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JP2021060156A - Cooker top plate and method for manufacturing the same - Google Patents

Cooker top plate and method for manufacturing the same Download PDF

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JP2021060156A
JP2021060156A JP2019184990A JP2019184990A JP2021060156A JP 2021060156 A JP2021060156 A JP 2021060156A JP 2019184990 A JP2019184990 A JP 2019184990A JP 2019184990 A JP2019184990 A JP 2019184990A JP 2021060156 A JP2021060156 A JP 2021060156A
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Abstract

To provide a cooker top plate that is less likely to cause a mottle due to a vaporized adhesive agent when being viewed from a cooking surface side, and is excellent in external appearance property.SOLUTION: A cooker top plate 1 includes: a glass substrate 2 including a cooking surface 2a on which cooking equipment is placed and a rear surface 2b on an opposite side to the cooking surface 2a; and a heat resistant resin layer 4 disposed on the rear surface 2b of the glass substrate 2. The heat resistant resin layer 4 includes a silicone resin. The silicone resin is cross-linked by at least one kind of cross-linking agent selected from the group comprising a phenyltrialkoxysilane, a methyltrialkoxysilane and a tetraalkoxysilane.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、調理器用トッププレート及び該調理器用トッププレートの製造方法に関する。 The present invention relates to a top plate for a cooker and a method for manufacturing the top plate for a cooker.

電磁調理器、ラジアントヒーター調理器、ガス調理器などの調理器用のトッププレートには、低い熱膨張係数を有する結晶化ガラスや硼珪酸ガラスなどからなる耐熱性を有するガラス基板が用いられている。このような調理器用トッププレートのガラス基板は、調理面と、調理器内部側に位置する裏面とを有している。 A heat-resistant glass substrate made of crystallized glass or borosilicate glass having a low coefficient of thermal expansion is used for a top plate for a cooker such as an electromagnetic cooker, a radiant heater cooker, or a gas cooker. The glass substrate of such a top plate for a cooker has a cooking surface and a back surface located on the inner side of the cooker.

調理器用トッププレートにおけるガラス基板の裏面には、一般に、意匠性を向上させたり調理器内部の構造を隠蔽したりすることを目的として、絵付け膜や遮光層が形成されている。また、絵付け膜や遮光層の上には、内部の隠蔽性や耐熱性をさらに高めることを目的として、耐熱樹脂層が形成されている。特許文献1では、このような耐熱樹脂層として、シランカップリング剤を含有する耐熱樹脂層が記載されている。 On the back surface of the glass substrate in the top plate for a cooker, a painting film or a light-shielding layer is generally formed for the purpose of improving the design or concealing the structure inside the cooker. Further, a heat-resistant resin layer is formed on the painting film and the light-shielding layer for the purpose of further enhancing the internal hiding property and heat resistance. Patent Document 1 describes a heat-resistant resin layer containing a silane coupling agent as such a heat-resistant resin layer.

特開2010−40171号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-40171

ところで、調理器用トッププレートは、トッププレートの裏面にシリコーン接着剤などの接着剤を用いて調理器に接着されることがある。また、トッププレートの裏面の加熱部分には、温度情報を取得するための温度センサー(熱電対)がシリコーン接着剤などの接着剤を用いて取り付けられることがある。しかしながら、これらの接着剤は、熱源により高温で加熱されると蒸発することがある。その結果、ガラス基板側の絵付け層、遮光層、耐熱樹脂層等に染み出した蒸発物は、調理面側から視たときに、シミとして目立ち易く、トッププレートの美観性が損なわれることがある。 By the way, the top plate for a cooker may be adhered to the cooker by using an adhesive such as a silicone adhesive on the back surface of the top plate. Further, a temperature sensor (thermocouple) for acquiring temperature information may be attached to the heated portion on the back surface of the top plate using an adhesive such as a silicone adhesive. However, these adhesives may evaporate when heated to high temperatures by a heat source. As a result, the evaporation material that has exuded to the painting layer, the light-shielding layer, the heat-resistant resin layer, etc. on the glass substrate side is easily noticeable as a stain when viewed from the cooking surface side, and the aesthetic appearance of the top plate may be impaired. is there.

特許文献1には、シランカップリング剤を含有する耐熱樹脂層が記載されているが、シランカップリング剤は、耐熱樹脂層の劣化(クラックの発生)を防止し、高温で軟化し広がった接着剤が耐熱樹脂層の隙間を通って遮光層へと浸透するのを防止できたとしても、蒸発した接着剤によるシミを十分に抑制することができないという問題がある。また、アミン系のシランカップリング剤などを用いた場合には、加熱により耐熱樹脂層が変色するという問題もある。 Patent Document 1 describes a heat-resistant resin layer containing a silane coupling agent. The silane coupling agent prevents deterioration (generation of cracks) of the heat-resistant resin layer and softens and spreads at a high temperature. Even if it is possible to prevent the agent from penetrating into the light-shielding layer through the gaps between the heat-resistant resin layers, there is a problem that stains due to the evaporated adhesive cannot be sufficiently suppressed. Further, when an amine-based silane coupling agent or the like is used, there is also a problem that the heat-resistant resin layer is discolored by heating.

本発明の目的は、調理面側から視たときに、蒸発した接着剤に起因するシミが生じ難く、美観性に優れる、調理器用トッププレート及び該調理器用トッププレートの製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a cooking top plate and a method for manufacturing the cooking top plate, which are less likely to cause stains due to the evaporated adhesive and are excellent in aesthetics when viewed from the cooking surface side. is there.

