventional organic solvent can be used. Examples of the organic solvent that can be used include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, o-, m-, p-xylene, and mesitylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and cyclohexane; halogen-based solvents such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, and o-dichlorobenzene; ether-based solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, glyme, and diglyme; and fluorine-containing organic solvents such as hexafluorobenzene, m-bis(trifluoromethyl)benzene, p-bis(trifluoromethyl)benzene, α,α,α-trifluoromethylbenzene, and dichloropentafluoropropane. Among these, benzene, toluene, o-, m-, and p-xylene, mesitylene, dichloromethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, diethyl ether, dioxane, THF (tetrahydrofuran), hexafluorobenzene, m-bis(trifluoromethyl)benzene, p-bis(trifluoromethyl)benzene, α,α,α-trifluoromethylbenzene, and the like, and mixtures thereof are preferred.
（反応条件）
マクマリー反応は、不活性ガス（窒素；ヘリウム、アルゴンなどの希ガスなど）雰囲気下で行ってもよい。
反応温度は、好ましくは－３０℃以上１００℃以下であり、より好ましくは０℃以上９０℃以下であり、さらに好ましくは３０℃以上８０℃以下であり、さらにより好ましくは４０℃以上７０℃以下である。
反応時間は、特に制限されないが、好ましくは１時間以上４８時間以下、より好ましくは２時間以上３６時間以下であり、さらに好ましくは３時間以上２４時間以下であり、さらにより好ましくは４時間以上１２時間以下である。
(Reaction conditions)
The McMurry reaction may be carried out under an inert gas atmosphere (nitrogen; rare gases such as helium and argon, etc.).
The reaction temperature is preferably from -30°C to 100°C, more preferably from 0°C to 90°C, even more preferably from 30°C to 80°C, and even more preferably from 40°C to 70°C.
The reaction time is not particularly limited, but is preferably from 1 hour to 48 hours, more preferably from 2 hours to 36 hours, even more preferably from 3 hours to 24 hours, and even more preferably from 4 hours to 12 hours.
（反応生成物）
マクマリー反応により得られる反応生成物は、下記式（２）：
で表されるトランス－スチルベン化合物である。
(Reaction Products)
The reaction product obtained by the McMurry reaction is represented by the following formula (2):
It is a trans-stilbene compound represented by the formula:
上記式（２）で表されるトランス－スチルベン化合物の好ましい実施形態としては、以下の化合物が挙げられる。
Preferred embodiments of the trans-stilbene compound represented by the above formula (2) include the following compounds.
上記のマクマリー反応で得られたトランス－スチルベン化合物の物質純度は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
なお、トランス－スチルベン化合物の物質純度とは、マクマリー反応で得られた異性体全体に対するトランス体の比率である。
The substance purity of the trans-stilbene compound obtained by the above McMurry reaction is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and even more preferably 95% or more.
The substance purity of a trans-stilbene compound is the ratio of the trans isomer to the total isomers obtained by the McMurry reaction.
（精製工程）
精製工程では、上記の反応工程で得られたスチルベン化合物、ルイス酸、及び還元剤を含む反応溶液を精製して、スチルベン化合物を単離する工程である。精製工程の精製手段は、特に限定されず、従来公知の精製手段を用いることができる。精製手段としては、例えば、減圧ろ過、再結晶、分液、および溶媒留去等が挙げられる。
(Refining process)
In the purification step, the reaction solution containing the stilbene compound, Lewis acid, and reducing agent obtained in the above reaction step is purified to isolate the stilbene compound. The purification means in the purification step is not particularly limited, and any conventionally known purification means can be used. Examples of the purification means include vacuum filtration, recrystallization, liquid separation, and solvent distillation.
［ジアリール化合物の製造方法］
本発明によるジアリール化合物の製造方法は、上記のスチルベン化合物を配位子とする触媒を用いた不斉合成反応によって、四級不斉炭素含有ジアリール化合物を合成する反応工程を含む。また、ジアリール化合物の製造方法は、反応工程の後に精製工程をさらに含んでもよい。以下、各工程について詳述する。
[Method of producing diaryl compound]
The method for producing a diaryl compound according to the present invention includes a reaction step of synthesizing a diaryl compound containing a quaternary asymmetric carbon by an asymmetric synthesis reaction using a catalyst having the above-mentioned stilbene compound as a ligand. The method for producing a diaryl compound may further include a purification step after the reaction step. Each step will be described in detail below.
