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JP2023086108A - Compounds and organic electroluminescent elements - Google Patents

Compounds and organic electroluminescent elements Download PDF

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JP2023086108A
JP2023086108A JP2022191836A JP2022191836A JP2023086108A JP 2023086108 A JP2023086108 A JP 2023086108A JP 2022191836 A JP2022191836 A JP 2022191836A JP 2022191836 A JP2022191836 A JP 2022191836A JP 2023086108 A JP2023086108 A JP 2023086108A
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JP
Japan
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ring
compound
light
layer
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Application number
JP2022191836A
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Japanese (ja)
Inventor
司 長谷川
Tsukasa Hasegawa
英貴 五郎丸
Hidetaka Goromaru
智宏 安部
Tomohiro Abe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

To provide compounds that have high solvent solubility and, when used in an emission layer of organic electroluminescent elements, realize an organic electroluminescent element with low voltage, high luminous efficiency, and a long life.SOLUTION: A compound is represented by the formula (1) in the figure. (In the formula, W1, W2 and W3 are each -CH or a nitrogen atom, provided that at least one of W1, W2 and W3 is a nitrogen atom; and Za2 is an N-carbazolyl group which may have a substituent)SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、有機電界発光素子(以下、「OLED」又は「素子」と称す場合がある。)に用いることができる化合物および、当該化合物を有する有機電界発光素子、当該有機電界発光素子を有する表示装置及び照明装置、当該化合物及び有機溶剤を含有する組成物、当該組成物を用いる薄膜形成方法及び有機電界発光素子の製造方法に関する。 The present invention provides a compound that can be used in an organic electroluminescent device (hereinafter sometimes referred to as "OLED" or "device"), an organic electroluminescent device having the compound, and a display having the organic electroluminescent device. The present invention relates to a device and a lighting device, a composition containing the compound and an organic solvent, a method for forming a thin film using the composition, and a method for producing an organic electroluminescent device.

近年、薄膜型の電界発光素子としては、無機材料を使用したものに代わり、有機薄膜を用いた有機電界発光素子の開発が行われるようになっている。有機電界発光素子(OLED)は、通常、陽極と陰極の間に、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層などを有する。この各層に適した材料が開発されつつあり、発光色も赤、緑、青と、それぞれ開発が進んでいる。また、従来の蒸着型と比較して材料利用効率が高く、製造コストを下げることができる塗布型OLEDの研究が進められている。 In recent years, as a thin-film type electroluminescence element, an organic electroluminescence element using an organic thin film has been developed in place of the one using an inorganic material. An organic electroluminescent device (OLED) typically has a hole-injection layer, a hole-transport layer, an organic light-emitting layer, an electron-transport layer, etc. between an anode and a cathode. Materials suitable for each of these layers are being developed, and the development of red, green, and blue emission colors is progressing. In addition, research is being conducted on coating-type OLEDs, which are more efficient in material utilization than conventional evaporation-type OLEDs and can reduce manufacturing costs.

塗布型OLEDにおいては、素子の長寿命化やより低い消費電力での駆動が求められている。素子の寿命や消費電力改善に影響を及ぼす原因は様々な因子が考えられるが、例えば寿命に関しては、素子を構成する材料の耐熱耐久性や、結晶性が大きな影響を及ぼすものと考えられている。 Coating-type OLEDs are required to have a longer life and be driven with lower power consumption. There are various factors that can affect the life of an element and the improvement in power consumption, but with regard to life, for example, it is believed that the heat resistance and durability of the materials that make up the element and the crystallinity have a large effect. .

また、有機電界発光素子を湿式成膜法で製造するためには、使用される材料はすべて有機溶剤に溶解してインクとして使用できるものである必要がある。使用材料が溶解性に劣ると、長時間加熱するなどの操作を要するため、使用前に材料が劣化してしまう可能性がある。さらに、溶液状態で長時間均一状態を保持することができないと、溶液から材料の析出が起こり、インクジェット装置などによる成膜が不可能となる。湿式成膜法に使用される材料には、有機溶剤に速やかに溶解すること、溶解した後析出せず均一状態を保持すること、という2つの意味での溶解性が求められる。 Moreover, in order to manufacture an organic electroluminescence device by a wet film-forming method, all the materials used must be soluble in an organic solvent and used as an ink. If the material to be used has poor solubility, the material may deteriorate before use because an operation such as heating for a long period of time is required. Furthermore, if the uniform state cannot be maintained for a long time in a solution state, the material will precipitate out of the solution, making it impossible to form a film using an inkjet device or the like. Materials used in the wet film-forming method are required to have solubility in two senses: rapid dissolution in an organic solvent and maintenance of a homogeneous state without precipitating after dissolution.

一方で、有機層を複数層積層塗布して成膜することで、全有機層を湿式成膜法にて形成し、有機電界発光素子を作製するためには、湿式成膜後、その上に塗布するインクに対する耐溶剤性が求められている。 On the other hand, in order to form all the organic layers by a wet film-forming method and to produce an organic electroluminescence element by applying a multilayer lamination of organic layers to form a film, after the wet film-forming, a Solvent resistance to the applied ink is required.

特許文献1には、発光層のホストである電荷輸送材料としてカルバゾリル基を有するトリアジン系化合物を用いることが報告されている。 Patent Document 1 reports that a triazine-based compound having a carbazolyl group is used as a charge-transporting material that is a host of a light-emitting layer.

国際公開第2012/137958号WO2012/137958

特許文献1では、トリアジン系化合物を含む発光層の上に接して電子輸送層を湿式成膜することに関する検討は行われていない。また、特許文献1に記載のカルバゾリル基を有するトリアジン系化合物は溶剤溶解性が低く、湿式成膜法による成膜性が悪い。 Patent Document 1 does not discuss wet deposition of an electron transport layer on and in contact with a light-emitting layer containing a triazine-based compound. Moreover, the triazine-based compound having a carbazolyl group described in Patent Document 1 has low solvent solubility and poor film-forming properties by a wet film-forming method.

一方で、有機電界発光素子に使用される材料には、湿式成膜への適合性や溶剤溶解性のみならず、当該材料を用いた有機電界発光素子の素子性能の更なる向上が常に求められている。 On the other hand, materials used in organic electroluminescent devices are always required to have not only suitability for wet film formation and solvent solubility, but also further improvement in device performance of organic electroluminescent devices using such materials. ing.

本発明は上記従来の実情に鑑みてなされたものであり、溶剤溶解性が高く、有機電界発光素子の発光層に用いた場合、低電圧、高発光効率、長寿命である有機電界発光素子が得られる化合物を提供することを課題とする。本発明はまた、当該化合物を含む膜の上に接して別の層を湿式成膜可能とするために、当該化合物を含む膜が特定の溶剤に対して不溶化する化合物を提供することを課題とする。
更に、本発明は、当該化合物を有する有機電界発光素子、当該有機電界発光素子を有する表示装置及び照明装置、当該化合物及び有機溶剤を含有する組成物、この組成物を用いる薄膜形成方法及び有機電界発光素子の製造方法を提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of the above-described conventional circumstances, and provides an organic electroluminescent device that has high solvent solubility, low voltage, high luminous efficiency, and long life when used in the light-emitting layer of an organic electroluminescent device. An object of the present invention is to provide the resulting compound. Another object of the present invention is to provide a compound that renders a film containing the compound insoluble in a specific solvent in order to enable wet film formation of another layer on the film containing the compound. do.
Further, the present invention provides an organic electroluminescent device comprising the compound, a display device and a lighting device comprising the organic electroluminescent device, a composition containing the compound and an organic solvent, a method for forming a thin film using the composition, and an organic electric field. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a light emitting device.

本発明者らが鋭意検討した結果、特定の構造を有する化合物を用いることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。 As a result of intensive studies by the present inventors, they have found that the above problems can be solved by using a compound having a specific structure, and have completed the present invention.

即ち、本発明の要旨は、次の<1>~<11>のとおりである。 That is, the gist of the present invention is as follows <1> to <11>.

<1>下記式(1)で表される化合物。 <1> A compound represented by the following formula (1).

Figure 2023086108000002
Figure 2023086108000002

(式(1)中、
、W及びWは、各々独立に、-CH又は窒素原子を表し、W、W及びWの内、少なくとも一つは窒素原子であり、
Xa、Ya、及びZaは、各々独立に、置換基を有していてもよい1,3-フェニレン基又は置換基を有していてもよい1,4-フェニレン基を表し、
Zaの少なくとも一つは、置換基を有していてもよい1,3-フェニレン基であり、
Xa及びYaは、各々独立に、置換基を有してもよいフェニル基を表し、
Zaは、置換基を有してもよいN-カルバゾリル基を表し、
f11は1又は2であり、
g11は1~5の整数であり、
h11は1又は2であり、
j11は1~5の整数であり、
k11は2~5の整数であり、
11は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。)
(In formula (1),
W 1 , W 2 and W 3 each independently represent —CH or a nitrogen atom, at least one of W 1 , W 2 and W 3 is a nitrogen atom;
Xa 1 , Ya 1 and Za 1 each independently represent an optionally substituted 1,3-phenylene group or an optionally substituted 1,4-phenylene group,
at least one of Za 1 is an optionally substituted 1,3-phenylene group,
Xa 2 and Ya 2 each independently represent a phenyl group which may have a substituent;
Za 2 represents an optionally substituted N-carbazolyl group,
f11 is 1 or 2,
g11 is an integer from 1 to 5,
h11 is 1 or 2,
j11 is an integer from 1 to 5,
k11 is an integer from 2 to 5,
Each R 11 independently represents a hydrogen atom or a substituent. )

<2> 前記式(1)におけるR11が、各々独立に、水素原子、フェニル基又はナフチル基である、<1>に記載の化合物。 <2> The compound according to <1>, wherein each R 11 in formula (1) is independently a hydrogen atom, a phenyl group, or a naphthyl group.

<3>基板上に、陽極及び陰極を有し、前記陽極と前記陰極の間に有機層を有する有機電界発光素子であって、前記有機層が<1>又は<2>に記載の化合物を含む、有機電界発光素子。 <3> An organic electroluminescence device having an anode and a cathode on a substrate, and an organic layer between the anode and the cathode, wherein the organic layer contains the compound according to <1> or <2>. organic electroluminescent device, including

<4>前記有機層が発光層を含み、前記発光層が前記化合物を含む、<3>に記載の有機電界発光素子。 <4> The organic electroluminescence device according to <3>, wherein the organic layer includes a light-emitting layer, and the light-emitting layer includes the compound.

<5><3>又は<4>に記載の有機電界発光素子を有する表示装置。 <5> A display device comprising the organic electroluminescence device according to <3> or <4>.

<6><3>又は<4>に記載の有機電界発光素子を有する照明装置。 <6> A lighting device comprising the organic electroluminescent device according to <3> or <4>.

<7>少なくとも、<1>又は<2>に記載の化合物及び有機溶剤を含む、組成物。 <7> A composition comprising at least the compound according to <1> or <2> and an organic solvent.

<8>さらに発光材料を含む、<7>に記載の組成物。 <8> The composition according to <7>, further comprising a luminescent material.

<9><7>又は<8>に記載の組成物を湿式成膜法にて成膜する工程を有する、薄膜形成方法。 <9> A method for forming a thin film, comprising forming a film from the composition according to <7> or <8> by a wet film-forming method.

<10>基板上に、陽極及び陰極を有し、前記陽極と前記陰極の間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、前記有機層を、<7>又は<8>に記載の組成物を用いて湿式成膜法にて形成する工程を有する、有機電界発光素子の製造方法。 <10> A method for producing an organic electroluminescence device having an anode and a cathode on a substrate and an organic layer between the anode and the cathode, wherein the organic layer is formed in <7> or <8>. A method for producing an organic electroluminescence device, comprising a step of forming the composition by a wet film-forming method.

<11>前記有機層が発光層である、<10>に記載の有機電界発光素子の製造方法。 <11> The method for producing an organic electroluminescence device according to <10>, wherein the organic layer is a light-emitting layer.

本発明によれば、溶剤溶解性が高く、有機電界発光素子の発光層に用いた場合、低電圧、高発光効率、長寿命である有機電界発光素子が得られる化合物を提供することができる。
また、本発明の化合物は、特定の溶剤に対して不溶性であり耐溶剤性に優れるため、本発明の化合物を含む膜の上に、湿式成膜法により別の層を積層形成することも可能となる。
According to the present invention, it is possible to provide a compound that has high solvent solubility and that, when used in the light-emitting layer of an organic electroluminescent device, provides an organic electroluminescent device with low voltage, high luminous efficiency, and long life.
In addition, since the compound of the present invention is insoluble in a specific solvent and has excellent solvent resistance, it is also possible to laminate another layer on the film containing the compound of the present invention by a wet film-forming method. becomes.

本発明により、当該化合物を有する有機電界発光素子、当該有機電界発光素子を有する表示装置及び照明装置、当該化合物及び溶剤を含有する組成物、この組成物を用いる薄膜形成方法及び有機電界発光素子の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, an organic electroluminescent device having the compound, a display device and a lighting device having the organic electroluminescent device, a composition containing the compound and a solvent, a thin film forming method using the composition, and an organic electroluminescent device A manufacturing method can be provided.

図1は、本発明の有機電界発光素子の構造例を示す断面模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a structural example of the organic electroluminescence device of the present invention.

以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変形して実施することができる。 Embodiments of the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to the following embodiments, and can be modified in various ways within the scope of the gist thereof.

本発明において、「置換基を有していてもよい」とは、置換基を1以上有していてもよいことを意味するものとする。 In the present invention, "optionally having a substituent" means that one or more substituents may be present.

[式(1)で表される化合物]
本発明の化合物は下記式(1)で表される。
[Compound represented by formula (1)]
The compound of the present invention is represented by the following formula (1).

Figure 2023086108000003
Figure 2023086108000003

(式(1)中、
、W及びWは、各々独立に、-CH又は窒素原子を表し、W、W及びWの内、少なくとも一つは窒素原子であり、
Xa、Ya、及びZaは、各々独立に、置換基を有していてもよい1,3-フェニレン基又は置換基を有していてもよい1,4-フェニレン基を表し、
Zaの少なくとも一つは、置換基を有していてもよい1,3-フェニレン基であり、
Xa及びYaは、各々独立に、置換基を有してもよいフェニル基を表し、
Zaは、置換基を有してもよいN-カルバゾリル基を表し、
f11は1又は2であり、
g11は1~5の整数であり、
h11は1又は2であり、
j11は1~5の整数であり、
k11は2~5の整数であり、
11は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。)
(In formula (1),
W 1 , W 2 and W 3 each independently represent —CH or a nitrogen atom, at least one of W 1 , W 2 and W 3 is a nitrogen atom;
Xa 1 , Ya 1 and Za 1 each independently represent an optionally substituted 1,3-phenylene group or an optionally substituted 1,4-phenylene group,
at least one of Za 1 is an optionally substituted 1,3-phenylene group,
Xa 2 and Ya 2 each independently represent a phenyl group which may have a substituent;
Za 2 represents an optionally substituted N-carbazolyl group,
f11 is 1 or 2,
g11 is an integer from 1 to 5,
h11 is 1 or 2,
j11 is an integer from 1 to 5,
k11 is an integer from 2 to 5,
Each R 11 independently represents a hydrogen atom or a substituent. )

本発明の化合物は電荷輸送材料として機能する。即ち、本発明の化合物は窒素原子を含む複素6員環を有するため、電子輸送材料として機能させることができる。
従って、本発明の化合物は、電荷輸送化合物、即ち電荷輸送ホスト材料であることが好ましく、有機電界発光素子における発光層の電子輸送性のホスト材料として用いることが好ましい。
The compounds of the invention function as charge transport materials. That is, since the compound of the present invention has a 6-membered heterocyclic ring containing a nitrogen atom, it can function as an electron-transporting material.
Therefore, the compound of the present invention is preferably a charge-transporting compound, ie, a charge-transporting host material, and is preferably used as an electron-transporting host material for a light-emitting layer in an organic electroluminescent device.

上記式(1)における、Xa、Ya、Zaの1,3-フェニレン基、又は1,4-フェニレン基、Xa、Yaのフェニル基、ZaのN-カルバゾリル基が有してもよい置換基は、後述の置換基群Qから選択される。 The 1,3-phenylene group or 1,4-phenylene group of Xa 1 , Ya 1 and Za 1 , the phenyl group of Xa 2 and Ya 2 , and the N-carbazolyl group of Za 2 in the above formula (1) The optional substituents are selected from Substituent Group Q described later.

<W、W、W
前記式(1)におけるW、W及びWは、各々独立に、-CH又は窒素原子を表し、W、W及びWの内、少なくとも一つは窒素原子である。電子輸送性及び電子耐久性の観点から、少なくともWは窒素原子であることが好ましく、少なくともW及びWは窒素原子であることが好ましく、W、W及びWのすべてが窒素原子であることがより好ましい。
即ち、電子輸送性を向上させる観点から、パラ位に結合する基がベンゼン環が2個又は3個パラ位で連結して共役が広がる、Wが窒素原子であることが好ましく、Wに加えてWまたはWの一方が窒素原子であるピリミジン構造が更に好ましく、W、W及びW全てが窒素原子であるトリアジン構造が最も好ましい。
< W1 , W2 , W3 >
W 1 , W 2 and W 3 in formula (1) each independently represent —CH or a nitrogen atom, and at least one of W 1 , W 2 and W 3 is a nitrogen atom. From the viewpoint of electron transportability and electron durability, at least W 1 is preferably a nitrogen atom, at least W 1 and W 2 are preferably nitrogen atoms, and all of W 1 , W 2 and W 3 are nitrogen atoms. Atoms are more preferred.
That is, from the viewpoint of improving the electron-transporting property, it is preferable that W 1 is a nitrogen atom, and W 1 is a nitrogen atom, in which two or three benzene rings are linked at the para position to widen the conjugation. In addition, a pyrimidine structure in which one of W2 or W3 is a nitrogen atom is more preferred, and a triazine structure in which all of W1 , W2 and W3 are nitrogen atoms is most preferred.

<-(Xag11-Xa
-(Xag11-Xaは以下の構造から選ばれることが好ましい。
<-(Xa 1 ) g11 -Xa 2 >
—(Xa 1 ) g11 —Xa 2 is preferably selected from the following structures.

Figure 2023086108000004
Figure 2023086108000004

これらの構造において、すべてのベンゼン環上の水素原子は後述の置換基群Qから選択される置換基で置換されていてもよい。好ましくは、水素原子が置換されていない構造である。 In these structures, hydrogen atoms on all benzene rings may be substituted with substituents selected from Substituent Group Q described later. A structure in which hydrogen atoms are not substituted is preferred.

<-(Yaj11-Ya
-(Yaj11-Yaは以下の構造から選ばれることが好ましい。
<−(Ya 1 ) j11 −Ya 2 >
—(Ya 1 ) j11 —Ya 2 is preferably selected from the following structures.

Figure 2023086108000005
Figure 2023086108000005

これらの構造において、すべてのベンゼン環上の水素原子は後述の置換基群Qから選択される置換基で置換されていてもよい。好ましくは、水素原子が置換されていない構造である。 In these structures, hydrogen atoms on all benzene rings may be substituted with substituents selected from Substituent Group Q described later. A structure in which hydrogen atoms are not substituted is preferred.

<-(Zak11-Za
-(Za、)k11-Zaは以下の構造から選ばれることが好ましい。
<−(Za 1 ) k11 −Za 2 >
—(Za 1 ,) k11 —Za 2 is preferably selected from the following structures.

Figure 2023086108000006
Figure 2023086108000006

これらの構造において、ZaのN-カルバゾリル基のベンゼン環上の水素原子を含めて、すべてのベンゼン環上の水素原子は後述の置換基群Qから選択される置換基で置換されていてもよい。好ましくは、水素原子が置換されていない構造である。 In these structures, all hydrogen atoms on the benzene ring including the hydrogen atom on the benzene ring of the N-carbazolyl group of Za 2 may be substituted with a substituent selected from the substituent group Q described below. good. A structure in which hydrogen atoms are not substituted is preferred.