本発明に係る調理器用トッププレートは、調理器具が載せられる調理面及び該調理面とは反対側の裏面を有する、ガラス基板と、前記ガラス基板の前記裏面上に配置されている、耐熱樹脂層と、を備え、前記耐熱樹脂層が、シリコーン樹脂を含み、前記シリコーン樹脂が、フェニルトリアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の架橋剤により架橋されていることを特徴としている。 The top plate for a cooker according to the present invention has a glass substrate having a cooking surface on which a cooking utensil is placed and a back surface opposite to the cooking surface, and a heat-resistant resin layer arranged on the back surface of the glass substrate. The heat-resistant resin layer contains a silicone resin, and the silicone resin is crosslinked with at least one cross-linking agent selected from the group consisting of phenyltrialkoxysilane, methyltrialkoxysilane, and tetraalkoxysilane. It is characterized by being.

本発明においては、前記ガラス基板と前記耐熱樹脂層との間に設けられている、無機遮光層をさらに備えることが好ましい。 In the present invention, it is preferable to further provide an inorganic light-shielding layer provided between the glass substrate and the heat-resistant resin layer.

本発明に係る調理器用トッププレートの製造方法は、本発明に従って構成される調理器用トッププレートの製造方法であって、前記ガラス基板の前記裏面上に、シリコーン樹脂前駆体と、フェニルトリアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の架橋剤とを含む、ペーストを塗布する工程と、前記ペーストが塗布された前記ガラス基板を加熱することにより、前記ペーストを乾燥させるとともに、前記シリコーン樹脂前駆体を前記架橋剤により架橋させる工程と、を備えることを特徴としている。 The method for producing a top plate for a cooker according to the present invention is a method for producing a top plate for a cooker configured according to the present invention, wherein a silicone resin precursor and a phenyltrialkoxysilane are formed on the back surface of the glass substrate. The paste is coated by a step of applying a paste containing at least one cross-linking agent selected from the group consisting of methyltrialkoxysilane and tetraalkoxysilane, and by heating the glass substrate to which the paste is applied. It is characterized by comprising a step of drying and cross-linking the silicone resin precursor with the cross-linking agent.

本発明においては、前記シリコーン樹脂前駆体に対する前記架橋剤の割合が、質量比で、100:0.2〜100:30であることが好ましい。 In the present invention, the ratio of the cross-linking agent to the silicone resin precursor is preferably 100: 0.2 to 100: 30 in terms of mass ratio.

本発明によれば、調理面側から視たときに、蒸発した接着剤に起因するシミが生じ難く、美観性に優れる、調理器用トッププレート及び該調理器用トッププレートの製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a cooking top plate and a method for manufacturing the cooking top plate, which are less likely to cause stains due to the evaporated adhesive and are excellent in aesthetics when viewed from the cooking surface side. it can.

本発明の一実施形態に係る調理器用トッププレートを示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the top plate for a cooker which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る調理器用トッププレートの裏面に温度センサーが取り付けられている構成を示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the structure which attached the temperature sensor to the back surface of the top plate for a cooker which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。 Hereinafter, preferred embodiments will be described. However, the following embodiments are merely examples, and the present invention is not limited to the following embodiments. Further, in each drawing, members having substantially the same function may be referred to by the same reference numerals.

図1は、本発明の一実施形態に係る調理器用トッププレートを示す模式的断面図である。図1に示すように、調理器用トッププレート1(以下、「調理器用トッププレート1」を、単に「トッププレート1」とする)は、ガラス基板2を備える。ガラス基板2は、対向している調理面2a及び裏面2bを有する。調理面2aは、鍋やフライパンなどの調理器具が載せられる側の面である。裏面2bは、調理器の内部側において光源や加熱装置と対向する面である。従って、調理面2a及び裏面2bは、表裏の関係にある。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a top plate for a cooker according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the cooker top plate 1 (hereinafter, “cooker top plate 1” is simply referred to as “top plate 1”) includes a glass substrate 2. The glass substrate 2 has a cooking surface 2a and a back surface 2b facing each other. The cooking surface 2a is a surface on which cooking utensils such as a pot and a frying pan are placed. The back surface 2b is a surface facing the light source and the heating device on the inner side of the cooker. Therefore, the cooking surface 2a and the back surface 2b are in a front-to-back relationship.

ガラス基板2は、波長450nm〜700nmにおける少なくとも一部の光を透過する。ガラス基板2は、有色透明であってもよいが、トッププレート1の美観性をより一層高める観点から、無色透明であることが好ましい。なお、本明細書において、「透明」であるとは、波長450nm〜700nmにおける可視波長域の光透過率が70%以上であることをいう。 The glass substrate 2 transmits at least a part of light at a wavelength of 450 nm to 700 nm. The glass substrate 2 may be colored and transparent, but is preferably colorless and transparent from the viewpoint of further enhancing the aesthetic appearance of the top plate 1. In the present specification, "transparent" means that the light transmittance in the visible wavelength range in the wavelength range of 450 nm to 700 nm is 70% or more.

トッププレート1では、加熱及び冷却が繰り返しなされる。そのため、ガラス基板2は、高い耐熱性及び低い熱膨張係数を有するものであることが好ましい。具体的には、ガラス基板2の軟化温度は、700℃以上であることが好ましく、750℃以上であることがより好ましい。また、ガラス基板2の30℃〜750℃における平均線熱膨張係数は、−10×10−7/℃〜+60×10−7/℃の範囲内であることが好ましく、−10×10−7/℃〜+50×10−7/℃の範囲内であることがより好ましく、−10×10−7/℃〜+40×10−7/℃の範囲内であることがさらに好ましい。従って、ガラス基板2は、ガラス転移温度が高く、低膨張なガラスや、低膨張な結晶化ガラスからなるものであることが好ましい。低膨張な結晶化ガラスの具体例としては、例えば、日本電気硝子社製の「N−0」が挙げられる。なお、ガラス基板2としては、ホウケイ酸ガラスなどを用いてもよい。 In the top plate 1, heating and cooling are repeated. Therefore, the glass substrate 2 preferably has high heat resistance and a low coefficient of thermal expansion. Specifically, the softening temperature of the glass substrate 2 is preferably 700 ° C. or higher, more preferably 750 ° C. or higher. The average coefficient of linear thermal expansion of the glass substrate 2 at 30 ° C. to 750 ° C. is preferably in the range of −10 × 10 −7 / ° C. to + 60 × 10 −7 / ° C., preferably −10 × 10 −7. more preferably in the range of / ℃ ~ + 50 × 10 -7 / ℃, and even more preferably within the range of -10 × 10 -7 / ℃ ~ + 40 × 10 -7 / ℃. Therefore, the glass substrate 2 preferably has a high glass transition temperature and is made of low-expansion glass or low-expansion crystallized glass. Specific examples of the low-expansion crystallized glass include "N-0" manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. As the glass substrate 2, borosilicate glass or the like may be used.

