JP2022145565A - 光学積層体及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、表示装置の前面に配置して用いられる光学積層体であって、スタイラスペンが用いられても、凹みが生じることを抑制することができる光学積層体を提供する。【解決手段】前面板である第１光学部材と、第１粘着剤層と、第２光学部材と、第２粘着剤層と、がこの順に接して積層された光学積層体であって、前記第２光学部材の降伏応力をＳ２〔ＭＰａ〕とし、前記第２粘着剤層の貯蔵弾性率をＧ’２〔ＭＰａ〕とすると、下記式（１）：４６≦Ｓ２／Ｇ’２≦１７５００ （１）の関係を満たす、光学積層体。【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体及び表示装置に関する。

韓国公開特許第２０１８－００１２９１３号公報（特許文献１）には、耐久性に優れた表示装置用ウィンドウを提供することが記載されている。

韓国公開特許第２０１８－００１２９１３号公報

タッチパネル方式の表示装置のウィンドウにおいて、スタイラスペンを押し当てて、筆記、操作、描画等がなされると、元に戻らない凹み（いわゆる、塑性変形）が生じることがあるとの問題があった。本発明は、表示装置の前面に配置して用いられる光学積層体であって、スタイラスペンが押し当てられても、上記凹みが生じることを抑制することができる光学積層体、及び当該光学積層体を含む表示装置を提供することを目的とする。

本発明は、以下に例示する光学積層体及び表示装置を提供する。
〔１〕 前面板である第１光学部材と、第１粘着剤層と、第２光学部材と、第２粘着剤層と、がこの順に接して積層された光学積層体であって、
前記第２光学部材の降伏応力をＳ_２〔ＭＰａ〕とし、前記第２粘着剤層の貯蔵弾性率をＧ’_２〔ＭＰａ〕とすると、下記式（１）：
４６≦Ｓ_２／Ｇ’_２≦１７５００ （１）
の関係を満たす、光学積層体。
〔２〕 前記第１光学部材の降伏応力をＳ_１〔ＭＰａ〕とすると、下記式（２）：
７０ＭＰａ≦Ｓ_１≦１８０ＭＰａ （２）
の関係を満たす、〔１〕に記載の光学積層体。
〔３〕 前記第１光学部材の厚みをＴ_１〔μｍ〕とし、前記第１粘着剤層の厚みをｔ_１〔μｍ〕とすると、下記式（３）：
１．５≦Ｔ_１／ｔ_１≦５ （３）
の関係を満たす、〔１〕または〔２〕に記載の光学積層体。
〔４〕 前記第１光学部材の厚みをＴ_１〔μｍ〕とし、前記第２粘着剤層の厚みをｔ_２〔μｍ〕とすると、下記式（４）：
１．５≦Ｔ_１／ｔ_２≦５ （４）
の関係を満たす、〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔５〕 前記第１光学部材は、前記第１粘着剤層側とは反対側の表面がハードコート層で構成されている、〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔６〕 偏光板を有する、〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔７〕 タッチセンサパネルを有する、〔１〕～〔６〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔８〕 〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の光学積層体を含む表示装置。

本発明によれば、スタイラスペンが押し当てられても、凹みが生じるのを抑制することができる、光学積層体、及び当該光学積層体を含む表示装置を提供できる。

本発明に係る光学積層体の一例を示す概略断面図である。

以下、図面を参照しつつ本発明に係る光学積層体の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の全ての図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。

［光学積層体］
本発明に係る光学積層体は、前面板である第１光学部材と、第１粘着剤層と、第２光学部材と、第２粘着剤層と、がこの順に接して積層された光学積層体である。本発明に係る光学積層体は、第２粘着剤層の第２光学部材に接する側の表面とは反対側の表面には、ｎ個（ｎは１以上の整数）の光学部材が積層されていてもよく、本明細書においては、かかるｎ個の光学部材について、第２粘着剤層に近い側から第３光学部材、第４光学部材、・・・とする。光学部材と光学部材の間には、粘着剤層が積層されていることが好ましく、本明細書においては、第ｘ光学部材（ｘは３以上の整数）の前面板側とは反対側に積層されている粘着剤層を、第ｘ粘着剤層とする。ｎは、好ましくは４以下の整数であり、さらに好ましくは２以下の整数である。

本明細書においては、単に「光学部材」という場合には、第１光学部材、第２光学部材、第ｘ光学部材のいずれもが該当し、単に「粘着剤層」という場合には、第１粘着剤層、第２粘着剤層、第ｘ粘着剤層のいずれもが該当する。

各光学部材は、一つの層から構成されるものであっても、複数の層から構成されるものであってもよい。本明細書において、複数の層からなる光学部材について、複数の光学部材とするか、一つの光学部材とするかは、厚み１０μｍ以上の粘着剤層の有無に基づいて判断する。本明細書において、厚み１０μｍ以上の粘着剤層によって分離される二つの部分は異なる光学部材とする。したがって、各光学部材は、厚み１０μｍ未満の粘着剤層を含むものであってもよく、一方、厚み１０μｍ以上の粘着剤層は含まないものである。

本発明に係る光学積層体の厚みは、光学積層体に求められる機能及び光学積層体の用途等に応じて異なるため特に限定されないが、例えば２０μｍ以上４０００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上２０００μｍ以下であり、より好ましく５０μｍ以上１０００μｍ以下であり、１００μｍ以上であってもよい。

光学積層体の平面視形状は、例えば方形形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形形状であり、より好ましくは長方形である。光学積層体１００の面方向の形状が長方形である場合、長辺の長さは、例えば１０ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってよく、好ましくは５０ｍｍ以上６００ｍｍ以下である。短辺の長さは、例えば５ｍｍ以上８００ｍｍ以下であり、好ましくは３０ｍｍ以上５００ｍｍ以下であり、より好ましくは５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下である。光学積層体１００を構成する各層は、角部がＲ加工されたり、端部が切り欠き加工されたり、穴あき加工されたりしていてもよい。

光学積層体は、好ましくは屈曲可能である。屈曲可能とは、クラックを生じさせることなく屈曲させ得ることを意味する。光学積層体は、第１光学部材側を内側および外側の少なくともいずれか一方にして屈曲可能であってよく、好ましくは第１光学部材側を内側にして屈曲可能であり、より好ましくは第１光学部材側を内側にして屈曲半径が２ｍｍとなるように繰返しの屈曲を行った場合でもクラックが生じにくい傾向にある。本明細書において、屈曲には、曲げ部分に曲面が形成される折り曲げの形態が含まれる。折り曲げの形態において、折り曲げた内面の曲率半径は特に限定されない。また、屈曲には、内面の屈折角が０°より大きく１８０°未満である屈折の形態、および内面の曲率半径がゼロに近似、または内面の屈折角が０°である折り畳みの形態が含まれる。