<R11
水素原子以外の置換基であるR11としては、下記置換基群Qから選ばれる基が挙げられる。置換基群Qの中でも好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数6~30の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数3~30の芳香族複素環基である。
上述した炭素数6~30の芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基、炭素数3~30の芳香族複素環基が有していてもよい置換基、置換基であるR11が有していてもよい置換基としては、下記置換基群Qから選択することができる。
前記式(1)中に置換基である場合のR11が複数存在する場合、複数のR11は同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
<R11>
Examples of R 11 , which is a substituent other than a hydrogen atom, include groups selected from the following substituent group Q. Among the substituent group Q, an optionally substituted aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms or an optionally substituted aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms is preferable. is.
The substituent that the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms described above may have, the substituent that the aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms may have, and the substituent R 11 The substituent that may have can be selected from the following substituent group Q.
When a plurality of R 11 are present as substituents in the formula (1), the plurality of R 11 may be the same or different from each other.

11は、耐久性向上及び電荷輸送性の観点から、水素原子、フェニル基、又はナフチル基であることが好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。 R 11 is preferably a hydrogen atom, a phenyl group, or a naphthyl group, more preferably a hydrogen atom, from the viewpoints of durability improvement and charge transportability.

<置換基群Q>
置換基群Qは、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基、アシル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、シリル基、シロキシ基、シアノ基、芳香族炭化水素基、及び芳香族複素環基よりなる群である。これらの置換基は直鎖、分岐及び環状のいずれの構造を含んでいてもよい。
<Substituent group Q>
Substituent group Q includes an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkoxycarbonyl group, a dialkylamino group, a diarylamino group, an arylalkylamino group, an acyl group, a halogen atom, a haloalkyl group, an alkylthio group, A group consisting of an arylthio group, a heteroarylthio group, a silyl group, a siloxy group, a cyano group, an aromatic hydrocarbon group, and an aromatic heterocyclic group. These substituents may contain any structure of linear, branched and cyclic.

置換基群Qとして、より具体的には、以下の構造が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数が通常1以上であり、好ましくは4以上であり、通常24以下であり、好ましくは12以下であり、より好ましくは8以下であり、さらに好ましくは6以下である、直鎖、分岐、又は環状のアルキル基が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、ドデシル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、炭素数が通常1以上であり、通常24以下であり、好ましくは12以下のアルコキシ基が挙げられ、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基が挙げられる。
アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基としては、炭素数が通常4以上であり、好ましくは5以上であり、通常36以下であり、好ましくは24以下のアリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基が挙げられ、好ましくは、フェノキシ基、ナフトキシ基、ピリジルオキシ基が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、炭素数が通常2以上であり、通常24以下であり、好ましくは12以下のアルコキシカルボニル基が挙げられ、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基が挙げられる。
ジアルキルアミノ基としては、炭素数が通常2以上であり、通常24以下であり、好ましくは12以下のジアルキルアミノ基が挙げられ、好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基が挙げられる。
ジアリールアミノ基としては、炭素数が通常10以上であり、好ましくは12以上であり、通常36以下であり、好ましくは24以下のジアリールアミノ基が挙げられ、好ましくは、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基が挙げられる
アリールアルキルアミノ基としては、炭素数が通常7であり、通常36以下であり、好ましくは24以下のアリールアルキルアミノ基が挙げられ、好ましくはフェニルメチルアミノ基が挙げられる。
アシル基としては、炭素数が通常2であり、通常24以下であり、好ましくは12のアシル基が挙げられ、好ましくはアセチル基、ベンゾイル基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロアルキル基としては、炭素数が通常1以上であり、通常12以下であり、好ましくは6以下のハロアルキル基が挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基が挙げられる。
アルキルチオ基としては、炭素数が通常1以上であり、通常24以下であり、好ましくは12以下のアルキルチオ基が挙げられ、好ましくはメチルチオ基、エチルチオ基が挙げられる。
アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基としては、炭素数が通常4以上であり、好ましくは5以上であり、通常36以下であり、好ましくは24以下のアリールチオ基、ヘテロアリールチオ基が挙げられ、好ましくはフェニルチオ基、ナフチルチオ基、ピリジルチオ基が挙げられる。
シリル基としては、炭素数が通常2以上であり、好ましくは3以上であり、通常36以下であり、好ましくは24以下のシリル基が挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基、トリフェニルシリル基が挙げられる。
シロキシ基としては、炭素数が通常2以上であり、好ましくは3以上であり、通常36以下であり、好ましくは24以下のシロキシ基が挙げられ、好ましくはトリメチルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基が挙げられる。
シアノ基は-CNである。
芳香族炭化水素基としては、炭素数が通常6以上であり、通常36以下であり、好ましくは24以下の芳香族炭化水素基が挙げられ、好ましくはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。
芳香族複素環基としては、炭素数が通常3以上であり、好ましくは4以上であり、通常36以下であり、好ましくは24以下の芳香族複素環基が挙げられ、好ましくはチエニル基、ピリジル基が挙げられる。
More specific examples of the substituent group Q include the following structures.
The alkyl group has usually 1 or more carbon atoms, preferably 4 or more carbon atoms, usually 24 or less, preferably 12 or less, more preferably 8 or less, and still more preferably 6 or less. linear, branched or cyclic alkyl groups, preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, tert- Butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group and dodecyl group.
The alkoxy group includes an alkoxy group having usually 1 or more carbon atoms, usually 24 or less, preferably 12 or less, preferably methoxy or ethoxy.
The aryloxy group and heteroaryloxy group include aryloxy groups and heteroaryloxy groups having usually 4 or more carbon atoms, preferably 5 or more carbon atoms, usually 36 or less, preferably 24 or less carbon atoms, Preferred are phenoxy group, naphthoxy group and pyridyloxy group.
The alkoxycarbonyl group includes an alkoxycarbonyl group having usually 2 or more carbon atoms, usually 24 or less carbon atoms, preferably 12 or less carbon atoms, preferably a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group.
The dialkylamino group includes dialkylamino groups having usually 2 or more carbon atoms, usually 24 or less carbon atoms, preferably 12 or less carbon atoms, preferably dimethylamino group and diethylamino group.
The diarylamino group includes a diarylamino group having usually 10 or more carbon atoms, preferably 12 or more carbon atoms, usually 36 or less, preferably 24 or less carbon atoms, preferably a diphenylamino group or a ditolylamino group. Examples of the arylalkylamino group include arylalkylamino groups having usually 7 carbon atoms, usually 36 or less, preferably 24 or less carbon atoms, preferably phenylmethylamino groups.
The acyl group usually has 2 carbon atoms, usually 24 or less, preferably 12 acyl groups, preferably acetyl group and benzoyl group.
A fluorine atom and a chlorine atom are mentioned as a halogen atom, A fluorine atom is preferable.
The haloalkyl group includes a haloalkyl group having usually 1 or more carbon atoms, usually 12 or less carbon atoms, preferably 6 or less carbon atoms, preferably a trifluoromethyl group.
The alkylthio group includes an alkylthio group having usually 1 or more carbon atoms, usually 24 or less carbon atoms, preferably 12 or less carbon atoms, preferably methylthio group or ethylthio group.
Arylthio groups and heteroarylthio groups include arylthio groups and heteroarylthio groups having usually 4 or more carbon atoms, preferably 5 or more carbon atoms, usually 36 or less carbon atoms, preferably 24 or less carbon atoms, preferably A phenylthio group, a naphthylthio group, and a pyridylthio group can be mentioned.
The silyl group includes silyl groups having usually 2 or more carbon atoms, preferably 3 or more carbon atoms, usually 36 or less, preferably 24 or less carbon atoms, preferably trimethylsilyl and triphenylsilyl groups. .
The siloxy group includes a siloxy group having usually 2 or more carbon atoms, preferably 3 or more carbon atoms, usually 36 or less, preferably 24 or less carbon atoms, preferably a trimethylsiloxy group or a triphenylsiloxy group. be done.
A cyano group is -CN.
The aromatic hydrocarbon group includes an aromatic hydrocarbon group having usually 6 or more carbon atoms, usually 36 or less, preferably 24 or less carbon atoms, preferably a phenyl group or a naphthyl group.
The aromatic heterocyclic group includes an aromatic heterocyclic group having usually 3 or more carbon atoms, preferably 4 or more carbon atoms, usually 36 or less, preferably 24 or less carbon atoms, preferably thienyl group, pyridyl groups.

上記の置換基群Qの中でも、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基、又は芳香族複素環基である。電荷輸送性の観点からは、置換基としては芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基が好ましく、より好ましくは芳香族炭化水素基であり、置換基を有さないことがさらに好ましい。溶解性向上の観点からは、置換基としてはアルキル基又はアルコキシ基を有することが好ましい。 Among the above substituent group Q, an alkyl group, an alkoxy group, an aromatic hydrocarbon group, or an aromatic heterocyclic group is preferable. From the viewpoint of charge transport properties, the substituent is preferably an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, more preferably an aromatic hydrocarbon group, and further preferably has no substituent. From the viewpoint of improving solubility, it is preferable to have an alkyl group or an alkoxy group as a substituent.

また、上記置換基群Qの各置換基は更に置換基を有していてもよい。それら置換基としては、上記置換基(置換基群Q)と同じのものが挙げられる。上記置換基群Qの置換基がさらに有してもよい各置換基は、好ましくは、炭素数8以下のアルキル基、炭素数8以下のアルコキシ基、又はフェニル基、より好ましくは炭素数6以下のアルキル基、炭素数6以下のアルコキシ基、又はフェニル基であり、上記置換基群Qの各置換基は、電荷輸送性の観点からは、さらなる置換基を有さないことがより好ましい。 Further, each substituent in the substituent group Q may further have a substituent. Examples of these substituents include the same substituents as those described above (substituent group Q). Each substituent that the substituent of the above substituent group Q may further have is preferably an alkyl group having 8 or less carbon atoms, an alkoxy group having 8 or less carbon atoms, or a phenyl group, more preferably 6 or less carbon atoms. , an alkoxy group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, and each substituent in the substituent group Q more preferably does not have a further substituent from the viewpoint of charge transport properties.

<分子量>
前記式(1)で表される本発明の化合物の分子量は3000以下が好ましく、より好ましくは2500以下であり、特に好ましくは2000以下であり、最も好ましくは1800以下である。前記式(1)で表される本発明の化合物の分子量の下限は1080以上が好ましく、より好ましくは1200以上である。
<Molecular weight>
The molecular weight of the compound of the present invention represented by formula (1) is preferably 3,000 or less, more preferably 2,500 or less, particularly preferably 2,000 or less, and most preferably 1,800 or less. The lower limit of the molecular weight of the compound of the present invention represented by formula (1) is preferably 1080 or more, more preferably 1200 or more.

<本発明の化合物の具体例>
前記式(1)で表される本発明の化合物の具体的構造は特に限定されないが、例えば以下のような化合物が挙げられる。
<Specific examples of the compound of the present invention>
Although the specific structure of the compound of the present invention represented by the formula (1) is not particularly limited, examples thereof include the following compounds.

Figure 2023086108000007
Figure 2023086108000007

Figure 2023086108000008
Figure 2023086108000008

Figure 2023086108000009
Figure 2023086108000009

Figure 2023086108000010
Figure 2023086108000010

Figure 2023086108000011
Figure 2023086108000011

Figure 2023086108000012
Figure 2023086108000012

Figure 2023086108000013
Figure 2023086108000013

Figure 2023086108000014
Figure 2023086108000014

<化合物の製造方法>
前記式(1)で表される本発明の化合物は、例えば、後掲の実施例に記載する方法に準じて製造することができる。
<Method for producing compound>
The compound of the present invention represented by the above formula (1) can be produced, for example, according to the method described in the Examples below.

[本発明の化合物が効果を奏する理由]
前記式(1)で表される本発明の化合物は、W、Wのパラ位に結合する基が、ベンゼン環が2個又は3個パラ位で連結した基であるため共役が広がっており、ここにLUMOが分布し、電子輸送性に優れていると考えられる。また、W、Wのパラ位に共役して連結するベンゼン環が3個以下であるため、共役が長すぎず、広いエネルギーギャップを有しており、発光層のホスト材料として用いた場合、発光材料を消光させにくく好ましいと考えられる。
[Reason why the compound of the present invention is effective]
In the compound of the present invention represented by the formula (1), the group bonded to the para position of W 1 and W 3 is a group in which two or three benzene rings are linked at the para position, so conjugation is extended. LUMO is distributed here, and it is considered that the electron transport property is excellent. In addition, since the number of benzene rings conjugated to the para-positions of W 1 and W 3 is 3 or less, the conjugation is not too long and has a wide energy gap when used as a host material for a light-emitting layer. , is considered preferable because it is difficult to quench the light-emitting material.

式(1)で表される本発明の化合物の、W、W及びWを含む含窒素6員環において、Wのパラ位に結合する基は1,3-フェニレン基であるため、共役しておらず、式(1)で表される本発明の化合物は広いエネルギーギャップを有し、発光層のホスト材料として用いた場合、発光材料を消光させにくく好ましいと考えられる。 In the nitrogen-containing 6-membered ring containing W 1 , W 2 and W 3 of the compound of the present invention represented by formula (1), the group bonded to the para position of W 2 is a 1,3-phenylene group. , is not conjugated, the compound of the present invention represented by the formula (1) has a wide energy gap, and when used as a host material for a light-emitting layer, the light-emitting material is less likely to be quenched, which is considered preferable.

式(1)で表される本発明の化合物のZaの少なくとも一つは1,3-フェニレン基であるから、N-カルバゾリル基であるZaと共役しておらず、式(1)で表される本発明の化合物は広いエネルギーギャップを有し、発光層のホスト材料として用いた場合、発光材料を消光させにくく好ましいと考えられる。 Since at least one of Za 1 in the compound of the present invention represented by formula (1) is a 1,3-phenylene group, it is not conjugated with Za 2 , which is an N-carbazolyl group, and in formula (1) The represented compound of the present invention has a wide energy gap, and when used as a host material for a light-emitting layer, it is considered preferable because the light-emitting material is less likely to be quenched.

さらに、-(Xag11-Xa、-(Yaj11-Ya、-(Zak11-Zaが前記好ましい構造であると、広いエネルギーギャップを有し、発光層のホスト材料として用いた場合、発光材料を消光させにくい。
また、W、W及びWを含む含窒素6員環とN-カルバゾリル基との間のフェニレン基が3つ以上であり、1,3-フェニレン基を適度に多く含み、かつ、ターフェニレン基より長い1,4-フェニレン連結構造を含まないため、溶解性に優れている。その一方で、f11+g11+h11+j11+k11は6以上であることにより、成膜後はアルコール系溶剤に対して難溶、すなわち耐溶剤性があると考えられる。成膜後のアルコール系溶剤に対する耐溶剤性の観点から、f11+g11+h11+j11+k11は7以上が好ましく、9以上がさらに好ましく、安定性の観点から15以下が好ましい。
Furthermore, when —(Xa 1 ) g11 —Xa 2 , —(Ya 1 ) j11 —Ya 2 , —(Za 1 ) k11 —Za 2 are the preferred structures, they have a wide energy gap and When used as a material, it is difficult to quench light-emitting materials.
In addition, the number of phenylene groups between the N-carbazolyl group and the nitrogen-containing 6-membered ring containing W 1 , W 2 and W 3 is 3 or more, contains a moderately large number of 1,3-phenylene groups, and Since it does not contain a 1,4-phenylene linked structure longer than a phenylene group, it has excellent solubility. On the other hand, since f11+g11+h11+j11+k11 is 6 or more, it is thought that after the film is formed, it is poorly soluble in alcoholic solvents, that is, has solvent resistance. f11+g11+h11+j11+k11 is preferably 7 or more, more preferably 9 or more, and preferably 15 or less from the viewpoint of stability, from the viewpoint of solvent resistance to alcohol-based solvents after film formation.

[組成物]
本発明の組成物は少なくとも、前記式(1)で表される本発明の化合物及び有機溶剤を含む。
なお、本発明の組成物には、前記式(1)で表される本発明の化合物の1種のみが含まれていてもよく、2種以上が含まれていてもよい。
本発明の組成物はさらに、発光材料を含むことが好ましく、有機電界発光素子の発光層形成用組成物として好適に用いられる。
[Composition]
The composition of the present invention contains at least the compound of the present invention represented by formula (1) and an organic solvent.
The composition of the present invention may contain only one of the compounds of the present invention represented by formula (1), or may contain two or more of them.
The composition of the present invention preferably further contains a light-emitting material, and is suitably used as a composition for forming a light-emitting layer of an organic electroluminescence device.

<有機溶剤>
本発明の組成物に含有される有機溶剤は、湿式成膜により本発明の化合物を含む層を形成するために用いる、揮発性を有する液体成分である。
<Organic solvent>
The organic solvent contained in the composition of the present invention is a volatile liquid component used for forming a layer containing the compound of the present invention by wet film formation.

該有機溶剤は、溶質である本発明の化合物及び後述の発光材料が良好に溶解する有機溶剤であれば特に限定されない。 The organic solvent is not particularly limited as long as it can satisfactorily dissolve the compound of the present invention as a solute and the luminescent material described below.

好ましい有機溶剤としては、例えば、n-デカン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、デカリン、ビシクロヘキサン等のアルカン類;トルエン、キシレン、メシチレン、フェニルシクロヘキサン、テトラリン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類;1,2-ジメトキシベンゼン、1,3-ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2-メトキシトルエン、3-メトキシトルエン、4-メトキシトルエン、2,3-ジメチルアニソール、2,4-ジメチルアニソール、ジフェニルエーテル等の芳香族エーテル類;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、p-メチル安息香酸エチル(p-トルイル酸エチル)、安息香酸プロピル、安息香酸n-ブチル等の芳香族エステル類;シクロヘキサノン、シクロオクタノン、フェンコン等の脂環族ケトン類;シクロヘキサノール、シクロオクタノール等の脂環族アルコール類;メチルエチルケトン、ジブチルケトン等の脂肪族ケトン類;ブタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール-1-モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル類;等が挙げられる。 Preferred organic solvents include, for example, alkanes such as n-decane, cyclohexane, ethylcyclohexane, decalin and bicyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, phenylcyclohexane, tetralin and methylnaphthalene; Halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and trichlorobenzene; 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3 - aromatic ethers such as dimethylanisole, 2,4-dimethylanisole and diphenyl ether; phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, ethyl p-methylbenzoate (ethyl p-toluate), benzoic acid Aromatic esters such as propyl and n-butyl benzoate; Alicyclic ketones such as cyclohexanone, cyclooctanone and fenchone; Alicyclic alcohols such as cyclohexanol and cyclooctanol; Aliphatic compounds such as methyl ethyl ketone and dibutyl ketone ketones; aliphatic alcohols such as butanol and hexanol; aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA);

これらの中でも、粘度と沸点の観点から、アルカン類、芳香族炭化水素類、芳香族エーテル類、芳香族エステル類が好ましく、芳香族炭化水素類、芳香族エーテル類及び芳香族エステル類がさらに好ましく、芳香族炭化水素類及び芳香族エステル類が特に好ましい。 Among these, from the viewpoint of viscosity and boiling point, alkanes, aromatic hydrocarbons, aromatic ethers, and aromatic esters are preferred, and aromatic hydrocarbons, aromatic ethers, and aromatic esters are more preferred. , aromatic hydrocarbons and aromatic esters are particularly preferred.

これらの有機溶剤は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。 One type of these organic solvents may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.