ガラス基板2の厚みは、特に限定されない。ガラス基板2の厚みは、光透過率などに応じて適宜設定することができる。ガラス基板2の厚みは、例えば、2mm〜6mm程度とすることができる。 The thickness of the glass substrate 2 is not particularly limited. The thickness of the glass substrate 2 can be appropriately set according to the light transmittance and the like. The thickness of the glass substrate 2 can be, for example, about 2 mm to 6 mm.

ガラス基板2の裏面2b上には、無機遮光層3が設けられている。また、無機遮光層3上には、耐熱樹脂層4が設けられている。なお、本実施形態において、耐熱樹脂層4は、ガラス基板2の裏面2bの全体の上に形成されている。 An inorganic light-shielding layer 3 is provided on the back surface 2b of the glass substrate 2. Further, a heat-resistant resin layer 4 is provided on the inorganic light-shielding layer 3. In the present embodiment, the heat-resistant resin layer 4 is formed on the entire back surface 2b of the glass substrate 2.

無機遮光層3は、調理器内部の構造を隠蔽することを目的として設けられる遮光層である。従って、耐熱樹脂層4とともに無機遮光層3を設けることにより、調理面2a側から視たときに、調理器内部の構造をより効果的に隠蔽でき、トッププレート1の美観性をより一層高めることができる。 The inorganic light-shielding layer 3 is a light-shielding layer provided for the purpose of concealing the structure inside the cooker. Therefore, by providing the inorganic light-shielding layer 3 together with the heat-resistant resin layer 4, the structure inside the cooker can be more effectively concealed when viewed from the cooking surface 2a side, and the aesthetic appearance of the top plate 1 can be further enhanced. Can be done.

無機遮光層3は、無機物からなり、可視光の透過率が低いものであれば、特に限定されない。無機遮光層3は、例えば、無機顔料粉末とガラスとを含む層により形成することができる。この場合、無機顔料粉末としては、例えば、Cu−Cr−Mn系黒色無機顔料を用いることができる。また、ガラスとしては、例えば、B−SiO系ガラス粉末を用いることができる。なお、無機遮光層3は、チタンなどの金属膜により形成することもできる。 The inorganic light-shielding layer 3 is not particularly limited as long as it is made of an inorganic substance and has a low visible light transmittance. The inorganic light-shielding layer 3 can be formed of, for example, a layer containing an inorganic pigment powder and glass. In this case, as the inorganic pigment powder, for example, a Cu—Cr—Mn-based black inorganic pigment can be used. Further, as the glass, for example, B 2 O 3- SiO 2 system glass powder can be used. The inorganic light-shielding layer 3 can also be formed of a metal film such as titanium.

本実施形態において、無機遮光層3は、無機顔料粉末とガラスとを含む、多孔質膜である。このように無機遮光層3は、多孔質膜であることが望ましいが、実質的に空隙を有さない、緻密な膜であってもよい。無機遮光層3が緻密な膜であれば、蒸発した接着剤がガラス基板2側にしみ出しにくくなり、調理面2a側から視たときに、シミとしてより目立ちにくくなる。 In the present embodiment, the inorganic light-shielding layer 3 is a porous film containing an inorganic pigment powder and glass. As described above, the inorganic light-shielding layer 3 is preferably a porous film, but may be a dense film having substantially no voids. If the inorganic light-shielding layer 3 is a dense film, the evaporated adhesive is less likely to seep out to the glass substrate 2 side, and is less noticeable as stains when viewed from the cooking surface 2a side.

無機遮光層3の厚みは、特に限定されない。無機遮光層3の厚みは、例えば、無機遮光層3の光透過率や、機械的強度、あるいは熱膨張係数などに応じて適宜設定することができる。なお、無機遮光層3は、通常、ガラス基板2と異なる熱膨張係数を有する。このため、繰り返しの加熱及び冷却により無機遮光層3が損傷する場合がある。 The thickness of the inorganic light-shielding layer 3 is not particularly limited. The thickness of the inorganic light-shielding layer 3 can be appropriately set according to, for example, the light transmittance of the inorganic light-shielding layer 3, the mechanical strength, the coefficient of thermal expansion, and the like. The inorganic light-shielding layer 3 usually has a coefficient of thermal expansion different from that of the glass substrate 2. Therefore, the inorganic light-shielding layer 3 may be damaged by repeated heating and cooling.

この損傷をより一層抑制する観点から、無機遮光層3は、薄い方が好ましい。無機遮光層3の厚みは、1μm以上、15μm以下の範囲内であることが好ましく、2μm以上、10μm以下の範囲内であることがより好ましい。 From the viewpoint of further suppressing this damage, the inorganic light-shielding layer 3 is preferably thin. The thickness of the inorganic light-shielding layer 3 is preferably in the range of 1 μm or more and 15 μm or less, and more preferably in the range of 2 μm or more and 10 μm or less.