（反応行程）
本発明によるジアリール化合物の製造方法は、下記式（３）：
Ｒ４は、ヒドロキシ基の保護基を示し、
Ｒ５は、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～６のアルキル基で置換されたアミノ基を示し、ｍは０～５の整数である。但し、ｎが０の場合、フェニル基の水素原子は置換されていないことを示す。また、ｍ＝２以上の場合、いずれか２つのＲ５が環式構造を形成してもよい。）
で表される第２の原料化合物と、
下記式（４）：
Ｒ７は、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～６のアルキル基で置換されたアミノ基を示し、ｐは０～５の整数である。但し、ｎが０の場合、フェニル基の水素原子は置換されていないことを示す。また、ｐ＝２以上の場合、いずれか２つのＲ７が環式構造を形成してもよい。）
で表される第３の原料化合物とを、ニッケル（ＩＩ）化合物あるいはパラジウム（ＩＩ）化合物、および上記式（２）で表されるトランス－スチルベン化合物の存在下で、不斉合成反応によって、
下記式（５）：
で表される四級不斉炭素含有ジアリール化合物を合成する。当該反応工程においては、上記式（２）で表されるスチルベン化合物を配位子とするニッケル触媒またはパラジウム触媒を用いることで、第２の原料化合物の光学状態を保持しながら、効率的に不斉合成反応が進行する。
(Reaction process)
The method for producing a diaryl compound according to the present invention comprises the steps of:
R4 represents a protecting group for a hydroxy group;
R5 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m is an integer from 0 to 5. However, when n is 0, this indicates that the hydrogen atom of the phenyl group is not substituted. In addition, when m is 2 or more, any two of R5 may form a cyclic structure.
A second raw material compound represented by the formula:
The following formula (4):
R7 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and p is an integer from 0 to 5. However, when n is 0, this indicates that the hydrogen atom of the phenyl group is not substituted. In addition, when p is 2 or more, any two of R7 may form a cyclic structure.
and a third raw material compound represented by the formula (2) in the presence of a nickel (II) compound or a palladium (II) compound, and a trans-stilbene compound represented by the formula (2),
The following formula (5):
In this reaction step, by using a nickel catalyst or a palladium catalyst having a stilbene compound represented by the above formula (2) as a ligand, the asymmetric synthesis reaction proceeds efficiently while maintaining the optical state of the second raw material compound.
上記式（３）中、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～６の炭化水素基を表し、より好ましくはハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～６のアルキル基を表し、さらに好ましくはハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｒ４（ヒドロキシ基の保護基）は、特に限定されず、従来公知の保護基を利用できるが、ピバロイル基が好ましい。
Ｒ５は、好ましくはハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～４のアルキル基で置換されたアミノ基を示す。ｍは、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数である。
In the above formula (3), R 2 and R 3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, and even more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.
R 4 (hydroxy-protecting group) is not particularly limited and may be any of the conventionally known protecting groups, with a pivaloyl group being preferred.
R5 preferably represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. m is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably an integer of 0 to 2.
上記式（３）で表される第２の原料化合物の好ましい実施形態としては、以下の化合物が挙げられる。なお、下記式中、Ｐｉｖはピバロイル基を示す。
上記式（４）中、Ｒ６（ボロン酸の保護基）は、特に限定されず、従来公知の保護基を利用できるが、ピナコールエステルが好ましい。
Ｒ７は、好ましくはハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～４のアルキル基で置換されたアミノ基を示す。ｐは、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数である。
In the above formula (4), R 6 (a protecting group of boronic acid) is not particularly limited and any conventionally known protecting group can be used, with pinacol ester being preferred.
R7 preferably represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. p is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably an integer of 0 to 2.
上記式（４）で表される第３の原料化合物の好ましい実施形態としては、以下の化合物が挙げられる。なお、下記式中、Ｐｉｎはピナコールエステルを示す。
Preferred embodiments of the third raw material compound represented by the above formula (4) include the following compounds: In the following formula, Pin represents pinacol ester.
（触媒）
不斉合成反応においては、上記のスチルベン化合物を配位子とするニッケル触媒またはパラジウム触媒を用いる。触媒の添加量は、適宜、調節することができる。スチルベン化合物としては、上記式（２）で表される化合物野中でも、特に下記式で表される化合物が好ましい。
In the asymmetric synthesis reaction, a nickel catalyst or a palladium catalyst having the above stilbene compound as a ligand is used. The amount of the catalyst added can be appropriately adjusted. As the stilbene compound, among the compounds represented by the above formula (2), the compound represented by the following formula is particularly preferred.
