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JP2023075501A - 圧電デバイス - Google Patents

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JP2023075501A
JP2023075501A JP2021188435A JP2021188435A JP2023075501A JP 2023075501 A JP2023075501 A JP 2023075501A JP 2021188435 A JP2021188435 A JP 2021188435A JP 2021188435 A JP2021188435 A JP 2021188435A JP 2023075501 A JP2023075501 A JP 2023075501A
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    • B06B1/02Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
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Abstract

【課題】接着剤による共振周波数の変化を抑制できる圧電デバイスを提供する。【解決手段】圧電デバイス1は、圧電素子7と圧電素子7に接続される共通端子12が配置される第一面4aを含む第一基板4と、制御回路29に接続される共通接続端子22が配置される第二面2aを含む第二基板2と、第一基板4と第二基板2との間に配置され、第一面4aに接合される第三面3aと、第二面2aに対向する第四面3bと、を含む第三基板3と、第二基板2と第三基板3とを接着する接着部32と、を備え、第三基板3は、第三面3aから第四面3bに貫通する第1貫通穴14と、第1貫通穴14に設けられ、共通端子12に接続される第1貫通電極16と、を備え、共通接続端子22は、第1貫通電極16に接続され、第1貫通電極16を介して共通端子12と電気的に接続され、第二基板2は第三基板3と対向する第二面2aに接着剤の流れ出しを抑制する壁部33を備える。【選択図】図1

Description

本発明は、圧電デバイスに関するものである。
従来、圧電素子がマトリックス状に配置された圧電デバイスが知られている。例えば、開口部を有する封止板と、開口部を閉塞する振動板と、振動板に設置され圧電体を上部電極と下部電極で挟んだ圧電素子と、を備える圧電デバイスが特許文献1に開示されている。
それによると、振動板と封止板とが対向して配置される。封止板は振動板が振動する範囲を制限する。封止板の開口部に囲まれた振動板の大きさにより振動板が振動する周波数が設定される。
封止板には一対の貫通電極が配置される。上部電極及び下部電極はそれぞれ貫通電極と導通する。封止板は配線基板と対向配置される。配線基板はパッドを備える。貫通電極は配線基板側に突出する。パッドと貫通電極とが電気的に接触する。上部電極及び下部電極はそれぞれパッドと導通する。
金属フィラーを含有する樹脂系接着剤により貫通電極が形成される。封止板と配線基板とが絶縁性の接着剤にて接着される。
特開2021-106183号公報
特許文献1の圧電デバイスでは、封止板と配線基板との間に広がる接着剤の範囲にばらつきが生じる。この場合、封止板と配線基板との接着範囲が封止板の剛性に影響を与える。そして、封止板の剛性が振動板の振動特性に影響を与える。このため、封止板と配線基板との間に広がる接着剤の範囲のばらつきが圧電素子及び振動板の共振周波数を変化させる。そこで、接着剤による共振周波数の変化を抑制できる圧電デバイスが望まれていた。
圧電デバイスは、複数の圧電素子と前記圧電素子に接続される第一電極とが配置される第一面を含む第一基板と、制御回路に接続される第二電極が配置される第二面を含む第二基板と、前記第一基板と前記第二基板との間に配置され、前記第一面に接合される第三面と、前記第二面に対向する第四面と、を含む第三基板と、前記第二基板と前記第三基板を接着する接着部と、を備え、前記第三基板は、前記第三面から前記第四面に貫通する貫通穴と、前記貫通穴に設けられ、前記第一電極に接続される第三電極とを備え、前記第二電極は、前記第三電極に接続され、前記第三電極を介して前記第一電極と電気的に接続されており、前記第二基板は前記第三基板と対向する前記第二面に接着剤の流れ出しを抑制する壁部を備える。