無機遮光層3の形成方法は、特に限定されない。無機遮光層3は、例えば、下記の方法により形成することができる。 The method for forming the inorganic light-shielding layer 3 is not particularly limited. The inorganic light-shielding layer 3 can be formed, for example, by the following method.

まず、無機顔料粉末とガラス粉末との混合粉末に溶媒を加えてペースト化する。得られたペーストをガラス基板2の裏面2b上に、スクリーン印刷法などを用いて塗布し、乾燥させる。その後、焼成することにより無機遮光層3を形成することができる。なお、焼成温度及び焼成時間は、使用するガラス粉末の組成などに応じて適宜設定することができる。焼成温度は、例えば、200℃〜900℃程度とすることができる。焼成時間は、例えば、10分〜1時間程度とすることができる。 First, a solvent is added to a mixed powder of an inorganic pigment powder and a glass powder to form a paste. The obtained paste is applied onto the back surface 2b of the glass substrate 2 by a screen printing method or the like, and dried. After that, the inorganic light-shielding layer 3 can be formed by firing. The firing temperature and firing time can be appropriately set according to the composition of the glass powder used. The firing temperature can be, for example, about 200 ° C. to 900 ° C. The firing time can be, for example, about 10 minutes to 1 hour.

また、無機遮光層3が、金属膜からなる場合は、スパッタリング法やCVD法などにより形成することができる。 When the inorganic light-shielding layer 3 is made of a metal film, it can be formed by a sputtering method, a CVD method, or the like.

耐熱樹脂層4は、シリコーン樹脂を含んでいる。本実施形態において、上記シリコーン樹脂は、フェニルトリアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の架橋剤により架橋されている。 The heat-resistant resin layer 4 contains a silicone resin. In the present embodiment, the silicone resin is crosslinked with at least one cross-linking agent selected from the group consisting of phenyltrialkoxysilane, methyltrialkoxysilane and tetraalkoxysilane.

このように、本実施形態のトッププレート1では、ガラス板2の裏面2b側に設けられる耐熱樹脂層4に含まれているシリコーン樹脂が、上記の架橋剤により架橋されているので、調理面2a側から視たときに、蒸発した接着剤に起因するシミが生じ難く、美観性に優れている。この点について、以下、図2を参照してより詳細に説明する。 As described above, in the top plate 1 of the present embodiment, the silicone resin contained in the heat-resistant resin layer 4 provided on the back surface 2b side of the glass plate 2 is crosslinked by the above-mentioned cross-linking agent, so that the cooking surface 2a When viewed from the side, stains due to the evaporated adhesive are unlikely to occur, and it is excellent in aesthetics. This point will be described in more detail below with reference to FIG.

図2に示すように、トッププレート1の裏面2bの加熱部分には、温度情報を取得するための温度センサー5(熱電対)が、シリコーン接着剤などの接着剤6を用いて取り付けられることがある。このような接着剤6は、熱源等により高温で加熱すると蒸発することがある。従来のトッププレートでは、この接着剤の蒸発物が、例えば、耐熱樹脂層を通過してガラス基板の無機遮光層側にしみ出すことがある。そのため、調理面側から視たときに、シミとして目立ち易く、トップレートの美観性が損なわれることがある。 As shown in FIG. 2, a temperature sensor 5 (thermocouple) for acquiring temperature information may be attached to the heated portion of the back surface 2b of the top plate 1 by using an adhesive 6 such as a silicone adhesive. is there. Such an adhesive 6 may evaporate when heated at a high temperature by a heat source or the like. In the conventional top plate, the evaporation of this adhesive may, for example, pass through the heat-resistant resin layer and seep out to the inorganic light-shielding layer side of the glass substrate. Therefore, when viewed from the cooking surface side, it is easily noticeable as a stain, and the aesthetic appearance of the top rate may be impaired.

これに対して、本実施形態のトッププレート1では、耐熱樹脂層4に含まれているシリコーン樹脂が、上記の架橋剤により架橋されているので、シリコーン樹脂が網状のネットワークを形成し、耐熱樹脂層4を緻密な層とすることができる。従って、接着剤6の蒸発物が耐熱樹脂層4を透過し難く、蒸発した接着剤6がガラス基板2に近い無機遮光層3側へしみ出すことを抑制することができる。よって、トッププレート1では、調理面2a側から視たときに、接着剤に起因するシミを生じ難くすることができ、美観性を向上させることができる。 On the other hand, in the top plate 1 of the present embodiment, the silicone resin contained in the heat-resistant resin layer 4 is crosslinked by the above-mentioned cross-linking agent, so that the silicone resin forms a net-like network and the heat-resistant resin. The layer 4 can be a dense layer. Therefore, it is difficult for the evaporated adhesive 6 to permeate through the heat-resistant resin layer 4, and it is possible to prevent the evaporated adhesive 6 from seeping out to the inorganic light-shielding layer 3 side close to the glass substrate 2. Therefore, in the top plate 1, when viewed from the cooking surface 2a side, it is possible to make it difficult for stains due to the adhesive to occur, and it is possible to improve the aesthetic appearance.

架橋剤として、上記のアルコキシシランを用いる場合、シリコーンと脱水縮合するアルコキシ基を数多く有するので、シリコーン間の架橋点として機能しやすく、耐熱樹脂層4をより一層緻密な層とすることができる。よって、トッププレート1の接着剤などに起因するシミをより一層生じ難くすることができ、美観性をより一層向上させることができる。 When the above alkoxysilane is used as the cross-linking agent, since it has many alkoxy groups that dehydrate and condense with the silicone, it easily functions as a cross-linking point between the silicones, and the heat-resistant resin layer 4 can be made into a more dense layer. Therefore, it is possible to make it more difficult for stains caused by the adhesive or the like of the top plate 1 to occur, and it is possible to further improve the aesthetic appearance.

