JP2022120717A - フラックス入りワイヤ、溶接金属、ガスシールドアーク溶接方法及び溶接継手の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】As-weldedのみならず、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接部を得ることができる高張力鋼用フラックス入りワイヤを提供する。【解決手段】フラックス入りワイヤは、ワイヤ全質量に対する質量%で、C:0.01%以上0.10%以下、Si:0%超0.45%以下、Mn:1.0%以上3.0%以下、Ni:3.1%以上5.5%以下、Mg:0.10%以上1.00%以下、Mo:0.05%以上0.65%以下、を含有し、Cr:0.65%以下、Cu:0.85%以下及びV:0.045%以下、であるとともに、ワイヤ全質量に対する質量%で、Ni含有量を[Ni]と表し、Mn含有量を[Mn]と表し、Si含有量を[Si]と表す場合に、[Ni]/([Mn]+[Si]):1.10以上5.40以下である。【選択図】なし
Description
本発明は、高張力鋼の溶接に使用されるフラックス入りワイヤ、溶接金属、ガスシールドアーク溶接方法及び溶接継手の製造方法に関する。
石油、ガス等の掘削及び生産に使用される海洋構造物及びタンク等の溶接製品は、設備の大型化や寒冷地での稼働が求められており、これらの製造に用いる鋼板や溶接材料は、高強度かつ低温靱性に優れた特性が求められる。また、これらの特性以外にも、溶接製品の品質をより向上させるために、溶接後熱処理(PWHT:Post Weld Heat Treatment)を施す場合がある。PWHTを施すことで、例えば、溶接部の残留応力を除去することができるため、溶接部の割れを抑制できる効果を得ることができる。
しかしながら、このPWHTを行うと、析出硬化や焼き戻し脆化等を原因とした溶接部の脆化により、靱性が低下するおそれがある。特に、高張力鋼の溶接部においては、強度を向上させるために添加した種々の元素の影響により、PWHTでの脆化が著しく、強度が上がるほど、PWHTを適用することができない場合が多くなる。
よって、PWHT後も優れた機械的性質を有する高張力鋼用の溶接材料の開発が求められている。
よって、PWHT後も優れた機械的性質を有する高張力鋼用の溶接材料の開発が求められている。
例えば、特許文献1には、690MPa級高張力鋼の溶接において、長時間PWHT後の溶接部の高温強度と低温靱性を良好にすることができるフラックス入りワイヤが提案されている。上記特許文献1には、620℃で12時間のPWHTを実施した結果、低温靱性が良好であったことが記載されている。
また、特許文献2には、60Kgf/mm2(約588MPa)以上の高張力鋼のガスシールドアーク溶接に使用されるワイヤであり、PWHTによる靱性低下のない高張力鋼用ワイヤが開示されている。なお、上記特許文献2には、80Kgf/mm2(約785MPa)級の高張力鋼用のワイヤについても、600℃で3時間のPWHTを実施した結果、靱性の低下がほとんどないことが記載されている。
また、特許文献2には、60Kgf/mm2(約588MPa)以上の高張力鋼のガスシールドアーク溶接に使用されるワイヤであり、PWHTによる靱性低下のない高張力鋼用ワイヤが開示されている。なお、上記特許文献2には、80Kgf/mm2(約785MPa)級の高張力鋼用のワイヤについても、600℃で3時間のPWHTを実施した結果、靱性の低下がほとんどないことが記載されている。
しかしながら、上記特許文献1及び2については、1種類のPWHT条件のみで考慮されおり、他のPWHT条件でも優れた靱性が得られるとは限らない。
また、PWHT条件の裕度が大きい方が、あらゆる溶接製品に適用でき、施工管理も容易であるとともに、溶接部の品質安定性をより一層向上させることができるといえる。
また、PWHT条件の裕度が大きい方が、あらゆる溶接製品に適用でき、施工管理も容易であるとともに、溶接部の品質安定性をより一層向上させることができるといえる。
一方、従来より、PWHTは条件次第で靱性を低下させるおそれがあり、PWHT条件は材料の種類、厚さ、溶接継手、施工条件等によって厳格に決定されるものであることが知られている。
したがって、PWHT条件に裕度を持たせることは非常に困難であり、特に、高強度になるほど、添加元素を多く含むことになることから、焼き戻し脆化等の脆化現象が生じやすくなるため、PWHT条件はより厳格になる。
したがって、PWHT条件に裕度を持たせることは非常に困難であり、特に、高強度になるほど、添加元素を多く含むことになることから、焼き戻し脆化等の脆化現象が生じやすくなるため、PWHT条件はより厳格になる。
本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであって、高張力鋼用フラックス入りワイヤであり、溶接のまま(以下、「As-welded」ともいう。)のみならず、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接部を得ることができるフラックス入りワイヤ、ガスシールドアーク溶接方法及び溶接継手の製造方法を提供することを目的とする。また、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接金属を提供することを目的とする。
本発明の上記目的は、フラックス入りワイヤに係る下記[1]の構成により達成される。
[1] 鋼製外皮にフラックスが充填されたフラックス入りワイヤであって、
ワイヤ全質量に対して、
C:0.01質量%以上0.10質量%以下、
Si:0質量%超0.45質量%以下、
Mn:1.0質量%以上3.0質量%以下、
Ni:3.1質量%以上5.5質量%以下、
Mg:0.10質量%以上1.00質量%以下、
Mo:0.05質量%以上0.65質量%以下、を含有し、
Cr:0.65質量%以下、
Cu:0.85質量%以下、及び
V:0.045質量%以下、であるとともに、
ワイヤ中のNi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Ni]と表し、
ワイヤ中のMn含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Mn]と表し、
ワイヤ中のSi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Si]と表す場合に、
[Ni]/([Mn]+[Si]):1.10以上5.40以下であることを特徴とするフラックス入りワイヤ。
[1] 鋼製外皮にフラックスが充填されたフラックス入りワイヤであって、
ワイヤ全質量に対して、
C:0.01質量%以上0.10質量%以下、
Si:0質量%超0.45質量%以下、
Mn:1.0質量%以上3.0質量%以下、
Ni:3.1質量%以上5.5質量%以下、
Mg:0.10質量%以上1.00質量%以下、
Mo:0.05質量%以上0.65質量%以下、を含有し、
Cr:0.65質量%以下、
Cu:0.85質量%以下、及び
V:0.045質量%以下、であるとともに、
ワイヤ中のNi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Ni]と表し、
ワイヤ中のMn含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Mn]と表し、
ワイヤ中のSi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Si]と表す場合に、
[Ni]/([Mn]+[Si]):1.10以上5.40以下であることを特徴とするフラックス入りワイヤ。
フラックス入りワイヤに係る本発明の好ましい実施形態は、以下の[2]及び[3]に関する。
[2] さらに、ワイヤ全質量に対して、
B:0.10質量%以下、を含有することを特徴とする、[1]に記載のフラックス入りワイヤ。
[2] さらに、ワイヤ全質量に対して、
B:0.10質量%以下、を含有することを特徴とする、[1]に記載のフラックス入りワイヤ。
[3] さらに、Ti、Al、Zr、F、Na及びKからなる群から選択される少なくとも1種を、
ワイヤ全質量に対して、
Ti:2.5質量%以上6.0質量%以下、
Al:0.50質量%以下、
Zr:0.50質量%以下、
F:0.10質量%以上0.50質量%以下、及び
NaとKとの総量:0.01質量%以上0.30質量%以下、の範囲で含有することを
特徴とする、[1]又は[2]に記載のフラックス入りワイヤ。
ワイヤ全質量に対して、
Ti:2.5質量%以上6.0質量%以下、
Al:0.50質量%以下、
Zr:0.50質量%以下、
F:0.10質量%以上0.50質量%以下、及び
NaとKとの総量:0.01質量%以上0.30質量%以下、の範囲で含有することを
特徴とする、[1]又は[2]に記載のフラックス入りワイヤ。
本発明の上記目的は、溶接金属に係る下記[4]の構成により達成される。