用いる有機溶剤の沸点は通常80℃以上、好ましくは100℃以上、より好ましくは120℃以上、また、通常380℃以下、好ましくは350℃以下、より好ましくは330℃以下である。有機溶剤の沸点がこの範囲を下回ると、湿式成膜時において、組成物からの溶剤蒸発により、成膜安定性が低下する可能性がある。有機溶剤の沸点がこの範囲を上回ると、湿式成膜時において、成膜後の溶剤残留により、成膜安定性が低下する可能性がある。 The boiling point of the organic solvent used is usually 80° C. or higher, preferably 100° C. or higher, more preferably 120° C. or higher, and usually 380° C. or lower, preferably 350° C. or lower, more preferably 330° C. or lower. If the boiling point of the organic solvent is below this range, the film formation stability may decrease due to evaporation of the solvent from the composition during wet film formation. If the boiling point of the organic solvent exceeds this range, there is a possibility that the film formation stability will decrease due to the solvent remaining after film formation during wet film formation.

特に、上記有機溶剤のうち、沸点が150℃以上の有機溶剤を2種以上組み合わせることにより、均一な塗布膜を作製することができる。沸点150℃以上の有機溶剤が1つ以下であると、塗布時に均一な膜が形成されない場合があると考えられる。 In particular, by combining two or more organic solvents having a boiling point of 150° C. or higher among the above organic solvents, a uniform coating film can be produced. If the number of organic solvents having a boiling point of 150° C. or higher is one or less, a uniform film may not be formed during coating.

<発光材料>
本発明の組成物は発光層形成用組成物であることが好ましく、この場合、更に発光材料を含有することが好ましい。発光材料とは、本発明の組成物において、主として発光する成分を指し、有機電界発光デバイスにおけるドーパント成分に当たる。
<Luminescent material>
The composition of the present invention is preferably a composition for forming a light-emitting layer, and in this case, it preferably further contains a light-emitting material. A luminescent material refers to a component that mainly emits light in the composition of the present invention, and corresponds to a dopant component in an organic electroluminescent device.

発光材料としては、公知材料を適用可能であり、蛍光発光材料或いは燐光発光材料を単独若しくは複数を混合して使用できるが、内部量子効率の観点から、好ましくは、燐光発光材料である。 As the light-emitting material, a known material can be applied, and a fluorescent light-emitting material or a phosphorescent light-emitting material can be used singly or in combination. From the viewpoint of internal quantum efficiency, the phosphorescent light-emitting material is preferable.

(燐光発光材料)
燐光発光材料とは、励起三重項状態から発光を示す材料をいう。例えば、Ir、Pt、Euなどを有する金属錯体化合物がその代表例であり、材料の構造として、金属錯体を含むものが好ましい。
(Phosphorescent material)
A phosphorescent material is a material that emits light from an excited triplet state. For example, metal complex compounds containing Ir, Pt, Eu, etc. are typical examples, and materials containing metal complexes are preferable as the structure of the material.

金属錯体の中でも、三重項状態を経由して発光する燐光発光性有機金属錯体として、長周期型周期表(以下、特に断り書きの無い限り「周期表」という場合には、長周期型周期表を指すものとする。)第7~11族から選ばれる金属を中心金属として含むウェルナー型錯体又は有機金属錯体化合物が挙げられる。このような燐光発光材料としては、下記式(201)で表される化合物、又は後述の式(205)で表される化合物が好ましく、より好ましくは下記式(201)で表される化合物である。 Among metal complexes, the long-period periodic table (unless otherwise specified, the long-period periodic table ) include Werner-type complexes or organometallic complex compounds containing a metal selected from Groups 7 to 11 as a central metal. As such a phosphorescent material, a compound represented by the following formula (201) or a compound represented by the following formula (205) is preferable, and a compound represented by the following formula (201) is more preferable. .

Figure 2023086108000015
Figure 2023086108000015

上記式(201)において、Mは、周期表第7~11族から選ばれる金属であり、例えば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金、ユウロピウムが挙げられる。 In the above formula (201), M is a metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table, such as ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, gold, and europium.

環A1は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環構造又は置換基を有していてもよい芳香族複素環構造を表す。
環A2は置換基を有していてもよい芳香族複素環構造を表す。
Ring A1 represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring structure or an optionally substituted aromatic heterocyclic ring structure.
Ring A2 represents an aromatic heterocyclic structure which may have a substituent.

201、R202は各々独立に上記式(202)で表される構造であり、“*”は環A1又は環A2との結合位置を表す。R201、R202は同じであっても異なっていてもよく、R201、R202がそれぞれ複数存在する場合、それらは同じであっても異なっていてもよい。 R 201 and R 202 each independently represent a structure represented by the above formula (202), and "*" represents the bonding position with ring A1 or ring A2. R 201 and R 202 may be the same or different, and when multiple R 201 and R 202 are present, they may be the same or different.

式(202)において、Ar201、Ar203は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環構造、又は置換基を有していてもよい芳香族複素環構造を表す。
Ar202は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環構造、置換基を有していてもよい芳香族複素環構造、又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素構造を表す。
環A1に結合する置換基同士、環A2に結合する置換基同士、又は環A1に結合する置換基と環A2に結合する置換基同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
In formula (202), Ar 201 and Ar 203 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring structure or an optionally substituted aromatic heterocyclic ring structure. .
Ar 202 is an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring structure, an optionally substituted aromatic heterocyclic ring structure, or an optionally substituted aliphatic hydrocarbon structure represents
The substituents bonded to ring A1, the substituents bonded to ring A2, or the substituents bonded to ring A1 and the substituents bonded to ring A2 may be bonded to each other to form a ring.

201-L200-B202は、アニオン性の2座配位子を表す。B201及びB202は、それぞれ独立に、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。L200は、単結合、又は、B201及びB202とともに2座配位子を構成する原子団を表す。B201-L200-B202が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。 B 201 -L 200 -B 202 represents an anionic bidentate ligand. B 201 and B 202 each independently represent a carbon atom, an oxygen atom or a nitrogen atom, and these atoms may be atoms constituting a ring. L 200 represents a single bond or an atomic group forming a bidentate ligand together with B 201 and B 202 . When there are multiple groups of B 201 -L 200 -B 202 , they may be the same or different.

式(201)、(202)において、
i1、i2はそれぞれ独立に、0以上12以下の整数を表し、
i3は、Ar202に置換可能な数を上限とする0以上の整数であり、
jは、Ar201に置換可能な数を上限とする0以上の整数である。
k1、k2はそれぞれ独立に、環A1、環A2に置換可能な数を上限とする0以上の整数である。
mは1~3の整数である。
In formulas (201) and (202),
i1 and i2 each independently represent an integer of 0 to 12,
i3 is an integer of 0 or more with an upper limit of the number that can be substituted for Ar 202 ,
j is an integer greater than or equal to 0 up to the number that can be substituted for Ar 201 .
k1 and k2 are each independently an integer of 0 or more, with the upper limit being the number that can be substituted on ring A1 and ring A2.
m is an integer of 1-3.

環A1における芳香族炭化水素環としては、好ましくは炭素数6~30の芳香族炭化水素環であり、具体的には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、トリフェニリル環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環が好ましい。 The aromatic hydrocarbon ring for ring A1 is preferably an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 30 carbon atoms, and specifically includes a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, triphenylyl ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, A fluorene ring is preferred.

環A1における芳香族複素環としては、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子のいずれかを含む、炭素数3~30の芳香族複素環が好ましく、さらに好ましくは、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環である。 The aromatic heterocyclic ring in ring A1 is preferably an aromatic heterocyclic ring having 3 to 30 carbon atoms containing any one of a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom as a heteroatom, more preferably a furan ring or a benzofuran ring. , thiophene ring, and benzothiophene ring.

環A1としてより好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環であり、特に好ましくはベンゼン環又はフルオレン環であり、最も好ましくはベンゼン環である。 Ring A1 is more preferably a benzene ring, a naphthalene ring or a fluorene ring, particularly preferably a benzene ring or a fluorene ring, most preferably a benzene ring.

環A2における芳香族複素環としては、好ましくはヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子のいずれかを含む、炭素数3~30の芳香族複素環であり、
具体的には、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、ナフチリジン環、フェナントリジン環が挙げられ、
よりに好ましくは、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環であり、
さらに好ましくは、ピリジン環、イミダゾール環、ベンゾチアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環であり、
最も好ましくは、ピリジン環、イミダゾール環、ベンゾチアゾール環、キノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環である。
The aromatic heterocyclic ring in ring A2 is preferably an aromatic heterocyclic ring having 3 to 30 carbon atoms containing either a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom as a heteroatom,
Specifically, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, benzimidazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, quinazoline ring, Naphthyridine ring, phenanthridine ring,
more preferably pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, quinazoline ring,
More preferred are pyridine ring, imidazole ring, benzothiazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring and quinazoline ring,
Most preferred are pyridine ring, imidazole ring, benzothiazole ring, quinoline ring, quinoxaline ring and quinazoline ring.

環A1と環A2の好ましい組合せとしては、(環A1-環A2)で表記すると、(ベンゼン環-ピリジン環)、(ベンゼン環-キノリン環)、(ベンゼン環-キノキサリン環)、(ベンゼン環-キナゾリン環)、(ベンゼン環-イミダゾール環)、(ベンゼン環-ベンゾチアゾール環)である。 Preferred combinations of ring A1 and ring A2 are represented by (ring A1-ring A2), (benzene ring-pyridine ring), (benzene ring-quinoline ring), (benzene ring-quinoxaline ring), (benzene ring- quinazoline ring), (benzene ring-imidazole ring), and (benzene ring-benzothiazole ring).

環A1、環A2が有していてもよい置換基は任意に選択できるが、好ましくは後述の置換基群Sから選ばれる1種又は複数種の置換基である。 The substituents that the ring A1 and the ring A2 may have can be optionally selected, but are preferably one or more substituents selected from the group S of substituents described below.

Ar201、Ar202、Ar203のいずれかが置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環構造である場合、芳香族炭化水素環構造としては、好ましくは炭素数6~30の芳香族炭化水素環であり、
具体的には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、トリフェニリル環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環が好ましく、
より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環であり、
最も好ましくはベンゼン環である。
When any one of Ar 201 , Ar 202 and Ar 203 is an aromatic hydrocarbon ring structure which may have a substituent, the aromatic hydrocarbon ring structure is preferably an aromatic ring structure having 6 to 30 carbon atoms. is a hydrocarbon ring,
Specifically, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, triphenylyl ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, and fluorene ring are preferred.
more preferably a benzene ring, a naphthalene ring or a fluorene ring,
A benzene ring is most preferred.

Ar201、Ar202、Ar203のいずれかが置換基を有していてもよいフルオレン環である場合、フルオレン環の9位及び9’位は、置換基を有するか又は隣接する構造と結合していることが好ましい。 When any of Ar 201 , Ar 202 and Ar 203 is a fluorene ring optionally having a substituent, the 9- and 9′-positions of the fluorene ring have a substituent or are bonded to the adjacent structure. preferably.

Ar201、Ar202、Ar203のいずれかが置換基を有していてもよいベンゼン環である場合、少なくとも一つのベンゼン環がオルト位又はメタ位で隣接する構造と結合していることが好ましく、少なくとも一つのベンゼン環がメタ位で隣接する構造と結合していることがより好ましい。 When any one of Ar 201 , Ar 202 and Ar 203 is a benzene ring optionally having a substituent, at least one benzene ring is preferably bonded to the adjacent structure at the ortho- or meta-position. , more preferably, at least one benzene ring is attached to the adjacent structure at the meta position.

Ar201、Ar202、Ar203のいずれかが置換基を有していてもよい芳香族複素環構造である場合、芳香族複素環構造としては、好ましくはヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子のいずれかを含む、炭素数3~30の芳香族複素環であり、
具体的には、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、ナフチリジン環、フェナントリジン環、カルバゾール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環が挙げられ、
好ましくは、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環、カルバゾール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環である。
When any one of Ar 201 , Ar 202 and Ar 203 is an aromatic heterocyclic structure which may have a substituent, the aromatic heterocyclic structure preferably contains a nitrogen atom, an oxygen atom, or an aromatic heterocyclic ring having 3 to 30 carbon atoms containing any of a sulfur atom,
Specifically, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, benzimidazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, quinazoline ring, naphthyridine ring, phenanthridine ring, carbazole ring, dibenzofuran ring, dibenzothiophene ring,
Preferred are pyridine ring, pyrimidine ring, triazine ring, carbazole ring, dibenzofuran ring and dibenzothiophene ring.

Ar201、Ar202、Ar203のいずれかが置換基を有していてもよいカルバゾール環である場合、カルバゾール環のN位は、置換基を有するか又は隣接する構造と結合していることが好ましい。 When any of Ar 201 , Ar 202 and Ar 203 is a carbazole ring optionally having a substituent, the N-position of the carbazole ring may have a substituent or be bonded to an adjacent structure. preferable.

Ar202が置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素構造である場合、脂肪族炭化水素構造としては、直鎖、分岐鎖、又は環状構造を有する脂肪族炭化水素構造であり、好ましくは炭素数が1以上24以下の脂肪族炭化水素であり、より好ましくは炭素数が1以上12以下の脂肪族炭化水素であり、さらに好ましくは炭素数が1以上8以下の脂肪族炭化水素である。 When Ar 202 is an optionally substituted aliphatic hydrocarbon structure, the aliphatic hydrocarbon structure is an aliphatic hydrocarbon structure having a linear, branched, or cyclic structure, preferably It is an aliphatic hydrocarbon having 1 or more and 24 or less carbon atoms, more preferably an aliphatic hydrocarbon having 1 or more and 12 or less carbon atoms, and still more preferably an aliphatic hydrocarbon having 1 or more and 8 or less carbon atoms. .

i1、i2はそれぞれ独立に、0~12の整数であり、好ましくは1~12の整数、より好ましくは1~8の整数、さらに好ましくは1~6の整数である。この範囲であることにより、溶解性向上、電荷輸送性向上が見込まれる。 i1 and i2 are each independently an integer of 0 to 12, preferably an integer of 1 to 12, more preferably an integer of 1 to 8, and still more preferably an integer of 1 to 6. Within this range, improved solubility and improved charge transport properties can be expected.

i3は好ましくは0~5の整数であり、より好ましくは0~2の整数、さらに好ましくは0又は1である。 i3 is preferably an integer of 0-5, more preferably an integer of 0-2, still more preferably 0 or 1.

jは好ましくは0~2の整数を表し、より好ましくは0又は1である。 j preferably represents an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1;

k1、k2はそれぞれ独立に、好ましくは0~3の整数であり、より好ましくは1~3の整数であり、さらに好ましくは1又は2であり、特に好ましくは1である。 k1 and k2 are each independently preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 1 to 3, still more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.

Ar201、Ar202、Ar203が有していてもよい置換基は任意に選択できるが、好ましくは後述の置換基群Sから選ばれる1種又は複数種の置換基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは水素原子、アルキル基であり、最も好ましくは無置換(水素原子)である。 The substituents that Ar 201 , Ar 202 and Ar 203 may have can be arbitrarily selected, but are preferably one or more substituents selected from the group S of substituents described later, more preferably hydrogen It is an atom, an alkyl group or an aryl group, particularly preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and most preferably unsubstituted (hydrogen atom).

特に断りのない場合、置換基としては、次の置換基群Sから選ばれる基が好ましい。 Unless otherwise specified, the substituent is preferably a group selected from the following substituent group S.

<置換基群S>
・アルキル基、好ましくは炭素数1~20のアルキル基、より好ましくは炭素数1~12のアルキル基、さらに好ましくは炭素数1~8のアルキル基、特に好ましくは炭素数1~6のアルキル基。
・アルコキシ基、好ましくは炭素数1~20のアルコキシ基、より好ましくは炭素数1~12のアルコキシ基、さらに好ましくは炭素数1~6のアルコキシ基。
・アリールオキシ基、好ましくは炭素数6~20のアリールオキシ基、より好ましくは炭素数6~14のアリールオキシ基、さらに好ましくは炭素数6~12のアリールオキシ基、特に好ましくは炭素数6のアリールオキシ基。
・ヘテロアリールオキシ基、好ましくは炭素数3~20のヘテロアリールオキシ基、より好ましくは炭素数3~12のヘテロアリールオキシ基。
・アルキルアミノ基、好ましくは炭素数1~20のアルキルアミノ基、より好ましくは炭素数1~12のアルキルアミノ基。
・アリールアミノ基、好ましくは炭素数6~36のアリールアミノ基、より好ましくは炭素数6~24のアリールアミノ基。
・アラルキル基、好ましくは炭素数7~40のアラルキル基、より好ましくは炭素数7~18のアラルキル基、さらに好ましくは炭素数7~12のアラルキル基。
・ヘテロアラルキル基、好ましくは炭素数7~40のヘテロアラルキル基、より好ましくは炭素数7~18のヘテロアラルキル基。
・アルケニル基、好ましくは炭素数2~20のアルケニル基、より好ましくは炭素数2~12のアルケニル基、さらに好ましくは炭素数2~8のアルケニル基、特に好ましくは炭素数2~6のアルケニル基。
・アルキニル基、好ましくは炭素数2~20のアルキニル基、より好ましくは炭素数2~12のアルキニル基。
・アリール基、好ましくは炭素数6~30のアリール基、より好ましくは炭素数6~24のアリール基、さらに好ましくは炭素数6~18のアリール基、特に好ましくは炭素数6~14のアリール基。
・ヘテロアリール基、好ましくは炭素数3~30のヘテロアリール基、より好ましくは炭素数3~24のヘテロアリール基、さらに好ましくは炭素数3~18のヘテロアリール基、特に好ましくは炭素数3~14のヘテロアリール基。
・アルキルシリル基、好ましくはアルキル基の炭素数が1~20であるアルキルシリル基、より好ましくはアルキル基の炭素数が1~12であるアルキルシリル基。
・アリールシリル基、好ましくはアリール基の炭素数が6~20であるアリールシリル基、より好ましくはアリール基の炭素数が6~14であるアリールシリル基。
・アルキルカルボニル基、好ましくは炭素数2~20のアルキルカルボニル基。
・アリールカルボニル基、好ましくは炭素数7~20のアリールカルボニル基。
以上の基は一つ以上の水素原子がフッ素原子で置き換えられているか、若しくは1つ以上の水素原子が重水素原子で置き換えらえられていてもよい。
・水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、又は、-SF
特に断りのない限り、アリール基は芳香族炭化水素基であり、ヘテロアリール基は芳香族複素環基である。
<Substituent group S>
- an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms .
- An alkoxy group, preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and still more preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
- an aryloxy group, preferably an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, still more preferably an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, particularly preferably an aryloxy group having 6 carbon atoms; aryloxy group.
- A heteroaryloxy group, preferably a heteroaryloxy group having 3 to 20 carbon atoms, more preferably a heteroaryloxy group having 3 to 12 carbon atoms.
- an alkylamino group, preferably an alkylamino group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms;
- An arylamino group, preferably an arylamino group having 6 to 36 carbon atoms, more preferably an arylamino group having 6 to 24 carbon atoms.
• an aralkyl group, preferably an aralkyl group having 7 to 40 carbon atoms, more preferably an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, and still more preferably an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms;
- A heteroaralkyl group, preferably a heteroaralkyl group having 7 to 40 carbon atoms, more preferably a heteroaralkyl group having 7 to 18 carbon atoms.
- an alkenyl group, preferably an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, still more preferably an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, particularly preferably an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms .
- an alkynyl group, preferably an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms;
- An aryl group, preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, still more preferably an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, particularly preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms .
- a heteroaryl group, preferably a heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, more preferably a heteroaryl group having 3 to 24 carbon atoms, still more preferably a heteroaryl group having 3 to 18 carbon atoms, particularly preferably 3 to 3 carbon atoms 14 heteroaryl groups.
An alkylsilyl group, preferably an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylsilyl group having 1 to 12 carbon atoms.
- An arylsilyl group, preferably an arylsilyl group in which the aryl group has 6 to 20 carbon atoms, more preferably an arylsilyl group in which the aryl group has 6 to 14 carbon atoms.
- an alkylcarbonyl group, preferably an alkylcarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms;
- an arylcarbonyl group, preferably an arylcarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms;
In the above groups, one or more hydrogen atoms may be replaced with fluorine atoms, or one or more hydrogen atoms may be replaced with deuterium atoms.
- A hydrogen atom, a deuterium atom, a fluorine atom, a cyano group, or -SF 5 .
Unless otherwise specified, aryl groups are aromatic hydrocarbon groups and heteroaryl groups are aromatic heterocyclic groups.

