JP2022061117A - 基材位置調節機および基材搬送システム - Google Patents

Abstract

【課題】搬送される帯状の基材の幅方向における位置を調節することのできる基材位置調節機および基材搬送システムを提供する。【解決手段】搬送される帯状の基材の幅方向における位置を調節する基材位置調節機であって、基材を上流から下流に送る位置調節用搬送ローラと、前記位置調節用搬送ローラにおける基材が前記幅方向において所定の位置にあった場合の基材と少なくとも一部が重なるよう前記位置調節用搬送ローラと対向し、正常搬送時には基材と離隔して設けられる位置調節ローラと、を有しており、前記位置調節ローラは、基材の位置を調節するときに前記位置調節用搬送ローラに接近させられ、前記位置調節用搬送ローラとで基材を挟持し、自身の回転軸がこの挟持した位置における基材の前記幅方向から搬送方向に傾いている構成とする。【選択図】図２

Description

本発明は、搬送される帯状の基材の幅方向における位置を調節する基材位置調節機および基材搬送システムに関するものである。

従来、回路パターンを形成するためにＣＶＤ、スパッタリング、フォトリソグラフィー等の技術が知られていたが、近年、コストやエネルギー、資源を削減するために、各種の印刷技術を用いた回路パターン形成技術（プリンテッドエレクトロニクス）が注目されている。この回路パターン形成技術は、たとえば、金属インクをノズルから基材上に塗布して回路パターンを形成するものである。

また、帯状の長尺フィルムに塗液を塗布するためには、生産効率の向上を目的としてフィルムをロールツーロールによって搬送し、連続的に塗液をフィルム上に塗布することが行われている。

従来の技術として特許文献１には、ロールツーロールによって搬送されるフィルムへの塗布および乾燥を連続して行う製造装置が記載されている。

特開２００５－０３０６８２号公報

しかしながら、特許文献１においては、フィルム（以下、基材とよぶ）に位置ずれが生じる虞がある。これは、塗液が塗布された基材が乾燥された後、高温となって軟化した基材Ｗが張力によって伸ばされることを避けるために一定の距離の間は張力がほとんどかからない状態で搬送されるので、基材の幅方向における位置ずれが生じる虞があるということである。そして、これを原因として基材をきれいに巻き取ることができない問題がある。また、搬送ロール（以下、搬送ローラとよぶ）から基材が逸脱するという問題もある。

本発明は、上記問題点を鑑みてなされたものであり、搬送される帯状の基材の幅方向における位置を調節することのできる基材位置調節機および基材搬送システムを提供することを目的としている。

上記課題を解決するために本発明の基材位置調節機は、搬送される帯状の基材の幅方向における位置を調節する基材位置調節機であって、基材を上流から下流に送る位置調節用搬送ローラと、前記位置調節用搬送ローラにおける基材が前記幅方向において所定の位置にあった場合の基材と少なくとも一部が重なるよう前記位置調節用搬送ローラと対向し、正常搬送時には基材と離隔して設けられる位置調節ローラと、を有しており、前記位置調節ローラは、基材の位置を調節するときに前記位置調節用搬送ローラに接近させられ、前記位置調節用搬送ローラとで基材を挟持し、自身の回転軸がこの挟持した位置における基材の前記幅方向から搬送方向に傾いていることを特徴としている。

上記基材位置調節機によれば、位置調節ローラが、基材の位置を調節するときに位置調節用搬送ローラに接近させられ、位置調節用搬送ローラとで基材を挟持し、自身の回転軸がこの挟持した位置における基材の幅方向から搬送方向に傾いていることにより、基材の位置を調節することが可能となる。

また、前記回転軸の傾きを調節する傾き調節機能を有することを特徴としている。

この構成によれば、位置調節ローラの回転軸の傾きを調節する傾き調節機能を有することにより、基材の位置を調節したい方向に合わせて位置調節ローラの回転軸の傾きを調節することが可能となる。

また、前記位置調節ローラは、少なくとも回転面が弾性体から成ることを特徴としている。

この構成によれば、位置調節ローラの少なくとも回転面が弾性体であることにより、基材を位置調節用搬送ローラとで挟持する際に、位置調節ローラの回転面と基材とが少なくとも線で接することができるので、基材の位置をより容易に調節することが可能となる。