[4] [1]~[3]のいずれか1つに記載のフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することにより得られることを特徴とする溶接金属。
本発明の上記目的は、ガスシールドアーク溶接方法に係る下記[5]の構成により達成される。
[5] [1]~[3]のいずれか1つに記載のフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することを特徴とするガスシールドアーク溶接方法。
本発明の上記目的は、溶接継手の製造方法に係る下記[6]の構成により達成される。
[6] 高張力鋼を母材とし、[1]~[3]のいずれか1つに記載のフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することを特徴とする溶接継手の製造方法。
[6] 高張力鋼を母材とし、[1]~[3]のいずれか1つに記載のフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することを特徴とする溶接継手の製造方法。
本発明によれば、As-weldedのみならず、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接部を得ることができる高張力鋼用フラックス入りワイヤを提供することができる。
また、本発明によれば、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接金属を提供することができる。
さらに、本発明によれば、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接部を得ることができるガスシールドアーク溶接方法及び溶接継手の製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接金属を提供することができる。
さらに、本発明によれば、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接部を得ることができるガスシールドアーク溶接方法及び溶接継手の製造方法を提供することができる。
以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について、詳細に説明する。なお、本発明は、以下で説明する実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変更して実施することができる。
本実施形態における含有量とは、特に説明がない限り、フラックス入りワイヤ全質量に対する質量%を意味する。また、本実施形態に係るフラックス入りワイヤに含有される各元素及び各化合物は、鋼製外皮及びフラックスのいずれかに含有されていればよく、鋼製外皮及びフラックスの両方に含有されていてもよい。
さらに、上記各元素は、特筆しない限り、金属の形態でフラックス入りワイヤ中に含有されていても、化合物の形態でフラックス入りワイヤ中に含有されていてもよく、また、金属及び化合物の両方の形態でフラックス入りワイヤ中に含有されていてもよい。したがって、上記各元素がどのような形態でフラックス入りワイヤ中に含有されていても、元素単体に換算した換算値で規定する。例えば、Siを例に挙げる場合に、Si含有量とは、金属SiとSi化合物のSi換算値の合計をいう。なお、金属Siとは、Si単体及びSi合金を含む。
さらに、上記各元素は、特筆しない限り、金属の形態でフラックス入りワイヤ中に含有されていても、化合物の形態でフラックス入りワイヤ中に含有されていてもよく、また、金属及び化合物の両方の形態でフラックス入りワイヤ中に含有されていてもよい。したがって、上記各元素がどのような形態でフラックス入りワイヤ中に含有されていても、元素単体に換算した換算値で規定する。例えば、Siを例に挙げる場合に、Si含有量とは、金属SiとSi化合物のSi換算値の合計をいう。なお、金属Siとは、Si単体及びSi合金を含む。
[1.フラックス入りワイヤ]
本実施形態に係るフラックス入りワイヤ(以下、単に「ワイヤ」ともいう。)は、鋼製外皮(以下、単に「外皮」ともいう。)にフラックスが充填されたものである。
本実施形態において、ワイヤの外径は特に限定されないが、例えば、0.9mm以上1.6mm以下であることが好ましい。また、フラックス充填率は、ワイヤ中の各元素の含有量が本発明の範囲内であれば、任意の値に設定することができるが、よりワイヤの伸線性及びワイヤ送給性を向上させるためには、例えば、ワイヤ全質量に対して10質量%以上、20質量%以下とすることが好ましい。さらに、ワイヤは、外皮に継ぎ目を有する場合、継ぎ目を有しない場合など、その継ぎ目の形態や断面の形状に制限はない。
本実施形態に係るフラックス入りワイヤ(以下、単に「ワイヤ」ともいう。)は、鋼製外皮(以下、単に「外皮」ともいう。)にフラックスが充填されたものである。
本実施形態において、ワイヤの外径は特に限定されないが、例えば、0.9mm以上1.6mm以下であることが好ましい。また、フラックス充填率は、ワイヤ中の各元素の含有量が本発明の範囲内であれば、任意の値に設定することができるが、よりワイヤの伸線性及びワイヤ送給性を向上させるためには、例えば、ワイヤ全質量に対して10質量%以上、20質量%以下とすることが好ましい。さらに、ワイヤは、外皮に継ぎ目を有する場合、継ぎ目を有しない場合など、その継ぎ目の形態や断面の形状に制限はない。
本発明者らは、高強度の溶接部において、PWHTを行うことによる靱性低下のメカニズムについて検討を行うとともに、幅広い条件でPWHTを行った場合でも、優れた低温靱性を有する溶接部を得るため、鋭意検討を行った。その結果、以下の知見を見出し、本発明を完成するに至った。なお、上記溶接部とは、溶接金属及び熱影響部(HAZ:Heat-Affected Zone)を表すが、本願明細書においては、以下、溶接金属について説明する。
まず、高強度鋼における従来の靱性低下メカニズムについて説明する。
PWHT後に溶接金属の靱性が低下する主原因としては、従来、以下の2つの原因が挙げられる。
PWHT後に溶接金属の靱性が低下する主原因としては、従来、以下の2つの原因が挙げられる。
(原因1)溶接金属中のCr、Mo、Nb、V等の含有量が多い場合に、これらの成分がCと炭化物を形成して析出することにより溶接金属が硬化すること。
(原因2)PWHT温度からの徐冷による焼き戻し脆化等の脆化現象が生じること。
(原因2)PWHT温度からの徐冷による焼き戻し脆化等の脆化現象が生じること。
従来は、上記(原因1)及び(原因2)の影響により、主に溶接金属の粒界強度が低下し、その結果、靱性が低下すると考えられていた。
したがって、従来では、PWHT後に目的の強度を維持しつつ、優れた靱性を確保するために、以下の対策がなされていた。
したがって、従来では、PWHT後に目的の強度を維持しつつ、優れた靱性を確保するために、以下の対策がなされていた。
(対策1)旧オーステナイト粒界で析出して成長する炭化物を抑制する。
(対策2)旧オーステナイト粒界における不純物元素の偏析を抑制する。
(対策2)旧オーステナイト粒界における不純物元素の偏析を抑制する。
しかしながら、PWHT条件によっては、上記(対策1)や(対策2)を実施するのみでは不十分である。なお、一般的に、PWHT条件は、保持温度及び保持時間の要素からなり、これらの要素をパラメータとしたラーソン・ミラー・パラメータ(Larson-Miller parameter:以下、「LMP」という。)で整理できる。
そこで、本願明細書においては、以下に示す3つの条件a~cにおいて、目的の強度を維持しつつ低温靱性が優れた溶接金属が得られるフラックス入りワイヤを、PWHT条件が幅広いと判断するものとした。
(条件a)溶接のまま(As-welded)。
(条件b)LMPが高いPWHT条件として、620℃の温度で8時間の条件(以下、「高LMP条件」という。)。
(条件c)LMPが低いPWHT条件として、580℃の温度で2時間の条件(以下、「低LMP条件」という。)。
(条件b)LMPが高いPWHT条件として、620℃の温度で8時間の条件(以下、「高LMP条件」という。)。
(条件c)LMPが低いPWHT条件として、580℃の温度で2時間の条件(以下、「低LMP条件」という。)。
(条件a)の溶接のまま、及び(条件b)の高LMP条件では、上記(対策1)及び(対策2)に加え、ワイヤ中にNiを適量含有させることで、良好な低温靱性を得ることができることが知られている。
その一方で、(条件c)の低LMP条件では、Niを適量含有させるだけでは、良好な低温靱性を得ることができない。本発明者らは、(条件c)の低LMP条件でPWHTを実施した場合における、低温靱性が低下するメカニズムを見出すとともに、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接金属を得ることができる対策を見出した。以下に、(条件c)の低LMP条件において、低温靱性が低下するメカニズムと対策について説明する。