(置換基群Sの中の好ましい基)
これら置換基群Sのうち、
好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアミノ基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルシリル基、アリールシリル基、これらの基の一つ以上の水素原子がフッ素原子で置き換えられている基、フッ素原子、シアノ基、又は、-SFであり、
より好ましくはアルキル基、アリールアミノ基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、これらの基の一つ以上の水素原子がフッ素原子で置き換えられている基、フッ素原子、シアノ基、又は、-SFであり、
さらに好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアミノ基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルシリル基、アリールシリル基であり、
特に好ましくはアルキル基、アリールアミノ基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基であり、
最も好ましくはアルキル基、アリールアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基である。
(Preferred Group in Substituent Group S)
Among these substituent group S,
Preferably, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an arylamino group, an aralkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkylsilyl group, an arylsilyl group, and at least one hydrogen atom of these groups is fluorine. a group substituted with an atom, a fluorine atom, a cyano group, or -SF5 ,
More preferably, an alkyl group, an arylamino group, an aralkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a group in which one or more hydrogen atoms of these groups are replaced with a fluorine atom, a fluorine atom, a cyano group, or , −SF 5 , and
more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an arylamino group, an aralkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkylsilyl group, an arylsilyl group,
Particularly preferred are alkyl groups, arylamino groups, aralkyl groups, alkenyl groups, aryl groups and heteroaryl groups,
Most preferred are alkyl groups, arylamino groups, aralkyl groups, aryl groups and heteroaryl groups.

これら置換基群Sは、さらに置換基群Sから選ばれる置換基を置換基として有していてもよい。有していてもよい置換基の好ましい基、より好ましい基、さらに好ましい基、特に好ましい基、最も好ましい基は置換基群Sの中の好ましい基等と同様である。 These substituent group S may further have a substituent selected from the substituent group S as a substituent. Preferred groups, more preferred groups, further preferred groups, particularly preferred groups, and most preferred groups of the substituents which may be present are the same as the preferred groups in Substituent Group S and the like.

(式(201)の好ましい構造)
前記式(201)中の前記式(202)で表される構造のなかでも、(i)ベンゼン環が連結した基を有する構造、(ii)環A1又は環A2に、アルキル基若しくはアラルキル基が結合した芳香族炭化水素基若しくは芳香族複素環基を有する構造、(iii)環A1又は環A2に、デンドロンが結合した構造が好ましい。
(preferred structure of formula (201))
Among the structures represented by the above formula (202) in the above formula (201), (i) a structure having a group to which a benzene ring is linked, (ii) an alkyl group or an aralkyl group in ring A1 or ring A2 A structure having a bound aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group, and (iii) a structure in which a dendron is bound to ring A1 or ring A2 are preferred.

(i) ベンゼン環が連結した基を有する構造においては、Ar201がベンゼン環構造であり、i1が1~6であり、少なくとも一つの前記ベンゼン環がオルト位又はメタ位で隣接する構造と結合している。
この構造であることによって、溶解性が向上し、かつ電荷輸送性が向上することが期待される。
(i) In the structure having a group to which benzene rings are linked, Ar 201 is a benzene ring structure, i1 is 1 to 6, and at least one of the benzene rings is bonded to the adjacent structure at the ortho- or meta-position. are doing.
This structure is expected to improve the solubility and the charge transport property.

(ii) 環A1又は環A2に、アルキル基若しくはアラルキル基が結合した芳香族炭化水素基若しくは芳香族複素環基を有する構造においては、Ar201が芳香族炭化水素構造又は芳香族複素環構造であり、i1が1~6であり、Ar202が脂肪族炭化水素構造であり、i2が1~12であり、好ましくは3~8であり、Ar203がベンゼン環構造であり、i3が0又は1である。
この構造の場合、好ましくは、Ar201は前記芳香族炭化水素構造であり、さらに好ましくはベンゼン環が1~5連結した構造であり、より好ましくはベンゼン環1つである。
この構造であることによって、溶解性が向上し、かつ電荷輸送性が向上することが期待される。
(ii) In a structure having an aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group to which an alkyl group or an aralkyl group is bonded to ring A1 or ring A2, Ar 201 is an aromatic hydrocarbon structure or an aromatic heterocyclic ring structure. , i1 is 1 to 6, Ar 202 is an aliphatic hydrocarbon structure, i2 is 1 to 12, preferably 3 to 8, Ar 203 is a benzene ring structure, i3 is 0 or 1.
In this structure, Ar 201 is preferably the above aromatic hydrocarbon structure, more preferably a structure in which 1 to 5 benzene rings are linked, and more preferably one benzene ring.
This structure is expected to improve the solubility and the charge transport property.

(iii) 環A1又は環A2に、デンドロンが結合した構造においては、Ar201、Ar202がベンゼン環構造であり、Ar203がビフェニル又はターフェニル構造であり、i1、i2が1~6であり、i3が2であり、jが2である。
この構造であることによって、溶解性が向上し、かつ電荷輸送性が向上することが期待される。
(iii) In the structure in which a dendron is bound to ring A1 or ring A2, Ar 201 and Ar 202 are a benzene ring structure, Ar 203 is a biphenyl or terphenyl structure, and i1 and i2 are 1 to 6. , i3 is 2 and j is 2.
This structure is expected to improve the solubility and the charge transport property.

前記式(201)において、B201-L200-B202で表される構造のうち、下記式(203)又は(204)で表される構造が好ましい。 Among the structures represented by B 201 -L 200 -B 202 in the formula (201), structures represented by the following formulas (203) and (204) are preferable.

Figure 2023086108000016
Figure 2023086108000016

上記式(203)中、R211、R212、R213は置換基を表す。
該置換基は特に限定されないが、好ましくは前記置換基群Sから選択される基である。
In formula (203) above, R 211 , R 212 and R 213 represent substituents.
Although the substituent is not particularly limited, it is preferably a group selected from the substituent group S described above.

Figure 2023086108000017
Figure 2023086108000017

上記式(204)中、環B3は、置換基を有していてもよい、窒素原子を含む芳香族複素環構造を表す。環B3は好ましくはピリジン環である。
環B3が有してもよい置換基は特に限定されないが、好ましくは前記置換基群Sから選択される基である。
In formula (204) above, ring B3 represents an aromatic heterocyclic structure containing a nitrogen atom, which may have a substituent. Ring B3 is preferably a pyridine ring.
Although the substituent that ring B3 may have is not particularly limited, it is preferably a group selected from the substituent group S described above.

前記式(201)で表される燐光発光材料としては特に限定はされないが、具体的には以下の構造が挙げられる。
なお、以下において、Meはメチル基を意味し、Phはフェニル基を意味する。
Although the phosphorescent light-emitting material represented by the formula (201) is not particularly limited, specific examples include the following structures.
In the following, Me means a methyl group and Ph means a phenyl group.

Figure 2023086108000018
Figure 2023086108000018

Figure 2023086108000019
Figure 2023086108000019

Figure 2023086108000020
Figure 2023086108000020

Figure 2023086108000021
Figure 2023086108000021

次に、下記式(205)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by the following formula (205) will be explained.

Figure 2023086108000022
Figure 2023086108000022

式(205)中、Mは金属を表し、Tは炭素原子又は窒素原子を表す。R92~R95は、それぞれ独立に置換基を表す。但し、Tが窒素原子の場合は、R94及びR95は存在しない。 In formula (205), M2 represents a metal and T represents a carbon or nitrogen atom. R 92 to R 95 each independently represent a substituent. However, when T is a nitrogen atom, R94 and R95 do not exist.

式(205)中、Mは金属を表す。具体例としては、周期表第7~11族から選ばれる金属が挙げられる。中でも好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金又は金が挙げられ、特に好ましくは、白金、パラジウム等の2価の金属が挙げられる。 In formula (205), M2 represents a metal. Specific examples include metals selected from groups 7 to 11 of the periodic table. Among them, ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum and gold are preferred, and divalent metals such as platinum and palladium are particularly preferred.

また、式(205)において、R92及びR93は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、シアノ基、アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、ハロアルキル基、水酸基、アリールオキシ基、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。 In formula (205), R 92 and R 93 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, a cyano group, an amino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, represents an alkoxy group, an alkylamino group, an aralkylamino group, a haloalkyl group, a hydroxyl group, an aryloxy group, an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group;

更に、Tが炭素原子の場合、R94及びR95は、それぞれ独立に、R92及びR93と同様の例示物で表される置換基を表す。また、Tが窒素原子の場合は該Tに直接結合するR94又はR95は存在しない。 Furthermore, when T is a carbon atom, R94 and R95 each independently represent a substituent represented by the same examples as R92 and R93 . Also, when T is a nitrogen atom, there is no R94 or R95 directly bonded to said T.

また、R92~R95は、更に置換基を有していてもよい。該置換基としては、R92及びR93として挙げた前記の置換基とすることができる。更に、R92~R95のうち任意の2つ以上の基が互いに連結して環を形成してもよい。 In addition, R 92 to R 95 may further have a substituent. The substituents may be the aforementioned substituents exemplified for R 92 and R 93 . Furthermore, any two or more groups selected from R 92 to R 95 may be linked together to form a ring.

(分子量)
燐光発光材料の分子量は、好ましくは5000以下、更に好ましくは4000以下、特に好ましくは3000以下である。また、燐光発光材料の分子量は、通常1000以上、好ましくは1100以上、更に好ましくは1200以上である。この分子量範囲であることによって、燐光発光材料同士が凝集せず本発明の化合物及び/又は他の電荷輸送材料と均一に混合し、発光効率の高い発光層を得ることができると考えられる。
(molecular weight)
The molecular weight of the phosphorescent material is preferably 5,000 or less, more preferably 4,000 or less, and particularly preferably 3,000 or less. Further, the molecular weight of the phosphorescent material is usually 1000 or more, preferably 1100 or more, more preferably 1200 or more. It is believed that within this molecular weight range, the phosphorescent light-emitting materials do not aggregate with each other and are uniformly mixed with the compound of the present invention and/or other charge-transporting materials, so that a light-emitting layer with high light-emitting efficiency can be obtained.

燐光発光材料の分子量は、Tgや融点、分解温度等が高く、燐光発光材料及び形成された発光層の耐熱性に優れる点、及び、ガス発生、再結晶化及び分子のマイグレーション等に起因する膜質の低下や材料の熱分解に伴う不純物濃度の上昇等が起こり難い点では大きいことが好ましい。一方、燐光発光材料の分子量は、有機化合物の精製が容易である点では小さいことが好ましい。 The molecular weight of the phosphorescent light-emitting material has a high Tg, melting point, decomposition temperature, etc., and the phosphorescent light-emitting material and the formed light-emitting layer have excellent heat resistance, and the film quality due to gas generation, recrystallization, molecular migration, etc. A large value is preferable from the viewpoint that it is difficult to cause a decrease in the concentration of impurities and an increase in the concentration of impurities due to thermal decomposition of the material. On the other hand, the molecular weight of the phosphorescent light-emitting material is preferably small in terms of facilitating purification of the organic compound.

<電荷輸送材料>
本発明の組成物が発光層形成用組成物である場合、さらなるホスト材料として電荷輸送材料を含有することが好ましい。
<Charge transport material>
When the composition of the present invention is a composition for forming a light-emitting layer, it preferably contains a charge-transporting material as an additional host material.

発光層のホスト材料として用いられる電荷輸送材料は、電荷輸送性に優れる骨格を有する材料であり、電子輸送性材料、正孔輸送性材料及び電子と正孔の両方を輸送可能な両極性材料から選ばれることが好ましい。 The charge-transporting material used as the host material of the light-emitting layer is a material having a skeleton with excellent charge-transporting properties, and is composed of an electron-transporting material, a hole-transporting material, and a bipolar material capable of transporting both electrons and holes. preferably selected.

電荷輸送性に優れる骨格としては、具体的には、芳香族構造、芳香族アミン構造、トリアリールアミン構造、ジベンゾフラン構造、ナフタレン構造、フェナントレン構造、フタロシアニン構造、ポルフィリン構造、チオフェン構造、ベンジルフェニル構造、フルオレン構造、キナクリドン構造、トリフェニレン構造、カルバゾール構造、ピレン構造、アントラセン構造、フェナントロリン構造、キノリン構造、ピリジン構造、ピリミジン構造、トリアジン構造、オキサジアゾール構造又はイミダゾール構造等が挙げられる。 Specific examples of skeletons with excellent charge transport properties include aromatic structures, aromatic amine structures, triarylamine structures, dibenzofuran structures, naphthalene structures, phenanthrene structures, phthalocyanine structures, porphyrin structures, thiophene structures, benzylphenyl structures, fluorene structure, quinacridone structure, triphenylene structure, carbazole structure, pyrene structure, anthracene structure, phenanthroline structure, quinoline structure, pyridine structure, pyrimidine structure, triazine structure, oxadiazole structure, imidazole structure, and the like.

本発明の組成物において、前記式(1)で表される本発明の化合物が電子輸送性材料として機能するため、さらに電荷輸送材料として正孔輸送性材料を含むことが好ましい。正孔輸送性材料は、正孔輸送性に優れた構造を有する化合物であり、前記電荷輸送性に優れる骨格の中でも、カルバゾール構造、ジベンゾフラン構造、トリアリールアミン構造、ナフタレン構造、フェナントレン構造又はピレン構造が正孔輸送性に優れた構造として好ましく、カルバゾール構造、ジベンゾフラン構造又はトリアリールアミン構造がさらに好ましい。 Since the compound of the present invention represented by the formula (1) functions as an electron-transporting material, the composition of the present invention preferably further contains a hole-transporting material as a charge-transporting material. A hole-transporting material is a compound having a structure with excellent hole-transporting properties, and among the skeletons with excellent charge-transporting properties, a carbazole structure, a dibenzofuran structure, a triarylamine structure, a naphthalene structure, a phenanthrene structure, or a pyrene structure. is preferable as a structure having excellent hole-transporting properties, and a carbazole structure, a dibenzofuran structure, or a triarylamine structure is more preferable.

発光層のホスト材料として用いられる電荷輸送材料は、3環以上の縮合環構造を有する化合物であることが好ましく、3環以上の縮合環構造を2以上有する化合物又は5環以上の縮合環を少なくとも1つ有する化合物であることがさらに好ましい。これらの化合物であることで、分子の剛直性が増し、熱に応答する分子運動の程度を抑制する効果が得られ易くなる。さらに、3環以上の縮合環及び5環以上の縮合環は、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有することが電荷輸送性及び材料の耐久性の点で好ましい。 The charge-transporting material used as the host material of the light-emitting layer is preferably a compound having a condensed ring structure of three or more rings, and at least a compound having two or more condensed ring structures of three or more rings or a condensed ring of five or more rings. Compounds having one are more preferred. These compounds increase the rigidity of the molecules, making it easier to obtain the effect of suppressing the degree of molecular motion in response to heat. Furthermore, the 3 or more condensed rings and the 5 or more condensed rings preferably have an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring from the viewpoint of charge transportability and material durability.

3環以上の縮合環構造としては、具体的には、アントラセン構造、フェナントレン構造、ピレン構造、クリセン構造、ナフタセン構造、トリフェニレン構造、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、インデノフルオレン構造、インドロフルオレン構造、カルバゾール構造、インデノカルバゾール構造、インドロカルバゾール構造、ジベンゾフラン構造、ジベンゾチオフェン構造等が挙げられる。
電荷輸送性ならびに溶解性の観点から、フェナントレン構造、フルオレン構造、インデノフルオレン構造、カルバゾール構造、インデノカルバゾール構造、インドロカルバゾール構造、ジベンゾフラン構造及びジベンゾチオフェン構造からなる群より選択される少なくとも1つが好ましく、電荷に対する耐久性の観点から、カルバゾール構造又はインドロカルバゾール構造がさらに好ましい。
Specific examples of condensed ring structures having three or more rings include anthracene structure, phenanthrene structure, pyrene structure, chrysene structure, naphthacene structure, triphenylene structure, fluorene structure, benzofluorene structure, indenofluorene structure, indolofluorene structure, Carbazole structure, indenocarbazole structure, indolocarbazole structure, dibenzofuran structure, dibenzothiophene structure and the like.
At least one selected from the group consisting of a phenanthrene structure, a fluorene structure, an indenofluorene structure, a carbazole structure, an indenocarbazole structure, an indolocarbazole structure, a dibenzofuran structure, and a dibenzothiophene structure, from the viewpoints of charge transportability and solubility. A carbazole structure or an indolocarbazole structure is more preferred from the viewpoint of resistance to electric charge.

発光層のホスト材料として用いられる電荷輸送材料は、可撓性に優れる観点では高分子材料であることが好ましい。可撓性に優れる材料を用いて形成された発光層は、フレキシブル基板上に形成された有機電界発光素子の発光層として好ましい。発光層に含まれるホスト材料として用いられる電荷輸送材料が高分子材料である場合、分子量は、好ましくは5,000以上1,000,000以下、さらに好ましくは10,000以上、500,000以下、より好ましくは10,000以上100,000以下である。 The charge-transporting material used as the host material of the light-emitting layer is preferably a polymeric material from the viewpoint of excellent flexibility. A light-emitting layer formed using a material having excellent flexibility is preferable as a light-emitting layer of an organic electroluminescent device formed on a flexible substrate. When the charge-transporting material used as the host material contained in the light-emitting layer is a polymeric material, the molecular weight is preferably 5,000 or more and 1,000,000 or less, more preferably 10,000 or more and 500,000 or less, It is more preferably 10,000 or more and 100,000 or less.

また、発光層のホスト材料として用いられる電荷輸送材料は、合成及び精製のしやすさ、電子輸送性能及び正孔輸送性能の設計のしやすさ、有機溶剤に溶解した時の粘度調整のしやすさの観点から、低分子であることが好ましい。発光層に含まれるホスト材料として用いられる電荷輸送材料が低分子材料である場合、分子量は、5,000以下が好ましく、さらに好ましくは4,000以下であり、特に好ましくは3,000以下であり、最も好ましくは2,000以下であり、通常800以上、好ましくは900以上であり、発光層上に接して形成する層が湿式成膜法にて形成される場合は、好ましくは1000以上であり、さらに好ましくは1100以上であり、特に好ましくは1200以上である。 In addition, the charge transport material used as the host material of the light-emitting layer is easy to synthesize and purify, easy to design the electron transport performance and hole transport performance, and easy to adjust the viscosity when dissolved in an organic solvent. It is preferably a low-molecular-weight compound from the viewpoint of flexibility. When the charge-transporting material used as the host material contained in the light-emitting layer is a low-molecular-weight material, the molecular weight is preferably 5,000 or less, more preferably 4,000 or less, and particularly preferably 3,000 or less. , most preferably 2,000 or less, usually 800 or more, preferably 900 or more, and preferably 1000 or more when the layer formed in contact with the light emitting layer is formed by a wet film formation method. , more preferably 1100 or more, and particularly preferably 1200 or more.

<その他の成分>
本発明の組成物は、前述した有機溶剤及び発光材料以外にも、必要に応じて、各種の他の溶剤を含んでいてもよい。このような他の溶剤としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
<Other ingredients>
The composition of the present invention may optionally contain various other solvents in addition to the organic solvent and light-emitting material described above. Examples of such other solvents include amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, and dimethylsulfoxide.