また、前記位置調節用搬送ローラがサクションローラであることを特徴としている。

この構成によれば、位置調節用搬送ローラがサクションローラであることにより、位置調節ローラが基材と離隔している状態であっても、位置調節用搬送ローラの上流側と下流側とで基材にかける張力を独立して調節することができるので、位置調節用搬送ローラの上流側で基材にかける張力を基材が垂れるほど低くしても基材を下流側で巻き取ることが可能である。

また、前記位置調節ローラが複数設けられ、少なくとも一組の前記位置調節ローラは互いの前記回転軸が略Ｖ字を形成するよう傾いており、互いに独立して前記位置調節用搬送ローラに接離することを特徴としている。

この構成によれば、互いの回転軸が略Ｖ字を形成するよう傾いている少なくとも一組の位置調節ローラを有していることにより、基材の位置を調節したい方向に基材を導くために適する位置調節ローラが位置調節用搬送ローラとで基材を挟持することで、位置調節ローラの回転軸の傾きを調節しなくても位置調節ローラによって基材の位置を調節したい方向に基材を導いて容易に基材の位置を調節することが可能となる。

また、前記位置調節ローラの少なくとも一部が、基材が前記所定の位置にあった場合の前記幅方向における基材の端部と重なる位置に配置されていることを特徴としている。

この構成によれば、位置調節ローラの少なくとも一部が、基材が所定の位置にあった場合の幅方向における基材の端部と重なる位置に配置されていることで、位置調節ローラが位置調節用搬送ローラとで基材を挟持する際に、基材に塗工膜などの位置調節ローラが接触することで不具合が生じる虞のあるものがあったとしても、前記位置調節ローラがそれに接触することなく基材の位置ずれを補正することが可能となる。

上記課題を解決するために本発明の基材搬送システムは、ロールツーロールによって搬送される帯状の基材の幅方向における位置ずれを補正して基材が適切な位置にある状態で基材を搬送するための基材搬送システムであって、基材を搬送する複数の搬送ローラと、前記位置ずれを検知するセンサと、前記位置ずれを補正する基材位置調節機と、を有しており、前記基材位置調節機は、位置調節用搬送ローラと、前記位置調節用搬送ローラにおける基材が前記幅方向において所定の位置にあった場合の基材と少なくとも一部が重なるよう前記位置調節用搬送ローラと対向し、正常搬送時には基材と離隔して設けられる位置調節ローラと、を有し、前記センサは、前記位置調節用搬送ローラの近傍に位置しており、前記位置調節ローラは、前記センサが前記位置ずれを検知したときに前記位置調節用搬送ローラに接近させられ、前記位置調節用搬送ローラとで基材を挟持し、自身の回転軸がこの挟持した位置における基材の前記幅方向から搬送方向に傾いていることを特徴としている。

上記基材搬送システムによれば、センサにより基材の位置ずれを検知したときに位置調節ローラが位置調節用搬送ローラに接近させられ、位置調節用搬送ローラとで基材を挟持し、自身の回転軸がこの挟持した位置における基材の幅方向から搬送方向に傾いていることにより、基材の位置を位置調節ローラによって適正な位置に導いて調節することができるので、基材の位置ずれを補正して基材が適切な位置にある状態で基材を搬送することが可能となる。

本発明の基材位置調節機および基材搬送システムによれば、搬送される帯状の基材の幅方向における位置ずれを補正することが可能となる。

本発明の一実施形態における基材搬送システムを備える塗布装置を示す概略図である。 本発明の第一実施形態における基材位置調節機を示す図である。 本発明の第二実施形態における基材位置調節機を示す図である。 本発明の第二実施形態における基材位置調節機の一つのバリエーションを示す図である。

〔第一実施形態〕
以下、本発明の第一実施形態における基材搬送システムを備える塗布装置について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、直交座標系の３軸をＸ、Ｙ、Ｚとし、水平方向をＸ軸方向、Ｙ軸方向と表現し、ＸＹ平面と垂直な方向（つまり、鉛直方向）をＺ軸方向と表現する。

図１は、本発明の第一実施形態における基材搬送システム２を備える塗布装置３を示す概略図である。

塗布装置３は、基材Ｗ上に塗液の塗布を行うものであり、図１に示すように基材搬送システム２による基材Ｗの搬送経路上に塗布部３１および乾燥部３５が配置される。基材搬送システム２は、ロールツーロール方式により長尺帯状の基材Ｗを所定の方向に搬送するものであり、巻出ローラ２１と巻取ローラ２２と複数の搬送ローラ２３とセンサ２４（詳細は後述する）とを有し、巻出ローラ２１から巻き出された基材Ｗが搬送ローラ２３を経由して巻取ローラ２２に巻き取られることにより搬送される。この塗布装置３では、巻出ローラ２１から巻き出された基材Ｗが巻取ローラ２２に巻き取られるまでに塗布部３１による塗液の塗布および乾燥部３５による塗液の乾燥が実施される。これにより、塗液が塗布された基材Ｗを得ることができるようになっている。なお、本実施形態における塗液は、たとえば、金属インクなどである。