上記のニッケル（ＩＩ）化合物としては、例えば、Ｎｉ（ａｃａｃ）２、Ｎｉ（Ａｃ）２、ＮｉＦ２、ＮｉＣ 、ＮｉＢｒ２、ＮｉＩ２、Ｎｉ（ＯＴｆ）２、Ｎｉ（ＢＦ４）２、Ｎｉ（ＯＴｓ）２、Ｎｉ（グリム）Ｃｌ２、Ｎｉ（グリム）Ｂｒ２、Ｎｉ（ジグリム）Ｃｌ２、Ｎｉ（ジグリム）Ｂｒ２、Ｎｉ（ＮＯ３）２、およびＮｉ（ＯＲ３）２（式中、Ｒ３は、－Ｃ（Ｏ）－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、Ｃ１～Ｃ６アルキルはハロゲン原子で置換されてもよい）等が挙げられる。これらの中でも、Ｎｉ（ａｃａｃ）２、Ｎｉ（Ａｃ）２、およびＮｉ（ＯＡｃ）２が好ましい。これらのニッケル（ＩＩ）化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。なお、これらの化合物中、ａｃａｃはアセチルアセトナートを示し、Ａｃはアセチルを示し、Ｔｆはトリフルオロメチルスルホニル基を示し、Ｔｓはトシル基を示し、グリムはエチレングリコールジメチルエーテルを示し、ジグリムはジエチレングリコールジメチルエーテルを示す。 Examples of the nickel (II) compound include Ni(acac) 2 , Ni(Ac) 2 , NiF 2 , NiC , NiBr 2 , NiI 2 , Ni(OTf) 2 , Ni(BF 4 ) 2 , Ni(OTs) 2 , Ni(glyme)Cl 2 , Ni(glyme)Br 2 , Ni(diglyme)Cl 2 , Ni(diglyme)Br 2 , Ni(NO 3 ) 2 , and Ni(OR 3 ) 2 (wherein R 3 is -C(O)-C 1 -C 6 alkyl, and the C 1 -C 6 alkyl may be substituted with a halogen atom). Among these, Ni(acac) 2 , Ni(Ac) 2 , and Ni(OAc) 2 are preferred. These nickel (II) compounds may be used alone or in combination of two or more. In these compounds, acac represents acetylacetonate, Ac represents acetyl, Tf represents trifluoromethylsulfonyl group, Ts represents tosyl group, glyme represents ethylene glycol dimethyl ether, and diglyme represents diethylene glycol dimethyl ether.
上記のパラジウム（ＩＩ）化合物としては、例えば、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）、およびＰｄ２（ｄｂａ）３等が挙げられる。式中、Ｐｈはフェニル基を示し、ｄｐｐｆは１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンを示し、ｄｂａはジベンジリデンアセトンを示す。これらのパラジウム（ＩＩ）化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 Examples of the palladium (II) compound include Pd(PPh 3 ) 4 , PdCl 2 (dppf), and Pd 2 (dba) 3. In the formula, Ph represents a phenyl group, dppf represents 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene, and dba represents dibenzylideneacetone. These palladium (II) compounds may be used alone or in combination of two or more.
反応工程においては、不斉合成反応を効率的に進行させるために還元剤を添加してもよい。還元剤としては、例えば、リチウムターシャリーブトキシドおよびナトリウムターシャリーブトキシド等のアルカリ金属の化合物が挙げられる。なお、還元剤の添加量は、適宜、調節することができる。 In the reaction step, a reducing agent may be added to efficiently proceed with the asymmetric synthesis reaction. Examples of reducing agents include alkali metal compounds such as lithium tertiary-butoxide and sodium tertiary-butoxide. The amount of reducing agent added can be adjusted as appropriate.