その一方で、(条件c)の低LMP条件では、Niを適量含有させるだけでは、良好な低温靱性を得ることができない。本発明者らは、(条件c)の低LMP条件でPWHTを実施した場合における、低温靱性が低下するメカニズムを見出すとともに、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接金属を得ることができる対策を見出した。以下に、(条件c)の低LMP条件において、低温靱性が低下するメカニズムと対策について説明する。
溶接金属中にNiが多く含まれると、溶接金属組織上にNiを含む偏析帯(以下、「Ni偏析帯」という。)、すなわち、Niが濃化した領域が生じる。このNi偏析帯は、(条件a)の溶接のまま、及び(条件b)の高LMP条件時には、低温靱性に影響を与えない。
しかし、(条件c)の低LMP条件時においては、Ni偏析帯においてC含有量が高くなり、Ni偏析帯において島状マルテンサイトの生成や炭化物の生成及び粗大化が促進される。特に、島状マルテンサイトの生成が顕著であり、これらの生成物の影響により、Ni偏析帯において脆性破壊が生じやすくなるため、結果として、低温靱性が低下する。
しかし、(条件c)の低LMP条件時においては、Ni偏析帯においてC含有量が高くなり、Ni偏析帯において島状マルテンサイトの生成や炭化物の生成及び粗大化が促進される。特に、島状マルテンサイトの生成が顕著であり、これらの生成物の影響により、Ni偏析帯において脆性破壊が生じやすくなるため、結果として、低温靱性が低下する。
これらのことから、本発明者らは、PWHT後に目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接金属を確保するための対策として、(対策1)及び(対策2)に加えて、以下に示す(対策3)を実施することが効果的であることを見出した。
(対策1)旧オーステナイト粒界で析出して成長する炭化物を抑制する。
(対策2)旧オーステナイト粒界における不純物元素の偏析を抑制する。
(対策3)Ni偏析帯における島状マルテンサイトの生成を抑制する。
(対策2)旧オーステナイト粒界における不純物元素の偏析を抑制する。
(対策3)Ni偏析帯における島状マルテンサイトの生成を抑制する。
そして、本発明者らは、フラックス入りワイヤの化学成分組成、並びにNi、Si及びMnの含有量から算出されるパラメータを適切に制御することで、上記(対策1)~(対策3)を達成することができることを見出した。すなわち、(対策1)~(対策3)が実現されたワイヤを使用することにより、As-weldedのみならず、幅広い条件のPWHT後においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接金属を得ることができる。
また、上記(対策1)~(対策3)に加えて、以下に示す(対策4)を加えると、過度な強度上昇を防止し、低温靱性の低下を抑制することができるため、好ましい。
(対策4)粒内における炭化物の生成を抑制する。
(対策4)粒内における炭化物の生成を抑制する。
なお、炭化物の生成抑制は、少なくともC、Cr、Mo及びVの含有量を、後述する規定範囲内とすることにより達成することができる。
以下、具体的なワイヤの化学成分組成、その含有量の数値限定理由について、更に詳細に説明する。
<C:0.01質量%以上0.10質量%以下>
Cは、溶接金属の強度を向上させる効果を有する成分である。C含有量が0.01質量%未満であると、目的の強度を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するC含有量は、0.01質量%以上とし、0.02質量%以上であることが好ましく、0.03質量%以上であることがより好ましい。
一方、C含有量が0.10質量%を超えると、炭化物の粗大化を助長し、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するC含有量は0.10質量%以下とし、0.09質量%以下であることが好ましく、0.08質量%以下であることがより好ましい。
Cは、溶接金属の強度を向上させる効果を有する成分である。C含有量が0.01質量%未満であると、目的の強度を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するC含有量は、0.01質量%以上とし、0.02質量%以上であることが好ましく、0.03質量%以上であることがより好ましい。
一方、C含有量が0.10質量%を超えると、炭化物の粗大化を助長し、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するC含有量は0.10質量%以下とし、0.09質量%以下であることが好ましく、0.08質量%以下であることがより好ましい。
<Si:0質量%超0.45質量%以下>
Siは、特に、Ni偏析帯における島状マルテンサイトを生成しやすい成分であり、溶接金属中のSi含有量の増加により、焼き戻し脆化が助長され、低温靱性が低下する。Si含有量が0.45質量%を超えると、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するSi含有量は、0.45質量%以下とし、0.40質量%以下であることが好ましく、0.35質量%以下であることがより好ましい。
一方、Siは、完全に0質量%とすることができない成分であるとともに、脱酸元素として気孔欠陥を抑制する効果を有する成分でもある。そして、ワイヤ中にたとえ微量であってもSiが含有されることにより、気孔欠陥を抑制する効果を得ることができる。したがって、ワイヤ全質量に対するSi含有量は、0質量%超とし、0.10質量%以上であることが好ましく、0.15質量%以上であることがより好ましい。
Siは、特に、Ni偏析帯における島状マルテンサイトを生成しやすい成分であり、溶接金属中のSi含有量の増加により、焼き戻し脆化が助長され、低温靱性が低下する。Si含有量が0.45質量%を超えると、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するSi含有量は、0.45質量%以下とし、0.40質量%以下であることが好ましく、0.35質量%以下であることがより好ましい。
一方、Siは、完全に0質量%とすることができない成分であるとともに、脱酸元素として気孔欠陥を抑制する効果を有する成分でもある。そして、ワイヤ中にたとえ微量であってもSiが含有されることにより、気孔欠陥を抑制する効果を得ることができる。したがって、ワイヤ全質量に対するSi含有量は、0質量%超とし、0.10質量%以上であることが好ましく、0.15質量%以上であることがより好ましい。
<Mn:1.0質量%以上3.0質量%以下>
Mnは、溶接金属の強度を向上させる効果を有する成分である。Mn含有量が1.0質量%未満であると、目的の強度を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するMn含有量は、1.0質量%以上とし、1.2質量%以上であることが好ましく、1.4質量%以上であることがより好ましい。
また、Mnは、特に、Ni偏析帯において島状マルテンサイトを生成しやすい成分であるため、溶接金属中のMn含有量の増加により、焼き戻し脆化が助長され、低温靱性が低下する。Mn含有量が3.0質量%を超えると、PWHT後の低温靱性が低下することから、ワイヤ全質量に対するMn含有量は、3.0質量%以下とし、2.9質量%以下であることが好ましく、2.8質量%以下であることがより好ましい。
Mnは、溶接金属の強度を向上させる効果を有する成分である。Mn含有量が1.0質量%未満であると、目的の強度を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するMn含有量は、1.0質量%以上とし、1.2質量%以上であることが好ましく、1.4質量%以上であることがより好ましい。
また、Mnは、特に、Ni偏析帯において島状マルテンサイトを生成しやすい成分であるため、溶接金属中のMn含有量の増加により、焼き戻し脆化が助長され、低温靱性が低下する。Mn含有量が3.0質量%を超えると、PWHT後の低温靱性が低下することから、ワイヤ全質量に対するMn含有量は、3.0質量%以下とし、2.9質量%以下であることが好ましく、2.8質量%以下であることがより好ましい。
<Ni:3.1質量%以上5.5質量%以下>
Niは、強度を向上させるとともに、母相強化により溶接金属の低温靱性を向上させる効果を有する成分である。Ni含有量が3.1質量%未満であると、目的の強度及び低温靱性を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するNi含有量は、3.1質量%以上とし、3.2質量%以上であることが好ましく、3.4質量%以上であることがより好ましい。
一方、Ni含有量が5.5質量%を超えると、高温割れが発生するおそれがある。したがって、ワイヤ全質量に対するNi含有量は、5.5質量%以下とし、5.3質量%以下であることが好ましく、5.0質量%以下であることがより好ましい。