また、乾燥部３５の下流側には、基材Ｗの幅方向における位置を調節する基材位置調節機１が備えられており、搬送中の基材Ｗの幅方向における位置ずれ（以下、位置ずれと呼ぶ）をセンサ２４が検知したときに、基材Ｗの位置を調節し、位置ずれを補正する。ここでいう、幅方向とは基材Ｗの長尺方向と直交する方向のことである。

塗布部３１は、基材搬送システム２による基材Ｗの搬送経路上に位置し、基材Ｗに塗液を塗布するためのものである。本実施形態では、インクジェット法によって所定のパターンの形状（たとえば、回路パターンの形状）にしたがって基材Ｗ上に塗液の液滴を吐出することにより、基材Ｗの上面に所定のパターンを形成する。

また、本実施形態では、基材Ｗは帯状に形成された長尺フィルムであり、たとえば、透明のＰＥＴから成っている。

塗布部３１は、塗布ヘッド３２、撮像部３３および吸着ステージ３４を有している。

塗布ヘッド３２は、自身の基材Ｗと対向する面が略平坦となっており、その面に複数のノズルの開口（不図示）を有している。このノズルは、塗液が貯蔵されたタンク（不図示）と配管（不図示）を経由して接続されており、ノズルに塗液が充填される。

各ノズルは塗布ヘッド３２の内部に備えられた吐出機構（不図示）と個別に接続されており、各吐出機構は制御部（不図示）によって制御され、各ノズルから塗液を吐出させる、または、吐出させないという動作の制御ができる構成をしている。ここでいう、吐出機構とは、ピエゾバルブなどの体積変化により塗液を吐出させるものである。また、ここでいう制御部は、所謂コンピュータである（以下、同様に扱う）。

また、塗布ヘッド３２は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に塗布ヘッド３２を移動させる塗布ヘッド移動手段（不図示）に取り付けられている。なお、この塗布ヘッド３２の移動の制御は制御部によって行われ、塗布ヘッド３２が所定の位置に塗液を吐出することができるように塗布ヘッド３２を移動させる。

撮像部３３は、本実施形態では１つ若しくは複数のＣＣＤカメラであり、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に撮像部３３を移動させる撮像部移動手段（不図示）に取り付けられている。

撮像部３３は、基材Ｗ上に形成されているアライメントマーク（不図示）などの特徴的なマークを撮像し、制御部がこのアライメントマークの座標を解析し、その結果から塗布ヘッド３２が塗液を塗布する位置を制御する。

吸着ステージ３４は、基材Ｗを吸着固定するためのものであり、基材Ｗと対向する面が略平坦となっており、その面に複数の吸引孔の開口（不図示）を有している。この吸引孔は、真空ポンプなどの減圧手段（不図示）と接続されており、この減圧手段が動作することにより、吸引孔から気体が吸引されて基材Ｗを吸着固定する。

これら塗布部３１の構成によって、基材搬送システム２により搬送される基材Ｗをステージ３３に吸着固定し、撮像部３３により基材Ｗ上のアライメントマークを撮像して制御部によってアライメントマークの座標を解析して、その結果から塗布ヘッド３２の位置等を制御して所定の位置に塗液の塗布を行う。

乾燥部３５は、基材Ｗの搬送経路において塗布部３１よりも下流側に位置し、熱風により基材Ｗ上の塗液を加熱乾燥するためのものであり、乾燥炉３６およびコンベア３７を有している。

乾燥炉３６は、その内部に基材Ｗが通過する空間と基材Ｗの入口および出口となる開口とを有している箱状の装置である。乾燥炉３６の内部空間を形成する面であり、基材Ｗの塗液が塗布された面（以下、塗布面とよぶ）と対向する面には、熱風を吹き出す複数の風孔（不図示）が設けられており、塗布面に対して熱風を吹き付ける。これにより、塗布面上の溶剤の揮発が促進され、塗液が乾燥、硬化する。