（溶媒）
不斉合成反応は、反応に不活性な溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、特に制限されず、慣用の有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、ｏ－，ｍ－，ｐ－キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、グライム、ジグライム等のエーテル系溶媒；ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ｐ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、α，α，α－トリフルオロメチルベンゼン、ジクロロペンタフルオロプロパン等の含フッ素有機溶媒等を用いることができる。これらの中でも、ベンゼン、トルエン、ｏ－，ｍ－，ｐ－キシレン、メシチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ジエチルエーテル、ジオキサン、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ｐ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、α，α，α－トリフルオロメチルベンゼン等、及びこれらの混合物が好ましい。
(solvent)
The asymmetric synthesis reaction may be carried out in the presence of a solvent inert to the reaction. The solvent is not particularly limited, and a conventional organic solvent can be used. Examples of the organic solvent that can be used include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, o-, m-, p-xylene, and mesitylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and cyclohexane; halogen-based solvents such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, and o-dichlorobenzene; ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, glyme, and diglyme; and fluorine-containing organic solvents such as hexafluorobenzene, m-bis(trifluoromethyl)benzene, p-bis(trifluoromethyl)benzene, α,α,α-trifluoromethylbenzene, and dichloropentafluoropropane. Among these, benzene, toluene, o-, m-, and p-xylene, mesitylene, dichloromethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, diethyl ether, dioxane, THF (tetrahydrofuran), hexafluorobenzene, m-bis(trifluoromethyl)benzene, p-bis(trifluoromethyl)benzene, α,α,α-trifluoromethylbenzene, and the like, and mixtures thereof are preferred.
（反応条件）
不斉合成反応は、不活性ガス（窒素；ヘリウム、アルゴンなどの希ガスなど）雰囲気下で行ってもよい。
反応温度は、好ましくは３０℃以上２００℃以下であり、より好ましくは４０℃以上１５０℃以下であり、さらに好ましくは５０℃以上１２０℃以下であり、さらにより好ましくは６０℃以上１００℃以下である。
反応時間は、特に制限されないが、好ましくは１時間以上４８時間以下、より好ましくは２時間以上３６時間以下であり、さらに好ましくは３時間以上２４時間以下であり、さらにより好ましくは４時間以上１２時間以下である。
(Reaction conditions)
The asymmetric synthesis reaction may be carried out under an atmosphere of an inert gas (eg, nitrogen; a rare gas such as helium or argon, etc.).
The reaction temperature is preferably 30°C or higher and 200°C or lower, more preferably 40°C or higher and 150°C or lower, even more preferably 50°C or higher and 120°C or lower, and even more preferably 60°C or higher and 100°C or lower.
The reaction time is not particularly limited, but is preferably from 1 hour to 48 hours, more preferably from 2 hours to 36 hours, even more preferably from 3 hours to 24 hours, and even more preferably from 4 hours to 12 hours.
（反応生成物）
上記式（５）で表される四級不斉炭素含有ジアリール化合物の好ましい実施形態としては、以下の化合物が挙げられる。
Preferred embodiments of the quaternary asymmetric carbon-containing diaryl compound represented by the above formula (5) include the following compounds.
上記の不斉合成反応で得られた四級不斉炭素含有ジアリール化合物の光学純度（％ｅｅ）は、好ましくは９５％ｅｅ以上であり、より好ましくは９７％ｅｅ以上であり、さらに好ましくは９９％ｅｅ以上である。
なお、四級不斉炭素含有ジアリール化合物の光学純度（％ｅｅ）は、下記式で算出することができる。
（ＡＳ－ＡＲ）／（ＡＳ＋ＡＲ）×１００
（式中、ＡＳおよびＡＲはそれぞれ、鏡像異性体（Ｓ体、Ｒ体）のモル分率である）
The optical purity (% ee) of the quaternary asymmetric carbon-containing diaryl compound obtained by the above asymmetric synthesis reaction is preferably 95% ee or more, more preferably 97% ee or more, and even more preferably 99% ee or more.
The optical purity (% ee) of a quaternary asymmetric carbon-containing diaryl compound can be calculated by the following formula.
(A S −A R )/(A S +A R )×100
(In the formula, A S and A R are the mole fractions of the enantiomers (S and R), respectively.)
（精製工程）
精製工程では、上記の反応工程で得られた四級不斉炭素含有ジアリール化合物および触媒を含む反応溶液を精製して、四級不斉炭素含有ジアリール化合物を単離する工程である。精製工程の精製手段は、特に限定されず、従来公知の精製手段を用いることができる。精製手段としては、例えば、減圧ろ過、再結晶、分液、および溶媒留去等が挙げられる。
(Refining process)
In the purification step, the reaction solution containing the quaternary asymmetric carbon-containing diaryl compound and the catalyst obtained in the above reaction step is purified to isolate the quaternary asymmetric carbon-containing diaryl compound. The purification means in the purification step is not particularly limited, and any conventionally known purification means can be used. Examples of the purification means include vacuum filtration, recrystallization, liquid separation, and solvent distillation.