Niは、強度を向上させるとともに、母相強化により溶接金属の低温靱性を向上させる効果を有する成分である。Ni含有量が3.1質量%未満であると、目的の強度及び低温靱性を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するNi含有量は、3.1質量%以上とし、3.2質量%以上であることが好ましく、3.4質量%以上であることがより好ましい。
一方、Ni含有量が5.5質量%を超えると、高温割れが発生するおそれがある。したがって、ワイヤ全質量に対するNi含有量は、5.5質量%以下とし、5.3質量%以下であることが好ましく、5.0質量%以下であることがより好ましい。
<Mg:0.10質量%以上1.00質量%以下>
Mgは、脱酸作用を有し、強度を向上させる成分である。Mg含有量が0.10質量%未満であると、目的の強度を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するMg含有量は、0.10質量%以上とし、0.30質量%以上であることが好ましく、0.35質量%以上であることがより好ましい。
一方、Mg含有量が1.00質量%を超えると、強度が過度に上昇し、低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するMg含有量は、1.00質量%以下とし、0.90質量%以下であることが好ましく、0.80質量%以下であることがより好ましい。
Mgは、脱酸作用を有し、強度を向上させる成分である。Mg含有量が0.10質量%未満であると、目的の強度を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するMg含有量は、0.10質量%以上とし、0.30質量%以上であることが好ましく、0.35質量%以上であることがより好ましい。
一方、Mg含有量が1.00質量%を超えると、強度が過度に上昇し、低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するMg含有量は、1.00質量%以下とし、0.90質量%以下であることが好ましく、0.80質量%以下であることがより好ましい。
<Mo:0.05質量%以上0.65質量%以下>
Moは、溶接金属の強度を向上させるとともに、焼き戻し脆化の抑制に効果を有する成分である。Mo炭化物が溶接金属の粒内へ析出することによって、粒界に析出する炭化物の成長を抑制し、PWHT後の低温靱性の低下を抑制することができる。Mo含有量が0.05質量%未満であると、目的の強度を確保しつつ、目的のPWHT後の低温靱性を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するMo含有量は、0.05質量%以上とし、0.10質量%以上であることが好ましく、0.13質量%以上であることがより好ましい。
一方、Mo含有量が0.65質量%を超えると、Mo炭化物が粒内に析出及び成長して、強度が過度に上昇し、PWHTによって低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するMo含有量は、0.65質量%以下とし、0.55質量%以下であることが好ましく、0.44質量%以下であることがより好ましい。
Moは、溶接金属の強度を向上させるとともに、焼き戻し脆化の抑制に効果を有する成分である。Mo炭化物が溶接金属の粒内へ析出することによって、粒界に析出する炭化物の成長を抑制し、PWHT後の低温靱性の低下を抑制することができる。Mo含有量が0.05質量%未満であると、目的の強度を確保しつつ、目的のPWHT後の低温靱性を得ることができない。したがって、ワイヤ全質量に対するMo含有量は、0.05質量%以上とし、0.10質量%以上であることが好ましく、0.13質量%以上であることがより好ましい。
一方、Mo含有量が0.65質量%を超えると、Mo炭化物が粒内に析出及び成長して、強度が過度に上昇し、PWHTによって低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するMo含有量は、0.65質量%以下とし、0.55質量%以下であることが好ましく、0.44質量%以下であることがより好ましい。
<Cr:0.65質量%以下(0質量%を含む)>
Crは、溶接金属の強度と靱性の両立に有効な成分である。本実施形態において、Cr含有量の下限は特に規定しないが、強度と靱性の両立を目的として、ワイヤ中にCrを含有させる場合に、ワイヤ全質量に対するCr含有量は、0.01質量%以上とすることが好ましく、0.05質量%以上とすることがより好ましく、0.10質量%以上とすることがさらに好ましい。
一方、Crは、PWHTによって主に粗大な粒界炭化物の析出及び成長を助長し、低温靱性を低下させる成分でもある。ワイヤ全質量に対するCr含有量が0.65質量%を超えると、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するCr含有量は、0.65質量%以下とし、0.55質量%以下であることが好ましく、0.45質量%以下であることがより好ましい。
Crは、溶接金属の強度と靱性の両立に有効な成分である。本実施形態において、Cr含有量の下限は特に規定しないが、強度と靱性の両立を目的として、ワイヤ中にCrを含有させる場合に、ワイヤ全質量に対するCr含有量は、0.01質量%以上とすることが好ましく、0.05質量%以上とすることがより好ましく、0.10質量%以上とすることがさらに好ましい。
一方、Crは、PWHTによって主に粗大な粒界炭化物の析出及び成長を助長し、低温靱性を低下させる成分でもある。ワイヤ全質量に対するCr含有量が0.65質量%を超えると、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するCr含有量は、0.65質量%以下とし、0.55質量%以下であることが好ましく、0.45質量%以下であることがより好ましい。
<Cu:0.85質量%以下(0質量%を含む)>
Cuは、強度を維持しつつ、溶接金属の組織を微細化し、低温靱性を向上させる効果を有する成分である。本実施形態において、Cu含有量の下限は特に規定しないが、低温靱性を向上させることを目的として、ワイヤ中にCuを含有させる場合に、ワイヤ全質量に対するCu含有量は、0.01質量%以上であることが好ましく、0.02質量%以上であることがより好ましく、0.05質量%以上であることがさらに好ましい。
一方、Cu含有量が0.85質量%を超えると、PWHTによって、析出物の生成を助長し、低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するCu含有量は、0.85質量%以下とし、0.65質量%以下であることが好ましく、0.45質量%以下であることがより好ましく、0.35質量%以下であることがさらに好ましく、0.20質量%以下であることがさらにより好ましい。なお、ワイヤ表面にCuメッキを施す場合には、メッキ中に含まれるCuも、本実施形態において規定されるCu含有量の範囲に含まれる。
Cuは、強度を維持しつつ、溶接金属の組織を微細化し、低温靱性を向上させる効果を有する成分である。本実施形態において、Cu含有量の下限は特に規定しないが、低温靱性を向上させることを目的として、ワイヤ中にCuを含有させる場合に、ワイヤ全質量に対するCu含有量は、0.01質量%以上であることが好ましく、0.02質量%以上であることがより好ましく、0.05質量%以上であることがさらに好ましい。
一方、Cu含有量が0.85質量%を超えると、PWHTによって、析出物の生成を助長し、低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するCu含有量は、0.85質量%以下とし、0.65質量%以下であることが好ましく、0.45質量%以下であることがより好ましく、0.35質量%以下であることがさらに好ましく、0.20質量%以下であることがさらにより好ましい。なお、ワイヤ表面にCuメッキを施す場合には、メッキ中に含まれるCuも、本実施形態において規定されるCu含有量の範囲に含まれる。
<V:0.045質量%以下(0質量%を含む)>
Vは、溶接金属の強度を向上させる効果を有する一方、粒界炭化物の析出及び成長を助長し、低温靱性を低下させる成分である。本実施形態において、V含有量の下限は特に規定しないが、溶接金属の強度を向上させることを目的として、ワイヤ中にVを含有させる場合に、ワイヤ全質量に対するV含有量は0.010質量%以上とすることが好ましく、0.015質量%以上とすることがより好ましい。
一方、V含有量が0.045質量%を超えると、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するV含有量は、0.045質量%以下とし、0.035質量%以下とすることが好ましい。
Vは、溶接金属の強度を向上させる効果を有する一方、粒界炭化物の析出及び成長を助長し、低温靱性を低下させる成分である。本実施形態において、V含有量の下限は特に規定しないが、溶接金属の強度を向上させることを目的として、ワイヤ中にVを含有させる場合に、ワイヤ全質量に対するV含有量は0.010質量%以上とすることが好ましく、0.015質量%以上とすることがより好ましい。