光学積層体は、例えば表示装置等に用いることができる。表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等が挙げられる。光学積層体１００は、特に屈曲が可能な表示装置に好適である。

図１は、本発明の一実施形態による光学積層体の概略断面図である。図１に示す光学積層体１００は、前面板である第１光学部材１０と、第１粘着剤層３１と、第２光学部材２２と、第２粘着剤層３２と、がこの順に接して積層され、さらに第２粘着剤層３２の第２光学部材２２に接する側の表面とは反対側の表面には、２個（ｎ＝２）の光学部材が積層されている。第２粘着剤層３２の第２光学部材２２に接する側の表面とは反対側の表面には、第３光学部材２３、第３粘着剤層３３、第４光学部材２４と、がこの順に接して積層されている。第１～３の粘着剤層３１，３２，３３は、いずれも厚みが１０μｍ以上である。

光学積層体１００において、第１光学部材１０は、基材１１を含み、基材１１の第２光学部材２２側とは反対側の表面に設けられたハードコート層１２をさらに含む。例えば、光学積層体１００において、第２光学部材２２は保護板であり、第３光学部材２３は偏光板であり、第４光学部材２４はタッチセンサパネルである。

＜式（１）＞
本発明に係る光学積層体は、第２光学部材の降伏応力をＳ_２〔ＭＰａ〕、第２粘着剤層の貯蔵弾性率をＧ’_２〔ＭＰａ〕とすると、下記式（１）：
４６≦Ｓ_２／Ｇ’_２≦１７５００ （１）
の関係を満たす。
本発明に係る光学積層体は、第２光学部材と第２粘着剤層とが上記式（１）の関係を満たすことにより、第１光学部材上にスタイラスペンが押し当てられても塑性変形が生じにくい。
第１光学部材は前面板として用いられるため、外部からの衝撃に耐えられるよう硬い材料が用いられる。しかしながら、硬い材料は、復元力が弱いので、前面板は、一般に塑性変形が生じやすい。そこで、第１光学部材に近い位置にある第２光学部材及び第２粘着剤として上記範囲の物性の材料を選択することにより、光学積層体全体として復元力を高めれば、塑性変形が生じにくくすることができると考えられる。

本明細書において、光学部材の降伏応力、及び粘着剤層の貯蔵弾性率は、後述の実施例に記載された方法により測定することができる。光学部材の降伏応力は、光学部材の材料によって異なり、同じ材料であっても厚さによって異なる。粘着剤層の弾性率は、材料によって異なる。
第２光学部材の降伏応力は、例えば、４０～２５０〔ＭＰａ〕であり、好ましくは４０～２００〔ＭＰａ〕である。第２粘着剤層の貯蔵弾性率は、例えば、０．０１～１．８〔ＭＰａ〕であり、０．０１～１．５〔ＭＰａ〕である。第２光学部材は、第１光学部材より降伏応力が高いことが好ましい。

したがって、式（１）におけるＳ_２／Ｇ’_２の値は、第２光学部材の材料や厚み、第２粘着剤層の材料、等を適宜調整することにより調整することができる。

本発明者らは、前面板である第１光学部材については、前面板として光学積層体を保護する機能を備える必要があることから物性を調整できる範囲が限定されている中で、第２光学部材と第２粘着剤層の物性を調整して、Ｓ_２／Ｇ’_２の値が式（１）の関係を満たすように調整することにより、スタイラスペンが用いられても凹みが生じにくい構成が得られるとの知見を得た。本明細書において、凹みが生じにくいとは、凹みが生じにくいことと、凹みが生じても消滅しやすいこととを含む。本発明に係る光学積層体は、凹みの生じにくさをさらに向上させることができる観点から、好ましくは下記式（１ａ）：
５０≦Ｓ_２／Ｇ’_２≦１４０００ （１ａ）
の関係を満たす。

＜第１光学部材＞
第１光学部材は、前面板であり、表示装置の最表面を構成することができる。第１光学部材は、光を透過可能な板状体であれば、材料及び厚みは限定されることはない。第１光学部材は、基材を含むものであれば、基材のみから構成されていても、基材及び他の層から構成されていてもよい。基材及び他の層は、それぞれ１層のみから構成されてよく、２層以上から構成されてもよい。第１光学部材に含まれる基材としては、樹脂製の板状体（例えば樹脂板、樹脂シート、樹脂フィルム等）、ガラス製の板状体（例えばガラス板、ガラスフィルム等）、樹脂製の板状体とガラス製の板状体との積層体が挙げられる。

第１光学部材は、降伏応力をＳ_１〔ＭＰａ〕とすると、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、好ましくは下記式（２）：
７０ＭＰａ≦Ｓ_１≦１８０ＭＰａ （２）
の関係を満たし、より好ましくは下記式（２ａ）：
８０ＭＰａ≦Ｓ_１≦１７０ＭＰａ （２ａ）
の関係を満たす。

第１光学部材は、厚みをＴ_１〔μｍ〕とすると、Ｔ_１は、例えば１０μｍ以上１０００μｍ以下であってよく、好ましくは２０μｍ以上５００μｍ以下であり、より好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下であり、５０μｍ以上であってもよい。第１光学部材の厚みＴ_１は、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、４０μｍ以上であることが好ましい。本発明において、光学積層体を構成する各層の厚みは、後述する実施例において説明する厚みの測定方法に従って測定することができる。

第１光学部材の基材が樹脂製の板状体の場合、ハードコート層を有するものであってもよい。第１光学部材がハードコート層を有する場合、ハードコート層を積層体の少なくとも一方の面に設けることにより、硬度をより向上させることができる。ハードコート層は、基材の一方の面に形成されていてもよいし、両方の面に形成されていてもよい。第１光学部材は、第１粘着剤層側とは反対側の表面がハードコート層で構成されていることが好ましい。光学積層体が配置される表示装置がタッチパネル方式の表示装置である場合には、第１光学部材の表面がタッチ面となるため、ハードコート層を有する第１光学部材が好適に用いられる。ハードコート層を設けることにより、硬度および耐スクラッチ性を向上させることができる。ハードコート層は、例えば、紫外線硬化型樹脂の硬化層である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層は、硬度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、またはこれらの混合物が挙げられる。ハードコート層の厚みは、例えば０．１μｍ以上３０μｍ以下であってよく、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上１５μｍ以下である。