ここで、基材Ｗの長尺方向にわたって乾燥炉３６による乾燥および熱によって基材Ｗに変形ムラが生じることを防止するために、基材Ｗの全体にわたって熱風が当たる時間を均一にするよう乾燥炉３６内における基材Ｗの搬送は一定の速度で行われる。

このとき、乾燥炉３６内における基材Ｗの搬送は、コンベア３７で基材Ｗを支持することによって、基材Ｗにかかる張力を低くした状態で行われる。

また、塗布部３１による塗液の塗布が上述したように基材Ｗを吸着ステージ３４によって吸着して行われるのに対し、乾燥部３５では一定速度で搬送する必要があるため、塗布部３１と乾燥部３５との間には基材Ｗによるバッファが形成されている。

なお、本実施形態における乾燥炉３６では、基材Ｗに熱風を当てているが、熱風によって基材Ｗにばたつきが生じる場合には、熱風に代えて赤外線を基材Ｗに照射する乾燥手段を用いてもよい。

基材搬送システム２は、前述したように巻出ローラ２１、巻取ローラ２２、複数の搬送ローラ２３およびセンサ２４を有しており、さらに基材位置調節機１を備えている。

巻出ローラ２１は、基材Ｗを下流側に供給するためのものであり、円柱形状を有している。巻出ローラ２１は、制御部（不図示）により回転を駆動制御され、基材Ｗを所定の速度で巻き出すようになっている。

巻取ローラ２２は、巻出ローラ２１により巻き出された基材Ｗを巻き取るためのものであり、円柱形状を有している。巻取ローラ２２は、巻出ローラ２１と同様に制御部により回転を駆動制御され、基材Ｗに所定の張力を付与しながら基材Ｗを巻き取るようになっている。

搬送ローラ２３は、巻出ローラ２１により巻き出された基材Ｗが巻取ローラ２２により巻き取られるまでに経由するものであり。円柱形状または円筒形状を有している。搬送ローラ２３は、複数備えられており、その複数の搬送ローラ２３のうち一部または、すべての搬送ローラ２３は、巻出ローラ２１と巻取ローラ２２と同様に、制御部により回転軸を駆動制御され、搬送ローラ２３は基材Ｗに所定の張力が付与されるよう回転が制御されながら基材Ｗを搬送している。

また、複数の搬送ローラ２３のうち一部または、すべての搬送ローラ２３は、自身の上流側と下流側とで基材Ｗにかける張力を独立して調節可能なサクションローラであってもよい。ここでいう、サクションローラは真空ポンプなどの減圧手段（不図示）と接続されており、ローラの外周面に多数の吸気口（不図示）を有し、減圧手段が動作することにより吸気口に吸引力を発生させ、ローラの外周面に基材Ｗが接触した際に基材Ｗを吸着保持するものである。なお、サクションローラである搬送ローラ１３は円筒形状を有している。

ここで、巻出ローラ２１によって巻き出された基材Ｗが搬送ローラ２３を経由し巻取ローラ２２に巻き取られるまでの間で基材Ｗに位置ずれが生じる虞がある。特に、この位置ずれは乾燥部３５のすぐ下流側で生じる可能性が高くなっている。これは、塗布部３１により塗液が塗布された基材Ｗを乾燥部３５により乾燥させた後、高温となって軟化した基材Ｗが張力によって伸ばされて変形することを避けるために図１に示す垂れ搬送部２５のように一定の距離の間は垂れが形成されるほどの低張力で基材Ｗを搬送する必要があるからである。

センサ２４は、基材Ｗの幅方向における位置ずれを検知するためのものである。具体的には、センサ２４は基材Ｗの幅方向における端部の位置を観るためのものであり、基材Ｗが正常搬送時（詳細は後述する）における位置からずれて許容範囲外の位置にあったとき、センサ２４による基材Ｗの端部位置の測定結果が許容範囲外となり、それを受けて制御部が基材Ｗに位置ずれが生じていると判断する。本実施形態では搬送ローラ２３の近傍に位置するよう正常搬送時の基材Ｗにおける幅方向両端のそれぞれの近傍に配置されている。このセンサ２４は、基材Ｗの位置ずれを検知したときにその検知した結果を制御部（不図示）に伝達する。また、センサ２４は、たとえば、光学センサである。なお、センサ２４は搬送ローラ２３の近傍に位置するよう正常搬送時の基材Ｗにおける幅方向の端部の近傍に配置されてもよい。