一方、V含有量が0.045質量%を超えると、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、ワイヤ全質量に対するV含有量は、0.045質量%以下とし、0.035質量%以下とすることが好ましい。
<[Ni]/([Mn]+[Si]):1.10以上5.40以下>
上述のとおり、Ni、Si及びMnの含有量から算出される本パラメータ値を適切に制御することにより、目的の強度を維持しつつ、上記(対策3)であるNi偏析帯における島状マルテンサイトの生成を抑制し、低温靱性が優れた溶接金属を得ることができる。
[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が1.10未満であると、Ni偏析帯において島状マルテンサイトが生成されやすくなり、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、[Ni]/([Mn]+[Si])は1.10以上とし、1.15以上であることが好ましく、1.20以上であることがより好ましい。
一方、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が5.40を超えると、[Mn]+[Si]値が低いため、As-weldedの強度が低下し、更にPWHT後の強度も低下する。したがって、[Ni]/([Mn]+[Si])は5.40以下とし、5.00以下であることが好ましく、4.50以下であることがより好ましく、4.00以下であることがさらに好ましい。
上述のとおり、Ni、Si及びMnの含有量から算出される本パラメータ値を適切に制御することにより、目的の強度を維持しつつ、上記(対策3)であるNi偏析帯における島状マルテンサイトの生成を抑制し、低温靱性が優れた溶接金属を得ることができる。
[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が1.10未満であると、Ni偏析帯において島状マルテンサイトが生成されやすくなり、PWHT後の低温靱性が低下する。したがって、[Ni]/([Mn]+[Si])は1.10以上とし、1.15以上であることが好ましく、1.20以上であることがより好ましい。
一方、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が5.40を超えると、[Mn]+[Si]値が低いため、As-weldedの強度が低下し、更にPWHT後の強度も低下する。したがって、[Ni]/([Mn]+[Si])は5.40以下とし、5.00以下であることが好ましく、4.50以下であることがより好ましく、4.00以下であることがさらに好ましい。
なお、上記式中において、[Ni]は、ワイヤ中のNi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で表す値とする。
[Mn]は、ワイヤ中のMn含有量をワイヤ全質量に対する質量%で表す値とする。
[Si]は、ワイヤ中のSi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で表す値とする。
[Mn]は、ワイヤ中のMn含有量をワイヤ全質量に対する質量%で表す値とする。
[Si]は、ワイヤ中のSi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で表す値とする。
<C、Si、Mn、Ni、Mg、Mo、Cr、Cu及びVの含有量の合計:5.0質量%以上10.0質量%以下>
本実施形態において、上記C、Si、Mn、Ni、Mg、Mo、Cr、Cu及びVの含有量の合計は、溶接作業性向上の観点より、5.0質量%以上とすることが好ましく、6.0質量%以上とすることがより好ましい。また、ワイヤの伸線性向上の観点より、上記成分の含有量の合計は、10.0質量%以下とすることが好ましく、9.0質量%以下とすることがより好ましい。
本実施形態において、上記C、Si、Mn、Ni、Mg、Mo、Cr、Cu及びVの含有量の合計は、溶接作業性向上の観点より、5.0質量%以上とすることが好ましく、6.0質量%以上とすることがより好ましい。また、ワイヤの伸線性向上の観点より、上記成分の含有量の合計は、10.0質量%以下とすることが好ましく、9.0質量%以下とすることがより好ましい。
なお、本実施形態に係るワイヤは、さらに、Bを、下記に示す含有量の範囲内で含有することが好ましい。Bがワイヤ中に含有される場合の含有量の限定理由について、以下に説明する。
<B:0.10質量%以下(0質量%を含む)>
Bは、旧オーステナイト粒界に偏析し、初析フェライトを抑制することにより、溶接金属の靱性を向上させる効果を有する成分である。但し、Bは、特に590MPa超のベイナイト主体の溶接金属においては、フリーBとして存在し、その存在量に応じてフリーBがTi系酸化物とオーステナイトとの界面エネルギーを低下させることで、粒内ベイナイトの変態を抑制するものと考えられている。すなわち、Bを過剰添加すると、Ti系酸化物周辺のベイナイト生成が抑制され、オーステナイト粒界からラス状ベイナイトが形成され、靱性向上に有効な微細な組織が得られない。本実施形態において、B含有量の下限は特に規定しないが、ワイヤ中にBを含有させる場合に、ワイヤ全質量に対するB含有量は0.10質量%以下とすることが好ましく、0.08質量%以下とすることがより好ましく、0.05質量%以下とすることがさらに好ましい。
Bは、旧オーステナイト粒界に偏析し、初析フェライトを抑制することにより、溶接金属の靱性を向上させる効果を有する成分である。但し、Bは、特に590MPa超のベイナイト主体の溶接金属においては、フリーBとして存在し、その存在量に応じてフリーBがTi系酸化物とオーステナイトとの界面エネルギーを低下させることで、粒内ベイナイトの変態を抑制するものと考えられている。すなわち、Bを過剰添加すると、Ti系酸化物周辺のベイナイト生成が抑制され、オーステナイト粒界からラス状ベイナイトが形成され、靱性向上に有効な微細な組織が得られない。本実施形態において、B含有量の下限は特に規定しないが、ワイヤ中にBを含有させる場合に、ワイヤ全質量に対するB含有量は0.10質量%以下とすることが好ましく、0.08質量%以下とすることがより好ましく、0.05質量%以下とすることがさらに好ましい。
また、本実施形態に係るワイヤは、さらに、Ti、Al、Zr、F、Na及びKからなる群から選択される少なくとも1種を、それぞれ下記に示す含有量の範囲内で含有することが好ましい。これらの元素がワイヤ中に含有される場合の各含有量の限定理由について、以下に説明する。
<Ti:2.5質量%以上6.0質量%以下>
Tiは、スラグ生成剤などとして機能し、下向姿勢以外の溶接姿勢、例えば、立向上進や上向姿勢などでの溶接を容易とし、全姿勢において、良好な溶接作業性を得る効果を有する成分である。ワイヤ中にTiを含有させる場合に、スラグ生成量を適正に保ち、良好な溶接作業性を得るには、ワイヤ全質量に対するTi含有量は、一般的に2.5質量%以上とすることが好ましく、3.0質量%以上とすることがより好ましい。
また、ワイヤ全質量に対するTi含有量は、一般的に6.0質量%以下とすることが好ましく、5.0質量%以下とすることがより好ましい。
Tiは、スラグ生成剤などとして機能し、下向姿勢以外の溶接姿勢、例えば、立向上進や上向姿勢などでの溶接を容易とし、全姿勢において、良好な溶接作業性を得る効果を有する成分である。ワイヤ中にTiを含有させる場合に、スラグ生成量を適正に保ち、良好な溶接作業性を得るには、ワイヤ全質量に対するTi含有量は、一般的に2.5質量%以上とすることが好ましく、3.0質量%以上とすることがより好ましい。
また、ワイヤ全質量に対するTi含有量は、一般的に6.0質量%以下とすることが好ましく、5.0質量%以下とすることがより好ましい。
<Al:0.50質量%以下(0質量%を含む)>
Alは、ビードのなじみを向上させ、フラットなビード形状を得る効果を有する成分である。ワイヤ中にAlを含有させる場合に、良好なスラグ剥離性を維持しつつ、ビードのなじみを向上させ、フラットなビード形状を得るためには、ワイヤ全質量に対するAl含有量は、0.50質量%以下とすることが好ましく、0.25質量%以下とすることがより好ましい。
Alは、ビードのなじみを向上させ、フラットなビード形状を得る効果を有する成分である。ワイヤ中にAlを含有させる場合に、良好なスラグ剥離性を維持しつつ、ビードのなじみを向上させ、フラットなビード形状を得るためには、ワイヤ全質量に対するAl含有量は、0.50質量%以下とすることが好ましく、0.25質量%以下とすることがより好ましい。
<Zr:0.50質量%以下(0質量%を含む)>