第1実施形態における圧電デバイスの構成を示す概略分解斜視図。 圧電デバイスの構成を示す模式側断面図。 圧電デバイスの構成を示す模式側断面図。 第一基板の構成を示す模式平面図。 貫通電極の構成を示す模式側断面図。 圧電デバイスの構成を示す模式側断面図。 接着剤及び壁部を説明するための要部模式側断面図。
第1実施形態
本実施形態では、圧電デバイスの特徴的な例について説明する。
図1に示すように、圧電デバイス1では第二基板2、第三基板3、第一基板4、第四基板5がこの順にZ方向に重ねられる。Z方向において第四基板5側をZ正方向とし、第二基板2側をZ負方向とする。Z正方向に沿う方向を第一方向6とする。第一方向6は第一基板4、第三基板3、第二基板2の積層方向である。
第一方向6から見て第二基板2、第三基板3、第一基板4、第四基板5は長方形である。第二基板2、第三基板3、第一基板4、第四基板5の長手方向は同じ方向である。第三基板3、第一基板4、第四基板5は同じ形状である。第二基板2は第三基板3、第一基板4、第四基板5より大きい。
第二基板2の長手方向をX方向とする。第二基板2の短手方向をY方向とする。X方向、Y方向及びZ方向は互いに直交する。
第一基板4は第三基板3を向く側に第一面4aを含む。第一面4aには複数の圧電素子7がマトリックス状に配置される。圧電素子7に交流電圧を印加することにより、圧電デバイス1は第一基板4を振動させて超音波を射出することができる。第一基板4は振動板ともいう。複数の圧電素子7は配列して配置される素子アレイ8を構成する。
圧電素子7の個数は特に限定されない。本実施形態では、例えば、圧電素子7は4行4列の配列を構成しているので、圧電素子7の個数は16個である。
第四基板5はY方向に長い第四穴9を4つ備える。第一方向6から見て第四穴9の形状は平行四辺形である。第四基板5はシリコン単結晶基板から形成される。第四穴9はウエットエッチング法にて形成される。第四穴9の側面はエッチング速度の遅い結晶面になる。シリコン単結晶基板ではエッチング速度の遅い結晶面が平行四辺形であるので、第四穴9の形状は平行四辺形となっている。第四穴9は第四基板5を貫通する。第四穴9は圧電素子7の配列と対向する場所に配置される。尚、第四穴9の個数は特に限定されない。
第三基板3は第一基板4と第二基板2との間に配置される。第三基板3は第三面3a及び第四面3bを有する。第三面3aはZ正方向を向く。第四面3bはZ負方向を向く。第三面3aが第一基板4の第一面4aに接合される。第三基板3は第三面3aにX方向に長い封止空間としての第二溝11を4つ備える。第一方向6から見て第二溝11の形状は平行四辺形である。第三基板3はシリコン単結晶基板から形成される。第二溝11はウエットエッチング法にて形成される。このため、第二溝11の形状は平行四辺形になっている。第二溝11は圧電素子7の配列と対向する場所に配置される。
第一方向6から見て、第四穴9と第二溝11とが交差する場所に圧電素子7が配置される。このため、圧電素子7が配置された場所では第一基板4がZ正方向及びZ負方向に振動することができる。
第一基板4と第四基板5とは一体となっている。第一基板4の材質は酸化シリコンであり、第一基板4は第四基板5を酸化して形成される。
第一基板4の第一面4aには第一電極としての共通端子12及び第一電極としての駆動端子13が配置される。共通端子12及び駆動端子13は圧電素子7と電気的に接続される。
第三基板3は、共通端子12に対応する位置に第三面3aから第四面3bにかけて貫通する貫通穴としての第1貫通穴14を有する。第三基板3は、駆動端子13に対応する位置に第三面3aから第四面3bにかけて貫通する貫通穴としての第2貫通穴15を有する。第三基板3の厚みは約400μmである。
第三基板3の第1貫通穴14には共通端子12のZ負方向側に第三電極としての第1貫通電極16が設けられる。第1貫通電極16は共通端子12と導通する。第三基板3の第2貫通穴15には駆動端子13のZ負方向側に第三電極としての第2貫通電極17が設けられる。第2貫通電極17は駆動端子13と導通する。