ハードコート層の視認側には、耐摩耗性を向上させたり、皮脂などによる汚染を防止したりするために、耐摩耗層が形成されていることも好ましい。第１光学部材は、耐摩耗層を有することができ、耐摩耗層は、前面板の視認側表面を構成する層であることができる。耐摩耗層はフッ素化合物由来の構造を含むことができる。フッ素化合物としてはケイ素原子を有し、ケイ素原子にアルコキシ基やハロゲンのような加水分解性の基を有する化合物が好ましい。加水分解性基が脱水縮合反応することにより塗膜を形成することができ、また基材表面の活性水素と反応することにより耐摩耗層の密着性を向上させることができる。さらにフッ素化合物は、パーフルオロアルキル基やパーフルオロポリエーテル構造を有すると撥水性を付与することができるので好ましい。特に好ましいのはパーフルオロポリエーテル構造と炭素数４以上の長鎖のアルキル基とを有する含フッ素ポリオルガノシロキサン化合物である。フッ素化合物としては２種類以上の化合物を用いることも好ましい。さらに含むことが好ましいフッ素化合物としては、炭素数２以上のアルキレン基、及びパーフルオロアルキレン基を含む含フッ素オルガノシロキサン化合物である。

耐摩耗層の厚さは、例えば１ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。また、耐摩耗層は撥水性を有しており、水接触角が例えば１１０～１２５°程度である。滑落法で測定した接触角ヒステリシス及び滑落角は、それぞれ３～２０°程度、２～５５°程度である。更に、耐摩耗層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤を含有していてもよい。

耐摩耗層とハードコート層との間にはプライマー層を設けてもよい。プライマー剤として、例えば紫外線硬化型、熱硬化型、湿気硬化型、あるいは２液硬化型のエポキシ系化合物等のプライマー剤がある。また、プライマー剤として、ポリアミック酸を用いてもよく、シランカップリング剤を用いることも好ましい。プライマー層の厚さは、例えば０．００１～２μｍである。

耐摩耗層とハードコート層とを含む積層体を得る方法としては、ハードコート層の上に、必要に応じてプライマー剤を塗布、乾燥、硬化させてプライマー層を形成させた後、フッ素化合物を含む組成物（耐摩耗層コーティング用組成物）を塗布、乾燥することで形成できる。塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコーター法などが挙げられる。また、プライマー剤、または、耐摩耗層コーティング用組成物を塗布する前に、塗布面をプラズマ処理、コロナ処理、または紫外線処理等の親水化処理を施すことも好ましい。

基材として用いられる樹脂フィルムとしては、光を透過可能な樹脂フィルムであれば限定されない。例えば、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン－酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ（メタ）アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミド等の高分子で形成されたフィルムが挙げられる。これらの高分子は、単独でまたは２種以上混合して用いることができる。積層体をフレキシブルディスプレイに用いる場合には、優れた可撓性を有し、高い強度及び高い透明性を有するように構成可能な、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の高分子で形成された樹脂フィルムが好適に用いられる。なお、本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリルまたはメタクリルのいずれでもよいことを意味する。（メタ）アクリレート等の「（メタ）」も同様の意味である。樹脂フィルムの厚みは、例えば１０μｍ以上５００μｍ以下であり、好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下である。

第１光学部材の基材がガラス板である場合、ガラス板は、ディスプレイ用強化ガラスが好ましく用いられる。ガラス板の厚みは、例えば１０μｍ以上１０００μｍ以下であってよく、２０μｍ以上であってもよい。ガラス板を用いることにより、優れた機械的強度及び表面硬度を有する前面板を構成することができる。

光学積層体が表示装置に用いられる場合、第１光学部材は、表示装置の前面（画面）を保護する機能（ウィンドウフィルムとしての機能）を有するのみではなく、タッチセンサとしての機能、ブルーライトカット機能、視野角調整機能等を有するものであってもよい。

＜粘着剤層＞
第１粘着剤層は、第１光学部材と第２光学部材の間に介在して、これらを貼合する。第２粘着剤層は、第２光学部材の第１光学部材側（前面板側）とは反対側の表面に積層されている。第ｘ粘着剤層は、第ｘ光学部材の第１光学部材側（前面板側）とは反対側の表面に積層されている。粘着剤層は、厚みが１０μｍ以上であれば、１層からなるものであってもよいし、２層以上からなるものであってもよいが、好ましくは１層からなるものである。各粘着剤層は、粘着剤組成物の組成及び配合成分、厚み等において、同じであってもよいし、異なっていてもよい。

粘着剤層の厚みは、１０μｍ以上であり、好ましくは１２μｍ以上であり、また、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは５０μｍ以下である。

第１粘着剤層は、その厚みをｔ_１〔μｍ〕とすると、スタイラスペンの押し当てにより一時的に生じる凹みを抑制できるとの観点から、第１光学部材の厚みＴ_１〔μｍ〕との関係で、下記式（３）：
１．５≦Ｔ_１／ｔ_１≦５ （３）
の関係を満たすことが好ましい。
第１粘着剤層の貯蔵弾性率は、例えば、０．０１～１．８〔ＭＰａ〕であり、好ましくは０．０１～１．５〔ＭＰａ〕である。

第２粘着剤層は、その厚みをｔ_２〔μｍ〕とすると、スタイラスペンの押し当てにより一時的に生じる凹みを抑制できるとの観点から、第１光学部材の厚みＴ_１〔μｍ〕との関係で、下記式（４）：
１．５≦Ｔ_１／ｔ_２≦５ （４）
の関係を満たすことが好ましい。

第ｘ粘着剤層は、その厚みをｔｘ〔μｍ〕とすると、スタイラスペンの押し当てにより生じる凹みを抑制できるとの観点から、第１光学部材の厚みＴ_１〔μｍ〕との関係で、下記式（５）：
１．５≦Ｔ_１／ｔ_ｘ≦５ （５）
の関係を満たすことが好ましい。

粘着剤層は、（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂を主成分（ベースポリマー）とする粘着剤組成物から構成することができる。粘着剤層を構成する粘着剤組成物としては、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型又は熱硬化型であってもよい。

粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、（メタ）アクリル酸化合物、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル化合物、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル化合物、（メタ）アクリルアミド化合物、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート化合物、グリシジル（メタ）アクリレート化合物等の、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成する金属イオン、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリアミン化合物、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するポリエポキシ化合物又はポリオール、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリイソシアネート化合物が例示される。架橋剤は、好ましくはポリイソシアネート化合物である。

活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。必要に応じて、光重合開始剤、光増感剤等を含有させてもよい。

活性エネルギー線重合性化合物としては、例えば分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートモノマー；官能基含有化合物を２種以上反応させて得られ、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートオリゴマー等の（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物等の（メタ）アクリル系化合物、分子内に少なくとも２個のベンゾイルフェニルメタアクリロイル基を有する化合物が挙げられる。粘着剤組成物は、活性エネルギー線重合性化合物を、粘着剤組成物の固形分１００質量部に対して０．１質量部以上含むことができ、１０質量部以下、５質量部以下又は２質量部以下含むことができる。