以下に実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be specifically explained below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
＜分析条件１＞
下記で得られたスチルベン化合物の構造、および、トランス－スチルベン化合物の物質純度は以下の方法により分析した。
（１）スチルベン化合物の構造の分析は、後述する条件で１３Ｃ－ＮＭＲを用いて行った。
（１３Ｃ－ＮＭＲ条件）
・ＮＭＲ測定装置：ＢＲＵＫＥＲ ＪＡＰＡＮ社製
・１３Ｃ－ＮＭＲ測定条件：周波数１５０．８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３溶媒
・本化合物の検出ピーク（ＴＭＳ内部基準）：δ１６１．０，１３９．２，１２９．２，１０４．６，１００．７，５５．４
（２）トランス－スチルベン化合物の物質純度は、後述する条件で１Ｈ－ＮＭＲを用いて行った。なお、トランス－スチルベン化合物の物質純度とは、異性体全体に対するトランス体の比率であり、各異性体の検出ピークの積分比率から決定した。
（１Ｈ－ＮＭＲ条件）
・ＮＭＲ測定装置：ＢＲＵＫＥＲ ＪＡＰＡＮ社製
・１Ｈ－ＮＭＲ測定条件：周波数６００．０３ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３溶媒
・本化合物の検出ピーク：ＴＭＳ内部基準でトランス体は３．８３ｐｐｍに、その他スチルベン化合物の異性体は３．７５および３．７１ｐｐｍに検出される。
<Analysis Condition 1>
The structures of the stilbene compounds obtained below and the material purities of the trans-stilbene compounds were analyzed by the following methods.
(1) The structure of the stilbene compound was analyzed by 13 C-NMR under the conditions described below.
( 13C -NMR conditions)
NMR measurement device: BRUKER JAPAN 13C -NMR measurement conditions: Frequency 150.89 MHz, CDCl 3 solvent Detection peaks of this compound (TMS internal standard): δ 161.0, 139.2, 129.2, 104.6, 100.7, 55.4
(2) The purity of the trans-stilbene compound was measured by 1H -NMR under the conditions described below. The purity of the trans-stilbene compound is the ratio of the trans isomer to the total isomers, and was determined from the integral ratio of the detected peaks of each isomer.
( 1H -NMR conditions)
NMR measurement apparatus: manufactured by BRUKER JAPAN 1 H-NMR measurement conditions: frequency 600.03 MHz, CDCl 3 solvent Detected peaks of this compound: trans isomer is detected at 3.83 ppm, other stilbene compound isomers are detected at 3.75 and 3.71 ppm using TMS internal standard.
＜分析条件２＞
下記で得られた四級不斉炭素含有ジアリール化合物の構造および光学純度（％ｅｅ）は以下の方法により分析した。
（１）四級不斉炭素含有ジアリール化合物の構造の分析は、後述する条件で１３Ｃ－ＮＭＲを用いて行った。
（１３Ｃ－ＮＭＲ条件）
・ＮＭＲ測定装置：ＢＲＵＫＥＲ ＪＡＰＡＮ社製
・１３Ｃ－ＮＭＲ測定条件：周波数１５０．８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３溶媒
・本化合物の検出ピーク（ＴＭＳ内部基準）：δ１５９．３，１５１．５，１４９．５，１２８．８，１２７．９，１２７．４，１２５．６，１２０．２,１１４．２，５５．１，４６．６，３４．０，２６．９，２４．９，９．２
（２）四級不斉炭素含有ジアリール化合物の光学純度（％ｅｅ）は、後述する条件で光学ＨＰＬＣを用いて行った。
（ＨＰＬＣ条件）
・ＨＰＬＣ装置：Ａｇｉｌｅｎｔ株式会社製、型番ＨＰ１２６０
・カラム：ダイセル株式会社製、ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＯＤ－Ｈカラム
・流速：１．０ｍＬ／分
・移動相：１％イソプロパノール／９９％ヘキサン
・温度：３５℃
・検出：ＵＶ２２０ｎｍ
<Analysis Condition 2>
The structure and optical purity (% ee) of the diaryl compound containing a quaternary asymmetric carbon obtained below were analyzed by the following method.
(1) The structure of the diaryl compound containing a quaternary asymmetric carbon was analyzed by 13 C-NMR under the conditions described below.