第三基板3は第二溝11のX正方向側に開放穴18を備える。開放穴18は第三面3aから第四面3bまで貫通する。開放穴18と第二溝11とは第1連通溝19により繋がる。4つの第二溝11は互いに第2連通溝21により繋がる。
第三基板3と第一基板4とは接着固定される。第二溝11は開放穴18、第1連通溝19及び第2連通溝21と繋がるので、密閉されない。第一基板4が振動するとき、第二溝11内の空気は外気と繋がるので気圧が変動し難い。このため、第一基板4は振動し易くなっている。
第二基板2は第三基板3の第四面3bと対向する第二面2aを含む。第二基板2の第二面2aには第1貫通電極16と対応する場所に第二電極としての共通接続端子22が配置される。共通接続端子22は、第1貫通電極16に接続され、第1貫通電極16を介して共通端子12と電気的に接続されている。第二基板2の第二面2aには第2貫通電極17と対応する場所に第二電極としての駆動接続端子23が配置される。駆動接続端子23は、第2貫通電極17に接続され、第2貫通電極17を介して駆動端子13と電気的に接続されている。共通接続端子22及び駆動接続端子23に電力を供給することにより、圧電素子7に電力を供給することができる。第三基板3と第二基板2とはフリップチップ実装されている。
第二基板2は共通接続端子22のX負方向側に外部共通端子24を備える。外部共通端子24と共通接続端子22とは共通接続配線25により電気的に接続される。第二基板2は駆動接続端子23のX負方向側に外部駆動端子26を備える。外部駆動端子26と駆動接続端子23とは駆動接続配線27により電気的に接続される。
外部共通端子24及び外部駆動端子26は外部配線28により制御回路29と電気的に接続される。従って、共通接続端子22及び駆動接続端子23は制御回路29と電気的に接続される。
共通接続配線25及び駆動接続配線27はレジスト31に覆われる。共通接続端子22、駆動接続端子23、外部共通端子24及び外部駆動端子26はレジスト31に覆われないで露出する。共通接続端子22は第1貫通電極16と導通する。駆動接続端子23は第2貫通電極17と導通する。
圧電デバイス1は第二基板2の第二面2aに第二基板2と第三基板3とを接着する接着部32を備える。接着部32は接着部としての第1接着部32a及び第2接着部32bを備える。第一方向6から見て第三基板3のX正方向側の端におけるY正方向側の角とY負方向側の角と重なる場所の第二基板2には第2接着部32bが配置される。第三基板3のX負方向側の端に対応する第二基板2には第1貫通電極16及び第2貫通電極17の周りに第1接着部32aが配置される。共通接続端子22及び駆動接続端子23はそれぞれ第1貫通電極16及び第2貫通電極17と対向する。従って、共通接続端子22及び駆動接続端子23の周りに第1接着部32aが配置される。第1接着部32aと第2接着部32bとが離れているので、接着により第三基板3が撓むことが抑制される。
第二基板2及び第三基板3の組み立て工程では、接着部32が形成される場所に接着剤が塗布される。接着剤は第二基板2及び第三基板3のいずれか一方に塗布される。第二基板2及び第三基板3により接着剤が挟まれる。第1貫通電極16と共通接続端子22とが互いに押圧される。第2貫通電極17と駆動接続端子23とが互いに押圧される。第1貫通電極16、第2貫通電極17、共通接続端子22及び駆動接続端子23に押されて接着剤が広がる。第二基板2は第三基板3と対向する第二面2aに接着剤の流れ出しを抑制する壁部33を備える。壁部33により接着剤が広がることが抑制される。接着剤は非導通性である。非導通性接着剤はNCP(Non-Conductive Paste)という。接着剤は固化されて接着部32になる。
この構成によれば、第二基板2は壁部33を備える。第二基板2と第三基板3とを接着するとき、第二基板2に接着剤が塗布される。壁部33により接着剤の流出が抑えられる。接着部32では接着剤により第二基板2と第三基板3とが接着固定される。圧電デバイス1の平面視で素子アレイ8と重なる領域まで接着剤が流出するとき、接着により第三基板3に内部応力が生じるので、圧電デバイス1の共振周波数に影響を与える。壁部33が配置されている為、圧電デバイス1の平面視で素子アレイ8と重なる領域まで接着剤が及ばない。従って、圧電デバイス1は接着剤による共振周波数の変化を抑制できる。