ベンゾイルフェニルメタアクリロイル基は、以下の構造で表される基を意味する。＊は結合手を表す。活性エネルギー線重合性化合物が分子内に有するベンゾイルフェニルメタアクリロイル基の数は、５以下であることができ、４以下であることができる。

分子内に少なくとも２個のベンゾイルフェニルメタアクリロイル基を有する化合物としては、例えば次の化合物が挙げられる。

光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。光重合開始剤は、１種又は２種以上を含むことができる。粘着剤組成物が光重合開始剤を含むとき、その全含有量は、例えば粘着剤組成物の固形分１００質量部に対し０．０１質量部以上３．０質量部以下であってよい。

粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ（樹脂ビーズ、ガラスビーズ等）、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。

粘着剤層は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。粘着剤層は、粘着剤組成物を用いて形成された粘着シートを用いて形成することもできる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する粘着剤層とすることができる。

＜光学部材＞
光学積層体における光学部材としては、例えば、前面板（第１光学部材）、保護板、偏光板、タッチセンサパネル等、その他に、背面板等が例示される。背面板としては、タッチセンサパネル、有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。光学部材が複数の層から構成される場合には、二つの層を貼合するための貼合層を含むことができる。光学積層体における光学部材の積層順序としては、例えば、前面板（第１光学部材）／保護板／偏光板／タッチセンサパネル、前面板（第１光学部材）／保護板／偏光板／タッチセンサパネル／有機ＥＬ表示素子、前面板（第１光学部材）／保護板／タッチセンサパネル／偏光板、前面板（第１光学部材）／保護板／タッチセンサパネル／偏光板／有機ＥＬ表示素子、等が挙げられる。ここで示した積層順序における偏光板は、光学積層体に反射防止フィルムとしての機能を付与することができる点で、円偏光板であることが好ましい。ここで示した積層順序における保護板は、含まれていなくてもよく、第２光学部材として保護板を用いることにより、第２光学部材の降伏応力Ｓ_２を所望の値に調整することが容易であるという観点からは含まれていることが好ましい。

≪偏光板≫
偏光板は、例えば直線偏光板、円偏光板（楕円偏光板を含む）等であってもよい。円偏光板は、直線偏光板及び位相差層を備える。円偏光板は、画像表示装置中で反射された外光を吸収することができるため、光学積層体に反射防止フィルムとしての機能を付与することができる。

偏光板の厚みは、通常５μｍ以上であり、２０μｍ以上であってもよく、２５μｍ以上であってもよく、３０μｍ以上であってもよい。また、偏光板の厚みは、８０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましい。

≪直線偏光板≫
直線偏光板は、自然光等の非偏光な光線から、ある一方向の直線偏光を選択的に透過させる機能を有する。直線偏光板は、二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層、重合性液晶化合物の硬化物及び二色性色素を含み、二色性色素が重合性液晶化合物の硬化物中に分散し、配向している液晶層等を偏光子層として備えることができる。二色性色素は、分子の長軸方向における吸光度と短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。液晶層を偏光子層として用いた直線偏光板は、二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層に比べて、屈曲方向に制限がないため好ましい。

（二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層である偏光子層）
二色性色素を吸着させた延伸フィルムである偏光子層は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。

偏光子層の厚みは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１８μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下である。偏光子層の厚みを薄くすることは、偏光板の薄膜化に有利である。偏光子層の厚みは、通常１μｍ以上であり、例えば５μｍ以上であってよい。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば不飽和カルボン酸系化合物、オレフィン系化合物、ビニルエーテル系化合物、不飽和スルホン系化合物、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド系化合物が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５モル％以上１００モル％以下程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等も使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１０００以上１００００以下であり、好ましくは１５００以上５０００以下である。

二色性色素を吸着させた延伸層である偏光子層は、通常、上記ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布する工程、得られた積層フィルムを一軸延伸する工程、一軸延伸された積層フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させて偏光子層とする工程、二色性色素が吸着されたフィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。偏光子層を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子層の保護層として用いてもよい。必要に応じて、基材フィルムを偏光子層から剥離除去してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、後述する熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。

二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層である偏光子層は、そのまま直線偏光板として用いてよく、その片面又は両面に保護層を形成して直線偏光板として用いてもよい。保護層としては、後述する熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。得られる直線偏光板の厚みは、好ましくは２μｍ以上４０μｍ以下である。

熱可塑性樹脂フィルムは、例えばシクロポリオレフィン系樹脂フィルム；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム；ポリカーボネート系樹脂フィルム；（メタ）アクリル系樹脂フィルム；ポリプロピレン系樹脂フィルム等、当分野において公知のフィルムを挙げることができる。偏光子層と保護層とは、後述する貼合層を介して積層することができる。

熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常１００μｍ以下であり、好ましくは８０μｍ以下であり、より好ましくは６０μｍ以下であり、さらに好ましくは４０μｍ以下であり、なおさらに好ましくは３０μｍ以下であり、また、通常５μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以上である。

熱可塑性樹脂フィルム上にハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層は、熱可塑性樹脂フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度及びスクラッチ性を向上させた熱可塑性樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、上述の樹脂フィルムに形成されるハードコート層と同様にして形成することができる。

（液晶層である偏光子層）
液晶層を形成するために用いる重合性液晶化合物は、重合性反応基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性反応基は、重合反応に関与する基であり、光重合性反応基であることが好ましい。光重合性反応基は、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物の液晶性は、サーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

液晶層である偏光子層に用いられる二色性色素としては、３００～７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、及びアントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、及びスチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素、及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、２種以上を組み合わせてもよいが、３種以上を組み合わせることが好ましい。特に、３種以上のアゾ化合物を組み合わせることがより好ましい。二色性色素の一部が反応性基を有していてもよく、また液晶性を有していてもよい。

液晶層である偏光子層は、例えば基材フィルム上に形成した配向膜上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合して硬化させることによって形成することができる。基材フィルム上に、偏光子層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材フィルムとともに延伸することによって、偏光子層を形成してもよい。偏光子層を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子層の保護層として用いてもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。

重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子層形成用組成物、及びこの組成物を用いた偏光子層の製造方法としては、特開２０１３－３７３５３号公報、特開２０１３－３３２４９号公報、特開２０１７－８３８４３号公報等に記載のものを例示することができる。偏光子層形成用組成物は、重合性液晶化合物及び二色性色素に加えて、溶媒、重合開始剤、架橋剤、レベリング剤、酸化防止剤、可塑剤、増感剤等の添加剤をさらに含んでいてもよい。これらの成分は、それぞれ１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