( 13C -NMR conditions)
NMR measurement device: BRUKER JAPAN 13C -NMR measurement conditions: Frequency 150.89 MHz, CDCl 3 solvent Detection peaks of this compound (TMS internal standard): δ 159.3, 151.5, 149.5, 128.8, 127.9, 127.4, 125.6, 120.2, 114.2, 55.1, 46.6, 34.0, 26.9, 24.9, 9.2
(2) The optical purity (% ee) of the diaryl compound containing a quaternary asymmetric carbon was measured by optical HPLC under the conditions described below.
(HPLC conditions)
HPLC device: Agilent Corporation, model number HP1260
Column: CHIRALPAK OD-H column manufactured by Daicel Corporation Flow rate: 1.0 mL/min Mobile phase: 1% isopropanol/99% hexane Temperature: 35° C.
Detection: UV 220 nm
［実施例１］
＜スチルベン化合物の合成＞
還流冷却器を備えたナスフラスコの中に、３，５－ジメトキシベンズアルデヒド０．８３１ｇ（１当量）、四塩化チタン１．１３３ｇ（１．２当量）、亜鉛粉末１．９５０ｇ（６当量）、およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）８．７０ｇを加えて、室温で１時間放置した後、還流させながら約６５℃で３時間、下記のマクマリー反応を行った（反応式Ｉ）。
<Synthesis of stilbene compounds>
Into a recovery flask equipped with a reflux condenser, 0.831 g (1 equivalent) of 3,5-dimethoxybenzaldehyde, 1.133 g (1.2 equivalents) of titanium tetrachloride, 1.950 g (6 equivalents) of zinc powder, and 8.70 g of tetrahydrofuran (THF) were added and allowed to stand at room temperature for 1 hour, and then the following McMurry reaction was carried out at about 65° C. for 3 hours while refluxing (Reaction Scheme I).
続いて、得られた反応液について減圧ろ過を行って、不要な触媒等を除去し、そのろ液に希塩酸を加えスチルベン化合物の粗結晶を析出させた。次に、その粗結晶を減圧ろ過及び乾燥した後に、塩化メチレンおよびヘキサンを用いて再結晶を行い、目的とするスチルベン化合物が行得られた。 Then, the reaction solution obtained was filtered under reduced pressure to remove unnecessary catalysts, etc., and dilute hydrochloric acid was added to the filtrate to precipitate crude crystals of the stilbene compound. The crude crystals were then filtered under reduced pressure and dried, after which they were recrystallized using methylene chloride and hexane to obtain the desired stilbene compound.
再結晶後のスチルベン化合物を上記の分析条件１で１３Ｃ－ＮＭＲ測定を行い、図１に示す１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルを得た。スペクトル解析の結果、上記式のスチルベン化合物（３，５－ジメトキシスチルベン）であることを確認した。なお、収率は５１％であった。 The recrystallized stilbene compound was subjected to 13C -NMR measurement under the above-mentioned analytical condition 1 to obtain the 13C -NMR spectrum shown in Figure 1. As a result of the spectrum analysis, it was confirmed that the stilbene compound (3,5-dimethoxystilbene) of the above formula was obtained. The yield was 51%.
また、再結晶後のスチルベン化合物を上記の分析条件１で１Ｈ－ＮＭＲ測定を行った結果、トランス－スチルベン化合物の物質純度は９５．５％であった。 Furthermore, the stilbene compound after recrystallization was subjected to 1 H-NMR measurement under the above analysis condition 1, and the material purity of the trans-stilbene compound was found to be 95.5%.