なお、アルコキシシランのアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、又はブトキシ基であることが好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。これらのアルコキシ基は、1種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。 The alkoxy group of alkoxysilane is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group, and even more preferably a methoxy group. One of these alkoxy groups may be used alone, or a plurality of types may be used in combination.

また、上記のアルコキシシランは、1種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。 Further, the above-mentioned alkoxysilane may be used alone or in combination of two or more.

架橋剤としては、上記のアルコキシシランのなかでも、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン及びテトラエトキシシランの群から選択される一種を含むことが好ましく、フェニルトリメトキシシランを含むことがより好ましい。 The cross-linking agent preferably contains one selected from the group of phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane and tetraethoxysilane among the above alkoxysilanes, and contains phenyltrimethoxysilane. Is more preferable.

シリコーン樹脂としては、特に限定されないが、高い耐熱性を有するものであることが好ましい。シリコーン樹脂は、例えば、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基又はフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂であることが好ましい。この場合、トッププレート1が高温になったときの耐熱樹脂層4の変色をより一層効果的に抑制することができる。なかでも、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基であるシリコーン樹脂であることがより好ましい。 The silicone resin is not particularly limited, but is preferably one having high heat resistance. The silicone resin is preferably, for example, a silicone resin in which the functional group directly bonded to the silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group. In this case, discoloration of the heat-resistant resin layer 4 when the top plate 1 becomes hot can be suppressed more effectively. Of these, a silicone resin in which the functional group directly bonded to the silicon atom is a methyl group is more preferable.

耐熱樹脂層4中におけるシリコーン樹脂の含有量は、特に限定されないが、好ましくは20質量%以上、より好ましくは30質量%以上、好ましくは70質量%以下、より好ましくは60質量%以下である。シリコーン樹脂の含有量が、上記下限値以上である場合、トッププレート1の耐熱性や耐衝撃性をより一層高めることができる。また、シリコーン樹脂の含有量が上記上限値以下である場合、トッププレート1の機械的強度をより一層高めることができる。 The content of the silicone resin in the heat-resistant resin layer 4 is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, preferably 70% by mass or less, and more preferably 60% by mass or less. When the content of the silicone resin is at least the above lower limit value, the heat resistance and impact resistance of the top plate 1 can be further enhanced. Further, when the content of the silicone resin is not more than the above upper limit value, the mechanical strength of the top plate 1 can be further increased.

耐熱樹脂層4には、さらに無機顔料粉末が含まれていてもよい。この場合、調理器内部の構造をより効果的に隠蔽できすることができる。 The heat-resistant resin layer 4 may further contain an inorganic pigment powder. In this case, the structure inside the cooker can be concealed more effectively.

無機顔料粉末は、例えば、TiO粉末、ZrO粉末、ZrSiO粉末などの白色の顔料粉末、Coを含む青色又は緑色の無機顔料粉末、Coを含む緑色の無機顔料粉末、Ti−Sb−Cr系、Ti−Ni系の黄色の無機顔料粉末、Co−Si系の赤色の無機顔料粉末、Feを含む茶色の無機顔料粉末、Cuを含む黒色の無機顔料粉末などが挙げられる。 The inorganic pigment powder includes, for example, a white pigment powder such as TiO 2 powder, ZrO 2 powder, and ZrSiO 4 powder, a blue or green inorganic pigment powder containing Co, a green inorganic pigment powder containing Co, and Ti-Sb-Cr. Examples thereof include Ti-Ni-based yellow inorganic pigment powders, Co-Si-based red inorganic pigment powders, brown inorganic pigment powders containing Fe, and black inorganic pigment powders containing Cu.

Coを含む青色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Co−Al系、Co−Al−Ti系の無機顔料粉末が挙げられる。Co−Al系の無機顔料粉末の具体例としては、CoAl粉末などが挙げられる。Co−Al−Ti系の無機顔料粉末の具体例としては、CoAl:TiO:LiO粉末などが挙げられる。 Specific examples of the blue inorganic pigment powder containing Co include Co-Al-based and Co-Al-Ti-based inorganic pigment powders. Specific examples of the Co-Al-based inorganic pigment powder include CoAl 2 O 4 powder. Specific examples of the Co-Al-Ti-based inorganic pigment powder include CoAl 2 O 4 : TiO 2 : Li 2 O powder.

Coを含む緑色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Co−Al−Cr系、Co−Ni−Ti−Zn系の無機顔料粉末が挙げられる。Co−Al−Cr系の無機顔料粉末の具体例としては、Co(Al,Cr)粉末などが挙げられる。Co−Ni−Ti−Zn系の無機顔料粉末の具体例としては、(Co,Ni,Zn)TiO粉末などが挙げられる。 Specific examples of the green inorganic pigment powder containing Co include Co—Al—Cr-based and Co—Ni—Ti—Zn-based inorganic pigment powders. Specific examples of the inorganic pigment powder Co-Al-Cr-based, Co (Al, Cr), etc. 2 O 4 powder. Specific examples of the Co-Ni-Ti-Zn-based inorganic pigment powder include (Co, Ni, Zn) 2 TiO 4 powder.

Feを含む茶色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Fe−Zn系の無機顔料粉
末が挙げられる。Fe−Zn系の無機顔料粉末の具体例としては、(Zn,Fe)Fe粉末などが挙げられる。
Specific examples of the brown inorganic pigment powder containing Fe include Fe—Zn-based inorganic pigment powder. Specific examples of the Fe—Zn-based inorganic pigment powder include (Zn, Fe) Fe 2 O 4 powder.

Cuを含む黒色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Cu−Cr系の無機顔料粉末が挙げられる。Cu−Cr系の無機顔料粉末の具体例としては、Cu(Cr,Mn)粉末などが挙げられる。 Specific examples of the black inorganic pigment powder containing Cu include Cu—Cr-based inorganic pigment powder. Specific examples of the Cu—Cr-based inorganic pigment powder include Cu (Cr, Mn) 2 O 4 powder.