また、本発明の組成物は、レベリング剤や消泡剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
更に、2層以上の層を湿式成膜法により積層する際に、これらの層が相溶することを防ぐため、成膜後に硬化させて不溶化させる目的で光硬化性樹脂や、熱硬化性樹脂を含有させておくこともできる。
Moreover, the composition of the present invention may contain various additives such as a leveling agent and an antifoaming agent.
Furthermore, when laminating two or more layers by a wet film formation method, in order to prevent these layers from becoming compatible, a photocurable resin or a thermosetting resin is used for the purpose of curing and insolubilizing after film formation. can also be included.

<配合比>
本発明の組成物中の固形分濃度(本発明の化合物、発光材料、本発明の化合物以外のホスト材料及び必要に応じて添加可能な成分(レベリング剤など)などを含む全ての固形分の濃度)は、通常0.01質量%以上、好ましくは0.05質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは0.5質量%以上、最も好ましくは1質量%以上であり、通常80質量%以下、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは30質量%以下、最も好ましくは20質量%以下である。
固形分濃度がこの範囲であると、所望の膜厚の薄膜を均一な厚みで形成しやすく、好ましい。
<Blending ratio>
Solid content concentration in the composition of the present invention (compound of the present invention, luminescent material, host material other than the compound of the present invention, and optionally additive components (leveling agent, etc.) Concentration of all solids ) is usually 0.01% by mass or more, preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, still more preferably 0.5% by mass or more, and most preferably 1% by mass or more, It is usually 80% by mass or less, preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, even more preferably 30% by mass or less, and most preferably 20% by mass or less.
When the solid content concentration is within this range, it is easy to form a thin film having a desired film thickness with a uniform thickness, which is preferable.

本発明の組成物に含まれる全ホスト材料に対する本発明の化合物及び発光材料の好ましい配合比、即ち、本発明の組成物を用いて形成される発光層(以下、「本発明の発光層」と称す場合がある。)に含まれる全ホスト材料に対する発明の化合物及び発光材料の好ましい配合比は、以下の通りである。尚、全ホスト材料とは、本発明の化合物及び本発明の化合物以外の全てのホスト材料のことを指す。 A preferred compounding ratio of the compound of the present invention and the light-emitting material to all the host materials contained in the composition of the present invention, that is, a light-emitting layer formed using the composition of the present invention (hereinafter referred to as the "light-emitting layer of the present invention") A preferred compounding ratio of the compound of the invention and the light-emitting material to the total host material contained in the compound is as follows. All host materials refer to the compounds of the present invention and all host materials other than the compounds of the present invention.

本発明の組成物及び本発明の発光層における、全ホスト材料の質量100に対する本発明の化合物の質量比は、通常5以上、好ましくは10以上、より好ましくは15以上であり、通常99以下、好ましくは95以下、より好ましくは90以下であり、さらに好ましくは80以下、特に好ましくは70以下である。 In the composition of the present invention and the light-emitting layer of the present invention, the mass ratio of the compound of the present invention to 100 mass of all host materials is usually 5 or more, preferably 10 or more, more preferably 15 or more, and usually 99 or less. It is preferably 95 or less, more preferably 90 or less, still more preferably 80 or less, and particularly preferably 70 or less.

また、本発明の組成物及び本発明の発光層における、全ホスト材料に対する本発明の化合物のモル比は通常5モル%以上、好ましくは10モル%以上、より好ましくは20モル%以上、さらに好ましくは25モル%以上、特に好ましくは30モル%以上であり、通常90モル%以下、好ましくは80モル%以下、より好ましくは70モル%以下、特に好ましくは60モル%以下である。 In addition, in the composition of the present invention and the light emitting layer of the present invention, the molar ratio of the compound of the present invention to the total host material is usually 5 mol% or more, preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, and still more preferably. is 25 mol% or more, particularly preferably 30 mol% or more, and usually 90 mol% or less, preferably 80 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, and particularly preferably 60 mol% or less.

本発明の組成物及び本発明の発光層における、全ホスト材料の質量100に対する発光材料の質量比は、通常0.1以上、好ましくは0.5以上、より好ましくは1以上、特に好ましくは2以上であり、通常100以下、好ましくは60以下、より好ましくは50以下、特に好ましくは40以下である。この比が上記下限を下回ったり、上記上限を超えたりすると、著しく発光効率が低下する恐れがある。 In the composition of the present invention and the light-emitting layer of the present invention, the mass ratio of the light-emitting material to 100 of the mass of all the host materials is usually 0.1 or more, preferably 0.5 or more, more preferably 1 or more, and particularly preferably 2. It is 100 or less, preferably 60 or less, more preferably 50 or less, and particularly preferably 40 or less. If this ratio falls below the above lower limit or exceeds the above upper limit, the luminous efficiency may significantly decrease.

<組成物の調製方法>
本発明の組成物は、本発明の化合物、必要に応じて前述した発光材料及び本発明の化合物以外のホスト材料、更に必要に応じて添加可能なレベリング剤や消泡剤等の各種添加成分よりなる溶質を、前述した適当な有機溶剤に溶解させることにより調製される。
<Method for preparing composition>
The composition of the present invention comprises the compound of the present invention, if necessary the light-emitting material described above and a host material other than the compound of the present invention, and various additive components such as a leveling agent and an antifoaming agent that can be added as necessary. It is prepared by dissolving the solute in a suitable organic solvent as described above.

この溶解工程に要する時間を短縮するため、及び本発明の組成物中の溶質濃度を均一に保つため、通常、液を撹拌しながら溶質を溶解させる。溶解工程は常温で行ってもよいが、溶解速度が遅い場合は加熱して溶解させることもできる。溶解工程終了後、必要に応じて、フィルタリング等の濾過工程を経由してもよい。 In order to shorten the time required for this dissolving step and to keep the solute concentration in the composition of the present invention uniform, the solute is usually dissolved while stirring the liquid. The dissolution step may be performed at room temperature, but if the dissolution rate is slow, the dissolution may be performed by heating. After completion of the dissolving step, a filtering step such as filtering may be performed as necessary.

<組成物の性状、物性等>
(水分濃度)
有機電界発光素子を、本発明の組成物を用いた湿式成膜法により層形成して製造する場合、組成物中に水分が存在すると、形成された膜に水分が混入して膜の均一性が損なわれるため、本発明の組成物中の水分含有量はできるだけ少ない方が好ましい。また一般に、有機電界発光素子には、陰極等の水分により著しく劣化する材料が多く使用されているため、組成物中に水分が存在した場合、乾燥後の膜中に水分が残留し、素子の特性を低下させる可能性が考えられ好ましくない。
<Characteristics, physical properties, etc. of the composition>
(moisture concentration)
When an organic electroluminescence device is produced by forming layers by a wet film-forming method using the composition of the present invention, if water is present in the composition, the formed film will be contaminated with water, resulting in poor film uniformity. It is preferred that the water content in the compositions of the present invention is as low as possible, as this impairs the In general, organic electroluminescence devices use many materials such as cathodes that are significantly deteriorated by moisture. Possibility of deteriorating the characteristics is considered, which is not preferable.

具体的には、本発明の組成物中に含まれる水分量は、通常1質量%以下、好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下である。 Specifically, the amount of water contained in the composition of the present invention is usually 1% by mass or less, preferably 0.1% by mass or less, and more preferably 0.01% by mass or less.

組成物中の水分濃度の測定方法としては、日本工業規格「化学製品の水分測定法」(JIS K0068:2001)に記載の方法が好ましく、例えば、カールフィッシャー試薬法(JIS K0211-1348)等により分析することができる。 As a method for measuring the water concentration in the composition, the method described in Japanese Industrial Standards "Method for Determining Moisture in Chemical Products" (JIS K0068: 2001) is preferable, for example, by the Karl Fischer reagent method (JIS K0211-1348). can be analyzed.

(均一性)
本発明の組成物は、湿式成膜プロセスでの安定性、例えば、インクジェット成膜法におけるノズルからの吐出安定性を高めるためには、常温で均一な液状であることが好ましい。常温で均一な液状とは、組成物が均一相からなる液体であり、かつ組成物中に粒径0.1μm以上の粒子成分を含有しないことをいう。
(uniformity)
The composition of the present invention is preferably in a uniform liquid state at room temperature in order to improve stability in a wet film formation process, for example, ejection stability from a nozzle in an inkjet film formation method. The uniform liquid state at normal temperature means that the composition is a liquid consisting of a uniform phase and does not contain a particle component having a particle size of 0.1 μm or more in the composition.

(物性)
本発明の組成物の粘度が極端に低粘度の場合は、例えば成膜工程における過度の液膜流動による塗面不均一、インクジェット成膜におけるノズル吐出不良等が起こりやすくなる。本発明の組成物の粘度が極端に高粘度の場合は、インクジェット成膜におけるノズル目詰まり等が起こりやすくなる。
このため、本発明の組成物の25℃における粘度は、通常2mPa・s以上、好ましくは3mPa・s以上、より好ましくは5mPa・s以上であり、通常1000mPa・s以下、好ましくは100mPa・s以下、より好ましくは50mPa・s以下である。
(physical properties)
When the viscosity of the composition of the present invention is extremely low, for example, excessive liquid film flow in the film formation process tends to cause non-uniformity of the coated surface, nozzle discharge failure in ink jet film formation, and the like. If the viscosity of the composition of the present invention is extremely high, nozzle clogging and the like tend to occur during inkjet film formation.
Therefore, the viscosity of the composition of the present invention at 25° C. is usually 2 mPa·s or more, preferably 3 mPa·s or more, more preferably 5 mPa·s or more, and usually 1000 mPa·s or less, preferably 100 mPa·s or less. , more preferably 50 mPa·s or less.

また、本発明の組成物の表面張力が高い場合は、基板に対する濡れ性が低下する、液膜のレベリング性が悪く、乾燥時の成膜面乱れが起こりやすくなる等の問題が発生する場合がある。
このため、本発明の組成物の20℃における表面張力は、通常50mN/m未満、好ましくは40mN/m未満である。
In addition, when the surface tension of the composition of the present invention is high, problems such as a decrease in wettability with respect to the substrate, poor leveling of the liquid film, and susceptibility to disturbance of the film formation surface during drying may occur. be.
Therefore, the surface tension at 20° C. of the composition of the invention is usually less than 50 mN/m, preferably less than 40 mN/m.

更に、本発明の組成物の蒸気圧が高い場合は、有機溶剤の蒸発による溶質濃度の変化等の問題が起こりやすくなる場合がある。
このため、本発明の組成物の25℃における蒸気圧は、通常50mmHg以下、好ましくは10mmHg以下、より好ましくは1mmHg以下である。
Furthermore, when the vapor pressure of the composition of the present invention is high, problems such as a change in solute concentration due to evaporation of the organic solvent may easily occur.
Therefore, the vapor pressure at 25° C. of the composition of the present invention is usually 50 mmHg or less, preferably 10 mmHg or less, more preferably 1 mmHg or less.

[薄膜形成方法]
本発明の薄膜形成方法における本発明の組成物による成膜方法は、湿式成膜法である。
湿式成膜法とは、組成物を塗布して液膜を形成し、乾燥して有機溶剤を除去し、膜を形成する方法である。本発明の組成物が発光材料を含む場合、この方法で発光層を形成することが出来る。
塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、キャピラリーコート法、インクジェット法、ノズルプリンティング法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法等の湿式で成膜させる方法を採用し、塗布膜を乾燥させて膜形成を行う。これらの成膜方法の中でも、スピンコート法、スプレーコート法、インクジェット法、ノズルプリンティング法等が好ましい。有機電界発光素子を備えた有機EL表示装置を製造する場合は、インクジェット法又はノズルプリンティング法が好ましく、インクジェット法が特に好ましい。
[Thin film formation method]
The film forming method using the composition of the present invention in the thin film forming method of the present invention is a wet film forming method.
The wet film-forming method is a method in which a composition is applied to form a liquid film, dried to remove the organic solvent, and a film is formed. If the composition of the present invention contains a light-emitting material, the light-emitting layer can be formed by this method.
Examples of coating methods include spin coating, dip coating, die coating, bar coating, blade coating, roll coating, spray coating, capillary coating, inkjet, nozzle printing, screen printing, and gravure. A wet film-forming method such as a printing method or a flexographic printing method is employed, and the coating film is dried to form a film. Among these film forming methods, the spin coating method, the spray coating method, the inkjet method, the nozzle printing method, and the like are preferable. When manufacturing an organic EL display device having an organic electroluminescence element, an inkjet method or a nozzle printing method is preferable, and an inkjet method is particularly preferable.

乾燥方法は特に限定されないが、自然乾燥、減圧乾燥、加熱乾燥、又は、加熱しながらの減圧乾燥を適宜用いることができる。加熱乾燥は、自然乾燥又は減圧乾燥の後、更に残留有機溶剤を除去するために実施してもよい。
減圧乾燥では、本発明の組成物に含まれる有機溶剤の蒸気圧以下に減圧することが好ましい。
加熱乾燥する場合、加熱方法は特に限定されないが、ホットプレートによる加熱、オーブン内での加熱、赤外線加熱等を用いることができる。
加熱温度は通常80℃以上で、100℃以上が好ましく、110℃以上がより好ましく、また、200℃以下が好ましく、150℃以下がより好ましい。
加熱時間は、通常1分以上であり、2分以上が好ましく、通常60分以下であり、30分以下が好ましく、20分以下がより好ましい。
Although the drying method is not particularly limited, natural drying, drying under reduced pressure, drying by heating, or drying under reduced pressure while heating can be used as appropriate. Heat drying may be carried out in order to further remove residual organic solvents after natural drying or vacuum drying.
In drying under reduced pressure, it is preferable to reduce the pressure below the vapor pressure of the organic solvent contained in the composition of the present invention.
When drying by heating, the heating method is not particularly limited, but heating with a hot plate, heating in an oven, infrared heating, or the like can be used.
The heating temperature is usually 80° C. or higher, preferably 100° C. or higher, more preferably 110° C. or higher, and preferably 200° C. or lower, more preferably 150° C. or lower.
The heating time is generally 1 minute or longer, preferably 2 minutes or longer, generally 60 minutes or shorter, preferably 30 minutes or shorter, and more preferably 20 minutes or shorter.

後述するように、有機電界発光素子では、発光層上に電子輸送層を形成する。本発明においては、本発明の組成物を用いて湿式成膜法により発光層を形成し、該発光層上に接して電子輸送層等の層を湿式成膜法で形成することが好ましい。
発光層に接して電子輸送層を湿式成膜法で形成する場合に用いる電子輸送層形成用組成物は、少なくとも電子輸送層材料及び有機溶剤を含む。この電子輸送層形成用組成物の有機溶剤としては、本発明の化合物が難溶で耐溶剤性に優れることからアルコール系溶剤(アルコール性水酸基を有する溶剤)が好ましい。また、電子輸送層形成用組成物の電子輸送層材料としては、このようなアルコール系溶剤に可溶である電子輸送性材料が好ましい。
電子輸送層形成用組成物の溶剤として用いるアルコール系溶剤としては、電子輸送性材料を溶解しやすい点及び、適度に高い沸点を有し、平坦な膜を形成しやすい点から、炭素数6以上のアルキルアルコールが好ましい。
As will be described later, in the organic electroluminescent device, an electron transport layer is formed on the light emitting layer. In the present invention, it is preferred that the composition of the present invention is used to form a light-emitting layer by a wet film-forming method, and a layer such as an electron transport layer is formed in contact with the light-emitting layer by a wet film-forming method.
The composition for forming an electron transport layer, which is used when the electron transport layer is formed in contact with the light-emitting layer by a wet film-forming method, contains at least an electron transport layer material and an organic solvent. As the organic solvent for the electron-transporting layer-forming composition, an alcohol-based solvent (a solvent having an alcoholic hydroxyl group) is preferable because the compound of the present invention is sparingly soluble and has excellent solvent resistance. As the electron transport layer material of the electron transport layer-forming composition, an electron transport material soluble in such an alcohol-based solvent is preferable.
The alcohol-based solvent used as the solvent for the electron-transporting layer-forming composition has 6 or more carbon atoms because it easily dissolves the electron-transporting material, has a moderately high boiling point, and is easy to form a flat film. Alkyl alcohols of are preferred.

湿式成膜法による電子輸送層形成方法は、前記発光層の成膜方法で述べた湿式成膜法を用いることが好ましい。 As for the method for forming the electron transport layer by the wet film forming method, it is preferable to use the wet film forming method described in the method for forming the light emitting layer.

[有機電界発光素子]
本発明の有機電界発光素子の構造の一例として、図1に有機電界発光素子8の構造例の模式図(断面)を示す。図1において、1は基板、2は陽極、3は正孔注入層、4は正孔輸送層、5は発光層、6は電子輸送層、7は陰極を各々表す。
[Organic electroluminescent device]
As an example of the structure of the organic electroluminescence device of the present invention, FIG. 1 shows a schematic diagram (cross section) of a structural example of the organic electroluminescence device 8 . In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, 4 is a hole transport layer, 5 is a light emitting layer, 6 is an electron transport layer, and 7 is a cathode.

<基板>
基板1は、有機電界発光素子の支持体となるものであり、通常、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が用いられる。これらのうち、ガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン等の透明な合成樹脂の板が好ましい。基板は、外気による有機電界発光素子の劣化が起こり難いことからガスバリア性の高い材質とするのが好ましい。このため、特に合成樹脂製の基板等のようにガスバリア性の低い材質を用いる場合は、基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を上げるのが好ましい。
<Substrate>
The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescence element, and is usually made of a quartz or glass plate, a metal plate or metal foil, a plastic film or sheet, or the like. Among these, glass plates and transparent synthetic resin plates such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate and polysulfone are preferred. The substrate is preferably made of a material having a high gas barrier property because deterioration of the organic electroluminescence element due to outside air is unlikely to occur. Therefore, especially when using a material having low gas barrier properties such as a synthetic resin substrate, it is preferable to provide a dense silicon oxide film or the like on at least one side of the substrate to improve the gas barrier properties.

<陽極>
陽極2は、発光層5側の層に正孔を注入する機能を担う。
<Anode>
The anode 2 has the function of injecting holes into the layer on the light-emitting layer 5 side.

陽極2は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属;インジウム及び/又はスズの酸化物等の金属酸化物;ヨウ化銅等のハロゲン化金属;カーボンブラック及びポリ(3-メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。 Anode 2 is typically made of metals such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, platinum; metal oxides such as indium and/or tin oxide; metal halides such as copper iodide; carbon black and poly(3 -methylthiophene), polypyrrole, and polyaniline.

陽極2の形成は、通常、スパッタリング法、真空蒸着法等の乾式法により行われることが多い。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅等の微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極を形成する場合には、適当なバインダー樹脂溶液に分散させて、基板上に塗布することにより形成することもできる。また、導電性高分子の場合は、電解重合により直接基板上に薄膜を形成したり、基板上に導電性高分子を塗布して陽極を形成することもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。 The anode 2 is usually formed by a dry method such as a sputtering method or a vacuum deposition method. In addition, when the anode is formed using metal fine particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, conductive polymer fine powder, etc., an appropriate binder resin solution may be used. It can also be formed by dispersing and coating on a substrate. In the case of a conductive polymer, a thin film can be formed directly on a substrate by electrolytic polymerization, or an anode can be formed by coating a conductive polymer on a substrate (Appl. Phys. Lett., 60 2711, 1992).

陽極2は、通常、単層構造であるが、適宜、積層構造としてもよい。陽極2が積層構造である場合、1層目の陽極上に異なる導電材料を積層してもよい。 The anode 2 usually has a single-layer structure, but may have a laminated structure as appropriate. When the anode 2 has a laminated structure, different conductive materials may be laminated on the first layer of the anode.