基材位置調節機について図１および図２を参照しながら説明する。

図２は、図１の鎖線部ａの拡大平面図を示すものであり、本実施形態における基材搬送システム２が有している基材位置調節機１を示すものでもある。

基材位置調節機１は、基材Ｗの位置を調節するためのものであり、位置調節ローラ１１と位置調節用搬送ローラ１３とを有している。

また、本実施形態では、基材位置調節機１は、上述した基材Ｗに位置ずれが生じる可能性が高い乾燥部３５のすぐ下流側に位置するとよく、特に図１に示すように乾燥部３５よりも下流側に形成されている垂れ搬送部２５のすぐ下流側に位置するとよい。

位置調節用搬送ローラ１３は、複数の搬送ローラ２３のうちの一つであり、前述したように位置調節用搬送ローラ１３の上流側と下流側で基材Ｗにかける張力を独立して調節可能なサクションローラであるとよい。

位置調節ローラ１１は、位置ずれが生じている基材Ｗを適正な位置Ｔに導くためのものであり、回転面がゴムなどの弾性体から成っている。また、位置調節ローラ１１が回転させられるための軸である回転軸１２を有している。

図１に示すように位置調節ローラ１１は、位置調節用搬送ローラ１３と対向し、正常搬送時には基材Ｗと離隔して設けられている。ここでいう、正常搬送時とは基材Ｗに位置ずれがまったく生じることなく基材Ｗが搬送されている状態である理想的な搬送状態を中心に所定の許容誤差範囲内で基材Ｗが搬送されているときのことをいう。なお、理想的な搬送状態における基材Ｗの端部の位置は、図２の鎖線で示す基材Ｗの適正な位置Ｔのことである（以下、同様に扱う）。また、離隔している状態の位置調節ローラ１１を図２では二点鎖線で表している。

また、図２に示すように本実施形態における位置調節ローラ１１は、位置調節用搬送ローラ１３における基材Ｗが幅方向において適正な位置Ｔにあった場合の面内に位置するようになっている。

本実施形態では、位置調節ローラ１１は複数設けられている。ここで、少なくとも一組の位置調節ローラ１１ａと位置調節ローラ１１ｂは、図２に示すように互いの回転軸１２ａと回転軸１２ｂとが略Ｖ字を形成するように傾いている。ここで、位置調節ローラ１１ａと位置調節ローラ１１ｂのそれぞれの傾きは、後述するように自身が位置調節用搬送ローラ１３とで基材Ｗを挟持したときの位置において、それぞれの回転軸１２である回転軸１２ａと回転軸１２ｂのそれぞれが基材Ｗの幅方向から搬送方向に傾いており、位置調節用搬送ローラ１３の軸芯である軸芯Ｇに対しても傾いている。ここでいう、軸芯とは図２に示す軸芯Ｇのようにロールの中心に軸が存在すると仮定した場合の軸のことをいう。

また、複数の位置調節ローラ１１のそれぞれは、位置調節ローラ制御手段（不図示）に接続されている。この位置調節ローラ制御手段は制御部により制御され、複数の位置調節ローラ１１を独立して基材Ｗに接近させて、基材Ｗを位置調節用搬送ローラ１３とで挟持させる。また、位置調節ローラ１１を基材Ｗから離隔させる動作も制御部により位置調節ローラ制御手段を制御して行う。この位置調節ローラ制御手段は、たとえばリニアガイドおよびモータ等で構成されたものである。なお、この制御部による位置調節ローラ制御手段の制御は、上述したセンサ２４により基材Ｗの位置ずれを検知し、その情報が制御部に伝達されたときに行われる。また、センサ２４は位置調節用搬送ローラ１３の近傍に位置するよう配置される。また、基材Ｗに接触している状態の位置調節ローラ１１を図２では実線で表している。

ここで、位置調節ローラ１１は搬送される基材Ｗに接したとき、摩擦力により回転し、そのとき回転軸１２の方向と直交する方向の力を基材Ｗに及ぼす。具体的には、図２に示すように位置調節ローラ１１ａが基材Ｗに接近させて基材Ｗを位置調節用搬送ローラ１３とで挟持させた場合、位置調節ローラ１１ａが基材Ｗに及ぼす力の方向Ｂは紙面右方向の方向Ａと紙面上方向の方向Ｃの成分を有しているので、基材Ｗは紙面上の方向Ｃに移動しながら搬送される。一方、位置調節ローラ１１ｂを基材Ｗに接近させて基材Ｗを位置調節用搬送ローラ１３とで挟持させた場合、基材Ｗは紙面下方向に移動しながら搬送される。