Zrは、ビードのなじみを向上させ、フラットなビード形状を得る効果を有する成分である。ワイヤ中にZrを含有させる場合に、良好なスラグ剥離性を維持しつつ、ビードのなじみを向上させ、フラットなビード形状を得るためには、ワイヤ全質量に対するZr含有量は、0.50質量%以下とすることが好ましく、0.25質量%以下とすることがより好ましい。
Zrは、ビードのなじみを向上させ、フラットなビード形状を得る効果を有する成分である。ワイヤ中にZrを含有させる場合に、良好なスラグ剥離性を維持しつつ、ビードのなじみを向上させ、フラットなビード形状を得るためには、ワイヤ全質量に対するZr含有量は、0.50質量%以下とすることが好ましく、0.25質量%以下とすることがより好ましい。
<F:0.10質量%以上0.50質量%以下>
Fは、アークを安定化させる効果を有する成分である。ワイヤ中にFを含有させる場合に、スパッタ発生量を抑制でき、アーク安定性を十分に得ることができることから、ワイヤ全質量に対するF含有量は、0.10質量%以上とすることが好ましく、0.15質量%以上とすることがより好ましい。
また、ワイヤ全質量に対するF含有量は、0.50質量%以下とすることが好ましく、0.45質量%以下とすることがより好ましい。
Fは、アークを安定化させる効果を有する成分である。ワイヤ中にFを含有させる場合に、スパッタ発生量を抑制でき、アーク安定性を十分に得ることができることから、ワイヤ全質量に対するF含有量は、0.10質量%以上とすることが好ましく、0.15質量%以上とすることがより好ましい。
また、ワイヤ全質量に対するF含有量は、0.50質量%以下とすることが好ましく、0.45質量%以下とすることがより好ましい。
<NaとKとの総量:0.01質量%以上0.30質量%以下>
Na及びKは、アークを安定化させる効果を有する成分である。ワイヤ中に、Na及びKの少なくとも一方を含有させる場合に、スパッタ発生量を抑制でき、アーク安定性を十分に得ることができることから、ワイヤ全質量に対するNaとKとの総量は、0.01質量%以上とすることが好ましく、0.03質量%以上とすることがより好ましい。
また、ワイヤ全質量に対するNaとKとの総量は、0.30質量%以下とすることが好ましく、0.25質量%以下とすることがより好ましい。
Na及びKは、アークを安定化させる効果を有する成分である。ワイヤ中に、Na及びKの少なくとも一方を含有させる場合に、スパッタ発生量を抑制でき、アーク安定性を十分に得ることができることから、ワイヤ全質量に対するNaとKとの総量は、0.01質量%以上とすることが好ましく、0.03質量%以上とすることがより好ましい。
また、ワイヤ全質量に対するNaとKとの総量は、0.30質量%以下とすることが好ましく、0.25質量%以下とすることがより好ましい。
<その他の成分及び不純物>
Feは、本実施形態に係るワイヤの主成分である。ワイヤ全質量に対するFe含有量は、82質量%以上であることが好ましく、84質量%以上であることがより好ましい。
また、本実施形態において、上記成分の他に、О(酸素)、Ca、Ba、Li及びNb等を含んでいてもよく、ワイヤ全質量に対するО(酸素)の含有量は、1質量%以上であることが好ましく、5質量%以下であることが好ましい。また、ワイヤ全質量に対するCa、Ba、Li及びNb等の含有量の合計値は、1質量%以下であることが好ましい。
その他の残部は不可避的不純物とし、不可避的不純物の総量は、ワイヤ全質量に対して、0.15質量%以下に規制されることが好ましい。不可避的不純物としては、P、S等が挙げられ、高温割れ防止の観点から、ワイヤ全質量に対するP及びSの含有量は、各々0.015質量%以下であることが好ましい。
Feは、本実施形態に係るワイヤの主成分である。ワイヤ全質量に対するFe含有量は、82質量%以上であることが好ましく、84質量%以上であることがより好ましい。
また、本実施形態において、上記成分の他に、О(酸素)、Ca、Ba、Li及びNb等を含んでいてもよく、ワイヤ全質量に対するО(酸素)の含有量は、1質量%以上であることが好ましく、5質量%以下であることが好ましい。また、ワイヤ全質量に対するCa、Ba、Li及びNb等の含有量の合計値は、1質量%以下であることが好ましい。
その他の残部は不可避的不純物とし、不可避的不純物の総量は、ワイヤ全質量に対して、0.15質量%以下に規制されることが好ましい。不可避的不純物としては、P、S等が挙げられ、高温割れ防止の観点から、ワイヤ全質量に対するP及びSの含有量は、各々0.015質量%以下であることが好ましい。
[2.フラックス入りワイヤの製造方法]
本実施形態に係るフラックス入りワイヤは、例えば、以下に示す方法で製造することができる。まず、外皮を構成する鋼帯を、長手方向に送りながら成形ロールにより成形し、U字状のオープン管にする。次に、所定の化学組成となるように、金属又は合金と、化合物等とを所定量配合したフラックスを外皮に充填した後、断面が円形になるように加工する。このとき、外皮の合わせ目に溶接等を施すことにより継ぎ目無しとすることもできる。その後、冷間加工により伸線し、例えば0.9mm以上、2.0mm以下のワイヤ径とすることにより、フラックス入りワイヤを製造することができる。なお、冷間加工の途中に焼鈍を施してもよい。
本実施形態に係るフラックス入りワイヤは、例えば、以下に示す方法で製造することができる。まず、外皮を構成する鋼帯を、長手方向に送りながら成形ロールにより成形し、U字状のオープン管にする。次に、所定の化学組成となるように、金属又は合金と、化合物等とを所定量配合したフラックスを外皮に充填した後、断面が円形になるように加工する。このとき、外皮の合わせ目に溶接等を施すことにより継ぎ目無しとすることもできる。その後、冷間加工により伸線し、例えば0.9mm以上、2.0mm以下のワイヤ径とすることにより、フラックス入りワイヤを製造することができる。なお、冷間加工の途中に焼鈍を施してもよい。
[3.溶接金属]
本実施形態に係る溶接金属は、上記[1.フラックス入りワイヤ]で説明した本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することにより得られるものである。
なお、本実施形態に係る溶接金属において、本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いること以外の条件については特に限定されず、母材の種類については、要求される特性に応じて適宜選択することができる。
本実施形態に係る溶接金属は、上記[1.フラックス入りワイヤ]で説明した本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することにより得られるものである。
なお、本実施形態に係る溶接金属において、本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いること以外の条件については特に限定されず、母材の種類については、要求される特性に応じて適宜選択することができる。
[4.ガスシールドアーク溶接方法]
本実施形態に係るガスシールドアーク溶接方法は、上記[1.フラックス入りワイヤ]で説明した本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いて溶接する方法である。
なお、本実施形態に係るガスシールドアーク溶接方法において、本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いること以外の各種溶接条件については特に限定されず、母材の種類、溶接電圧、溶接電流、溶接姿勢等について、フラックス入りワイヤを用いた溶接方法における一般的な条件を用いることができる。シールドガスについても限定されないが、より溶接作業性を向上させる観点からMAGであることが好ましく、80体積%Ar-20体積%CO2であることがより好ましい。
本実施形態に係るガスシールドアーク溶接方法は、上記[1.フラックス入りワイヤ]で説明した本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いて溶接する方法である。
なお、本実施形態に係るガスシールドアーク溶接方法において、本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いること以外の各種溶接条件については特に限定されず、母材の種類、溶接電圧、溶接電流、溶接姿勢等について、フラックス入りワイヤを用いた溶接方法における一般的な条件を用いることができる。シールドガスについても限定されないが、より溶接作業性を向上させる観点からMAGであることが好ましく、80体積%Ar-20体積%CO2であることがより好ましい。
[5.溶接継手の製造方法]
本実施形態に係る溶接継手の製造方法は、高張力鋼を溶接母材とし、上記[1.フラックス入りワイヤ]で説明した本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いてガスシールドアーク溶接する方法である。