［実施例２］
＜四級不斉炭素含有ジアリール化合物の合成＞
下記式で表される第２の原料化合物９４ｍｇ（１当量）、下記式で表される第３の原料化合物１８７ｍｇ（２当量）、酢酸ニッケル（ＩＩ）４水和物（Ｎｉ（ＯＡｃ）２）１０ｍｇ（０．１当量）、実施例１で得られたスチルベン化合物３６ｍｇ（０．３当量）、リチウムターシャリーブトキシド９６ｍｇ（３当量）、２－ブタノール３０ｍｇ（２当量）およびシクロヘキサン（Ｃｙ）２ｍＬを加えた後、８０℃で６時間、下記の不斉合成反応を行った（反応式ＩＩ）。反応式ＩＩ中、Ｐｉｖはピバロイル基を示し、Ｐｉｎはピナコールエステルを示し、Ｌｉｇａｎｄはスチルベン化合物（配位子）を示す。
<Synthesis of diaryl compounds containing quaternary asymmetric carbon>
94 mg (1 equivalent) of the second raw material compound represented by the following formula, 187 mg (2 equivalents) of the third raw material compound represented by the following formula, 10 mg (0.1 equivalent) of nickel acetate (II) tetrahydrate (Ni(OAc) 2 ), 36 mg (0.3 equivalents) of the stilbene compound obtained in Example 1, 96 mg (3 equivalents) of lithium tert-butoxide, 30 mg (2 equivalents) of 2-butanol, and 2 mL of cyclohexane (Cy) were added, and the following asymmetric synthesis reaction was carried out at 80° C. for 6 hours (Reaction Scheme II). In Reaction Scheme II, Piv represents a pivaloyl group, Pin represents a pinacol ester, and Ligand represents a stilbene compound (ligand).
続いて、得られた反応液を、シリカを充填したろ過装置に流し込んでろ過を行って、触媒や副生成物等を除去し、溶媒を除去した。次いで、シリカゲルクロマト分取（展開溶媒はヘキサン／酢酸エチル＝９／１条件）によって、目的とするジアリール化合物を得た。 Then, the resulting reaction liquid was poured into a filter filled with silica and filtered to remove the catalyst, by-products, etc., and the solvent. The desired diaryl compound was then obtained by silica gel chromatography (eluent: hexane/ethyl acetate = 9/1).
得られたジアリール化合物を上記の分析条件２で１３Ｃ－ＮＭＲ測定を行い、図２に示す１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルを得た。スペクトル解析の結果、上記式のジアリール化合物であることを確認した。なお、収率は９２％であった。 The resulting diaryl compound was subjected to 13C -NMR measurement under the above-mentioned analytical condition 2, and the 13C -NMR spectrum shown in Figure 2 was obtained. As a result of the spectrum analysis, it was confirmed that the resulting compound was the diaryl compound of the above-mentioned formula. The yield was 92%.
また、得られたジアリール化合物を上記の分析条件２で光学ＨＰＬＣ分析を行った結果、光学純度は９９％ｅｅであった。 Furthermore, the optical purity of the obtained diaryl compound was 99% ee when optical HPLC analysis was performed under the above analytical condition 2.
［比較例１］
実施例２において実施例１で得られたスチルベン化合物を添加しなかった以外は同様にして反応を行って、ジアリール化合物を得た。
[Comparative Example 1]
A diaryl compound was obtained by carrying out the reaction in the same manner as in Example 2, except that the stilbene compound obtained in Example 1 was not added.
得られたジアリール化合物を実施例２と同様に分析した結果、収率は８％であり、光学純度は９３％ｅｅであった。 The resulting diaryl compound was analyzed in the same manner as in Example 2, and the yield was 8% and the optical purity was 93% ee.
Claims (9)
で表される第１の原料化合物を、ルイス酸および還元剤の存在下で、マクマリー反応によって、
下記式（２）：
で表されるトランス－スチルベン化合物を合成する反応工程を含む、スチルベン化合物の製造方法。 The following formula (1):
A first raw material compound represented by the following formula (1) is reacted with a Lewis acid and a reducing agent in the presence of the McMurry reaction to give
The following formula (2):
The present invention relates to a method for producing a stilbene compound, the method comprising the step of synthesizing a trans-stilbene compound represented by the formula:
Ｒ４は、ヒドロキシ基の保護基を示し、
Ｒ５は、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～６のアルキル基で置換されたアミノ基を示し、ｍは０～５の整数である。但し、ｎが０の場合、フェニル基の水素原子は置換されていないことを示す。また、ｍ＝２以上の場合、いずれか２つのＲ５が環式構造を形成してもよい。）
で表される第２の原料化合物と、
下記式（４）：
Ｒ７は、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または炭素数１～６のアルキル基で置換されたアミノ基を示し、ｐは０～５の整数である。但し、ｎが０の場合、フェニル基の水素原子は置換されていないことを示す。また、ｐ＝２以上の場合、いずれか２つのＲ７が環式構造を形成してもよい。）
で表される第３の原料化合物とを、ニッケル（ＩＩ）化合物あるいはパラジウム（ＩＩ）化合物、および請求項１～４のいずれか一項に記載の製造方法により得られた上記式（２）で表されるトランス－スチルベン化合物の存在下で、不斉合成反応によって、
下記式（５）：
で表される四級不斉炭素含有ジアリール化合物を合成する反応工程を含む、ジアリール化合物の製造方法。 The following formula (3):
R4 represents a protecting group for a hydroxy group;
R5 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m is an integer from 0 to 5. However, when n is 0, this indicates that the hydrogen atom of the phenyl group is not substituted. In addition, when m is 2 or more, any two of R5 may form a cyclic structure.