このとき、基材Ｗに接近させられて位置調節用搬送ローラ１３とで基材Ｗを挟持する位置調節ローラ１１は、基材Ｗの位置ずれを補正するために適するものが選択されている。たとえば、基材Ｗが適正な位置Ｔから図２に示すような紙面下方向への位置ずれをしていた場合、位置調節ローラ１１は基材Ｗの位置を適正な位置Ｔに補正するために基材Ｗを紙面上方向である方向Ｃに導く必要がある。そのため、基材Ｗに接近させられる位置調節ローラ１１は、位置調節ローラ１１ａが選択される。そして、これを基材Ｗに接近させ、基材Ｗを位置調節用搬送ローラ１３とで挟持する。ここでいう、位置調節ローラ１１の選択は制御部によって行われる。

また、位置調節ローラ１１は、正常搬送時での基材Ｗの面内のうち幅方向における端部に位置するとよい。

本実施形態における上記記載の構成である基材搬送システム２の効果について、以下の通り説明する。

本実施形態の基材搬送システム２では、前述したように基材位置調節機１が乾燥部３５よりも下流側にある垂れ搬送部２５のすぐ下流側に設けられている。

一般的に、乾燥部３５よりも下流側の一定の距離の間は、高温となって軟化した基材Ｗが張力によって伸ばされて変形することを避けるために低張力で基材Ｗを搬送している。ここで、基材Ｗに張力がほとんどかからない状態で基材Ｗが搬送されているので、基材Ｗに位置ずれが生じる。この位置ずれを放置したまま基材Ｗの搬送を続けると基材Ｗを巻取ローラ２２にきれいに巻き取ることができなくなるだけでなく、基材Ｗが搬送ローラ２３から逸脱してしまい搬送自体ができなくなってしまう虞がある。

そこで、本実施形態のように乾燥部３５より下流側に設けられた基材位置調節機１によって基材Ｗに生じた位置ずれを補正することによって、基材Ｗを適正な位置Ｔで搬送することが可能となる。

具体的には、センサ２４が図２に示すように基材Ｗの位置が適正な位置Ｔから位置ずれしていることを検知する。このとき、図１に示すように位置調節用搬送ローラ１３と対向し、基材Ｗと離隔して設けられた複数の位置調節ローラ１１のうち、基材Ｗの位置ずれを補正するために適した位置調節ローラ１１（図２の場合は位置調節ローラ１１ａ）が基材Ｗに接近させられ、基材Ｗを位置調節用搬送ローラ１３とで挟持する。これにより、基材Ｗが紙面上の方向Ｃに移動しながら搬送されるので、基材Ｗを適正な位置Ｔに補正することが可能となる。なお、基材Ｗを位置調節用搬送ローラ１３とで挟持している位置調節ローラ１１は、基材Ｗの位置ずれの補正が完了したときに基材Ｗから離隔させられる（以下、同様に扱う）。

ここで、本実施形態のように複数設けられた位置調節ローラ１１のうち、少なくとも一組の位置調節ローラ１１は互いの回転軸１２が略Ｖ字を形成するように傾いている。そのため、基材Ｗの位置ずれを補正するために適する位置調節ローラ１１が選択されて接近し、基材Ｗを位置調節用搬送ローラ１３とで挟持することで基材Ｗの位置ずれを補正することができるので、回転軸１２の傾きを調節する機構等を必要とせずに基材Ｗの位置ずれを補正することが可能となる。

具体的には、基材Ｗが図２に示す位置ずれの仕方ではなく、紙面上方向に向かって位置ずれしている場合であっても、位置調節ローラ１１ａではなく位置調節ローラ１１ｂを基材Ｗに接近させて位置調節用搬送ローラ１３とで基材Ｗを挟持することで、基材Ｗを紙面下方向に移動させることができるので、基材Ｗの位置ずれを補正することができる。

また、位置調節ローラ１１の少なくとも回転面が弾性体から成るとよい。

これによって、基材Ｗを位置調節用搬送ローラ１３とで挟持する際に、位置調節ローラ１１の回転面が押しつぶされ、この回転面と基材Ｗとが少なくとも線で接することができるため、基材Ｗの位置を適正な位置Ｔにより導きやすくなるので、より容易に基材Ｗの位置ずれを補正することが可能となる。