偏光子層形成用組成物が含有していてもよい重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合性開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の総量１００重量部に対して、好ましくは１質量部以上１０質量部以下であり、より好ましくは３質量部以上８質量部以下である。この範囲内であると、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、液晶化合物の配向状態を安定化させやすい。

液晶層である偏光子層の厚みは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。

液晶層である偏光子層は、基材フィルムを剥離除去せずに直線偏光板として用いてもよく、基材フィルムを偏光子層から剥離除去して直線偏光板としてもよい。液晶層である偏光子層は、その片面又は両面に保護層を形成して直線偏光板として用いてもよい。保護層としては、上述する熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。

液晶層である偏光子層は、偏光子層の保護等を目的として、偏光子層の片面又は両面にオーバーコート層を有していてもよい。オーバーコート層は、例えば偏光子層上にオーバーコート層を形成するための材料（組成物）を塗布することによって形成することができる。オーバーコート層を構成する材料としては、例えば光硬化性樹脂、水溶性ポリマー等が挙げられる。オーバーコート層を構成する材料としては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等を用いることができる。

（位相差層）
偏光板に含まれる位相差層は、１層であってもよく２層以上であってもよい。位相差層は、偏光子層の前面板側とは反対側の表面上に積層されていることが好ましい。位相差層は、その表面を保護するオーバーコート層、位相差層を支持する基材フィルム等を有していてもよい。位相差層は、λ／４層を含み、さらにλ／２層又はポジティブＣ層の少なくともいずれかを含んでいてもよい。位相差層がλ／２層を含む場合、直線偏光板側から順にλ／２層及びλ／４層を積層する。位相差層がポジティブＣ層を含む場合、直線偏光板側から順にλ／４層及びポジティブＣ層を積層してもよく、直線偏光板側から順にポジティブＣ層及びλ／４層を積層してもよい。位相差層の厚みは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上６μｍ以下である。

位相差層は、保護層の材料として例示した樹脂フィルムから形成してもよいし、重合性液晶化合物が硬化した層から形成してもよい。位相差層は、さらに配向膜を含んでもよい。位相差層は、λ／４層と、λ／２層及びポジティブＣ層とを貼合するための貼合層を有していてもよい。

重合性液晶化合物を硬化して位相差層を形成する場合、位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物を基材フィルムに塗布し硬化させることにより形成することができる。基材フィルムと塗布層との間に配向層を形成してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上記熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同じであってよい。重合性液晶化合物を硬化してなる層から位相差層を形成する場合、位相差層は、配向層及び基材フィルムを有する形態で光学積層体に組み込まれてもよい。位相差層は、貼合層を介して直線偏光板と貼合することができる。

≪タッチセンサパネル≫
タッチセンサパネルとしては、前面でタッチされた位置を検出可能なセンサであり、または前面でスタイラスペンでなされた操作や筆記等の押し当てを検出可能なセンサであり、透明導電層を有する構成であることができる。タッチセンサパネルは、透明導電層に加え、これを支持する基材を有することができる。検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。その中でも、低コスト、早い反応速度、薄膜化の面で、静電容量方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。タッチセンサパネルは、透明導電層とこれを支持する基材との間に、接着層、分離層、保護層等を備えてもよい。接着層としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。透明導電層を支持する基材として、一方の表面に透明導電層が蒸着形成されている基材、接着層を介して透明導電層が転写された基材等が挙げられる。

静電容量方式のタッチセンサパネルの一例は、基材と、基材の表面に設けられた位置検出用の透明導電層と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量方式のタッチセンサパネルを有する光学積層体を設けた表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明導電層が接地される。タッチ位置検知回路が、透明導電層の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。互いに離間した複数の透明導電層を有することにより、より詳細な位置の検出が可能となる。

透明導電層は、ＩＴＯ等の金属酸化物からなる透明導電層であってもよく、アルミニウムや銅、銀、金、またはこれらの合金等の金属からなる金属層であってもよい。

分離層は、ガラス等の基板上に形成されて、分離層上に形成された透明導電層を分離層とともに、基板から分離するための層であることができる。分離層は、無機物層又は有機物層であることが好ましい。無機物層を形成する材料としては、例えばシリコン酸化物が挙げられる。有機物層を形成する材料としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリイミド系樹脂組成物等を用いることができる。

保護層は、透明導電層に接して導電層を保護するために設けることができる。保護層は有機絶縁膜及び無機絶縁膜のうちの少なくとも一つを含み、これらの膜は、スピンコート法、スパッタリング法、蒸着法等によって形成することができる。

タッチセンサパネルは例えば、以下のようにして製造することができる。第１の方法では、まずガラス基板へ接着層を介して基材を積層する。基材上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。温度を制御することにより、ガラス基板と基材とを分離して、透明導電層と基材とからなるタッチセンサパネルが得られる。

第２の方法では、まずガラス基板上に分離層を形成し、必要に応じて、分離層上に保護層を形成する。分離層（または保護層）上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。透明導電層上に、剥離可能な保護フィルムを積層し、透明導電層から分離層までを転写して、ガラス基板を分離する。接着層を介して基材と分離層とを貼合し、剥離可能な保護フィルムを剥離することで、透明導電層と分離層と接着層と基材とをこの順に有するタッチセンサパネルが得られる。

タッチセンサパネルの基材としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリノルボルネンなどの樹脂フィルムが挙げられる。所望のタフネスを有する基材層を構成しやすい観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。

タッチセンサパネルは、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、厚みが３０μｍ以上であることが好ましい。タッチセンサパネルの厚みは、例えば１００μｍ以下である。

≪背面板≫
背面板としては、光を透過可能な板状体や通常の表示装置に用いられる構成要素等を用いることができる。

背面板の厚みは、例えば５μｍ以上２０００μｍ以下であってよく、好ましくは１０μｍ以上１０００μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以上５００μｍ以下である。

背面板に用いられる板状体としては、１層のみから構成されてよく、２層以上から構成されたものであってよく、前面板において述べた板状態について例示したものを用いることができる。

背面板に用いる通常の表示装置に用いられる構成要素としては、例えば上述のタッチセンサパネル、有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。

≪保護板≫
保護板としては、光を透過可能な樹脂製の板状体や通常の表示装置に用いられる構成要素等を用いることができる。樹脂製の板状体は、１層のみから構成されてよく、２層以上から構成されたものであってよく、前面板において述べた樹脂製の板状体について例示したものを用いることができる。好ましくは、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド等が挙げられる。

保護板の厚みは、例えば５μｍ以上２０００μｍ以下であってよく、好ましくは１０μｍ以上１０００μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以上５００μｍ以下であり、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下である。