なお、溶接継手の製造方法において、高張力鋼を溶接母材とすることと、本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いてガスシールドアーク溶接すること以外の溶接条件については特に限定されず、溶接電圧、溶接電流、溶接姿勢等について、フラックス入りワイヤを用いた溶接方法における一般的な条件を用いることができる。シールドガスについても限定されないが、より溶接作業性を向上させる観点からMAGであることが好ましく、80体積%Ar-20体積%CO2であることがより好ましい。
また、母材として使用することができる高張力鋼は問わないが、720MPa級以上であることが好ましく、例えばEN 10028-6:2017のP690Q、P690QH、P690QL1及びP690QL2、日本海事協会(NK)で規定されているKD620、KD690、KE620、及びKE690、並びにDNV GLで規定されているVL690等が挙げられる。
本実施形態に係る溶接継手の製造方法は、高張力鋼を溶接母材とし、上記[1.フラックス入りワイヤ]で説明した本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いてガスシールドアーク溶接する方法である。
なお、溶接継手の製造方法において、高張力鋼を溶接母材とすることと、本実施形態に係るフラックス入りワイヤを用いてガスシールドアーク溶接すること以外の溶接条件については特に限定されず、溶接電圧、溶接電流、溶接姿勢等について、フラックス入りワイヤを用いた溶接方法における一般的な条件を用いることができる。シールドガスについても限定されないが、より溶接作業性を向上させる観点からMAGであることが好ましく、80体積%Ar-20体積%CO2であることがより好ましい。
また、母材として使用することができる高張力鋼は問わないが、720MPa級以上であることが好ましく、例えばEN 10028-6:2017のP690Q、P690QH、P690QL1及びP690QL2、日本海事協会(NK)で規定されているKD620、KD690、KE620、及びKE690、並びにDNV GLで規定されているVL690等が挙げられる。
以下、本実施形態に係るフラックス入りワイヤの発明例及び比較例について説明する。
[溶接金属の機械的性質の評価]
(ワイヤの作製)
まず、下記表1に示す化学成分を有する帯状の鋼製外皮にフラックスを充填し、種々の成分を有する直径が1.2mmのフラックス入りワイヤを作製した。また、フラックスの充填率は、ワイヤ全質量に対して13.0質量%以上15.5質量%以下の範囲となるようにした。
(ワイヤの作製)
まず、下記表1に示す化学成分を有する帯状の鋼製外皮にフラックスを充填し、種々の成分を有する直径が1.2mmのフラックス入りワイヤを作製した。また、フラックスの充填率は、ワイヤ全質量に対して13.0質量%以上15.5質量%以下の範囲となるようにした。
(ガスシールドアーク溶接)
次に、得られたフラックス入りワイヤを使用して、下記表2に示す板厚及び化学成分を有する母材に対して、ガスシールドアーク溶接を実施した。
本実施例においては、母材にV開先を形成し、下記表3に示す溶接条件にてガスシールドアーク溶接を実施し、溶接継手を製造した。
次に、得られたフラックス入りワイヤを使用して、下記表2に示す板厚及び化学成分を有する母材に対して、ガスシールドアーク溶接を実施した。
本実施例においては、母材にV開先を形成し、下記表3に示す溶接条件にてガスシールドアーク溶接を実施し、溶接継手を製造した。
(機械的性質の評価)
溶接金属の機械的性質は、JIS Z 3111:2005に規定される「溶着金属の引張及び衝撃試験方法」を参考とし、溶接金属の板厚方向中央部から引張試験片(A2号)及び衝撃試験片(Vノッチ試験片)を採取して、引張性能及び衝撃性能を評価した。幅広いPWHT条件を検討するにあたり、種々の保持温度、保持時間でPWHTを行ったときの引張強さ及び靱性の変化は、PWHT条件として、ラーソン・ミラー・パラメータ(LMP)を用いて整理した。本実施例では、低LMP条件として、580℃の温度で2時間のPWHT条件(LMP=17.3×103)を採用し、高LMP条件として、620℃の温度で8時間のPWHT条件(LMP=18.7×103)を採用した。
溶接金属の機械的性質は、JIS Z 3111:2005に規定される「溶着金属の引張及び衝撃試験方法」を参考とし、溶接金属の板厚方向中央部から引張試験片(A2号)及び衝撃試験片(Vノッチ試験片)を採取して、引張性能及び衝撃性能を評価した。幅広いPWHT条件を検討するにあたり、種々の保持温度、保持時間でPWHTを行ったときの引張強さ及び靱性の変化は、PWHT条件として、ラーソン・ミラー・パラメータ(LMP)を用いて整理した。本実施例では、低LMP条件として、580℃の温度で2時間のPWHT条件(LMP=17.3×103)を採用し、高LMP条件として、620℃の温度で8時間のPWHT条件(LMP=18.7×103)を採用した。
引張試験は、As-weldedの試験片、低LMP条件の試験片及び高LMP条件の試験片に対して、試験温度を室温(約20±2℃)として実施することにより、引張強さを測定した。
なお、本実施例では、As-weldedの試験片、低LMP条件の試験片及び高LMPの試験片の各々について、引張強さ(TS)が720MPa以上である場合に、目的の強度を満足していると判断した。
なお、本実施例では、As-weldedの試験片、低LMP条件の試験片及び高LMPの試験片の各々について、引張強さ(TS)が720MPa以上である場合に、目的の強度を満足していると判断した。
衝撃試験は、As-weldedの試験片、低LMP条件の試験片及び高LMP条件の試験片に対して、試験温度を-40℃として実施し、シャルピー吸収エネルギー(vE-40℃)を測定することにより、靱性を評価した。
なお、本実施例では、As-weldedの試験片、低LMP条件の試験片及び高LMP条件の各々について、-40℃における吸収エネルギーが50J以上である場合に、低温靱性が優れていると判断した。
そして、As-welded、低LMP条件及び高LMP条件の試験片について、目的の強度を満足しているとともに、低温靱性が優れているものを合格とし、それ以外のものを不合格とした。
なお、本実施例では、As-weldedの試験片、低LMP条件の試験片及び高LMP条件の各々について、-40℃における吸収エネルギーが50J以上である場合に、低温靱性が優れていると判断した。
そして、As-welded、低LMP条件及び高LMP条件の試験片について、目的の強度を満足しているとともに、低温靱性が優れているものを合格とし、それ以外のものを不合格とした。
使用したワイヤの化学成分を下記表4及び5に示し、機械的性質の評価結果を下記表6に示す。なお、下記表4及び5において、[Ni]は、ワイヤ中のNi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で表した値であり、[Mn]は、ワイヤ中のMn含有量をワイヤ全質量に対する質量%で表した値であり、[Si]は、ワイヤ中のSi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で表した値である。
表4及び5に記載のワイヤの化学成分の残部は、Fe、О(酸素)、Ca、Ba、Li及び不可避的不純物であった。また、表4中のNi含有量において、「-」と記載されているものは定量限界値以下の0.01質量%未満であり、Cr含有量において、「-」と記載されているものは定量限界値以下の0.01質量%未満であり、Cu含有量において、「-」と記載されているものは定量限界値以下の0.01質量%未満であり、B含有量において、「-」と記載されているものは定量限界値以下の0.0002質量%未満であり、V含有量において、「-」と記載されているものは定量限界値以下の0.002質量%未満であったことを示す。
さらに、表5中の「[Ni]/([Mn]+[Si])」の欄において、分子であるNi含有量が定量限界値以下であったものは、算出不能であるため、「-」と表した。
さらに、表5中の「[Ni]/([Mn]+[Si])」の欄において、分子であるNi含有量が定量限界値以下であったものは、算出不能であるため、「-」と表した。
なお、表6において、割れの発生又は破断等により、機械的性質の評価ができなかった試験片については、評価結果欄に「-」と表した。
上記表4及び5に示すように、ワイヤ中の各成分の含有量が本発明の数値範囲内であった発明例No.1~24は、As-welded及び異なる2種類のPWHT後の引張強さ(TS)が、目的とする720MPa以上であるとともに、-40℃における吸収エネルギーが、50J以上の優れた低温靱性を得ることができた。このことから、As-weldedのみならず、幅広いPWHT条件においても、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接金属を得ることができた。
また、発明例No.1~24は、各成分の含有量が本発明の数値範囲内であるワイヤを使用して、ガスシールドアーク溶接により得たものであるため、As-weldedのみならず、幅広いPWHT条件において、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接部を有する溶接継手を製造することができた。