また、位置調節ローラ１１が、正常搬送時での基材Ｗの面内のうち幅方向における端部に位置するとよい。

これによって、図２に示すように位置調節ローラ１１が基材Ｗの端部に位置していることにより、基材Ｗ上に塗液が塗布された塗布部分に位置調節ローラ１１が接触することなく、基材Ｗの位置ずれを補正することができる。そのため、塗布部分を傷つけることなく基材Ｗの位置ずれを補正することが可能となる。

ここで、図２に示す位置調節ローラ１１ａのように基材Ｗの位置ずれの方向と反対の方向に基材Ｗを移動させる力を基材Ｗに及ぼすことができる傾きをした回転軸１２を有する位置調節ローラ１１は、その基材Ｗの位置ずれの方向と反対の方向に位置する基材Ｗの端部に設けられるとよい。具体的には、図２において紙面上側の基材Ｗの端部と位置する位置調節ローラ１１ａは、紙面下側に基材Ｗを移動させる力を及ぼすような傾きを有しているとよい。

これによって、基材Ｗの位置ずれを補正する際に基材Ｗの幅方向における端部から基材Ｗを引っ張るように基材Ｗを移動させる力を基材Ｗに及ぼすことができるので、基材Ｗの位置ずれを補正する際に基材Ｗにしわが生じることを避けることが可能となる。

また、搬送ローラ１３のうち少なくとも位置調節用搬送ローラ１３がサクションローラであるとよい。

これによって、位置調節ローラ１１が基材と離隔している状態であっても、位置調節用搬送ローラ１３の上流側と下流側とで基材Ｗにかける張力を独立して調節することができるので、位置調節用搬送ローラ１３の上流側で基材Ｗにかける張力を基材Ｗが垂れるほど低くしても基材Ｗを下流側で巻き取ることが可能となる。

〔第二実施形態〕
次に本発明の第二実施形態における基材搬送システム２について図面を参照しながら説明する。第一実施形態と同様な構成については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。本実施形態では、位置調節ローラ１１が一つであること以外は第一実施形態における構成と同じ構成をしている。

図３は、本発明の第二実施形態における基材搬送システム２の図１の鎖線部ａの拡大平面図を示すものであり、本実施形態における基材搬送システム２が有している基材位置調節機１の拡大平面図を示すものでもある。

図４は、本発明の第二実施形態における基材搬送システム２の一つのバリエーションを示す図である。

本実施形態における基材搬送システム２が有する基材位置調節機１は、図３に示すように位置調節ローラ１１を一つ有しており、この位置調節ローラ１１の回転軸１２の傾きを調節する傾き調節機能（不図示）をさらに有している。

傾き調節機能は、センサ２４によって基材Ｗの位置ずれを検知したとき、その検知した位置ずれの仕方に合わせて回転軸１２の傾きを調節する。具体的には、センサ２４によって検知した基材Ｗの位置ずれの方向と反対の方向に基材Ｗを移動させる力を基材Ｗに及ぼすことができるよう回転軸１２の傾きを調節する。

より具体的には、センサ２４により検知した基材Ｗの位置ずれが図３に示すよう紙面下方向に生じている場合、図３に示す位置調節ローラ１１のように基材Ｗを紙面上方向に移動させる力を基材Ｗに及ぼすことができるよう回転軸１２の傾きを調節する。そして、回転軸１２の傾きを調節した位置調節ローラ１１を基材Ｗに接近させて位置調節用搬送ローラ１３とで基材Ｗを挟持することで、基材Ｗを紙面上方向に移動させて基材Ｗの位置ずれを補正する。

一方、センサ２４により検知した基材Ｗの位置ずれが図４に示すよう紙面上方向に生じている場合、図４に示す位置調節ローラ１１のように基材Ｗを紙面下方向に移動させる力を基材Ｗに及ぼすことができるよう回転軸１２の傾きを調節する。そして、回転軸１２の傾きを調節した位置調節ローラ１１を基材Ｗに接近させて位置調節用搬送ローラ１３とで基材Ｗを挟持することで、基材Ｗを紙面下方向に移動させて基材Ｗの位置ずれを補正する。

これによって、図３、図４のそれぞれに示すような基材Ｗの位置ずれを補正するために適した傾きになるよう傾き調節機能により回転軸１２の傾きを調節することができるので、位置調節ローラ１１が一つである簡単な構成であっても、基材Ｗの位置ずれを補正することが可能である。