陽極2の厚みは、必要とされる透明性と材質等に応じて決めればよい。特に高い透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率が60%以上となる厚みが好ましく、可視光の透過率が80%以上となる厚みが更に好ましい。この場合、陽極2の厚みは、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下である。一方、透明性が不要な場合は、陽極2の厚みは必要な強度等に応じて任意に厚みとすればよく、この場合、陽極2は基板と同一の厚みでもよい。 The thickness of the anode 2 may be determined according to the required transparency and material. When particularly high transparency is required, the thickness is preferably such that the visible light transmittance is 60% or more, and more preferably the thickness is such that the visible light transmittance is 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less. On the other hand, when transparency is not required, the thickness of the anode 2 may be arbitrarily set according to the required strength, etc. In this case, the thickness of the anode 2 may be the same as that of the substrate.

陽極2の表面に他の層を成膜する場合は、成膜前に、紫外線/オゾン、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ等の処理を施すことにより、陽極2上の不純物を除去すると共に、そのイオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させておくことが好ましい。 When another layer is formed on the surface of the anode 2, the impurity on the anode 2 is removed and its ionization potential is changed by treating with ultraviolet rays/ozone, oxygen plasma, argon plasma, etc. before the film formation. is preferably adjusted to improve the hole injection property.

<正孔注入層>
陽極2側から発光層5側に正孔を輸送する機能を担う層は、通常、正孔注入輸送層又は正孔輸送層と呼ばれる。そして、陽極2側から発光層5側に正孔を輸送する機能を担う層が2層以上ある場合に、より陽極2側に近い方の層を正孔注入層3と呼ぶことがある。正孔注入層3は、陽極2から発光層5側に正孔を輸送する機能を強化する点で、形成されることが好ましい。正孔注入層3を形成する場合、通常、正孔注入層3は、陽極2上に形成される。
<Hole injection layer>
A layer that functions to transport holes from the anode 2 side to the light emitting layer 5 side is usually called a hole injection transport layer or a hole transport layer. When there are two or more layers that have a function of transporting holes from the anode 2 side to the light emitting layer 5 side, the layer closer to the anode 2 side may be called the hole injection layer 3 . The hole injection layer 3 is preferably formed in order to enhance the function of transporting holes from the anode 2 to the light emitting layer 5 side. When forming the hole injection layer 3 , the hole injection layer 3 is usually formed on the anode 2 .

正孔注入層3の膜厚は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下である。 The film thickness of the hole injection layer 3 is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less.

正孔注入層の形成方法は、真空蒸着法でも、湿式成膜法でもよい。成膜性が優れる点では、湿式成膜法により形成することが好ましい。 A method for forming the hole injection layer may be a vacuum deposition method or a wet film formation method. From the viewpoint of excellent film-forming properties, it is preferable to form the film by a wet film-forming method.

以下に、一般的な正孔注入層の形成方法について説明するが、本発明の有機電界発光素子において、正孔注入層3は、以下の正孔注入層形成用組成物を用いて湿式成膜法により形成されることが好ましい。 A general method for forming a hole injection layer will be described below. It is preferably formed by a method.

正孔注入層形成用組成物は、通常、正孔注入層3となる正孔注入層用正孔輸送性化合物を含む。また、正孔注入層形成用組成物は、湿式成膜法の場合は、通常、更に有機溶剤も含む。正孔注入層形成用組成物は、正孔輸送性が高く、注入された正孔を効率よく輸送できるのが好ましい。このため、正孔移動度が大きく、トラップとなる不純物が製造時や使用時等に発生し難いことが好ましい。また、安定性に優れ、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光に対する透明性が高いことが好ましい。特に、正孔注入層が発光層と接する場合は、発光層からの発光を消光しないものや発光層とエキサイプレックスを形成して、発光効率を低下させないものが好ましい。 The composition for forming a hole injection layer usually contains a hole transporting compound for a hole injection layer which will become the hole injection layer 3 . In the case of the wet film-forming method, the hole injection layer-forming composition usually further contains an organic solvent. It is preferable that the composition for forming a hole injection layer has a high hole-transporting property and can efficiently transport the injected holes. For this reason, it is preferable that the hole mobility is large and that impurities that become traps are less likely to occur during manufacture or use. Moreover, it is preferable that it has excellent stability, a small ionization potential, and a high transparency to visible light. In particular, when the hole injection layer is in contact with the light-emitting layer, it is preferable to use a material that does not quench light emitted from the light-emitting layer or that forms an exciplex with the light-emitting layer so as not to lower the light emission efficiency.

正孔注入層用正孔輸送性化合物としては、陽極から正孔注入層への電荷注入障壁の観点から、4.5eV~6.0eVのイオン化ポテンシャルを有する化合物が好ましい。このような正孔輸送性化合物の例としては、芳香族アミン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、オリゴチオフェン系化合物、ポリチオフェン系化合物、ベンジルフェニル系化合物、フルオレン基で3級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン系化合物、シラザン系化合物、キナクリドン系化合物等が挙げられる。 As the hole-transporting compound for the hole-injection layer, a compound having an ionization potential of 4.5 eV to 6.0 eV is preferable from the viewpoint of a charge injection barrier from the anode to the hole-injection layer. Examples of such hole-transporting compounds include aromatic amine-based compounds, phthalocyanine-based compounds, porphyrin-based compounds, oligothiophene-based compounds, polythiophene-based compounds, benzylphenyl-based compounds, and tertiary amines linked with fluorene groups. compounds, hydrazone-based compounds, silazane-based compounds, quinacridone-based compounds, and the like.

上述の例示化合物のうち、非晶質性及び可視光透過性の点から、芳香族アミン化合物が好ましく、芳香族三級アミン化合物が特に好ましい。ここで、芳香族三級アミン化合物とは、芳香族三級アミン構造を有する化合物であって、芳香族三級アミン由来の基を有する化合物も含む。 Among the exemplified compounds described above, aromatic amine compounds are preferred, and aromatic tertiary amine compounds are particularly preferred, from the viewpoints of amorphousness and visible light transmittance. Here, the aromatic tertiary amine compound is a compound having an aromatic tertiary amine structure, and includes a compound having a group derived from an aromatic tertiary amine.

芳香族三級アミン化合物の種類は、特に制限されないが、表面平滑化効果により均一な発光を得やすい点から、重量平均分子量が1000以上、1000000以下の高分子化合物(繰り返し単位が連なる重合型化合物)を用いることが好ましい。 The type of the aromatic tertiary amine compound is not particularly limited, but from the viewpoint of easily obtaining uniform light emission due to the surface smoothing effect, a polymer compound having a weight average molecular weight of 1000 or more and 1000000 or less (polymeric compound in which repeating units are linked) ) is preferably used.

湿式成膜法により正孔注入層3を形成する場合、通常、正孔注入層3となる材料を溶解できる有機溶剤(正孔注入層用溶剤)と混合して成膜用の組成物(正孔注入層形成用組成物)を調製する。そして、この正孔注入層形成用組成物を正孔注入層3の下層に該当する層(通常は、陽極2)上に塗布して成膜し、乾燥させることにより正孔注入層3を形成する。 When the hole injection layer 3 is formed by a wet film-forming method, the film-forming composition (positive A composition for forming a hole injection layer) is prepared. Then, the hole injection layer 3 is formed by applying this composition for forming a hole injection layer onto a layer corresponding to the lower layer of the hole injection layer 3 (usually, the anode 2) to form a film, followed by drying. do.

正孔注入層形成用組成物中における正孔輸送性化合物の濃度は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、膜厚の均一性の点では、低い方が好ましく、また、一方、正孔注入層3に欠陥が生じ難い点では、高い方が好ましい。具体的には、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのが更に好ましく、0.5質量%以上であるのが特に好ましく、一方、70質量%以下であるのが好ましく、60質量%以下であるのが更に好ましく、50質量%以下であるのが特に好ましい。 The concentration of the hole-transporting compound in the hole-injection layer-forming composition is arbitrary as long as it does not significantly impair the effects of the present invention. , a higher value is preferable from the viewpoint that defects are less likely to occur in the hole injection layer 3 . Specifically, it is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, and particularly preferably 0.5% by mass or more. It is preferably 60% by mass or less, and particularly preferably 50% by mass or less.

有機溶剤としては、例えば、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、アミド系溶剤等が挙げられる。 Examples of organic solvents include ether-based solvents, ester-based solvents, aromatic hydrocarbon-based solvents, and amide-based solvents.

エーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール-1-モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル及び1,2-ジメトキシベンゼン、1,3-ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2-メトキシトルエン、3-メトキシトルエン、4-メトキシトルエン、2,3-ジメチルアニソール、2,4-ジメチルアニソール等の芳香族エーテル等が挙げられる。 Examples of ether-based solvents include aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA), 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, and anisole. , phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole and 2,4-dimethylanisole.

エステル系溶剤としては、例えば、酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n-ブチル等の芳香族エステル等が挙げられる。 Examples of ester solvents include aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate and n-butyl benzoate.

芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、3-イソプロピルビフェニル、1,2,3,4-テトラメチルベンゼン、1,4-ジイソプロピルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、メチルナフタレン等が挙げられる。 Examples of aromatic hydrocarbon solvents include toluene, xylene, cyclohexylbenzene, 3-isopropylbiphenyl, 1,2,3,4-tetramethylbenzene, 1,4-diisopropylbenzene, cyclohexylbenzene, and methylnaphthalene. be done.

アミド系溶剤としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等が挙げられる。 Examples of amide solvents include N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide.

これらの他、ジメチルスルホキシド等も用いることができる。 In addition to these, dimethyl sulfoxide and the like can also be used.

正孔注入層3の湿式成膜法による形成は、通常、正孔注入層形成用組成物を調製後に、これを、正孔注入層3の下層に該当する層(通常は、陽極2)上に塗布成膜し、乾燥することにより行われる。 Formation of the hole injection layer 3 by a wet film-forming method is usually carried out by preparing a composition for forming a hole injection layer and then applying it on a layer corresponding to the lower layer of the hole injection layer 3 (usually the anode 2). It is carried out by coating and forming a film on the surface and drying it.

正孔注入層3は、通常、成膜後に、加熱や減圧乾燥等により塗布膜を乾燥させる。 After forming the hole injection layer 3, the coating film is usually dried by heating, drying under reduced pressure, or the like.

真空蒸着法により正孔注入層3を形成する場合には、通常、正孔注入層3の構成材料の1種類又は2種類以上を真空容器内に設置された坩堝に入れ(2種類以上の材料を用いる場合は、通常各々を別々の坩堝に入れ)、真空容器内を真空ポンプで10-4Pa程度まで排気する。その後、坩堝を加熱して(2種類以上の材料を用いる場合は、通常各々の坩堝を加熱して)、坩堝内の材料の蒸発量を制御しながら蒸発させ(2種類以上の材料を用いる場合は、通常それぞれ独立して蒸発量を制御しながら蒸発させ)、坩堝に向き合って置かれた基板1上の陽極2上に正孔注入層3を形成する。なお、2種類以上の材料を用いる場合は、それらの混合物を坩堝に入れ、加熱、蒸発させて正孔注入層3を形成することもできる。 When the hole injection layer 3 is formed by a vacuum deposition method, one or more of the constituent materials of the hole injection layer 3 are usually placed in a crucible placed in a vacuum vessel (two or more materials are placed in separate crucibles), and the inside of the vacuum chamber is evacuated to about 10 −4 Pa by a vacuum pump. After that, the crucible is heated (usually each crucible is heated when two or more materials are used) to evaporate while controlling the amount of evaporation of the material in the crucible (when two or more materials are used, usually evaporate while independently controlling the amount of evaporation) to form a hole injection layer 3 on the anode 2 on the substrate 1 placed facing the crucible. When using two or more kinds of materials, the hole injection layer 3 can also be formed by putting a mixture of them in a crucible, heating and evaporating them.

蒸着時の真空度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.1×10-6Torr(0.13×10-4Pa)以上、9.0×10-6Torr(12.0×10-4Pa)以下である。蒸着速度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.1Å/秒以上、5.0Å/秒以下である。蒸着時の成膜温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、好ましくは10℃以上、50℃以下で行われる。 The degree of vacuum during vapor deposition is not limited as long as it does not significantly impair the effects of the present invention. 12.0×10 −4 Pa) or less. The vapor deposition rate is not limited as long as it does not significantly impair the effects of the present invention, but is usually 0.1 Å/second or more and 5.0 Å/second or less. The film formation temperature during vapor deposition is not limited as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, but is preferably 10° C. or higher and 50° C. or lower.

なお、正孔注入層3は、後述の正孔輸送層4と同様に架橋されていてもよい。 The hole injection layer 3 may be crosslinked in the same manner as the hole transport layer 4 described below.

<正孔輸送層>
正孔輸送層4は、陽極2側から発光層5側に正孔を輸送する機能を担う層である。正孔輸送層4は、本発明の有機電界発光素子では、必須の層では無いが、陽極2から発光層5に正孔を輸送する機能を強化する点では、この層を形成することが好ましい。正孔輸送層4を形成する場合、通常、正孔輸送層4は、陽極2と発光層5の間に形成される。また、上述の正孔注入層3がある場合は、正孔注入層3と発光層5の間に形成される。
<Hole transport layer>
The hole transport layer 4 is a layer that functions to transport holes from the anode 2 side to the light emitting layer 5 side. The hole transport layer 4 is not an essential layer in the organic electroluminescent device of the present invention, but it is preferable to form this layer in terms of enhancing the function of transporting holes from the anode 2 to the light emitting layer 5. . When forming the hole transport layer 4 , the hole transport layer 4 is usually formed between the anode 2 and the light emitting layer 5 . Further, when the hole injection layer 3 described above is present, it is formed between the hole injection layer 3 and the light emitting layer 5 .

正孔輸送層4を形成する材料としては、正孔輸送性が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送することができる材料であることが好ましい。そのために、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明性が高く、正孔移動度が大きく、安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくいことが好ましい。また、多くの場合、正孔輸送層4は、発光層5に接するため、発光層5からの発光を消光したり、発光層5との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させたりしないことが好ましい。 A material for forming the hole transport layer 4 is preferably a material that has a high hole transport property and can efficiently transport the injected holes. Therefore, it is preferable that the ionization potential is low, the transparency to visible light is high, the hole mobility is high, the stability is excellent, and impurities that act as traps are less likely to occur during manufacture or use. In many cases, since the hole transport layer 4 is in contact with the light emitting layer 5, it does not quench the light emitted from the light emitting layer 5 or form an exciplex with the light emitting layer 5 to reduce the efficiency. is preferred.

このような正孔輸送層4の材料としては、従来、正孔輸送層の構成材料として用いられている材料であればよく、例えば、前述の正孔注入層3に使用される正孔輸送性化合物として例示したものが挙げられる。また、アリールアミン誘導体、フルオレン誘導体、スピロ誘導体、カルバゾール誘導体、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、シロール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが挙げられる。 The material for such a hole transport layer 4 may be any material that is conventionally used as a constituent material for a hole transport layer. Examples of compounds include those exemplified. Also, arylamine derivatives, fluorene derivatives, spiro derivatives, carbazole derivatives, pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, silole derivatives, oligothiophene derivatives, condensed polycyclic aromatic group derivatives, metal complexes, and the like.

また、正孔輸送層4の材料例えば、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリアリールアミン誘導体、ポリビニルトリフェニルアミン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリアリーレン誘導体、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン誘導体、ポリアリーレンビニレン誘導体、ポリシロキサン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリ(p-フェニレンビニレン)誘導体等が挙げられる。これらは、交互共重合体、ランダム重合体、ブロック重合体又はグラフト共重合体のいずれであってもよい。また、主鎖に枝分かれがあり末端部が3つ以上ある高分子や、所謂デンドリマーであってもよい。 Materials for the hole transport layer 4 include, for example, polyvinylcarbazole derivatives, polyarylamine derivatives, polyvinyltriphenylamine derivatives, polyfluorene derivatives, polyarylene derivatives, polyarylene ether sulfone derivatives containing tetraphenylbenzidine, and polyarylene vinylene. derivatives, polysiloxane derivatives, polythiophene derivatives, poly(p-phenylene vinylene) derivatives and the like. These may be alternating copolymers, random polymers, block polymers or graft copolymers. Also, a polymer having a branched main chain and three or more terminal portions, or a so-called dendrimer may be used.

中でも、ポリアリールアミン誘導体やポリアリーレン誘導体が好ましい。
ポリアリールアミン誘導体としては、下記式(II)で表される繰り返し単位を含む重合体が好ましい。特に、下記式(II)で表される繰り返し単位からなる重合体が好ましく、この場合、繰り返し単位それぞれにおいて、Ar又はArが異なっているものであってもよい。
Among them, polyarylamine derivatives and polyarylene derivatives are preferred.
As the polyarylamine derivative, a polymer containing a repeating unit represented by the following formula (II) is preferred. In particular, a polymer composed of repeating units represented by the following formula (II) is preferable, and in this case, Ar a or Ar b may be different in each repeating unit.

Figure 2023086108000023
Figure 2023086108000023

(式(II)中、Ar及びArは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。) (In formula (II), Ar a and Ar b each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or an optionally substituted aromatic heterocyclic group .)

ポリアリーレン誘導体としては、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基などのアリーレン基をその繰り返し単位に有する重合体が挙げられる。 Examples of polyarylene derivatives include polymers having arylene groups such as optionally substituted aromatic hydrocarbon groups or optionally substituted aromatic heterocyclic groups in their repeating units. .

ポリアリーレン誘導体としては、下記式(III-1)及び/又は下記式(III-2)からなる繰り返し単位を有する重合体が好ましい。 As the polyarylene derivative, a polymer having repeating units represented by the following formula (III-1) and/or the following formula (III-2) is preferable.

Figure 2023086108000024
Figure 2023086108000024

(式(III-1)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、フェニルアルキル基、フェニルアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基又はカルボキシ基を表す。t及びsは、それぞれ独立に、0~3の整数を表す。t又はsが2以上の場合、一分子中に含まれる複数のR又はRは同一であっても異なっていてもよく、隣接するR又はR同士で環を形成していてもよい。) (In formula (III-1), R a , R b , R c and R d are each independently an alkyl group, an alkoxy group, a phenylalkyl group, a phenylalkoxy group, a phenyl group, a phenoxy group, an alkylphenyl group, represents an alkoxyphenyl group, an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group or a carboxy group, and t and s each independently represents an integer of 0 to 3. When t or s is 2 or more, a plurality of groups contained in one molecule may be the same or different, and adjacent Ra or Rb may form a ring. )

Figure 2023086108000025
Figure 2023086108000025

(式(III-2)中、R及びRは、それぞれ独立に、上記式(III-1)におけるR、R、R又はRと同義である。r及びuは、それぞれ独立に、0~3の整数を表す。r又はuが2以上の場合、一分子中に含まれる複数のR及びRは同一であっても異なっていてもよく、隣接するR又はR同士で環を形成していてもよい。Xは、5員環又は6員環を構成する原子又は原子群を表す。) (In formula (III-2), R e and R f are each independently synonymous with R a , R b , R c or R d in formula (III-1) above. r and u are each independently represents an integer of 0 to 3. When r or u is 2 or more, a plurality of R e and R f contained in one molecule may be the same or different, and adjacent R e or R f may form a ring together, and X represents an atom or a group of atoms constituting a 5- or 6-membered ring.)

Xの具体例としては、酸素原子、置換基を有していてもよいホウ素原子、置換基を有していてもよい窒素原子、置換基を有していてもよいケイ素原子、置換基を有していてもよいリン原子、置換基を有していてもよいイオウ原子、置換基を有していてもよい炭素原子又はこれらが結合してなる基である。 Specific examples of X include an oxygen atom, an optionally substituted boron atom, an optionally substituted nitrogen atom, an optionally substituted silicon atom, and an optionally substituted an optionally substituted phosphorus atom, an optionally substituted sulfur atom, an optionally substituted carbon atom, or a group formed by combining these atoms.