また、発明例No.1~24は、各成分の含有量が本発明の数値範囲内であるワイヤを使用して、ガスシールドアーク溶接により得たものであるため、As-weldedのみならず、幅広いPWHT条件において、目的の強度を維持しつつ、低温靱性が優れた溶接部を有する溶接継手を製造することができた。
一方、比較例No.25は、ワイヤ中のNi含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったとともに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後の低温靱性及び高LMP後の引張強さが低下した。
比較例No.26は、ワイヤ中のMo含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えていたため、低LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
比較例No.26は、ワイヤ中のMo含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えていたため、低LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
比較例No.27は、ワイヤ中のNi含有量及びMo含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったとともに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後の引張強さ及び低温靱性が低下したとともに、高LMP条件でのPWHT後の引張強さが低下した。
比較例No.28は、ワイヤ中のNi含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、高LMP条件でのPWHT後の引張強さが低下した。
比較例No.28は、ワイヤ中のNi含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、高LMP条件でのPWHT後の引張強さが低下した。
比較例No.29は、ワイヤ中のMn含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であるととともに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における上限値を超えていたため、As-welded並びに低LMP条件でのPWHT後及び高LMP条件でのPWHT後の引張強さが低下した。
比較例No.30は、ワイヤ中のMn含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えていたため、低LMP条件及び高LMP条件でのPWHT後に試験片が過度に脆化し、破断が発生した。
比較例No.30は、ワイヤ中のMn含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えていたため、低LMP条件及び高LMP条件でのPWHT後に試験片が過度に脆化し、破断が発生した。
比較例No.31は、ワイヤ中のNi含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったとともに、ワイヤ中のCu含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えており、さらに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
比較例No.32は、ワイヤ中のNi含有量及びMo含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったとともに、ワイヤ中のC含有量及びCr含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えており、さらに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後に試験片が過度に脆化し、破断が発生した。また、高LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
比較例No.32は、ワイヤ中のNi含有量及びMo含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったとともに、ワイヤ中のC含有量及びCr含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えており、さらに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後に試験片が過度に脆化し、破断が発生した。また、高LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
比較例No.33は、ワイヤ中のV含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えていたため、低LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
比較例No.34は、ワイヤ中のNi含有量及びMo含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったとともに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後の引張強さ及び低温靱性が低下したとともに、高LMP条件でのPWHT後の引張強さが低下した。
比較例No.34は、ワイヤ中のNi含有量及びMo含有量が本発明の数値範囲における下限値未満であったとともに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後の引張強さ及び低温靱性が低下したとともに、高LMP条件でのPWHT後の引張強さが低下した。
比較例No.35は、ワイヤ中のMn含有量が本発明の数値範囲における上限値を超えていたとともに、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
比較例No.36は、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
比較例No.36は、[Ni]/([Mn]+[Si])により得られる値が本発明の数値範囲における下限値未満であったため、低LMP条件でのPWHT後の低温靱性が低下した。
Claims (6)
- 鋼製外皮にフラックスが充填されたフラックス入りワイヤであって、
ワイヤ全質量に対して、
C:0.01質量%以上0.10質量%以下、
Si:0質量%超0.45質量%以下、
Mn:1.0質量%以上3.0質量%以下、
Ni:3.1質量%以上5.5質量%以下、
Mg:0.10質量%以上1.00質量%以下、
Mo:0.05質量%以上0.65質量%以下、を含有し、
Cr:0.65質量%以下、
Cu:0.85質量%以下、及び
V:0.045質量%以下、であるとともに、
ワイヤ中のNi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Ni]と表し、
ワイヤ中のMn含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Mn]と表し、
ワイヤ中のSi含有量をワイヤ全質量に対する質量%で[Si]と表す場合に、
[Ni]/([Mn]+[Si]):1.10以上5.40以下であることを特徴とするフラックス入りワイヤ。 - さらに、ワイヤ全質量に対して、
B:0.10質量%以下、を含有することを特徴とする、請求項1に記載のフラックス入りワイヤ。 - さらに、Ti、Al、Zr、F、Na及びKからなる群から選択される少なくとも1種を、
ワイヤ全質量に対して、
Ti:2.5質量%以上6.0質量%以下、
Al:0.50質量%以下、
Zr:0.50質量%以下、
F:0.10質量%以上0.50質量%以下、及び
NaとKとの総量:0.01質量%以上0.30質量%以下、の範囲で含有することを
特徴とする、請求項1又は2に記載のフラックス入りワイヤ。 - 請求項1~3のいずれか1項に記載のフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することにより得られることを特徴とする溶接金属。
- 請求項1~3のいずれか1項に記載のフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することを特徴とするガスシールドアーク溶接方法。
- 高張力鋼を母材とし、請求項1~3のいずれか1項に記載のフラックス入りワイヤを用いて、ガスシールドアーク溶接することを特徴とする溶接継手の製造方法。
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