壁部33はレジスト31である。この構成によれば、第二基板2には共通接続端子22及び駆動接続端子23が配置される。共通接続端子22から外部共通端子24に続く共通接続配線25が接続される。駆動接続端子23から外部駆動端子26に続く駆動接続配線27が接続される。共通接続配線25及び駆動接続配線27はレジスト31により被膜される。壁部33はレジスト31である為、壁部33と共通接続配線25及び駆動接続配線27の被膜であるレジスト31とを同時に形成できる。従って、壁部33と共通接続配線25及び駆動接続配線27のレジスト31とを別の工程で形成するときに比べて生産性良く圧電デバイス1を製造することができる。
図2は図1のAA線に沿う断面を見た図である。図3は図1のBB線に沿う断面を見た図である。図2及び図3に示すように第一方向6から見て第四穴9と第二溝11とが交差する場所に圧電素子7が配置される。圧電素子7は第一基板4の第一面4aに配置される。圧電素子7は第一面4aからZ負方向に重ねて配置される駆動電極7a、圧電膜7b、共通電極7cにより構成される。
圧電膜7bは、例えば、ペロブスカイト構造を有する遷移金属酸化物を用いて形成される。具体的には圧電膜7bはPb、Ti及びZrを含むチタン酸ジルコン酸鉛を用いて形成される。
複数の駆動電極7aはX方向に延在する駆動配線34と導通する。駆動電極7aと駆動配線34とは同じ材質である。複数の共通電極7cはY方向に延在する共通配線35と導通する。共通電極7cと共通配線35とは同じ材質である。
第一基板4及び圧電素子7により超音波トランスデューサー36が構成される。駆動電極7a及び共通電極7cは制御回路29と電気的に接続される。共通電極7cは、所定の基準電位に維持されている。そして、駆動電極7aに駆動パルス信号が入力されることで、圧電素子7が変形して第一基板4が振動する。これにより、超音波トランスデューサー36はZ正方向側に超音波を送信する。圧電デバイス1のZ正方向側に物体があるとき、超音波は物体にて反射される。反射した超音波が第四基板5の第四穴9を通って超音波トランスデューサー36に到達すると、超音波の音圧に応じて第一基板4が振動する。第一基板4の振動によって圧電膜7bが変形して、駆動電極7a及び共通電極7cの間で電位差が発生する。これにより、超音波トランスデューサー36の駆動電極7aから、受信する超音波の音圧に応じた受信信号が出力される。つまり、超音波が検出される。
図4は第一基板4を第三基板3側から見た図である。図4に示すように、第一面4aにはX方向に延在する4本の駆動配線34が配置される。各駆動配線34はX負方向側で統合されて駆動端子13と電気的に接続される。第一面4aにはY方向に延在する4本の共通配線35が配置される。各共通配線35はY負方向側で統合されて共通端子12と電気的に接続される。
素子アレイ8が配置される領域をアレイ領域37とする。アレイ領域37を囲む領域を非アレイ領域38とする。非アレイ領域38には共通端子12及び駆動端子13が配置される。
制御回路29から外部共通端子24に出力される信号は共通接続配線25、共通接続端子22、第1貫通電極16、共通端子12、共通配線35を通って共通電極7cに供給される。制御回路29から外部駆動端子26に出力される信号は駆動接続配線27、駆動接続端子23、第2貫通電極17、駆動端子13、駆動配線34を通って駆動電極7aに供給される。制御回路29は圧電素子7と電気的に接続される。制御回路29は圧電素子7に駆動信号を出力する。
図5は図1のCC線に沿う断面を見た図である。図5に示すように、第1貫通電極16は共通端子12及び共通接続端子22を電気的に接続する。第2貫通電極17は駆動端子13及び駆動接続端子23を電気的に接続する。
第二基板2は第三基板3の第四面3bと対向して配置される。第二基板2は第1貫通電極16と導通する共通接続端子22を有する。第二基板2は第2貫通電極17と導通する駆動接続端子23を有する。共通接続端子22及び駆動接続端子23に電力を供給することにより、圧電素子7に電力が供給される。