また、ポリアリーレン誘導体としては、上記式(III-1)及び/又は上記式(III-2)からなる繰り返し単位に加えて、さらに下記式(III-3)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。 Further, the polyarylene derivative has a repeating unit represented by the following formula (III-3) in addition to the repeating unit represented by the above formula (III-1) and/or the above formula (III-2). is preferred.

Figure 2023086108000026
Figure 2023086108000026

(式(III-3)中、Ar~Arは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。v及びwは、それぞれ独立に0又は1を表す。) (In formula (III-3), Ar c to Ar i each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or an optionally substituted aromatic heterocyclic group; and v and w each independently represent 0 or 1.)

上記式(III-1)~(III-3)の具体例及びポリアリーレン誘導体の具体例等は、特開2008-98619号公報に記載のものなどが挙げられる。 Specific examples of the above formulas (III-1) to (III-3) and specific examples of the polyarylene derivative include those described in JP-A-2008-98619.

湿式成膜法で正孔輸送層4を形成する場合は、上記正孔注入層3の形成と同様にして、正孔輸送層形成用組成物を調製した後、湿式成膜後、加熱乾燥させる。 When the hole transport layer 4 is formed by a wet film formation method, a composition for forming a hole transport layer is prepared in the same manner as in the formation of the hole injection layer 3, and after wet film formation, heat drying is performed. .

正孔輸送層形成用組成物は、上述の正孔輸送性化合物の他、有機溶剤を含有する。用いる有機溶剤は上記正孔注入層形成用組成物に用いたものと同様である。また、成膜条件、加熱乾燥条件等も正孔注入層3の形成の場合と同様である。 The hole-transporting layer-forming composition contains an organic solvent in addition to the hole-transporting compound described above. The organic solvent to be used is the same as that used for the composition for forming the hole injection layer. Further, the film formation conditions, heat drying conditions, etc. are the same as in the case of forming the hole injection layer 3 .

真空蒸着法により正孔輸送層4を形成する場合もまた、その成膜条件等は上記正孔注入層3の形成の場合と同様である。 When the hole transport layer 4 is formed by the vacuum vapor deposition method, the film forming conditions and the like are the same as those for forming the hole injection layer 3 described above.

正孔輸送層4は、上記正孔輸送性化合物の他、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダー樹脂、塗布性改良剤などを含有していてもよい。従って、正孔輸送層形成用組成物は、上記正孔輸送性化合物の他、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダー樹脂、塗布性改良剤などを含有していてもよい。 The hole-transporting layer 4 may contain various light-emitting materials, electron-transporting compounds, binder resins, coatability improvers, etc., in addition to the hole-transporting compounds described above. Therefore, the composition for forming a hole transport layer may contain various luminescent materials, electron transport compounds, binder resins, coatability improvers, etc., in addition to the above hole transport compounds.

また、正孔輸送層4は、架橋性化合物を架橋して形成される層であってもよい。架橋性化合物は、架橋性基を有する化合物であって、架橋することにより網目状高分子化合物を形成する。 Further, the hole transport layer 4 may be a layer formed by cross-linking a cross-linking compound. The crosslinkable compound is a compound having a crosslinkable group, and forms a network polymer compound by crosslinking.

この架橋性基の例を挙げると、オキセタン、エポキシなどの環状エーテル由来の基;ビニル基、トリフルオロビニル基、スチリル基、アクリル基、メタクリロイル、シンナモイル等の不飽和二重結合由来の基;ベンゾシクロブテン由来の基などが挙げられる。 Examples of crosslinkable groups include groups derived from cyclic ethers such as oxetane and epoxy; groups derived from unsaturated double bonds such as vinyl, trifluorovinyl, styryl, acryl, methacryloyl, and cinnamoyl; Examples thereof include groups derived from cyclobutene.

架橋性化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。架橋性化合物は1種のみを有していてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で有していてもよい。 The crosslinkable compound may be a monomer, oligomer, or polymer. The crosslinkable compound may have only one type, or may have two or more types in any combination and ratio.

架橋性化合物としては、架橋性基を有する正孔輸送性化合物を用いることが好ましい。
架橋性基を有する正孔輸送性化合物の正孔輸送性化合物としては、上記の例示したものが挙げられ、架橋性化合物としては、これら正孔輸送性化合物に対して、架橋性基が主鎖又は側鎖に結合しているものが挙げられる。特に架橋性基は、アルキレン基等の連結基を介して、主鎖に結合していることが好ましい。また、特に正孔輸送性化合物としては、架橋性基を有する繰り返し単位を含む重合体であることが好ましく、上記式(II)や式(III-1)~(III-3)で表される繰り返し単位に、架橋性基が直接又は連結基を介して結合した繰り返し単位を有する重合体であることが好ましい。
A hole-transporting compound having a crosslinkable group is preferably used as the crosslinkable compound.
Examples of the hole-transporting compound of the hole-transporting compound having a crosslinkable group include those exemplified above. or those bound to side chains. In particular, the crosslinkable group is preferably bonded to the main chain via a linking group such as an alkylene group. In particular, the hole-transporting compound is preferably a polymer containing a repeating unit having a crosslinkable group, and is represented by the above formula (II) or formulas (III-1) to (III-3). It is preferably a polymer having repeating units in which a crosslinkable group is bonded directly or via a linking group to the repeating units.

架橋性化合物を架橋して正孔輸送層4を形成するには、通常、架橋性化合物を有機溶剤に溶解又は分散した正孔輸送層形成用組成物を調製して、湿式成膜法により成膜して架橋させる。 In order to form the hole transport layer 4 by cross-linking a cross-linking compound, a composition for forming a hole transport layer is usually prepared by dissolving or dispersing a cross-linking compound in an organic solvent, and the composition is formed by a wet film forming method. Film and crosslink.

このようにして形成される正孔輸送層4の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。 The thickness of the hole transport layer 4 thus formed is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

<発光層>
発光層5は、一対の電極間に電界が与えられた時に、陽極2から注入される正孔と陰極7から注入される電子が再結合することにより励起され、発光する機能を担う層である。
発光層5は、陽極2と陰極7の間に形成される層であり、発光層5は、陽極2の上に正孔注入層3がある場合は、正孔注入層3と陰極7の間に形成され、陽極2の上に正孔輸送層4がある場合は、正孔輸送層4と陰極7の間に形成される。
<Light emitting layer>
The light-emitting layer 5 is a layer that functions to emit light by being excited by recombination of holes injected from the anode 2 and electrons injected from the cathode 7 when an electric field is applied between a pair of electrodes. .
The light-emitting layer 5 is a layer formed between the anode 2 and the cathode 7, and the light-emitting layer 5 is formed between the hole-injection layer 3 and the cathode 7 when the hole-injection layer 3 is on the anode 2. and between the hole-transport layer 4 and the cathode 7, if there is a hole-transport layer 4 on the anode 2;

発光層5は、少なくとも、発光の性質を有する材料(発光材料)を含有するとともに、好ましくは、1つまたは複数のホスト材料を含有する。
本発明における有機電界発光素子の発光層5は、前記の通り、本発明の組成物により湿式成膜法により形成され、本発明の化合物及び発光材料を含むことが好ましい。
The light-emitting layer 5 contains at least a material having light-emitting properties (light-emitting material) and preferably contains one or more host materials.
As described above, the light-emitting layer 5 of the organic electroluminescent device of the present invention is formed from the composition of the present invention by a wet film-forming method, and preferably contains the compound of the present invention and a light-emitting material.

発光層5の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、膜に欠陥が生じ難い点では厚い方が好ましく、一方、薄い方が低駆動電圧としやすい点で好ましい。このため、発光層5の膜厚は、3nm以上であるのが好ましく、5nm以上であるのがより好ましく、一方、200nm以下であるのが好ましく、100nm以下であるのがより好ましい。 The film thickness of the light-emitting layer 5 is arbitrary as long as it does not significantly impair the effects of the present invention, but a thicker film is preferable because defects are less likely to occur in the film. Therefore, the film thickness of the light-emitting layer 5 is preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, and is preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less.

<正孔阻止層>
発光層5と後述の電子注入層6との間に、正孔阻止層を設けてもよい。正孔阻止層は、発光層5の上に、発光層5の陰極7側の界面に接するように積層される層である。
<Hole blocking layer>
A hole blocking layer may be provided between the light emitting layer 5 and the electron injection layer 6 described below. The hole-blocking layer is a layer laminated on the light-emitting layer 5 so as to be in contact with the interface of the light-emitting layer 5 on the cathode 7 side.

この正孔阻止層は、陽極2から移動してくる正孔を陰極7に到達するのを阻止する役割と、陰極7から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とを有する。正孔阻止層を構成する材料に求められる物性としては、電子移動度が高く正孔移動度が低いこと、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T)が高いことが挙げられる。 This hole-blocking layer has the role of blocking holes moving from the anode 2 from reaching the cathode 7 and the role of efficiently transporting electrons injected from the cathode 7 toward the light-emitting layer 5. have. Physical properties required for the material constituting the hole blocking layer include high electron mobility and low hole mobility, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and an excited triplet level (T 1 ). is high.

このような条件を満たす正孔阻止層の材料としては、例えば、ビス(2-メチル-8-キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム、ビス(2-メチル-8-キノリノラト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2-メチル-8-キノラト)アルミニウム-μ-オキソ-ビス-(2-メチル-8-キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11-242996号公報)、3-(4-ビフェニルイル)-4-フェニル-5-(4-tert-ブチルフェニル)-1,2,4-トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7-41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10-79297号公報)等が挙げられる。更に、国際公開第2005/022962号に記載の2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物も、正孔阻止層の材料として好ましい。 Examples of materials for the hole blocking layer that satisfy these conditions include bis(2-methyl-8-quinolinolato)(phenolato)aluminum and bis(2-methyl-8-quinolinolato)(triphenylsilanolate)aluminum. mixed ligand complexes, metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolato) aluminum binuclear metal complexes, distyrylbiphenyl derivatives and the like Styryl compounds (JP-A-11-242996), triazole derivatives such as 3-(4-biphenylyl)-4-phenyl-5-(4-tert-butylphenyl)-1,2,4-triazole (JP-A-11-242996) 7-41759), phenanthroline derivatives such as bathocuproine (JP-A-10-79297), and the like. Furthermore, the compound having at least one pyridine ring substituted at the 2,4,6 positions described in WO 2005/022962 is also preferable as a material for the hole blocking layer.

正孔阻止層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成できる。 There are no restrictions on the method of forming the hole blocking layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

正孔阻止層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上であり、また、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。 The thickness of the hole-blocking layer is arbitrary as long as it does not significantly impair the effects of the present invention. .

<電子輸送層>
電子輸送層6は素子の電流効率をさらに向上させることを目的として、発光層5と陰極7との間に設けられる。
<Electron transport layer>
The electron transport layer 6 is provided between the light emitting layer 5 and the cathode 7 for the purpose of further improving the current efficiency of the device.

電子輸送層6は、電界を与えられた電極間において陰極7から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送することができる化合物より形成される。電子輸送層6に用いられる電子輸送性化合物としては、陰極7からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し、注入された電子を効率よく輸送することができる化合物であることが必要である。 The electron transport layer 6 is formed of a compound capable of efficiently transporting electrons injected from the cathode 7 toward the light-emitting layer 5 between electrodes to which an electric field is applied. The electron-transporting compound used in the electron-transporting layer 6 is a compound that has high electron injection efficiency from the cathode 7, high electron mobility, and can efficiently transport the injected electrons. is necessary.

電子輸送層6に用いる電子輸送性化合物としては、具体的には、8-ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体等の金属錯体(特開昭59-194393号公報)、10-ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3-ヒドロキシフラボン金属錯体、5-ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5645948号明細書)、キノキサリン化合物(特開平6-207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5-331459号公報)、2-tert-ブチル-9,10-N,N’-ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛等が挙げられる。 Specific examples of the electron-transporting compound used in the electron-transporting layer 6 include a metal complex such as an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline (JP-A-59-194393) and a metal of 10-hydroxybenzo[h]quinoline. complexes, oxadiazole derivatives, distyrylbiphenyl derivatives, silole derivatives, 3-hydroxyflavone metal complexes, 5-hydroxyflavone metal complexes, benzoxazole metal complexes, benzothiazole metal complexes, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948) book), quinoxaline compound (JP-A-6-207169), phenanthroline derivative (JP-A-5-331459), 2-tert-butyl-9,10-N,N'-dicyanoanthraquinone diimine, n-type hydrogen amorphous silicon carbide, n-type zinc sulfide, n-type zinc selenide, and the like.

電子輸送層6は、前記と同様にして湿式成膜法、或いは真空蒸着法により正孔阻止層上に積層することにより形成される。通常は、真空蒸着法が用いられるが、本発明においては、前述のように、本発明の化合物を含む発光層上に、湿式成膜法にて電子輸送層6を形成することが出来る。 The electron transport layer 6 is formed on the hole blocking layer by a wet film forming method or a vacuum vapor deposition method in the same manner as described above. A vacuum deposition method is usually used, but in the present invention, as described above, the electron transport layer 6 can be formed on the light-emitting layer containing the compound of the present invention by a wet film-forming method.

電子輸送層6の膜厚は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上であり、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。 The film thickness of the electron transport layer 6 is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and is usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

<電子注入層>
陰極7から注入された電子を効率よく、電子輸送層6又は発光層5へ注入するために、電子輸送層6と陰極7との間に電子注入層が設けられてもよい。
<Electron injection layer>
An electron injection layer may be provided between the electron transport layer 6 and the cathode 7 in order to efficiently inject electrons injected from the cathode 7 into the electron transport layer 6 or the light emitting layer 5 .

電子注入を効率よく行うには、電子注入層を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウム等のアルカリ土類金属等が用いられる。
電子注入層の膜厚は通常0.1nm以上、5nm以下が好ましい。
In order to efficiently inject electrons, the material forming the electron injection layer is preferably a metal with a low work function. Examples thereof include alkali metals such as sodium and cesium, alkaline earth metals such as barium and calcium, and the like.
The film thickness of the electron injection layer is preferably 0.1 nm or more and 5 nm or less.

更に、バソフェナントロリン等の含窒素複素環化合物や8-ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体等の金属錯体に代表される有機電子輸送材料に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウム等のアルカリ金属をドープする(特開平10-270171号公報、特開2002-100478号公報、特開2002-100482号公報等に記載)ことも、電子注入・輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となるため好ましい。
この場合、電子注入層の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常200nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。
Furthermore, an organic electron-transporting material typified by a nitrogen-containing heterocyclic compound such as bathophenanthroline or a metal complex such as an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is doped with an alkali metal such as sodium, potassium, cesium, lithium or rubidium ( JP-A-10-270171, JP-A-2002-100478, JP-A-2002-100482, etc.) also improves the electron injection and transport properties and makes it possible to achieve both excellent film quality. preferable.
In this case, the thickness of the electron injection layer is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

電子注入層は、湿式成膜法或いは真空蒸着法により、発光層5又はその上の正孔阻止層や電子輸送層6上に積層することにより形成される。
湿式成膜法の場合の詳細は、前述の発光層の場合と同様である。
The electron injection layer is formed by laminating the light emitting layer 5 or the hole blocking layer or the electron transport layer 6 thereon by a wet film forming method or a vacuum deposition method.
The details of the wet film formation method are the same as those of the light-emitting layer described above.

正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層を電子輸送材料とリチウム錯体共ドープの操作で一層にする場合にもある。 In some cases, the hole-blocking layer, the electron-transporting layer, and the electron-injecting layer are formed into a single layer by co-doping the electron-transporting material and the lithium complex.

<陰極>
陰極7は、発光層5側の層(電子注入層又は発光層など)に電子を注入する役割を果たす。
<Cathode>
The cathode 7 plays a role of injecting electrons into a layer (an electron injection layer, a light-emitting layer, or the like) on the light-emitting layer 5 side.

陰極7の材料としては、前記の陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率良く電子注入を行なう上では、仕事関数の低い金属を用いることが好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の金属又はそれらの合金等が用いられる。具体例としては、例えば、マグネシウム-銀合金、マグネシウム-インジウム合金、アルミニウム-リチウム合金等の低仕事関数の合金電極等が挙げられる。 As the material of the cathode 7, it is possible to use the material used for the anode 2, but in terms of efficient electron injection, it is preferable to use a metal with a low work function, such as tin or magnesium. , indium, calcium, aluminum, and silver, or alloys thereof. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloys, magnesium-indium alloys, and aluminum-lithium alloys.

有機電界発光素子の安定性の点では、陰極の上に、仕事関数が高く、大気に対して安定な金属層を積層して、低仕事関数の金属からなる陰極を保護することが好ましい。積層する金属としては、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が挙げられる。 From the viewpoint of the stability of the organic electroluminescence device, it is preferable to protect the cathode made of a metal with a low work function by stacking a metal layer that has a high work function and is stable against the atmosphere on the cathode. Metals to be laminated include, for example, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold, and platinum.

陰極の膜厚は通常、陽極と同様である。 The film thickness of the cathode is generally similar to that of the anode.

<その他の層>
本発明の有機電界発光素子は、本発明の効果を著しく損なわなければ、更に他の層を有していてもよい。すなわち、陽極と陰極との間に、上述の他の任意の層を有していてもよい。
<Other layers>
The organic electroluminescence device of the present invention may further have other layers as long as they do not significantly impair the effects of the present invention. That is, it may have any of the other layers described above between the anode and cathode.

<その他の素子構成>
本発明の有機電界発光素子は、上述の説明とは逆の構造、即ち、例えば、基板上に陰極、電子注入層、電子輸送層、正孔阻止層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に積層することも可能である。
<Other device configurations>
The organic electroluminescence device of the present invention has a structure opposite to that described above. It is also possible to laminate the injection layer and the anode in this order.

本発明の有機電界発光素子を有機電界発光装置に適用する場合は、単一の有機電界発光素子として用いても、複数の有機電界発光素子がアレイ状に配置された構成にして用いても、陽極と陰極がX-Yマトリックス状に配置された構成にして用いてもよい。 When the organic electroluminescent element of the present invention is applied to an organic electroluminescent device, it may be used as a single organic electroluminescent element or may be used in a configuration in which a plurality of organic electroluminescent elements are arranged in an array. A configuration in which anodes and cathodes are arranged in an XY matrix may also be used.

[表示装置]
本発明の表示装置(有機電界発光素子表示装置:有機EL表示装置)は、本発明の有機電界発光素子を備える。本発明の有機EL表示装置の型式や構造については特に制限はなく、本発明の有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。
[Display device]
The display device of the present invention (organic electroluminescent element display device: organic EL display device) comprises the organic electroluminescent element of the present invention. The type and structure of the organic EL display device of the present invention are not particularly limited, and the organic electroluminescence device of the present invention can be assembled according to a conventional method.

例えば、「有機ELディスプレイ」(オーム社、平成16年8月20日発行、時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような方法で、本発明の有機EL表示装置を形成することができる。 For example, the organic EL display device of the present invention can be manufactured by the method described in "Organic EL Display" (Ohmsha, August 20, 2004, by Shizuo Tokito, Chihaya Adachi, and Hideyuki Murata). can be formed.

[照明装置]
本発明の照明装置(有機電界発光素子照明装置:有機EL照明装置)は、本発明の有機電界発光素子を備える。本発明の有機EL照明装置の型式や構造については特に制限はなく、本発明の有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。
[Lighting device]
The lighting device of the present invention (organic electroluminescent element lighting device: organic EL lighting device) includes the organic electroluminescent element of the present invention. There are no particular restrictions on the type and structure of the organic EL lighting device of the present invention, and it can be assembled according to a conventional method using the organic electroluminescence device of the present invention.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、下記の実施例における各種の条件や評価結果の値は、本発明の実施態様における上限又は下限の好ましい値としての意味をもつものであり、好ましい範囲は前記した上限又は下限の値と下記実施例の値又は実施例同士の値との組合せで規定される範囲であってもよい。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded. Various conditions and values of evaluation results in the following examples have the meaning of preferable upper or lower limit values in the embodiments of the present invention. It may be a range defined by a value in an example or a combination of values between examples.