これらの無機顔料粉末は、1種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。 These inorganic pigment powders may be used alone or in combination of two or more.

耐熱樹脂層4中における無機顔料粉末の含有量は、特に限定されないが、好ましくは20質量%以上、より好ましくは30質量%以上、好ましくは70質量%以下、より好ましくは60質量%以下である。無機顔料粉末の含有量が、上記範囲内にある場合、調理器内部の構造をより効果的に隠蔽できすることができる。 The content of the inorganic pigment powder in the heat-resistant resin layer 4 is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, preferably 70% by mass or less, and more preferably 60% by mass or less. .. When the content of the inorganic pigment powder is within the above range, the structure inside the cooker can be more effectively concealed.

耐熱樹脂層4の厚みは、特に限定されない。耐熱樹脂層4の厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上、好ましくは30μm以下、より好ましくは25μm以下である。耐熱樹脂層4の厚みが上記範囲内にある場合、トッププレート1の接着剤などに起因する染みをより一層生じ難くすることができ、美観性をより一層向上させることができる。 The thickness of the heat-resistant resin layer 4 is not particularly limited. The thickness of the heat-resistant resin layer 4 is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, preferably 30 μm or less, and more preferably 25 μm or less. When the thickness of the heat-resistant resin layer 4 is within the above range, stains caused by the adhesive or the like on the top plate 1 can be made less likely to occur, and the aesthetic appearance can be further improved.

耐熱樹脂層4の形成方法も特に限定されない。まず、シリコーン樹脂前駆体と、上記の架橋剤と、さらに必要に応じて溶媒や無機顔料粉末を含むペーストを用意する。次に、用意したペーストを無機遮光層3上に直接塗布し、乾燥させる。それによって、シリコーン樹脂前駆体を架橋させ、耐熱樹脂層4を形成することができる。なお、耐熱樹脂層4の組成によっては、乾燥後に焼成を行うことによって、トッププレート1を得てもよい。 The method for forming the heat-resistant resin layer 4 is also not particularly limited. First, a paste containing a silicone resin precursor, the above-mentioned cross-linking agent, and, if necessary, a solvent or an inorganic pigment powder is prepared. Next, the prepared paste is applied directly onto the inorganic light-shielding layer 3 and dried. Thereby, the silicone resin precursor can be crosslinked to form the heat-resistant resin layer 4. Depending on the composition of the heat-resistant resin layer 4, the top plate 1 may be obtained by firing after drying.

ペーストの塗布スピード及び粘度は、耐熱樹脂層4に含まれる無機顔料の含有量に応じて適宜設定することができる。例えば、耐熱樹脂層4における無機顔料の含有量が多い場合は、シリコーン樹脂前駆体の粘度を低くし、シリコーン樹脂前駆体の塗布スピードを遅くすることが好ましい。 The coating speed and viscosity of the paste can be appropriately set according to the content of the inorganic pigment contained in the heat-resistant resin layer 4. For example, when the content of the inorganic pigment in the heat-resistant resin layer 4 is high, it is preferable to lower the viscosity of the silicone resin precursor and slow down the coating speed of the silicone resin precursor.

シリコーン樹脂前駆体としては、特に限定されないが、高い耐熱性を有するものであることが好ましい。シリコーン樹脂前駆体は、例えば、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基又はフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂であることが好ましい。この場合、トッププレート1が高温になったときの耐熱樹脂層4の変色をより一層効果的に抑制することができる。なかでも、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基であるシリコーン樹脂であることがより好ましい。 The silicone resin precursor is not particularly limited, but is preferably one having high heat resistance. The silicone resin precursor is preferably, for example, a silicone resin in which the functional group directly bonded to the silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group. In this case, discoloration of the heat-resistant resin layer 4 when the top plate 1 becomes hot can be suppressed more effectively. Of these, a silicone resin in which the functional group directly bonded to the silicon atom is a methyl group is more preferable.

シリコーン樹脂前駆体に対する架橋剤の割合は、特に限定されないが、好ましくは、質量比でシリコーン樹脂前駆体:架橋剤が100:0.2〜100:30、より好ましくは、100:5〜100:20である。シリコーン樹脂前駆体に対する架橋剤の割合が、上記下限値以上である場合、耐熱樹脂層4をより緻密な層とすることができる。よって、トッププレート1の蒸発した接着剤に起因するシミをより一層生じ難くすることができ、美観性をより一層向上させることができる。また、シリコーン樹脂前駆体に対する架橋剤の割合が上記上限値以下である場合、耐熱樹脂層4が硬くなったり脆くなったりすることをより一層抑制することができ、耐熱樹脂層4におけるクラックをより生じ難くすることができる。そのため、この場合においても、トッププレート1の接着剤などに起因するシミをより一層生じ難くすることができ、美観性をより一層向上させることができる。 The ratio of the cross-linking agent to the silicone resin precursor is not particularly limited, but preferably the silicone resin precursor: cross-linking agent is 100: 0.2 to 100:30, more preferably 100: 5 to 100: in terms of mass ratio. 20. When the ratio of the cross-linking agent to the silicone resin precursor is at least the above lower limit value, the heat-resistant resin layer 4 can be made into a denser layer. Therefore, it is possible to make it more difficult for stains caused by the evaporated adhesive of the top plate 1 to occur, and it is possible to further improve the aesthetic appearance. Further, when the ratio of the cross-linking agent to the silicone resin precursor is not more than the above upper limit value, it is possible to further suppress the heat-resistant resin layer 4 from becoming hard or brittle, and cracks in the heat-resistant resin layer 4 are further suppressed. It can be made less likely to occur. Therefore, even in this case, it is possible to make it more difficult for stains caused by the adhesive or the like of the top plate 1 to occur, and it is possible to further improve the aesthetic appearance.