A second raw material compound represented by the formula:
The following formula (4):
R7 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, or an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and p is an integer from 0 to 5. However, when n is 0, this indicates that the hydrogen atom of the phenyl group is not substituted. In addition, when p is 2 or more, any two of R7 may form a cyclic structure.
and a third raw material compound represented by the formula (1) are reacted by asymmetric synthesis in the presence of a nickel (II) compound or a palladium (II) compound, and a trans-stilbene compound represented by the formula (2) obtained by the production method according to any one of claims 1 to 4,
The following formula (5):
A method for producing a diaryl compound, comprising a reaction step of synthesizing a diaryl compound containing a quaternary asymmetric carbon represented by the following formula:
で表される少なくとも１種の化合物である、請求項５に記載のジアリール化合物の製造方法。 The trans-stilbene compound has the following formula:
The method for producing the diaryl compound according to claim 5, wherein the diaryl compound is at least one compound represented by the formula:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022194463A JP2024081038A (en) | 2022-12-05 | 2022-12-05 | Production method of stilbene compound and production method of diaryl compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022194463A JP2024081038A (en) | 2022-12-05 | 2022-12-05 | Production method of stilbene compound and production method of diaryl compound |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024081038A true JP2024081038A (en) | 2024-06-17 |
Family
ID=91483325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022194463A Pending JP2024081038A (en) | 2022-12-05 | 2022-12-05 | Production method of stilbene compound and production method of diaryl compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2024081038A (en) |
-
2022
- 2022-12-05 JP JP2022194463A patent/JP2024081038A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2014077321A1 (en) | Aluminum catalyst | |
| JP2024081038A (en) | Production method of stilbene compound and production method of diaryl compound | |
| EP1151987B1 (en) | Optically active fluorinated binaphthol derivative | |
| JP6054386B2 (en) | Process for the production of palladium (I) tri-t-butylphosphine bromide dimer and process using it in isomerization reactions | |
| EP3239125B1 (en) | Method for producing olefin | |
| CN113735799A (en) | Synthetic method of dyclonine hydrochloride | |
| JP2024091067A (en) | Method for producing intermediate compound, method for producing ligand, and method for producing quaternary asymmetric carbon-containing compound | |
| JP5090773B2 (en) | Method for producing optically active fluorinated carbonyl-ene product | |
| JP6472419B2 (en) | Method for producing aromatic compound | |
| EP1803701A1 (en) | Process for the preparation of vinyl ether compounds | |
| EP3239126A1 (en) | Method for producing olefin containing chlorine and fluorine | |
| JP7168161B2 (en) | Method for producing heterol multimer | |
| JP2004196710A (en) | Ligand and asymmetric catalyst | |
| JP6275378B2 (en) | Process for producing carbazoles and carbazoles produced by this process. | |
| CN112811981B (en) | Hydroxyl compound and preparation method of deuterated compound thereof | |
| JP5283984B2 (en) | Process for producing transition metal compound | |
| JP5362208B2 (en) | Adamantane derivatives having vinyl ether groups | |
| JP3691235B2 (en) | Process for producing optically active piperidines | |
| JP2024081502A (en) | Method for producing terpyridine compound | |
| JP2535776B2 (en) | Process for producing 4- (4'-hydroxyphenyl) cinnamic acid ester | |
| JP4490152B2 (en) | 1,1-dialkyl-3- (4-phenanthrenyl) -2-propyn-1-ol derivative | |
| JP6641328B2 (en) | Method for producing 2,3-bisphosphinopyrazine derivative and method for producing phosphine transition metal complex | |
| JP5039271B2 (en) | 4- (Trialkylsilylethynyl) phenanthrene derivatives | |
| JPH069499A (en) | Production of halogenocyclopropanecarboxylic acid derivative | |
| KR20230027521A (en) | Method for producing high-purity everolimus using a metal catalyst, an acid catalyst, and a phase transfer catalyst |