（貼合層）
光学部材は、２つの層を接合するための貼合層を含むことができる。貼合層は、粘着剤又は接着剤から構成される層である。貼合層が粘着剤層である場合、その厚みは、１０μｍ未満である。貼合層の材料となる粘着剤は、上述の第ｘ粘着剤層で説明した粘着剤組成物を用いることができる。

貼合層の材料となる接着剤としては、例えば水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤等のうち１種又は２種以上を組み合わせて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含む接着剤、光反応性樹脂を含む接着剤、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含む接着剤等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマー、及びこれらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含む化合物を挙げることができる。

貼合層の厚みは、例えば１μｍ以上であってよく、好ましくは１μｍ以上１０μｍ未満、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ未満、さらに好ましくは２．５μｍ以上５μｍ以下である。

貼合層を介して貼合される対向する二つの表面は、予めコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を有していてもよい。

［光学積層体の製造方法］
光学積層体は、粘着剤層を介して、光学部材を貼合する工程を含む方法によって製造することができる。光学部材の粘着剤層と接する表面は、密着力を調整する目的で、コロナ処理等の表面活性化処理を施すことが好ましい。コロナ処理の条件は適宜設定することができ、貼合面の一方の面と他の面とで条件が異なっていてもよい。なお、貼合面がタッチセンサパネルの透明導電層である場合には、コロナ処理は行わないことが好ましい。

＜表示装置＞
本発明に係る表示装置は本発明に係る光学積層体を含む。表示装置は特に限定されず、例えば有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。本発明の光学積層体を含む表示装置は、優れた耐衝撃性を有し、屈曲又は巻回等が可能なフレキシブルディスプレイとして用いることもできる。

表示装置において、光学積層体は、第１光学部材（前面板）を外側（表示素子側とは反対側、すなわち視認側）に向けて表示装置が有する表示素子の視認側に配置される。表示装置は、第１光学部材（前面板）側を内側にして屈曲可能であることが好ましい。表示装置は、第１光学部材（前面板）側を外側にして屈曲可能であってもよい。

本発明に係る表示装置は、タッチパネル方式の表示装置として好適であり、スタイラスペンでの入力可能な表示装置として特に好適である。

本発明に係る表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

［厚みの測定］
光学積層体をなす各層の厚みは、接触式膜厚測定装置（株式会社ニコン製「ＭＳ－５Ｃ」）を用いて測定した。

［光学部材の降伏応力の測定］
光学積層体で用いられる光学部材の降伏応力は、次の手順で測定した。測定対象の光学部材から、長辺１１０ｍｍ×短辺１０ｍｍの長方形の小片をスーパーカッターを用いて切り出した。次いで、引張試験機〔株式会社島津製作所製 オートグラフ ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ試験機〕の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が５ｃｍとなるように上記測定用サンプルの長辺方向両端を挟み、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下、引張速度４ｍｍ／分で測定用サンプルを測定用サンプルの長さ方向に引張り、応力－ひずみ曲線を作成し、降伏点における降伏応力〔ＭＰａ〕を算出した。このとき、応力を算出するための厚みとしては、上記の通り測定した光学部材の厚み値を用いた。得られた応力－ひずみ曲線において降伏点が確認されない場合は、荷重を除去した際に元の長さに戻らず０．２％の残留ひずみが生じるときの応力を、降伏応力とした。

［粘着剤層の貯蔵弾性率の測定］
粘着剤層を厚み１５０μｍになるように積み重ねた測定用サンプルについて、レオメーター（Ａｎｔｏｎ Ｐａｒｒ、ＭＣＲ－３０１）を用いて、温度２５℃、相対湿度５０％、応力１％、周波数１Ｈｚの条件で貯蔵弾性率の測定を行った。

［粘着剤層の準備］
（粘着剤層１ａ）
下記の表１に示す各成分の割合にて粘着剤層ａを形成する粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）の離型処理面に、アプリケータを利用して乾燥後の厚みが１５μｍになるように塗布した。塗布層を１００℃で１分間乾燥して、粘着剤層ａを備えるフィルムを得た。その後、粘着剤層ａ上に、離型処理された別のポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）を貼合した。その後、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの条件で７日間養生させた。粘着剤層１ａについて、上述のように貯蔵弾性率を測定したところ、０.０５ＭＰａであっ
た。
表１中の単量体の欄における記号は以下の意味を表す。
ＢＡ：アクリル酸ブチル
２ＥＨＡ：アクリル酸２－エチルヘキシル
４ＨＢＡ：アクリル酸４－ヒドロキシブチル
表１中の架橋剤及びシランカップリング剤は以下のものを用いた。
架橋剤：コロネートＬ（東ソー株式会社製）
シランカップリング剤：ＫＢＭ－４０３（信越化学工業株式会社製）

（粘着剤層１ｂ、１ｃ、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、３ａ、３ｂ、３ｃ）
下記の表１に示す各成分の割合にて、乾燥後の厚みが下記の表１になるようにしたこと以外は、粘着剤層１ａと同様にして粘着剤層１ｂ、１ｃ、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、３ａ、３ｂ、３ｃを得た。各粘着剤層について、上述のように測定した貯蔵弾性率を測定した。表１に測定結果を示す。

［第１光学部材（前面板）の作製］
(製造例１Ａ)
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＴＦＭＢ）５２ｇ（１６２．３８ｍｍｏｌ）および水分量を５００ｐｐｍに調整したＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）６９３．８ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコに４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）２８．９０ｇ（６５．０５ｍｍｏｌ）と３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）９．５７ｇ（３２．５２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。その後、テレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）１３．２１ｇ（６３．１０ｍｍｏｌ）をフラスコに加え、室温で１時間撹拌した。次いで、フラスコにピリジン４．９９ｇ（６３．１０ｍｍｏｌ）と無水酢酸２１．９１ｇ（２１４．６６ｍｍｏｌ）とを加え、室温で３０分間撹拌した後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂を得た。
得られたポリアミドイミド樹脂に、濃度が１５質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミドワニスを作製した。得られたポリアミドイミドワニスをポリエステル基材（東洋紡株式会社製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の膜厚が３０μｍとなるようにアプリケータを用いて塗工し、５０℃３０分間、次いで１４０℃１５分間で乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下で３００℃３０分間乾燥し、膜厚２５μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

(製造例１Ｂ)
塗工厚みを変えたこと以外は製造例１と同様にして、膜厚４５μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

(製造例１Ｃ)
塗工厚みを変えたこと以外は製造例１と同様にして、膜厚７５μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