また、塗布したペーストの焼成温度としては、例えば、200℃以上、450℃以下の温度とすることができる。焼成時間としては、例えば、10分以上、1時間以下とすることができる。 The firing temperature of the applied paste can be, for example, 200 ° C. or higher and 450 ° C. or lower. The firing time can be, for example, 10 minutes or more and 1 hour or less.

なお、上記実施形態では、ガラス基板2と耐熱樹脂層4との間に無機遮光層3が設けられているが、無機遮光層3は設けられていなくてもよい。従って、ガラス基板2の直上に耐熱樹脂層4を設けてもよい。 In the above embodiment, the inorganic light-shielding layer 3 is provided between the glass substrate 2 and the heat-resistant resin layer 4, but the inorganic light-shielding layer 3 may not be provided. Therefore, the heat-resistant resin layer 4 may be provided directly above the glass substrate 2.

また、上記実施形態では、耐熱樹脂層4が、ガラス基板2の裏面2bの全体の上に形成
されているが、耐熱樹脂層4は、ガラス基板2の裏面2bの一部の上に形成されていてもよい。例えば、耐熱樹脂層4をトッププレート1の裏面2bにおける加熱部分に取り付けられる温度センサー5の接着部の下方部分に設けてもよい。
Further, in the above embodiment, the heat-resistant resin layer 4 is formed on the entire back surface 2b of the glass substrate 2, but the heat-resistant resin layer 4 is formed on a part of the back surface 2b of the glass substrate 2. May be. For example, the heat-resistant resin layer 4 may be provided below the adhesive portion of the temperature sensor 5 attached to the heated portion on the back surface 2b of the top plate 1.

また、上記実施形態では、ガラス基板2の調理面2aの上には、膜が形成されていないが、調理面2aの上に、美観性向上やヒーター位置の表示等を目的として、装飾被膜等を形成してもよい。 Further, in the above embodiment, the film is not formed on the cooking surface 2a of the glass substrate 2, but a decorative film or the like is formed on the cooking surface 2a for the purpose of improving the aesthetic appearance and displaying the heater position. May be formed.

また、ガラス基板2の裏面2b側には、耐熱樹脂層4と無機遮光層3との間に、密着層などが形成されていてもよいし、耐熱樹脂層4の上に、耐熱樹脂層4の保護層などが形成されていてもよい。あるいは、耐熱樹脂層4の上に、さらにもう一層の耐熱樹脂層が形成されていてもよい。 Further, on the back surface 2b side of the glass substrate 2, an adhesion layer or the like may be formed between the heat-resistant resin layer 4 and the inorganic light-shielding layer 3, and the heat-resistant resin layer 4 may be formed on the heat-resistant resin layer 4. A protective layer or the like may be formed. Alternatively, another heat-resistant resin layer may be formed on the heat-resistant resin layer 4.

以下、本発明について、実施例に基づいてさらに詳細を説明する。但し、以下の実施例は、単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. However, the following examples are merely examples. The present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
まず、ガラス粉末と、Cu−Cr系の黒色の無機顔料粉末と、樹脂バインダーとをそれぞれ質量比(ガラス粉末:無機顔料粉末:樹脂バインダー)で、3:7:10の割合となるように混合し、ペーストを作製した。
(Example 1)
First, the glass powder, the Cu—Cr-based black inorganic pigment powder, and the resin binder are mixed at a mass ratio (glass powder: inorganic pigment powder: resin binder) of 3: 7:10. And made a paste.

次に、このペーストをガラス基板としての透明結晶化ガラス板(日本電気硝子社製、商品名「N−0」、30℃〜750℃における平均線熱膨張係数:0.5×10−7/℃、厚み:4mm)全体の上に、厚みが5μmとなるように、スクリーン印刷した。その後、830℃で10分間、加熱乾燥を行った。それによって、ガラス基板の上に、無機遮光層を形成した。 Next, this paste is used as a glass substrate on a transparent crystallized glass plate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., trade name "N-0", average coefficient of linear thermal expansion at 30 ° C to 750 ° C: 0.5 × 10-7 / (° C., thickness: 4 mm), screen printing was performed on the entire surface so that the thickness was 5 μm. Then, it was dried by heating at 830 ° C. for 10 minutes. As a result, an inorganic light-shielding layer was formed on the glass substrate.

次に、シリコーン樹脂前駆体と、架橋剤としてのフェニルトリメトキシシラン(PTMS)と、Cu−Fe−Mn系の黒色の無機顔料粉末と、体質顔料(タルク)と、有機溶剤とをそれぞれ質量比(シリコーン樹脂前駆体:PTMS:無機顔料粉末:体質顔料:有機溶剤)で、34.3:0.2:19.9:19.9:25.7の割合(乾燥塗膜中におけるシリコーン樹脂前駆体に対するPTMSの割合が、質量比で、100:0.6)となるように混合してペーストを作製した。このペーストを無機遮光層の全体の上に、厚みが15μmとなるように、スクリーン印刷した。その後、300℃で20分間、加熱乾燥を行った。それによって、無機遮光層の上に耐熱樹脂層を形成して、トッププレートを得た。 Next, the mass ratios of the silicone resin precursor, phenyltrimethoxysilane (PTMS) as a cross-linking agent, Cu-Fe-Mn-based black inorganic pigment powder, extender pigment (talc), and organic solvent, respectively. (Silicone resin precursor: PTMS: inorganic pigment powder: extender pigment: organic solvent) at a ratio of 34.3: 0.2: 19.9: 19.9: 25.7 (silicone resin precursor in a dry coating film). A paste was prepared by mixing so that the ratio of PTMS to the body was 100: 0.6) in terms of mass ratio. This paste was screen-printed on the entire inorganic light-shielding layer so as to have a thickness of 15 μm. Then, it dried by heating at 300 degreeC for 20 minutes. As a result, a heat-resistant resin layer was formed on the inorganic light-shielding layer to obtain a top plate.