なお、本明細書では、Acはアセチル基を意味し、Phはフェニル基を意味し、dppfは1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセンを意味し、DMSOはジメチルスルホキシドを意味し、THFはテトロヒドロフランを意味する。化合物1-e、比較化合物1は特許文献1(国際公開第2012/137958号)に記載の方法に従って合成した。 In the present specification, Ac means an acetyl group, Ph means a phenyl group, dppf means 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene, DMSO means dimethylsulfoxide, THF means tetrahydrofuran. Compound 1-e and Comparative Compound 1 were synthesized according to the method described in Patent Document 1 (International Publication No. 2012/137958).

[化合物の合成と溶解性評価]
<実施例1:化合物1の合成例>
(化合物1-cの合成)

Figure 2023086108000027
[Compound synthesis and solubility evaluation]
<Example 1: Synthesis example of compound 1>
(Synthesis of compound 1-c)
Figure 2023086108000027

化合物1-a(11.6g、40.5mmol)、化合物1-b(14.5g、40.5mmol)に窒素バブリングを行ったトルエン(100mL)、エタノール(50mL)、リン酸三カリウム水溶液(2.0mol/L、50mL)を順に加え、50℃に加熱した。その後、PdCl(PPh(0.29g、0.41mmol)を加え、65℃で3時間撹拌した。室温まで冷却後、飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、トルエンを用いて抽出を行った。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに処し、化合物1-c(収量15.7g、収率82%)を得た。 Compound 1-a (11.6 g, 40.5 mmol) and compound 1-b (14.5 g, 40.5 mmol) were subjected to nitrogen bubbling toluene (100 mL), ethanol (50 mL), tripotassium phosphate aqueous solution (2 .0 mol/L, 50 mL) was sequentially added and heated to 50°C. PdCl 2 (PPh 3 ) 2 (0.29 g, 0.41 mmol) was then added and stirred at 65° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, a saturated sodium chloride aqueous solution was added, and extraction was performed using toluene. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain compound 1-c (15.7 g, 82% yield).

(化合物1-dの合成)

Figure 2023086108000028
(Synthesis of compound 1-d)
Figure 2023086108000028

化合物1-c(11.6g、24.5mmol)、ビス(ピナコラトジボロン)(9.3g、36.7mmol)、酢酸カリウム(7.2g、73.5mmol)に脱水DMSO(100mL)を加え、50℃に加熱した。ここへPdCl(dppf)CHCl(1.0g、1.2mmol)を加え、90℃で8時間撹拌した。室温まで冷却後、蒸留水を加え、吸引ろ過を行った。ろ取物をトルエンに溶解し、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに処し、化合物1-d(収量8.0g、収率63%)を得た。 Dehydrated DMSO (100 mL) was added to compound 1-c (11.6 g, 24.5 mmol), bis(pinacolatodiboron) (9.3 g, 36.7 mmol) and potassium acetate (7.2 g, 73.5 mmol). , and heated to 50°C. PdCl 2 (dppf)CH 2 Cl 2 (1.0 g, 1.2 mmol) was added thereto and stirred at 90° C. for 8 hours. After cooling to room temperature, distilled water was added and suction filtration was performed. The filtrate was dissolved in toluene, washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain compound 1-d (8.0 g, 63% yield).

(化合物1の合成)

Figure 2023086108000029
(Synthesis of Compound 1)
Figure 2023086108000029

特許文献1(国際公開第2012/137958号)に記載の方法に従って合成した化合物1-e(2.8g、3.9mmol)、化合物1-d(2.4g、4.7mmol)に窒素バブリングを行ったTHF(30mL)、リン酸三カリウム水溶液(2.0mol/L、10mL)を順に加えた。その後、Pd(PPh(45mg、0.039mmol)を加え、70℃で2時間撹拌した。室温まで冷却後、飽和塩化ナトリウム水溶液と1Nの希塩酸を加え、ジクロロメタンを用いて抽出を行った。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに処し、化合物1(収量1.2g、収率29%)を得た。 Compound 1-e (2.8 g, 3.9 mmol) and compound 1-d (2.4 g, 4.7 mmol) synthesized according to the method described in Patent Document 1 (International Publication No. 2012/137958) were subjected to nitrogen bubbling. THF (30 mL) and tripotassium phosphate aqueous solution (2.0 mol/L, 10 mL) were added in order. Then Pd(PPh 3 ) 4 (45 mg, 0.039 mmol) was added and stirred at 70° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, a saturated aqueous sodium chloride solution and 1N dilute hydrochloric acid were added, and extraction was performed using dichloromethane. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain compound 1 (1.2 g, 29% yield).

<比較例1:比較化合物1の合成例>

Figure 2023086108000030
<Comparative Example 1: Synthesis Example of Comparative Compound 1>
Figure 2023086108000030

比較化合物1を特許文献1(国際公開第2012/137958号)に記載の方法に従って合成した。 Comparative compound 1 was synthesized according to the method described in Patent Document 1 (International Publication No. 2012/137958).

<比較例2:比較化合物2の合成例>

Figure 2023086108000031
<Comparative Example 2: Synthesis Example of Comparative Compound 2>
Figure 2023086108000031

特許文献1(国際公開第2012/137958号)に記載の方法に従って合成した化合物1-e(0.66g、0.91mmol)、化合物C2-a(0.49g、1.37mmol)に窒素バブリングを行ったTHF(15mL)、リン酸三カリウム水溶液(2.0mol/L、5mL)を順に加えた。その後、Pd(PPh(11mg、0.0091mmol)を加え、70℃で3時間撹拌した。室温まで冷却後、反応溶液中にジクロロメタン100mLを加え、濾過した。濾取物をエタノール、アセトン、ジクロロメタンで洗浄し、乾燥させ、比較化合物2(収量0.90g、収率98%)を得た。 Compound 1-e (0.66 g, 0.91 mmol) and compound C2-a (0.49 g, 1.37 mmol) synthesized according to the method described in Patent Document 1 (International Publication No. 2012/137958) were subjected to nitrogen bubbling. THF (15 mL) and tripotassium phosphate aqueous solution (2.0 mol/L, 5 mL) were added in order. Then Pd(PPh 3 ) 4 (11 mg, 0.0091 mmol) was added and stirred at 70° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, 100 mL of dichloromethane was added to the reaction solution and filtered. The filtered product was washed with ethanol, acetone and dichloromethane and dried to obtain Comparative Compound 2 (0.90 g, 98% yield).

<溶解性評価>

Figure 2023086108000032
<Solubility evaluation>
Figure 2023086108000032

化合物1、比較化合物1、比較化合物2についてp-トルイル酸エチル(EpT)に対する溶解性を評価した。
p-トルイル酸エチル(EpT)に対する溶解性は、1~2mL程度のp-トルイル酸エチル溶液(化合物の濃度:3.0質量%)を調製し、当該溶液に化合物1、比較化合物1、比較化合物2が溶解したか否かで判断した。また濃度3.0質量%に調整した溶液で化合物1、比較化合物1が析出する日数を評価した。
結果を表1に示す。表1中の「>3.0質量%」は、当該溶液に化合物が溶解したことを意味する。
Compound 1, Comparative Compound 1, and Comparative Compound 2 were evaluated for solubility in ethyl p-toluate (EpT).
For the solubility in ethyl p-toluate (EpT), prepare a p-ethyl toluate solution (compound concentration: 3.0% by mass) of about 1 to 2 mL, and add compound 1, comparative compound 1, and comparative It was judged whether compound 2 was dissolved or not. In addition, the number of days for precipitation of Compound 1 and Comparative Compound 1 in the solution adjusted to a concentration of 3.0% by mass was evaluated.
Table 1 shows the results. ">3.0% by mass" in Table 1 means that the compound was dissolved in the solution.

Figure 2023086108000033
Figure 2023086108000033

表1より、本発明の化合物である化合物1は、有機溶剤に速やかに溶解すること、溶解した後析出せず均一状態を保持すること、という2つの意味での溶剤溶解性に優れることが分かる。 From Table 1, it can be seen that compound 1, which is the compound of the present invention, is excellent in solvent solubility in two senses, namely, that it dissolves quickly in an organic solvent and that it maintains a homogeneous state without precipitating after dissolution. .

[有機電界発光素子の作製と性能評価]
<実施例2>
有機電界発光素子を以下の方法で作製した。
ガラス基板上にインジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を50nmの厚さに堆積したもの(ジオマテック社製、スパッタ成膜品)を通常のフォトリソグラフィー技術と塩酸エッチングを用いて2mm幅のストライプにパターニングして陽極を形成した。このようにITOをパターン形成した基板を、界面活性剤水溶液による超音波洗浄、超純水による水洗、超純水による超音波洗浄、超純水による水洗の順で洗浄後、圧縮空気で乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。
[Preparation and Performance Evaluation of Organic Electroluminescent Device]
<Example 2>
An organic electroluminescence device was produced by the following method.
An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film deposited on a glass substrate to a thickness of 50 nm (manufactured by Geomatec, a sputter-deposited product) was subjected to a 2 mm-wide stripe using ordinary photolithography and etching with hydrochloric acid. was patterned to form an anode. The substrate on which the ITO pattern is formed in this manner is washed with ultrasonic waves using an aqueous solution of surfactant, washed with ultrapure water, ultrasonically washed with ultrapure water, and washed with ultrapure water in this order, and then dried with compressed air. , and finally performed ultraviolet ozone cleaning.

正孔注入層形成用組成物として、下記式(P-1)の繰り返し構造を有する正孔輸送性高分子化合物3.0重量%と、下記構造式(HI-1)の電子受容性化合物0.6重量%とを、安息香酸エチルに溶解させた組成物を調製した。 As a composition for forming a hole injection layer, 3.0% by weight of a hole-transporting polymer compound having a repeating structure of the following formula (P-1) and 0 of an electron-accepting compound of the following structural formula (HI-1) A composition was prepared by dissolving .6% by weight in ethyl benzoate.

Figure 2023086108000034
Figure 2023086108000034

この溶液を、大気中で上記基板上にスピンコートし、大気中ホットプレートで240℃にて30分乾燥させ、膜厚40nmの均一な薄膜を形成し、正孔注入層とした。
次に、下記の構造式(HT-1)を有する電荷輸送性高分子化合物を1,3,5-トリメチルベンゼンに溶解させ、2.0重量%の溶液を調製した。
This solution was spin-coated on the substrate in the atmosphere and dried on a hot plate in the atmosphere at 240° C. for 30 minutes to form a uniform thin film with a thickness of 40 nm, which was used as a hole injection layer.
Next, a charge-transporting polymer compound having the following structural formula (HT-1) was dissolved in 1,3,5-trimethylbenzene to prepare a 2.0% by weight solution.

Figure 2023086108000035
Figure 2023086108000035

この溶液を、上記正孔注入層を塗布成膜した基板上に窒素グローブボックス中でスピンコートし、窒素グローブボックス中のホットプレートで230℃にて30分間乾燥させ、膜厚40nmの均一な薄膜を形成し、正孔輸送層とした。 This solution was spin-coated on the substrate on which the hole injection layer had been applied and formed in a nitrogen glove box, and dried on a hot plate in the nitrogen glove box at 230° C. for 30 minutes to form a uniform thin film with a thickness of 40 nm. was formed to form a hole transport layer.

引続き、発光層の材料として、実施例1で合成した本発明の化合物1を2.3重量%、下記構造式(H-1)の化合物を2.3重量%、下記構造式(D-1)の化合物を1.4重量%の濃度でシクロヘキシルベンゼンに溶解させ、発光層形成用組成物を調製した。 Subsequently, as materials for the light-emitting layer, 2.3% by weight of the compound 1 of the present invention synthesized in Example 1, 2.3% by weight of the compound of the following structural formula (H-1), and the following structural formula (D-1 ) was dissolved in cyclohexylbenzene at a concentration of 1.4% by weight to prepare a composition for forming a light-emitting layer.

Figure 2023086108000036
Figure 2023086108000036

この溶液を、上記正孔輸送層を塗布成膜した基板上に窒素グローブボックス中でスピンコートし、窒素グローブボックス中のホットプレートで120℃にて20分間乾燥させ、膜厚40nmの均一な薄膜を形成し、発光層とした。
発光層までを成膜した基板を真空蒸着装置に設置し、装置内を2×10-4Pa以下になるまで排気した。
This solution was spin-coated in a nitrogen glove box onto the substrate on which the hole transport layer had been coated, and dried on a hot plate in the nitrogen glove box at 120° C. for 20 minutes to form a uniform thin film with a thickness of 40 nm. was formed to form a light-emitting layer.
The substrate on which up to the light-emitting layer was formed was placed in a vacuum deposition apparatus, and the inside of the apparatus was evacuated to 2×10 −4 Pa or less.

次に、下記の構造式(ET-1)の化合物および8-ヒドロキシキノリノラトリチウムを2:3の膜厚比で、発光層上に真空蒸着法にて共蒸着し、膜厚30nmの電子輸送層を形成した。 Next, a compound of the following structural formula (ET-1) and 8-hydroxyquinolinolatritium are co-deposited on the light-emitting layer at a film thickness ratio of 2:3 by a vacuum vapor deposition method to form an electron film having a film thickness of 30 nm. A transport layer was formed.

Figure 2023086108000037
Figure 2023086108000037

続いて、陰極蒸着用のマスクとして2mm幅のストライプ状シャドーマスクを、陽極のITOストライプとは直交するように基板に密着させて、アルミニウムをモリブデンボートにより加熱して、膜厚80nmのアルミニウム層を形成して陰極を形成した。
以上の様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子が得られた。
Subsequently, as a mask for cathode deposition, a striped shadow mask with a width of 2 mm was adhered to the substrate so as to be perpendicular to the ITO stripes of the anode, and aluminum was heated with a molybdenum boat to form an aluminum layer with a thickness of 80 nm. formed to form the cathode.
As described above, an organic electroluminescence device having a light-emitting area of 2 mm×2 mm was obtained.

<比較例3>
発光層の材料として、化合物1の替わりに、比較例1で合成した比較化合物1を用いた他は、実施例1と同様にして有機電界発光素子を作製した。
<Comparative Example 3>
An organic electroluminescence device was produced in the same manner as in Example 1, except that Comparative Compound 1 synthesized in Comparative Example 1 was used instead of Compound 1 as a material for the light-emitting layer.

<素子の評価>
実施例2、および比較例3で得られた有機電界発光素子を1,000cd/mで発光させた際の電圧(V)、電流効率(cd/A)、外部量子効率(%)を測定した。これらの測定結果を表2に示す。表2中、実施例2の値は比較例3の値を1とした相対値を示す。
<Evaluation of element>
Voltage (V), current efficiency (cd/A), and external quantum efficiency (%) were measured when the organic electroluminescent devices obtained in Example 2 and Comparative Example 3 were caused to emit light at 1,000 cd/m 2 . bottom. These measurement results are shown in Table 2. In Table 2, the value of Example 2 indicates a relative value with the value of Comparative Example 3 set to 1.

Figure 2023086108000038
Figure 2023086108000038

表1及び表2の結果から、本発明の化合物によれば、これを用いた有機電界発光素子の素子性能を担保しつつ、溶剤溶解性を改善できることが分かる。 From the results in Tables 1 and 2, it can be seen that the compound of the present invention can improve the solvent solubility while ensuring the device performance of the organic electroluminescence device using the compound.

1 基板
2 陽極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 電子輸送層
7 陰極
8 有機電界発光素子
REFERENCE SIGNS LIST 1 substrate 2 anode 3 hole injection layer 4 hole transport layer 5 light emitting layer 6 electron transport layer 7 cathode 8 organic electroluminescence device

Claims (11)

下記式(1)で表される化合物。
Figure 2023086108000039
(式(1)中、
、W及びWは、各々独立に、-CH又は窒素原子を表し、W、W及びWの内、少なくとも一つは窒素原子であり、
Xa、Ya、及びZaは、各々独立に、置換基を有していてもよい1,3-フェニレン基又は置換基を有していてもよい1,4-フェニレン基を表し、
Zaの少なくとも一つは、置換基を有していてもよい1,3-フェニレン基であり、
Xa及びYaは、各々独立に、置換基を有してもよいフェニル基を表し、
Zaは、置換基を有してもよいN-カルバゾリル基を表し、
f11は1又は2であり、
g11は1~5の整数であり、
h11は1又は2であり、
j11は1~5の整数であり、
k11は2~5の整数であり、
11は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。)
A compound represented by the following formula (1).
Figure 2023086108000039
(In formula (1),
W 1 , W 2 and W 3 each independently represent —CH or a nitrogen atom, at least one of W 1 , W 2 and W 3 is a nitrogen atom;
Xa 1 , Ya 1 and Za 1 each independently represent an optionally substituted 1,3-phenylene group or an optionally substituted 1,4-phenylene group,
at least one of Za 1 is an optionally substituted 1,3-phenylene group,
Xa 2 and Ya 2 each independently represent a phenyl group which may have a substituent;
Za 2 represents an optionally substituted N-carbazolyl group,
f11 is 1 or 2,
g11 is an integer from 1 to 5,
h11 is 1 or 2,
j11 is an integer from 1 to 5,
k11 is an integer from 2 to 5,
Each R 11 independently represents a hydrogen atom or a substituent. )
前記式(1)におけるR11が、各々独立に、水素原子、フェニル基又はナフチル基である、請求項1に記載の化合物。 2. The compound according to claim 1, wherein each R11 in formula (1) is independently a hydrogen atom, a phenyl group or a naphthyl group. 基板上に、陽極及び陰極を有し、前記陽極と前記陰極の間に有機層を有する有機電界発光素子であって、
前記有機層が請求項1又は2に記載の化合物を含む、有機電界発光素子。
An organic electroluminescence device having an anode and a cathode on a substrate and an organic layer between the anode and the cathode,
An organic electroluminescent device, wherein the organic layer comprises the compound according to claim 1 or 2.
前記有機層が発光層を含み、前記発光層が前記化合物を含む、請求項3に記載の有機電界発光素子。 4. The organic electroluminescent device according to claim 3, wherein said organic layer comprises a light-emitting layer, and said light-emitting layer comprises said compound. 請求項3又は4に記載の有機電界発光素子を有する表示装置。 A display device comprising the organic electroluminescence device according to claim 3 or 4. 請求項3又は4に記載の有機電界発光素子を有する照明装置。 A lighting device comprising the organic electroluminescence device according to claim 3 or 4. 少なくとも、請求項1又は2に記載の化合物及び有機溶剤を含む、組成物。 A composition comprising at least a compound according to claim 1 or 2 and an organic solvent. さらに発光材料を含む、請求項7に記載の組成物。 8. The composition of claim 7, further comprising a luminescent material. 請求項7又は8に記載の組成物を湿式成膜法にて成膜する工程を有する、薄膜形成方法。 A method for forming a thin film, comprising the step of forming a film from the composition according to claim 7 or 8 by a wet film-forming method. 基板上に、陽極及び陰極を有し、前記陽極と前記陰極の間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、
前記有機層を、請求項7又は8に記載の組成物を用いて湿式成膜法にて形成する工程を有する、有機電界発光素子の製造方法。
A method for producing an organic electroluminescence device having an anode and a cathode on a substrate and an organic layer between the anode and the cathode, the method comprising:
A method for producing an organic electroluminescence device, comprising the step of forming the organic layer using the composition according to claim 7 or 8 by a wet film-forming method.
前記有機層が発光層である、請求項10に記載の有機電界発光素子の製造方法。 11. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 10, wherein the organic layer is a light-emitting layer.
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