（ハードコート層組成物）
ハードコート層用組成物は、多機能アクリレート(MIWONスペシャルティーケミカル(韓
国)、MIRAMER M340)３０重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルに分散したナノシリカゾル(平均粒径１２ｎｍ、固形分４０％)５０重量部、エチルアセテート１７重量部、光重合開始剤(Ciba社、I184)２．７重量部、フッ素系添加剤(信越化学工業株式会社
、KY1203)０．３重量部を攪拌機を利用して配合し、ポリプロピレン（ＰＰ）材質のフィ
ルターを用いて濾過することでハードコート層用組成物を製造した。

（第１光学部材１Ａ）
製造例１Ａで得られたポリアミドイミドフィルムに、ハードコート層組成物を膜厚が５μｍとなるように塗布した。フィルムを乾燥して、厚み３０μｍハードコート層付きポリアミドイミドフィルムを得た。

（第１光学部材１Ｂ）
製造例１Ｂで得られたポリアミドイミドフィルムに、ハードコート層組成物を膜厚が５μｍとなるように塗布した。フィルムを乾燥して、厚み５０μｍハードコート層付きポリアミドイミドフィルムを得た。

（第１光学部材１Ｃ）
製造例１Ｃで得られたポリアミドイミドフィルムに、ハードコート層組成物を膜厚が５μｍとなるように塗布した。フィルムを乾燥して、厚み８０μｍハードコート層付きポリアミドイミドフィルムを得た。

［第２光学部材（保護板）の作製］
（第２光学部材２Ａ）
ＷＯ２０１４／０３０４７４の参考例と実施例とを参考にして、厚さ６０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを得た。

（第２光学部材２Ｂ）
ＷＯ２０１４／０３０４７４の参考例と実施例とを参考にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムを得た。

（第２光学部材２Ｃ）
ＷＯ２０１４／０３０４７４の参考例と実施例とを参考にして、厚さ８０μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムを得た。

（第２光学部材２Ｄ）
ＷＯ２０１４／０３０４７４の参考例と実施例とを参考にして、厚さ４０μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムを得た。

［第３光学部材（円偏光板）の作製］
＜偏光子層形成用組成物の調製＞
（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物は、式（１－６）で表される重合性液晶化合物［以下、化合物（１－６）ともいう］と式（１－７）で表される重合性液晶化合物［以下、化合物（１－７）ともいう］とを用いた。

化合物（１－６）および化合物（１－７）は、Ｌｕｂ ｅｔ ａｌ．Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ、１１５、３２１－３２８（１９９６）記載の方法により合成した。

（二色性色素）
二色性色素には、下記式（２－１ａ）、（２－１ｂ）、（２－３ａ）で示される特開２０１３－１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ色素を用いた。

（偏光子層形成用組成物の調製）
偏光子層形成用組成物は、化合物（１－６）７５質量部、化合物（１－７）２５質量部、二色性染料としての上記式（２－１ａ）、（２－１ｂ）、（２－３ａ）で示されるアゾ色素各２．５質量部、重合開始剤としての２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、ＢＡＳＦジャパン社製）６質量部、およびレベリング剤としてのポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ、ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）１．２質量部を、溶剤のトルエン４００質量部に混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより調製した。

＜λ／４層＞
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３０，０００）とシクロペンタノン９５部とを混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向膜形成用組成物を得た。

以下に示す重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した混合物１００部に対して、レベリング剤（Ｆ－５５６；ＤＩＣ株式会社製）を１．０部、及び重合開始剤である２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。

さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、位相差層形成用組成物（１）を得た。

重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０－３１２２３号公報に記載された方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９－１７３８９３号公報に記載された方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。

（重合性液晶化合物Ａ）

（重合性液晶化合物Ｂ）

シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン株式会社製、ＺＦ－１４、厚み２３μｍ）からなる基材フィルムを、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回コロナ処理した。コロナ処理を施した基材の表面に、水平配向膜形成用組成物をバーコーターにより塗布した。塗布膜を８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた水平配向膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。

続いて、室温２５℃、湿度３０％ＲＨ環境下において、位相差層形成用組成物（１）を孔径０．２μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルタ（アドバンテック東洋（株）製、品番；Ｔ３００Ａ０２５Ａ）に通し、２５℃に保温した配向膜付き基材フィルム上にバーコーターを用いて塗布した。塗膜を１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより光学フィルムを作成した。得られた塗膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ２μｍであった。

このようにして、重合性液晶化合物が硬化した層（λ／４層）、水平配向膜及び基材フィルムがこの順に積層された積層体（位相差層１）を得た。位相差層１は逆波長分散性を示した。

＜ポジティブＣ層＞
垂直配向膜形成用組成物として、２－フェノキシエチルアクリレートと、テトラヒドロフルフリルアクリレートと、ジペンタエリスリトールトリアクリレートと、ビス（２－ビニルオキシエチル）エーテルとを１：１：４：５の割合で混合し、重合開始剤としてＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯを４％の割合で添加した混合物を用いた。

位相差層形成用組成物（２）は、光重合性ネマチック液晶化合物（メルク社製，ＲＭＭ２８Ｂ）と溶媒とを、固形分が１～１．５ｇとなるように調製して作製した。溶媒は、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）と、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）とを、質量比（ＭＥＫ：ＭＩＢＫ：ＣＨＮ）で３５：３０：３５の割合で混合させた混合溶媒を用いた。

厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを基材フィルムとして準備した。基材フィルムの片面に垂直配向膜形成用組成物を膜厚３μｍになるように塗布し、２００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、垂直配向膜を作製した。

垂直配向膜上に、位相差層形成用組成物（２）を、ダイコーティングにより塗工した。塗工量は４～５ｇ（ｗｅｔ）であった。乾燥温度を７５℃、乾燥時間を１２０秒間として、塗膜を乾燥させた。その後、塗膜に紫外線（ＵＶ）照射して、重合性液晶化合物を重合させた。得られた塗膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ１μｍであった。

このようにして、重合性液晶化合物が硬化した層（ポジティブＣ層）、垂直配向膜、及び基材フィルムがこの順に積層された積層体（位相差層２）を得た。位相差層２は重合性液晶化合物が硬化した層と配向膜との合計の厚みは４μｍであった。

＜位相差層＞
上述の位相差層１と位相差層２とを、基材フィルム側の表面とは反対側の表面が貼合面となるように紫外線硬化型接着剤層（厚み１．５μｍ）を介して貼り合わせて、基材フィルム／水平配向膜／（λ／４層）／紫外線線硬化型接着剤層（厚み1.5μｍ）／ポジティ
ブＣ層／垂直配向膜／基材フィルムの構成を有する位相差層を得た。