(実施例2〜3)
架橋剤の含有量を表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にしてトッププレートを得た。
(Examples 2 to 3)
A top plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the content of the cross-linking agent was changed as shown in Table 1.

(実施例4〜5)
架橋剤の種類及び含有量を表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にしてトッププレートを得た。
(Examples 4 to 5)
A top plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the type and content of the cross-linking agent were changed as shown in Table 1.

(比較例1)
架橋剤の代わりに、シランカップリング剤としての3−アミノプロピルトリメトキシシランを用いたこと以外は、実施例2と同様にしてトッププレートを得た。
(Comparative Example 1)
A top plate was obtained in the same manner as in Example 2 except that 3-aminopropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent was used instead of the cross-linking agent.

(比較例2)
架橋剤を用いなかったこと以外は、実施例1と同様にしてトッププレートを得た。
(Comparative Example 2)
A top plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that no cross-linking agent was used.

(評価)
実施例1〜5、比較例1及び2で得られたトッププレートにおける耐熱樹脂層の上にそれぞれシリコーン接着剤を1.5g塗布した。シリコーン接着剤を塗布した後、トッププレートにおける耐熱樹脂層が設けられていない側の面である調理面側を下にして、230℃のホットプレートの上に載置した。載置後、所定の時間ごとにトッププレートを取り上げ、調理面側から光を照射しながら目視にてシミの発生の有無を確認し、シミが生じるまでの時間を測定した。
(Evaluation)
1.5 g of a silicone adhesive was applied onto the heat-resistant resin layers of the top plates obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2, respectively. After applying the silicone adhesive, the top plate was placed on a hot plate at 230 ° C. with the cooking surface side, which is the surface on the top plate not provided with the heat-resistant resin layer, facing down. After the placement, the top plate was picked up at predetermined time intervals, and the presence or absence of stains was visually confirmed while irradiating light from the cooking surface side, and the time until the stains were generated was measured.

結果を表1に示す。 The results are shown in Table 1.

Figure 2021060156
Figure 2021060156

表1から明らかなように、架橋剤を含む実施例1〜5の各試料は、シミが生じるまでの時間が600時間以上と長く、蒸発した接着剤に起因するシミが生じ難かった。一方、比較例1及び2の各試料は、シミが生じるまでの時間が300時間以下と短く、短時間で蒸発した接着剤に起因するシミが生じやすかった。 As is clear from Table 1, in each of the samples of Examples 1 to 5 containing the cross-linking agent, the time until stains were formed was as long as 600 hours or more, and stains due to the evaporated adhesive were less likely to occur. On the other hand, in each of the samples of Comparative Examples 1 and 2, the time until stains were formed was as short as 300 hours or less, and stains due to the adhesive evaporated in a short time were likely to occur.

1…調理器用トッププレート
2…ガラス基板
2a…調理面
2b…裏面
3…無機遮光層
4…耐熱樹脂層
5…温度センサー
6…接着剤
1 ... Top plate for cooker 2 ... Glass substrate 2a ... Cooking surface 2b ... Back surface 3 ... Inorganic light-shielding layer 4 ... Heat-resistant resin layer 5 ... Temperature sensor 6 ... Adhesive

Claims (4)

調理器具が載せられる調理面及び該調理面とは反対側の裏面を有する、ガラス基板と、
前記ガラス基板の前記裏面上に配置されている、耐熱樹脂層と、
を備え、
前記耐熱樹脂層が、シリコーン樹脂を含み、
前記シリコーン樹脂が、フェニルトリアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の架橋剤により架橋されている、調理器用トッププレート。
A glass substrate having a cooking surface on which cooking utensils are placed and a back surface opposite to the cooking surface.
A heat-resistant resin layer arranged on the back surface of the glass substrate,
With
The heat-resistant resin layer contains a silicone resin and contains
A top plate for a cooker in which the silicone resin is crosslinked with at least one cross-linking agent selected from the group consisting of phenyltrialkoxysilane, methyltrialkoxysilane and tetraalkoxysilane.
前記ガラス基板と前記耐熱樹脂層との間に設けられている、無機遮光層をさらに備える、請求項1に記載の調理器用トッププレート。 The top plate for a cooker according to claim 1, further comprising an inorganic light-shielding layer provided between the glass substrate and the heat-resistant resin layer. 請求項1又は2に記載の調理器用トッププレートの製造方法であって、
前記ガラス基板の前記裏面上に、シリコーン樹脂前駆体と、フェニルトリアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の架橋剤とを含む、ペーストを塗布する工程と、
前記ペーストが塗布された前記ガラス基板を加熱することにより、前記ペーストを乾燥させるとともに、前記シリコーン樹脂前駆体を前記架橋剤により架橋させる工程と、
を備える、調理器用トッププレートの製造方法。
The method for manufacturing a top plate for a cooker according to claim 1 or 2.
A step of applying a paste on the back surface of the glass substrate, which comprises a silicone resin precursor and at least one cross-linking agent selected from the group consisting of phenyltrialkoxysilane, methyltrialkoxysilane and tetraalkoxysilane. When,
A step of drying the paste by heating the glass substrate to which the paste is applied and cross-linking the silicone resin precursor with the cross-linking agent.
A method of manufacturing a top plate for a cooker.
前記シリコーン樹脂前駆体に対する前記架橋剤の割合が、質量比で、100:0.2〜100:30である、請求項3に記載の調理器用トッププレートの製造方法。 The method for producing a top plate for a cooker according to claim 3, wherein the ratio of the cross-linking agent to the silicone resin precursor is 100: 0.2 to 100:30 in terms of mass ratio.
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