以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳述したが、各実施形態における構成およびそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の追加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。たとえば、基材Ｗの搬送経路上に設けられる塗布部３１や乾燥部３５、搬送ロール２３等を含めた各種ロールの配置位置や設けられた数量は図に示すものに限られず、用途等に合わせて変更しても構わない。また、基材位置調節機１が設けられる位置は、乾燥部１０の下流側だけに限られず、基材の位置ずれが生じうる箇所に設けられていればよい。また、位置調節ローラ１１の配置は基材Ｗの面内に限られず、位置調節ローラ１１と位置調節用搬送ローラ１３とで基材Ｗを挟持する際に位置調節ローラ１１の少なくとも一部が基材Ｗに接触できる位置であれば構わない。また、位置調節ローラ１１の配置は基材Ｗの幅方向における端部に限られず、基材Ｗに接近させた際に塗布部と接触しない位置であれば構わない。また、基材Ｗの位置ずれの仕方は図に示すものに限られない。また、本発明は実施形態によって限定されることなく、請求の範囲によってのみ限定される。

１ 基材位置調節機
１１ 位置調節ローラ
１１ａ 位置調節ローラ
１１ｂ 位置調節ローラ
１２ 回転軸
１３ 位置調節用搬送ローラ
２ 基材搬送システム
２１ 巻出ローラ
２２ 巻取ローラ
２３ 搬送ローラ
２４ センサ
２５ 垂れ搬送部
３ 塗布装置
３１ 塗布部
３２ 塗布ヘッド
３３ 撮像部
３４ 吸着ステージ
３５ 乾燥部
３６ 乾燥炉
３７ コンベア
Ｗ 基材
Ａ 方向
Ｂ 方向
Ｃ 方向
Ｔ 適正な位置
Ｇ 軸芯（位置調節用搬送ローラの軸芯）

Claims (7)

1. 搬送される帯状の基材の幅方向における位置を調節する基材位置調節機であって、
   基材を上流から下流に送る位置調節用搬送ローラと、
   前記位置調節用搬送ローラにおける基材が前記幅方向において所定の位置にあった場合の基材と少なくとも一部が重なるよう前記位置調節用搬送ローラと対向し、正常搬送時には基材と離隔して設けられる位置調節ローラと、
   を有しており、
   前記位置調節ローラは、基材の位置を調節するときに前記位置調節用搬送ローラに接近させられ、前記位置調節用搬送ローラとで基材を挟持し、自身の回転軸がこの挟持した位置における基材の前記幅方向から搬送方向に傾いていることを特徴とする基材位置調節機。
2. 前記回転軸の傾きを調節する傾き調節機能を有することを特徴とする請求項１に記載の基材位置調節機。
3. 前記位置調節ローラは、少なくとも回転面が弾性体から成ることを特徴とする請求項１若しくは請求項２のいずれかに記載の基材位置調節機。
4. 前記位置調節用搬送ローラがサクションローラであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の基材位置調節機。
5. 前記位置調節ローラが複数設けられ、
   少なくとも一組の前記位置調節ローラは互いの前記回転軸が略Ｖ字を形成するよう傾いており、互いに独立して前記位置調節用搬送ローラに接離することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の基材位置調節機。
6. 前記位置調節ローラの少なくとも一部が、基材が前記所定の位置にあった場合の前記幅方向における基材の端部と重なる位置に配置されていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の基材位置調節機。
7. ロールツーロールによって搬送される帯状の基材の幅方向における位置ずれを補正して基材が適切な位置にある状態で基材を搬送するための基材搬送システムであって、
   基材を搬送する複数の搬送ローラと、
   前記位置ずれを検知するセンサと、
   前記位置ずれを補正する基材位置調節機と、
   を有しており、
   前記基材位置調節機は、位置調節用搬送ローラと、
   前記位置調節用搬送ローラにおける基材が前記幅方向において所定の位置にあった場合の基材と少なくとも一部が重なるよう前記位置調節用搬送ローラと対向し、正常搬送時には基材と離隔して設けられる位置調節ローラと、を有し、
   前記センサは、前記位置調節用搬送ローラの近傍に位置しており、
   前記位置調節ローラは、前記センサが前記位置ずれを検知したときに前記位置調節用搬送ローラに接近させられ、前記位置調節用搬送ローラとで基材を挟持し、自身の回転軸がこの挟持した位置における基材の前記幅方向から搬送方向に傾いていることを特徴とする基材搬送システム。

Images