＜直線偏光板＞
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚み２５μｍ）上に、配向膜形成用組成物をバーコート法により塗布した。塗膜を８０℃で１分間乾燥した。次いで上記ＵＶ照射装置およびワイヤーグリッドを用いて、塗膜に偏光ＵＶを照射し、塗膜に配向性能を付与した。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）であった。ワイヤーグリッドは、ＵＩＳ－２７１３２＃＃（ウシオ電機株式会社製）を用いた。このようにして、配向膜を形成した。配向膜の厚みは１００ｎｍであった。

形成した配向膜上に、上記偏光子層形成用組成物をバーコート法により塗布した。塗膜を１００℃で２分間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。上記ＵＶ照射装置を用いて、積算光量１２００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）で紫外線を、塗膜に照射することにより、偏光子層を形成した。得られた偏光子層の厚みは３μｍであった。偏光子層上に、ポリビニルアルコールと水とを含む組成物を、乾燥後の厚みが０．５μｍとなるように塗工し、温度８０℃で３分間乾燥して保護層を形成した。このようにして、ＴＡＣフィルム／配向膜／偏光子層／保護層の構成を有する直線偏光板を作製した。

＜円偏光板＞
上述の位相差層から、λ／４層の形成に用いた基材フィルムを剥離した。露出させたλ／４層と直線偏光板とを、紫外線硬化型接着剤（アデカアークルズ KRシリーズ、ADEKA社製）により貼り合わせて、「「ＴＡＣフィルム／配向膜／偏光子層／保護層／紫外線硬化型接着剤層（厚み１．５μｍ）／（λ／４層）／紫外線硬化型接着剤層（厚み１．５μｍ）／ポジティブＣ層／垂直配向膜／基材フィルム」の構成を有する円偏光板（第３光学部材）を得た。偏光子層の吸収軸と、λ／４層の遅相軸とのなす角度は４５°であった。

［実施例１～４、比較例１，２］
実施例１～４、比較例１，２の光学積層体を、以下の手順で作製した。まず、上述のように準備した円偏光板（第３光学部材）のポジティブＣ層の形成に用いた基材フィルムを剥離した。その後、表２に記載の第３粘着剤層を備えるフィルムを準備し、一方のポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、第３粘着剤層の面を露出させた。第３光学部材の露出した面と、第３粘着剤層の面とにコロナ処理を施した後、両者を貼り合わせて、「第３光学部材／第３粘着剤層」からなる積層体を得た。その後、表２に記載の第１光学部材、第１粘着剤層、第２光学部材、第２粘着剤層を用いて、これらを積層して、「第１光学部材／第１粘着剤層／第２光学部材／第２粘着剤層／第３光学部材／第３粘着剤層」からなる層構成の光学積層体を得た。第１光学部材は、第１粘着剤層側とは反対側の表面がハードコート層で構成されるように積層した。

［比率の算出］
各光学積層体について、第１光学積層体の厚みＴ_１〔μｍ〕、第１粘着剤層の厚みｔ_１〔μｍ〕、第２粘着剤層の厚みｔ_２〔μｍ〕、第３粘着剤層の厚みｔ_３〔μｍ〕から、Ｔ_１／ｔ_１、Ｔ_１／ｔ_２、Ｔ_１／ｔ_３を算出した。表２に算出結果を示す。また、各光学積層体について、第２光学積層体の降伏応力Ｓ_２〔ＭＰａ〕及び第２粘着剤層の貯蔵弾性率Ｇ’_２〔ＭＰａ〕を用いて、Ｓ_２／Ｇ’_２の値を算出した。表２に算出結果を示す。

［押さえ深さの測定］
実施例１～４、比較例１，２の光学積層体について、第３粘着剤層を露出させて、ここに有機ＥＬパネルの代用品として、「ポリイミドフィルム（厚み３５μｍ）／粘着剤層（厚み２５μｍ）／ポリイミドフィルム（厚み５０μｍ）」の層構成を有する積層体を、ポリイミドフィルム（厚み３５μｍ）側が第３粘着剤層に接するように積層して、２０ｍｍ×１１０ｍｍのサイズに切り出して試験用積層体を得た。

試験用積層体について、第１光学部材（前面板）の表面に、テスト用ペン（Ｓａｍｓｕｎｇ Ｇａｌａｘｙ Ｎｏｔｅ １０のＤｉｇｉｔｉｇｅｒ Ｓ－ｐｅｎ、質量：５００ｇ、先端の材質：ポリオキシメチレン）が９０度の角度で、１．３ｋｇ／ｍｍ^２の圧力で接するように固定し、テスト用ペンを５００ｍｍ／分の速度で５０ｍｍの直線上を一往復させた。そして、２時間放置した後に、押さえ深さを２次元測定機（ＤＥＫＴＡＫ ６Ｍ；Ｖｅｅｃｏ社製造）を用いて測定した。押さえ深さは、試験用積層体の第１光学部材（前面板）の表面における、テスト用ペンを一往復させた直線上の深さ（周囲からの凹み）の最大値とする。表２に、押さえ深さの測定値を示す。

１０ 前面板（第１光学部材）、１１ 基材、１２ ハードコート層、２２ 第２光学部材、２３ 第３光学部材、２４ 第４光学部材、３１ 第１粘着剤層、３２ 第２粘着剤層、３３ 第３粘着剤層、１００ 光学積層体。

Claims (8)

1. 前面板である第１光学部材と、第１粘着剤層と、第２光学部材と、第２粘着剤層と、がこの順に接して積層された光学積層体であって、
   前記第２光学部材の降伏応力をＳ_２〔ＭＰａ〕とし、前記第２粘着剤層の貯蔵弾性率をＧ’_２〔ＭＰａ〕とすると、下記式（１）：
   ４６≦Ｓ_２／Ｇ’_２≦１７５００ （１）
   の関係を満たす、光学積層体。
2. 前記第１光学部材の降伏応力をＳ_１〔ＭＰａ〕とすると、下記式（２）：
   ７０ＭＰａ≦Ｓ_１≦１８０ＭＰａ （２）
   の関係を満たす、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記第１光学部材の厚みをＴ_１〔μｍ〕とし、前記第１粘着剤層の厚みをｔ_１〔μｍ〕とすると、下記式（３）：
   １．５≦Ｔ_１／ｔ_１≦５ （３）
   の関係を満たす、請求項１または２に記載の光学積層体。
4. 前記第１光学部材の厚みをＴ_１〔μｍ〕とし、前記第２粘着剤層の厚みをｔ_２〔μｍ〕とすると、下記式（４）：
   １．５≦Ｔ_１／ｔ_２≦５ （４）
   の関係を満たす、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
5. 前記第１光学部材は、前記第１粘着剤層側とは反対側の表面がハードコート層で構成されている、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体。
6. 偏光板を有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学積層体。
7. タッチセンサパネルを有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学積層体。
8. 請求項１～７のいずれか１項に記載の光学積層体を含む表示装置。

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