第1貫通電極16及び第2貫通電極17は、導電性の樹脂系接着剤を加熱乾燥して固化したもので構成される。具体的には、第1貫通電極16及び第2貫通電極17は銀フィラーを含有する樹脂である。樹脂系接着剤には、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂系の接着剤が用いられる。尚、共通接続端子22及び駆動接続端子23上に銀バンプを形成しても良い。第1貫通電極16と共通接続端子22との密着性を向上することができる。第2貫通電極17と駆動接続端子23との密着性を向上することができる。
図6は図1のDD線に沿う断面を見た図である。図6に示すように、第一基板4と第三基板3との間には第一基板4の振動を可能にする第二溝11が配置される。第三基板3は第二溝11と第四面3bとを連通する開放穴18を備える。壁部33は第1貫通穴14及び第2貫通穴15と開放穴18との間に配置される。
この構成によれば、壁部33が接着剤の流れを抑制する。従って、圧電デバイス1の平面視で開放穴18まで接着剤の流れが届かない。開放穴18が塞がるとき第一基板4の振動が第二溝11内の気圧を変動させる。このため、第一基板4の振動が抑制されて共振周波数が変化する。本実施形態の圧電デバイス1は開放穴18に接着剤が入ることによる共振周波数の変化を抑制できる。
第一方向6からの平面視において、壁部33は、第1貫通穴14及び第2貫通穴15と素子アレイ8との間に配置される。アレイ領域37まで接着剤が広がるとき、第三基板3の剛性が高くなる。このため、圧電デバイス1の共振周波数が変わる。図7に示すように、接着部32における接着剤の量が多いとき、接着剤は壁部33まで到達する。そして、壁部33が接着剤の流れを留める。そして、接着剤が広がることを壁部33が抑制する。
この構成によれば、壁部33が接着剤の流れを抑制する。従って、第一基板4、第二基板2、第三基板3が積層する第一方向6からの平面視において、素子アレイ8と重なるアレイ領域37まで接着剤が及ばない。従って、圧電デバイス1は接着剤による共振周波数の変化を抑制できる。
1…圧電デバイス、2…第二基板、2a…第二面、3…第三基板、3a…第三面、3b…第四面、4…第一基板、4a…第一面、7…圧電素子、8…素子アレイ、11…封止空間としての第二溝、12…第一電極としての共通端子、13…第一電極としての駆動端子、14…貫通穴としての第1貫通穴、15…貫通穴としての第2貫通穴、16…第三電極としての第1貫通電極、17…第三電極としての第2貫通電極、18…開放穴、22…第二電極としての共通接続端子、23…第二電極としての駆動接続端子、29…制御回路、32…接着部、33…壁部。

Claims (4)

  1. 複数の圧電素子と前記圧電素子に接続される第一電極とが配置される第一面を含む第一基板と、
    制御回路に接続される第二電極が配置される第二面を含む第二基板と、
    前記第一基板と前記第二基板との間に配置され、前記第一面に接合される第三面と、前記第二面に対向する第四面と、を含む第三基板と、
    前記第二基板と前記第三基板を接着する接着部と、を備え、
    前記第三基板は、前記第三面から前記第四面に貫通する貫通穴と、前記貫通穴に設けられ、前記第一電極に接続される第三電極とを備え、
    前記第二電極は、前記第三電極に接続され、前記第三電極を介して前記第一電極と電気的に接続されており、
    前記第二基板は前記第三基板と対向する前記第二面に接着剤の流れ出しを抑制する壁部を備えることを特徴とする圧電デバイス。
  2. 請求項1に記載の圧電デバイスであって、
    前記複数の圧電素子は配列して配置される素子アレイを構成し、前記第一基板、前記第二基板、前記第三基板の積層方向からの平面視において、前記壁部は、前記貫通穴と前記素子アレイとの間に配置されることを特徴とする圧電デバイス。
  3. 請求項1又は2に記載の圧電デバイスであって、
    前記第一基板と前記第三基板との間には前記第一基板の振動を可能にする封止空間が配置され、
    前記第三基板は前記封止空間と前記第四面とを連通する開放穴を備え、
    前記壁部は前記貫通穴と前記開放穴との間に配置されることを特徴とする圧電デバイス。
  4. 請求項1~3のいずれか一項に記載の圧電デバイスであって、
    前記壁部はレジストであることを特徴とする圧電デバイス。
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